JPH11329727A - Rgb light emitting organic el element - Google Patents

Rgb light emitting organic el element

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JPH11329727A
JPH11329727A JP10139834A JP13983498A JPH11329727A JP H11329727 A JPH11329727 A JP H11329727A JP 10139834 A JP10139834 A JP 10139834A JP 13983498 A JP13983498 A JP 13983498A JP H11329727 A JPH11329727 A JP H11329727A
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JP
Japan
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layer
light
organic
light emitting
electrode layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP10139834A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhide Ota
和秀 太田
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
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Publication of JPH11329727A publication Critical patent/JPH11329727A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an RGB light-emitting organic EL element capable of emitting only monochromatic light and having high luminous efficiency. SOLUTION: This EL element is composed of: an organic EL (electroluminescence) layer which further consists of a transparent substrate 1, a transparent first electrode layer 3, an organic light emitting layer 4 for emitting ultraviolet light, and a transparent second electrode layer 5; and three kinds of fluorescent materials 6 each emitting one of the three primary colors of R, G, and B. Since full-color display can be performed using the fluorescent materials 6 emitting light by irradiation of ultraviolet light from the light emitting layer 4, this structure makes it easy to form a minute pattern of the organic EL layer without using color conversion filters or the like and hence the luminous efficiency is high.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は発光層に有機材料を
用いた有機EL素子に関し、詳しくはR,G及びBの3
原色可視光を発しフルカラーディスプレイとして利用で
きる有機EL素子の構造に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an organic EL device using an organic material for a light emitting layer.
The present invention relates to a structure of an organic EL device that emits visible light of primary colors and can be used as a full-color display.

【0002】[0002]

【従来の技術】表示用ディスプレイデバイスとしては、
ブラウン管(Cathode Ray Tube)、液晶(Liquid Cryst
al)、プラズマ(Plasma)、発光ダイオード(Light Em
ittingDiode)及びEL(Electro Luminescence)など
が従来より知られ、TV、パーソナルコンピュータなど
各種ディスプレイに広く利用されている。
2. Description of the Related Art Display devices for display include:
CRT (Cathode Ray Tube), LCD (Liquid Cryst)
al), plasma (Plasma), light emitting diode (Light Em)
It has been known from the related art such as itting Diode) and EL (Electro Luminescence), and is widely used for various displays such as TVs and personal computers.

【0003】この中でもELは自発光形であり、また薄
膜を用いることができるために薄い表示素子として期待
されている。そして薄膜型直流ELとして、有機薄膜E
Lが近年注目を集めている。例えばフルカラー用ディス
プレイとするためには、赤、緑、青の3原色を効率よく
発光する素子が必要であるが、無機ELでは青色につい
ては発光効率の低い材料しかない。しかし有機ELによ
れば、青色も効率よく発光できる素子が開発されてい
る。
[0003] Among them, EL is a self-luminous type, and is expected to be a thin display element because it can use a thin film. And, as a thin film type DC EL, an organic thin film E
L has attracted attention in recent years. For example, in order to form a full-color display, an element that efficiently emits the three primary colors of red, green, and blue is required. However, in inorganic EL, there is only a material with low emission efficiency for blue. However, according to the organic EL, an element capable of efficiently emitting blue light has been developed.

【0004】フルカラーディスプレイとして利用できる
有機EL素子としては、例えば図3に示す構造のものが
知られている。この有機EL素子は、ガラス基板 100
と、ガラス基板 100上に形成された透明電極膜 101と、
透明電極膜 101上に形成された正孔輸送層 102と、正孔
輸送層 102上に互いに区分されて形成されR,G及びB
の3原色を発する3種類の発光体層 103と、発光体層 1
03上にそれぞれ形成された電子輸送層 104と、電子輸送
層 104上にそれぞれ形成された背面電極層 105とから構
成され、正孔輸送層 102、発光体層 103及び電子輸送層
104で発光層 200が構成されている。
As an organic EL device usable as a full-color display, for example, one having a structure shown in FIG. 3 is known. This organic EL element is a glass substrate 100
And a transparent electrode film 101 formed on a glass substrate 100,
A hole transport layer 102 formed on the transparent electrode film 101 and R, G and B formed separately on the hole transport layer 102 from each other.
Three types of light emitting layers 103 emitting the three primary colors, and light emitting layer 1
And a back electrode layer 105 formed on the electron transport layer 104, respectively. The hole transport layer 102, the light emitting layer 103, and the electron transport layer
The light emitting layer 200 is formed at 104.

【0005】この有機EL素子では、電子輸送層 104へ
の正孔の注入あるいは正孔輸送層 102への電子の注入に
より再結合発光が生じる。このように発光ダイオードと
類似した注入発光であるため発光電圧が約10Vと低いこ
とが特徴である。そして電子輸送層 104と正孔輸送層 1
02の間に発光体層 103を介在させて機能を分離すること
により、発光体層 103の材料を広い範囲から選択するこ
とが可能となった。
In this organic EL device, recombination light emission is caused by injection of holes into the electron transport layer 104 or injection of electrons into the hole transport layer 102. As described above, the light emission voltage is as low as about 10 V because of the injection light emission similar to the light emitting diode. The electron transport layer 104 and the hole transport layer 1
By separating the functions by interposing the light emitting layer 103 between the layers 02, the material of the light emitting layer 103 can be selected from a wide range.

【0006】このように発光体層 103の材料を選択する
ことでR,G及びBの3原色を発するように構成された
上記有機EL素子では、3種類の発光層 200の発光はガ
ラス基板 100を通して視認される。したがって3種類の
発光体層 103への電圧印加を選択することでフルカラー
を発光させることができ、この有機EL素子をフルカラ
ーディスプレイの画素として利用することができる。
[0006] In the above-mentioned organic EL device configured to emit three primary colors of R, G and B by selecting the material of the light emitting layer 103, the three types of light emitting layers 200 emit light from the glass substrate 100. Viewed through. Therefore, full-color light emission can be achieved by selecting voltage application to the three types of light-emitting layers 103, and this organic EL element can be used as a pixel of a full-color display.

【0007】また、図4に示す有機EL素子では、発光
層 200は1種類で青色光のみを発するように構成され、
3種類の色変換層 300により青色光を赤色光、緑色光及
び青色光にそれぞれ変換している。このようにすれば、
水や薬品に弱い発光層 200を加工する回数を減らすこと
ができる。さらに、図5に示す有機EL素子では、発光
層 200は1種類で白色光のみを発するように構成され、
3種類のフィルタ 400により白色光から赤色光、緑色光
及び青色光をそれぞれ取り出しいる。このようにして
も、水や薬品に弱い発光層 200を加工する回数を減らす
ことができる。
In the organic EL device shown in FIG. 4, the light emitting layer 200 is configured to emit only one type of blue light.
The three types of color conversion layers 300 convert blue light into red light, green light and blue light, respectively. If you do this,
The number of times the light-emitting layer 200 that is weak to water or chemicals is processed can be reduced. Further, in the organic EL device shown in FIG. 5, the light emitting layer 200 is configured to emit only white light by one kind,
Red light, green light and blue light are respectively extracted from white light by three types of filters 400. Also in this case, the number of times of processing the light emitting layer 200 that is vulnerable to water and chemicals can be reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図3に示す
ような発光材料が違う3種類の発光層 200を同一基板上
に形成するためには、まず赤色の層を形成して加工し、
次に緑色層を形成・加工、さらに青色層を形成・加工す
るといったプロセスが必要となり、最低でも3回発光層
を加工しなければならない。ところが有機層である発光
層 200は、水分に弱く有機溶剤及び薬品に対する耐久性
にも乏しい。このため発光層 200を微細なパターンに加
工するのが困難であるという不具合がある。また各色に
より駆動電圧が異なるという問題もある。
By the way, in order to form three kinds of light emitting layers 200 having different light emitting materials on the same substrate as shown in FIG. 3, first, a red layer is formed and processed.
Next, a process of forming and processing a green layer and further forming and processing a blue layer is required, and the light emitting layer must be processed at least three times. However, the light emitting layer 200, which is an organic layer, is weak to moisture and has poor durability to organic solvents and chemicals. Therefore, there is a problem that it is difficult to process the light emitting layer 200 into a fine pattern. There is also a problem that the driving voltage differs for each color.

【0009】この点、図4,5に示すように、発光層 2
00から青色光又は白色光の単色光のみを発するようにす
れば、発光層 200を微細なパターンに加工するのが容易
となり、駆動電圧の問題もない。しかし色変換層 300を
用いる方法では、色変換時に生じる損失により発光効率
が低下するという不具合があり、フィルタ 400を用いる
方法でも、フィルタ 400の部分で発光光量の損失が生じ
るため発光効率が低下するという問題がある。
In this regard, as shown in FIGS.
If only the monochromatic light of blue light or white light is emitted from 00, it becomes easy to process the light emitting layer 200 into a fine pattern, and there is no problem of the driving voltage. However, in the method using the color conversion layer 300, there is a problem that the light emission efficiency is reduced due to the loss generated at the time of color conversion. There is a problem.

【0010】また上記した有機EL素子では、いずれも
発光層の光を直接視認するものであるために、発光層の
ピンホールなどに起因するダークスポットが目立つとい
う不具合もあった。本発明はこのような事情に鑑みてな
されたものであり、単色光のみを発するようにするとと
もに、発光効率の高いRGB発光有機EL素子とするこ
とを目的とする。
Further, in the above-mentioned organic EL devices, since the light in the light emitting layer is directly visually recognized, there is a problem that dark spots due to pinholes in the light emitting layer are conspicuous. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an RGB light emitting organic EL element that emits only monochromatic light and has high luminous efficiency.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のRGB発光有機EL素子の特徴は、透明な基板と、
基板上に形成された透明な第1電極層と第1電極層上に
形成され電圧印加により紫外光を発光する有機物よりな
る発光層と透明な第2電極層とからなる有機EL層と、
有機EL層に形成され発光層からの紫外光により発光す
る蛍光体と、からなり、有機EL層は少なくとも第2電
極層が互いに離間して3つに区分され、蛍光体はR,G
及びBの3原色可視光を発する3種類からなりそれぞれ
有機EL層の区分に対応して設けられ、蛍光体からの可
視光を基板の表面側から視認できるように構成されたこ
とにある。
The feature of the RGB light emitting organic EL device of the present invention which solves the above problems is that a transparent substrate,
An organic EL layer formed of a transparent first electrode layer formed on a substrate, a light emitting layer formed on the first electrode layer, made of an organic material that emits ultraviolet light by applying a voltage, and a transparent second electrode layer;
A phosphor that is formed on the organic EL layer and emits light by ultraviolet light from the light emitting layer. The organic EL layer is divided into at least two second electrode layers separated from each other.
And B are provided corresponding to the divisions of the organic EL layers, each of which emits visible light of three primary colors, so that visible light from the phosphor can be visually recognized from the front surface side of the substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のRGB発光有機EL素子
では、有機EL層から発光される紫外光により3種類の
蛍光体がそれぞれ発光して、R,G及びBの3原色によ
るフルカラーが表示される。したがって有機EL層は単
色発光となるので、有機EL層を微細なパターンに加工
するのが容易となり、駆動電圧を一定にできるので回路
も単純化できる。また蛍光体は一般に無機物であるので
耐久性に優れ、長寿命のフルカラーディスプレイとする
ことができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the RGB light emitting organic EL device of the present invention, three kinds of phosphors respectively emit light by ultraviolet light emitted from the organic EL layer, and a full color display by three primary colors of R, G and B is displayed. Is done. Therefore, since the organic EL layer emits monochromatic light, it is easy to process the organic EL layer into a fine pattern, and since the driving voltage can be kept constant, the circuit can be simplified. Further, since the phosphor is generally an inorganic substance, it has excellent durability and can be used as a long-life full-color display.

【0013】さらに蛍光体による間接光を視認すること
となるため、有機EL層からの直接光を視認する場合に
比べて、有機EL層のピンホールなどにより発生するダ
ークスポットが目立ちにくく、表示品質が向上する。基
板としては、ガラス基板、樹脂基板など透明なものが用
いられる。また、基板内を紫外光が透過して視認されな
いように、基板と第1電極層の間に、あるいは第1電極
層と発光層との間に、可視光は透過し紫外線を反射する
紫外線反射層を設けることが望ましい。このような紫外
線反射層の材質としては、例えばZnO、TiO2 など
が例示される。
Further, since the indirect light due to the fluorescent material is visually recognized, a dark spot generated by a pinhole or the like of the organic EL layer is less conspicuous as compared with the case where the direct light from the organic EL layer is visually recognized. Is improved. As the substrate, a transparent substrate such as a glass substrate and a resin substrate is used. In addition, between the substrate and the first electrode layer, or between the first electrode layer and the light emitting layer, visible light is transmitted and ultraviolet light is reflected so that ultraviolet light is transmitted through the substrate and is not visually recognized. It is desirable to provide a layer. Examples of the material of such an ultraviolet reflective layer include ZnO and TiO 2 .

【0014】第1電極層としては、従来と同様にIT
O、AZO(Al添加ZnO)、SnO2 などの透明薄
膜を用いることができる。これは基板に成膜すればよい
ので、高周波スパッタリング法など高温が作用する成膜
法を用いても差し支えない。この第1電極層の厚さは一
般に10〜 300nmの範囲とするのが好ましいが、特に制
限されない。
The first electrode layer is made of an IT
A transparent thin film such as O, AZO (Al-added ZnO), or SnO 2 can be used. Since a film may be formed on the substrate, a film forming method in which a high temperature acts, such as a high frequency sputtering method, may be used. The thickness of the first electrode layer is generally preferably in the range of 10 to 300 nm, but is not particularly limited.

【0015】発光層は、従来と同様に正孔輸送層と、正
孔輸送層上に形成された発光体層と、発光体層上に形成
された電子輸送層とから構成することができる。このう
ち正孔輸送層としては、従来と同様にトリフェニルジア
ミン誘導体などの第3級アミン誘導体、(ジ)スチリル
ベンゼン(ピラジン)誘導体、ジオレフィン誘導体、オ
キサジアゾール誘導体などのジ(トリ)アゾール誘導
体、キノサリン誘導体、フラン系化合物、ヒドラゾン系
化合物、ナフタセン誘導体、クマリン系化合物、キナク
リドン誘導体、インドール系化合物、ピレン系化合物、
アントラセン系化合物などが例示される。
The light emitting layer can be composed of a hole transporting layer, a light emitting layer formed on the hole transporting layer, and an electron transporting layer formed on the light emitting layer, as in the prior art. Among them, the hole transport layer is formed of a tertiary amine derivative such as a triphenyldiamine derivative, a di (tri) azole such as a (di) styrylbenzene (pyrazine) derivative, a diolefin derivative, or an oxadiazole derivative, as in the related art. Derivatives, quinosaline derivatives, furan compounds, hydrazone compounds, naphthacene derivatives, coumarin compounds, quinacridone derivatives, indole compounds, pyrene compounds,
Examples include anthracene-based compounds.

【0016】発光体層としては、電圧の印加により紫外
光を発するものが用いられ、例えばポリシランなどが例
示される。また電子輸送層としては、ポリシラン、オキ
サジアゾール誘導体、トリスキノリノアルミニウム錯体
などが例示される。正孔輸送層の厚さは、従来と同様に
10〜 100nmとするのが望ましい。この範囲より薄いと
ピンホールが多くなるとともにダークスポットが多発
し、この範囲より厚くなると発光効率が低下する。また
発光体層の厚さは、従来と同様に10〜100nmとするの
が望ましい。この範囲より薄いとピンホールが多くなる
とともにダークスポットが多発し、この範囲より厚くな
ると発光効率が低下する。そして電子輸送層の厚さは、
従来と同様に10〜 100nmとするのが望ましい。この範
囲より薄いとピンホールが多くなるとともにダークスポ
ットが多発し、この範囲より厚くなると発光効率が低下
する。
The light emitting layer emits ultraviolet light when a voltage is applied, and examples thereof include polysilane. Examples of the electron transport layer include polysilane, oxadiazole derivatives, and trisquinolino aluminum complexes. The thickness of the hole transport layer is the same as before.
It is desirable to set it to 10 to 100 nm. When the thickness is smaller than this range, the number of pinholes increases and dark spots frequently occur. When the thickness is larger than this range, the luminous efficiency decreases. The thickness of the luminous body layer is desirably 10 to 100 nm as in the conventional case. When the thickness is smaller than this range, the number of pinholes increases and dark spots frequently occur. When the thickness is larger than this range, the luminous efficiency decreases. And the thickness of the electron transport layer is
It is desirable to set the thickness to 10 to 100 nm as in the conventional case. When the thickness is smaller than this range, the number of pinholes increases and dark spots frequently occur. When the thickness is larger than this range, the luminous efficiency decreases.

【0017】なお発光層において、正孔輸送層と電子輸
送層の位置は、どちらが第1電極層側に位置してもよ
い。ただし、電子輸送層側は必ず仕事関数の小さい金属
電極と接触させなければならない。この発光層を構成す
る各層は、それぞれ真空蒸着法、ラングミュアブロジェ
ット蒸着法、ディップコーティング法、スピンコーティ
ング法、真空気体蒸着法、有機分子線エピタキシ法など
を用いて形成することができる。
In the light emitting layer, whichever of the hole transport layer and the electron transport layer may be located on the first electrode layer side. However, the electron transport layer side must be brought into contact with a metal electrode having a small work function. Each layer constituting the light emitting layer can be formed by a vacuum evaporation method, a Langmuir-Blodgett evaporation method, a dip coating method, a spin coating method, a vacuum gas evaporation method, an organic molecular beam epitaxy method, or the like.

【0018】第2電極層は、ITO、AZO(Al添加
ZnO)、SnO2 などの透明薄膜を用いることができ
る。しかし、もし第2電極層をITOやAZOなどから
形成しようとすると、高周波スパッタリングなどの薄膜
形成法を用いざるを得ず、高温又は蒸発原子の高エネル
ギーの作用により発光層が損傷してしまう。そこで第2
電極層は、透明な導電性金属層と導電性金属層表面に形
成された透明な陽極酸化膜とから構成することが望まし
い。つまり蒸着法などで比較的厚い導電性金属層を形成
し、それを陽極酸化処理することで透明な陽極酸化膜を
形成し、かつそれによって導電性金属層自体の厚さを薄
くして透明な第2電極層を形成することが望ましい。こ
のようにすれば、第2電極層を膜厚の制御が容易な2000
Å以上とすることができ、ピンホールの発生を防止でき
る。さらに陽極酸化膜は緻密で透明であるため、第2電
極層自体を保護するとともに、機械的にも熱にも弱い発
光層を保護することができ、水分に対するバリア層とし
ても機能させることができる。また陽極酸化膜は、蛍光
体の印刷が容易である。
As the second electrode layer, a transparent thin film of ITO, AZO (Al-added ZnO), SnO 2 or the like can be used. However, if the second electrode layer is formed from ITO, AZO, or the like, a thin film forming method such as high frequency sputtering must be used, and the light emitting layer is damaged by the action of high temperature or high energy of evaporated atoms. So the second
The electrode layer is preferably composed of a transparent conductive metal layer and a transparent anodic oxide film formed on the surface of the conductive metal layer. In other words, a relatively thick conductive metal layer is formed by vapor deposition, etc., which is anodized to form a transparent anodic oxide film, and thereby the thickness of the conductive metal layer itself is reduced to make it transparent. It is desirable to form a second electrode layer. With this configuration, the second electrode layer can be easily controlled in film thickness.
Å or more, and the occurrence of pinholes can be prevented. Furthermore, since the anodic oxide film is dense and transparent, it can protect the second electrode layer itself, protect the light-emitting layer that is mechanically and thermally weak, and can also function as a barrier layer against moisture. . The anodic oxide film is easy to print the phosphor.

【0019】上記した導電性金属層は、In−Sn,Z
n,Sn,Sn−Sbなどの導電性金属から形成するこ
とができる。またTi,Al,Al−Li,Mg,Mg
−Ag,Siなどの金属も用いることができる。この導
電性金属層は、蒸着法など高温が作用しない方法により
形成することができる。なお、電子輸送層側は必ず仕事
関数の小さい金属電極と接触させなければならないの
で、電子輸送層上に先ずAl,Al−Li,Mg−Ag
などを蒸着し、その上に陽極酸化により透明となりかつ
酸化膜が導電性を有するIn−Sn,Zn,Sn,Sn
−Sbなどを蒸着して構成することが望ましい。
The conductive metal layer is made of In-Sn, Z
It can be formed from a conductive metal such as n, Sn, or Sn-Sb. Ti, Al, Al-Li, Mg, Mg
-A metal such as Ag or Si can also be used. This conductive metal layer can be formed by a method in which high temperature does not act, such as a vapor deposition method. Since the electron transport layer must be brought into contact with a metal electrode having a small work function, Al, Al—Li, Mg—Ag are first placed on the electron transport layer.
And the like, on which In-Sn, Zn, Sn, and Sn which are transparent by anodic oxidation and whose oxide film is conductive
It is desirable to form by depositing -Sb or the like.

【0020】陽極酸化膜の厚さは、 100〜 300nmの範
囲とするのが好ましい。この厚さが1000nmを越えると
透明性が低下し、有機EL素子の発光輝度が低下するよ
うになる。なお陽極酸化膜は強度が高いので、その存在
により有機EL素子を機械的にあるいは水分などから保
護することができる。したがって陽極酸化膜の厚さは、
上記範囲内でできるだけ厚く形成することが望ましい。
The thickness of the anodic oxide film is preferably in the range of 100 to 300 nm. When the thickness exceeds 1000 nm, the transparency is reduced, and the emission luminance of the organic EL element is reduced. Since the anodic oxide film has high strength, the presence thereof can protect the organic EL element mechanically or from moisture. Therefore, the thickness of the anodic oxide film is
It is desirable to form as thick as possible within the above range.

【0021】陽極酸化膜を形成した後の導電性金属層の
厚さは、10〜 100nmの範囲とするのが好ましい。この
厚さが 150nmを越えると透明性が低下し、有機EL素
子の発光効率が低下するようになる。陽極酸化膜を形成
するには、通常の陽極酸化処理で行うことができる。陽
極酸化処理によれば、陽極酸化膜が形成されていない部
分に電流が流れて酸化が進行することから、ピンホール
などの欠陥のない均一な酸化膜を形成することができ
る。また陽極酸化膜の厚さは印加電圧により制御するこ
とができるので、厚さの制御はきわめて精度高く容易に
行うことができる。
The thickness of the conductive metal layer after forming the anodic oxide film is preferably in the range of 10 to 100 nm. When the thickness exceeds 150 nm, the transparency is reduced, and the luminous efficiency of the organic EL device is reduced. The formation of the anodic oxide film can be performed by ordinary anodic oxidation treatment. According to the anodic oxidation treatment, a current flows to a portion where no anodic oxide film is formed, and oxidation proceeds, so that a uniform oxide film without defects such as pinholes can be formed. Further, since the thickness of the anodic oxide film can be controlled by the applied voltage, the thickness can be easily and extremely accurately controlled.

【0022】本発明の有機EL素子では、少なくとも第
2電極層が互いに離間して3つに区分されている。第2
電極層のみを3つに区分してもよいし、その下部の発光
層もともに3つに区分してもよい。第2電極層のみを3
つに区分するのであれば、表示品質は若干低下するもの
の微細なパターンに加工するのが容易となる。そして蛍
光体としては、紫外光の照射によりR,G及びBの3原
色を発するものが用いられる。赤色を発色する蛍光体と
しては酸化イットリウム蛍光体(Y23 ;Eu)、オ
キシ硫化イットリウム蛍光体(Y2 2 S;Eu)など
を用いることができ、緑色を発色する蛍光体としては硫
化亜鉛蛍光体(ZnS;Cu、ZnS;Cu,Al)、
硫化カドミウム蛍光体((ZN,Cd)S;Cu,A
l)などを用いることができ、青色を発色する蛍光体と
しては硫化亜鉛蛍光体(ZnS;Ag)、タングステン
酸カルシウム(CaWO4 )などを用いることができ
る。
In the organic EL device of the present invention, at least the second electrode layer is divided into three sections separated from each other. Second
Only the electrode layer may be divided into three, or the light emitting layer thereunder may be divided into three. Only 3 for the second electrode layer
If it is divided into two, the display quality is slightly reduced, but it is easy to process it into a fine pattern. As the phosphor, one that emits three primary colors of R, G and B upon irradiation with ultraviolet light is used. As a phosphor that emits red light, an yttrium oxide phosphor (Y 2 O 3 ; Eu), an yttrium oxysulfide phosphor (Y 2 O 2 S; Eu), or the like can be used. Zinc sulfide phosphor (ZnS; Cu, ZnS; Cu, Al),
Cadmium sulfide phosphor ((ZN, Cd) S; Cu, A
1) can be used. As the phosphor that emits blue light, zinc sulfide phosphor (ZnS; Ag), calcium tungstate (CaWO 4 ), or the like can be used.

【0023】この蛍光体の厚さは、1〜数μmの範囲が
好ましいが特に制限されない。厚い方が発光層を保護す
る作用が大きくなる。また蛍光体は第2電極層上に設け
ることができるが、導電性の蛍光体であれば発光層と第
2電極層の間に設けてもよい。
The thickness of the phosphor is preferably in the range of 1 to several μm, but is not particularly limited. The thicker the effect, the greater the effect of protecting the light emitting layer. The phosphor can be provided on the second electrode layer, but may be provided between the light emitting layer and the second electrode layer as long as the phosphor is conductive.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 (実施例1)図1に本実施例の有機EL素子の模式的断
面図を示す。この有機EL素子は、ガラス基板1と、ガ
ラス基板1上に形成されTiO2 からなる厚さ 150〜 3
00nmの反射層2と、反射層2上に形成されITOから
なる厚さ 300nmの第1電極層3と、第1電極層3上に
形成された発光層4と、発光層4上に形成された第2電
極層5と、第2電極層5上に形成された蛍光体6とから
構成されている。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. (Example 1) FIG. 1 is a schematic sectional view of an organic EL device of this example. This organic EL element has a glass substrate 1 and a thickness of 150 to 3 made of TiO 2 formed on the glass substrate 1.
A reflective layer 2 having a thickness of 00 nm, a first electrode layer 3 having a thickness of 300 nm made of ITO and formed on the reflective layer 2, a light emitting layer 4 formed on the first electrode layer 3, and a light emitting layer formed on the light emitting layer 4; And a phosphor 6 formed on the second electrode layer 5.

【0025】上記構成のうち発光層4は、第1電極層3
上に形成された正孔輸送層40と、正孔輸送層40上に形成
された互いに離間して3つに区分された発光体層41と、
それぞれの発光体層41上に形成された電子輸送層42とか
ら構成されている。正孔輸送層40はトリフェニルジアミ
ン誘導体(TPD)から 700nmに形成され、発光体層
41はポリジメチルシランから 700nmに形成され、電子
輸送層42はキナクリドンを 0.1体積%含むAlq(アル
ミニウムトリキノリノール錯体)から 500nmに形成さ
れている。
In the above structure, the light emitting layer 4 comprises the first electrode layer 3
A hole transport layer 40 formed thereon, a light-emitting layer 41 formed on the hole transport layer 40 and separated from each other into three,
And an electron transport layer formed on each of the light emitting layers 41. The hole transport layer 40 is formed at 700 nm from a triphenyldiamine derivative (TPD),
41 is formed at 700 nm from polydimethylsilane, and the electron transport layer 42 is formed at 500 nm from Alq (aluminum triquinolinol complex) containing 0.1% by volume of quinacridone.

【0026】また第2電極層5は、それぞれの電子輸送
層42上に形成された導電性金属層50と、導電性金属層50
上に形成された陽極酸化膜51とから構成されている。そ
して導電性金属層50は、図2に示すように、電子輸送層
42上に形成された厚さ 500ÅのAl−Li合金層52と、
Al−Li合金層52上に形成された厚さ 500ÅのIn−
Sn合金層53とから構成され、陽極酸化膜51はITOか
ら構成されている。
The second electrode layer 5 includes a conductive metal layer 50 formed on each electron transport layer 42 and a conductive metal layer 50
And an anodic oxide film 51 formed thereon. Then, as shown in FIG. 2, the conductive metal layer 50
An Al-Li alloy layer 52 having a thickness of 500 ° formed on 42;
500-mm thick In- formed on the Al-Li alloy layer 52
The anodic oxide film 51 is composed of ITO and the Sn alloy layer 53.

【0027】さらに蛍光体6は、赤色光を発光するR蛍
光体60と、緑色光を発光するG蛍光体61と、青色光を発
光するB蛍光体62とからなり、3つの第2電極層5上に
それぞれ50μmの厚さに形成されている。以下、この有
機EL素子の製造方法を説明し、構成の詳細な説明に代
える。先ずガラス基板1を用意し、その表面に高周波ス
パッタリングによりZnOから反射層2を成膜した。次
いで反射層2の表面に高周波スパッタリングによりIT
Oから第1電極層3を成膜した。
The phosphor 6 comprises an R phosphor 60 for emitting red light, a G phosphor 61 for emitting green light, and a B phosphor 62 for emitting blue light. 5 are each formed to a thickness of 50 μm. Hereinafter, a method for manufacturing the organic EL device will be described, and the detailed description of the configuration will be substituted. First, a glass substrate 1 was prepared, and a reflection layer 2 was formed from ZnO on the surface thereof by high frequency sputtering. Then, the surface of the reflective layer 2 is subjected to IT by high frequency sputtering.
The first electrode layer 3 was formed from O.

【0028】次に真空蒸着法を用いて、第1電極層3上
に正孔輸送層40を成膜し、次いでマスクを用いて発光体
層41及び電子輸送層42をこの順にそれぞれ成膜し、3つ
に区分された発光層4をそれぞれ形成した。そして発光
層4の電子輸送層42の表面に、同様のマスクを用いてA
l−Li合金層52を形成し、次いでIn−Sn合金層を
形成した。
Next, a hole transport layer 40 is formed on the first electrode layer 3 by using a vacuum evaporation method, and then a luminous layer 41 and an electron transport layer 42 are formed in this order using a mask. The light emitting layer 4 divided into three was formed, respectively. Then, A is formed on the surface of the electron transport layer 42 of the light emitting layer 4 by using a similar mask.
An l-Li alloy layer 52 was formed, and then an In-Sn alloy layer was formed.

【0029】こうして作製された素子を1重量%のリン
酸水溶液からなる電解液中に浸漬し、素子を陽極とする
とともに素子とほぼ同面積を有するAl板を陰極とし
て、 100Vの直流電圧を印加して陽極酸化を行った。こ
こで形成される陽極酸化膜の膜厚は印加電圧に応じて決
まり、印加電圧が 100Vであれば形成される陽極酸化膜
の膜厚は 150nmとなる。したがって素子の厚さ 200n
mの導電性金属層は、表面から 150nmの厚さの範囲が
陽極酸化されてITOよりなる陽極酸化膜が形成され、
透明な第2電極層5が形成された。
The device thus manufactured was immersed in an electrolytic solution consisting of a 1% by weight aqueous solution of phosphoric acid, and a DC voltage of 100 V was applied using the device as an anode and an Al plate having substantially the same area as the device as a cathode. Then, anodic oxidation was performed. The thickness of the anodic oxide film formed here is determined according to the applied voltage. If the applied voltage is 100 V, the thickness of the formed anodic oxide film is 150 nm. Therefore, the element thickness 200n
The conductive metal layer having a thickness of 150 nm from the surface is anodized to form an anodized film made of ITO,
A transparent second electrode layer 5 was formed.

【0030】さらに、Y2 2 S;Eu、ZnS;C
u,Al及びZnS;Agを用い、第2電極層5上にそ
れぞれマスクを用いて、R蛍光体60、G蛍光体61及びB
蛍光体62をそれぞれ印刷により形成した。得られた有機
EL素子では、第1電極層2と第2電極層5への直流電
圧の印加により発光層4から紫外光が発光する。この紫
外光は、透明な第2電極層5を透過して蛍光体6に照射
され、蛍光体6から蛍光が発光する。そしてこの蛍光
は、第2電極層5、発光層4第1電極層3、反射層2及
びガラス基板1を透過して視認される。
Further, Y 2 O 2 S; Eu, ZnS; C
u, Al and ZnS; using Ag, and using a mask on each of the second electrode layers 5 to form R phosphors 60, G phosphors 61 and B
Each of the phosphors 62 was formed by printing. In the obtained organic EL device, ultraviolet light is emitted from the light emitting layer 4 by applying a DC voltage to the first electrode layer 2 and the second electrode layer 5. The ultraviolet light passes through the transparent second electrode layer 5 and irradiates the phosphor 6, and the phosphor 6 emits fluorescence. The fluorescent light is visually recognized through the second electrode layer 5, the light emitting layer 4, the first electrode layer 3, the reflective layer 2, and the glass substrate 1.

【0031】またガラス基板1側へ向かった紫外光は、
反射層2で反射し第2電極層5を透過して蛍光体6を発
光させる。これにより本実施例のRGB発光有機EL素
子では、高い発光効率が得られる。また陽極酸化膜51は
強度が高く、かつIn−Sn合金層53との付着性に優れ
ている。さらに陽極酸化膜51と無機物である蛍光体6と
の付着性も優れているため、発光層4は陽極酸化膜51及
び蛍光体6によって保護され耐久性に優れている。
The ultraviolet light directed toward the glass substrate 1 is
The light is reflected by the reflection layer 2 and passes through the second electrode layer 5 to cause the phosphor 6 to emit light. Thereby, in the RGB light emitting organic EL device of this embodiment, high luminous efficiency can be obtained. Further, the anodic oxide film 51 has high strength and excellent adhesion to the In—Sn alloy layer 53. Further, since the adhesion between the anodic oxide film 51 and the phosphor 6 which is an inorganic substance is excellent, the light emitting layer 4 is protected by the anodic oxide film 51 and the phosphor 6 and has excellent durability.

【0032】[0032]

【発明の効果】すなわち本発明のRGB発光有機EL素
子によれば、有機EL層は単色光である紫外光のみを発
光すればよいので、発光層を微細なパターンに加工する
のが容易でありピンホールなどの発生も防止される。し
たがって製造工数が小さく、ダークスポットが生じにく
くなるため表示品質が向上する。
According to the RGB light emitting organic EL device of the present invention, since the organic EL layer only needs to emit monochromatic ultraviolet light, it is easy to process the light emitting layer into a fine pattern. The occurrence of pinholes and the like is also prevented. Therefore, the number of manufacturing steps is small, and a dark spot is unlikely to occur, so that the display quality is improved.

【0033】また、蛍光体により有機層が保護されるた
め耐久性が向上する。
Further, since the organic layer is protected by the phosphor, the durability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例のRGB発光有機EL素子の
模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an RGB light emitting organic EL device according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1の要部拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of FIG.

【図3】従来の有機EL素子の模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of a conventional organic EL element.

【図4】従来の有機EL素子の模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a conventional organic EL element.

【図5】従来の有機EL素子の模式的断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of a conventional organic EL element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ガラス基板 2:反射層 3:第
1電極層 4:発光層 5:第2電極層 6:蛍
光体 40:正孔輸送層 41:発光体層 42:電
子輸送層 50:導電性金属層 51:陽極酸化膜
1: glass substrate 2: reflective layer 3: first electrode layer 4: light-emitting layer 5: second electrode layer 6: phosphor 40: hole transport layer 41: light-emitting layer 42: electron transport layer 50: conductive metal layer 51: Anodized film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な基板と、該基板上に形成された透
明な第1電極層と該第1電極層上に形成され電圧印加に
より紫外光を発光する有機物よりなる発光層と透明な第
2電極層とからなる有機EL層と、該有機EL層に形成
され該発光層からの紫外光により発光する蛍光体と、か
らなり、 該有機EL層は少なくとも該第2電極層が互いに離間し
て3つに区分され、該蛍光体はR,G及びBの3原色可
視光を発する3種類からなりそれぞれ該有機EL層の区
分に対応して設けられ、該蛍光体からの可視光を該基板
の表面側から視認できるように構成されたことを特徴と
するRGB発光有機EL素子。
1. A transparent substrate, a transparent first electrode layer formed on the substrate, and a light emitting layer formed on the first electrode layer and formed of an organic material that emits ultraviolet light by applying a voltage, and a transparent first electrode layer. An organic EL layer composed of two electrode layers; and a phosphor formed on the organic EL layer and emitting light by ultraviolet light from the light emitting layer, wherein the organic EL layer has at least the second electrode layer separated from each other. The phosphors are composed of three types that emit visible light of three primary colors of R, G and B, respectively, and are provided corresponding to the sections of the organic EL layer, respectively. An RGB light-emitting organic EL device, which is configured to be visible from the front side of the substrate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004039371A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Korai Kagi Kofun Yugenkoshi White light organic electroluminescent device and its manufacturing method
US7294965B2 (en) 2002-12-25 2007-11-13 Fuji Electric Holding Co., Ltd. Color-conversion light-emitting device, method for manufacturing the same, and display using the same
US20180287101A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 Japan Display Inc. Display device and method of manufacturing a display device

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