JPH1132476A - 内部電源生成回路及び半導体装置 - Google Patents

内部電源生成回路及び半導体装置

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JPH1132476A
JPH1132476A JP9182501A JP18250197A JPH1132476A JP H1132476 A JPH1132476 A JP H1132476A JP 9182501 A JP9182501 A JP 9182501A JP 18250197 A JP18250197 A JP 18250197A JP H1132476 A JPH1132476 A JP H1132476A
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power supply
transistor
gate
control signal
terminal
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JP9182501A
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Shuichi Saito
修一 斎藤
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】第2の電源に供給する電流量を確保することの
できる内部電源生成回路を提供すること。 【解決手段】内部電源生成回路の第1のスイッチ素子3
には第3の制御信号S3が入力され、該第3の制御信号
S3に基づいて第1の容量素子C1に電荷を蓄積する場
合には第1のトランジスタT1のゲートを第2の容量素
子の第1端子に接続し、第2の電源Vppに昇圧電圧を供
給する場合には第1のトランジスタT1のゲートを低電
位電源Vssに接続する。第2のスイッチ素子4には第4
の制御信号S4が入力され、該第4の制御信号S4に基
づいて第2の容量素子C2に電荷を蓄積する場合には第
2のトランジスタT2のゲートを第1の容量素子C1の
第1端子に接続し、第2の電源Vppに昇圧電圧を供給す
る場合には第2のトランジスタT2のゲートを低電位電
源Vssに接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置において
外部から供給される外部電源を昇圧して電源電圧を生成
する内部電源生成回路に関するものである。
【0002】近年の半導体装置では、外部電源を低電圧
化して低消費電力化が進められている。その半導体装置
には、内部回路の高速化等の目的のために外部電源を昇
圧した昇圧電源を生成する内部電源生成回路が備えられ
ている。そのため、基準電源がより低い電圧状態で昇圧
電源を生成する必要がある。そして基準電源の消費電流
を増やすことなく、内部電源生成回路が昇圧電源へ供給
することができる電流量を確保する必要がある。
【0003】
【従来の技術】図4は、従来の半導体装置に搭載される
内部電源生成回路を示す。インバータ回路1の入力端子
には、第1の制御信号S1が入力される。インバータ回
路1の出力端子は、容量C1の一端に接続されている。
容量C1の他端は、ダイオードD1のカソード及びPM
OSトランジスタT1のソースに接続されている。ダイ
オードD1のアノードには電源Vccが供給され、PMO
SトランジスタT1のドレインから昇圧電源Vppが出力
される。
【0004】同様に、インバータ回路2の入力端子に
は、第2の制御信号S2が入力され、同インバータ回路
2の出力端子は、容量C2の一端に接続されている。容
量C2の他端は、ダイオードD2のカソード及びPMO
SトランジスタT2のソースに接続されている。ダイオ
ードD2のアノードには電源Vccが供給され、PMOS
トランジスタT2のドレインから昇圧電源Vppが出力さ
れる。そして、PMOSトランジスタT1のゲートはダ
イオードD2のカソードに接続され、PMOSトランジ
スタT2のゲートはダイオードD1のカソードに接続さ
れている。
【0005】第1の制御信号S1がHレベルの時、イン
バータ回路1の出力端子、即ちノードN1は低電位電源
Vss(例えば0V(GND))になる。この時、容量C
1には電源VccからダイオードD1を介して電荷が蓄積
される。
【0006】次に、第1の制御信号S1がHレベルから
Lレベルになると、ノードN1の電位は低電位電源Vss
レベルから電源Vccレベルとなり、ノードN2の電位が
昇圧される。この時、Hレベルの第2の制御信号S2に
基づいて容量C2には電源Vccから電荷が供給されてい
るので、PMOSトランジスタT1のゲート電位は電源
Vccレベル以下となり、PMOSトランジスタT1はオ
ンする。そのオンしたPMOSトランジスタT1を介し
てノードN2の電位がPMOSトランジスタT1を介し
て昇圧電源Vppとして出力される。
【0007】一方、第2の制御信号S2は、前記第1の
制御信号S1の反転信号であって第1の制御信号S1が
HレベルのときLレベル、第1の制御信号S1がLレベ
ルのときHレベルとなる。従って、第1の制御信号S1
がHレベル(第2の制御信号S2がLレベル)のとき、
容量C1には電源Vccから電荷が蓄積され、容量C2に
蓄積された電荷が昇圧されノードN4の電位がPMOS
トランジスタT2を介して昇圧電源Vppとして出力され
る。一方、第1の制御信号S1がLレベル(第2の制御
信号S2がHレベル)の時、容量C1に蓄積された電荷
が昇圧されてPMOSトランジスタT1を介して昇圧電
源Vppとして出力され、容量C2には電源Vccから電荷
が蓄積される。
【0008】従って、内部電源生成回路は、第1,第2
の制御信号S1,S2によって交互に容量C1,C2に
対する電荷の供給と昇圧を繰り返すことにより、PMO
SトランジスタT1,T2を介して昇圧した昇圧電源V
ppを生成して出力する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、PMOSト
ランジスタT1,T2を介して供給される昇圧電圧Vpp
の電流量は、各トランジスタT1,T2のオン抵抗、即
ち、各トランジスタT1,T2のゲート・ソース間電圧
VGSに依存する。しかしながら、各PMOSトランジス
タT1,T2のゲートは、互いに他のトランジスタT
2,T1のソース、即ちノードN4,N2に接続されて
いる。そして、例えば、ノードN2の電位はダイオード
D1を介して電源Vccから供給される電荷によって上昇
する。一方、ノードN4の電位は、昇圧電源Vppに電荷
を供給するため、次第に下降する。そのため、各トラン
ジスタT1,T2のゲート・ソース間電圧VGS、即ち、
各トランジスタT1,T2のゲートとノードN4,N2
との間の電位差は、次第に小さくなるので、各トランジ
スタT1,T2のオン抵抗が大きくなり、昇圧電源Vpp
に供給する電流量が低下し、十分に電流を供給すること
ができなくなる。
【0010】更に、各PMOSトランジスタT1,T2
のゲート・ソース間電圧VGSが小さくなって各トランジ
スタT1,T2のしきい値電圧Vthp 以下となると、各
トランジスタT1,T2がオフするので、昇圧電源Vpp
へ電荷を供給することができなくなってしまう。
【0011】特に、低電圧化された半導体装置において
は、低い電圧の電源Vccが供給される。しかしながら、
半導体装置を構成するトランジスタは、サブスレッシュ
ホールド電流によるスタンバイ電流の増加を防ぐために
しきい値電圧を下げることができない。そのため、各P
MOSトランジスタT1,T2のゲート・ソース間電圧
VGSが小さくなるので、ますます供給する電流が少なく
なるとともに、トランジスタT1,T2がオフしやすく
なって電荷を供給することができなくなる。
【0012】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は第2の電源に供給する電
流量を確保することのできる内部電源生成回路及び半導
体装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】図1は請求項1に記載の
発明の原理説明図である。即ち、内部電源生成回路は、
第1,第2の容量素子C1,C2、第1,第2のダイオ
ードD1,D2、第1,第2のドライブ回路1,2、及
び、第1,第2のトランジスタT1,T2を備える。内
部電源生成回路は、第1,第2の制御信号S1,S2に
基づいて、第1,第2の容量素子C1,C2の第1端子
に第1,第2の整流素子D1,D2を介して第1の電源
Vccから電荷を供給するとともに、第1,第2の容量素
子C1,C2の第1端子を昇圧して第2,第1のトラン
ジスタT2,T1を介して第2の電源Vppとして出力す
る。
【0014】また、内部電源生成回路は、第1,第2の
スイッチ素子3,4を備える。第1のスイッチ素子3は
第1のトランジスタT1のゲートと第2の容量素子C2
の第1端子との間に接続されるとともに第1の電源Vcc
よりも低い電位の低電位電源Vssに接続される。第1の
スイッチ素子3には第3の制御信号S3が入力され、該
第3の制御信号S3に基づいて第1の容量素子C1に電
荷を蓄積する場合には第1のトランジスタT1のゲート
を第2の容量素子の第1端子に接続する。また、第1の
スイッチ素子3は、第1の容量素子C1の第1端子を昇
圧して第2の電源Vppに昇圧電圧を供給する場合には第
1のトランジスタT1のゲートを低電位電源Vssに接続
する。
【0015】第2のスイッチ素子4は、第2のトランジ
スタT2のゲートと第1の容量素子C1の第1端子との
間に接続されるとともに第1の電源Vccよりも低い電位
の低電位電源Vssに接続される。第2のスイッチ素子4
には第4の制御信号S4が入力され、該第4の制御信号
S4に基づいて第2の容量素子C2に電荷を蓄積する場
合には第2のトランジスタT2のゲートを第1の容量素
子C1の第1端子に接続する。また、第2のスイッチ素
子4は、第2の容量素子C2の第1端子を昇圧して第2
の電源Vppに昇圧電圧を供給する場合には第2のトラン
ジスタT2のゲートを低電位電源Vssに接続する。
【0016】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の内部電源生成回路において、前記第1,第2のスイッ
チ素子は、それぞれ前記第1,第2のトランジスタのゲ
ートと前記第2,第1の容量素子の第1端子との間に接
続され、ゲートに前記第3.第4の制御信号が入力され
たPチャネルMOSトランジスタと、前記第1,第2の
トランジスタのゲートと前記低電位電源との間に接続さ
れ、ゲートに前記第3,第4の制御信号が入力されたN
チャネルMOSトランジスタとから構成される。
【0017】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載の内部電源生成回路において、前記第1と第2の
整流素子は、NMOS又はPMOSトランジスタで構成
され、ゲートを制御することで電流を一方向にしか流さ
ないようにした。
【0018】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3
のうちのいずれか1項に記載の内部電源生成回路を備え
た。 (作用)従って、請求項1に記載の発明によれば、第2
の電源Vppに電荷を供給する場合には第1,第2のトラ
ンジスタT1,T2のゲートが低電位電源Vssに保持さ
れるため、第1,第2のトランジスタT1,T2の駆動
能力が確保され、第2の電源Vppに十分な電流が供給さ
れる。また、第1,第2の容量素子C1,C2に第1の
電源Vccから電荷を補給する場合には第1,第2のトラ
ンジスタT1,T2のゲートが昇圧された第2,第1の
容量素子C2,C1のレベルとなるため、第1,第2の
トランジスタT1,T2が確実にオフされて第2の電源
Vppからの逆流が防止される。
【0019】また、請求項2に記載の発明によれば、第
1,第2のスイッチ素子は、それぞれ第1,第2のトラ
ンジスタのゲートと第2,第1の容量素子の第1端子と
の間に接続され、ゲートに第3.第4の制御信号が入力
されたPチャネルMOSトランジスタと、第1,第2の
トランジスタのゲートと低電位電源との間に接続され、
ゲートに第3,第4の制御信号が入力されたNチャネル
MOSトランジスタとから簡単に構成される。
【0020】また、請求項3に記載の発明によれば、第
1と第2の整流素子は、NMOS又はPMOSトランジ
スタで構成され、ゲートを制御することで電流を一方向
にしか流さないようにすることで、第1の電源への昇圧
された電荷の逆流が防止される。
【0021】また、請求項4に記載の発明によれば、半
導体装置には請求項1乃至3のうちのいずれか1項に記
載の内部電源生成回路が備えられ、消費電流の低減がは
かられる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
の形態を図2及び図3に従って説明する。尚、説明の便
宜上、図4と同様の構成については同一の符号を付して
その説明を一部省略する。
【0023】図2は、半導体装置に備えられた内部電源
生成回路11の回路図を示す。内部電源生成回路11
は、PMOSトランジスタT3,T4及びNMOSトラ
ンジスタT5,T6を備える。PMOSトランジスタT
3は、PMOSトランジスタT1のゲートとノードN4
との間に接続されている。即ち、PMOSトランジスタ
T1のゲートにはPMOSトランジスタT3のドレイン
が接続され、同トランジスタT3のソースはノードN4
に接続されている。また、PMOSトランジスタT3の
ゲートは信号生成回路12に接続され、その信号生成回
路12から第3の制御信号S3が供給される。
【0024】また、PMOSトランジスタT4は、PM
OSトランジスタT2のゲートとノードN2との間に接
続されている。即ち、PMOSトランジスタT2のゲー
トにはPMOSトランジスタT4のドレインが接続さ
れ、同トランジスタT4のソースはノードN2に接続さ
れている。そして、PMOSトランジスタT4のゲート
は信号生成回路12に接続され、その信号生成回路12
から第4の制御信号S4が供給される。
【0025】NMOSトランジスタT5は、PMOSト
ランジスタT1のゲートと低電位電源Vssとの間に接続
されている。即ち、PMOSトランジスタT1のゲート
にはNMOSトランジスタT5のドレインが接続され、
同トランジスタT5のソースは低電位電源Vssに接続さ
れている。そして、NMOSトランジスタT5のゲート
は信号生成回路12に接続され、その信号生成回路12
から第3の制御信号S3が供給される。
【0026】NMOSトランジスタT6は、PMOSト
ランジスタT2のゲートと低電位電源Vssとの間に接続
されている。即ち、PMOSトランジスタT2のゲート
にはNMOSトランジスタT6のドレインが接続され、
同トランジスタT6のソースは低電位電源Vssに接続さ
れている。そして、NMOSトランジスタT6のゲート
は信号生成回路12に接続され、その信号生成回路12
から第4の制御信号S4が供給される。
【0027】又、本実施形態の内部電源生成回路11
は、従来の内部電源生成回路のダイオードD1,D2が
NチャネルMOSトランジスタ(以下、NMOSトラン
ジスタという)T7,TT8に置き換えられている。即
ち、NMOSトランジスタT7のソースはノードN3に
接続され、ドレインには電源Vccが供給されている。N
MOSトランジスタT7のゲートは信号生成回路12に
接続され、その信号生成回路12から第5の制御信号S
5が供給される。
【0028】NMOSトランジスタT8のソースはノー
ドN4に接続され、ドレインには電源Vccが供給されて
いる。そのNMOSトランジスタT8のゲートは信号生
成回路12に接続され、その信号生成回路12から第6
の制御信号S6が供給される。
【0029】信号生成回路12は、略相補な信号である
第1の制御信号S1と第2の制御信号S2を生成し出力
する。即ち、第1の制御信号S1がHレベルの時第1の
制御信号S2はLレベルであり、第1の制御信号S1が
Lレベルの時第2の制御信号S2はHレベルである。
【0030】また、信号生成回路12は、図3に示すタ
イミングで前記第3,第4の制御信号S3,S4を生成
する。即ち、信号生成回路12は、第1の制御信号S1
に基づいて容量C1に電荷を蓄える場合にはNMOSト
ランジスタT7をオンにすべく第5の制御信号S5を生
成する。また、信号生成回路12は、第1の制御信号S
1に基づいて容量C1に蓄えた電荷を昇圧電圧Vppに供
給する場合にNMOSトランジスタT7をオフにすべく
第5の制御信号S5を生成する。
【0031】具体的には、信号生成回路12は、容量C
1に電荷を供給する場合には、第5の制御信号S5を電
源Vccの電位よりもNMOSトランジスタT7のしきい
値電圧Vthn 以上高い電位にする。このとき、電荷を蓄
える容量C1の電極、即ち、ノードN2の電位は電源V
ccの電位以下となっている。従って、NMOSトランジ
スタT7はオンし、電源Vccから容量C1に電荷が供給
される。
【0032】一方、信号生成回路12は、容量C1に蓄
えた電荷を昇圧電圧Vppに供給する場合には、第5の制
御信号S5を電源Vccの電位として出力する。すると、
NMOSトランジスタT7は、そのゲート・ソース間電
圧VGSが負となるので、同トランジスタT7はオフし、
容量C1に蓄えられ昇圧された電荷は電源Vccに逆流し
ない。
【0033】同様に、信号生成回路12は、第2の制御
信号S2に基づいて容量C2に電荷を蓄える場合にはN
MOSトランジスタT8をオンにすべく第6の制御信号
S6を生成する。また、信号生成回路12は、第2の制
御信号S2に基づいて容量C2に蓄えた電荷を昇圧電圧
Vppに供給する場合にNMOSトランジスタT8をオフ
にすべく第6の制御信号S6を生成する。
【0034】具体的には、信号生成回路12は、容量C
2に電荷を供給する場合には、第6の制御信号S6を電
源Vccの電位よりもNMOSトランジスタT8のしきい
値電圧Vthn 以上高い電位にする。このとき、電荷を蓄
える容量C2の電極、即ち、ノードN2の電位は電源V
ccの電位以下となっている。従って、NMOSトランジ
スタT8はオンし、電源Vccから容量C2に電荷が供給
される。
【0035】一方、信号生成回路12は、容量C2に蓄
えた電荷を昇圧電圧Vppに供給する場合には、第6の制
御信号S6を電源Vccの電位として出力する。すると、
NMOSトランジスタT8は、そのゲート・ソース間電
圧VGSが負となるので、同トランジスタT8はオフし、
容量C2に蓄えられ昇圧された電荷は電源Vccに逆流し
ない。
【0036】更に、信号生成回路12は、図3に示すタ
イミングで前記第5,第6の制御信号S5,S6を生成
し出力する。即ち、信号生成回路12は、第1の制御信
号S1に基づいて容量C1に電荷を蓄える場合にはPM
OSトランジスタT1をオフに制御するように第3の制
御信号S3を生成する。具体的には、信号生成回路12
は、Lレベルの第3の制御信号S3を出力し、その第3
の制御信号S3によってPMOSトランジスタT3がオ
ンし、NMOSトランジスタT5がオフする。すると、
NMOSトランジスタT1のゲート電位は、従来と同様
にノードN4の電位と同じになる。このとき、ノードN
4は、第2の制御信号S2に基づいて昇圧電源Vppに昇
圧されている。従って、PMOSトランジスタT1はオ
フし、昇圧電源Vppの電荷は容量C1に逆流しない。
【0037】また、信号生成回路12は、容量C1に蓄
えられた電荷を昇圧電源Vppに供給する場合には、PM
OSトランジスタT1をオンに制御するように第3の制
御信号S3を生成する。具体的には、信号生成回路12
は、Hレベルの第3の制御信号S3を出力し、その第3
の制御信号S3によってPMOSトランジスタT3がオ
フしNMOSトランジスタT5がオンする。すると、P
MOSトランジスタT1のゲート電位は低電位電源Vss
のレベルとなる。従って、PMOSトランジスタT1の
ゲート・ソース間電圧VGSは、低電位電源Vssとノード
N2の電位との差電圧となる。そして、低電位電源Vss
は一定の電位であり、電源Vccから電荷の供給を受ける
ノードN4の電位よりも低い。従って、PMOSトラン
ジスタT1のゲート・ソース間電圧VGSは、従来よりも
大きくなる。また、昇圧されたノードN2から昇圧電源
Vppに電荷が供給されて次第にノードN2の電位が低下
しても、昇圧電源Vpp以下にはならない。そして、PM
OSトランジスタT1のゲート電位は低電位電源Vssで
あるため、PMOSトランジスタT1のゲート・ソース
間電圧VGSは、同トランジスタT1のしきい値電圧Vth
p 以下にはならない。従って、PMOSトランジスタT
1は、昇圧電圧Vppに電荷を供給している間オンに保持
される。
【0038】同様に、信号生成回路12は、第2の制御
信号S2に基づいて容量C2に電荷を蓄える場合にはP
MOSトランジスタT2をオフに制御するように第4の
制御信号S4を生成する。具体的には、信号生成回路1
2は、Lレベルの第4の制御信号S4を出力し、その第
4の制御信号S4によってPMOSトランジスタT4が
オンし、NMOSトランジスタT6がオフする。する
と、NMOSトランジスタT2のゲート電位は、従来と
同様にノードN2の電位と同じになる。このとき、ノー
ドN2は、第2の制御信号S2に基づいて昇圧電源Vpp
に昇圧されている。従って、PMOSトランジスタT2
はオフし、昇圧電源Vppの電荷は容量C2に逆流しな
い。
【0039】また、信号生成回路12は、容量C2に蓄
えられた電荷を昇圧電源Vppに供給する場合には、PM
OSトランジスタT2をオンに制御するように第4の制
御信号S4を生成する。具体的には、信号生成回路12
は、Hレベルの第4の制御信号S4を出力し、その第4
の制御信号S4によってPMOSトランジスタT4がオ
フしNMOSトランジスタT6がオンする。すると、P
MOSトランジスタT2のゲート電位は低電位電源Vss
のレベルとなる。従って、PMOSトランジスタT2の
ゲート・ソース間電圧VGSは、低電位電源Vssとノード
N4の電位との差電圧となる。そして、低電位電源Vss
は一定の電位であり、電源Vccから電荷の供給を受ける
ノードN2の電位よりも低い。従って、PMOSトラン
ジスタT2のゲート・ソース間電圧VGSは、従来よりも
大きくなる。また、昇圧されたノードN4から昇圧電源
Vppに電荷が供給されて次第にノードN4の電位が低下
しても、昇圧電源Vpp以下にはならない。そして、PM
OSトランジスタT2のゲート電位は低電位電源Vssで
あるため、PMOSトランジスタT2のゲート・ソース
間電圧VGSは、同トランジスタT2のしきい値電圧Vth
p 以下にはならない。従って、PMOSトランジスタT
2は、昇圧電圧Vppに電荷を供給している間オンに保持
される。
【0040】次に、上記のように構成した内部電源生成
回路11の作用を図3のタイミングチャートに従って説
明する。尚、図3には、各ノードN1〜N6のレベルと
第3〜第6の制御信号S3〜S6のレベルが示されてい
る。従って、各ノード及び制御信号のレベルを分かり易
くするために、同じ符号を用いて示してある。
【0041】まず、容量C1を中心に説明する。今、第
1の制御信号S1がHレベル、第2の制御信号S2がL
レベルのとき、インバータ回路1の出力端子であるノー
ドN1は低電位電源Vssレベルとなり、インバータ回路
2の出力端子であるノードN3は電源Vccレベルとな
る。また、第5の制御信号S5は電源VccにNMOSト
ランジスタT7のしきい値電圧Vthn を加算した電圧よ
りも高い電位に制御される。すると、NMOSトランジ
スタT7がオンし電源Vccから容量C1に電荷が供給さ
れ、ノードN2の電位は電源Vccレベルへ上昇する。
【0042】更に、Lレベルの第3の制御信号S3によ
ってPMOSトランジスタT3がオン、NMOSトラン
ジスタT5がオフし、PMOSトランジスタT1のゲー
ト電位はノードN4の電位となっている。このノードN
4の電位は、第2の制御信号S2によって昇圧されて昇
圧電源Vppに電荷が供給されている。即ち、PMOSト
ランジスタT2がオンに制御され、同トランジスタT2
のゲート、即ち、ノードN6が低電位電源Vssとなって
いる。
【0043】次に、第4の制御信号S4をHレベルから
Lレベルにする。すると、PMOSトランジスタT4が
オンしNMOSトランジスタT6がオフし、ノードN6
はノードN2と同じ電位となる。
【0044】次に、第1の制御信号S1をHレベルから
Lレベルにする。すると、ノードN1は低電位電源Vss
から電源Vccへ上昇し、容量C1のカップリングにより
ノードN2は電源Vccから上昇する。また、第2の制御
信号S2をLレベルからHレベルにする。すると、ノー
ドN3は電源Vccから低電位電源Vssへ下降し、容量C
2のカップリングによりノードN4は昇圧電源Vppレベ
ルから下降する。
【0045】このとき、第3の制御信号S3はLレベル
であってPMOSトランジスタT3がオンしているた
め、PMOSトランジスタT1のゲートに接続されたノ
ードN5のレベルはノードN4のレベルの下降に追従し
て下降する。しかしながら、ノードN4は、第6の制御
信号S6に基づいてオンされたNMOSトランジスタT
8を介して電源Vccから容量C2に供給される電荷によ
ってレベルが上昇する。
【0046】このノードN4のレベルが上昇する直前の
時刻t1において、第3の制御信号S3をLレベルから
Hレベルにする。すると、PMOSトランジスタT3が
オフし、ノードN5がノードN4から切り離される。更
に、NMOSトランジスタT5がオンし、ノードN5、
即ち、PMOSトランジスタT1のゲートは低電位電源
Vssレベルとなる。
【0047】従って、PMOSトランジスタT1のゲー
ト電位は、低電位電源Vssのレベルに保持されるため、
同トランジスタT1のゲート・ソース間電圧VGSが小さ
くならないので、PMOSトランジスタT1のオン抵抗
は小さいままとなる。従って、PMOSトランジスタT
1の駆動能力が大きく、昇圧電源Vppには、ノードN2
から十分に電荷が供給される、即ち、十分に電流が供給
される。
【0048】また、昇圧電源Vppに電荷を供給するPM
OSトランジスタT1のゲート電位が低電位電源Vssに
保持されるので、同トランジスタT1のゲート・ソース
間電圧VGSは、しきい値電圧Vthp に比べて十分に大き
い。従って、PMOSトランジスタT1のしきい値電圧
Vthp を下げることなく電源Vccを低電圧化することが
可能であり、半導体装置の消費電力低減をはかることが
可能となる。
【0049】次に、容量C1から昇圧電源Vppに十分に
電荷の供給が行われた後、第3の制御信号S3をHレベ
ルからLレベルにすることで、PMOSトランジスタT
3をオンしてノードN5とノードN4とを接続する。す
ると、ノードN5、即ち、PMOSトランジスタT1の
ゲート電位はノードN4の電位と同レベルまで上昇す
る。このとき、ノードN4は、容量C2に蓄えられた電
荷によって電源Vccと同レベルとなっている。
【0050】次に、第1の制御信号S1に基づいてノー
ドN1をHレベルからLレベルにする。すると、ノード
N2は、容量C1のカップリングにより昇圧電源Vppレ
ベルから下降する。
【0051】また、第2の制御信号S2に基づいてノー
ドN3をLレベルからHレベルにする。すると、ノード
N4は、容量C2のカップリングにより電源Vccレベル
から上昇する。このとき、PMOSトランジスタT1の
ゲートに接続されたPMOSトランジスタT3は第3の
制御信号S3によりオンしているので、そのPMOSト
ランジスタT1のゲート(ノードN5)のレベルはノー
ドN4に追従して昇圧電圧Vpp以上に上昇する。する
と、PMOSトランジスタT1は、そのゲート電位が昇
圧電圧Vppよりも高くなり同トランジスタT1はカット
オフするので、昇圧電源Vppから容量C1へ逆流しな
い。
【0052】尚、上記の容量C1と容量C2は相補の関
係にあるため、容量C2における動作は容量C1におけ
る動作と同じであるため説明を省略する。そして、容量
C1と容量C2とを交互に動作させることにより、昇圧
電源Vppへ電荷が供給される。
【0053】ところで、PMOSトランジスタT1,T
2のゲートレベルを直接制御して低電位電源Vssから昇
圧電源Vpp以上まで変化させる方法がある。しかし、こ
の方法によると、PMOSトランジスタT1,T2のゲ
ートに制御信号を供給する制御回路の電源に、昇圧電源
Vppを使用しなければならなくなる。すると、昇圧電圧
Vppの消費電流が増加して半導体装置の消費電力が増大
する。
【0054】しかしながら、本実施形態では、PMOS
トランジスタT1(T2)のゲートをノードN4(N
2)に接続している間は制御する必要がない。その為、
PMOSトランジスタT1(T2)のゲート制御に伴う
電流のロス分は、ノードN4(N2)から切り離されて
いる時の電圧分だけである。従って、制御回路に駆動電
源として昇圧電源Vppを供給する場合に比べて消費電力
が極めて少ない。従って、半導体装置の消費電力の低減
に有効である。
【0055】以上記述したように、本実施の形態によれ
ば、以下の効果を奏する。○内部電源生成回路は、PM
OSトランジスタT3,T4及びNMOSトランジスタ
T5,T6を備える。PMOSトランジスタT3は第1
のトランジスタのゲートと第2の容量素子の第1端子と
の間に接続され、NMOSトランジスタT5は電源Vcc
よりも低い電位の低電位電源Vssに接続される。PMO
SトランジスタT3,NMOSトランジスタT5には第
3の制御信号S3が入力される。PMOSトランジスタ
T3は、第3の制御信号S3に基づいて第1の容量素子
C1に電荷を蓄積する場合には第1のトランジスタT1
のゲートを第2の容量素子C2の第1端子に接続する。
また、NMOSトランジスタT5は、第1の容量素子C
1の第1端子を昇圧して昇圧電源Vppに昇圧電圧を供給
する場合には第1のトランジスタT1のゲートを低電位
電源Vssに接続する。
【0056】PMOSトランジスタT4は第2のトラン
ジスタのゲートと第1の容量素子の第1端子との間に接
続され、NMOSトランジスタT6は電源Vccよりも低
い電位の低電位電源Vssに接続される。PMOSトラン
ジスタT4、NMOSトランジスタT6には第4の制御
信号が入力される。PMOSトランジスタT4は、第4
の制御信号S4に基づいて第2の容量素子C2に電荷を
蓄積する場合には第2のトランジスタT2のゲートを第
1の容量素子C1の第1端子に接続する。また、NMO
SトランジスタT6は、第2の容量素子C2の第1端子
を昇圧して昇圧電源Vppに昇圧電圧を供給する場合には
第2のトランジスタT2のゲートを低電位電源Vssに接
続するようにした。
【0057】従って、昇圧電源Vppに電荷を供給する場
合には第1,第2のトランジスタT1,T2のゲートが
低電位電源Vssに保持されるため、第1,第2のトラン
ジスタT1,T2の駆動能力が確保され、昇圧電源Vpp
に十分な電流が供給される。また、第1,第2の容量素
子C1,C2に電源Vccから電荷を補給する場合には第
1,第2のトランジスタT1,T2のゲートが昇圧され
た第2,第1の容量素子C2,C1のレベルとなるた
め、第1,第2のトランジスタT1,T2が確実にオフ
されて昇圧電源Vppからの逆流が防止される。
【0058】○電源Vccと容量素子C1,C2との間に
NMOSトランジスタT7,T8を接続し、容量C1,
C2により昇圧した電荷を昇圧電源Vppに供給する場合
にはNMOSトランジスタT7,T8のゲートを電源V
ccのレベルとするようにした。従って、昇圧電源Vppを
供給する場合にはNMOSトランジスタT7,T8が確
実にオフとなり、電源Vccへの逆流を防止することがで
きる。
【0059】尚、本発明は前記実施の形態の他、以下の
態様で実施してもよい。整流素子としてNMOSトラン
ジスタT7,T8のゲートに第3,第4の制御信号S
3,S4を入力したが、両トランジスタ量両トランジス
タT7,T8をダイオード接続(ゲートをドレインに接
続)して実施してもよい。
【0060】整流素子としてNMOSトランジスタT
7,T8を用いて実施したが、ダイオードを用いて実施
してもよい。また、PMOSトランジスタを用いて実施
してもよい。
【0061】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1乃至4に
記載の発明によれば、第2の電源に供給する電流量を確
保することのできる内部電源生成回路及び半導体装置を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理説明図。
【図2】 一実施形態の内部電源生成回路の回路図。
【図3】 内部電源生成回路の動作を示す波形図。
【図4】 従来の内部電源生成回路の回路図。
【符号の説明】 1 第1のドライブ回路 2 第2のドライブ回路 3 第1のスイッチ素子 4 第2のスイッチ素子 C1 第1の容量素子 C2 第2の容量素子 D1 第1のダイオード D2 第2のダイオード T1 第1のトランジスタ T2 第2のトランジスタ Vcc 第1の電源 Vss 低電位電源 Vpp 第2の電源としての昇圧電源

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1,第2の容量素子と、 マイナス側端子が前記第1,第2の容量素子の第1端子
    にそれぞれ接続され、プラス側端子が第1の電源に接続
    された第1,第2の整流素子と、 ソースが前記第1,第2の容量素子の第1端子にそれぞ
    れ接続され、ドレインが第2の電源に接続された第1,
    第2のトランジスタと、 第1,第2の制御信号がそれぞれ入力され、出力端子が
    それぞれ前記第1,第2の容量素子の第2端子に接続さ
    れた第1,第2のドライブ回路とを備え、前記第1のト
    ランジスタのゲートを前記第2の容量素子の第1端子に
    接続するとともに前記第2のトランジスタのゲートを前
    記第1の容量素子の第1端子に接続し、 前記第1,第2の制御信号に基づいて、前記第1,第2
    の容量素子の第1端子に前記第1,第2の整流素子を介
    して第1の電源から電荷を供給するとともに、前記第
    2,第1の容量素子の第1端子を昇圧して前記第2,第
    1のトランジスタを介して第2の電源として出力する内
    部電源生成回路において、 前記第1のトランジスタのゲートと第2の容量素子の第
    1端子との間に接続されるとともに前記第1の電源より
    も低い電位の低電位電源に接続され、第3の制御信号が
    入力され、該第3の制御信号に基づいて前記第1の容量
    素子に電荷を蓄積する場合には前記第1のトランジスタ
    のゲートを前記第2の容量素子の第1端子に接続し、前
    記第1の容量素子の第1端子を昇圧して前記第2の電源
    に昇圧電圧を供給する場合には前記第1のトランジスタ
    のゲートを低電位電源に接続する第1のスイッチ素子
    と、 前記第2のトランジスタのゲートと第1の容量素子の第
    1端子との間に接続されるとともに前記第1の電源より
    も低い電位の低電位電源に接続され、第4の制御信号が
    入力され、該第4の制御信号に基づいて前記第2の容量
    素子に電荷を蓄積する場合には前記第2のトランジスタ
    のゲートを前記第1の容量素子の第1端子に接続し、前
    記第2の容量素子の第1端子を昇圧して前記第2の電源
    に昇圧電圧を供給する場合には前記第2のトランジスタ
    のゲートを低電位電源に接続する第2のスイッチ素子と
    を備えた内部電源生成回路。
  2. 【請求項2】 前記第1,第2のスイッチ素子は、それ
    ぞれ前記第1,第2のトランジスタのゲートと前記第
    2,第1の容量素子の第1端子との間に接続され、ゲー
    トに前記第3.第4の制御信号が入力されたPチャネル
    MOSトランジスタと、前記第1,第2のトランジスタ
    のゲートと前記低電位電源との間に接続され、ゲートに
    前記第3,第4の制御信号が入力されたNチャネルMO
    Sトランジスタとから構成された請求項1に記載の内部
    電源生成回路。
  3. 【請求項3】 前記第1と第2の整流素子は、NMOS
    又はPMOSトランジスタで構成され、ゲートを制御す
    ることで電流を一方向にしか流さないようにした請求項
    1又は2に記載の内部電源生成回路。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のうちのいずれか1項に
    記載の内部電源生成回路を備えた半導体装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8067977B2 (en) * 2008-04-18 2011-11-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Voltage generating circuit and semiconductor device having the same
US8326256B1 (en) * 2008-07-15 2012-12-04 Impinj, Inc. RFID tag with MOS bipolar hybrid rectifier

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8326256B1 (en) * 2008-07-15 2012-12-04 Impinj, Inc. RFID tag with MOS bipolar hybrid rectifier

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