JPH1157770A - 汚泥界面計測装置 - Google Patents
汚泥界面計測装置Info
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- JPH1157770A JPH1157770A JP23247097A JP23247097A JPH1157770A JP H1157770 A JPH1157770 A JP H1157770A JP 23247097 A JP23247097 A JP 23247097A JP 23247097 A JP23247097 A JP 23247097A JP H1157770 A JPH1157770 A JP H1157770A
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- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Abstract
界面計測装置を提供する。 【解決手段】 この汚泥界面計測装置は、反応槽1内の
汚泥相3と上澄み相4との界面5を検出する界面検出手
段7;界面検出手段7を上下動可能に吊設して界面5の
位置を探索する界面位置探索手段6;界面検出手段7の
位置を計測する位置計測手段8;界面検出手段7からの
信号に基づいて界面5の位置を判定し、そのときの位置
計測手段8からの信号を界面位置信号として出力する界
面位置判定手段9;および、界面位置信号を積算し、か
つ積算値の平均化処理を行う演算手段10;を備えてい
る。
Description
関し、更に詳しくは、嫌気性反応槽、とりわけUASB
(Upflow Anaerobic Sludge Blanket)方式で運転され
る反応槽内における汚泥界面の位置計測を安定かつ精度
よく行うことができる汚泥界面計測装置に関する。
泥の処理、し尿処理、高濃度有機性排水の処理等で、嫌
気性の生物処理が適用されている。この処理では、嫌気
性細菌を主体とする汚泥を所定濃度で収容する反応槽に
処理対象の原水が流入され、原水中の有機物が最終的に
はメタンガスと炭酸ガスに分解されて、当該有機物の無
機化が進められる。
場合、運転処理時には、コロイド状の微細気泡やその微
細気泡が会合して粗大気泡になった状態でメタンガスが
発生する。そのとき、反応槽内には、粒径0.5〜3mm程
度のグラニュール汚泥が濃度20000〜50000mg
/Lに濃縮された状態で存在している。その場合、反応槽
内の汚泥は、上記した濃度に濃縮されている汚泥相と、
流入原水中の微細なSS成分やグラニュール汚泥が破砕
して粒径0.5mm以下になっている破砕汚泥とが100〜
1000mg/Lの濃度で分散している上澄み相とに大別さ
れ、上記した汚泥相と上澄み相との間には界面が存在し
ている。
(以後、汚泥界面という)は反応槽の深さ方向で一定の
位置にあるわけではなく、発生ガス量や流入原水量など
に応じて絶えず変動している。この汚泥界面が異常に高
まると、グラニュール汚泥が反応槽内から処理水に流出
する可能性があり、また汚泥界面が低いと、反応槽の汚
泥保有量が少ないということになる。
る原水の処理能力は、運転処理時におけるグラニュール
汚泥の汚泥保有量はそれほど変化しないので、基本的に
は、反応槽の汚泥保有量によって左右される。反応槽の
汚泥保有量が多くなれば原水の処理能力は高くなり、逆
に反応槽の汚泥保有量が少なくなれば原水の処理能力は
低下する。
原水の処理能力を適正に管理するために、運転処理時に
おける反応槽の汚泥保有量を把握することが必要とな
る。すなわち、反応槽内に存在する汚泥の基本的部分を
占める前記汚泥相の量を把握することが必要となる。そ
のことは、用いる反応槽の容積は一定であるので、汚泥
相と上澄み相との界面、すなわち汚泥界面の反応槽内に
おける位置を計測し、その関数として把握することによ
って可能となる。
ための様々な方法が実際に採用されている。例えば、超
音波式汚泥界面計を用いた方法がある。この方法は、汚
泥相と上澄み相の汚泥濃度差を利用するものであって、
超音波を汚泥界面に向かって発信し、濃度差(密度差)
が画然としている汚泥界面で反射した超音波の帰還時間
を測定し、それに基づいて汚泥界面までの距離を計測す
る方法である。
施されている。この方法は、汚泥相と上澄み相において
は光の透過量が異なることを利用するものであって、こ
の光学式汚泥濃度計を反応槽内の垂直方向に移動させ、
光の透過量が激変した位置をもって汚泥界面と認識する
方法である。更には、小型カメラを内蔵した撮像装置を
反応槽の中に沈め、この撮像装置を上下方向に動かして
汚泥界面を検出する方法も知られている。
式のように汚泥界面の変動幅が大きい場合であっても、
そのことに影響されることなく安定して汚泥界面の計測
を行うことができる汚泥界面計測装置の提供を目的とす
る。
ために、本発明においては、反応槽内の汚泥相と上澄み
相との界面を検出する界面検出手段;前記界面検出手段
を上下動可能に吊設して前記界面の位置を探索する界面
位置探索手段;前記界面検出手段の位置を計測する位置
計測手段;前記界面検出手段からの信号に基づいて前記
界面の位置を判定し、そのときの前記位置計測手段から
の信号を界面位置信号として出力する界面位置判定手
段;および、前記界面位置信号を積算し、かつ積算値の
平均化処理を行う演算手段;を備えていることを特徴と
する汚泥界面計測装置が提供される。
面の界面位置信号の平均値は、所望する設定時間帯ごと
に更新され、その設定時間帯内における計測値として出
力する汚泥界面計測装置が提供される。
に基づいて詳細に説明する。図1は、界面検出手段とし
て撮像手段を用いた場合の本発明装置例を示す基本構成
図である。図において、反応槽1には嫌気性細菌を主体
とするグラニュール汚泥が保有され、ここに配管2から
処理対象の原水が上向流となって流入するようになって
いる。原水の流入により、反応槽1には、汚泥濃度が高
い汚泥相3と、流入SS成分や破砕汚泥から成る汚泥濃
度の低い上澄み相4が形成され、両者の間には汚泥界面
5が形成される。そして、この汚泥界面5は、反応槽1
内の汚泥保有量や原水の流入量により常時上下方向で変
動している。
例えばボビン形状の昇降手段6aと例えば通信ケーブル
6bとから成る界面位置探索手段6が配置され、前記通
信ケーブル6aの先端には後述する界面検出手段7が取
り付けられている。この界面検出手段7としては、透視
度の低い汚泥相3の中にあっても汚泥の状態を撮影する
ことができる水中カメラのような撮像手段が通常用いら
れる。
を巻き上げることにより、撮像手段(界面検出手段)7
は反応槽1内を上昇し、逆に昇降手段6aで通信ケーブ
ル6bを巻き戻すことにより撮像手段7は反応槽1内を
下降できるようになっている。撮像手段7が撮影する映
像は画像信号として通信ケーブル6bを経由して後述す
る界面位置判定手段9に入力される。
置は、例えば反応槽1の底1aを基準点にしたときの通
信ケーブル6bの巻き上げ長さで知ることができ、それ
は通信ケーブル6bの移動量を計測する位置計測手段8
で把握される。そしてその計測値は、当該撮像手段7の
位置信号として界面位置判定手段9に入力される。界面
位置判定手段9は、画像処理手段9aと界面位置の確認
手段9bとを内蔵している。画像処理手段9aは、撮像
手段7から入力された画像信号を濃淡ヒストグラムパタ
ーンに処理し、そのヒストグラムパターンが変化するこ
とをもって汚泥界面5の存在を認識する。そして、確認
手段9bには位置計測手段8からの計測値が入力され、
汚泥界面5が確認されたときの前記計測値をもって汚泥
界面5の位置(深さ)として確認し、それを界面位置信
号として演算手段10に出力する。
からの界面位置信号を過去の計測値に加算し、変動して
いる汚泥界面5の位置の平均値を演算し、それを新しい
汚泥界面位置データとして出力する。これにより、汚泥
界面の変動幅が大きい場合であっても、正確な界面位置
が計測可能となる。この装置では次のようにして汚泥界
面の計測が行われる。
ず、昇降手段6aを作動して通信ケーブル6bの先端に
装着されている撮像手段7を反応槽1の底部1aにまで
沈め、汚泥相3の中を徐々に上方に引き上げていく。な
お、逆に、反応槽1の上部から徐々に沈降させる態様を
採用してもよい。撮像手段7が汚泥相3の中を上昇して
いく過程では、撮像手段7からの画像信号は汚泥相3を
表示するのみであるため、それを画像処理することによ
り界面位置判定手段9で得られるヒストグラムパターン
に大きな変化は起こらない。
該撮像手段7が汚泥界面5を横切る過程では、撮像手段
7からの画像信号は上澄み相4を表示する信号に切り替
わる。このとき、界面位置判定手段9で得られるヒスト
グラムパターンが上澄み相4のパターンに変化するの
で、その時点をもって界面位置判定手段9は撮像手段7
が汚泥界面5を横切ったものと判断する。
おける位置計測手段8からの信号を界面位置信号として
演算手段10に出力する。演算手段10は、既に計測さ
れておりかつ記憶されている過去の汚泥界面の位置デー
タに上記したようにして新たな計測された汚泥界面位置
データを積算し、位置データの移動加算平均値を演算す
る。そして、この平均値が新しい汚泥界面の位置データ
となる。この汚泥界面の位置データは、例えば1日また
は12時間などの適宜に設定される時間帯ごとに更新さ
れ、各時間帯ごとにおける計測値として出力される。
る汚泥の保有量が換算され、その過不足に応じて原水流
入量や汚泥の投入・引き抜きなどの調整が行われる。な
お、図1で示した装置では、界面検出手段として撮像手
段7を用いた例を示しているが、この界面検出手段は撮
像手段に限定されるものではない。要は、汚泥相3と上
澄み相4間における性状の差異を認識できるような手段
であればよい。例えば前記した光学式汚泥濃度計のよう
に両相間における光透過量の差異を把握できる手段をあ
げることができる。なお、その場合、界面位置判定手段
9には、これら検出手段からの信号を処理して両相間に
おける性状変化を認識する機構が内蔵される。
汚泥界面計測装置は、確実に汚泥界面の位置、ある時間
帯ごとに正確に計測することができる。換言すれば、反
応槽内における汚泥の保有量を把握して反応槽の運転を
円滑に進めることができる。とくに本発明の汚泥界面計
測装置は、UASB方式のように汚泥界面の変動幅が大
きい場合であってもそのことに影響されることなく安定
して汚泥界面の計測が可能である。
Claims (1)
- 【請求項1】 反応槽内の汚泥相と上澄み相との界面を
検出する界面検出手段;前記界面検出手段を上下動可能
に吊設して前記界面の位置を探索する界面位置探索手
段;前記界面検出手段の位置を計測する位置計測手段;
前記界面検出手段からの信号に基づいて前記界面の位置
を判定し、そのときの前記位置計測手段からの信号を界
面位置信号として出力する界面位置判定手段;および、
前記界面位置信号を積算し、かつ積算値の平均化処理を
行う演算手段;を備えていることを特徴とする汚泥界面
計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23247097A JP3446804B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 汚泥界面計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23247097A JP3446804B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 汚泥界面計測装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1157770A true JPH1157770A (ja) | 1999-03-02 |
JP3446804B2 JP3446804B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=16939808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23247097A Expired - Fee Related JP3446804B2 (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 汚泥界面計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3446804B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8004852B2 (en) | 2007-12-28 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electronic apparatus |
TWI625505B (zh) * | 2014-11-18 | 2018-06-01 | Mitsubishi Chem Corp | Metal plate repairing method and manufacturing method of mold |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP23247097A patent/JP3446804B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8004852B2 (en) | 2007-12-28 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electronic apparatus |
TWI625505B (zh) * | 2014-11-18 | 2018-06-01 | Mitsubishi Chem Corp | Metal plate repairing method and manufacturing method of mold |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3446804B2 (ja) | 2003-09-16 |
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