JPH1140733A - Semiconductor package structure - Google Patents

Semiconductor package structure

Info

Publication number
JPH1140733A
JPH1140733A JP9191052A JP19105297A JPH1140733A JP H1140733 A JPH1140733 A JP H1140733A JP 9191052 A JP9191052 A JP 9191052A JP 19105297 A JP19105297 A JP 19105297A JP H1140733 A JPH1140733 A JP H1140733A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal layer
leads
layer
semiconductor package
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9191052A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noriaki Takeya
則明 竹谷
Kazuhisa Hatano
和久 幡野
Tomo Yasuda
朋 安田
Takaharu Yonemoto
隆治 米本
Osamu Yoshioka
修 吉岡
Hajime Murakami
村上  元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP9191052A priority Critical patent/JPH1140733A/en
Publication of JPH1140733A publication Critical patent/JPH1140733A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/79Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/4826Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49109Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73215Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor package structure which can have an excellent high-speed transmission characteristics that can completely remove external noise at a high speed of 100 MHz or more as a response speed to the high-speed processing speed of a CPU. SOLUTION: In a semiconductor package having leads 2 positioned on a semiconductor chip 10, the leads 2 on the chip 10 are made to have a 3-layer structure, that is, a layer of a group of leads 2, a power metallic layer 4 and a grounding metallic layer 3. The power layer 4 is provided on one side of the lead 2 group layer, and the grounding layer 3 is on the other side thereof. The power and grounding layers 4 and 3 are sized so as to cover substantially all surface of all the leads 2 as viewed from an array direction of the lead 2 group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップの上
にリードフレームが位置しているLOC(Lead O
n Chip)構造の半導体パッケージに係り、特に高
集積された多ビットのDRAM(Dynamic Ra
ndam Access Memory)に適した高速
伝送特性に優れた半導体パッケージの構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a LOC (Lead O) in which a lead frame is located on a semiconductor chip.
The present invention relates to a semiconductor package having an n-chip (n-chip) structure, and particularly to a highly integrated multi-bit DRAM (Dynamic Ra).
The present invention relates to a structure of a semiconductor package excellent in high-speed transmission characteristics suitable for Ndam Access Memory).

【0002】[0002]

【従来の技術】LOC構造の半導体パッケージは、信号
のやり取りを行うIO等の電気接続を行うリードを半導
体チップ上に設けた構造であり、チップのシュリンクに
対応しやすい、パッケージの寸法が小型になる等の様々
な利点を有する。
2. Description of the Related Art A semiconductor package having a LOC structure has a structure in which leads for making electrical connections such as IOs for exchanging signals are provided on a semiconductor chip. It has various advantages such as becoming.

【0003】リードは、樹脂外部のリ−ド部分であるア
ウターリードと樹脂内部のリード部分であるインナーリ
ードとを持つが、一般の半導体パッケージでは、アウタ
ーリードとインナーリードとが一枚の金属板を加工する
ことにより形成される。このため、半導体チップの集積
度の向上により必然的に外部のリードの数が多くなると
いう問題があった。リードの密度が増しリード隙間が減
少すると、リードとリードとが接近して電磁的な干渉を
起こし、特に高周波の信号を伝送する場合にクロストー
クが発生し、良好な伝送特性が得られない。
A lead has an outer lead which is a lead part outside the resin and an inner lead which is a lead part inside the resin. In a general semiconductor package, the outer lead and the inner lead are made of one metal plate. Is formed by processing. For this reason, there is a problem that the number of external leads inevitably increases due to the improvement in the degree of integration of the semiconductor chip. When the lead density increases and the lead gap decreases, the leads come close to each other and cause electromagnetic interference. In particular, when transmitting a high-frequency signal, crosstalk occurs, and good transmission characteristics cannot be obtained.

【0004】この問題を解決すべく、インナーリードに
別のインナーリードを重ねるという技術が提案されてい
る(特開平5−226559号、特開平6−17720
2号、特開平7−7121号公報)。
In order to solve this problem, there has been proposed a technique in which another inner lead is superimposed on the inner lead (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 5-226559 and Hei 6-17720).
No. 2, JP-A-7-7121).

【0005】代表例として、図4及び図5に特開平6−
177202号公報に開示されたものを示す。これは、
半導体チップ21の外面に電源用、接地用及び信号用の
外部接続用電極22,23,24を混在させて配列する
と共に、その外部接続用電極22,23,24を挟み、
その両側に配設された第1と第2の絶縁テープ基材2
5,26の第1の絶縁テープ基材25表裏面の一面に信
号用リード27を、他方の面に電源バスバーリード28
を形成し、第2の絶縁テープ基材26の表裏面の一方の
面に信号用リード29を、他方の面に接地バスバーリー
ド30を設けたものである。この構造の場合、信号用リ
ード27と電源バスバーリード28とが上下に離れ、ま
た信号用リード29と接地バスバーリード30とが上下
に離れることから、外部接続用電極の配列数を少なくす
ることができる効果があるが、これらのリードは半導体
チップ21の平面上でも離れている。即ち、信号線に対
して電源線又はグランド線が離れて位置している構成で
あり、このため信号線への外部ノイズの移行を有効に防
止することができない。
[0005] As a representative example, FIGS.
No. 177202 is disclosed. this is,
On the outer surface of the semiconductor chip 21, external connection electrodes 22, 23, 24 for power supply, grounding, and signal are mixed and arranged, and the external connection electrodes 22, 23, 24 are sandwiched therebetween.
First and second insulating tape bases 2 disposed on both sides thereof
The first and second insulating tape bases 25 have signal leads 27 on one surface and power bus bar leads 28 on the other surface.
And a signal lead 29 is provided on one surface of the front and back surfaces of the second insulating tape base material 26, and a ground bus bar lead 30 is provided on the other surface. In the case of this structure, the signal leads 27 and the power supply bus bar leads 28 are vertically separated from each other, and the signal lead 29 and the ground bus bar leads 30 are vertically separated from each other. Therefore, the number of external connection electrodes can be reduced. Although there is an effect that can be achieved, these leads are separated even on the plane of the semiconductor chip 21. That is, the power supply line or the ground line is located away from the signal line, and therefore, it is not possible to effectively prevent the transfer of external noise to the signal line.

【0006】また、図6〜図8に示すように、半導体チ
ップ31がインナーリード32,33の下面側にインナ
ーリード32,33に跨がって搭載され、該半導体チッ
プ31とインナーリード32,33の上面側とが電気的
に接続されるLOC構造であって、インナーリード3
2,33の下面側に搭載される半導体チップ31との間
に介在するように、インナーリード32,33の下面側
に絶縁層34を介して積層され、かつ所望のインナーリ
ード32,33間に延出する複数の延出片35a,35
bを有する枠状の積層フレーム35を設けたものがある
(特開平7−94658号公報)。これはインナーリー
ド32,33間に延出する複数の延出片35a,35b
を設けてインナーリードを多層構造としたものである。
図中32aは延出片35b側のインナーリードを示す。
しかし、積層フレーム35及び延出片35a,35bは
他のインナーリードの上下面の全てに位置していない。
このため信号線への外部ノイズの移行を有効に防止する
ことができない。
As shown in FIGS. 6 to 8, a semiconductor chip 31 is mounted on the lower surface side of the inner leads 32, 33 so as to straddle the inner leads 32, 33, and the semiconductor chip 31 and the inner leads 32, 33 are mounted. 33 has an LOC structure electrically connected to the upper surface of the inner lead 3.
The inner leads 32, 33 are laminated on the lower surfaces of the inner leads 32, 33 via an insulating layer 34 so as to be interposed between the semiconductor chips 31 mounted on the lower surfaces of the inner leads 2, 33. A plurality of extending pieces 35a, 35 extending
There is a frame provided with a frame-shaped laminated frame 35 having a b (Japanese Patent Laid-Open No. 7-94658). This is because a plurality of extension pieces 35a, 35b extending between the inner leads 32, 33 are provided.
And the inner lead has a multilayer structure.
In the drawing, reference numeral 32a denotes an inner lead on the extension piece 35b side.
However, the laminated frame 35 and the extension pieces 35a and 35b are not located on all the upper and lower surfaces of the other inner leads.
Therefore, the transfer of external noise to the signal line cannot be effectively prevented.

【0007】このように、従来の半導体パッケージの構
造は、インナーリードに別のインナーリードを重ねた構
成のものであるが、部分的なものであるため、信号線へ
の外部ノイズの移行を有効に防止することができない。
As described above, the structure of the conventional semiconductor package has a structure in which another inner lead is superimposed on the inner lead. However, since the structure is partial, the transfer of external noise to the signal line is effective. Can not be prevented.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
CPU、MPUの処理速度の高速化に伴い、DRAM等
のメモリの高速化が重要になってきている。個人使用の
いわゆるパソコンでも100MHz以上の高速化対応の
CPUを搭載するものもある。このため、信号線への外
部ノイズの移行を完全に防止する半導体パッケージの構
造技術は、非常に重要なものとなっている。
However, in recent years,
With the increase in the processing speed of CPUs and MPUs, it has become important to increase the speed of memories such as DRAMs. Some personal computers for personal use are equipped with a CPU capable of operating at a high speed of 100 MHz or more. For this reason, the structure technology of the semiconductor package that completely prevents the transfer of external noise to the signal line is very important.

【0009】近接するリード間の電磁的な干渉を防止し
て良好な高周波信号の伝送特性を得るには、リードフレ
ームの導電層をグランド層として使用することが有効な
手段となる。かかる観点より、リードフレームをグラン
ド層としても使用することを目的とし、リードを多層化
することが検討されている(特開平7−249724号
公報)。
The use of the conductive layer of the lead frame as a ground layer is an effective means for preventing electromagnetic interference between adjacent leads and obtaining good high-frequency signal transmission characteristics. From this point of view, the use of multiple layers of leads has been studied for the purpose of using the lead frame as a ground layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-249724).

【0010】これは、図9に示す如く、リード42のイ
ンナーリードとパッケージ41の内部回路とを、また、
アウターリードと外部回路基板45の信号用パッド48
とをそれぞれ電気的に接続させるリードフレームであっ
て、少なくともリード42の一部表面が誘電体層43で
覆われ、さらに該誘電体層43の表面が導電層44で覆
われてなるリードフレームの前記導電層44を、上記外
部回路基板45に設けたグランド用パッド46と接続
し、また、該外部回路基板45のグランド用パッド46
の下にサーマルビア47を設けたものである。即ち、ア
ウターリードの先端部をハンダ49により外部回路基板
45の信号用パッド48と接続すると同時に、リード4
2の回りに設けられた導電層44を、外部回路基板45
に設けられたグランド用パッド46とハンダ49により
接続する構成である。従って、リードフレームの各リー
ドはグランド層としても使用できるようになり、グラン
ド接続用のリードを設ける必要がなく、リードフレーム
のピン数を減らすことができる。
[0010] As shown in FIG. 9, the inner lead of the lead 42 and the internal circuit of the package 41 are
Outer lead and signal pad 48 of external circuit board 45
And a lead frame in which at least a part of the surface of the lead 42 is covered with a dielectric layer 43 and the surface of the dielectric layer 43 is further covered with a conductive layer 44. The conductive layer 44 is connected to a ground pad 46 provided on the external circuit board 45.
Is provided with a thermal via 47 underneath. That is, the tip of the outer lead is connected to the signal pad 48 of the external circuit board 45 by the solder 49,
2 is connected to an external circuit board 45.
Is connected to a ground pad 46 provided on the substrate by solder 49. Therefore, each lead of the lead frame can be used as a ground layer, and it is not necessary to provide a ground connection lead, and the number of pins of the lead frame can be reduced.

【0011】しかし、図9に示した従来のリードが多層
になっている半導体パッケージの構造では、信号線の上
記高速化に伴う外部ノイズの影響を効率良く完全に取り
除くことに関しては考慮がなされていなかった。即ち、
リードの回りを誘電体層を介して導電層で覆う構造であ
るため、リード毎に専用の導電層を設けたり、別個に電
源用リードを設けたりしなければならない。
However, in the structure of the conventional semiconductor package shown in FIG. 9 in which the leads are multilayered, consideration is given to efficiently and completely removing the influence of external noise due to the above-mentioned increase in the speed of the signal line. Did not. That is,
Since the structure around the leads is covered with a conductive layer via a dielectric layer, a dedicated conductive layer must be provided for each lead, or a power supply lead must be separately provided.

【0012】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、高速のCPUの処理速度に対する応答速度である1
00MHz以上の高速において、外部からのノイズを完
全に取り除くことが可能で高速伝送特性に優れた半導体
パッケージの構造を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a response speed to a high-speed CPU processing speed.
An object of the present invention is to provide a semiconductor package structure which can completely remove external noise at a high speed of 00 MHz or more and has excellent high-speed transmission characteristics.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体パッケージ構造は、半導体チップの
上にリードフレームが位置している半導体パッケージに
おいて、半導体チップ上のリードフレームを、一群のリ
ード、電源用金属層及びグランド用金属層の三層で構成
し、一群のリードをはさんでいずれか一方の側に電源用
金属層を、他方の側にグランド用金属層を配置し、これ
らの電源用金属層及びグランド用金属層は一群のリード
の配列方向にみてその総てのリードのほぼ全面を覆う大
きさで設けた構成のものである(請求項1)。
In order to achieve the above object, a semiconductor package structure according to the present invention comprises a semiconductor package in which a lead frame is located on a semiconductor chip. It consists of a lead, a power supply metal layer and a ground metal layer, with a power supply metal layer on one side and a ground metal layer on the other side with a group of leads interposed. The power supply metal layer and the ground metal layer are provided in such a size as to cover almost all of the leads when viewed in the arrangement direction of the group of leads (claim 1).

【0014】一群のリードの一側には電源用金属層が、
他側にはグランド用金属層が配置されているため、接近
するリード間の電磁的な干渉が防止される。しかも、こ
の三層構造は、一群のリードの配列方向にみて、その総
てのリードのほぼ全面を覆う大きさで形成されているた
め、外部からのノイズを完全に取り除くことができる。
従って、高速用のメモリモジュール等に適したリードフ
レーム構造が得られる。
On one side of the group of leads is a power supply metal layer,
Since the ground metal layer is disposed on the other side, electromagnetic interference between approaching leads is prevented. In addition, since the three-layer structure is formed to have a size that covers almost all of the leads in the arrangement direction of the group of leads, external noise can be completely removed.
Accordingly, a lead frame structure suitable for a high-speed memory module or the like can be obtained.

【0015】また、請求項1記載の半導体パッケージ構
造において、前記半導体チップがダイナッミクRAM
(Randam Access Memory)である
場合(請求項2)には、高速伝送特性に優れた、高集積
された多ビットのDRAMが得られる。
Further, in the semiconductor package structure according to claim 1, the semiconductor chip is a dynamic RAM.
In the case of (Random Access Memory) (claim 2), a highly integrated multi-bit DRAM excellent in high-speed transmission characteristics can be obtained.

【0016】具体的には、請求項1記載の半導体パッケ
ージ構造において、前記電源用金属層及びグランド用金
属層が銅の金属箔から成ることができる(請求項3)。
Specifically, in the semiconductor package structure according to the first aspect, the power supply metal layer and the ground metal layer may be made of copper metal foil.

【0017】また、請求項1記載の半導体パッケージ構
造において、前記三層のリードフレームを構成する電源
用金属層、一群のリード及びグランド用金属層が互いに
接着剤層により固定され、接着剤にて半導体チップに固
定される(請求項4)。この接着剤としては耐熱性のも
のが好ましい。
Further, in the semiconductor package structure according to the first aspect, the power supply metal layer, a group of leads and the ground metal layer constituting the three-layer lead frame are fixed to each other by an adhesive layer, and the adhesive layer is used. It is fixed to a semiconductor chip (claim 4). The adhesive is preferably a heat-resistant adhesive.

【0018】しかし、請求項1記載の半導体パッケージ
構造において、前記三層のリードフレームを構成する電
源用金属層、一群のリード及びグランド用金属層を、両
面に接着剤層を有するテープにより互いに固定し、両面
に接着剤層を有するテープにより半導体チップに固定す
ることもできる(請求項5)。
However, in the semiconductor package structure according to the first aspect, the power supply metal layer, a group of leads and the ground metal layer constituting the three-layer lead frame are fixed to each other by a tape having an adhesive layer on both surfaces. Alternatively, the semiconductor chip can be fixed to the semiconductor chip with a tape having an adhesive layer on both sides (claim 5).

【0019】なお、電源用金属層とグランド用金属層は
どちらが上でも下でも構わないが、電源用金属層を上に
する方が半導体チップヘの影響が少なく、良好な電気的
特性が得られる。
The power supply metal layer and the ground metal layer may be either upper or lower, but the upper power supply metal layer has less influence on the semiconductor chip, and good electrical characteristics can be obtained.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図1は、高集積された多ビットのDRAM
に適用したLOC構造の半導体パッケージの一部、特に
リードフレームの部分を示したものである。図2は、そ
の半導体パッケージのリードフレーム部分を断面で示し
たものである。図3は、完成された高速化DRAMの半
導体パッケージの断面図である。
FIG. 1 shows a highly integrated multi-bit DRAM.
1 shows a part of a semiconductor package having a LOC structure applied to the present invention, particularly a part of a lead frame. FIG. 2 is a cross-sectional view of a lead frame portion of the semiconductor package. FIG. 3 is a sectional view of the completed semiconductor package of the high-speed DRAM.

【0022】図1で示すように、半導体パッケージは、
半導体チップ10上にリードフレーム1を具備する。リ
ードフレーム1は、一群のリード2、グランド用金属層
3及び電源用金属層4の三層から成る。一群のリード2
は、一番奥の電源用リード2b、奥から1つ手前のグラ
ンド用リード2a、それ以外の信号用リード2cから成
る。
As shown in FIG. 1, the semiconductor package comprises:
The lead frame 1 is provided on a semiconductor chip 10. The lead frame 1 includes three layers of a group of leads 2, a ground metal layer 3, and a power supply metal layer 4. A group of leads 2
Is composed of a power supply lead 2b at the innermost position, a ground lead 2a at the front of the power source lead 2a, and a signal lead 2c at the other end.

【0023】一群のリード2は、1つの半導体チップ1
0に対して左右に1群づつ設けられている。このリード
2の両群は、半導体チップ10の外面に直線的に配列し
た信号用、電源用及び接地用の外部接続用電極の群であ
る接続パッド11の群の両側に、対峙する形で配設され
ている。その配列方向は、接続パッド11の配列方向と
平行である。
A group of leads 2 is composed of one semiconductor chip 1
One group is provided on the left and right with respect to 0. Both groups of the leads 2 are arranged so as to face each other on both sides of a group of connection pads 11, which are groups of external connection electrodes for signal, power and ground, which are linearly arranged on the outer surface of the semiconductor chip 10. Has been established. The arrangement direction is parallel to the arrangement direction of the connection pads 11.

【0024】リードフレーム1には、この一群のリード
2をはさんで上側又は下側のいずれか一方の側に電源用
金属層4が、他方の側にグランド用金属層3が配設され
ている。この実施形態の場合、一群のリード2の上側に
電源用金属層4を、下側にグランド用金属層3を配置し
ている。その理由は、半導体チップ10側から見たと
き、順次に、半導体チップ10、グランド用金属層3、
一群のリード2及び電源用金属層4を積層した構造とな
り、半導体チップ10及び一群のリード2間にグランド
用金属層3が介在する形になるため、半導体チップ10
及び一群のリード2間に電源用金属層4が介在する形に
比べ電気的特性が良好となるためである。
In the lead frame 1, a power supply metal layer 4 is disposed on one of the upper and lower sides of the group of leads 2 and a ground metal layer 3 is disposed on the other side. I have. In this embodiment, the power supply metal layer 4 is arranged above the group of leads 2, and the ground metal layer 3 is arranged below the group of leads 2. The reason is that, when viewed from the semiconductor chip 10 side, the semiconductor chip 10, the ground metal layer 3,
The semiconductor chip 10 and the power supply metal layer 4 are stacked, and the ground metal layer 3 is interposed between the semiconductor chip 10 and the group of leads 2.
This is because the electrical characteristics are better than when the power supply metal layer 4 is interposed between the group of leads 2.

【0025】電源用金属層4及びグランド用金属層3は
共に銅の金属箔から成る。そして、これらの電源用金属
層4及びグランド用金属層3の金属箔は、一群のリード
2の配列方向にみて、その総てのリードのほぼ全面を覆
う大きさで設けられている。即ち、グランド用金属層3
の金属箔が、各リード2のインナーリードのほぼ全域を
カバーする大きさで、一群のリード2の全体の下面側に
配設され、また、電源用金属層4の金属箔が、各リード
2のインナーリードのほぼ全域をカバーする大きさで、
一群のリード2の全体の上面側に配設されている。従っ
て、1つの半導体チップ10に属する2群のリード2
は、その各群毎の総てのリード2が、そのインナーリー
ドの前端部及び後端部を僅かに残した状態にまで、共通
の電源用金属層4及びグランド用金属層3により表裏か
ら覆われる。図1では、一群のリード2を1枚の銅箔か
らなる電源用金属層4及びグランド用金属層3により表
裏から覆った状態のものを示してある。
Both the power supply metal layer 4 and the ground metal layer 3 are made of copper metal foil. The metal foils of the power supply metal layer 4 and the ground metal layer 3 are provided in such a size as to cover almost the entire surface of all the leads 2 in the arrangement direction of the group of leads 2. That is, the ground metal layer 3
Are arranged on the entire lower surface side of the group of leads 2 in a size that covers substantially the entire area of the inner leads of each lead 2, and the metal foil of the power supply metal layer 4 is It covers almost the entire area of the inner lead,
It is arranged on the entire upper surface side of the group of leads 2. Therefore, two groups of leads 2 belonging to one semiconductor chip 10
Is covered from the front and back by a common power supply metal layer 4 and a ground metal layer 3 until all the leads 2 of each group slightly leave the front end and the rear end of the inner lead. Will be FIG. 1 shows a state in which a group of leads 2 is covered from the front and back by a power supply metal layer 4 and a ground metal layer 3 made of one piece of copper foil.

【0026】上記各多層リードフレーム1を構成する電
源用金属層4、一群のリード2及びグランド用金属層3
は、互いに接着剤層により固定されると共に、接着剤に
より半導体チップ10の上に固定される。ここでは、半
導体チップ10の上にグランド用金属層3を耐熱性の接
着剤5で固定し、グランド用金属層3の上に一群のリー
ド2を耐熱性の接着剤6で固定し、そして、一群のリー
ド2の上に電源用金属層4を耐熱性の接着剤7で固定し
た。またボンディングワイヤ8により接続した。
A power supply metal layer 4, a group of leads 2 and a ground metal layer 3 constituting each of the multilayer lead frames 1.
Are fixed to each other by an adhesive layer, and are fixed on the semiconductor chip 10 by an adhesive. Here, the ground metal layer 3 is fixed on the semiconductor chip 10 with a heat-resistant adhesive 5, the group of leads 2 is fixed on the ground metal layer 3 with a heat-resistant adhesive 6, and The power supply metal layer 4 was fixed on the group of leads 2 with a heat-resistant adhesive 7. The connection was made by a bonding wire 8.

【0027】この場合、リードフレーム1は、一群のリ
ード2、グランド用金属層3及び電源用金属層4が、そ
の長手方向、つまりリード2の配列方向と直交する方向
に少しずつずらされ、インナーリードの接続パッド11
側に階段状の接続用段差部12が残るように配置され
る。この階段状の内部接続用段差部12は、半導体チッ
プ10の外面に近い側ほど長く延在するように形成され
る。
In this case, the lead frame 1 includes a group of leads 2, a ground metal layer 3 and a power supply metal layer 4 which are slightly displaced in the longitudinal direction, that is, in the direction orthogonal to the direction in which the leads 2 are arranged. Lead connection pad 11
It is arranged so that the step-like connecting step 12 remains on the side. The step-like internal connection step 12 is formed so as to extend longer toward the outer surface of the semiconductor chip 10.

【0028】この実施形態では、更にグランド用金属層
3及び電源用金属層4の接続パッド11側が、リード2
の配列ピッチに合わせて波状に切り欠かれており、切欠
部13がリード2とリード2の隙間に位置するようにな
っている。これは、一群のリード2、グランド用金属層
3及び電源用金属層4を接続パッド11へ接続するワイ
ヤボンディングを作業し易くするためである。
In this embodiment, the connection pads 11 of the ground metal layer 3 and the power supply metal layer 4 are connected to the leads 2.
Are cut in a wavy manner in accordance with the arrangement pitch of the leads 2 so that the notches 13 are located in the gaps between the leads 2. This is to facilitate the work of wire bonding for connecting the group of leads 2, the ground metal layer 3, and the power metal layer 4 to the connection pad 11.

【0029】その後、図2で示すように、各リード2と
半導体チップ10に設置した接続パッド11とをボンデ
ィングワイヤ8により半導体チップ10と接続する。こ
れは上記階段状の内部接続用段差部12を利用し、ボン
ディングワイヤ8により、一群のリード2、グランド用
金属層3及び電源用金属層4を、それぞれの対応する接
続パッド11と接続することで行う。
Thereafter, as shown in FIG. 2, the leads 2 and the connection pads 11 provided on the semiconductor chip 10 are connected to the semiconductor chip 10 by bonding wires 8. This is to connect the group of leads 2, the ground metal layer 3, and the power metal layer 4 to the corresponding connection pads 11 by bonding wires 8 using the stepped internal connection step 12. Do with.

【0030】グランド用リード2aとグランド用金属層
3をボンディングワイヤ83により接続し、また電源用
リード2bと電源用金属層4をボンディングワイヤ84
により接続する。これによりグランド用金属層3はグラ
ンド電位になり、電源用金属層4は電源電位になる。
The ground lead 2a and the ground metal layer 3 are connected by a bonding wire 83, and the power lead 2b and the power metal layer 4 are connected by a bonding wire 84.
Connect with As a result, the ground metal layer 3 has the ground potential, and the power metal layer 4 has the power potential.

【0031】さらに、図3で示すようにモールド樹脂9
で封止し、半導体パッケージ14を得た。
Further, as shown in FIG.
Then, the semiconductor package 14 was obtained.

【0032】このようにして得られたダイナミックRA
Mのパッケージは、100MHz以上の高速応答を実現
した。即ち、電源用金属層4とグランド用金属層3とを
総ての信号用リード2cの上下に位置しているので、外
部ノイズの信号線への移行を完全に除去することができ
た。
The dynamic RA obtained as described above
The M package realized a high-speed response of 100 MHz or more. That is, since the power supply metal layer 4 and the ground metal layer 3 are located above and below all the signal leads 2c, the transfer of external noise to the signal lines can be completely eliminated.

【0033】上記実施形態では、チップヘの影響を考慮
し、電源用金属層とグランド用金属層とを、電源用金属
層を上側にして一群のリードの上下に配設しているが、
グランド用金属層を上側にして一群のリードに配設する
こともできる。
In the above embodiment, in consideration of the influence on the chip, the power supply metal layer and the ground metal layer are arranged above and below a group of leads with the power supply metal layer on the upper side.
It is also possible to dispose them on a group of leads with the ground metal layer facing upward.

【0034】また、リードとリード間の接着或いはリー
ドと半導体チップ間の接着に接着剤を用いているが、L
OC構造のパッケージに用いる両面接着テープを用いる
こともできる。
Further, an adhesive is used for bonding between the leads or between the leads and the semiconductor chip.
A double-sided adhesive tape used for a package having an OC structure can also be used.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、次
のような優れた効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained.

【0036】請求項1に記載の発明によれば、一群のリ
ードの一側には電源用金属層が、他側にはグランド用金
属層が配置されているため、接近するリード間の電磁的
な干渉が防止される。しかも、この三層構造は、一群の
リードの配列方向にみて、その総てのリードのほぼ全面
を覆う大きさで形成されているため、外部からのノイズ
を完全に取り除くことができる。従って、高速用のメモ
リモジュール等に適した高速伝送特性に優れたリードフ
レーム構造が得られる。
According to the first aspect of the present invention, the power supply metal layer is disposed on one side of the group of leads, and the ground metal layer is disposed on the other side. Interference is prevented. In addition, since the three-layer structure is formed to have a size that covers almost all of the leads in the arrangement direction of the group of leads, external noise can be completely removed. Therefore, a lead frame structure excellent in high-speed transmission characteristics suitable for a high-speed memory module or the like is obtained.

【0037】また、リード毎に専用の導電層を設けた
り、別個に電源用金属層を設けたりする必要がないの
で、信号線の高速化に伴う外部ノイズの影響を効率良く
完全に取り除くことができる。
Further, since it is not necessary to provide a dedicated conductive layer for each lead or to separately provide a power supply metal layer, it is possible to efficiently and completely eliminate the influence of external noise accompanying the speeding up of the signal line. it can.

【0038】半導体チップをダイナッミクRAMとした
請求項2に記載の発明によれば、高速伝送特性に優れ
た、高集積された多ビットのDRAMが得られる。
According to the second aspect of the present invention, the semiconductor chip is a dynamic RAM, so that a highly integrated multi-bit DRAM excellent in high-speed transmission characteristics can be obtained.

【0039】請求項3に記載の発明によれば、請求項1
記載の電源用金属層及びグランド用金属層が銅の金属箔
から成るので、容易且つ安価に製造ができる。
According to the invention described in claim 3, according to claim 1
Since the power supply metal layer and the ground metal layer described above are made of copper metal foil, they can be manufactured easily and at low cost.

【0040】請求項4に記載の発明によれば、請求項1
記載の三層のリードフレームを構成する電源用金属層、
一群のリード及びグランド用金属層が互いに接着剤層に
より固定され、接着剤にて半導体チップに固定したの
で、多層構造を簡易に作ることができる。
According to the invention described in claim 4, according to claim 1 of the present invention,
The power supply metal layer constituting the three-layer lead frame according to the above,
Since the group of leads and the ground metal layer are fixed to each other by the adhesive layer and fixed to the semiconductor chip by the adhesive, a multilayer structure can be easily formed.

【0041】請求項5に記載の発明によれば、請求項1
記載の三層のリードフレームを構成する電源用金属層、
一群のリード及びグランド用金属層を、両面に接着剤層
を有するテープにより互いに固定し、両面に接着剤層を
有するテープにより半導体チップに固定したので、これ
らの多層構造を簡易に作り出すことができる。
According to the invention set forth in claim 5, according to claim 1,
The power supply metal layer constituting the three-layer lead frame according to the above,
A group of leads and a ground metal layer are fixed to each other by a tape having an adhesive layer on both sides, and are fixed to a semiconductor chip by a tape having an adhesive layer on both sides, so that these multilayer structures can be easily created. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体パッケージのリードフレーム部
分を示した斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a lead frame portion of a semiconductor package of the present invention.

【図2】本発明の半導体チップとリードフレーム部分の
断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor chip of the present invention and a lead frame portion.

【図3】本発明の半導体パッケージのモールド後の断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view of the semiconductor package of the present invention after molding.

【図4】従来の半導体パッケージの構造を示した平面図
である。
FIG. 4 is a plan view showing a structure of a conventional semiconductor package.

【図5】図4の半導体パッケージの断面図である。FIG. 5 is a sectional view of the semiconductor package of FIG. 4;

【図6】従来の半導体パッケージの他のリードフレーム
構造を示した平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing another lead frame structure of a conventional semiconductor package.

【図7】図6の半導体パッケージのリードフレームの部
分断面図である。
FIG. 7 is a partial sectional view of a lead frame of the semiconductor package of FIG. 6;

【図8】図7のリードフレーム部分の拡大平面図であ
る。
FIG. 8 is an enlarged plan view of a lead frame part of FIG. 7;

【図9】従来の半導体パッケージの更に別の構造を示し
た断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing still another structure of a conventional semiconductor package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム 2 一群のリード 2a グランド用リード 2b 電源用リード 2c 信号用リード 3 グランド用金属層 4 電源用金属層 5,6,7 接着剤 8 ボンディングワイヤ 9 モールド樹脂 10 半導体チップ 11 接続パッド 12 内部接続用段差部 13 切欠部 83 ボンディングワイヤ 84 ボンディングワイヤ REFERENCE SIGNS LIST 1 lead frame 2 group of leads 2a ground lead 2b power lead 2c signal lead 3 ground metal layer 4 power metal layer 5,6,7 adhesive 8 bonding wire 9 molding resin 10 semiconductor chip 11 connection pad 12 inside Connection step 13 Notch 83 Bonding wire 84 Bonding wire

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米本 隆治 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電線 株式会社システムマテリアル研究所内 (72)発明者 吉岡 修 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電線 株式会社システムマテリアル研究所内 (72)発明者 村上 元 茨城県日立市助川町3丁目1番1号 日立 電線株式会社電線工場内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Ryuji Yonemoto 3550 Kida Yomachi, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Cable System Materials Research Laboratories (72) Inventor Osamu Yoshioka 3550 Kida Yomachi, Tsuchiura City, Ibaraki Hitachi Cable (72) Inventor: Moto Murakami 3-1, 1-1 Sukekawacho, Hitachi City, Ibaraki Pref. Hitachi Cable Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップの上にリードフレームが位置
している半導体パッケージにおいて、半導体チップ上の
リードフレームを、一群のリード、電源用金属層及びグ
ランド用金属層の三層で構成し、一群のリードをはさん
でいずれか一方の側に電源用金属層を、他方の側にグラ
ンド用金属層を配置し、これらの電源用金属層及びグラ
ンド用金属層は一群のリードの配列方向にみてその総て
のリードのほぼ全面を覆う大きさで設けたことを特徴と
する半導体パッケージ構造。
In a semiconductor package in which a lead frame is located on a semiconductor chip, the lead frame on the semiconductor chip is composed of a group of leads, a power supply metal layer, and a ground metal layer. The power supply metal layer is arranged on one side and the ground metal layer is arranged on the other side, and these power supply metal layer and ground metal layer are viewed in the arrangement direction of the group of leads. A semiconductor package structure provided so as to cover almost all of the leads.
【請求項2】請求項1記載の半導体パッケージ構造にお
いて、前記半導体チップがダイナッミクRAMであるこ
とを特徴とする半導体パッケージ構造。
2. The semiconductor package structure according to claim 1, wherein said semiconductor chip is a dynamic RAM.
【請求項3】請求項1または2に記載の半導体パッケー
ジ構造において、前記電源用金属層及びグランド用金属
層が銅の金属箔から成ることを特徴とする半導体パッケ
ージ構造。
3. The semiconductor package structure according to claim 1, wherein said power supply metal layer and ground metal layer are made of copper metal foil.
【請求項4】請求項1ないし3のいずれかに記載の半導
体パッケージ構造において、前記三層のリードフレーム
を構成する電源用金属層、一群のリード及びグランド用
金属層が互いに接着剤層により固定され、接着剤にて半
導体チップに固定されていることを特徴とする半導体パ
ッケージ構造。
4. The semiconductor package structure according to claim 1, wherein the power supply metal layer, a group of leads and the ground metal layer constituting the three-layer lead frame are fixed to each other by an adhesive layer. And a semiconductor package structure fixed to the semiconductor chip with an adhesive.
【請求項5】請求項1ないし3のいずれかに記載の半導
体パッケージ構造において、前記三層のリードフレーム
を構成する電源用金属層、一群のリード及びグランド用
金属層が両面に接着剤層を有するテープにより互いに固
定され、両面に接着剤層を有するテープにより半導体チ
ップに固定されていることを特徴とする半導体パッケー
ジ構造。
5. The semiconductor package structure according to claim 1, wherein the power supply metal layer, the group of leads and the ground metal layer constituting the three-layer lead frame have adhesive layers on both surfaces. A semiconductor package structure, wherein the semiconductor package structure is fixed to each other by a tape having an adhesive layer on both sides thereof.
JP9191052A 1997-07-16 1997-07-16 Semiconductor package structure Pending JPH1140733A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9191052A JPH1140733A (en) 1997-07-16 1997-07-16 Semiconductor package structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9191052A JPH1140733A (en) 1997-07-16 1997-07-16 Semiconductor package structure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1140733A true JPH1140733A (en) 1999-02-12

Family

ID=16268100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9191052A Pending JPH1140733A (en) 1997-07-16 1997-07-16 Semiconductor package structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1140733A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6472293B2 (en) Method for manufacturing an interconnect structure for stacked semiconductor device
JP2960276B2 (en) Multilayer wiring board, semiconductor device using this substrate, and method of manufacturing multilayer wiring board
US6667560B2 (en) Board on chip ball grid array
US20010045644A1 (en) Semiconductor package having heat sink at the outer surface
US20060118924A1 (en) Lead frame assemblies and decoupling capacitors
US5067005A (en) Semiconductor device
US6060774A (en) Semiconductor device
JPH10513012A (en) High performance integrated circuit package
JP2001203470A (en) Wiring board, semiconductor package and semiconductor device
JPS6249989B2 (en)
US6340839B1 (en) Hybrid integrated circuit
JP2002093949A5 (en)
JPH1056248A (en) Printed circuit board and electronic device equipped with it
JPH1140733A (en) Semiconductor package structure
KR100498470B1 (en) Multi chip package and method for manufacturing the same
US20050161792A1 (en) Junction member and multichip package using same
JP2003273321A (en) Semiconductor module
JPH1140732A (en) Semiconductor package structure
JP3132478B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JPH09223758A (en) Semiconductor device
JPH0521694A (en) Semiconductor device
JPS62183155A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3041849B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2766361B2 (en) Semiconductor device
KR100230750B1 (en) Semiconductor package

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20030408