JPH1140695A - Ceramic wiring board for optical communication and its manufacture - Google Patents

Ceramic wiring board for optical communication and its manufacture

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JPH1140695A
JPH1140695A JP19235797A JP19235797A JPH1140695A JP H1140695 A JPH1140695 A JP H1140695A JP 19235797 A JP19235797 A JP 19235797A JP 19235797 A JP19235797 A JP 19235797A JP H1140695 A JPH1140695 A JP H1140695A
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JP
Japan
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green sheet
paste layer
external connection
optical communication
wiring board
Prior art date
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Application number
JP19235797A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Muraki
伊知郎 村木
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Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently form or plate outer connection pads by forming wiring through-holes running from the cavity wall formed on the board top surface to the board end face and fixing outer connection pins to the pads. SOLUTION: A cavity 12 for housing optical, communication elements is formed into the top surface 18 of a ceramic board 11. To insert optical communication wirings into the cavity 12, wiring through-holes 14 are formed, running from the cavity wall 12a to the end face 11a of the board 11. The communication elements are coupled with the communication wirings in the cavity 12 to transfer laser beams etc. through the communication wirings. Outer connection pads 15 are formed on the lower surface 19 of the board 11 and outer connection pins 16 for connecting a mother board are fixed to the pads 15 through braze, etc. Inner conductor layer 17a is connected to the pads 15 through through-holes 17b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光通信用セラミック
配線基板、及びその製造方法に関し、より詳細には光通
信用集積回路等の光通信素子を搭載するための光通信用
セラミック配線基板、及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic wiring board for optical communication and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a ceramic wiring board for optical communication for mounting an optical communication element such as an integrated circuit for optical communication, and the like. It relates to the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の光通信技術の発達に伴い、光通信
用集積回路等の光通信素子を保護すると同時に、光通信
用配線(光ファイバ等)や、マザーボード上に形成され
た電気配線との容易な接続を図るために、前記光通信素
子を搭載する配線基板(パッケージ)が求められてい
る。これら配線基板の中で、セラミック配線基板は熱伝
導性、耐湿性、耐熱性等に優れているために信頼性が高
く、光通信の分野でも使用され始めている。
2. Description of the Related Art With the recent development of optical communication technology, an optical communication element such as an integrated circuit for optical communication is protected and, at the same time, wiring for optical communication (optical fiber and the like) and electric wiring formed on a motherboard are not required. In order to achieve easy connection, a wiring board (package) on which the optical communication element is mounted is required. Among these wiring boards, ceramic wiring boards have high reliability because of their excellent thermal conductivity, moisture resistance, heat resistance and the like, and have begun to be used in the field of optical communication.

【0003】図5(a)は従来の光通信用セラミック配
線基板を模式的に示した斜視図であり、(b)は正面図
である。セラミック基板11の上面58には光集積回路
等の光通信素子(図示せず)を納めるためのキャビティ
12が形成され、キャビティ12の内部には、光ファイ
バ等の光通信用配線(図示せず)を挿通させるために、
キャビティ12の壁面12aからセラミック基板11の
端面11aに通じる配線用貫通孔14が形成されてい
る。前記光通信素子と前記光通信用配線とはキャビティ
12の内部で結合され、前記光通信用配線を介してレー
ザ光等の送受信を行うようになっている。キャビティ1
2の内部は、壁面12aを挟んだ両側壁面が階段状に形
成され、階段部13には前記光通信素子の端子と接続す
るためのインナパッド13aが形成され、このインナパ
ッド13aは内部導体層57と接続されている。この内
部導体層57は側壁面11bに達し、側壁面11bに形
成された外部接続パッド55と接続されており、外部接
続パッド55にはマザーボードに接続するための外部接
続端子56がロー付け等により固着されている。また、
インナパッド13a、外部接続パッド55及び外部接続
端子56には、メッキ処理が施されている。
FIG. 5A is a perspective view schematically showing a conventional ceramic wiring board for optical communication, and FIG. 5B is a front view. A cavity 12 for accommodating an optical communication element (not shown) such as an optical integrated circuit is formed on an upper surface 58 of the ceramic substrate 11, and an optical communication wiring (not shown) such as an optical fiber is formed inside the cavity 12. )
A wiring through hole 14 is formed from the wall surface 12 a of the cavity 12 to the end surface 11 a of the ceramic substrate 11. The optical communication element and the optical communication wiring are coupled inside the cavity 12 so as to transmit and receive laser light and the like via the optical communication wiring. Cavity 1
2 has a stepped shape on both side walls sandwiching a wall surface 12a, and an inner pad 13a for connection to a terminal of the optical communication element is formed on a stepped portion 13, and the inner pad 13a is formed of an inner conductor layer. 57. The internal conductor layer 57 reaches the side wall surface 11b and is connected to an external connection pad 55 formed on the side wall surface 11b. An external connection terminal 56 for connecting to the mother board is connected to the external connection pad 55 by brazing or the like. It is fixed. Also,
The inner pads 13a, the external connection pads 55, and the external connection terminals 56 are plated.

【0004】図6(a)〜(d)は光通信用セラミック
配線基板50を製造する際の工程の一部を模式的に示し
た斜視図である。図示はしていないが、まず、大型グリ
ーンシートの一枚に、図5に示したキャビティ12や配
線用貫通孔14を形成するための開口部を複数個形成し
た後、インナパッド13aや内部導体層57を形成する
ための導体ペースト層を複数単位形成し、前記グリーン
シートを含む複数のグリーンシートを積層した後、個々
の単位に切断してグリーンシート積層体61を作製する
(図6(a))。
FIGS. 6A to 6D are perspective views schematically showing a part of a process for manufacturing a ceramic wiring board 50 for optical communication. Although not shown, first, a plurality of openings for forming the cavities 12 and the wiring through holes 14 shown in FIG. 5 are formed on one large green sheet, and then the inner pads 13a and the inner conductors are formed. A plurality of units of the conductive paste layer for forming the layer 57 are formed, a plurality of green sheets including the green sheet are laminated, and then cut into individual units to produce a green sheet laminate 61 (FIG. 6A )).

【0005】このグリーンシート積層体61のキャビテ
ィ用凹部66の階段部62にはインナパッド用導体ペー
スト層62aが形成され、また、グリーンシート積層体
61にはキャビティ用凹部66の壁面66aからグリー
ンシート積層体61の端面61aに通じる貫通孔64が
形成されている。
[0005] A conductor paste layer 62a for an inner pad is formed on the step portion 62 of the concave portion 66 for the cavity of the green sheet laminate 61. The green sheet laminate 61 has a green sheet from the wall surface 66a of the concave portion 66 for the cavity. A through hole 64 communicating with the end face 61 a of the laminate 61 is formed.

【0006】次に、このグリーンシート積層体61の側
壁面61bに外部接続パッド用導体ペースト層63を形
成する(図6(b))。この際、サイド印刷(スクリー
ン印刷等)を行うための印刷装置に個々のグリーンシー
ト積層体61をセットし、前記印刷装置を駆動させて印
刷を行い、側壁面61bに外部接続パッド用導体ペース
ト層63を形成する。
Next, a conductor paste layer 63 for external connection pads is formed on the side wall surface 61b of the green sheet laminate 61 (FIG. 6B). At this time, the individual green sheet laminates 61 are set in a printing device for performing side printing (screen printing or the like), and the printing device is driven to perform printing, and the conductive paste layer for external connection pads is formed on the side wall surface 61b. 63 is formed.

【0007】次に、前記工程を経たグリーンシート積層
体61に脱脂処理及び焼成処理を施す。前記工程によ
り、(c)に示したキャビティ12等を有するセラミッ
ク基板11が形成されると共に、セラミック基板11表
面や内部にインナパッド13a、内部導体層57、及び
外部接続パッド55が形成される。続いて、このセラミ
ック基板11をNiメッキ用のメッキ浴に浸漬して電解
メッキ用端子67を外部接続パッド55と接触させ、イ
ンナパッド13a及び外部接続パッド55に電解Niメ
ッキ処理を施す(図6(c))。
Next, the green sheet laminate 61 having undergone the above steps is subjected to a degreasing treatment and a baking treatment. By the above-described process, the ceramic substrate 11 having the cavity 12 and the like shown in (c) is formed, and the inner pad 13a, the internal conductor layer 57, and the external connection pad 55 are formed on and in the surface of the ceramic substrate 11. Subsequently, the ceramic substrate 11 is immersed in a plating bath for Ni plating to bring the terminals 67 for electrolytic plating into contact with the external connection pads 55, and the inner pads 13a and the external connection pads 55 are subjected to electrolytic Ni plating (FIG. 6). (C)).

【0008】次に、Niメッキ処理が施された外部接続
パッド55にリードフレーム68の接続部68aをロー
付けし、この外部接続パッド55がロー付けされたセラ
ミック基板11をAuメッキ用のメッキ浴に浸漬して別
の電解メッキ用端子69をリードフレーム68と接触さ
せ、インナパッド13a、外部接続パッド55及びリー
ドフレーム68に電解Auメッキ処理を施す(図6
(d))。その後、リードフレーム68の接続部68a
を連結部68bから切り離して外部接続端子56(図
5)とする。
Next, the connection portion 68a of the lead frame 68 is soldered to the external connection pad 55 that has been subjected to the Ni plating process, and the ceramic substrate 11 to which the external connection pad 55 has been soldered is placed on a plating bath for Au plating. And another electrolytic plating terminal 69 is brought into contact with the lead frame 68, and the inner pad 13a, the external connection pad 55 and the lead frame 68 are subjected to electrolytic Au plating (FIG. 6).
(D)). Then, the connecting portion 68a of the lead frame 68
Is separated from the connecting portion 68b to form an external connection terminal 56 (FIG. 5).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来の光通信用セラミ
ック配線基板50は、図5に示したように外部接続端子
56がセラミック基板11の側壁面11bに固着されて
いるタイプ(サイドブレーズタイプ)であるため、製造
過程においてグリーンシート積層体61の側壁面61b
に外部接続パッド用導体ペースト層63を形成する必要
がある。
As shown in FIG. 5, a conventional ceramic wiring board 50 for optical communication has a type in which an external connection terminal 56 is fixed to a side wall surface 11b of a ceramic substrate 11 (side blazed type). Therefore, in the manufacturing process, the side wall surface 61b of the green sheet laminate 61
It is necessary to form a conductor paste layer 63 for external connection pads.

【0010】そのため、大型のグリーンシート積層体を
切断して、個々のグリーンシート積層体61に分割した
後、個々のグリーンシート積層体61をサイド印刷を行
うための印刷装置にセットし、側壁面61bに外部接続
パッド用導体ペースト層63を形成していた。
[0010] Therefore, after cutting a large green sheet laminate and dividing it into individual green sheet laminates 61, the individual green sheet laminates 61 are set on a printing device for performing side printing, and the side wall surfaces are set. The conductor paste layer 63 for external connection pads was formed on 61b.

【0011】このように、従来の光通信用セラミック配
線基板50の製造においては、個々のグリーンシート積
層体61を前記印刷装置にセットし、側壁面61bに外
部接続パッド用導体ペースト層63を形成していたた
め、効率的に外部接続パッド用導体ペースト層63(外
部接続パッド55)を形成することができないという課
題があった。
As described above, in manufacturing the conventional ceramic wiring board 50 for optical communication, the individual green sheet laminates 61 are set in the printing apparatus, and the conductor paste layer 63 for external connection pads is formed on the side wall surface 61b. Therefore, there has been a problem that the conductor paste layer 63 for external connection pads (external connection pads 55) cannot be efficiently formed.

【0012】また、メッキ処理を施す場合にも、個々の
セラミック基板11をメッキ浴に浸漬し、外部接続パッ
ド55やリードフレーム68に電解メッキ用端子67、
69を接続する必要があり、さらに外部接続端子56を
固着する場合にも個々のセラミック基板11毎に行う必
要があったので、効率的にこれらの処理を行うことがで
きず、製造コストが高く付くという課題があった。
Also, in the case of performing a plating process, the individual ceramic substrates 11 are immersed in a plating bath, and electrolytic plating terminals 67 and
69, and also when the external connection terminals 56 are fixed, it is necessary to perform the processing for each ceramic substrate 11, so that these processes cannot be performed efficiently and the manufacturing cost is high. There was a problem of sticking.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段及びその効果】本発明者は
上記課題に鑑み、外部接続パッドの形成やメッキ処理等
を効率的に行うことができ、その結果、安価に光通信用
セラミック配線基板を製造することができる光通信用セ
ラミック配線基板の製造方法について種々検討を行った
ところ、外部接続パッドがセラミック基板の下面に形成
され、前記外部接続パッドに外部接続ピンが固着された
タイプ(ボトムブレーズタイプ)の光通信用セラミック
配線基板とすることにより、多数の外部接続パッドの形
成が可能になり、しかも複数単位の配線基板部分を含む
大型のグリーンシートに、一度に外部接続パッド用導体
ペースト層等の導体ペースト層を形成することができ、
その後も、これらグリーンシートを積層して作製した大
型のグリーンシート積層体を分割することなく焼成処
理、メッキ処理、外部接続ピンの固着等を行うことがで
きることを見い出し本発明を完成するに至った。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present inventor can efficiently form external connection pads, perform plating, and the like. As a result, the ceramic wiring board for optical communication can be manufactured at low cost. Various investigations were made on a method of manufacturing a ceramic wiring board for optical communication capable of manufacturing an optical communication board. An external connection pad was formed on the lower surface of the ceramic substrate, and an external connection pin was fixed to the external connection pad (bottom). By using a ceramic wiring board for optical communication (blaze type), a large number of external connection pads can be formed, and a large-sized green sheet including a plurality of wiring board portions can be formed at once by a conductor paste for external connection pads. A conductive paste layer such as a layer,
After that, it was found that firing, plating, fixing of external connection pins, etc. could be performed without dividing the large green sheet laminate produced by laminating these green sheets, and the present invention was completed. .

【0014】すなわち本発明に係る光通信用セラミック
配線基板(1)は、基板上面に光通信素子を納めるため
のキャビティが形成され、該キャビティ壁面から前記基
板の端面に通じる配線用貫通孔が形成される一方、基板
下面に外部接続パッドが形成され、該外部接続パッドに
外部接続ピンが固着されていることを特徴としている。
That is, in the ceramic wiring board for optical communication (1) according to the present invention, a cavity for accommodating an optical communication element is formed on the upper surface of the substrate, and a wiring through hole is formed from the cavity wall surface to the end surface of the substrate. On the other hand, an external connection pad is formed on the lower surface of the substrate, and an external connection pin is fixed to the external connection pad.

【0015】上記光通信用セラミック配線基板(1)
は、基板下面に外部接続ピンが固着されるタイプである
ため、従来のサイドブレーズタイプの光通信用セラミッ
ク配線基板と比較して多数の外部接続パッドを形成する
ことができ、光通信素子の端子数の増加に柔軟に対処す
ることができる。また、安価な外部接続ピンを用いるこ
とができるので、安価な光通信用セラミック配線基板と
することができる。
The ceramic wiring board for optical communication (1)
Is a type in which external connection pins are fixed to the lower surface of the substrate, so that a larger number of external connection pads can be formed as compared with a conventional side-blaze type ceramic wiring board for optical communication, and the terminal of the optical communication element can be formed. It is possible to flexibly cope with the increase in the number. In addition, since inexpensive external connection pins can be used, an inexpensive ceramic wiring board for optical communication can be obtained.

【0016】また、本発明に係る光通信用セラミック配
線基板(2)は、上記光通信用セラミック配線基板
(1)において、前記キャビティの内部が階段状に形成
されると共に、階段部にインナパッドが形成され、該イ
ンナパッドと前記外部接続パッドとが内部導体層及びス
ルーホールにより接続されていることを特徴としてい
る。
In the ceramic wiring board for optical communication according to the present invention, in the ceramic wiring board for optical communication (1), the inside of the cavity is formed in a step shape, and the inner pad is formed in the step portion. Is formed, and the inner pad and the external connection pad are connected by an internal conductor layer and a through hole.

【0017】上記光通信用セラミック配線基板(2)に
よれば、前記インナパッドと前記外部接続パッドとが前
記内部導体層及び前記スルーホールを介して接続されて
いるので、前記基板下面に多数の外部接続パッドを形成
する際にも、内部導体層の数を増加させたり、その形状
等を変化させることにより前記インナパッドと前記外部
接続パッドとを接続することができる。
According to the ceramic wiring board for optical communication (2), since the inner pad and the external connection pad are connected via the internal conductor layer and the through hole, a large number of chips are provided on the lower surface of the substrate. Also when forming the external connection pads, the inner pads and the external connection pads can be connected by increasing the number of internal conductor layers or changing the shape or the like.

【0018】また、本発明に係る光通信用セラミック配
線基板の製造方法(1)は、上記光通信用セラミック配
線基板(2)の製造方法において、第1のグリーンシー
トに、ダミー帯域をそれぞれ間に挟んで複数単位の外部
接続パッド用導体ペースト層を所定の配列で形成する第
1の導体ペースト層形成工程と、第2のグリーンシート
に、前記ダミー帯域と同じ配置のダミー帯域をそれぞれ
間に挟み、キャビティ又は該キャビティと配線用貫通孔
とを形成するための開口部を所定の配列で複数単位形成
する開口部形成工程と、前記第2のグリーンシート上に
インナパッド用導体ペースト層、該インナパッド用導体
ペースト層と結合する内部導体層用ペースト層、及び前
記ダミー帯域内に形成されるメッキタイバー用導体ペー
スト層、該メッキタイバー用導体ペースト層と前記内部
導体層用ペースト層との接続部を含むメッキ用導体ペー
スト層をそれぞれ形成する第2の導体ペースト層形成工
程と、前記第2のグリーンシートを含む複数のグリーン
シートを前記第1のグリーンシート上に積層し、グリー
ンシート積層体を作製するグリーンシート積層体作製工
程と、焼結後に配線基板部分とメッキタイバーを含むダ
ミー部分とに分割するため、前記グリーンシート積層体
に前記内部導体層用ペースト層を切断しないように上下
方向から分割溝を形成しておく分割溝形成工程と、を含
むことを特徴としている。
Further, the method (1) for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication according to the present invention is the method for manufacturing a ceramic wiring board (2) for optical communication according to the present invention, wherein a dummy band is provided between the first green sheets. A first conductor paste layer forming step of forming a plurality of units of conductor paste layers for external connection pads in a predetermined arrangement with a dummy band sandwiched between the first band and the second green sheet; An opening forming step of forming a plurality of openings in a predetermined arrangement for forming a sandwich, a cavity or a cavity and a wiring through hole, and a conductive paste layer for an inner pad on the second green sheet; A paste layer for an internal conductor layer to be combined with a conductor paste layer for an inner pad, and a conductor paste layer for a plating tie bar formed in the dummy zone; A second conductive paste layer forming step of forming a conductive paste layer for plating including a connection portion between the conductive paste layer for inverter and the paste layer for the internal conductive layer, and a plurality of green sheets including the second green sheet Stacking on the first green sheet to form a green sheet laminate, and dividing the green sheet into a wiring board portion and a dummy portion including a plating tie bar after sintering. Forming a dividing groove in the body from above and below so as not to cut the paste layer for an internal conductor layer.

【0019】上記光通信用セラミック配線基板の製造方
法(1)によれば、前記第1の導体ペースト層形成工程
において、複数単位の前記外部接続パッド用導体ペース
ト層を所定の配列で形成するので、一度に複数単位の前
記外部接続パッド用導体ペースト層を効率的に形成する
ことができる。
According to the method (1) for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication, a plurality of units of the external connection pad conductive paste layers are formed in a predetermined arrangement in the first conductive paste layer forming step. In addition, a plurality of units of the external connection pad conductor paste layer can be efficiently formed at one time.

【0020】また、前記第1の導体ペースト層形成工
程、前記開口部形成工程、及び前記第2の導体ペースト
層形成工程において、前記第1のグリーンシート及び前
記第2のグリーンシートに、前記ダミー帯域を間に挟ん
で複数単位の前記開口部や前記種々の導体ペースト層を
形成すると共に、前記第2のグリーンシートの前記ダミ
ー帯域に前記メッキ用導体ペースト層を形成するので、
焼成後、製造された配線基板用大型焼結体に形成された
メッキ用導体層を使用して複数の配線基板部分に一度に
メッキ処理を施すことができる。また、形成された複数
単位の外部接続パッドに一度に外部接続ピンを固着する
こともできる。
In the first conductive paste layer forming step, the opening forming step, and the second conductive paste layer forming step, the dummy is added to the first green sheet and the second green sheet. Since the plurality of openings and the various conductor paste layers are formed with a band interposed therebetween, and the plating conductor paste layer is formed in the dummy band of the second green sheet,
After firing, a plurality of wiring board portions can be subjected to plating at one time by using the plating conductor layer formed on the manufactured large-sized sintered body for wiring board. Further, the external connection pins can be fixed to the formed plural external connection pads at a time.

【0021】さらに、前記分割溝形成工程において、前
記グリーンシート積層体に前記内部導体層用ペースト層
を切断しないように上下方向から前記分割溝を形成して
おくので、焼成後の前記配線基板用大型焼結体に少しの
曲げ応力を加えることにより、前記配線基板部分と前記
ダミー部分とに分割することができ、以上の工程によ
り、前記光通信用セラミック配線基板を効率的かつ安価
に製造することができる。
Further, in the dividing groove forming step, the dividing grooves are formed in the green sheet laminate from above and below so as not to cut the paste layer for the internal conductor layer. By applying a small bending stress to the large-sized sintered body, it is possible to divide the wiring board portion and the dummy portion, and to manufacture the optical communication ceramic wiring board efficiently and inexpensively by the above steps. be able to.

【0022】また、本発明に係る光通信用セラミック配
線基板の製造方法(2)は、上記光通信用セラミック配
線基板の製造方法(1)において、前記第2のグリーン
シート端部の前記メッキタイバー用導体ペースト層の端
部に端子部を形成した後、各グリーンシートを積層して
グリーンシート積層体を作製し、該グリーンシート積層
体の前記端子部を含む側壁面にメッキ端子用導体ペース
ト層を形成することを特徴としている。
Further, the method (2) for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication according to the present invention is the method for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication (1), wherein the plating tie bar at the end of the second green sheet is provided. After forming a terminal portion at an end of the conductive paste layer for use, the green sheets are laminated to form a green sheet laminate, and a conductive paste layer for a plating terminal is formed on a side wall surface including the terminal portion of the green sheet laminate. Is formed.

【0023】上記光通信用セラミック配線基板の製造方
法(2)によれば、前記メッキタイバー用導体ペースト
層の端部に前記端子部を形成した後、前記グリーンシー
ト積層体を作製し、該グリーンシート積層体の前記端子
部を含む前記側壁面に前記メッキ端子用導体ペースト層
を形成するので、焼成により形成されたメッキ端子用導
体層を使用することにより、容易にメッキ処理を施すこ
とができる。
According to the method (2) for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication, the terminal portion is formed at an end of the conductive paste layer for a plating tie bar, and then the green sheet laminate is formed. Since the plating terminal conductor paste layer is formed on the side wall surface including the terminal portion of the sheet laminate, the plating process can be easily performed by using the plating terminal conductor layer formed by firing. .

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光通信用セラ
ミック配線基板、及びその製造方法の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図1(a)は実施の形態に係る光
通信用セラミック配線基板を模式的に示した斜視図であ
り、(b)は正面図である。セラミック基板11の上面
18には光通信素子(図示せず)を納めるためのキャビ
ティ12が形成され、キャビティ12の内部には、光通
信用配線(図示せず)を挿通させるために、キャビティ
12の壁面12aからセラミック基板11の端面11a
に通じる配線用貫通孔14が形成されている。前記光通
信素子と前記光通信用配線とはキャビティ12の内部で
結合され、前記光通信用配線を介してレーザ光等の送受
信を行うようになっている。キャビティ12の内部は、
壁面12aを挟んだ両側壁面が階段状に形成され、階段
部13には前記光通信素子の端子と接続するためのイン
ナパッド13aが形成され、このインナパッド13aは
内部導体層17aと接続されている。この内部導体層1
7aは側壁面11bに達しており、内部導体層17aが
側壁面11bに達する構成としているのは、後述する製
造工程において分割前の配線基板用の大型焼結体にメッ
キ処理を施す際に、ダミー部分に形成したメッキ用導体
層(図示せず)と接続するためである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a ceramic wiring board for optical communication according to the present invention and a method for manufacturing the same will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a perspective view schematically showing a ceramic wiring board for optical communication according to an embodiment, and FIG. 1B is a front view. A cavity 12 for accommodating an optical communication element (not shown) is formed on an upper surface 18 of the ceramic substrate 11, and a cavity 12 is formed inside the cavity 12 for inserting an optical communication wiring (not shown). Of the ceramic substrate 11 from the wall surface 12a
Are formed in the through hole 14 for wiring. The optical communication element and the optical communication wiring are coupled inside the cavity 12 so as to transmit and receive laser light and the like via the optical communication wiring. The interior of the cavity 12
Both side walls sandwiching the wall surface 12a are formed in a step-like manner, and an inner pad 13a for connecting to the terminal of the optical communication element is formed in the step portion 13, and the inner pad 13a is connected to the internal conductor layer 17a. I have. This internal conductor layer 1
7a has reached the side wall surface 11b, and the internal conductor layer 17a has reached the side wall surface 11b. This is for connection with the plating conductor layer (not shown) formed in the dummy portion.

【0025】セラミック基板11の下面19には外部接
続パッド15が形成されており、この外部接続パッド1
5にマザーボードに接続するための外部接続ピン16が
ロー付け等により固着されている。内部導体層17aと
外部接続パッド15とはスルーホール17bを介して接
続されている。また、インナパッド13a、外部接続パ
ッド15及び外部接続ピン16には、メッキ処理が施さ
れている。
External connection pads 15 are formed on the lower surface 19 of the ceramic substrate 11.
An external connection pin 16 for connecting to the motherboard is fixed to 5, for example, by brazing. The internal conductor layer 17a and the external connection pad 15 are connected via a through hole 17b. The inner pads 13a, the external connection pads 15, and the external connection pins 16 are plated.

【0026】なお、内部導体層17aやスルーホール1
7bの形状等は、形成する外部接続パッド14の数に応
じて変化させる。この場合、内部導体層17aを複数層
形成してもよく、スルーホール17bの数を増加させて
もよい。
The internal conductor layer 17a and the through hole 1
The shape and the like of 7b are changed according to the number of external connection pads 14 to be formed. In this case, a plurality of internal conductor layers 17a may be formed, and the number of through holes 17b may be increased.

【0027】この光通信用セラミック配線基板10は、
セラミック基板11の下面19に外部接続ピン16が固
着されるボトムブレーズタイプであるため、従来のサイ
ドブレーズタイプの光通信用セラミック配線基板50
(図5)と比較して、下面19に多数の外部接続パッド
15を形成することができ、光通信素子の端子数の増加
にも余裕をもって対処することができる。また、安価な
外部接続ピン16を用いることができるので、安価な光
通信用セラミック配線基板10とすることができる。
This ceramic wiring board 10 for optical communication is
Since the external connection pins 16 are fixed to the lower surface 19 of the ceramic substrate 11, it is a bottom blazed type, and the conventional side blazed type ceramic wiring board for optical communication 50
Compared to (FIG. 5), a large number of external connection pads 15 can be formed on the lower surface 19, and the increase in the number of terminals of the optical communication element can be dealt with with a margin. In addition, since inexpensive external connection pins 16 can be used, the inexpensive ceramic wiring board 10 for optical communication can be obtained.

【0028】次に、光通信用セラミック配線基板10の
製造方法を説明する。光通信用セラミック配線基板10
の製造工程は、第1の導体ペースト層形成工程、開口部
形成工程、第2の導体ペースト層形成工程、グリーンシ
ート積層体作製工程、及び分割溝形成工程を含んで構成
されている。以下、これらの工程を含む製造工程を順次
説明する。
Next, a method for manufacturing the ceramic wiring board 10 for optical communication will be described. Ceramic wiring board for optical communication 10
Comprises a first conductive paste layer forming step, an opening forming step, a second conductive paste layer forming step, a green sheet laminate production step, and a dividing groove forming step. Hereinafter, the manufacturing steps including these steps will be sequentially described.

【0029】図2は、前記第1の導体ペースト層形成工
程が終了した状態の第1のグリーンシートを模式的に示
した平面図である。前記第1の導体ペースト層形成工程
では、第1のグリーンシート31に、ダミー帯域33a
をそれぞれ間に挟んで複数単位の外部接続パッド用導体
ペースト層32を、縦に2単位づつ横に3列形成し、第
1のグリーンシート31の周囲にもダミー帯域33bを
形成する。外部接続パッド用導体ペースト層32の形状
や数は必要に応じて変化させればよい。なお、2点鎖線
は分割溝24を形成する部分を示し、分割溝24に囲ま
れ、内部に外部接続パッド用導体ペースト層32が形成
された部分が配線基板部分36に相当する。また、図2
には示していないが、第1のグリーンシート31の内部
に外部接続パッド用導体ペースト層32と結合するスル
ーホール用導体ペースト充填層を形成しておく。
FIG. 2 is a plan view schematically showing the first green sheet in a state where the first conductive paste layer forming step has been completed. In the first conductive paste layer forming step, the dummy band 33a is formed on the first green sheet 31.
Are formed, three units of the conductor paste layer 32 for external connection pads are formed in three rows in two units vertically, and a dummy band 33b is also formed around the first green sheet 31. The shape and number of the external connection pad conductor paste layers 32 may be changed as necessary. Note that the two-dot chain line indicates a portion where the dividing groove 24 is formed, and the portion surrounded by the dividing groove 24 and having the external connection pad conductor paste layer 32 formed therein corresponds to the wiring board portion 36. FIG.
Although not shown, a conductive paste filling layer for through-holes to be connected to the conductive paste layer for external connection pads 32 is formed inside the first green sheet 31.

【0030】図3は、前記開口部形成工程、及び前記第
2の導体ペースト層形成工程が終了した状態の第2のグ
リーンシートを模式的に示した平面図である。前記開口
部形成工程では、第2のグリーンシート41に、ダミー
帯域43aをそれぞれ間に挟み、キャビティ12と配線
用貫通孔14(図1)とを形成するための開口部42
を、縦に2単位づつ横に3列形成する。次に、前記第2
の導体ペースト層形成工程では、第2のグリーンシート
41上にインナパッド用導体ペースト層44、インナパ
ッド用導体ペースト層44と結合する内部導体層用ペー
スト層45、及びダミー帯域43a内に形成されるメッ
キタイバー用導体ペースト層47a、メッキタイバー用
導体ペースト層47aと内部導体層用ペースト層45と
の接続部47bを含むメッキ用導体ペースト層47をそ
れぞれ形成する。また、メッキタイバー用導体ペースト
層47aの端部に端子部47cを形成する。実際には、
スクリーン印刷等の方法により、1回の印刷で上記した
全ての導体ペースト層を形成することができる。また、
インナパッド用導体ペースト層44の部分のみを組成の
異なる導体ペーストを使用して印刷してもよい。なお、
図3には示していないが、第1のグリーンシート31の
場合と同様に、内部に内部導体層用ペースト層45及び
第1のグリーンシート31に形成したスルーホール用導
体ペースト充填層と結合するスルーホール用導体ペース
ト充填層を形成しておく。
FIG. 3 is a plan view schematically showing the second green sheet after the opening forming step and the second conductive paste layer forming step have been completed. In the opening forming step, an opening 42 for forming the cavity 12 and the wiring through hole 14 (FIG. 1) in the second green sheet 41 with the dummy bands 43a interposed therebetween.
Are formed three rows horizontally by two units vertically. Next, the second
In the conductor paste layer forming step, the conductor paste layer 44 for the inner pad, the paste layer 45 for the internal conductor layer to be connected to the conductor paste layer for the inner pad 44, and the dummy band 43a are formed on the second green sheet 41. The plating tie bar conductor paste layer 47a and the plating conductor paste layer 47 including the connection portion 47b between the plating tie bar conductor paste layer 47a and the internal conductor layer paste layer 45 are formed. Further, a terminal portion 47c is formed at an end of the plating tie bar conductive paste layer 47a. actually,
By a method such as screen printing, all the above-mentioned conductor paste layers can be formed by one printing. Also,
Only the portion of the inner pad conductor paste layer 44 may be printed using conductor paste having a different composition. In addition,
Although not shown in FIG. 3, similarly to the case of the first green sheet 31, it is combined with the internal conductor layer paste layer 45 and the through-hole conductor paste filling layer formed on the first green sheet 31. A conductive paste filling layer for through holes is formed in advance.

【0031】次に、グリーンシート積層体作製工程にお
いて、第2のグリーンシート41を含む複数のグリーン
シートを、外部接続パッド用導体ペースト層32が形成
された面を下にした第1のグリーンシート31上に積層
してグリーンシート積層体20(図4)を作製し、グリ
ーンシート積層体20の側壁面20aの端子部47cが
露出している部分にメッキ端子用導体ペースト層21を
形成する。
Next, in the green sheet laminate manufacturing step, the plurality of green sheets including the second green sheet 41 are placed on the first green sheet with the surface on which the external connection pad conductive paste layer 32 is formed facing downward. The green sheet laminate 20 (FIG. 4) is formed by laminating the green sheet laminate 31 on the base 31, and the conductive paste layer 21 for plating terminals is formed on the portion of the side wall surface 20 a of the green sheet laminate 20 where the terminal portion 47 c is exposed.

【0032】図4(a)は、前記グリーンシート積層体
作製工程、及び前記分割溝形成工程が終了した状態のグ
リーンシート積層体20を模式的に示した平面図であ
り、(b)は正面図である。
FIG. 4A is a plan view schematically showing the green sheet laminate 20 in a state where the green sheet laminate production step and the division groove forming step have been completed, and FIG. 4B is a front view. FIG.

【0033】前記グリーンシート積層体作製工程を経た
グリーンシート積層体20の上面29aにはキャビティ
用凹部22が複数個形成され、キャビティ用凹部22の
内部の階段部23にはインナパッド用導体ペースト層4
4が形成され、キャビティ用凹部22内には焼成後に配
線用貫通孔14(図1)となる空洞部25が形成されて
いる。グリーンシート積層体20の下面29bには、外
部接続パッド用導体ペースト層32が形成されている。
グリーンシート積層体20の内部には、内部導体層用ペ
ースト層45、及びメッキタイバー用導体ペースト層4
7aと接続部47bとを含むメッキ用導体ペースト層4
7等が形成されており、さらに内部導体層用ペースト層
45と外部接続パッド用導体ペースト層32とを結合す
るスルーホール用導体ペースト充填層26が形成されて
いる。
A plurality of cavity recesses 22 are formed on the upper surface 29a of the green sheet laminate 20 having undergone the green sheet laminate production step, and a step 23 inside the cavity recess 22 has a conductive paste layer for an inner pad. 4
4 are formed, and a cavity 25 that becomes the wiring through-hole 14 (FIG. 1) after firing is formed in the cavity recess 22. On the lower surface 29b of the green sheet laminate 20, a conductor paste layer 32 for external connection pads is formed.
Inside the green sheet laminate 20, a paste layer 45 for the internal conductor layer and a conductor paste layer 4 for the plating tie bar are provided.
7a and plating conductor paste layer 4 including connection portion 47b
7 and the like, and a conductive paste filling layer 26 for through-holes that couples the internal conductive layer paste layer 45 and the external connection pad conductive paste layer 32 is formed.

【0034】前記分割溝形成工程では、内部導体層用ペ
ースト層45を切断しないように上下方向から分割溝2
4を形成する。前記処理により、配線基板部分27とダ
ミー部分28a、28bとが分割溝24により区分され
る。
In the dividing groove forming step, the dividing grooves 2 are vertically arranged so as not to cut the internal conductor layer paste layer 45.
4 is formed. By the above processing, the wiring board portion 27 and the dummy portions 28a and 28b are separated by the dividing grooves 24.

【0035】この後、グリーンシート積層体20に脱脂
処理、及び焼成処理を施すことにより配線基板用大型焼
結体を製造する。この配線基板用大型焼結体には、側壁
面にメッキ端子用導体層が形成されているので、前記配
線基板用大型焼結体をNiメッキ用のメッキ浴に浸漬し
た後、前記メッキ端子用導体層を使用して電解Niメッ
キ処理を施し、外部接続パッド15及びインナパッド1
3aにNiメッキ層を形成する。
Thereafter, the green sheet laminate 20 is subjected to a degreasing treatment and a baking treatment to produce a large-sized sintered body for a wiring board. Since the conductor layer for a plating terminal is formed on the side wall surface of the large-sized sintered body for a wiring board, the large-sized sintered body for a wiring board is immersed in a plating bath for Ni plating. Electrolytic Ni plating is performed using the conductor layer, and the external connection pads 15 and the inner pads 1 are formed.
A Ni plating layer is formed on 3a.

【0036】次に、外部接続パッド15に外部接続ピン
16をロー付けする。この際には外部接続パッド15に
ロー付け用ペーストを塗布した後、炭素板等に形成した
穴に多数の外部接続ピンを立て、この外部接続ピンの上
に外部接続パッド15が位置するように前記配線基板用
大型焼結体を載置し、その後に加熱処理を施すことによ
り一度に外部接続ピン16の固着を行うことができる。
Next, the external connection pins 16 are soldered to the external connection pads 15. In this case, after the paste for brazing is applied to the external connection pads 15, a number of external connection pins are set up in holes formed in the carbon plate or the like, and the external connection pads 15 are positioned on the external connection pins. The external connection pins 16 can be fixed at a time by mounting the large-sized sintered body for a wiring substrate and then performing a heat treatment.

【0037】次に、外部接続ピン16がロー付けされた
前記配線基板用大型焼結体をAuメッキ用のメッキ浴に
浸漬し、前記メッキ端子用導体層を使用して電解Auメ
ッキ処理を施し、外部接続パッド15、インナパッド1
3a、及び外部接続ピン16にAuメッキ層を形成す
る。
Next, the large-sized sintered body for a wiring board to which the external connection pins 16 are brazed is immersed in a plating bath for Au plating, and is subjected to electrolytic Au plating using the plated terminal conductor layer. , External connection pad 15, inner pad 1
An Au plating layer is formed on 3 a and the external connection pins 16.

【0038】その後、前記配線基板用大型焼結体に曲げ
応力を加えて、配線基板部分とダミー部分とに分割し、
研磨等の後処理を施すことにより光通信用セラミック基
板10の製造工程を終了する。
Thereafter, a bending stress is applied to the large-sized sintered body for a wiring board to divide it into a wiring board portion and a dummy portion.
By performing post-processing such as polishing, the manufacturing process of the optical communication ceramic substrate 10 is completed.

【0039】上記実施の形態に係る光通信用セラミック
配線基板10の製造方法によれば、前記第1の導体ペー
スト層形成工程において、第1のグリーンシート31に
複数単位の外部接続パッド用導体ペースト層32を所定
の配列で形成するので、一度に外部接続パッド用導体ペ
ースト層32を効率的に形成することができる。
According to the method of manufacturing the ceramic wiring board 10 for optical communication according to the above-described embodiment, in the first conductive paste layer forming step, a plurality of units of the conductive paste for external connection pads are formed on the first green sheet 31. Since the layers 32 are formed in a predetermined arrangement, the external connection pad conductor paste layer 32 can be efficiently formed at one time.

【0040】また、前記第1の導体ペースト層形成工
程、前記開口部形成工程、及び前記第2の導体ペースト
層形成工程において、第1のグリーンシート31及び第
2のグリーンシート41に、ダミー帯域33a、33
b、43a、43bを間に挟んで複数単位の開口部42
や種々の導体ペースト層を形成すると共に、第2のグリ
ーンシート41の端部に端子部47cを形成し、グリー
ンシート積層体20側壁面20aの端子部47cが露出
している部分にメッキ端子用導体ペースト層21を形成
するので、焼成後、製造された配線基板用大型焼結体に
形成されたメッキ端子用導体層を使用して複数の配線基
板部分に一度にメッキ処理を施すことができる。また、
複数単位の外部接続パッド15に一度に外部接続ピン1
6を固着することもできる。
In the first conductive paste layer forming step, the opening forming step, and the second conductive paste layer forming step, the first green sheet 31 and the second green sheet 41 are provided with a dummy band. 33a, 33
b, 43a, 43b, a plurality of openings 42
And various conductive paste layers, and a terminal portion 47c is formed at an end of the second green sheet 41, and a portion of the side wall surface 20a of the green sheet laminate 20 where the terminal portion 47c is exposed is used for plating terminals. Since the conductive paste layer 21 is formed, a plurality of wiring board portions can be subjected to plating at once by using the plated terminal conductive layer formed on the manufactured large-sized sintered body for a wiring board after firing. . Also,
The external connection pins 1 are connected to the external connection pads 15
6 can be fixed.

【0041】さらに、前記分割溝形成工程において、グ
リーンシート積層体20に内部導体層用ペースト層45
を切断しないように上下方向から分割溝24を形成して
おくので、前記配線基板用大型焼結体に少しの曲げ応力
を加えることにより、前記配線基板部分と前記ダミー部
分とに分割することができ、光通信用セラミック配線基
板10を効率的かつ安価に製造することができる。
Further, in the dividing groove forming step, the paste layer 45 for the internal conductor layer is added to the green sheet laminate 20.
Since the dividing groove 24 is formed from above and below so as not to cut the wiring board, it is possible to divide the wiring board portion and the dummy portion by applying a small bending stress to the large-sized sintered body for a wiring board. Thus, the ceramic wiring board for optical communication 10 can be manufactured efficiently and at low cost.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明に係る光通信用セラミック配線
基板、及びその製造方法の実施例を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a ceramic wiring board for optical communication according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described below.

【0043】<製造条件> (1) グリーンシート積層体20の作製 グリーンシート(第1のグリーンシート31、第2のグ
リーンシート41を含む) アルミナ粉末、樹脂、溶剤、可塑剤 導体ペースト(インナパッド用、内部導体層用、メッキ
用、スルーホール用) 金属粒子(Mo粒子)、樹脂、溶剤 導体ペースト(外部接続パッド用) 金属粒子(W粒子)、樹脂、有機溶剤 積層するグリーンシートの枚数:7枚 (2) 作製したグリーンシート積層体20(図4)の
形状等 グリーンシート積層体20の外形 40mm×45mm×4mm 配線基板部分27の数:6個 配線基板部分27の外形 15mm×9mm×4mm キャビティ用凹部22の形状 9mm×6mm×2mm 空洞部25の形状 1mm×1mm×5mm ダミー部分28aの形状 35mm×4mm×4mm (3) グリーンシート積層体20の焼成 焼成温度:1550℃、焼成雰囲気:窒素と水素の混合
ガス雰囲気 <光通信用セラミック配線基板10の導通抵抗の測定>
インナパッド13aと外部接続ピン16との間の導通抵
抗を測定したところ、全く問題のない値であり、完全に
導通していることがわかった。
<Manufacturing conditions> (1) Production of green sheet laminate 20 Green sheet (including first green sheet 31 and second green sheet 41) Alumina powder, resin, solvent, plasticizer, conductor paste (inner pad) Metal particles (Mo particles), resin, solvent Conductive paste (for external connection pads) Metal particles (W particles), resin, organic solvent Number of green sheets to be laminated: 7 sheets (2) Shape and the like of the manufactured green sheet laminate 20 (FIG. 4) Outer shape of the green sheet laminate 20 40 mm × 45 mm × 4 mm Number of wiring board portions 27: 6 Outer shape of wiring board portion 27 15 mm × 9 mm × 4 mm Shape of cavity concave portion 22 9 mm × 6 mm × 2 mm Shape of cavity 25 1 mm × 1 mm × 5 mm Shape of dummy portion 28 a 35 mm × 4 mm × 4 mm (3) Firing of green sheet laminate 20 Firing temperature: 1550 ° C., firing atmosphere: mixed gas atmosphere of nitrogen and hydrogen <Measurement of conduction resistance of ceramic wiring substrate 10 for optical communication>
When the conduction resistance between the inner pad 13a and the external connection pin 16 was measured, it was a value having no problem at all, and it was found that the conduction was complete.

【0044】上記実施例によれば、実施例に係る光通信
用セラミック配線基板10をボトムブレーズタイプとす
ることにより、この光通信用セラミック配線基板10の
製造工程において、複数単位の配線基板部分36、46
を含む大型のグリーンシート(第1のグリーンシート3
1、第2のグリーンシート41)に、一度に外部接続パ
ッド用導体ペースト層32等の導体ペースト層を形成す
ることができる。また、これらグリーンシートを積層す
ることにより作製されたグリーンシート積層体20を分
割することなく焼成処理を施すことができ、その後もメ
ッキ処理や外部接続ピン16の固着等を行うことができ
るため、効率的かつ安価に光通信用セラミック配線基板
10を製造することができる。
According to the above embodiment, the ceramic wiring board 10 for optical communication according to the embodiment is of a bottom blazed type, so that a plurality of wiring board portions 36 are formed in the manufacturing process of the ceramic wiring board 10 for optical communication. , 46
Large green sheet (first green sheet 3
A conductive paste layer such as the external connection pad conductive paste layer 32 can be formed on the first and second green sheets 41) at a time. Further, since the green sheet laminate 20 produced by laminating these green sheets can be subjected to a baking treatment without dividing, the plating treatment and the fixing of the external connection pins 16 can be performed thereafter. The ceramic wiring board 10 for optical communication can be manufactured efficiently and inexpensively.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明の実施の形態に係る光通信用セ
ラミック配線基板を模式的に示した斜視図であり、
(b)は正面図である。
FIG. 1A is a perspective view schematically showing a ceramic wiring board for optical communication according to an embodiment of the present invention;
(B) is a front view.

【図2】第1の導体ペースト層形成工程が終了した状態
の第1のグリーンシートを模式的に示した平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view schematically showing a first green sheet in a state where a first conductive paste layer forming step has been completed.

【図3】開口部形成工程、及び第2の導体ペースト層形
成工程が終了した状態の第2のグリーンシートを模式的
に示した平面図である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a second green sheet in a state where an opening forming step and a second conductive paste layer forming step are completed.

【図4】(a)は、グリーンシート積層体作製工程、及
び分割溝形成工程が終了した状態のグリーンシート積層
体を模式的に示した平面図であり、(b)は正面図であ
る。
FIG. 4A is a plan view schematically showing a green sheet laminate in a state where a green sheet laminate production step and a division groove forming step are completed, and FIG. 4B is a front view.

【図5】(a)は従来の光通信用セラミック配線基板を
模式的に示した斜視図であり、(b)は正面図である。
FIG. 5A is a perspective view schematically showing a conventional ceramic wiring board for optical communication, and FIG. 5B is a front view.

【図6】(a)〜(d)は光通信用セラミック配線基板
を製造する際の工程の一部を模式的に示した斜視図であ
る。
FIGS. 6A to 6D are perspective views schematically showing a part of a process when manufacturing a ceramic wiring board for optical communication.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 光通信用セラミック配線基板 11 セラミック基板 11a 端面 12 キャビティ 12a 壁面 13 階段部 13a インナパッド 14 配線用貫通孔 15 外部接続パッド 16 外部接続ピン 17a 内部導体層 17b スルーホール 18 上面 19 下面 20 グリーンシート積層体 20a 側壁面 21 メッキ端子用導体ペースト層 24 分割溝 31 第1のグリーンシート 32 外部接続パッド用導体ペースト層 33a、33b、43a、43b ダミー帯域 41 第2のグリーンシート 42 開口部 44 インナパッド用導体ペースト層 45 内部導体層用ペースト層 47 メッキ用導体ペースト層 47a メッキタイバー用導体ペースト層 47b 接続部 47c 端子部 Reference Signs List 10 ceramic wiring substrate for optical communication 11 ceramic substrate 11a end face 12 cavity 12a wall surface 13 step 13a inner pad 14 wiring through hole 15 external connection pad 16 external connection pin 17a internal conductor layer 17b through hole 18 upper surface 19 lower surface 20 lower surface green sheet lamination Body 20a Side wall surface 21 Conductive paste layer for plating terminal 24 Dividing groove 31 First green sheet 32 Conductive paste layer for external connection pad 33a, 33b, 43a, 43b Dummy band 41 Second green sheet 42 Opening 44 For inner pad Conductive paste layer 45 Paste layer for internal conductor layer 47 Conductive paste layer for plating 47a Conductive paste layer for plating tie bar 47b Connection 47c Terminal

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上面に光通信素子を納めるためのキ
ャビティが形成され、該キャビティ壁面から前記基板の
端面に通じる配線用貫通孔が形成される一方、基板下面
に外部接続パッドが形成され、該外部接続パッドに外部
接続ピンが固着されていることを特徴とする光通信用セ
ラミック配線基板。
A cavity for receiving an optical communication element is formed on an upper surface of a substrate; a through hole for wiring is formed from a wall surface of the cavity to an end surface of the substrate; external connection pads are formed on a lower surface of the substrate; An external connection pin is fixed to the external connection pad.
【請求項2】 前記キャビティの内部が階段状に形成さ
れると共に、階段部にインナパッドが形成され、該イン
ナパッドと前記外部接続パッドとが内部導体層及びスル
ーホールにより接続されていることを特徴とする請求項
1記載の光通信用セラミック配線基板。
2. The method according to claim 1, wherein the inside of the cavity is formed in a step shape, an inner pad is formed in the step portion, and the inner pad and the external connection pad are connected by an internal conductor layer and a through hole. The ceramic wiring board for optical communication according to claim 1, wherein:
【請求項3】 第1のグリーンシートに、ダミー帯域を
それぞれ間に挟んで複数単位の外部接続パッド用導体ペ
ースト層を所定の配列で形成する第1の導体ペースト層
形成工程と、 第2のグリーンシートに、前記ダミー帯域と同じ配置の
ダミー帯域をそれぞれ間に挟み、キャビティ又は該キャ
ビティと配線用貫通孔とを形成するための開口部を所定
の配列で複数単位形成する開口部形成工程と、 前記第2のグリーンシート上にインナパッド用導体ペー
スト層、該インナパッド用導体ペースト層と結合する内
部導体層用ペースト層、及び前記ダミー帯域内に形成さ
れるメッキタイバー用導体ペースト層、該メッキタイバ
ー用導体ペースト層と前記内部導体層用ペースト層との
接続部を含むメッキ用導体ペースト層をそれぞれ形成す
る第2の導体ペースト層形成工程と、 前記第2のグリーンシートを含む複数のグリーンシート
を前記第1のグリーンシート上に積層し、グリーンシー
ト積層体を作製するグリーンシート積層体作製工程と、 焼結後に配線基板部分とメッキタイバーを含むダミー部
分とに分割するため、前記グリーンシート積層体に前記
内部導体層用ペースト層を切断しないように上下方向か
ら分割溝を形成しておく分割溝形成工程と、 を含むことを特徴とする請求項2記載の光通信用セラミ
ック配線基板の製造方法。
3. A first conductive paste layer forming step of forming a plurality of units of external connection pad conductive paste layers in a predetermined arrangement on a first green sheet with dummy bands interposed therebetween; An opening forming step of forming a plurality of openings in a predetermined arrangement for forming the cavity or the cavity and the wiring through-hole in the green sheet, with the dummy band having the same arrangement as the dummy band interposed therebetween, and A conductive paste layer for an inner pad on the second green sheet, a paste layer for an internal conductive layer bonded to the conductive paste layer for the inner pad, and a conductive paste layer for a plating tie bar formed in the dummy zone; Second conductors each forming a plating conductor paste layer including a connection portion between the plating tie bar conductor paste layer and the internal conductor layer paste layer A green sheet laminate forming step of forming a green sheet laminate by laminating a plurality of green sheets including the second green sheet on the first green sheet, and a wiring board after sintering. Forming a dividing groove in the green sheet laminate from above and below so as not to cut the internal conductor layer paste layer in order to divide the portion into a dummy portion including a plating tie bar. 3. The method for manufacturing a ceramic wiring board for optical communication according to claim 2, wherein:
【請求項4】 前記第2のグリーンシート端部の前記メ
ッキタイバー用導体ペースト層の端部に端子部を形成し
た後、各グリーンシートを積層してグリーンシート積層
体を作製し、該グリーンシート積層体の前記端子部を含
む側壁面にメッキ端子用導体ペースト層を形成すること
を特徴とする請求項3記載の光通信用セラミック配線基
板の製造方法。
4. After forming a terminal portion at an end of the plating tie bar conductive paste layer at an end of the second green sheet, the green sheets are laminated to produce a green sheet laminate. 4. The method of manufacturing a ceramic wiring board for optical communication according to claim 3, wherein a conductor paste layer for a plated terminal is formed on a side wall surface including the terminal portion of the laminate.
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