JP2000061666A - Laser texture device - Google Patents

Laser texture device

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Publication number
JP2000061666A
JP2000061666A JP10238138A JP23813898A JP2000061666A JP 2000061666 A JP2000061666 A JP 2000061666A JP 10238138 A JP10238138 A JP 10238138A JP 23813898 A JP23813898 A JP 23813898A JP 2000061666 A JP2000061666 A JP 2000061666A
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JP
Japan
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laser
disk
polarization
light
optical path
Prior art date
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Pending
Application number
JP10238138A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Moriguchi
泰之 森口
Kazuto Kinoshita
和人 木下
Masatoshi Muneto
正利 宗藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication of JP2000061666A publication Critical patent/JP2000061666A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form uniform bumps on both front and rear sides of a disk through a simple optical structure, even if a means or the like that branches a laser beam from a laser beam source changes in the characteristics by heat and other external effects. SOLUTION: In the common optical path 14 of a laser beam irradiating means 13, which is for forming simultaneously bumps on both front and rear faces of a disk 10 a laser beam source 20 and an isolator 21 are arranged, as are an ND filter 22, a beam expander 23 and a first polarizing beam splitter 24, with the isolator rotating the polarizing face of the laser beam of linearly polarized light at an angle of 45 deg.. With the first polarizing beam splitter 24 splitting the beam into P and S polarizing components, the power of each laser beam passing through the P and S polarizing optical paths 15P, 15S is individually adjusted by λ/2 wavelength plates 26P, 26S and second polarizing beam splitters 27P, 27S.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクの表
裏両面における限られた範囲のCSS領域にレーザパル
スを照射してテクスチャ加工を行うレーザテクスチャ装
置に関するものであり、特に単一のレーザ光源を用いて
ディスクの表裏両面に対して均等なテクスチャ加工を行
えるようにしたレーザテクスチャ装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser texture apparatus for irradiating a limited range of CSS areas on both front and back surfaces of a magnetic disk with a laser pulse to perform texture processing, and particularly to a single laser light source. The present invention relates to a laser texture device capable of performing uniform texturing on both front and back surfaces of a disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクドライブ装置は、磁気ディ
スク(以下、単にディスクという)を回転させるスピン
ドルを有し、このスピンドルによりディスクを回転させ
る間に、磁気ヘッドをディスク表面に所定の隙間で対面
させた状態にして、情報の書き込みや読み出しを行うも
のである。この時における磁気ヘッドの動作は次のよう
になる。まず、ディスクが静止している状態では、磁気
ヘッドはディスク表面の所定の位置に当接するようにな
し、ディスクが回転し始めると、磁気ヘッドはディスク
の表面上をスライドして、回転速度が増して定常回転数
になる間に、磁気ヘッドとディスクとの間に生じる空気
流により磁気ヘッドをディスク表面に対して所定のギャ
ップを持った状態で安定的に浮上させる。このようにし
て浮上した磁気ヘッドは、データ記録領域に変位して、
情報の書き込みや読み出しが行われる。また、ディスク
の回転停止時には、磁気ヘッドを再び所定の位置に移行
させて、ディスクの回転速度の低下による浮上力が減少
すると、磁気ヘッドはディスク表面にスライドして、デ
ィスクの停止時にはその位置で静止状態になる。
2. Description of the Related Art A magnetic disk drive device has a spindle for rotating a magnetic disk (hereinafter, simply referred to as a disk). While the disk is rotated by the spindle, a magnetic head is made to face a disk surface with a predetermined gap. In this state, information is written or read. The operation of the magnetic head at this time is as follows. First, when the disk is stationary, the magnetic head is brought into contact with a predetermined position on the surface of the disk, and when the disk starts to rotate, the magnetic head slides on the surface of the disk to increase the rotation speed. During a steady rotation speed, the air flow generated between the magnetic head and the disk causes the magnetic head to float stably with a predetermined gap from the disk surface. The magnetic head thus levitated is displaced to the data recording area,
Information is written and read. Also, when the rotation of the disk is stopped, the magnetic head is moved to a predetermined position again, and when the levitation force due to the decrease in the rotation speed of the disk is reduced, the magnetic head slides on the disk surface, and when the disk is stopped, the magnetic head moves at that position. It becomes stationary.

【0003】磁気ヘッドの以上の作動方式は、接触起動
停止(CSS)方式と呼ばれるものであり、従ってディ
スクの表面には、情報の書き込み及び読み出しが行われ
るデータ記録領域に加えて磁気ヘッドが静止状態に保持
されるCSS領域が形成される。ここで、CSS領域
は、磁気ヘッドの浮上を低摩擦で円滑に行わせるために
微小突起を設けた領域であり、通常、ディスクの内周縁
の近傍において、所定の幅を有する円環状に形成され
る。そして、テクスチャ加工は、このように限定された
CSS領域に微小突起を形成するディスクの表面加工で
ある。
The above operation method of the magnetic head is called a contact start / stop (CSS) method. Therefore, the magnetic head is stationary on the surface of the disk in addition to the data recording area where information is written and read. A CSS area that is held in a state is formed. Here, the CSS area is an area provided with minute projections for smoothly flying the magnetic head with low friction, and is usually formed in an annular shape having a predetermined width in the vicinity of the inner peripheral edge of the disk. It Then, the texturing is the surface processing of the disk in which the minute protrusions are formed in the CSS area thus limited.

【0004】CSS領域にテクスチャ加工を行うに当っ
ては、微小で均一な形状の突起を極めて高精度に形成す
る必要がある。加工精度が悪いと、浮上動作時に磁気ヘ
ッドが円滑に浮上せず、ディスク表面にスティックを起
こしたり、静止状態に移行する際に磁気ヘッドとディス
ク表面との間の摩擦が増大する等、所謂CSS動作の円
滑性が損なわれることになる。とりわけ、近年において
は、磁気記録密度を向上するために、磁気ヘッドをディ
スクから極微小量浮上させるようにしており、従ってテ
クスチャ加工の精度をより一層向上させ、突起の微細化
及び均一化を図る必要がある。
In performing texturing on the CSS area, it is necessary to form minute and uniform projections with extremely high precision. If the processing accuracy is poor, the magnetic head does not fly smoothly during the levitation operation, sticks to the disk surface, and the friction between the magnetic head and the disk surface increases when shifting to a stationary state, so-called CSS. The smoothness of operation will be impaired. In particular, in recent years, in order to improve the magnetic recording density, the magnetic head is levitated from the disk by an extremely small amount, so that the accuracy of the texturing is further improved, and the projections are miniaturized and uniformized. There is a need.

【0005】テクスチャ加工は、前述したCSS領域だ
けでなく、ディスク表面全体にわたって磁気の配向性を
改善する等のためにも行われる。この場合には、通常は
テープ研磨により行うのが一般的である。従って、CS
S領域の加工もこのテープ研磨による方式を採用でき
る。ディスクの表面加工方式としては、化学的なエッチ
ングによる方式等もある。ただし、CSS領域というよ
うに、ディスクの表面における限られた領域に部分的な
加工を高精度に行うには、レーザ光を用いたテクスチャ
加工、即ちレーザテクスチャ方式が最も有利である。
The texturing is performed not only for the CSS area described above but also for improving the magnetic orientation over the entire surface of the disk. In this case, tape polishing is generally performed. Therefore, CS
For the processing of the S area, this tape polishing method can be adopted. As a disk surface processing method, there is a method by chemical etching. However, the texture processing using laser light, that is, the laser texture method is most advantageous in order to perform highly accurate partial processing in a limited area such as the CSS area on the surface of the disk.

【0006】レーザテクスチャ装置はレーザ光源及び対
物レンズを含むレーザ光照射手段を備え、ディスクをス
ピンドル手段に装架させて、このスピンドル手段により
ディスクを回転駆動する間に、レーザ光照射手段のレー
ザ光源からレーザパルスを出射させ、対物レンズにより
レーザ光を所定のスポット径となるように絞られて、デ
ィスク表面に照射される。従って、ディスク表面に照射
されたレーザ光のエネルギによりディスクの表面が局所
的に加熱されることになり、このディスクの表面近傍が
軟化乃至溶融して微小な突起(以下、この突起をバンプ
という)が形成される。
The laser texture device comprises a laser light irradiating means including a laser light source and an objective lens. The disk is mounted on a spindle means, and while the disk is rotationally driven by the spindle means, the laser light irradiating means has a laser light source. A laser pulse is emitted from the laser, the laser light is focused by the objective lens so that the spot diameter becomes a predetermined spot diameter, and the disk surface is irradiated with the laser light. Therefore, the surface of the disk is locally heated by the energy of the laser light applied to the surface of the disk, and the vicinity of the surface of the disk is softened or melted and minute projections (hereinafter, these projections are called bumps). Is formed.

【0007】CSS領域はディスク表面の限定された幅
で、ディスクの内周側に形成されるようになっており、
加工はディスクを回転駆動することにより回転方向に所
定のピッチ間隔でレーザパルスが照射されると共に、レ
ーザ光の照射位置をディスクの半径方向に移動させる。
この結果、ディスク表面には渦巻き状のバンプが形成さ
れるようになり、ディスクの表面に所定幅のテクスチャ
ゾーンが形成される。そこで、ディスクをスピンドル手
段により回転させる間に、少なくとも対物レンズを移動
可能となし、この対物レンズがディスクにおけるCSS
領域の内周側の端部(出射始端位置)に対面した時に、
レーザパルスの出射を開始して、外周側の端部(出射終
端位置)に至るまでの間、ディスクの回転数と照射され
るレーザパルスのパルス間隔とを制御することによっ
て、ディスクの内周側に限定された所定の領域に所望の
ピッチ間隔でバンプが形成される。
The CSS area has a limited width on the disk surface and is formed on the inner peripheral side of the disk.
In the processing, the disk is rotationally driven to irradiate the laser pulse with a predetermined pitch interval in the rotational direction, and the irradiation position of the laser light is moved in the radial direction of the disk.
As a result, spiral bumps are formed on the surface of the disk, and a texture zone having a predetermined width is formed on the surface of the disk. Therefore, at least the objective lens is made movable while the disc is rotated by the spindle means.
When facing the inner edge of the area (outgoing start position),
By controlling the number of revolutions of the disk and the pulse interval of the laser pulse to be irradiated from the start of the laser pulse emission to the end on the outer peripheral side (exit end position), the inner peripheral side of the disc is controlled. Bumps are formed at a predetermined pitch interval in a predetermined region limited to.

【0008】CSS領域は磁気ヘッドが静止状態で当接
する領域であり、磁気ヘッドと直接的に接触するバンプ
は、その突出高さが一定であり、しかも均一なピッチに
形成する必要がある。適正なバンプを形成するには、レ
ーザ光照射手段を構成するレーザ光源からのレーザパル
スのパワーが一定であり、かつ対物レンズの焦点が合っ
た位置にディスクが配置されなければならない。レーザ
パワーが設定値より低いと、十分な高さのバンプが形成
されず、またレーザパワーが極端に低下すると、バンプ
そのものが形成されなくなる。一方、ディスクが対物レ
ンズの焦点位置からずれて所謂デフォーカス状態になっ
ていると、レーザ光源から所定のパワーのレーザを照射
しても、やはり正確なバンプを形成することができな
い。
The CSS area is an area where the magnetic head abuts in a stationary state, and the bumps that are in direct contact with the magnetic head must have a constant protrusion height and be formed at a uniform pitch. In order to form an appropriate bump, the power of the laser pulse from the laser light source forming the laser light irradiation means must be constant, and the disk must be placed at a position where the objective lens is in focus. If the laser power is lower than the set value, bumps having a sufficient height cannot be formed, and if the laser power is extremely reduced, the bumps themselves cannot be formed. On the other hand, if the disc is in a so-called defocus state in which the disc is displaced from the focal point of the objective lens, accurate bumps cannot be formed even when a laser beam having a predetermined power is emitted from the laser light source.

【0009】磁気ディスクはその表裏両面にデータの書
き込み及び読み出しが行われることから、前述したテク
スチャ加工はディスクの表裏両面に対して行わなければ
ならない。そして、形成されるバンプの形状は、当然、
表裏両面で実質的に均一なものとする必要がある。表裏
両面をテクスチャ加工するには、まずディスクの片側の
面を加工し、次いでディスクを反転させて、反対側の面
を加工する方式がある。この方式では、ディスクの表裏
両面に実質的に同じ条件で加工を行えるので、表裏両面
における加工の均一性を確保できる。しかしながら、デ
ィスクの反転機構を必要とし、しかも加工時間が長くな
るという難点がある。
Since data is written and read on both the front and back surfaces of the magnetic disk, the above-described texture processing must be performed on both the front and back surfaces of the disk. And, of course, the shape of the formed bump is
It is necessary to make the front and back surfaces substantially uniform. In order to texture both the front and back sides, there is a method in which one side of the disc is first processed, then the disc is inverted and the opposite side is processed. In this method, since processing can be performed on both front and back surfaces of the disk under substantially the same conditions, it is possible to secure processing uniformity on both front and back surfaces. However, there is a problem that a disk reversing mechanism is required and the processing time becomes long.

【0010】また、表面を同時に加工するための他の方
式としては、レーザ光源から対物レンズに至るレーザ光
照射機構を2組用いて、それぞれディスクの表裏両面に
対向配置して、ディスクを回転駆動しながら、その表裏
両面を同時に加工する方式もある。しかしながら、装置
構成が大掛かりになるだけでなく、両レーザ光照射機構
からのレーザ光のパワーを正確に一致させる必要があ
り、その調整が著しく面倒になる等といった問題点があ
る。
As another method for simultaneously processing the surface, two sets of laser light irradiating mechanisms from a laser light source to an objective lens are used, which are arranged opposite to each other on the front and back surfaces of the disk, and the disk is rotationally driven. However, there is also a method of processing both the front and back sides at the same time. However, there is a problem that not only the apparatus configuration becomes large, but also the powers of the laser beams from the two laser beam irradiation mechanisms need to be accurately matched, and the adjustment thereof is extremely troublesome.

【0011】また、ビームスプリッタを用いれば、少な
くともレーザ光源は表裏両面の加工用に共用できる。こ
のように、ビームスプリッタを用いてレーザ光源からの
レーザ光の光路を2つに分ける方式としては、例えば特
開平10−91947号公報に示されているものが従来
から知られている。そこで、この公知のテクスチャ装置
の光学構成を図5に示す。
Further, if a beam splitter is used, at least the laser light source can be shared for processing both front and back surfaces. As a method of dividing the optical path of the laser light from the laser light source into two by using the beam splitter, for example, the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-91947 is conventionally known. Therefore, the optical configuration of this known texture device is shown in FIG.

【0012】図中において、1はレーザ光源であり、こ
のレーザ光源1からのレーザビームの光路にはアイソレ
ータ2が設けられており、このアイソレータ2を透過し
たレーザビームはビームスプリッタ3に入り、このビー
ムスプリッタ3により透過と反射との2つの光路に分岐
される。このようにして分岐した2つの光路には、ビー
ムエキスパンダからなる平行光束化手段4a,4bが設
けられ、これら平行光束化手段4a,4bにより平行光
束化されたレーザビームはNDフィルタ5a,5bによ
り光量の調整が行われるようになっている。さらに、N
Dフィルタ5a,5bの前方にはテクスチャの開始及び
終了を制御する電磁シャッタ6a,6bが、さらに電磁
シャッタ6a,6bの前方側には対物レンズ7a,7b
が設けられている。
In the figure, reference numeral 1 is a laser light source, and an isolator 2 is provided in the optical path of the laser beam from the laser light source 1. The laser beam transmitted through this isolator 2 enters a beam splitter 3 and The beam splitter 3 splits the light into two optical paths of transmission and reflection. The two optical paths branched in this way are provided with parallel beam forming means 4a and 4b formed of beam expanders, and the laser beams converted into parallel beam by these parallel beam forming means 4a and 4b are ND filters 5a and 5b. The light quantity is adjusted by. Furthermore, N
Electromagnetic shutters 6a and 6b for controlling the start and end of texture are provided in front of the D filters 5a and 5b, and objective lenses 7a and 7b are provided in front of the electromagnetic shutters 6a and 6b.
Is provided.

【0013】以上のように構成することによって、対物
レンズ7a,7b間にディスク8を配置して、所定の位
置からレーザ光源1からレーザパルスを出射するように
なし、電磁シャッタ6a,6bを開くと、ディスク8の
表裏両面に対して所定の位置からのバンプの形成が開始
される。対物レンズ7a,7bをディスク8の回転に伴
って半径方向に移動させることにより、ディスク8に対
して所定の幅に及ぶバンプが形成される。さらに、加工
の終端位置に達すると、電磁シャッタ6a,6bを閉じ
るようにする。これによって、ディスク8の表裏両面に
対するテクスチャ加工が行われる。
With the above structure, the disk 8 is arranged between the objective lenses 7a and 7b so that the laser light source 1 emits a laser pulse from a predetermined position, and the electromagnetic shutters 6a and 6b are opened. Then, the formation of bumps from predetermined positions on both front and back surfaces of the disk 8 is started. By moving the objective lenses 7a and 7b in the radial direction as the disk 8 rotates, bumps having a predetermined width are formed on the disk 8. Further, when the processing end position is reached, the electromagnetic shutters 6a and 6b are closed. As a result, texture processing is performed on both the front and back surfaces of the disk 8.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ディスクの
表裏両面に実質的に同じ形状のバンプを形成する必要が
あるが、このためにはそれぞれ対物レンズから照射され
るレーザビームのパワーが等しくなければならない。レ
ーザビームを分岐させるためのビームスプリッタは透過
光と反射光とに分岐させるものであるので、その光量が
正確に等しくなるように設定し、もって2つの光路にお
けるパワーが等しくなるものの、光学装置全体の組み付
け誤差が生じることはやむを得ないものであり、このた
めに2つの光路におけるバランスが多少崩れることがあ
る。また、ビームスプリッタは熱の影響でその特性が変
化する結果、ビームスプリッタでの光量の分配比率が変
化することもある。このように、ビームスプリッタのみ
ではディスクの表裏両面に対して常に同じパワーのレー
ザビームを照射することができないことになる。さら
に、平行光束化手段やNDフィルタを分岐した各光路に
配置するようにしているので、その光学構成も複雑にな
り、かつ全体としてのレーザテクスチャ装置の構成が大
掛かりになっている等の難点もある。
By the way, it is necessary to form bumps having substantially the same shape on both front and back surfaces of a disk. For this purpose, the laser beams emitted from the objective lenses must have the same power. I won't. Since the beam splitter for splitting the laser beam splits the transmitted light and the reflected light, the amount of light is set to be exactly equal to each other, and the powers in the two optical paths are equal to each other. It is unavoidable that the assembly error of (2) occurs, and thus the balance in the two optical paths may be slightly disturbed. Further, the characteristics of the beam splitter change due to the influence of heat, and as a result, the distribution ratio of the amount of light in the beam splitter may change. Thus, the beam splitter alone cannot always irradiate the front and back surfaces of the disk with the laser beam of the same power. Further, since the parallel light flux forming means and the ND filter are arranged in each branched optical path, the optical structure thereof becomes complicated, and the structure of the laser texture device as a whole becomes large. is there.

【0015】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、簡単な光学構成で、
ディスクの表裏両面に均等なバンプを形成できるように
することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is a simple optical configuration.
It is to be able to form even bumps on both the front and back surfaces of the disc.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、ディスクをスピンドルに装着して、
このスピンドルによりディスクを回転させながら、レー
ザ光源及び対物レンズを含むレーザ光照射手段からのレ
ーザパルスを所定のピッチ間隔でディスクの両面に照射
することによって、ディスク表裏両面に対して所定の範
囲にわたって規則的な突起を形成するレーザテクスチャ
装置であって、1個のレーザ光源と、このレーザ光源か
らの直線偏光からなるレーザ光の偏光面を45°回転さ
せる偏光面制御手段と、この偏光面制御手段からの出力
光をP偏光成分とS偏光成分との2光束に分ける偏光ビ
ームスプリッタとをディスクの表裏両面を加工するため
の共通光路部に設け、またこの偏光ビームスプリッタで
分岐された2つの光路に設けられ、これらP偏光成分光
路とS偏光成分光路とにそれぞれ設けた対物レンズへの
入射光のパワーが等しくなるように調整するレーザパワ
ー調整手段を設ける構成としたことをその特徴とするも
のである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention mounts a disk on a spindle,
By irradiating both sides of the disk with laser pulses from a laser light irradiating means including a laser light source and an objective lens at a predetermined pitch while rotating the disk by this spindle, the front and back surfaces of the disk are regularly regulated over a predetermined range. And a polarization plane control means for rotating the polarization plane of the laser light composed of linearly polarized light from the laser light source by 45 °, and a polarization plane control means. A polarization beam splitter that splits the output light from the P-polarization component into two light beams of S-polarization component is provided in a common optical path portion for processing both front and back surfaces of the disk, and two optical paths branched by the polarization beam splitter are provided. The power of the incident light to the objective lens provided in each of the P polarization component optical path and the S polarization component optical path is It is an its features that it has a configuration in which a laser power adjusting means for adjusting such that properly.

【0017】ここで、レーザ光源の出力側には、加工物
からの反射光をカットするためのアイソレータが設けら
れるのが一般的である。レーザ光源からのレーザ光とし
ては直線偏光の光であり、アイソレータではこの直線偏
光の偏光面を45°回転させる機能を発揮するものがあ
る。そこで、このような機能を発揮するアイソレータを
用いれば、このアイソレータを偏光面制御手段と共用す
ることができる。また、ディスクへのレーザスポットの
スポット径を制御するために、レーザ光源からのレーザ
ビームを拡径するビームエキスパンダが設けられるが、
このビームエキスパンダは、アイソレータと偏光ビーム
スプリッタとの間に設けることができ、これによってビ
ームエキスパンダをディスクの表裏両面を加工する際に
共用できる点で望ましい。さらに、レーザパワー調整手
段としては、P偏光成分光路及びS偏光成分光路にそれ
ぞれλ/2波長板と第2の偏光ビームスプリッタとを設
け、これら各第2の偏光ビームスプリッタと対物レンズ
との間にパワー検出器を配置して、これら各パワー検出
器で検出したP偏光成分及びS偏光成分の光がそれぞれ
所定のパワーとなるように、λ/2波長板による偏光方
位ベクトルを変化させることができる。
Here, an isolator for cutting the reflected light from the workpiece is generally provided on the output side of the laser light source. The laser light from the laser light source is linearly polarized light, and some isolators have a function of rotating the plane of polarization of this linearly polarized light by 45 °. Therefore, if an isolator having such a function is used, this isolator can be shared with the polarization plane control means. Further, in order to control the spot diameter of the laser spot on the disc, a beam expander for expanding the laser beam from the laser light source is provided,
This beam expander can be provided between the isolator and the polarization beam splitter, and this is desirable in that the beam expander can be commonly used for processing both front and back surfaces of the disc. Further, as the laser power adjusting means, a λ / 2 wavelength plate and a second polarization beam splitter are provided in the P polarization component optical path and the S polarization component optical path, respectively, and between the second polarization beam splitter and the objective lens. A power detector is arranged in the power detector, and the polarization azimuth vector by the λ / 2 wave plate can be changed so that the light of the P-polarized component and the light of the S-polarized component detected by each of the power detectors have a predetermined power. it can.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の一形態を説明する。まず、図1において、10はデ
ィスクであって、このディスク10には、データ記録領
域10Dと、磁気ヘッド(図示せず)が静止するCSS
領域10Cとが形成される。CSS領域10Cは、同図
に斜線で示したように、ディスク10の内周に近い部位
に円環状に形成される。レーザテクスチャによる表面加
工が施されるのは、このCSS領域10Cである。ま
た、このテクスチャ加工によって、CSS領域10Cに
は図2に示した形状の微小突起がディスク10の表面に
形成される。この微小突起の1単位がバンプ11と呼ば
れるものである。ただし、ディスク10の表面に形成さ
れるバンプはこの図に示した形状のものだけでなく、デ
ィスクの材質やレーザビームのパワーや集光スポット径
等に応じて様々な形状をとることになる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, in FIG. 1, reference numeral 10 denotes a disk, on which a data recording area 10D and a CSS on which a magnetic head (not shown) is stationary.
A region 10C is formed. The CSS area 10C is formed in an annular shape at a portion close to the inner circumference of the disk 10, as shown by the hatching in FIG. It is this CSS region 10C that is subjected to surface processing by laser texture. In addition, by this texturing, minute protrusions having the shape shown in FIG. 2 are formed on the surface of the disk 10 in the CSS region 10C. One unit of the minute protrusion is called a bump 11. However, the bumps formed on the surface of the disk 10 are not limited to the shapes shown in this figure, but may take various shapes depending on the material of the disk, the power of the laser beam, the focused spot diameter, and the like.

【0019】レーザテクスチャ加工を行う装置の全体構
成を図3に示す。この図から明らかなように、加工装置
はディスク10を回転駆動するためのスピンドル手段1
2と、ディスク10の表面にレーザビームを照射するレ
ーザ光照射手段13とを備える構成となっている。レー
ザ光照射手段13はディスク10の両面に対して同時に
テクスチャ加工を行うことができる。スピンドル手段1
2はディスク10の内径を着脱可能にクランプして所定
の速度で回転駆動される。
FIG. 3 shows the overall structure of an apparatus for performing laser texturing. As is apparent from this figure, the processing apparatus is a spindle means 1 for rotating the disk 10.
2 and a laser beam irradiation means 13 for irradiating the surface of the disk 10 with a laser beam. The laser light irradiation means 13 can simultaneously perform texture processing on both surfaces of the disk 10. Spindle means 1
Reference numeral 2 detachably clamps the inner diameter of the disk 10 and is rotationally driven at a predetermined speed.

【0020】レーザ光照射手段13は共通光路部14と
P偏光光路部15P及びS偏光光路部15Sとから構成
される。共通光路部14には、レーザ光源20と、アイ
ソレータ21と、さらにNDフィルタ22、ビームエキ
スパンダ23、第1の偏光ビームスプリッタ24が配置
されている。レーザ光源20としては、例えば1064
nmの発振周波数のYAGレーザ等で、パルス発振する
ものが好適に用いられる。なお、連続発振のレーザ光源
を用いる場合には、共通光路部14の途中にパルス発生
器を設けるようにする。
The laser light irradiating means 13 comprises a common optical path section 14, a P-polarized optical path section 15P and an S-polarized optical path section 15S. A laser light source 20, an isolator 21, an ND filter 22, a beam expander 23, and a first polarization beam splitter 24 are arranged in the common optical path unit 14. As the laser light source 20, for example, 1064
A YAG laser or the like having an oscillation frequency of nm that oscillates in a pulse is preferably used. When a continuous wave laser light source is used, a pulse generator is provided in the common optical path section 14.

【0021】アイソレータ21は、例えばファラデー回
転型のものから構成され、その本来の機能としては、デ
ィスク10からの戻り光がレーザ光源20に入り込むの
を防止するためのものである、そして、このアイソレー
タ21におけるファラデー回転子の作用によってレーザ
光源20から出射される直線偏光のレーザビームの偏光
面が45°ファラデー回転することになり、このアイソ
レータ21は偏光面制御手段として機能する。また、ア
イソレータ21の出力側に配置したNDフィルタ22は
固定の光量調整手段を構成するものであり、レーザ光源
20からの光源光量を予め所定のレベルにまでおおまか
に低下させるためのものである。
The isolator 21 is composed of, for example, a Faraday rotation type, and its original function is to prevent return light from the disk 10 from entering the laser light source 20, and this isolator. Due to the action of the Faraday rotator in 21, the polarization plane of the linearly polarized laser beam emitted from the laser light source 20 is rotated by 45 ° Faraday, and this isolator 21 functions as a polarization plane control means. The ND filter 22 arranged on the output side of the isolator 21 constitutes a fixed light quantity adjusting means, and is for roughly reducing the light quantity of the light source from the laser light source 20 to a predetermined level in advance.

【0022】NDフィルタ22で光量調整されたレーザ
ビームは反射ミラー25aにより光路を90°変えるよ
うにした上で、ビームエキスパンダ23によりレーザビ
ームのビーム径を拡大し、かつ平行光束化する。このよ
うに、ビーム径を拡大させるのは、後述する対物レンズ
ユニット28P,28Sによりディスク10に対してレ
ーザスポットの径をより小さくなるように絞るためであ
る。このようにして、拡径され、かつ平行光束化したレ
ーザビームは第1の偏光ビームスプリッタ24で反射す
る光と透過する光とに分けられる。透過光と反射光の一
方はP偏光成分の光であり、他方はS偏光成分の光であ
る。ここで、第1の偏光ビームスプリッタ24に入射さ
れるレーザビームの偏光面はアイソレータ21により4
5°回転していることから、偏光ビームスプリッタ24
により分岐されたP偏光成分の光とS偏光成分の光とは
ほぼ等しい光量となる。
The laser beam whose light amount has been adjusted by the ND filter 22 is changed in its optical path by 90 ° by the reflection mirror 25a, and then the beam diameter of the laser beam is expanded by the beam expander 23 to be a parallel light flux. The reason for expanding the beam diameter in this way is to reduce the diameter of the laser spot on the disk 10 by the objective lens units 28P and 28S described later so as to be smaller. In this way, the laser beam whose diameter has been expanded and which has been converted into a parallel light beam is divided into light reflected by the first polarization beam splitter 24 and light transmitted therethrough. One of the transmitted light and the reflected light is a P-polarized component light, and the other is an S-polarized component light. Here, the polarization plane of the laser beam incident on the first polarization beam splitter 24 is changed by the isolator 21 to 4
Since it is rotated 5 °, the polarization beam splitter 24
The light of the P-polarized component and the light of the S-polarized component that are branched by the light source have substantially the same light amount.

【0023】偏光ビームスプリッタ24からのP偏光成
分の光はP偏光光路部15Pを、またS偏光成分の光は
S偏光光路部15Sを通り、ディスク10の表裏両面に
至る。P偏光光路部15P及びS偏光光路部15Sに
は、それぞれλ/2波長板26P,26Sと第2の偏光
ビームスプリッタ27P,27Sとからなるレーザパワ
ー調整手段と、対物レンズユニット28P,28Sとが
設けられる。なお、P偏光光路部15PとS偏光光路部
15Sとは相互に平行な方向とする関係から、第1の偏
光ビームスプリッタ24を透過する側の光路部、即ちP
偏光光路部15Pには反射ミラー25bが設けられる。
The P-polarized component light from the polarization beam splitter 24 passes through the P-polarized optical path portion 15P, and the S-polarized component light passes through the S-polarized optical path portion 15S to reach both the front and back surfaces of the disk 10. The P-polarized light path portion 15P and the S-polarized light path portion 15S are provided with a laser power adjusting means including λ / 2 wave plates 26P and 26S and second polarization beam splitters 27P and 27S, respectively, and objective lens units 28P and 28S. It is provided. Since the P-polarized light path portion 15P and the S-polarized light path portion 15S are parallel to each other, the light path portion on the side that transmits the first polarization beam splitter 24, that is, P
A reflection mirror 25b is provided in the polarized light path portion 15P.

【0024】また、第2の偏光ビームスプリッタ27
P,27Sと対物レンズユニット28P,28Sとの間
にはビームサンプラ29P,29Sが介装されており、
このビームサンプラ29P,29Sにより約数%乃至十
数%程度の光量を反射させるようにしてサンプリング
し、このビームサンプラ29P,29Sで反射した光は
光電変換素子からなるパワーディテクタ30P,30S
に取り込まれて、そのパワーが測定されるようになって
いる。
The second polarization beam splitter 27
Beam samplers 29P and 29S are interposed between the P and 27S and the objective lens units 28P and 28S,
The beam samplers 29P and 29S are sampled so as to reflect an amount of light of about several percent to several tens of percent, and the light reflected by the beam samplers 29P and 29S is power detectors 30P and 30S composed of photoelectric conversion elements.
It is designed to be taken into and measured by its power.

【0025】λ/2波長板26P,26Sは回転駆動手
段31P,31Sにより回転可能となっており、このλ
/2波長板26P,26Sを回転させることによって、
それぞれP偏光光路部15P,S偏光光路部15Sを通
るレーザビームの偏光方位ベクトルを変化させることが
できるようになっている。λ/2波長板26P,26S
を透過する光の偏光成分のうち、P偏光光路部15Pの
第2の偏光ビームスプリッタ27PではP偏光成分の光
のみが、またS偏光光路部15Sの第2の偏光ビームス
プリッタ27SでS偏光成分の光のみが透過する。従っ
て、この透過光量、つまり第2の偏光ブームスプリッタ
27P,27Sの出力パワーはλ/2波長板26P,2
6Sの回転角度に応じて変化する。
The λ / 2 wave plates 26P and 26S can be rotated by the rotation driving means 31P and 31S.
By rotating the half wave plates 26P and 26S,
It is possible to change the polarization azimuth vector of the laser beam passing through the P-polarized light path portion 15P and the S-polarized light path portion 15S, respectively. λ / 2 wave plate 26P, 26S
Among the polarization components of the light that passes through, only the light of the P polarization component in the second polarization beam splitter 27P of the P polarization optical path unit 15P, and the S polarization component in the second polarization beam splitter 27S of the S polarization optical path unit 15S. Only the light of is transmitted. Therefore, the amount of transmitted light, that is, the output power of the second polarization boom splitters 27P and 27S is λ / 2 wavelength plates 26P and 2P.
It changes according to the rotation angle of 6S.

【0026】以上のように、パワーディテクタ30P,
30Sの検出信号を回転駆動手段31P,31Sに取り
込んで、パワーの変動に応じてこれら回転駆動手段31
P,31Sによりλ/2波長板26P,26Sの回転角
度を制御することによって、具体的にはパワーディテク
タ30P,30Sからの電圧信号に基づいてλ/2波長
板26P,26Sを回動変位させることによって、対物
レンズユニット28P,28Sからディスク10の表裏
両面に向けてのレーザビームのパワーが等しくなるよう
に調整される。
As described above, the power detectors 30P,
The detection signal of 30S is taken into the rotation driving means 31P, 31S, and these rotation driving means 31 are taken in accordance with the fluctuation of the power.
By controlling the rotation angles of the λ / 2 wave plates 26P and 26S by P and 31S, specifically, the λ / 2 wave plates 26P and 26S are rotationally displaced based on the voltage signals from the power detectors 30P and 30S. As a result, the powers of the laser beams from the objective lens units 28P and 28S toward the front and back surfaces of the disk 10 are adjusted to be equal.

【0027】そこで、図4にこのレーザパワー調整手段
について、より具体的に説明する。45°の偏光面を有
する光が第1の偏光ビームスプリッタ24に入射される
と、この第1の偏光ビームスプリッタ24を透過するP
偏光光路部15Pと、それから反射したS偏光光路部1
5Sとに分岐する。このうち、P偏光光路部15Pにお
けるP偏光成分の光はλ/2波長板26Pに入射され
る。そして、パワーディテクタ30Pにより検出された
レーザパワーが予め設定された値と異なる時には、この
パワーディテクタ30Pからの偏差に基づくフィードバ
ック信号が回転駆動手段31Pに取り込まれて、この信
号電圧に相当する量だけλ/2波長板26Pを矢印方向
(またはその反対方向)に回転させる。この結果、λ/
2波長板26Pでは偏光方位ベクトルが変化した分だけ
P偏光成分が変化し、第2の偏光ビームスプリッタ27
Pに入射された時にこの第2の偏光ビームスプリッタ2
7PではP偏光成分の光のみが透過し、S偏光成分の光
はこの第2の偏光ビームスプリッタ27Pで反射して系
外に放散することになる。つまり、λ/2波長板26P
で偏光面が傾けられた分だけP偏光成分のパワーが変化
することになり、対物レンズユニット28Pへのレーザ
ビームのパワーを調整することができる。なお、S偏光
光路部15Sにおけるλ/2波長板26S及び第2の偏
光ビームスプリッタ27Sも同様の機能を発揮する。
Therefore, the laser power adjusting means will be described in more detail with reference to FIG. When light having a polarization plane of 45 ° is incident on the first polarization beam splitter 24, P which passes through the first polarization beam splitter 24 is transmitted.
Polarized light path portion 15P and S-polarized light path portion 1 reflected from it
It branches to 5S. Of these, the light of the P-polarized component in the P-polarized light path portion 15P is incident on the λ / 2 wavelength plate 26P. Then, when the laser power detected by the power detector 30P is different from the preset value, a feedback signal based on the deviation from the power detector 30P is taken into the rotation driving means 31P, and only an amount corresponding to this signal voltage is obtained. The λ / 2 wave plate 26P is rotated in the arrow direction (or the opposite direction). As a result, λ /
In the two-wave plate 26P, the P-polarized component changes by the amount of change of the polarization azimuth vector, and the second polarization beam splitter 27
This second polarization beam splitter 2 when it is incident on P
In 7P, only the light of the P-polarized component is transmitted, and the light of the S-polarized component is reflected by the second polarization beam splitter 27P and diffused out of the system. That is, the λ / 2 wave plate 26P
Thus, the power of the P-polarized component is changed by the amount by which the plane of polarization is tilted, and the power of the laser beam to the objective lens unit 28P can be adjusted. The λ / 2 wavelength plate 26S and the second polarization beam splitter 27S in the S-polarized light path portion 15S also have similar functions.

【0028】対物レンズユニット28P,28Sに至る
光路は相互に平行となっており、ディスク10の表裏両
面にレーザビームを照射するには、光路を90°変える
必要がある。しかも、ディスク10におけるCSS領域
10Cはその内周側に位置しており、スピンドル手段1
2はディスク10の内周をクランプしている。従って、
ディスク10に至る光路、特にディスク10の裏面側に
至る光路がスピンドル手段12と干渉しないようにしな
ければならない。そこで、対物レンズユニット28P,
28Sから照射されるレーザビームの光路を反射ミラー
32P,32Sで90°曲げるようにしている。
The optical paths to the objective lens units 28P and 28S are parallel to each other, and in order to irradiate the front and back surfaces of the disk 10 with the laser beam, the optical paths need to be changed by 90 °. Moreover, the CSS area 10C of the disk 10 is located on the inner peripheral side thereof, and the spindle means 1
2 clamps the inner circumference of the disk 10. Therefore,
It is necessary to prevent the optical path to the disk 10, especially the optical path to the back side of the disk 10 from interfering with the spindle means 12. Therefore, the objective lens unit 28P,
The optical path of the laser beam emitted from 28S is bent 90 ° by the reflection mirrors 32P and 32S.

【0029】以上のように構成されるテクスチャ加工装
置を用いることによって、スピンドル手段12にディス
ク10を装架して、ディスク10を回転させる間に、レ
ーザ光照射手段13によりレーザパルスを照射しながら
照射スポットをディスク10の半径方向に移動させるこ
とによって、ディスク10の表裏両面におけるCSS領
域10Cにテクスチャ加工が施される。そして、この間
にレーザ光照射手段13を図示しない駆動手段によりデ
ィスク10の半径方向に移動させることによって、ディ
スク10の表面及び裏面の両面にバンプ11が所定の幅
にわたって渦巻き状態に形成される。
By using the texture processing apparatus configured as described above, while the disk 10 is mounted on the spindle means 12 and the disk 10 is rotated, the laser light irradiation means 13 irradiates the laser pulse. By moving the irradiation spot in the radial direction of the disk 10, the CSS regions 10C on both front and back surfaces of the disk 10 are textured. Then, during this time, the laser light irradiation means 13 is moved in the radial direction of the disk 10 by a driving means (not shown), so that the bumps 11 are formed in a spiral shape over a predetermined width on both the front surface and the back surface of the disk 10.

【0030】ディスク10における表裏両面のCSS領
域10Cに形成されるバンプ11としては、例えば概略
図2に示した形状の微小突起であり、11Hはバンプ高
さ、11Dはピッチ間隔であり、テクスチャ加工が正確
に行われると、CSS領域10Cの全体に一定のピッチ
間隔11Dで、均一な高さ11Hのバンプ11が両面に
同時に形成されることになる。ここで、ピッチ間隔11
Dはディスク10の回転速度とパルス間隔とにより決定
される。従って、スピンドル12によるディスク10の
回転速度を一定にする必要がある。
The bumps 11 formed on the CSS regions 10C on both the front and back sides of the disk 10 are, for example, minute protrusions having the shape shown in FIG. 2, 11H is the bump height, and 11D is the pitch interval. If it is accurately performed, the bumps 11 having a uniform height 11H are simultaneously formed on the both surfaces of the CSS region 10C at a constant pitch interval 11D. Here, the pitch interval 11
D is determined by the rotation speed of the disk 10 and the pulse interval. Therefore, it is necessary to keep the rotation speed of the disk 10 by the spindle 12 constant.

【0031】また、バンプ11の高さは照射されるレー
ザビームのディスク10に対するスポット径とレーザパ
ワーと依存する。スポット径の制御は、まず第一義的に
は対物レンズユニット28P,28Sにより決定され
る。つまり、ディスク10の表裏両面が常に対物レンズ
ユニット28P,28Sにおける対物レンズの焦点位置
に位置していなければならない。対物レンズユニット2
8P,28Sをオートフォーカス機構を備えたもので構
成することによって、ディスク10の表裏各面と対物レ
ンズユニット28P,28Sとの相対距離が変化して
も、このオートフォーカス機構により焦点調整を行うこ
とができる。
Further, the height of the bump 11 depends on the spot diameter of the irradiated laser beam on the disk 10 and the laser power. The control of the spot diameter is primarily determined by the objective lens units 28P and 28S. That is, both the front and back surfaces of the disk 10 must always be located at the focal position of the objective lens in the objective lens units 28P and 28S. Objective lens unit 2
By configuring 8P and 28S with an autofocus mechanism, even if the relative distance between the front and back surfaces of the disk 10 and the objective lens units 28P and 28S changes, focus adjustment can be performed by this autofocus mechanism. You can

【0032】また、対物レンズユニット28P,28S
への入射光のビーム径によっても、ディスク10への照
射スポット径に影響が出る。レーザビームのビーム径は
ビームエキスパンダ23で制御されるが、このビームエ
キスパンダ23は共通光路部14に設けられているの
で、ディスク10の一側面を加工するためのP偏光光路
部15Pにおいても、また他側面を加工するS偏光光路
部15Sにおいても同じビーム径となる。
In addition, the objective lens units 28P and 28S
The beam diameter of the incident light on the disk 10 also affects the irradiation spot diameter on the disk 10. The beam diameter of the laser beam is controlled by the beam expander 23. Since the beam expander 23 is provided in the common optical path portion 14, the P-polarized optical path portion 15P for processing one side surface of the disk 10 is also used. Also, the same beam diameter is obtained in the S-polarized light path portion 15S for processing the other side surface.

【0033】ディスク10の表裏両面に照射されるレー
ザビームは第1の偏光ビームスプリッタ24で分岐させ
ることから、P偏光光路部15Pに向かうP偏光成分の
光と、S偏光光路部15Sに向かうS偏光成分の光とが
等しくなるように設定する。しかしながら、レーザ光照
射手段13を構成する光学部品は熱の影響等で多少特性
が変化する。第1の偏光ビームスプリッタ24が熱等の
影響で特性が変化すると、P偏光光路部15Pに向かう
レーザビームとS偏光光路部15Sに向かうレーザビー
ムとのパワーに差が生じる。また、λ/2波長板26
P,26Sや、第2の偏光ビームスプリッタ27P,2
7Sについても同様に、熱の影響等で特性が変化する。
The laser beams applied to both the front and back surfaces of the disk 10 are split by the first polarization beam splitter 24, so that the light of the P-polarized component toward the P-polarized light path portion 15P and the S toward the S-polarized light path portion 15S. The polarization component light is set to be equal. However, the characteristics of the optical components forming the laser light irradiation means 13 change slightly due to the influence of heat. When the characteristics of the first polarization beam splitter 24 change due to the influence of heat or the like, there is a difference in power between the laser beam directed to the P-polarized optical path portion 15P and the laser beam directed to the S-polarized optical path portion 15S. In addition, the λ / 2 wave plate 26
P, 26S and second polarization beam splitters 27P, 2
Similarly, the characteristics of 7S change due to the influence of heat.

【0034】しかしながら、第2の偏光ビームスプリッ
タ27P,27Sの出力側のレーザパワーをパワーディ
テクタ30P,30Sで検出して、λ/2波長板26
P,26Sをフィードバック制御している。このよう
に、レーザ光照射手段13を構成する光学部品のうち、
熱等により特性の変化する可能性のある偏光ビームスプ
リッタ24,27P,27S及びλ/2波長板26P,
26Sの配設位置より物体側の位置でレーザパワーを測
定し、このレーザパワー測定位置より物体側には熱に対
して比較的安定な対物レンズユニット28P,28S
(及び光路を引き回すための反射ミラー)しか設けられ
ていないので、ディスク10に照射されるレーザビーム
のパワーは常に一定であり、しかも表裏両面に対して同
じパワーのレーザビームを照射することができる。
However, the laser power on the output side of the second polarization beam splitters 27P and 27S is detected by the power detectors 30P and 30S, and the λ / 2 wave plate 26 is detected.
Feedback control is performed on P and 26S. As described above, among the optical components that constitute the laser light irradiation means 13,
The polarization beam splitters 24, 27P, 27S and the λ / 2 wavelength plate 26P, which may change in characteristics due to heat or the like,
Laser power is measured at a position closer to the object than the position where 26S is disposed, and objective lens units 28P and 28S that are relatively stable to heat are located closer to the object than the laser power measurement position.
Since only (and a reflection mirror for guiding the optical path) is provided, the power of the laser beam applied to the disk 10 is always constant, and the laser beam of the same power can be applied to both front and back surfaces. .

【0035】さらに、レーザ光照射手段13を構成する
各光学部品のうち、レーザ光源20,アイソレータ2
1,NDフィルタ22,ビームエキスパンダ23及び第
1の偏光ビームスプリッタ24を共通光路部14に配置
する構成としているので、全体としてのレーザ光照射手
段13の光学構成が簡略化される。しかも、レーザパワ
ー調整手段を構成するλ/2波長板26P,26Sと第
2の偏光ビームスプリッタ27P,27S、及びレーザ
パワーを測定するビームサンプラ29P,29Sとパワ
ーディテクタ30P,30Sは、それぞれP偏光光路部
15P及びS偏光光路部15Sに設けているので、レー
ザパワーを個別的に調整して、ディスク10の表裏両面
に照射されるレーザビームのパワーを極めて正確に調整
できるようになる。
Further, among the optical components constituting the laser light irradiation means 13, the laser light source 20 and the isolator 2 are provided.
Since the 1, ND filter 22, the beam expander 23, and the first polarization beam splitter 24 are arranged in the common optical path unit 14, the optical configuration of the laser light irradiation means 13 as a whole is simplified. Moreover, the λ / 2 wave plates 26P and 26S and the second polarization beam splitters 27P and 27S, which constitute the laser power adjusting means, and the beam samplers 29P and 29S and the power detectors 30P and 30S, which measure the laser power, are P polarization, respectively. Since it is provided in the optical path portion 15P and the S-polarized optical path portion 15S, the laser power can be adjusted individually and the power of the laser beam applied to both front and back surfaces of the disk 10 can be adjusted extremely accurately.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、1個の
レーザ光源と、このレーザ光源からの直線偏光からなる
レーザ光の偏光面を45°回転させる偏光面制御手段
と、この偏光面制御手段からの出力光をP偏光成分とS
偏光成分との2つの光束に分岐させる偏光ビームスプリ
ッタとをディスクの表裏両面に対する加工を行う際にお
ける共通の光路部に設け、この偏光ビームスプリッタで
分岐された2つの光路に設けられ、これらP偏光成分光
路とS偏光成分光路とにそれぞれ設けた対物レンズに入
射されるレーザビームのパワーが等しくなるように調整
するレーザパワー調整手段を設ける構成としたので、簡
単な光学構成で、レーザ光源からのレーザビームを分岐
させる手段等が熱その他の外的な影響で特性が変化して
も、ディスクの表裏両面に均等なバンプを形成できる等
の効果を奏する。
As described above, according to the present invention, one laser light source, polarization plane control means for rotating the polarization plane of the linearly polarized laser light from this laser light source by 45 °, and this polarization plane. The output light from the control means is P-polarized component and S
A polarization beam splitter for splitting into two light beams with a polarization component is provided in a common optical path portion when processing both front and back surfaces of the disk, and is provided in two optical paths branched by the polarization beam splitter. Since the laser power adjusting means for adjusting the powers of the laser beams incident on the objective lenses provided in the component optical path and the S-polarized component optical path respectively to be equal to each other is provided, a simple optical configuration is adopted and a laser light source is used. Even if the characteristic of the means for branching the laser beam changes due to heat or other external influences, it is possible to form uniform bumps on both the front and back surfaces of the disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】磁気ディスクの加工領域を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a processed area of a magnetic disk.

【図2】テクスチャ加工により形成されるバンプの一例
を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of bumps formed by texture processing.

【図3】本発明の実施の一形態を示すレーザテクスチャ
装置の光学系構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an optical system of a laser texture device showing an embodiment of the present invention.

【図4】レーザパワー調整手段の作動説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view of laser power adjusting means.

【図5】従来技術によるレーザテクスチャ装置の光学系
構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of an optical system of a laser texture device according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ディスク 10C CSS
領域 10D データ記録領域 11 バンプ 12 スピンドル手段 13 レーザ光
照射手段 14 共通光路部 15P P偏光
光路部 15S S偏光光路部 20 レーザ光
源 21 アイソレータ 22 NDフィ
ルタ 23 ビームエキスパンダ 24 第1の偏
光ビームスプリッタ 26P,26S λ/2波長板 27P,27S 第2の偏光ビ−ムスプリッタ 28P,28S 対物レンズユニット 29P,29S ビ−ムサンプラ 30P,30S パワーディテクタ 31P,31S 回転駆動手段
10 disk 10C CSS
Area 10D Data recording area 11 Bump 12 Spindle means 13 Laser light irradiation means 14 Common optical path portion 15P P polarized light optical path portion 15S S polarized light optical path portion 20 Laser light source 21 Isolator 22 ND filter 23 Beam expander 24 First polarized beam splitter 26P, 26S λ / 2 wavelength plates 27P, 27S Second polarization beam splitters 28P, 28S Objective lens units 29P, 29S Beam samplers 30P, 30S Power detectors 31P, 31S Rotation drive means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宗藤 正利 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 4E068 AH00 CA05 CC00 CD04 CD08 CK01 DA12 5D112 AA27 GA17    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masatoshi Soto             Hitachi Electronics, 3-16-3 Higashi, Shibuya-ku, Tokyo             Engineering Co., Ltd. F-term (reference) 4E068 AH00 CA05 CC00 CD04 CD08                       CK01 DA12                 5D112 AA27 GA17

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ディスクをスピンドルに装着して、この
スピンドルによりディスクを回転させながら、レーザ光
源及び対物レンズを含むレーザ光照射手段からのレーザ
パルスを所定のピッチ間隔でディスクの両面に照射する
ことによって、ディスク表裏両面に対して所定の範囲に
わたって規則的な突起を形成するレーザテクスチャ装置
において、1個のレーザ光源と、このレーザ光源からの
直線偏光からなるレーザ光の偏光面を45°回転させる
偏光面制御手段と、この偏光面制御手段からの出力光を
P偏光成分とS偏光成分との2光束に分ける偏光ビーム
スプリッタとをディスクの表裏両面を加工するための共
通光路部に設け、またこの偏光ビームスプリッタで分岐
された2つの光路に設けられ、これらP偏光成分光路と
S偏光成分光路とにそれぞれ設けた対物レンズへの入射
光のパワーが等しくなるように調整するレーザパワー調
整手段を設ける構成としたことを特徴とするレーザテク
スチャ装置。
1. A disk is mounted on a spindle, and while the disk is rotated by the spindle, laser pulses from a laser light irradiation means including a laser light source and an objective lens are applied to both sides of the disk at a predetermined pitch interval. In a laser texture device that forms regular projections on both front and back surfaces of a disk over a predetermined range, one laser light source and the polarization plane of linearly polarized laser light from this laser light source are rotated by 45 °. A polarization plane control means and a polarization beam splitter for splitting the output light from this polarization plane control means into two light fluxes of a P polarization component and an S polarization component are provided in a common optical path portion for processing both front and back surfaces of the disc, and It is provided in two optical paths branched by this polarization beam splitter, and these P-polarized component optical path and S-polarized component optical path are provided. The laser texture apparatus being characterized in that a configuration in which a laser power adjusting means for adjusting so that the power of the incident light to the objective lens is equal provided Re respectively.
【請求項2】 前記偏光面制御手段は、前記レーザ光源
への戻り光を遮断するアイソレータで構成したことを特
徴とする請求項1記載のレーザテクスチャ装置。
2. The laser texture device according to claim 1, wherein the polarization plane control means is constituted by an isolator that blocks return light to the laser light source.
【請求項3】 前記アイソレータと前記偏光ビームスプ
リッタとの間には、ビームエキスパンダを設ける構成と
したことを特徴とする請求項2記載のレーザテクスチャ
装置。
3. The laser texture device according to claim 2, wherein a beam expander is provided between the isolator and the polarization beam splitter.
【請求項4】 前記レーザパワー調整手段としては、前
記P偏光成分光路及びS偏光成分光路にそれぞれλ/2
波長板と第2の偏光ビームスプリッタとを設け、これら
各第2の偏光ビームスプリッタと前記対物レンズとの間
にパワー検出器を配置して、これら各パワー検出器で検
出したP偏光成分及びS偏光成分の光がそれぞれ所定の
パワーとなるように、前記λ/2波長板による偏光方位
ベクトルを変化させる構成としたことを特徴とする請求
項1記載のレーザテクスチャ装置。
4. The laser power adjusting means has λ / 2 in the P polarization component optical path and the S polarization component optical path, respectively.
A wavelength plate and a second polarization beam splitter are provided, and a power detector is arranged between each of the second polarization beam splitters and the objective lens, and the P polarization component and S detected by these power detectors and S 2. The laser texture device according to claim 1, wherein the polarization azimuth vector by the λ / 2 wavelength plate is changed so that the light of the polarization component has a predetermined power.
JP10238138A 1998-08-25 1998-08-25 Laser texture device Pending JP2000061666A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010086691A (en) * 2000-03-02 2001-09-15 추후제출 laser cutting method and apparatus
JP2007021509A (en) * 2005-07-12 2007-02-01 Mitsubishi Electric Corp Laser beam machine
CN108123011A (en) * 2018-01-11 2018-06-05 温州大学激光与光电智能制造研究院 Laser making herbs into wool equipment and its method

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