JPH11339257A - Manufacture of magnetic record medium - Google Patents

Manufacture of magnetic record medium

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JPH11339257A
JPH11339257A JP14243798A JP14243798A JPH11339257A JP H11339257 A JPH11339257 A JP H11339257A JP 14243798 A JP14243798 A JP 14243798A JP 14243798 A JP14243798 A JP 14243798A JP H11339257 A JPH11339257 A JP H11339257A
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JP
Japan
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laser
bump
optical system
laser beam
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP14243798A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiji Imamura
清治 今村
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11339257A publication Critical patent/JPH11339257A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the throughput processing capability by providing the mechanism in which two condensing spots are obtained by bisecting laser beams and a bump rack pitch, that is obtained on the surface of a disk in its radial direction, is set arbitrarily. SOLUTION: Laser light beams 2, emitted from a Q switch pulse oscillating type laser oscillator 1, are passed through an expander mirror 3, reflected by a bending mirror 4, made incident on a beam splitter optical system 9, bisected by a half mirror 14, irradiated on a disk 6 as condensed light spots 11 and 10 by processing lenses 18 and 20 and bumps are formed. Thus, the throughput processing capability, that is determined by the repetitive frequency of a Q switch, is practically doubled by bisecting the laser light beams and arbitrarily varying a bump rack pitch Pr. For example, in order to set the bump pitch (radial direction Pr circumferential direction Pθ) to 40 μm/40 μm, an rotating angle θ is adjusted so as to make Pr=40 μm and the amount of the movement for an X stage 8 is set to an 80 μm pitch.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等の
磁気記録媒体の製造方法に関し、特に媒体表面に凹凸面
を反映させるためのレーザ光を用いたテクスチャー加工
工程に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium such as a magnetic disk, and more particularly to a texture processing step using a laser beam for reflecting an uneven surface on a medium surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】固定磁気ディスク装置においては、ディ
スク停止時には、磁気ヘッドスライダーがディスク内周
側のCSS(コンタクト・スタート・ストップ)領域で
接触状態にあり、稼働時にのみ磁気ヘッドスライダーが
空気膜の作用でディスク表面から僅かに浮上して、ディ
スク外周側のデータ領域で情報の読み取り動作または書
き込み動作を行うCSS方式が主として採用されてい
る。
2. Description of the Related Art In a fixed magnetic disk drive, when the disk is stopped, the magnetic head slider is in contact with a CSS (contact start / stop) area on the inner peripheral side of the disk. The CSS system which slightly floats from the disk surface by the action and performs an information reading operation or a writing operation in a data area on the outer peripheral side of the disk is mainly adopted.

【0003】CSS領域では、ヘッド接触摺動ーヘッド
浮上ーヘッド接触摺動が繰り返し行われるため、記録密
度の向上を図るにはディスクの高速回転化とヘッド浮上
高さの低減化が必要であることから、摺動の耐久性や安
定性が要求されている。これらの要求を満たすには、デ
ィスク表面の保護膜、潤滑膜の特性と並んで、ディスク
表面の粗面化による摩擦係数の低減化が求められる。
In the CSS area, head contact sliding, head floating, and head contact sliding are repeatedly performed. Therefore, in order to increase the recording density, it is necessary to rotate the disk at a high speed and reduce the head flying height. In addition, durability and stability of sliding are required. In order to satisfy these requirements, it is required to reduce the coefficient of friction by roughening the disk surface along with the properties of the protective film and the lubricating film on the disk surface.

【0004】このディスク表面の粗面化処理はテクスチ
ャー加工と呼ばれ、基板表面に所定の凹凸形状を付与す
るものである。磁気ディスクには一般的にアルミニウム
基板が用いられるが、近年では、平坦度、剛性等に優れ
ているガラス基板も用いられるようになっている。アル
ミニウム基板の場合、テクスチャー加工方法としては機
械的研磨が主流であるが、ガラス基板の場合、リソグラ
フィー、印刷技術を用いたエッチング、あるいはフィル
ムテクスチャーと呼ばれるスパッタ技術などが知られて
いる。さらに昨今では、上述の湿式あるいは複雑工程プ
ロセスを経ないでテクスチャー加工が可能な乾式テクス
チャー加工が主流を占めるようになってきた。
[0004] The surface roughening treatment of the disk surface is called texture processing, and is to impart a predetermined uneven shape to the substrate surface. Generally, an aluminum substrate is used for a magnetic disk. In recent years, a glass substrate having excellent flatness and rigidity has been used. In the case of an aluminum substrate, mechanical polishing is mainly used as a texture processing method, but in the case of a glass substrate, lithography, etching using a printing technique, or a sputtering technique called a film texture is known. Further, in recent years, dry texturing, which can perform texturing without going through the above-mentioned wet or complicated process, has become the mainstream.

【0005】すなわち、この乾式テクスチャー加工は、
レーザ光を集光して微小スポットにして基板表面にパル
ス照射し、溶融凝固させてバンプ(凹凸部)を生成する
ものである。基板の表面材質に合わせてレーザ種、波
長、レーザ出力などを選定することで所定のバンプ形状
を得ることが可能である。このレーザテクスチャー加工
は、Ni Pメッキ皮膜付アルミニウム基板にはごく一般
的に用いられる技術となっており、さまざまなバンプ形
状を得ることができる。図3(a)〜(d)は、レーザ
バンプ形成された種々の形状の断面図である。これらの
形状は、レーザのエネルギー密度(またはパワー密
度)、レーザのパルス幅や波長、基板とレーザ光との相
対速度などの組合せにより決定される。例えば、Ni P
メッキ皮膜付アルミニウム基板の場合、バンプを形成す
る加工条件としては、レーザ種はNd:YVO4 レーザの
Qスイッチパルス発振型で、波長は1.06μm 、パル
ス幅は20〜150nsec(〜350nsec)、レーザ光の
集光スポット径は5〜30μm 、レーザのパルスエネル
ギーは0.5〜10μJ/P、パルス繰り返し周波数は
10〜100 kHZ の範囲で、バンプ径φ(図3(a)
の場合は突起頂点間の距離、図3(b)〜(d)の場合
は最外周の突起頂点間の距離)は4〜25μm 、バンプ
高さh(図3(a)の場合は基板表面と突起頂点との距
離、図3(b)〜(d)の場合は基板表面と最高突起頂
点との距離)は70〜1000Åのバンプが形成され
る。
[0005] That is, this dry texture processing is
The laser beam is condensed to form a minute spot, and the surface of the substrate is pulse-irradiated and melted and solidified to generate a bump (uneven portion). A predetermined bump shape can be obtained by selecting a laser type, a wavelength, a laser output, and the like according to the surface material of the substrate. This laser texturing is a technique generally used for an aluminum substrate with a NiP plating film, and various bump shapes can be obtained. FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views of various shapes formed with laser bumps. These shapes are determined by a combination of the energy density (or power density) of the laser, the pulse width and wavelength of the laser, the relative speed between the substrate and the laser light, and the like. For example, Ni P
In the case of an aluminum substrate with a plating film, the processing conditions for forming a bump include a laser type of a Q-switch pulse oscillation type of a Nd: YVO 4 laser, a wavelength of 1.06 μm, a pulse width of 20 to 150 nsec (up to 350 nsec), laser beam focusing spot diameter is 5 to 30 [mu] m, the pulse energy of the laser in the range of 0.5~10μJ / P, the pulse repetition frequency is 10 to 100 kH Z, a bump diameter phi (FIGS. 3 (a)
In the case of (a), the distance between the protrusion vertices, in the case of FIGS. 3 (b) to (d), the distance between the outermost protrusion vertices) is 4 to 25 μm, and the bump height h (in the case of FIG. 3 (b) to 3 (d), the distance between the substrate surface and the highest protrusion vertex (FIGS. 3 (b) to 3 (d)) is 70 to 1000 °.

【0006】このときのレーザテクスチャーを行う従来
のレーザ光学システムの構成図を図4に示す。図4にお
いて、1はQスイッチパルス発振型レーザ発振器、2は
レーザ光、3はエキスパンダレンズ、4はベンドミラ
ー、5は加工レンズ、6はディスク、7はスピンドルモ
ータ、8はXステージである。Qスイッチパルス発振型
レーザ発振器1から発振したレーザ光2は、エキスパン
ダレンズ3を通過して適当な倍率のレーザ光の直径に変
換され、ベンドミラー4で反射され、加工レンズ5で集
光され、ディスク6の表面上に微小スポットとなって照
射される。このとき、ディスク6は、スピンドルモータ
7によって回転させられている。また、同時にスピンド
ルモータ7は、Xステージ8によってディスク6の内周
側から外周側に向かって移動させられる。こうして、レ
ーザ光照射によって得られたレーザバンプは、とぐろを
巻くようにしてバンプのトラックが形成される。このと
き、バンプの半径方向および円周方向のピッチ(バンプ
とバンプの距離)は、通常、Xステージ8の移動速度お
よびディスク6の回転速度によって決まる。ここで、バ
ンプピッチ(半径方向:Pr /円周方向:Pθ)を形成
する場合、例えばバンプ径φを10μm 、バンプ高さh
を230Å、バンプピッチを40μm /50μm 、Qス
イッチのパルス繰り返し周波数を70 kHZ と最適化さ
れた場合、このディスクのレーザバンプ形成のためのス
ループットは、Qスイッチのパルス繰り返し周波数70
kHZ で決まってしまう。すなわち、一定のCSS領
域、バンプピッチにおいては、いかに高速度のパルスで
バンプを形成するかにかかってくる。ところが、スルー
プットを上げるためにはレーザの1パルス当たりのレー
ザ出力条件を変えずにパルス繰り返し周波数を上げる必
要があるが、実際にはQスイッチ発振型レーザでは、パ
ルス繰り返し周波数を上げるとレーザ出力条件も変わっ
てしまうため簡単には変えることができない。また、バ
ンプピッチはCSS領域の摩擦特性や吸着力特性との係
わりにより簡単にピッチ幅を広げることはできない。通
常、バンプ形成のためのスループットは、バンプ高さ、
バンプ径、バンプピッチの決定が優先されるため(バン
プ形成のレーザ出力の最適条件化)、結果的にそのとき
のパルス繰り返し周波数が、例えば30 kHZ 、70 k
Z 、90 kHZ というように決まる。従って、90 k
Z に決まった場合は、これがスループットの最大処理
能力となる。もちろん、スループットの向上にはディス
クを交換する際のハンドリング速度の高速化も考えられ
るが、通常ハンドリング速度は処理可能な最大速度のレ
ベルに設定されている。
FIG. 4 shows a configuration diagram of a conventional laser optical system for performing laser texture at this time. In FIG. 4, 1 is a Q-switch pulse oscillation type laser oscillator, 2 is a laser beam, 3 is an expander lens, 4 is a bend mirror, 5 is a processing lens, 6 is a disk, 7 is a spindle motor, and 8 is an X stage. . A laser beam 2 oscillated from a Q-switch pulse oscillation type laser oscillator 1 passes through an expander lens 3, is converted into a laser beam having an appropriate magnification, is reflected by a bend mirror 4, and is condensed by a processing lens 5. The light is irradiated on the surface of the disk 6 as a minute spot. At this time, the disk 6 is being rotated by the spindle motor 7. At the same time, the spindle motor 7 is moved by the X stage 8 from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the disk 6. Thus, the tracks of the bumps are formed by winding the laser bumps obtained by the laser beam irradiation. At this time, the pitch of the bumps in the radial direction and the circumferential direction (distance between the bumps) is usually determined by the moving speed of the X stage 8 and the rotating speed of the disk 6. Here, when forming the bump pitch (radial direction: Pr / circumferential direction: Pθ), for example, the bump diameter φ is 10 μm and the bump height h is
The 230 Å, the bump pitch 40 [mu] m / 50 [mu] m, when it is 70 kH Z and optimize pulse repetition frequency of the Q switch, the throughput for the laser bump forming the disk, the Q-switched pulse repetition frequency 70
It will determined by the kH Z. That is, in a fixed CSS region and a constant bump pitch, it depends on how high-speed a pulse is formed. However, in order to increase the throughput, it is necessary to increase the pulse repetition frequency without changing the laser output condition per pulse of the laser. However, in a Q-switch oscillation type laser, when the pulse repetition frequency is increased, the laser output condition is increased. Cannot be easily changed because it changes. In addition, the bump pitch cannot be easily widened due to the friction characteristics and the attraction force characteristics of the CSS region. Usually, the throughput for bump formation is bump height,
Bump diameter, since the determination of the bump pitch has priority (optimum conditions of laser output of bump formation), the pulse repetition frequency of the result in that case is, for example, 30 kH Z, 70 k
H Z, determined as that 90 kH Z. Therefore, 90 k
If HZ is determined, this is the maximum throughput. Of course, to improve the throughput, it is conceivable to increase the handling speed when exchanging disks, but the handling speed is usually set to the level of the maximum speed that can be processed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、レ
ーザバンプ形成条件が最適化された場合、スループット
の処理能力はQスイッチパルス繰り返し周波数で決まっ
てしまう。市販されているQスイッチ発振のパルス繰り
返し周波数の最大能力は100 kHZ 位が限界であり、
これ以上高速化するとレーザ出力の安定性が低下するた
め、バンプ形成上は好ましくない。
As described above, when the laser bump forming conditions are optimized, the throughput throughput is determined by the Q switch pulse repetition frequency. Maximum capacity of pulse repetition frequency of the Q-switch oscillation on the market is a limit 100 kH Z position,
If the speed is further increased, the stability of the laser output decreases, which is not preferable in bump formation.

【0008】そこで、上記の問題点に鑑み、本発明の目
的は、Qスイッチパルス発振型のレーザ光を用いてバン
プ形成するテクスチャー加工において、スループットを
向上させる磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic recording medium which improves throughput in texture processing for forming bumps using a Q-switch pulse oscillation type laser beam. It is in.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては、Qスイッチパルス発振型レーザ
発振器からのレーザ光を2分割する光分割光学系と、該
2分割されたレーザ光により磁気記録媒体基板表面上に
同時に2箇所の集光スポットを得てバンプを形成するレ
ーザ光学システム機構と、磁気記録媒体基板を回転、移
動するステージを有する磁気記録媒体基板回転移動機構
と、を具備することによりレーザバンプを形成する。光
分割光学系は、レーザ光をハーフミラー(または偏光ビ
ームスプリッター)により2分割して2個の加工レンズ
により集光する光学系を具備し、前記光分割光学系に入
射するレーザ光の光軸とハーフミラーを透過して一方の
加工レンズを通過したレーザ光の光軸とを一致させるよ
うにした基本中心軸を中心として、前記ハーフミラーを
反射してベンドミラーを介して他方の加工レンズを通過
するもう一方の光軸との距離を半径として任意に回転移
動できるようにする。
According to the present invention, there is provided a light splitting optical system for splitting a laser beam from a Q-switch pulse oscillation type laser oscillator into two, and a laser beam splitting the laser light. A laser optical system mechanism for simultaneously obtaining two condensed spots on the surface of the magnetic recording medium substrate to form bumps, and a magnetic recording medium substrate rotating and moving mechanism having a stage for rotating and moving the magnetic recording medium substrate. The laser bumps are formed by providing them. The light splitting optical system includes an optical system that splits a laser beam into two by a half mirror (or a polarizing beam splitter) and condenses the laser beam with two processing lenses, and an optical axis of the laser beam incident on the light splitting optical system. And the other processing lens through the bend mirror by reflecting the half mirror around a basic central axis that is made to coincide with the optical axis of the laser light that has passed through one processing lens through the half mirror. It is possible to arbitrarily rotate and move the optical axis with the distance to the other optical axis passing therethrough as a radius.

【0010】これにより、実質的に2倍のスループット
を得ることができる。
As a result, it is possible to substantially double the throughput.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1は、この発明の実施例を示す
レーザ光学システムの構成図である。図1において、9
は光分割光学系、10,11は集光スポット、14はハ
ーフミラー、19はベンドミラー、18,20は加工レ
ンズであり、その他の構成要素は図4と同じであり同じ
符号を付してある。図4との相違点は、光分割光学系9
を設けた点である。Qスイッチパルス発振型レーザ発振
器1からのレーザ光2は、エキスパンダミラー3を通過
し、ベンドミラー4で反射した後、光分割光学系9に入
射し、ハーフミラー14で2分割され、加工レンズ1
8,20によりディスク6上に集光スポット11,10
としてレーザ照射され、バンプを形成する。
FIG. 1 is a block diagram of a laser optical system showing an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 9
Is a light splitting optical system, 10 and 11 are condensed spots, 14 is a half mirror, 19 is a bend mirror, 18 and 20 are processed lenses, and other components are the same as those in FIG. is there. The difference from FIG. 4 is that the light splitting optical system 9
Is provided. A laser beam 2 from a Q-switch pulse oscillation type laser oscillator 1 passes through an expander mirror 3, is reflected by a bend mirror 4, enters a light splitting optical system 9, is split into two by a half mirror 14, and is processed into a lens. 1
8 and 20, the condensed spots 11 and 10 on the disc 6
To form a bump.

【0012】図2は、この発明の光分割光学系の詳細を
示す図で、(a)は外箱の側板を削除した全体構成図、
(b)は外箱の真上から見た外箱の上板およびミラーを
削除した図である。図2(a)において、12は外箱、
13は穴、15は通過レーザ光、16は反射レーザ光、
17は基本中心軸であり、その他の構成要素は図1と同
じであり同じ符号を付してある。レーザ光2は光分割光
学系9の外箱12の穴13から入射し、ハーフミラー1
4(または偏光ビームスプリッター)により通過レーザ
光15および反射レーザ光16に2分割される。通過レ
ーザ光15の光軸とレーザ光2の光軸は一致した同一軸
であり、これを基本中心軸17ということにする。通過
レーザ光15は加工レンズ18を通過してディスク表面
に集光される。反射レーザ光16はベンドミラー19、
加工レンズを経由してディスク表面に集光される。ここ
で、外箱12は、基本中心軸17を中心として、ベンド
ミラー19による反射レーザ光16と基本中心軸17と
の距離rを半径として、回転移動できる構成となってい
る。
FIG. 2 is a view showing details of a light splitting optical system according to the present invention. FIG.
(B) is the figure which removed the upper plate and mirror of the outer box seen from just above the outer box. In FIG. 2A, 12 is an outer box,
13 is a hole, 15 is a passing laser beam, 16 is a reflected laser beam,
Reference numeral 17 denotes a basic central axis, and other components are the same as those in FIG. 1 and are denoted by the same reference numerals. The laser beam 2 enters through the hole 13 of the outer box 12 of the light splitting optical system 9 and the half mirror 1
4 (or a polarizing beam splitter) splits the laser beam into a passing laser beam 15 and a reflected laser beam 16. The optical axis of the passing laser light 15 and the optical axis of the laser light 2 coincide with each other and are the same axis, which is referred to as a basic central axis 17. The passing laser light 15 passes through the processing lens 18 and is focused on the disk surface. The reflected laser light 16 is a bend mirror 19,
The light is focused on the disk surface via the processing lens. Here, the outer case 12 is configured to be rotatable about the basic central axis 17 with the radius r between the reflected laser beam 16 from the bend mirror 19 and the basic central axis 17 as the radius.

【0013】図2(b)において、23,24はバンプ
トラックであり、その他の構成要素は図1と同じであり
同じ符号を付してある。加工レンズ18,20でそれぞ
れ集光された集光スポット11,10は、それぞれバン
プトラック23,24上にバンプを形成する。バンプト
ラック23と24との距離が半径方向のピッチPr を形
成する。これは、基本中心軸17を中心として外箱12
を任意に回転させてピッチPr が設定されるように固定
される。
In FIG. 2B, reference numerals 23 and 24 denote bump tracks, and other components are the same as those in FIG. The condensed spots 11 and 10 condensed by the processing lenses 18 and 20, respectively, form bumps on the bump tracks 23 and 24, respectively. The distance between the bump tracks 23 and 24 forms the radial pitch Pr. This means that the outer case 12 is
Is rotated so that the pitch Pr is set.

【0014】以上述べたように、レーザ光を2分割し
て、かつ、半径方向のバンプラックピッチPr を任意に
変えられるようにしたことで、従来のようにQスイッチ
の繰り返し周波数で決まってしまうスループットの処理
能力を実質的に2倍にすることができる。例えば、バン
プピッチ(半径方向Pr /円周方向Pθ)を40μm /
40μm に設定する場合は、Pr =40μm となるよう
に回転角θを調整し、同時にXステージ8(図1参照)
の移動量を80μm ピッチとなるように設定すればよ
い。ここで、外箱12の回転角θの調整機構について
は、基本中心軸17を中心とした機構として、歯車およ
びサーボモータとの組合せ機構あるいは手動のマイクロ
メータ付きの歯車機構とすればよい。
As described above, since the laser beam is divided into two and the radial bump rack pitch Pr can be changed arbitrarily, the repetition frequency of the Q switch is determined as in the prior art. The throughput throughput can be substantially doubled. For example, the bump pitch (Pr in the radial direction / Pθ in the circumferential direction) is set to 40 μm /
In the case of setting to 40 μm, the rotation angle θ is adjusted so that Pr = 40 μm, and at the same time, the X stage 8 (see FIG. 1)
May be set so as to have a pitch of 80 μm. Here, the mechanism for adjusting the rotation angle θ of the outer case 12 may be a mechanism combining the gear and the servomotor or a manual gear mechanism with a micrometer as a mechanism centered on the basic central axis 17.

【0015】なお、本実施例では、レーザバンプ形成方
法は片面からのみ行っているが、ディスク両面の同時加
工方法であっても本実施例はそのまま適用可能であるこ
とはいうまでもない。また、光分割光学系内の加工レン
ズがオートフォーカス式であっても、ハーフミラー、ベ
ンドミラーを偏光ミラーとすれば対応可能である。
In this embodiment, the laser bump forming method is performed only from one side, but it goes without saying that the present embodiment can be applied as it is even to a simultaneous processing method for both sides of the disk. In addition, even if the processing lens in the light splitting optical system is an autofocus type, it can be handled by using a half mirror and a bend mirror as polarization mirrors.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明によれば、レーザ光を2分割して
2個の加工レンズで2箇所の集光スポットが得られると
同時に、ディスク表面上に得られた半径方向のバンプト
ラックピッチを任意に設定できる機構としたことによっ
て、従来のレーザバンプ形成方法に比べてスループット
の処理能力が実質的に2倍に向上した。
According to the present invention, a laser beam is divided into two parts to obtain two condensed spots with two processing lenses, and at the same time, the radial bump track pitch obtained on the disk surface is reduced. By adopting a mechanism that can be set arbitrarily, the throughput throughput is substantially doubled as compared with the conventional laser bump forming method.

【0017】また、ここでは、Qスイッチパルス発振型
レーザ発振器を実施例としたが、光2分割の2箇所の集
光スポットが得られる利点を利用すれば、例えば、連続
発振型のEOM(電気光学効果によるモジュレーショ
ン)パルスのレーザ発振器を使っても、高速性は生かさ
れることは言うまでもない。
In this embodiment, a Q-switched pulse oscillation type laser oscillator has been described as an example. However, if the advantage of obtaining two condensed spots of two light beams is used, for example, a continuous oscillation type EOM (electrical It is needless to say that high-speed operation can be achieved even by using a pulsed laser oscillator (modulation by optical effect).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施例を示すレーザ光学システムの
構成図
FIG. 1 is a configuration diagram of a laser optical system showing an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の光分割光学系の詳細を示す図で、
(a)は外箱の側板を削除した全体構成図、(b)は外
箱の真上から見た外箱の上板およびミラーを削除した図
FIG. 2 is a diagram showing details of a light splitting optical system according to the present invention;
(A) is an overall configuration diagram in which a side plate of an outer box is deleted, and (b) is a diagram in which an upper plate and a mirror of the outer box are removed from directly above the outer box.

【図3】レーザバンプ形成された種々の形状の断面図FIG. 3 is a sectional view of various shapes formed with a laser bump.

【図4】従来例を示すレーザ光学システムの構成図FIG. 4 is a configuration diagram of a laser optical system showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…Qスイッチパルス発振型レーザ発振器、2…レーザ
光、3…エキスパンダレンズ、4,19…ベンドミラ
ー、6…ディスク、7…スピンドルモータ、8…Xステ
ージ、9…光分割光学系、10,11…集光スポット、
12…外箱、13…穴、14…ハーフミラー、15…通
過レーザ光、16…反射レーザ光、17…基本中心軸、
18,20…加工レンズ、23,24…バンプトラッ
ク。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Q switch pulse oscillation type laser oscillator, 2 ... Laser light, 3 ... Expander lens, 4,19 ... Bend mirror, 6 ... Disk, 7 ... Spindle motor, 8 ... X stage, 9 ... Light splitting optical system, 10 , 11 ... Condensing spot,
12 ... outer box, 13 ... hole, 14 ... half mirror, 15 ... passing laser light, 16 ... reflected laser light, 17 ... basic central axis,
18, 20: processed lens, 23, 24: bump track.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Qスイッチパルス発振型レーザ発振器から
のレーザ光を2分割する光分割光学系と、該2分割され
たレーザ光により磁気記録媒体基板表面上に同時に2箇
所の集光スポットを得てバンプを形成するレーザ光学シ
ステム機構と、磁気記録媒体基板を回転、移動するステ
ージを有する磁気記録媒体基板回転移動機構と、を具備
することによりレーザバンプを形成することを特長とし
た磁気記録媒体の製造方法。
1. A light splitting optical system for splitting a laser beam from a Q-switch pulse oscillation type laser oscillator into two, and two condensed spots are simultaneously obtained on the surface of a magnetic recording medium substrate by the split laser light. Magnetic recording medium characterized by forming a laser bump by providing a laser optical system mechanism for forming a bump by means of a magnetic recording medium, and a magnetic recording medium substrate rotating and moving mechanism having a stage for rotating and moving the magnetic recording medium substrate. Manufacturing method.
【請求項2】光分割光学系は、レーザ光をハーフミラー
により2分割して2個の加工レンズにより集光する光学
系を具備し、前記光分割光学系に入射するレーザ光の光
軸とハーフミラーを透過して一方の加工レンズを通過し
たレーザ光の光軸とを一致させるようにした基本中心軸
を中心として、前記ハーフミラーを反射してベンドミラ
ーを介して他方の加工レンズを通過するもう一方の光軸
との距離を半径として任意に回転移動できるようにした
ことを特長とする請求項1記載の磁気記録媒体の製造方
法。
2. A light splitting optical system, comprising: an optical system for splitting a laser beam into two by a half mirror and condensing the laser beam by two processing lenses; and an optical axis of the laser beam incident on the light splitting optical system. Reflecting the half mirror and passing through the other processing lens through the bend mirror, centering on the basic central axis which is made to coincide with the optical axis of the laser beam transmitted through the half mirror and passing through one processing lens 2. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium can be arbitrarily rotated and moved with a distance from the other optical axis as a radius.
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