JPH1152151A - 光導波路デバイス - Google Patents

光導波路デバイス

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JPH1152151A
JPH1152151A JP21214797A JP21214797A JPH1152151A JP H1152151 A JPH1152151 A JP H1152151A JP 21214797 A JP21214797 A JP 21214797A JP 21214797 A JP21214797 A JP 21214797A JP H1152151 A JPH1152151 A JP H1152151A
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JP
Japan
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optical
optical waveguide
waveguide
wavelength
input
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JP21214797A
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English (en)
Inventor
Mitsuhiro Kitamura
光弘 北村
Naoya Henmi
直也 逸見
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成の光導波路デバイスで、波長多重
信号光を高速かつ高感度に受信する。 【解決手段】 入力された波長多重信号光をそれぞれの
波長光信号に分離するAWG3の入力側には入力光導波
路2が接続され、AWG3の出力側にはAWG3で分離
された光信号と同数の出力光導波路4が接続されてい
る。各出力光導波路4は、AWG3で分離された各光信
号の一つの光信号を選択して通過させる光ゲート5に接
続されている。光ゲート5は光コンバイナ6の入力側に
接続され、さらに、光コンバイナ6の出力側には受光素
子7が接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長多重光通信を
利用した光通信方式に用いられる光導波路デバイスに関
する。
【0002】
【従来の技術】マルチメディア社会の到来に伴い、情報
伝送容量拡大の要求が急激に高まっており、その手段と
して、波長多重(WDM)を利用した光通信方式が注目
され、多くの機関で開発が進められている。特に、WD
M方式を光通信のネットワークの中で採用し、トータル
の情報伝送スループットを大幅に拡大しようとする試み
もなされている。
【0003】そのような中で、最も重要なコンポーネン
トとなるのが、特定の波長の光信号を受信する受信器で
あり、特に、ナノ秒単位の高速度で特定波長の光信号を
フィルタリングするためのフィルタリング機能を有する
受信器が求められている。その一例として、図5に示す
ような光導波路デバイスが提案されている。
【0004】図5は、従来の光導波路デバイスを示す平
面図である。
【0005】図5に示すように、従来の光導波路デバイ
スによれば、入力光導波路101から入力されたWDM
信号光(波長多重信号光)は、波長分波デバイスである
AWG(アレイ導波路格子)102によってそれぞれの
波長光信号に分離される。分離された各光信号は、複数
の光ファイバからなる光導波路103によって導波さ
れ、各受光素子104に受信されて電気信号に変換され
る。なお、本光導波路デバイスには、分離される信号と
同数の受光素子104が設けられている。各信号は、各
受光素子104が接続された切り替えスイッチ105に
伝送され、切り替えスイッチ105に接続された受信ア
ンプ106によって増幅される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光導波路デバイスでは、波長多重された信号数と同数の
受光素子が必要となり、構成が複雑となってしまうとい
う欠点がある。例えば、16波長多重の場合には、16
個の受光素子が必要となる。
【0007】それに対して、1つの受光素子のみを用い
て16波長多重の信号を受信しようとするには、例えば
16本あるAWGの出力ポートにファイバ型の16×1
スターカップラを接続し、そのスターカップラの出力ポ
ートに受光素子を接続する構成とすればよい。しかし、
1段の2×1カップラ毎に3dBの原理的な結合損失が
生じるため、上記の16×1スターカップラでは4段の
2×1カップラが設けられていることから12dBの原
理損失が発生してしまう。この損失は、受光素子での受
信感度のマージンを直接に減少させるため、感度劣化を
招いてしまうこととなる。
【0008】そこで本発明は、簡易な構成からなり、波
長多重信号光を高速かつ高感度に受信することができる
光導波路デバイスを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光導波路デバイスは、入力光導波路から入
力された波長多重信号光を各波長ごとの光信号に分離し
て出力光導波路に出力する波長分波デバイスと、前記出
力光導波路に接続され、前記波長分波デバイスで分離さ
れた光信号のうちの一つの光信号を選択して通過させる
光ゲートと、前記光ゲートを通過した光信号が入力され
る単一モード光導波路と前記単一モード光導波路に入力
された光信号を出力する多モード光導波路とを備えた光
コンバイナと、前記光コンバイナから出力された前記光
信号を受信するための受光素子とを有する。
【0010】上記のように構成された本発明の光導波路
デバイスによれば、入力光導波路から入力された波長多
重信号光は、波長分波デバイスによってそれぞれの波長
光信号に分離されて、出力光導波路に出力される。波長
分波デバイスで分離された各光信号は、光ゲートによっ
てそのうちの一つの光信号が選択されて通過される。光
ゲートを通過した光信号は、光コンバイナを通り、受光
素子で受信される。途中の光導波路等を通って減衰した
光信号は光ゲートによって増幅され、また、光コンバイ
ナによる損失もきわめて小さいことから、高い受信感度
で光信号が受信される。さらに、ナノ秒単位の高速応答
が実現される。
【0011】また、前記波長分波デバイス、前記光コン
バイナ、および各前記光導波路は石英系材料で形成さ
れ、前記光ゲートおよび前記受光素子は半導体材料で形
成されている構成としてもよい。
【0012】さらに、前記波長分波デバイス、前記光コ
ンバイナ、各前記光導波路、前記光ゲート、および前記
受光素子は半導体材料で形成されている構成としてもよ
い。さらには、前記波長分波デバイスと、前記光ゲート
と、前記光コンバイナと、各前記光導波路と、前記受光
素子とが一枚の半導体基板上に形成されている構成とす
ることにより、光導波路デバイスの波長分波デバイス、
光コンバイナ、および各光導波路は石英系材料で形成さ
れ、光ゲートおよび受光素子は半導体材料で形成されて
いる場合には各エレメントがハイブリッドに集積された
光導波路デバイスが構成され、光導波路デバイスの波長
分波デバイス、光コンバイナ、各光導波路、光ゲート、
および受光素子が半導体材料で形成されている場合には
各エレメントがモノリシックに集積された光導波路デバ
イスが構成される。
【0013】また、前記半導体基板はSi基板またはI
nP基板である構成としてもよい。さらに、前記波長分
波デバイスはアレイ導波路格子である構成としてもよ
い。
【0014】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
【0015】図1は、本発明の光導波路デバイスの一実
施形態を示す平面図である。
【0016】図1に示すように、本実施形態の光導波路
デバイスは、Siからなる基板1上に、入力光導波路2
と、波長分波デバイスであり1入力多出力型の光導波路
からなるAWG(アレイ導波路格子)3と、出力光導波
路4と、光ゲート5と、光コンバイナ6と、受光素子7
とが集積された構成となっている。
【0017】AWG3は、入力されたWDM信号光(波
長多重信号光)をそれぞれの波長光信号に分離する機能
を有するものである。本実施形態の光導波路デバイスで
は、1入力16出力型のAWGが採用されている。な
お、AWG3の波長間隔は0.8nm(100GHz)
であり、クロストークは−30dB以下の特性が得られ
ている。また、光ゲート5は、AWG3で分離された各
光信号の一つの光信号を選択して通過させる機能を有す
るものである。
【0018】AWG3の入力側には入力光導波路2が接
続され、AWG3の出力側にはAWG3で分離された波
長光信号と同数の出力光導波路4が接続されている。各
出力光導波路4は光ゲート5に接続され、光ゲート5は
光コンバイナ6の入力側に接続されている。さらに、光
コンバイナ6の出力側には受光素子7が接続され、受光
素子7には受信アンプ8が接続されている。
【0019】基板1上に形成される光導波路としては、
石英系光導波路が代表的な例として挙げられる。以下
に、石英系光導波路の断面構造について、図2を参照し
て説明する。
【0020】Siからなる基板1上には、PSG(リン
をドープした石英ガラス)からなる下部グラッド層9が
形成され、その上に、PSGに半導体材料であるGeを
加えたGPSGからなるコア層10が、光導波路の形状
にパターニングされて形成されている。そして、コア層
10が形成された下部グラッド層9の上に、下部グラッ
ド層9と同じ組成からなる上部グラッド層11が形成さ
れ、これによりコア層10が覆われている。
【0021】光ゲート5には、InGaAsP系の半導
体光アンプが用いられている。この光ゲートと石英系光
導波路との光結合部の構造について、図3を参照して説
明する。上述したように、石英系光導波路は、下部グラ
ッド層9と上部グラッド層11とに挟まれたコア層10
で構成される。光ゲート5は活性層12を有し、この活
性層12がコア層10の端面と同じ高さになるように埋
め込まれている。活性層12とコア層10との高さ方向
の位置合わせは、光ゲート5を固定する半田バンプ13
によって行われる。
【0022】また、光コンバイナ6は、図4に示すよう
に多入力1出力型であり、入力側は単一モード光導波路
14、出力側は多モード光導波路15とし、それらが光
カップラ16によって結合されている。また、単一モー
ド光導波路14から光カップラ16への入力部分は、光
スポットサイズを拡大するため、導波路幅を拡げた構造
としている。光コンバイナ6が16入力1出力である場
合に、単一モード光導波路14の幅を6μmとし、多モ
ード光導波路15の幅を50μmとすると、トータルの
損失は1.5dBとなり、通常のカップラを組み合わせ
る方法での12dBの原理損失と比べて格段に低い損失
に抑えることができる。なお、光コンバイナ6は石英系
材料によって形成されている。
【0023】受光素子7としては、InGaAs系の導
波路PIN−PD等が用いられる。上記のように構成さ
れた光導波路デバイスでは、入力光導波路2から入力さ
れたWDM信号光(波長多重信号光)は、AWG(アレ
イ導波路格子)3によってそれぞれの波長光信号に分離
されて、出力光導波路4に出力される。AWG3で分離
された各光信号は、光ゲート5によってそのうちの一つ
の光信号が選択されて通過される。光ゲート5を通過し
た光信号は、光コンバイナ6を通り、受光素子7で受信
される。光信号は受光素子7で電気信号に変換され、受
光素子7に接続された受信アンプ8で増幅される。
【0024】本実施形態の光導波路デバイスによれば、
途中の光導波路等を通って減衰した光信号は半導体光ア
ンプの光ゲート5によって増幅され、また、前述したよ
うに光コンバイナ6による損失もきわめて小さいことか
ら、高い受信感度で光信号を受信することができる。さ
らに、光ゲート5には半導体光アンプが用いられている
ので、ナノ秒単位の高速応答が可能である。
【0025】また、本実施形態の光導波路デバイスで
は、一つの受光素子7のみによって光信号を受信するこ
とができるので、光導波路デバイスの構成を簡素化する
ことができる。さらに、入力光導波路2と、AWG3
と、出力光導波路4と、光ゲート5と、光コンバイナ6
と、受光素子7とを1枚の基板1上に集積した構成とな
っているので、上述した機能を1チップで実現すること
ができる。
【0026】なお、本実施形態では、石英系材料で形成
された入力光導波路2、AWG3、出力光導波路4、お
よび光コンバイナ6と、半導体材料で形成された光ゲー
ト5および受光素子7とをSiからなる基板1上にハイ
ブリッドに集積する構成を例にして説明したが、入力光
導波路2、AWG3、出力光導波路4、光ゲート5、光
コンバイナ6、および受光素子7を半導体材料で形成し
て基板1上にモノリシックに集積する構成としてもよ
い。また、基板1の材料はSiに限られず、例えばIn
Pで形成された基板を用いてもよい。
【0027】さらに、本実施形態では受信アンプ8が光
導波路デバイスの外部に備えられている構成を例に示し
たが、SiないしInPからなる基板上に受信アンプを
フリップチップ実装する構成としてもよい。
【0028】また、本実施形態では多入力1出力型の光
コンバイナ6を用いた例を示したが、出力側に複数の多
モード光導波路を形成した多入力多出力型の光コンバイ
ナを用いてもよい。さらに、受光素子7としては、PI
N−PDの他にAPD等を用いてもよい。
【0029】
【実施例】以下に、図1に示した光導波路デバイスの実
施例について説明する。
【0030】基板1としてはSi基板を用いた。また、
基板1上に形成される各種光導波路は、石英系光導波路
とした。
【0031】本実施例での石英系光導波路の形成工程に
ついて、図2を参照して説明する。まず、基板1上に、
TEOS、オゾンを用いた常圧CVD法によって、PS
Gからなる下部グラッド層9を厚さ15μmで積層し、
さらに、GPSG膜を厚さ6μmで積層する。このGP
SG膜を光導波路の形状にパターニングし、RIE(反
応性イオンエッチング)法によるエッチングを行い、コ
ア層10を形成する。コア層10の幅は6μmとし、ク
ラッド層との屈折率は0.35%とした。さらにその上
に、PSGからなる上部グラッド層11を厚さ15μm
で積層し、これにより、基板1上に石英系の光導波路が
形成される。
【0032】光ゲート5には、InGaAsP系の半導
体光アンプを用いた。光ゲート5の長さは500μm、
チャンネル数は16、左右方向のピッチは125μmと
した。50mAの電流注入によって、信号利得として2
5dB以上の値を得ており、石英系光導波路との高効率
結合のため、入出力部分にスポットサイズ変換部を形成
し、結合損失として片側約5dB、トータルで15dB
程度の利得を実現できた。また、光ゲート5と光導波路
との光結合部における光導波路の端面はRIE法によっ
て形成し、光ゲート5の活性層12と光導波路との高さ
方向、及び横方向の位置合わせは、半田バンプ13を用
いたパッシブアラインメントの手法を用いて行った。
【0033】受光素子7としてはInGaAs系の導波
路PIN−PDを用い、上記と同様に、半田バンプを用
いたパッシブアラインメントの手法によって基板1上に
実装した。
【0034】このような光導波路デバイスを用いて、1
6チャンネルのWDM信号の受信評価を行ったところ、
2.5Gb/sの光信号に対して−28dBの受信感度
を得ることができたとともに、信号チャンネルの切り替
え速度として、3ns以下の高速動作を実現できた。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光導波路
デバイスは、波長多重信号光を各波長ごとの光信号に分
離して出力する波長分波デバイスと、分離された光信号
のうちの一つの光信号を選択して通過させる光ゲート
と、光ゲートを通過した光信号を受信素子に出力する光
コンバイナと、光コンバイナから出力された光信号を受
信するための受信素子とを有するので、ナノ秒単位の高
速応答が可能であるとともに、高い受信感度で光信号を
受信することができる。加えて、複数の受光素子を用い
なくてもよいので、光導波路デバイスの構成を簡素化す
ることができる。
【0036】また、光導波路デバイスの各エレメントを
一枚の半導体基板上に形成することにより、本発明の光
導波路デバイスを1チップで実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光導波路デバイスの一実施形態を示す
平面図である。
【図2】石英系光導波路の断面構造を示す断面図であ
る。
【図3】光ゲートと石英系光導波路との光結合部構造を
示す断面図である。
【図4】光コンバイナの構成を示す平面図である。
【図5】従来の光導波路デバイスを示す平面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 入力光導波路 3 AWG 4 出力光導波路 5 光ゲート 6 光コンバイナ 7 受光素子 8 受信アンプ 9 下部グラッド層 10 コア層 11 上部グラッド層 12 活性層 13 半田バンプ 14 単一モード光導波路 15 多モード光導波路 16 光カップラ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力光導波路から入力された波長多重信
    号光を各波長ごとの光信号に分離して出力光導波路に出
    力する波長分波デバイスと、 前記出力光導波路に接続され、前記波長分波デバイスで
    分離された光信号のうちの一つの光信号を選択して通過
    させる光ゲートと、 前記光ゲートを通過した光信号が入力される単一モード
    光導波路と前記単一モード光導波路に入力された光信号
    を出力する多モード光導波路とを備えた光コンバイナ
    と、 前記光コンバイナから出力された前記光信号を受信する
    ための受光素子とを有する光導波路デバイス。
  2. 【請求項2】 前記波長分波デバイス、前記光コンバイ
    ナ、および各前記光導波路は石英系材料で形成され、前
    記光ゲートおよび前記受光素子は半導体材料で形成され
    ている請求項1に記載の光導波路デバイス。
  3. 【請求項3】 前記波長分波デバイス、前記光コンバイ
    ナ、各前記光導波路、前記光ゲート、および前記受光素
    子は半導体材料で形成されている請求項1に記載の光導
    波路デバイス。
  4. 【請求項4】 前記波長分波デバイスと、前記光ゲート
    と、前記光コンバイナと、各前記光導波路と、前記受光
    素子とが一枚の半導体基板上に形成されている請求項1
    から3のいずれか1項に記載の光導波路デバイス。
  5. 【請求項5】 前記半導体基板はSi基板またはInP
    基板である請求項4に記載の光導波路デバイス。
  6. 【請求項6】 前記波長分波デバイスはアレイ導波路格
    子である請求項1から5のいずれか1項に記載の光導波
    路デバイス。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2002018987A3 (en) * 2000-08-31 2002-05-16 Bookham Technology Plc Optical processing device
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