JPH1145591A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

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Publication number
JPH1145591A
JPH1145591A JP19966697A JP19966697A JPH1145591A JP H1145591 A JPH1145591 A JP H1145591A JP 19966697 A JP19966697 A JP 19966697A JP 19966697 A JP19966697 A JP 19966697A JP H1145591 A JPH1145591 A JP H1145591A
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JP
Japan
Prior art keywords
switching means
memory cell
group
circuit
signal
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP19966697A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Hosogane
明 細金
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH1145591A publication Critical patent/JPH1145591A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the delay in access speed at the time of data reading. SOLUTION: In a flash memory, a signal interrupting circuit 105 is connected between the pre-decoder 101 and the main decoder group 103, and a signal interrupting circuit 107 is connected between the connecting node between the main decoder group 103 and the signal interrupting circuit 105 and the voltage converting circuit 109. Since at the time of data reading, control signals CUT1, CUT2 from a control circuit 119 turn the signal interrupting circuit 105 on and the signal interrupting circuit 107 off, the pre-decoder 101 is separated from the voltage converting circuit 109 and the output PDOUT of the pre- decoder 101 is inputted directly into the main decoder group 103 not through the voltage converting circuit 109.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は不揮発性半導体記憶
装置に関し、特に、データ書込および消去時に高電圧を
使用するフラッシュメモリなどの不揮発性半導体記憶装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a nonvolatile semiconductor memory device such as a flash memory which uses a high voltage when writing and erasing data.

【0002】[0002]

【従来の技術】不揮発性半導体記憶装置の一例として一
般的なものにフラッシュメモリがある。フラッシュメモ
リでは一般に、データ書込および消去時に、正または負
の高電圧が使用される。データ書込または消去が行われ
るメモリセルは、外部から入力されたアドレス信号をデ
コードして得られるデコード信号に基づいて選択される
が、データ書込または読出時に使用される上記電圧はこ
のデコード信号を電圧変換することにより生成される。
そのため、フラッシュメモリにおいては通常、アドレス
信号をデコードするためのデコーダ内に電圧変換回路が
備えられている。
2. Description of the Related Art As an example of a nonvolatile semiconductor memory device, a flash memory is generally used. Generally, a flash memory uses a high positive or negative voltage during data writing and erasing. A memory cell to which data writing or erasing is performed is selected based on a decode signal obtained by decoding an externally input address signal, and the voltage used at the time of data writing or reading is determined by the decoding signal. Is generated by voltage conversion.
Therefore, a flash memory usually includes a voltage conversion circuit in a decoder for decoding an address signal.

【0003】図7は、従来のフラッシュメモリにおける
デコーダおよびその周辺回路600を示す回路図であ
る。図7を参照して、デコーダおよびその周辺回路60
0は、ロウアドレス信号が入力されるプリデコーダ10
1と、メインデコーダ群103と、信号遮断回路601
と、電圧変換回路609と、メモリセル列群111と、
制御回路619と、デコーダ121とを備える。メイン
デコーダ群103は、複数のメインデコーダ115x
(x=1,2,3,…,m)をさらに備える。メモリセ
ル列群111は、複数のメモリセル列117x(x=
1,2,3,…,m)をさらに備える。デコーダ部12
1は、ビット線BLから選択的にデータを出力する。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuit 600 in a conventional flash memory. Referring to FIG. 7, a decoder and its peripheral circuit 60 are shown.
0 is a predecoder 10 to which a row address signal is input.
1, the main decoder group 103, and the signal cutoff circuit 601
, A voltage conversion circuit 609, a memory cell column group 111,
A control circuit 619 and a decoder 121 are provided. The main decoder group 103 includes a plurality of main decoders 115x.
(X = 1, 2, 3,..., M). The memory cell column group 111 includes a plurality of memory cell columns 117x (x =
1, 2, 3,..., M). Decoder section 12
1 selectively outputs data from the bit line BL.

【0004】メインデコーダ115x(x=1,2,
3,…,m)は対応するワード線WLx(x=1,2,
3,…,m)に接続され、ワード線WLx(x=1,
2,3,…,m)は対応するメモリセル列115x(x
=1,2,3,…,m)に接続されている。プリデコー
ダ101と電圧変換回路609との間に信号遮断回路6
01が接続されている。制御回路619からの制御信号
CUTのH/Lレベルに応答して信号遮断回路106が
オン/オフされる。信号遮断回路106がオンすると、
プリデコーダ101の出力PDOUTが信号遮断回路1
06を介して電圧変換回路609に入力され電圧変換さ
れる。電圧変換により得られた正または負の高電圧はメ
インデコーダ群103に入力される。電圧変換回路60
9は、信号遮断回路601がオフしてプリデコーダ10
1と電気的に切り離されても直前に受取ったプリデコー
ダ101の出力PDOUTを保持するためのラッチを有
している。
The main decoder 115x (x = 1, 2, 2)
,..., M) correspond to the corresponding word lines WLx (x = 1, 2, 2, 3).
,..., M) and a word line WLx (x = 1,
, M) correspond to the corresponding memory cell column 115x (x
= 1, 2, 3,..., M). A signal cutoff circuit 6 between the predecoder 101 and the voltage conversion circuit 609
01 is connected. The signal cutoff circuit 106 is turned on / off in response to the H / L level of the control signal CUT from the control circuit 619. When the signal cutoff circuit 106 is turned on,
The output PDOUT of the predecoder 101 is the signal cutoff circuit 1
The voltage is input to a voltage conversion circuit 609 via a line 06 and is converted into a voltage. The positive or negative high voltage obtained by the voltage conversion is input to the main decoder group 103. Voltage conversion circuit 60
9 indicates that the signal cutoff circuit 601 is turned off and the predecoder 10
It has a latch for holding the output PDOUT of the predecoder 101 received immediately before even if it is electrically disconnected from 1.

【0005】図8は、図7に示した信号遮断回路601
と電圧変換回路609とを示す回路図である。図8を参
照して、信号遮断回路601はNMOSトランジスタか
ら成る。また、電圧変換回路609は2つのインバータ
から成るラッチ回路をその構成に有している。
FIG. 8 shows the signal cutoff circuit 601 shown in FIG.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a voltage conversion circuit and a voltage conversion circuit; Referring to FIG. 8, signal cutoff circuit 601 includes an NMOS transistor. The voltage conversion circuit 609 has a latch circuit including two inverters in its configuration.

【0006】次にデコーダおよびその周辺回路600の
動作を説明する。デコータおよびその周辺回路600に
おいて、プリデコーダ101は常に通常の電源電圧で駆
動される。データ書込または消去などで高電圧が必要な
場合、電圧変換回路609のラッチにプリデコーダ10
1の出力PDOUTがラッチされる。出力PDOUTが
ラッチされると制御回路619からのLレベルの制御信
号CUTに応答して信号遮断回路601がオフし、プリ
デコーダ101と電圧変換回路609とが電気的に切り
離される。電圧変換回路609では、その電源電圧VP
WLGおよびVNWLを昇圧または降圧することによ
り、ラッチされたプリデコーダ101の出力PDOUT
が電圧変換され、正または負の高電圧が生成される。メ
インデコーダ115xもまた昇圧または降圧された電源
電圧VPWLGおよびVNWLにより駆動され、この正
または負の高電圧をさらにデコードし、その出力をワー
ド線WLxを介してメモリセル列115xのコントロー
ルゲートに与える。
Next, the operation of the decoder and its peripheral circuit 600 will be described. In decoder and its peripheral circuit 600, predecoder 101 is always driven by a normal power supply voltage. When a high voltage is required for data writing or erasing, the pre-decoder 10
One output PDOUT is latched. When the output PDOUT is latched, the signal cutoff circuit 601 is turned off in response to the L-level control signal CUT from the control circuit 619, and the predecoder 101 and the voltage conversion circuit 609 are electrically disconnected. In the voltage conversion circuit 609, the power supply voltage VP
By raising or lowering WLG and VNWL, the latched output PDOUT of predecoder 101 is output.
Is voltage converted to generate a positive or negative high voltage. Main decoder 115x is also driven by boosted or stepped-down power supply voltages VPWLG and VNWL, further decodes the positive or negative high voltage, and applies its output to a control gate of memory cell column 115x via word line WLx.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、データ
読出時には上記のような正または負の高電圧を印加する
必要がなく、電圧変換回路609の電源電圧VPWLG
およびVNWLは通常の電源電圧に設定されており電圧
変換は行なわない。したがって、電圧変換回路609は
使用しない。よって、従来の場合、プリデコーダの出力
PDOUTがデータ読出時に電圧変換回路609を介し
てメインデコーダ115xに入力されるのは単なる冗長
であり、この時の伝搬遅延によってアクセス速度が低下
してしまうという問題点があった。そして、もしこの伝
搬遅延を解消しようとすると電圧変換回路のサイズを大
きくする必要があり、その場合、レイアウト占有面積が
増大してしまうという問題点があった。
However, it is not necessary to apply the above-mentioned positive or negative high voltage at the time of data reading, and the power supply voltage VPWLG of the voltage conversion circuit 609 is not required.
And VNWL are set to the normal power supply voltage and do not perform voltage conversion. Therefore, the voltage conversion circuit 609 is not used. Therefore, in the conventional case, it is merely redundant that the output PDOUT of the predecoder is input to the main decoder 115x via the voltage conversion circuit 609 at the time of data reading, and the access speed is reduced due to the propagation delay at this time. There was a problem. If the propagation delay is to be eliminated, it is necessary to increase the size of the voltage conversion circuit. In this case, there is a problem that the area occupied by the layout increases.

【0008】さらに、データ書込または消去時には電圧
変換回路609で得られた高電圧がプリデコーダ101
に印加されないようにするため、電圧変換回路609と
プリデコーダ101とを信号遮断回路601で遮断する
必要があった。しかしながら、信号遮断回路601はメ
インデコーダ群103の手前に設けられているため、デ
ータ書込または消去時に信号遮断回路601をオフにす
ると、メインデコーダ群103が一斉にプリデコーダ1
01と切り離されてしまい、その結果、書込または消去
動作中は書込または消去が行なわれていないメモリセル
列117xについても一切アクセスできないという問題
点があった。
Further, at the time of data writing or erasing, the high voltage obtained by voltage conversion circuit 609 is applied to predecoder 101.
, It is necessary to cut off the voltage conversion circuit 609 and the predecoder 101 by the signal cutoff circuit 601. However, since the signal cutoff circuit 601 is provided in front of the main decoder group 103, when the signal cutoff circuit 601 is turned off at the time of data writing or erasing, the main decoder group 103 is simultaneously turned on.
01, and as a result, there is a problem in that during the writing or erasing operation, the memory cell column 117x on which writing or erasing is not performed cannot be accessed at all.

【0009】本発明は以上のような問題点を解決するた
めになされたもので、レイアウト占有面積が増大される
ことなく、データ読出時のアクセス速度の遅延の解消が
可能な不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的と
する。また、データ書込または消去動作中に、書込また
は消去が行なわれていないメモリセル列についてアクセ
ス可能な不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and a nonvolatile semiconductor memory device capable of eliminating a delay in access speed at the time of data reading without increasing a layout occupation area. The purpose is to provide. It is another object of the present invention to provide a nonvolatile semiconductor memory device that can access a memory cell column in which writing or erasing is not performed during a data writing or erasing operation.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る不揮発性
半導体記憶装置は、複数の選択線から成る第1の選択線
群と、各々が互いに異なる選択線に接続された複数のメ
モリセル列から成る第1のメモリセル列群と、アドレス
信号をデコードして第1の選択線群の選択線を選択する
ための第1の信号を出力する第1のデコード手段と、第
1の信号を電圧変換して第2の信号を出力し、かつ、ラ
ッチする電圧変換・ラッチ手段と、複数の選択線に接続
され、前記第1または第2の信号をデコードして第3の
信号を出力する第2のデコード手段と、第1のデコード
手段と前記第2のデコード手段との間に接続された第1
のスイッチング手段と、第1のスイッチング手段と前記
第2のデコード手段との接続ノードと前記電圧変換・ラ
ッチ手段との間に接続された第2のスイッチング手段
と、第1のメモリセル列群におけるデータ読出時に、第
1のスイッチング手段をオンし、かつ、第2のスイッチ
ング手段をオフし、データ書込時およびデータ消去時
に、第1および第2のスイッチング手段をオンし、か
つ、所定時間経過後前記第1のスイッチング手段をオフ
する制御手段とを設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a nonvolatile semiconductor memory device comprising: a first selection line group including a plurality of selection lines; and a plurality of memory cell columns each connected to a different selection line. A first memory cell column group consisting of: a first decoding unit that decodes an address signal and outputs a first signal for selecting a selection line of the first selection line group; Voltage conversion / latch means for outputting and latching a second signal after voltage conversion, and connected to a plurality of selection lines, for decoding the first or second signal and outputting a third signal A second decoding unit; a first decoding unit connected between the first decoding unit and the second decoding unit;
Switching means, a second switching means connected between a connection node between the first switching means and the second decoding means and the voltage conversion / latch means, and a first memory cell column group. At the time of data reading, the first switching means is turned on, and the second switching means is turned off. At the time of data writing and data erasing, the first and second switching means are turned on, and a predetermined time has elapsed. And control means for turning off the first switching means.

【0011】請求項2に係る不揮発性半導体記憶装置
は、請求項1の不揮発性半導体記憶装置において、複数
の選択線から成る第1と異なる第2の選択線群と、複数
のメモリセル列から成る前記第1と異なる第2のメモリ
セル列群と、第1のスイッチング手段と、第1のメモリ
セル列群と第2のスイッチング手段との接続ノードとの
間に接続された第3のスイッチング手段とを設けたもの
であり、第2のメモリセル列群は、第1のスイッチング
手段と第3のスイッチング手段との接続ノードに接続さ
れ、第2の制御手段は、第1および第2のメモリセル列
群におけるデータ読出時およびデータ書込時およびデー
タ消去時に、第3のスイッチング手段をオンし、第1の
メモリセル列群のみにおけるデータ書込時および読出
時、第1、第2および第3のスイッチング手段をオン
し、かつ、所定時間経過後前記第3のスイッチング手段
をオフする。
A nonvolatile semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention is the nonvolatile semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the first and second selection line groups each including a plurality of selection lines and a plurality of memory cell columns are provided. A second memory cell group different from the first, a first switching means, and a third switching connected between a connection node between the first memory cell string group and the second switching means. Means, the second group of memory cells is connected to a connection node between the first switching means and the third switching means, and the second control means comprises first and second memory cells. At the time of data reading, data writing and data erasing in the memory cell column group, the third switching means is turned on, and at the time of data writing and reading only in the first memory cell column group, first, second and 3 to turn on the switching means, and turns off the third switching means after a predetermined time has elapsed.

【0012】請求項3に係る不揮発性半導体記憶装置
は、請求項1または2の不揮発性半導体記憶装置におい
て、電圧変換・ラッチ手段は第2の信号を内部電源電圧
よりも絶対値の大きな正または負の電圧に変換する。
According to a third aspect of the present invention, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the first or second aspect, the voltage conversion / latch means converts the second signal to a positive or negative signal having an absolute value larger than the internal power supply voltage. Convert to a negative voltage.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。また、図中、同一符号は同一
または相当部分を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0014】(1) 実施の形態1 図1は、本発明の実施の形態1によるフラッシュメモリ
におけるデコーダおよびその周辺回路100を示す回路
図である。図1を参照して、デコーダおよびその周辺回
路100は、ロウアドレス信号が入力されるプリデコー
ダ101と、メインデコーダ群103と、信号遮断回路
105,107と、電圧変換回路109と、メモリセル
列群111と、制御回路119と、ワード線WLx(x
=1,2,3,…,m)と、デコーダ121とを備え
る。メインデコーダ群103は、複数のメインデコーダ
115x(x=1,2,3,…,m)をさらに備える。
メモリセル列群111は、複数のメモリセル列117x
(x=1,2,3,…,m)をさらに備える。デコーダ
121は、ビット線BLからデータを選択的に出力す
る。メインデコーダ115xは対応するワード線WLx
に接続され、ワード線WLxは対応するメモリセル列1
15xに接続されている。メモリセル列内のメモリセル
に接続されたビット線をBL、ソース線をSで示す。プ
リデコーダ101とメインデコーダ群103との間に信
号遮断回路105が接続されている。信号遮断回路10
5とメインデコーダ群103との接続ノードと電圧変換
回路109との間に信号遮断回路107が接続されてい
る。プリデコーダ101は読出,書込,および消去など
の動作にかかわらず常に通常の電源電圧Vccで駆動さ
れる。
(1) First Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuit 100 in a flash memory according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a decoder and its peripheral circuit 100 include a predecoder 101 to which a row address signal is input, a main decoder group 103, signal cutoff circuits 105 and 107, a voltage conversion circuit 109, and a memory cell column. Group 111, a control circuit 119, and a word line WLx (x
= 1, 2, 3,..., M) and a decoder 121. The main decoder group 103 further includes a plurality of main decoders 115x (x = 1, 2, 3,..., M).
The memory cell column group 111 includes a plurality of memory cell columns 117x.
(X = 1, 2, 3,..., M). The decoder 121 selectively outputs data from the bit line BL. The main decoder 115x is connected to the corresponding word line WLx
And the word line WLx is connected to the corresponding memory cell column 1
15x. The bit lines connected to the memory cells in the memory cell column are indicated by BL, and the source lines are indicated by S. A signal cutoff circuit 105 is connected between the predecoder 101 and the main decoder group 103. Signal cutoff circuit 10
A signal cutoff circuit 107 is connected between a connection node between the power supply 5 and the main decoder group 103 and the voltage conversion circuit 109. Predecoder 101 is always driven by normal power supply voltage Vcc regardless of operations such as reading, writing, and erasing.

【0015】図2は、図1に示した信号遮断回路107
および電圧変換回路109の例を示す回路図である。信
号遮断回路107は例えばMOSトランジスタから成
り、制御回路119からの制御信号CUT2に応答して
オン/オフする。図示してはいないが信号遮断回路10
5も例えばMOSトランジスタなどから成り、制御回路
119からの制御信号CUT1に応答してオン/オフす
る。電圧変換回路109は、信号遮断回路107(また
は105)によりプリデコーダ101から切り離されて
も直前に受取ったプリデコーダ101の出力PDOUT
を保持可能なインバータ2つから成るラッチ回路を有し
ている。出力PDOUTは電圧変換回路109で変換さ
れ、得られた高電圧はメインデコーダ群103に入力さ
れる。
FIG. 2 shows the signal cutoff circuit 107 shown in FIG.
2 is a circuit diagram illustrating an example of a voltage conversion circuit 109. FIG. The signal cutoff circuit 107 is formed of, for example, a MOS transistor, and is turned on / off in response to a control signal CUT2 from the control circuit 119. Although not shown, the signal cutoff circuit 10
Reference numeral 5 also includes a MOS transistor, for example, and is turned on / off in response to a control signal CUT1 from the control circuit 119. Even if the voltage conversion circuit 109 is disconnected from the predecoder 101 by the signal cutoff circuit 107 (or 105), the output PDOUT of the predecoder 101 received immediately before is output.
Has a latch circuit composed of two inverters capable of holding the current. The output PDOUT is converted by the voltage conversion circuit 109, and the obtained high voltage is input to the main decoder group 103.

【0016】以下にデコーダおよびその周辺回路100
の動作を説明する。図3は、図1に示した制御回路11
9から出力される信号遮断回路105,107の制御信
号CUT1,CUT2を示すタイミングチャートであ
り、(a)は、メモリセル列群111におけるデータ読
出時、(b)は、メモリセル列群111におけるデータ
書込または消去時のタイミングチャートである。ここ
で、制御信号CUT1,CUT2がHレベルのとき信号
遮断回路105,107はそれぞれオンし、Lレベルの
ときそれぞれオフするものとする。
A decoder and its peripheral circuit 100 will be described below.
Will be described. FIG. 3 shows the control circuit 11 shown in FIG.
9A and 9B are timing charts showing control signals CUT1 and CUT2 of the signal cutoff circuits 105 and 107 output from the memory cell column group 111, and FIG. 5 is a timing chart when data is written or erased. Here, the signal cutoff circuits 105 and 107 are turned on when the control signals CUT1 and CUT2 are at the H level, and are turned off when the control signals CUT1 and CUT2 are at the L level.

【0017】図1および図3(a)を参照して、まずデ
ータ読出時、動作開始後、制御信号CUT1はHレベル
となり制御信号CUT2はLレベルのままであるので、
信号遮断回路105はオン状態、信号遮断回路107は
オフ状態のままである。よって、プリデコーダ101か
らの出力PDOUTは信号遮断回路105を通過しメイ
ンデコーダ群103に入力される。この時、信号遮断回
路107はオフ状態であるので出力PDOUTは電圧変
換回路109には入力されない。したがって、電圧変換
回路109を介してメインデコーダ群103に入力され
る構造にはなっていないので、従来の場合のようなアク
セス時間の遅延を解消できる。
Referring to FIGS. 1 and 3A, first, at the time of data reading, after the operation starts, control signal CUT1 goes high and control signal CUT2 remains low, so that
The signal cutoff circuit 105 remains on, and the signal cutoff circuit 107 remains off. Therefore, the output PDOUT from the predecoder 101 passes through the signal cutoff circuit 105 and is input to the main decoder group 103. At this time, since the signal cutoff circuit 107 is off, the output PDOUT is not input to the voltage conversion circuit 109. Therefore, the structure is not input to the main decoder group 103 via the voltage conversion circuit 109, so that a delay in access time as in the conventional case can be eliminated.

【0018】次に図1および図3(b)を参照して、デ
ータ書込または消去時、動作開始後最初の所定時間Tは
制御信号CUT1,CUT2がともにHレベルとなり、
信号遮断回路105,107は共にオン状態となる。よ
って、プリデコーダ101からの出力PDOUTは信号
遮断回路105,107を介して電圧変換回路109に
入力され、電圧変換回路109はその値をラッチする。
所定時間Tが経過しラッチが終了すると制御信号CUT
1はLレベルとなり、信号遮断回路105がオフ状態と
なる。ラッチされたプリデコーダ出力PDOUTは電圧
変換回路109の電源電圧VPWLG,VNWLを昇圧
または降圧することにより電圧変換され、正または負の
高電圧が生成される。生成された高電圧は信号遮断回路
107を介してメインデコーダ群103に入力される。
メインデコーダ群103の電源電圧VPWLG,VNW
Lもまた同時に昇圧または降圧されており、メインデコ
ーダ群103は電圧変換された論理で動作し、その出力
はワード線WLxに与えられる。この動作中、信号遮断
回路105はオフ状態となっているので、プリデコーダ
101には電圧変換回路109で生成された高電圧が逆
印加されることはない。
Referring to FIGS. 1 and 3B, when data is written or erased, control signals CUT1 and CUT2 are both at H level for the first predetermined time T after the start of operation.
The signal cutoff circuits 105 and 107 are both turned on. Therefore, the output PDOUT from the predecoder 101 is input to the voltage conversion circuit 109 via the signal cutoff circuits 105 and 107, and the voltage conversion circuit 109 latches the value.
When a predetermined time T has elapsed and the latch is completed, the control signal CUT
1 is at the L level, and the signal cutoff circuit 105 is turned off. The latched predecoder output PDOUT is voltage-converted by raising or lowering the power supply voltages VPWLG and VNWL of the voltage conversion circuit 109 to generate a positive or negative high voltage. The generated high voltage is input to the main decoder group 103 via the signal cutoff circuit 107.
Power supply voltages VPWLG, VNW of main decoder group 103
L is also stepped up or stepped down at the same time, and the main decoder group 103 operates according to the voltage-converted logic, and its output is supplied to the word line WLx. During this operation, since the signal cutoff circuit 105 is in the off state, the high voltage generated by the voltage conversion circuit 109 is not reversely applied to the predecoder 101.

【0019】以上のように、本発明の実施の形態1によ
るフラッシュメモリによれば、データ読出時などの通常
のアクセス時に電圧変換回路109を介さずにプリデコ
ーダ101の出力PDOUTがメインデコーダ群103
に入力される。したがって、レイアウト占有面積を増大
せずにアクセス時間の遅延を解消することが可能とな
る。
As described above, according to the flash memory according to the first embodiment of the present invention, the output PDOUT of predecoder 101 is applied to main decoder group 103 without passing through voltage conversion circuit 109 during normal access such as data reading.
Is input to Therefore, it is possible to eliminate the delay of the access time without increasing the layout occupation area.

【0020】(2) 実施の形態2 図4は、本発明の実施の形態2によるフラッシュメモリ
におけるデコーダおよびその周辺回路400を示す回路
図である。デコーダおよびその周辺回路400は、図1
に示したデコーダおよびその周辺回路100に、メイン
デコーダ群203と、信号遮断回路205,220とを
さらに設けたものである。図4を参照して、信号遮断回
路105とメインデコーダ群203との接続ノードと、
信号遮断回路107とメインデコーダ群103との接続
ノードとの間に信号遮断回路205が接続されている。
メインデコーダ群203はメインデコーダ群103と同
様にワード線WLy(y=1,2,3,…,n)に接続
され、ワード線はメモリセル列群211に接続されてい
る。メインデコーダ群203は、複数のメインデコーダ
215y(y=1,2,3,…,n)をさらに備える。
メモリセル列群211は、複数のメモリセル列217y
(y=1,2,3,…,n)をさらに備える。信号遮断
回路205もまたMOSトランジスタなどから成り、制
御回路119からの制御信号CUT3に応答してオン/
オフする。メモリセル列群111のビット線BLとメモ
リセル列群211のビット線BLとは信号遮断回路22
0を介して接続されている。
(2) Second Embodiment FIG. 4 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuit 400 in a flash memory according to a second embodiment of the present invention. The decoder and its peripheral circuit 400 are shown in FIG.
Are provided with a main decoder group 203 and signal cutoff circuits 205 and 220 in the decoder and its peripheral circuit 100 shown in FIG. Referring to FIG. 4, a connection node between signal cutoff circuit 105 and main decoder group 203,
A signal cutoff circuit 205 is connected between the signal cutoff circuit 107 and a connection node between the main decoder group 103.
The main decoder group 203 is connected to word lines WLy (y = 1, 2, 3,..., N) in the same manner as the main decoder group 103, and the word lines are connected to the memory cell column group 211. The main decoder group 203 further includes a plurality of main decoders 215y (y = 1, 2, 3,..., N).
The memory cell column group 211 includes a plurality of memory cell columns 217y.
(Y = 1, 2, 3,..., N). The signal cutoff circuit 205 also includes a MOS transistor or the like, and turns on / off in response to a control signal CUT3 from the control circuit 119.
Turn off. The bit line BL of the memory cell column group 111 and the bit line BL of the memory cell column group 211 are
0.

【0021】図5は、図4に示した信号遮断回路220
の例を示す回路図である。図5を参照して、信号遮断回
路220はメモリセル列群111内のビット線BLとメ
モリセル列群211内のビット線BLとを接続する複数
のNMOSトランジスタから成り、制御信号CUT4が
Hレベルのときオンし、Lレベルのときオフする。
FIG. 5 shows the signal cutoff circuit 220 shown in FIG.
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the embodiment. Referring to FIG. 5, signal cutoff circuit 220 includes a plurality of NMOS transistors connecting bit lines BL in memory cell column group 111 and bit lines BL in memory cell column group 211, and control signal CUT4 is at H level. Turns on when it is low, and turns off when it is low.

【0022】以下にデコーダおよびその周辺回路400
の動作を説明する。図6は、図4に示した制御回路11
9から出力される信号遮断回路105,107,20
5,220の制御信号CUT1,CUT2,CUT3,
およびCUT4を示すタイミングチャートであり、
(a)は、メモリセル列群111,211におけるデー
タ読出時、(b)は、メモリセル列群111,211に
おけるデータ書込または消去時、(c)は、メモリセル
列群211におけるデータ読出、かつ、メモリセル列群
111におけるデータ書込または消去時のタイミングチ
ャートである。ここで、制御信号CUT1,CUT2,
CUT3,CUT4がHレベルのとき信号遮断回路10
5,107,205,220はそれぞれオンし、Lレベ
ルのときそれぞれオフするものとする。
A decoder and its peripheral circuit 400 will be described below.
Will be described. FIG. 6 shows the control circuit 11 shown in FIG.
9, signal cutoff circuits 105, 107 and 20
5,220 control signals CUT1, CUT2, CUT3
6 is a timing chart showing a CUT 4 and a CUT 4;
(A) is for reading data in the memory cell column groups 111 and 211, (b) is for writing or erasing data in the memory cell column groups 111 and 211, and (c) is data reading for the memory cell column group 211. 6 is a timing chart at the time of data writing or erasing in the memory cell column group 111. Here, the control signals CUT1, CUT2,
Signal cutoff circuit 10 when CUT3 and CUT4 are at H level
5, 107, 205, and 220 are turned on, and are turned off when they are at the L level.

【0023】まず、図4および図6(a),(b)を参
照して、メモリセル列群111,211の両方において
データの読出,書込,および消去を行なう場合について
説明する。信号遮断回路205をオン状態にすると、メ
モリセル列群111,211をまとめて1つのメモリセ
ル列群とみなせば図1に示した実施の形態1による周辺
回路100と同様の構成となる。したがって、信号遮断
回路105,107を実施の形態1で説明したのと全く
同様に制御することにより同様の効果を得ることができ
る。
First, referring to FIG. 4 and FIGS. 6 (a) and 6 (b), a case where data reading, writing and erasing are performed in both memory cell column groups 111 and 211 will be described. When the signal cutoff circuit 205 is turned on, if the memory cell column groups 111 and 211 are collectively regarded as one memory cell column group, the configuration becomes the same as that of the peripheral circuit 100 according to the first embodiment shown in FIG. Therefore, the same effect can be obtained by controlling the signal cutoff circuits 105 and 107 exactly in the same manner as described in the first embodiment.

【0024】次に、図4および図6(c)を参照して、
メモリセル列群111のみでデータ書込または消去を行
ない、メモリセル列群211でデータ読出などの通常の
アクセスを行なう場合について説明する。動作開始後、
信号遮断回路105,107,205,および220が
全てオン状態となる。所定時間T(プリデコーダ101
の出力PDOUTが電圧変換回路109にラッチされる
のに要する時間)が経過すると信号遮断回路205が遮
断される。これにより、電圧変換回路109とメインデ
コーダ群203とが切り離され、電圧変換回路109で
電圧変換により得られた高電圧がメインデコーダ群20
3に入力されないのと同時にプリデコーダ101に逆印
加するのを防ぐことができる。所定時間T経過後はさら
に信号遮断回路220も遮断され、メモリセル列群11
1のビット線BLとメモリセル列群211のビット線B
Lとが遮断される。よって、メモリセル列群111のビ
ット線BLにデータが伝送されないようになる。したが
って、メモリセル列群111でデータ書込または消去が
行われている間、メモリセル列群211においてデータ
読出などの通常のアクセス動作を行うことができる。
Next, referring to FIG. 4 and FIG.
A case where data writing or erasing is performed only by the memory cell column group 111 and normal access such as data reading is performed by the memory cell column group 211 will be described. After the operation starts,
The signal cutoff circuits 105, 107, 205, and 220 are all turned on. A predetermined time T (predecoder 101
(The time required for the output PDOUT to be latched by the voltage conversion circuit 109), the signal cutoff circuit 205 is cut off. As a result, the voltage conversion circuit 109 is separated from the main decoder group 203, and the high voltage obtained by the voltage conversion in the voltage conversion circuit 109 is applied to the main decoder group 20.
3 can be prevented from being applied to the pre-decoder 101 simultaneously. After the lapse of the predetermined time T, the signal cutoff circuit 220 is further cut off, and the memory cell column group
1 bit line BL and bit line B of memory cell column group 211
L is shut off. Therefore, data is not transmitted to the bit line BL of the memory cell column group 111. Therefore, while data writing or erasing is performed in memory cell column group 111, normal access operation such as data reading can be performed in memory cell column group 211.

【0025】上記(c)に示した例では、信号遮断回路
220が所定時間T経過後に遮断されるようにしたが、
最初から信号遮断回路220は遮断しておいてもよい。
In the example shown in (c), the signal cutoff circuit 220 is cut off after a predetermined time T has elapsed.
The signal cutoff circuit 220 may be cut off from the beginning.

【0026】以上のように、本発明の実施の形態2によ
るフラッシュメモリによれば、実施の形態1によるフラ
ッシュメモリの場合と同様に、メモリセル列群111,
211の両方でデータの読出などの通常のアクセス動作
が行われる場合、電圧変換回路109を介さずにプリデ
コーダ101の出力PDOUTがメインデコーダ群10
3,203に入力される。したがって、レイアウト占有
面積を増大せずにアクセス時間の遅延を解消することが
可能となる。
As described above, according to the flash memory according to the second embodiment of the present invention, similarly to the case of the flash memory according to the first embodiment, memory cell column groups 111,
In the case where a normal access operation such as data reading is performed in both of the main decoder group 211 and the main decoder group 10, the output PDOUT of the predecoder 101 does not pass through the voltage conversion circuit 109.
3,203. Therefore, it is possible to eliminate the delay of the access time without increasing the layout occupation area.

【0027】さらに、メモリセル列群111でデータの
書込または消去を行っている最中でもメモリセル列群2
11で読出などの通常のアクセスを行うことも可能とな
る。
Further, while data is written or erased in the memory cell column group 111, the memory cell column group 2
Normal access such as reading can also be performed at 11.

【0028】[0028]

【発明の効果】請求項1に係る不揮発性半導体記憶装置
によれば、第1のメモリセル列群におけるデータ読出時
には、制御手段によって第2のスイッチング手段が切断
されるので、電圧変換・ラッチ手段を介すことなく第1
の信号が第1のデコード手段から第2のデコード手段に
入力される。したがって、データ読出時の電圧変換・ラ
ッチ手段によるアクセス時間の遅延を解消することが可
能となる。
According to the nonvolatile semiconductor memory device of the first aspect, when data is read from the first memory cell column group, the second switching means is cut off by the control means. Without the first
Is input from the first decoding means to the second decoding means. Therefore, it is possible to eliminate the delay of the access time due to the voltage conversion / latch means at the time of data reading.

【0029】また、電圧変換・ラッチ手段に第1のデコ
ード手段から出力された第1の信号がラッチされると第
2のスイッチング手段がオフされるので、データ書込ま
たは消去時に電圧変換回路から出力される高電圧が第1
のデコード手段に逆印加されるのを防止することが可能
となる。
When the first signal output from the first decoding means is latched by the voltage conversion / latch means, the second switching means is turned off. The output high voltage is the first
Can be prevented from being reversely applied to the decoding means.

【0030】請求項2に係る不揮発性半導体記憶装置に
よれば、請求項1の効果に加えて、第1のメモリセル列
群でデータ書込またはデータ消去が行われ、第2のメモ
リセル列群でデータ読出が行われるとき、制御手段によ
り第1,第2,および第3のスイッチング手段がオンさ
れ、所定時間が経過して電圧変換・ラッチ手段に第1の
信号がラッチされると第3のスイッチング手段がオフさ
れるので、電圧変換・ラッチ手段と第2のデコード手段
とが切り離され、電圧変換・ラッチ手段から出力された
第2の信号は第1のデコード手段には入力されるが第2
のデコード手段に入力されない。したがって、第1のメ
モリセル列群でデータ書込またはデータ消去が行われて
いるときでも、第2のメモリセル列群でデータ読出を行
うことが可能となる。
According to the nonvolatile semiconductor memory device of the second aspect, in addition to the effect of the first aspect, data writing or data erasing is performed in the first memory cell column group, and the second memory cell column is written. When data reading is performed in the group, the first, second, and third switching means are turned on by the control means, and the first signal is latched by the voltage conversion / latch means after a predetermined time has elapsed. Since the third switching means is turned off, the voltage conversion / latch means is disconnected from the second decoding means, and the second signal output from the voltage conversion / latch means is input to the first decoding means. Is the second
Is not input to the decoding means. Therefore, even when data is written or erased in the first memory cell column group, data can be read in the second memory cell column group.

【0031】請求項3に係る不揮発性半導体記憶装置に
よれば、請求項1または2の効果に加えて、データ書込
またはデータ消去時に高電圧を要するフラッシュメモリ
などに適用することができる。
According to the nonvolatile semiconductor memory device of the third aspect, in addition to the effects of the first and second aspects, the present invention can be applied to a flash memory or the like that requires a high voltage at the time of data writing or data erasing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1によるフラッシュメモ
リにおけるデコーダおよびその周辺回路を示す回路図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuits in a flash memory according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 図1に示した電圧変換回路の例を示す回路図
である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the voltage conversion circuit shown in FIG.

【図3】 図1に示した制御回路から出力される信号遮
断回路の制御信号を示すタイミングチャートであり、
(a)は、メモリセル列群におけるデータ読出時、
(b)は、メモリセル列群におけるデータ書込または消
去時のタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing control signals of a signal cutoff circuit output from the control circuit shown in FIG. 1;
(A) shows data reading in a memory cell column group,
(B) is a timing chart at the time of data writing or erasing in the memory cell column group.

【図4】 本発明の実施の形態2によるフラッシュメモ
リにおけるデコーダおよびその周辺回路を示す回路図で
ある。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuits in a flash memory according to a second embodiment of the present invention;

【図5】 図4に示した信号遮断回路の例を示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of the signal cutoff circuit shown in FIG.

【図6】 図4に示した制御回路から出力される信号遮
断回路の制御信号を示すタイミングチャートであり、
(a)は、2つのメモリセル列群におけるデータ読出
時、(b)は、メモリセル列群2つのにおけるデータ書
込または消去時、(c)は、一方のメモリセル列群にお
けるデータ読出、かつ、他方のメモリセル列群における
データ書込または消去時のタイミングチャートである。
6 is a timing chart showing a control signal of a signal cutoff circuit output from the control circuit shown in FIG. 4,
(A) is for data reading in two memory cell column groups, (b) is for data writing or erasing in two memory cell column groups, (c) is data reading for one memory cell column group, 10 is a timing chart at the time of data writing or erasing in the other memory cell column group.

【図7】 従来のフラッシュメモリにおけるデコーダお
よびその周辺回路を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a decoder and its peripheral circuits in a conventional flash memory.

【図8】 図6に示した信号遮断回路と電圧変換回路と
を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a signal cutoff circuit and a voltage conversion circuit shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100,400 デコーダおよびその周辺回路、101
プリデコーダ、103,203 メインデコーダ群、
105,107,205 信号遮断回路、109 電圧
変換回路、111,211 メモリセル列群、115x
(x=1,2,3,…,m),215y(y=1,2,
3,…,n) メインデコーダ、117x(x=1,
2,3,…,m),217y(y=1,2,3,…,
n) メモリセル列、119 制御回路、WLx(x=
1,2,3,…,m),WLy(y=1,2,3,…,
n) ワード線。
100, 400 decoder and its peripheral circuit, 101
Predecoder, 103, 203 main decoder group,
105, 107, 205 signal cutoff circuit, 109 voltage conversion circuit, 111, 211 memory cell column group, 115x
(X = 1, 2, 3,..., M), 215y (y = 1, 2, 2, 3)
3,..., N) main decoder, 117x (x = 1,
2,3, ..., m), 217y (y = 1,2,3, ...,
n) memory cell column, 119 control circuit, WLx (x =
, M), WLy (y = 1, 2, 3,...,
n) Word line.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の選択線から成る第1の選択線群
と、 各々が互いに異なる前記選択線に接続された複数のメモ
リセル列から成る第1のメモリセル列群と、 アドレス信号をデコードして前記第1の選択線群の選択
線を選択するための第1の信号を出力する第1のデコー
ド手段と、 前記第1の信号を電圧変換して第2の信号を出力し、か
つ、ラッチする電圧変換・ラッチ手段と、 前記複数の選択線に接続され、前記第1または第2の信
号をデコードして第3の信号を出力する第2のデコード
手段と、 前記第1のデコード手段と前記第2のデコード手段との
間に接続された第1のスイッチング手段と、 前記第1のスイッチング手段と前記第2のデコード手段
との接続ノードと前記電圧変換・ラッチ手段との間に接
続された第2のスイッチング手段と、 前記第1のメモリセル列群におけるデータ読出時に、前
記第1のスイッチング手段をオンし、かつ、前記第2の
スイッチング手段をオフし、データ書込時およびデータ
消去時に、前記第1および第2のスイッチング手段をオ
ンし、かつ、所定時間経過後前記第1のスイッチング手
段をオフする制御手段とを備える、不揮発性半導体記憶
装置。
A first selection line group including a plurality of selection lines; a first memory cell column group including a plurality of memory cell columns connected to the selection lines different from each other; A first decoding unit for outputting a first signal for selecting a selection line of the first selection line group; a voltage conversion of the first signal to output a second signal; Voltage conversion / latch means for latching; second decoding means connected to the plurality of selection lines for decoding the first or second signal and outputting a third signal; First switching means connected between the first switching means and the second decoding means; and a connection node between the first switching means and the second decoding means and the voltage conversion / latch means. Connected second switching Means for turning on the first switching means and turning off the second switching means at the time of reading data from the first memory cell column group, and at the time of data writing and data erasing. And a control means for turning on the second switching means and turning off the first switching means after a predetermined time has elapsed.
【請求項2】 複数の選択線から成る前記第1と異なる
第2の選択線群と、 複数のメモリセル列から成る前記第1と異なる第2のメ
モリセル列群と、 前記第1のスイッチング手段と、前記第1のメモリセル
列群と前記第2のスイッチング手段との接続ノードとの
間に接続された第3のスイッチング手段とを備え、 前記第2のメモリセル列群は、前記第1のスイッチング
手段と第3のスイッチング手段との接続ノードに接続さ
れ、 前記第2の制御手段は、前記第1および第2のメモリセ
ル列群におけるデータ読出時およびデータ書込時および
データ消去時に、前記第3のスイッチング手段をオン
し、前記第1のメモリセル列群のみにおけるデータ書込
時および読出時、前記第1、第2および第3のスイッチ
ング手段をオンし、かつ、前記所定時間経過後前記第3
のスイッチング手段をオフする、請求項1に記載の不揮
発性半導体記憶装置。
2. A second group of select lines different from the first group of a plurality of select lines; a second group of memory cells different from the first group of a plurality of memory cell columns; and the first switching Means, and third switching means connected between a connection node between the first memory cell row group and the second switching means, wherein the second memory cell row group is Connected to a connection node between the first switching means and the third switching means, wherein the second control means performs data reading, data writing, and data erasing in the first and second memory cell column groups. Turning on the third switching means, turning on the first, second, and third switching means at the time of data writing and reading only in the first memory cell column group; After between the third
2. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein said switching means is turned off.
【請求項3】 前記電圧変換・ラッチ手段は、前記第2
の信号を内部電源電圧よりも絶対値の大きな正または負
の電圧に変換する、請求項1または2に記載の不揮発性
半導体記憶装置。
3. The voltage conversion / latch means according to claim 2, wherein:
3. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein said signal is converted into a positive or negative voltage having an absolute value larger than an internal power supply voltage.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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