JPH114157A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH114157A
JPH114157A JP9155316A JP15531697A JPH114157A JP H114157 A JPH114157 A JP H114157A JP 9155316 A JP9155316 A JP 9155316A JP 15531697 A JP15531697 A JP 15531697A JP H114157 A JPH114157 A JP H114157A
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JP
Japan
Prior art keywords
circuit
delay time
type mos
voltage
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP9155316A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seizo Inagaki
誠三 稲垣
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH114157A publication Critical patent/JPH114157A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the increase of power consumption and also to change the wiring delay time for a semiconductor integrated circuit where the circuits showing each necessary function are integrated on a semiconductor substrate and connected to each other via wiring. SOLUTION: When the voltage of a low level is applied to a line 6, a transistor TR 21 of a digital circuit 2 is turned on. Then a node C is set at the power voltage level and accordingly the delay time caused between an inverter circuit 1 and its next stage circuit is decreased. When the voltage of a high level is applied to the line 6, the TR 21 is turned off. Then the current supplied from a power supply bypasses the TR 21 and flows to the node C via a resistor 2 of the circuit 2. As a result, the node C is set at the power voltage level or lower due to the drop of voltage caused by the resistor 22. As a result, the delay time caused between the circuit 1 and its next circuit is increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線遅延時間が問
題となる半導体集積回路に関し、特に、消費電力を小さ
くするための技術にかかる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a problem of wiring delay time, and more particularly to a technique for reducing power consumption.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体集積回路は、半導体基板
上に所要の機能を発揮する回路が集積されており、各回
路同士がアルミニウム等の配線を介して接続されてい
る。かかる半導体集積回路では、配線が抵抗及び容量を
有している。そのため、いわゆる配線遅延が生じる。こ
こに、配線遅延とは、設計段階で見積もった、一の回路
から他の回路に信号を伝達するのに要する信号伝達時間
と、実駆動時における、一の回路から他の回路に信号を
伝達するのに要する信号伝達時間とに差異が生じること
をいう。そこで、各回路のサイズを調整することによ
り、上記配線遅延を小さくし、回路が正常に動作するよ
うにしている。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor integrated circuit, circuits exhibiting required functions are integrated on a semiconductor substrate, and the circuits are connected to each other via wiring such as aluminum. In such a semiconductor integrated circuit, the wiring has a resistance and a capacitance. Therefore, a so-called wiring delay occurs. Here, the wiring delay is the signal transmission time required to transmit a signal from one circuit to another circuit, estimated at the design stage, and the signal transmission time from one circuit to another circuit during actual driving. This means that there is a difference in the signal transmission time required to perform the operation. Therefore, the wiring delay is reduced by adjusting the size of each circuit so that the circuit operates normally.

【0003】かかる回路サイズの調整は、設計段階では
精度よく決めることができない。特に、設計段階で見積
もったよりも大きな配線遅延が生じた場合には、回路が
正常に動作しない事態に陥る。そこで、安全を期するた
め、回路サイズを大きくとる傾向にある。
The adjustment of the circuit size cannot be accurately determined at the design stage. In particular, if a wiring delay larger than estimated at the design stage occurs, the circuit will not operate properly. Therefore, there is a tendency to increase the circuit size in order to ensure safety.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、半導体
集積回路においては、安全を期するため、回路サイズを
大きくとっているので、消費電力が大きくなっているの
が実情である。かかる事態に対処するため、本願発明者
は、入力されてくる信号のレベル変化に応じて、回路に
供給される電圧値、又は回路に流入される電流値を変化
させて、配線遅延時間を調整できるようにすれば、わざ
わざ、回路サイズを大きくする必要がなくなるのではな
いかと着想した。
As described above, in a semiconductor integrated circuit, the circuit size is increased for safety, and the power consumption is actually increased. In order to cope with such a situation, the present inventor adjusts the wiring delay time by changing the voltage value supplied to the circuit or the current value flowing into the circuit according to the level change of the input signal. I thought that if we could do that, we wouldn't have to bother increasing the circuit size.

【0005】本発明は、上記着想に鑑みなされたもの
で、消費電力が大きくなるのを防止しつつ、配線遅延時
間を変化させることができる半導体集積回路を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described concept, and has as its object to provide a semiconductor integrated circuit capable of changing a wiring delay time while preventing an increase in power consumption.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の発明は、半導体基板上に所要の機
能を発揮する回路が集積されており、各回路同士が配線
を介して接続されている半導体集積回路において、入力
されてくる信号のレベル変化に応じて、上記回路に印加
される電圧値を変化させる手段を含むことを特徴とする
ものである。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a circuit having a required function is integrated on a semiconductor substrate, and the circuits are interconnected via wiring. And a means for changing a voltage value applied to the circuit according to a change in the level of an input signal.

【0007】請求項2に記載の発明は、半導体基板上に
所要の機能を発揮する回路が集積されており、各回路同
士が配線を介して接続されている半導体集積回路におい
て、入力されてくる信号のレベルの変化に応じて、上記
回路に流入される電流値を変化させる手段を含むことを
特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, a circuit having a required function is integrated on a semiconductor substrate, and the circuit is input to a semiconductor integrated circuit in which each circuit is connected via a wiring. It is characterized by including means for changing a current value flowing into the circuit according to a change in a signal level.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づき詳細に説明する。 (実施の形態1)図1は本発明の実施の形態1にかかる
半導体集積回路の構成を示す回路図である。なお、同図
は、説明の便宜上、インバータ回路のみを具体的に示し
ている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. (First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention. Note that FIG. 2 specifically shows only the inverter circuit for convenience of explanation.

【0009】図1を参照して、本実施の形態1の半導体
集積回路は、NOTの論理機能を実行するインバータ回
路1と、デジタル信号のレベルの変化に応じて、インバ
ータ回路1に印加する電圧値を変化させるデジタル回路
2とを備えている。
Referring to FIG. 1, a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment has an inverter circuit 1 for performing a NOT logical function and a voltage applied to inverter circuit 1 according to a change in the level of a digital signal. A digital circuit 2 for changing a value.

【0010】インバータ回路1は、P型MOSトランジ
スタ11と、N型MOSトランジスタ12とを備えてお
り、デジタル回路2は、P型MOSトランジスタ21
と、抵抗22とを備えている。
The inverter circuit 1 includes a P-type MOS transistor 11 and an N-type MOS transistor 12, and the digital circuit 2 includes a P-type MOS transistor 21.
And a resistor 22.

【0011】P型MOSトランジスタ11及びN型MO
Sトランジスタ12のゲートは、互いに接続されてお
り、この接続中間点Aには、入力ライン3が接続されて
いる。また、P型MOSトランジスタ11及びN型MO
Sトランジスタ12のドレインは、互いに接続されてお
り、この接続中間点Bには、出力ライン4が接続されて
いる。さらに、N型MOSトランジスタ12のソース
は、グランドライン5に接続されている。
P-type MOS transistor 11 and N-type MO
The gates of the S transistors 12 are connected to each other, and the input line 3 is connected to the connection midpoint A. Further, the P-type MOS transistor 11 and the N-type MO
The drains of the S transistors 12 are connected to each other, and the output line 4 is connected to this connection midpoint B. Further, the source of the N-type MOS transistor 12 is connected to the ground line 5.

【0012】P型MOSトランジスタ21のゲートは、
制御ライン6に接続されており、ソースは、電源ライン
7に接続されている。抵抗22の一端は、電源ライン7
に接続されており、他端は、P型MOSトランジスタ1
1のソースに接続されている。P型MOSトランジスタ
21のドレインは、P型MOSトランジスタ11のソー
スと抵抗21の他端との接続中間点C(以下、「ノード
C」という。)に接続されている。
The gate of the P-type MOS transistor 21 is
The source is connected to the control line 6 and the source is connected to the power supply line 7. One end of the resistor 22 is connected to the power line 7
The other end is connected to a P-type MOS transistor 1
1 source. The drain of the P-type MOS transistor 21 is connected to a connection midpoint C (hereinafter, referred to as “node C”) between the source of the P-type MOS transistor 11 and the other end of the resistor 21.

【0013】ここで、上記半導体集積回路の動作につい
て説明する。入力ライン3に高電圧VH1が印加される
と、インバータ回路1のP型MOSトランジスタ11
は、オフ状態となる一方、インバータ回路1のN型MO
Sトランジスタ12は、オン状態となる。そうすると、
低レベル信号SL が出力ライン4を介して後段の回路に
出力される。
Here, the operation of the semiconductor integrated circuit will be described. When the high voltage V H1 is applied to the input line 3, the P-type MOS transistor 11 of the inverter circuit 1
Is turned off while the N-type MO of the inverter circuit 1 is
S transistor 12 is turned on. Then,
The low-level signal SL is output to a subsequent circuit via the output line 4.

【0014】一方、入力ライン3に低電圧VL1が印加さ
れると、インバータ回路1のP型MOSトランジスタ1
1は、オン状態となる一方、インバータ回路1のN型M
OSトランジスタ12は、オフ状態となる。そうする
と、高レベル信号SH が出力ライン4を介して後段の回
路に出力される。
On the other hand, when the low voltage V L1 is applied to the input line 3, the P-type MOS transistor 1 of the inverter circuit 1
1 is turned on, while the N-type M
The OS transistor 12 is turned off. Then, the output to the subsequent circuit via a high-level signal S H is output lines 4.

【0015】このとき、制御ライン6に低電圧VL2が印
加されると、デジタル回路2のP型MOSトランジスタ
21は、オン状態となる。そのため、ノードCは、電源
電圧VCCとなる。その結果、インバータ回路1と後段の
回路との間で発生する遅延時間は、小さくなる。
At this time, when the low voltage V L2 is applied to the control line 6, the P-type MOS transistor 21 of the digital circuit 2 is turned on. Therefore, the node C becomes the power supply voltage V CC . As a result, a delay time generated between the inverter circuit 1 and a subsequent circuit is reduced.

【0016】一方、制御ライン6に高電圧VH2が印加さ
れると、デジタル回路2のP型MOSトランジスタ21
は、オフ状態となる。そうすると、電源から供給される
電流は、P型MOSトランジスタ21を迂回して、デジ
タル回路2の抵抗22を通ってノードCに流れる。その
ため、ノードCは、抵抗22による電圧降下に起因し
て、電源電圧VCCより低くなる。その結果、インバータ
回路1と後段の回路との間で発生する遅延時間は、大き
くなる。
On the other hand, when the high voltage V H2 is applied to the control line 6, the P-type MOS transistor 21 of the digital circuit 2
Is turned off. Then, the current supplied from the power supply bypasses the P-type MOS transistor 21 and flows to the node C through the resistor 22 of the digital circuit 2. Therefore, the voltage at the node C becomes lower than the power supply voltage V CC due to the voltage drop caused by the resistor 22. As a result, the delay time generated between the inverter circuit 1 and the circuit at the subsequent stage increases.

【0017】すなわち、本実施の形態1では、デジタル
回路2により、デジタル信号のレベル変化に応じて、イ
ンバータ回路1に印加される電圧値を変化させることに
よって、インバータ回路1と後段の回路との間で発生す
る遅延時間を大きくしたり、小さくしたりするようにな
っている。
That is, in the first embodiment, the digital circuit 2 changes the voltage value applied to the inverter circuit 1 according to a change in the level of the digital signal, so that the inverter circuit 1 and the circuit at the subsequent stage are connected to each other. The delay time generated between them is increased or decreased.

【0018】したがって、従来のように、インバータ回
路1のサイズを調整することなく、配線遅延時間を調整
できるようになる。そのため、従来のように、安全を期
する意味で、わざわざ、インバータ回路1のサイズを大
きくする必要がなくなる。その結果、消費電力を小さく
することができる。加えて、半導体集積回路を製造した
後においても、配線遅延時間を調整できるといった波及
効果も生じる。
Therefore, the wiring delay time can be adjusted without adjusting the size of the inverter circuit 1 as in the related art. Therefore, it is not necessary to increase the size of the inverter circuit 1 in the sense of safety as in the related art. As a result, power consumption can be reduced. In addition, even after the semiconductor integrated circuit is manufactured, there is a ripple effect that the wiring delay time can be adjusted.

【0019】(実施の形態2)図2は本発明の実施の形
態2にかかる半導体集積回路の構成を示す回路図であ
る。なお、同図は、説明の便宜上、インバータ回路のみ
を具体的に示している。図2を参照して、本実施の形態
2の半導体集積回路の特徴は、デジタル回路2を、デジ
タル信号のレベルの変化に応じて、インバータ回路1に
流入される電流値を変化させるようにした点にあり、そ
の他の構成は、実施の形態1と同様である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 2 of the present invention. Note that FIG. 2 specifically shows only the inverter circuit for convenience of explanation. Referring to FIG. 2, a feature of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment is that the digital circuit 2 changes a current value flowing into the inverter circuit 1 according to a change in the level of the digital signal. The other configuration is the same as that of the first embodiment.

【0020】具体的には、デジタル回路2は、P型MO
Sトランジスタ211,212,213を備えている。
P型MOSトランジスタ211のゲートには、制御ライ
ン61が接続されており、P型MOSトランジスタ21
2のゲートには、制御ライン62が接続されており、P
型MOSトランジスタ213のゲートには、制御ライン
63が接続されている。
Specifically, the digital circuit 2 is a P-type MO
S transistors 211, 212, and 213 are provided.
The control line 61 is connected to the gate of the P-type MOS transistor 211, and the P-type MOS transistor 21
The control line 62 is connected to the gate of
The control line 63 is connected to the gate of the type MOS transistor 213.

【0021】P型MOSトランジスタ211,212,
213の各ソースは、それぞれ、電源ライン7に接続さ
れている。P型MOSトランジスタ211,212,2
13の各ドレインは、それぞれ、インバータ回路1のP
型MOSトランジスタ11のソースに接続されている。
P-type MOS transistors 211, 212,
Each of the sources 213 is connected to the power supply line 7. P-type MOS transistors 211, 212, 2
13 are connected to the P of the inverter circuit 1 respectively.
It is connected to the source of the type MOS transistor 11.

【0022】ここで、上記半導体集積回路の動作につい
て説明する。制御ライン61,62,63の全てに低電
圧VL3を印加すると、デジタル回路2のP型MOSトラ
ンジスタ211,212,213の全ては、オン状態と
なる。そうすると、インバータ回路1のバイアス電流
は、大きくなる。そのため、インバータ回路1の駆動能
力は、大きくなることになる。その結果、インバータ回
路1と後段の回路との間で発生する遅延時間は、小さく
なる。
Here, the operation of the semiconductor integrated circuit will be described. When the low voltage VL3 is applied to all of the control lines 61, 62, and 63, all of the P-type MOS transistors 211, 212, and 213 of the digital circuit 2 are turned on. Then, the bias current of the inverter circuit 1 increases. Therefore, the driving capability of the inverter circuit 1 increases. As a result, a delay time generated between the inverter circuit 1 and a subsequent circuit is reduced.

【0023】また、制御ライン61,62,63のう
ち、1つのラインに高電圧VH3を印加すると、デジタル
回路2のP型MOSトランジスタ211,212,21
3のうち、高電圧VH3が印加された制御ラインに接続さ
れているP型MOSトランジスタは、オフ状態となる。
そうすると、インバータ回路1のバイアス電流は、上記
制御ライン61,62,63の全てに低電圧VL3を印加
した場合に比べて、小さくなる。そのため、インバータ
回路1の駆動能力は、上記制御ライン61,62,63
の全てに低電圧VL3を印加した場合に比べて、小さくな
る。その結果、インバータ回路1と後段の回路との間で
発生する遅延時間は、上記制御ライン61,62,63
の全てに低電圧VL3を印加した場合に比べて、大きくな
る。この場合、消費電力は、上記制御ライン61,6
2,63の全てに低電圧VL3を印加した場合に比べて、
小さくすることができる。
When a high voltage V H3 is applied to one of the control lines 61, 62, 63, the P-type MOS transistors 211, 212, 21
Out of 3, the P-type MOS transistor connected to the control line to which the high voltage V H3 is applied is turned off.
Then, the bias current of the inverter circuit 1 becomes smaller than when the low voltage VL3 is applied to all of the control lines 61, 62, 63. Therefore, the driving capability of the inverter circuit 1 is controlled by the control lines 61, 62, 63.
Are lower than when the low voltage V L3 is applied to all of them. As a result, the delay time generated between the inverter circuit 1 and the subsequent circuit is controlled by the control lines 61, 62, 63.
Are higher than when the low voltage V L3 is applied to all of them. In this case, power consumption is controlled by the control lines 61 and 6.
In comparison with the case where the low voltage V L3 is applied to all of
Can be smaller.

【0024】さらに、制御ライン61,62,63のう
ち、2つラインに高電圧VH3を印加すると、デジタル回
路2のP型MOSトランジスタ211,212,213
のうち、高電圧VH3が印加された2つの制御ラインに接
続されているP型MOSトランジスタは、オフ状態とな
る。そうすると、インバータ回路1のバイアス電流は、
上記制御ライン61,62,63のうち、1つのライン
に高電圧VH3を印加した場合に比べて、小さくなる。そ
のため、インバータ回路1の駆動能力は、上記制御ライ
ン61,62,63のうち、1つのラインに高電圧VH3
を印加した場合に比べて、小さくなる。その結果、イン
バータ回路1と後段の回路との間で発生する遅延時間
は、上記制御ライン61,62,63のうち、1つのラ
インに高電圧VH3を印加した場合に比べて、大きくな
る。この場合、消費電力は、上記制御ライン61,6
2,63のうち、1つのラインに高電圧VH3を印加した
場合に比べて、小さくすることができる。
Further, when a high voltage V H3 is applied to two of the control lines 61, 62, 63, the P-type MOS transistors 211, 212, 213 of the digital circuit 2 are applied.
Among them, the P-type MOS transistors connected to the two control lines to which the high voltage V H3 is applied are turned off. Then, the bias current of the inverter circuit 1 becomes
Of the control lines 61, 62, 63, the voltage is smaller than that when a high voltage V H3 is applied to one line. Therefore, the driving capability of the inverter circuit 1 is such that one of the control lines 61, 62, 63 has the high voltage V H3
Is smaller than in the case where is applied. As a result, the delay time generated between the inverter circuit 1 and the circuit at the subsequent stage becomes larger than when the high voltage V H3 is applied to one of the control lines 61, 62, 63. In this case, power consumption is controlled by the control lines 61 and 6.
2, 63, it can be made smaller than the case where the high voltage V H3 is applied to one line.

【0025】すなわち、本実施の形態2では、デジタル
回路2により、デジタル信号のレベル変化に応じて、イ
ンバータ回路1に流入される電流値を変化させることに
よって、インバータ回路1と後段の回路との間で発生す
る遅延時間を大きくしたり、小さくしたりするようにな
っている。
That is, in the second embodiment, the digital circuit 2 changes the value of the current flowing into the inverter circuit 1 in accordance with the change in the level of the digital signal, thereby connecting the inverter circuit 1 to the circuit at the subsequent stage. The delay time generated between them is increased or decreased.

【0026】したがって、従来のように、インバータ回
路1のサイズを調整することなく、配線遅延時間を調整
できるようになる。そのため、従来のように、安全を期
する意味で、わざわざ、インバータ回路1のサイズを大
きくする必要がなくなる。その結果、消費電力を小さく
することができる。加えて、半導体集積回路を製造した
後においても、配線遅延時間を調整できるといった波及
効果も生じる。
Therefore, the wiring delay time can be adjusted without adjusting the size of the inverter circuit 1 as in the related art. Therefore, it is not necessary to increase the size of the inverter circuit 1 in the sense of safety as in the related art. As a result, power consumption can be reduced. In addition, even after the semiconductor integrated circuit is manufactured, there is a ripple effect that the wiring delay time can be adjusted.

【0027】なお、本発明は上記各実施の形態に限定さ
れるものではなく、例えば、上記実の形態1及び実施の
形態2では、インバータ回路と電源との間のトランジス
タに制御信号を印加するように構成したが、インバータ
回路とグランドとの間に制御信号及びデジタル回路を挿
入するにようにしても、同様の効果を奏する。
The present invention is not limited to the above embodiments. For example, in the first and second embodiments, a control signal is applied to a transistor between an inverter circuit and a power supply. Although the configuration is made as described above, the same effect can be obtained by inserting a control signal and a digital circuit between the inverter circuit and the ground.

【0028】また、上記実施の形態1及び実施の形態2
においては、MOSトランジスタを使用した例について
説明したが、これに代えて、バイポーラトランジスタ等
のスイッチング素子を使用しても、同様の効果を奏す
る。
Further, the first and second embodiments are described.
In the above, an example in which a MOS transistor is used has been described. Alternatively, a similar effect can be obtained by using a switching element such as a bipolar transistor.

【0029】さらに、上記実施の形態2では、制御電圧
を3つとしたが、制御電圧の数については、2つ以上な
らば、いくつであってもよく、制御電圧の数を増やせば
増やすほど、配線遅延時間をより多段階に調整すること
ができる。その他、本発明の請求の範囲内での種々の設
計変更及び修正を加え得ることは勿論である。
Further, in the second embodiment, the number of control voltages is three. However, the number of control voltages may be any number as long as it is two or more. The wiring delay time can be adjusted in more stages. In addition, it is needless to say that various design changes and modifications can be made within the scope of the present invention.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上の説明から明らかな通り、請求項1
に記載の発明によると、入力されてくる信号のレベル変
化に応じて、回路に印加される電圧値を変化させること
によって、遅延時間を大きくしたり、小さくしたりする
ようになっているので、従来のように、回路のサイズを
調整することなく、配線遅延時間を調整できるようにな
るため、従来のように、安全を期する意味で、わざわ
ざ、回路のサイズを大きくする必要がなくなる結果、消
費電力を小さくすることができる。
As is apparent from the above description, claim 1
According to the invention described in the above, the delay time is increased or decreased by changing the voltage value applied to the circuit in accordance with the level change of the input signal, As before, the wiring delay time can be adjusted without adjusting the size of the circuit, and as a result, there is no need to increase the size of the circuit in the sense of safety as in the past. Power consumption can be reduced.

【0031】請求項2に記載の発明によると、入力され
てくる信号のレベル変化に応じて、回路に流入される電
流値を変化させることによって、遅延時間を大きくした
り、小さくしたりするようになっているので、従来のよ
うに、回路のサイズを調整することなく、配線遅延時間
を調整できるようになるため、従来のように、安全を期
する意味で、わざわざ、回路のサイズを大きくする必要
がなくなる結果、消費電力を小さくすることができる。
According to the second aspect of the present invention, the delay time can be increased or decreased by changing the value of the current flowing into the circuit according to the level change of the input signal. Since the wiring delay time can be adjusted without adjusting the size of the circuit as in the past, the size of the circuit must be increased in the sense of safety as in the past. As a result, power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1にかかる半導体集積回路
の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態2にかかる半導体集積回路
の構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 インバータ回路 11 P型MOSトランジスタ 12 N型MOSトランジスタ 2 デジタル回路 21 P型MOSトランジスタ 22 抵抗 211 P型MOSトランジスタ 212 P型MOSトランジスタ 213 P型MOSトランジスタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inverter circuit 11 P-type MOS transistor 12 N-type MOS transistor 2 Digital circuit 21 P-type MOS transistor 22 Resistance 211 P-type MOS transistor 212 P-type MOS transistor 213 P-type MOS transistor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上に所要の機能を発揮する回
路が集積されており、各回路同士が配線を介して接続さ
れている半導体集積回路において、 入力されてくる信号のレベル変化に応じて、上記回路に
印加される電圧値を変化させる手段を含むことを特徴と
する半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit in which circuits exhibiting required functions are integrated on a semiconductor substrate, and each circuit is connected to each other via a wiring. And a means for changing a voltage value applied to the circuit.
【請求項2】 半導体基板上に所要の機能を発揮する回
路が集積されており、各回路同士が配線を介して接続さ
れている半導体集積回路において、 入力されてくる信号のレベルの変化に応じて、上記回路
に流入される電流値を変化させる手段を含むことを特徴
とする半導体集積回路。
2. A semiconductor integrated circuit in which circuits exhibiting required functions are integrated on a semiconductor substrate, and each circuit is connected to each other via a wiring, according to a change in the level of an input signal. A means for changing a value of a current flowing into the circuit.
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JP2007166685A (en) * 2005-12-09 2007-06-28 Ricoh Co Ltd Backflow prevention circuit

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JP4597044B2 (en) * 2005-12-09 2010-12-15 株式会社リコー Backflow prevention circuit

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