JPH1151902A - Ｌｃ／ｍｓインターフェイス - Google Patents
Ｌｃ／ｍｓインターフェイスInfo
- Publication number
- JPH1151902A JPH1151902A JP21082697A JP21082697A JPH1151902A JP H1151902 A JPH1151902 A JP H1151902A JP 21082697 A JP21082697 A JP 21082697A JP 21082697 A JP21082697 A JP 21082697A JP H1151902 A JPH1151902 A JP H1151902A
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- JP
- Japan
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- vibrator
- eluant
- atomized
- nebulizer
- desolvator
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- Withdrawn
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 細かい霧を生成させることのできる霧化器、
及び、小型で高温にならない脱溶媒器を提供する。 【解決手段】 ＬＣの溶離液をネブライザーを用いて超
音波振動子表面に噴霧して付着させ、超音波振動子の作
用によって極めて細かい霧を作らせて質量分析装置へ導
入するようにした。また、前記ネブライザーと超音波振
動子で発生させた細かい霧からの脱溶媒過程において、
脱溶媒器の器壁を冷却することによって溶媒を壁面に結
露させ、霧からの脱溶媒を促進させるようにした。
及び、小型で高温にならない脱溶媒器を提供する。 【解決手段】 ＬＣの溶離液をネブライザーを用いて超
音波振動子表面に噴霧して付着させ、超音波振動子の作
用によって極めて細かい霧を作らせて質量分析装置へ導
入するようにした。また、前記ネブライザーと超音波振
動子で発生させた細かい霧からの脱溶媒過程において、
脱溶媒器の器壁を冷却することによって溶媒を壁面に結
露させ、霧からの脱溶媒を促進させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体クロマトグラ
フィ（以下ＬＣと略称）と質量分析計（以下ＭＳと略
称）の間に設けられるインターフェイス、特にＬＣの溶
離液を霧化し脱溶媒化するための霧化器及び脱溶媒器に
関する。
フィ（以下ＬＣと略称）と質量分析計（以下ＭＳと略
称）の間に設けられるインターフェイス、特にＬＣの溶
離液を霧化し脱溶媒化するための霧化器及び脱溶媒器に
関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣとＭＳは、いずれも少量の試料で分
析でき、分析対象を共通にするところが多いことから、
長短相補う使い方をすると、きわめて有力な分析手段と
なる。例えば、ＬＣとＭＳを一体の分析機器として接続
させれば、溶液中に含まれる溶質の各成分ごとの質量ス
ペクトルを得ることができて都合がよい。
析でき、分析対象を共通にするところが多いことから、
長短相補う使い方をすると、きわめて有力な分析手段と
なる。例えば、ＬＣとＭＳを一体の分析機器として接続
させれば、溶液中に含まれる溶質の各成分ごとの質量ス
ペクトルを得ることができて都合がよい。
【０００３】図１は、そのようなＬＣとＭＳの間をつな
ぐＬＣ／ＭＳインターフェイスの従来技術を模式的に示
したものである。ＬＣ／ＭＳインターフェイスは、ＬＣ
部１からの溶離液を霧状にするための霧化器２と、該霧
から溶媒を除去するための脱溶媒器３と、該脱溶媒され
た霧をＭＳ部５に導入するための大気圧イオン源４とか
らなっている。
ぐＬＣ／ＭＳインターフェイスの従来技術を模式的に示
したものである。ＬＣ／ＭＳインターフェイスは、ＬＣ
部１からの溶離液を霧状にするための霧化器２と、該霧
から溶媒を除去するための脱溶媒器３と、該脱溶媒され
た霧をＭＳ部５に導入するための大気圧イオン源４とか
らなっている。
【０００４】ＬＣ／ＭＳシステムにおいては、霧化器２
で生成される霧の粒子が細かければ細かいほど、測定対
象成分を含む粒子数が増え、しかも後段の脱溶媒器３及
び大気圧イオン源４での脱溶媒化、及びイオン化の効率
が高まり、その結果、質量分析の感度が高くなる。従っ
て、いかにして細かい霧を作り出すかが、ＬＣ／ＭＳを
高感度化するための１つのキーポイントになっている。
で生成される霧の粒子が細かければ細かいほど、測定対
象成分を含む粒子数が増え、しかも後段の脱溶媒器３及
び大気圧イオン源４での脱溶媒化、及びイオン化の効率
が高まり、その結果、質量分析の感度が高くなる。従っ
て、いかにして細かい霧を作り出すかが、ＬＣ／ＭＳを
高感度化するための１つのキーポイントになっている。
【０００５】ところで、従来の霧化器２には、サーモス
プレイ方式、高圧ガスネブライザー方式等があるが、そ
れらの装置による霧の粒子径の微細化には限界があり、
性能向上がこれ以上望めないところまで来ているのが現
状である。
プレイ方式、高圧ガスネブライザー方式等があるが、そ
れらの装置による霧の粒子径の微細化には限界があり、
性能向上がこれ以上望めないところまで来ているのが現
状である。
【０００６】また、従来の脱溶媒器３では、霧の微粒子
を加熱することによって溶媒を霧の微粒子から脱離させ
る方式を取っているが、このような方式は脱溶媒器を大
型化させ、しかも高温度になるため、メンテナンス等に
不便な点を生じる。
を加熱することによって溶媒を霧の微粒子から脱離させ
る方式を取っているが、このような方式は脱溶媒器を大
型化させ、しかも高温度になるため、メンテナンス等に
不便な点を生じる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の技術では、霧化器における霧の粒子径の微細化に限
界があるとともに、脱溶媒器の大型化、高温度化にも問
題点が見い出される。
来の技術では、霧化器における霧の粒子径の微細化に限
界があるとともに、脱溶媒器の大型化、高温度化にも問
題点が見い出される。
【０００８】本発明の目的は、上述した点に鑑み、より
細かい霧を生成させることのできる霧化器、及び、小型
で高温にならない脱溶媒器を提供することにある。
細かい霧を生成させることのできる霧化器、及び、小型
で高温にならない脱溶媒器を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明のＬＣ／ＭＳインターフェイスは、ＬＣの溶
離液をネブライザーを用いて超音波振動子表面に噴霧し
て付着させ、超音波振動子の作用によって極めて細かい
霧を作らせて質量分析装置へ導入するようにしたことを
特徴としている。
め、本発明のＬＣ／ＭＳインターフェイスは、ＬＣの溶
離液をネブライザーを用いて超音波振動子表面に噴霧し
て付着させ、超音波振動子の作用によって極めて細かい
霧を作らせて質量分析装置へ導入するようにしたことを
特徴としている。
【００１０】また、前記ネブライザーと超音波振動子で
発生させた細かい霧からの脱溶媒過程において、脱溶媒
器の器壁を冷却することによって溶媒を壁面に結露さ
せ、霧からの脱溶媒を促進させるようにしたことを特徴
としている。
発生させた細かい霧からの脱溶媒過程において、脱溶媒
器の器壁を冷却することによって溶媒を壁面に結露さ
せ、霧からの脱溶媒を促進させるようにしたことを特徴
としている。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図２は本発明の一実施例である。
ＬＣからの溶離液６は、高圧ガスネブライザー７を通っ
て、キャリアーガス８と共に適当な粒子径に霧化され
て、霧化室９の壁に設けられた超音波振動子１０の表面
に吹き付けられる。超音波振動子１０は、超音波振動子
電源１１からの電力供給によって動作し、超音波振動子
１０の表面に付着した溶離液は、超音波振動子１０の作
用によって極めて細かい霧に変換される。また、霧化し
きれなかった余剰の溶離液は、霧化室９の底部に設けら
れたドレイン１２を通って外部に排出される。
施の形態を説明する。図２は本発明の一実施例である。
ＬＣからの溶離液６は、高圧ガスネブライザー７を通っ
て、キャリアーガス８と共に適当な粒子径に霧化され
て、霧化室９の壁に設けられた超音波振動子１０の表面
に吹き付けられる。超音波振動子１０は、超音波振動子
電源１１からの電力供給によって動作し、超音波振動子
１０の表面に付着した溶離液は、超音波振動子１０の作
用によって極めて細かい霧に変換される。また、霧化し
きれなかった余剰の溶離液は、霧化室９の底部に設けら
れたドレイン１２を通って外部に排出される。
【００１２】ここで、高圧ガスネブライザー７を使用し
て予備的にＬＣの溶離液６を霧化させる理由は、単に溶
離液６を超音波振動子１０の表面に流すだけでは、溶離
液６が液滴となってしまって超音波振動子１０の表面に
うまく付着しない場合があるためである。高圧ガスネブ
ライザー７の使用によって初めて安定した霧の生成が可
能となる。
て予備的にＬＣの溶離液６を霧化させる理由は、単に溶
離液６を超音波振動子１０の表面に流すだけでは、溶離
液６が液滴となってしまって超音波振動子１０の表面に
うまく付着しない場合があるためである。高圧ガスネブ
ライザー７の使用によって初めて安定した霧の生成が可
能となる。
【００１３】超音波振動子１０は動作時に発熱するの
で、熱伝導部材１３を介してペルチェ素子１４によって
冷却を行なわせる。ペルチェ素子１４は、熱伝導部材１
３にセットされた温度センサー１５からの信号に基づい
て、熱伝導部材温度コントロール電源１６から適切な量
の電力を受け取り、熱伝導部材１３側の熱を放熱器１７
側へと移動させる。放熱器１７に移された熱は、大気と
熱交換を行なうことによって、大気中に逃がされる。こ
うして、超音波振動子１０は常に室温レベルに温度コン
トロールされる。
で、熱伝導部材１３を介してペルチェ素子１４によって
冷却を行なわせる。ペルチェ素子１４は、熱伝導部材１
３にセットされた温度センサー１５からの信号に基づい
て、熱伝導部材温度コントロール電源１６から適切な量
の電力を受け取り、熱伝導部材１３側の熱を放熱器１７
側へと移動させる。放熱器１７に移された熱は、大気と
熱交換を行なうことによって、大気中に逃がされる。こ
うして、超音波振動子１０は常に室温レベルに温度コン
トロールされる。
【００１４】超音波振動子１０で霧化された試料は、キ
ャリアーガスの流れに乗って脱溶媒器１８に進む。脱溶
媒器１８は、外壁に巻回された冷媒流路１９を流れる冷
却水等の冷媒によって壁面が常に２〜３℃に冷却されて
いる。この冷媒は、冷媒クーラー２０によって常時低温
に温度コントロールされている。低温の器壁に取り囲ま
れた結果、霧中の溶媒は、脱溶媒器１８の壁面に結露し
て、脱溶媒器１８の底部に設けられたドレイン２１から
外部に排出される。このようにして脱溶媒化された試料
は、次の大気圧イオン源へと導かれ、質量分析に供され
る。
ャリアーガスの流れに乗って脱溶媒器１８に進む。脱溶
媒器１８は、外壁に巻回された冷媒流路１９を流れる冷
却水等の冷媒によって壁面が常に２〜３℃に冷却されて
いる。この冷媒は、冷媒クーラー２０によって常時低温
に温度コントロールされている。低温の器壁に取り囲ま
れた結果、霧中の溶媒は、脱溶媒器１８の壁面に結露し
て、脱溶媒器１８の底部に設けられたドレイン２１から
外部に排出される。このようにして脱溶媒化された試料
は、次の大気圧イオン源へと導かれ、質量分析に供され
る。
【００１５】なお、脱溶媒器の冷却は、冷媒クーラーに
よって冷やされた冷媒によらず、ペルチェ素子等を用い
て行なってもよい。また、霧化室と脱溶媒器は、本実施
例では別々の室になっているが、一つの室に一体化され
たものであってもよい。
よって冷やされた冷媒によらず、ペルチェ素子等を用い
て行なってもよい。また、霧化室と脱溶媒器は、本実施
例では別々の室になっているが、一つの室に一体化され
たものであってもよい。
【００１６】
【発明の効果】本発明の結果、ＬＣの溶離液を極めて細
かい粒子径に霧化することが可能になり、測定対象成分
を含む粒子数を増大させることができるので、ＬＣ／Ｍ
Ｓを高感度化することができる。また、霧化された試料
の脱溶媒過程を低温結露方式としたので、脱溶媒器の高
温によるやけど等の防止策が不要になり、メンテナンス
が容易となる。
かい粒子径に霧化することが可能になり、測定対象成分
を含む粒子数を増大させることができるので、ＬＣ／Ｍ
Ｓを高感度化することができる。また、霧化された試料
の脱溶媒過程を低温結露方式としたので、脱溶媒器の高
温によるやけど等の防止策が不要になり、メンテナンス
が容易となる。
【図１】従来の実施例を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施例を示す図である。
１・・・ＬＣ、２・・・霧化器、３・・・脱溶媒器、４・・・大気圧
イオン源、５・・・ＭＳ部、６・・・ＬＣからの溶離液、７・・
・高圧ガスネブライザー、８・・・キャリアーガス、９・・・
霧化室、１０・・・超音波振動子、１１・・・超音波振動子電
源、１２・・・ドレイン、１３・・・熱伝導部材、１４・・・ペ
ルチェ素子、１５・・・温度センサー、１６・・・熱伝導部材
温度コントロール電源、１７・・・放熱器、１８・・・脱溶媒
器、１９・・・冷媒流路、２０・・・冷媒クーラー、２１・・・
ドレイン。
イオン源、５・・・ＭＳ部、６・・・ＬＣからの溶離液、７・・
・高圧ガスネブライザー、８・・・キャリアーガス、９・・・
霧化室、１０・・・超音波振動子、１１・・・超音波振動子電
源、１２・・・ドレイン、１３・・・熱伝導部材、１４・・・ペ
ルチェ素子、１５・・・温度センサー、１６・・・熱伝導部材
温度コントロール電源、１７・・・放熱器、１８・・・脱溶媒
器、１９・・・冷媒流路、２０・・・冷媒クーラー、２１・・・
ドレイン。
Claims (5)
- 【請求項１】液体クロマトグラフィの溶離液をネブライ
ザーを用いて超音波振動子表面に噴霧して付着させ、超
音波振動子の作用で極めて細かい霧を作らせて質量分析
装置へ導入するようにしたことを特徴とするＬＣ／ＭＳ
インターフェイス。 - 【請求項２】前記超音波振動子は、ペルチェ素子による
冷却によって温度が室温に保たれていることを特徴とす
る請求項１記載のＬＣ／ＭＳインターフェイス。 - 【請求項３】前記ネブライザーと超音波振動子で発生さ
せた細かい霧からの脱溶媒過程において、脱溶媒器の器
壁を冷却することによって溶媒を壁面に結露させ、霧か
らの脱溶媒を促進させるようにしたことを特徴とする請
求項１または２記載のＬＣ／ＭＳインターフェイス。 - 【請求項４】前記脱溶媒器の器壁は、冷媒クーラーで冷
却された冷媒によって低温に保たれていることを特徴と
する請求項３記載のＬＣ／ＭＳインターフェイス。 - 【請求項５】前記脱溶媒器の器壁は、ペルチェ素子によ
って低温に保たれていることを特徴とする請求項３記載
のＬＣ／ＭＳインターフェイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21082697A JPH1151902A (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | Ｌｃ／ｍｓインターフェイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21082697A JPH1151902A (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | Ｌｃ／ｍｓインターフェイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1151902A true JPH1151902A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=16595766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21082697A Withdrawn JPH1151902A (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | Ｌｃ／ｍｓインターフェイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1151902A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117323A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Xavel Inc | 抽選システム、及び抽選方法 |
| JP4447656B1 (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-07 | コニシセイコー株式会社 | 携帯用超音波ミスト発生装置 |
| GB2499681A (en) * | 2011-04-20 | 2013-08-28 | Micromass Ltd | Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target |
| GB2507297A (en) * | 2012-10-25 | 2014-04-30 | Micromass Ltd | Piezoelectric vibration of an ion-source surface ionization structure to aid secondary droplet reduction |
| US10335123B2 (en) | 2009-05-27 | 2019-07-02 | Micromass Uk Limited | System and method for identification of biological tissues |
-
1997
- 1997-08-05 JP JP21082697A patent/JPH1151902A/ja not_active Withdrawn
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117323A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Xavel Inc | 抽選システム、及び抽選方法 |
| JP4447656B1 (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-07 | コニシセイコー株式会社 | 携帯用超音波ミスト発生装置 |
| US10335123B2 (en) | 2009-05-27 | 2019-07-02 | Micromass Uk Limited | System and method for identification of biological tissues |
| GB2499681A (en) * | 2011-04-20 | 2013-08-28 | Micromass Ltd | Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target |
| US8921777B2 (en) | 2011-04-20 | 2014-12-30 | Micromass Uk Limited | Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target |
| US9082603B2 (en) | 2011-04-20 | 2015-07-14 | Micromass Uk Limited | Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target |
| GB2499681B (en) * | 2011-04-20 | 2016-02-10 | Micromass Ltd | Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target |
| GB2507297A (en) * | 2012-10-25 | 2014-04-30 | Micromass Ltd | Piezoelectric vibration of an ion-source surface ionization structure to aid secondary droplet reduction |
| JP2016502731A (ja) * | 2012-10-25 | 2016-01-28 | マイクロマス ユーケー リミテッド | 二次液滴の減少を支援するためのインソース表面イオン化構造体への圧電振動 |
| GB2507297B (en) * | 2012-10-25 | 2017-06-21 | Micromass Ltd | Piezo-electric vibration on an in-source surface ionization structure to aid secondary droplet reduction |
| US10020177B2 (en) | 2012-10-25 | 2018-07-10 | Micromass Uk Limited | Piezo-electric vibration on an in-source surface ionization structure to aid secondary droplet reduction |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041005 |