JPH11322900A - Photocurable composition and curing - Google Patents

Photocurable composition and curing

Info

Publication number
JPH11322900A
JPH11322900A JP10111371A JP11137198A JPH11322900A JP H11322900 A JPH11322900 A JP H11322900A JP 10111371 A JP10111371 A JP 10111371A JP 11137198 A JP11137198 A JP 11137198A JP H11322900 A JPH11322900 A JP H11322900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
photocurable composition
composition according
cationically polymerizable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP10111371A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Takahashi
栄治 高橋
Akihiro Shirai
昭宏 白井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to JP10111371A priority Critical patent/JPH11322900A/en
Publication of JPH11322900A publication Critical patent/JPH11322900A/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocuring composition capable of efficiently photocuring photocurable compositions containing a diaryliodonium salt derivative or triarylsulfonium salt derivative as a photocuring catalyst, and to provide a photocurable composition capable of being quickly cured even when containing additives such as a pigment and giving cured products having excellent physical properties. SOLUTION: This photocurable composition comprises a diaryliodonium salt derivative or triarylsulfonium salt derivative acting as a photocation polymerization catalyst, a compound having a cation polymerizable group and a sensitizer accelerating a photocation initiation reaction, a cation polymerizable compound, and a pigment such as titanium dioxide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性組成物に
関し、詳しくは、増感された光カチオン硬化性組成物に
関する。本発明の光硬化性組成物は、光、電子線、X線
等の活性エネルギー線照射により、硬化することが可能
であり、特に長波長感光に優れた特性を有するため、光
硬化型の塗料、接着剤、インキ及びフォトレジスト、光
造形用の感光性樹脂等へ好適に用いられる。また本発明
は、上記光硬化性組成物の光硬化方法や、上記光硬化性
組成物において増感剤として用いられる分子内にカチオ
ン重合性基と光カチオン開始反応を促進する増感基とを
有する新規化合物、特にカチオン重合性基を芳香環又は
アルコキシ基の一部に置換基として有する置換アルコキ
シ多環芳香族化合物又はその重合体に関する。
The present invention relates to a photocurable composition, and more particularly to a sensitized photocationically curable composition. The photocurable composition of the present invention can be cured by irradiating active energy rays such as light, electron beams, and X-rays, and in particular, has excellent characteristics in long-wavelength photosensitivity. , Adhesives, inks and photoresists, and photosensitive resins for stereolithography. Further, the present invention also relates to a photocuring method for the photocurable composition, and a cation polymerizable group and a sensitizing group for promoting a photocation initiation reaction in a molecule used as a sensitizer in the photocurable composition. The present invention relates to a substituted alkoxy polycyclic aromatic compound having a cationically polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group, or a polymer thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開昭50−151997号公報、特開
昭50−158680号公報、特開昭50−15199
6号公報には、アリールオニウム塩化合物が、光、電子
線、X線等の放射線によりエポキシ化合物等のカチオン
重合性化合物を硬化させる触媒として使用できることが
記載されている。これらのアリールオニウム塩化合物
は、紫外線硬化に有効とされる360nmよりも長波長
にほとんど吸収をもっていないため、長波長のレーザー
光を使用する光造形や顔料等の添加剤を使用する光硬化
性組成物では、硬化性が著しく低下することが知られて
いる。特に、アリールオニウム塩化合物のUV吸収域と
吸収域が重なる酸化チタン等のホワイト顔料を多量に含
有する光硬化性組成物では、使用上問題が多い。この解
決方法として増感剤の検討が行われ、例えば、ジアリー
ルヨードニウム塩の増感剤として、種々の染料誘導体が
有効であると報告されており、また、特に安価で一般的
なものにチオキサントン誘導体が知られている。しか
し、このチオキサントン誘導体だけでは、顔料等の添加
剤を使用する光硬化性組成物の光硬化性は不十分であ
る。また、一般の増感剤は、光硬化を行う際には有効で
あるが、光硬化終了後、硬化物の特性という観点からみ
ると単なる可塑剤にしかならず、使用量によっては、硬
化物特性を悪くすることが予想される。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 50-151997, 50-158680 and 50-15199
No. 6 describes that an arylonium salt compound can be used as a catalyst for curing a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound by radiation such as light, electron beam, or X-ray. Since these aryl onium salt compounds have little absorption at wavelengths longer than 360 nm, which is considered to be effective for ultraviolet curing, photocurable compositions using additives such as pigments and stereolithography using laser light of long wavelengths It is known that the curability of a product is significantly reduced. In particular, a photocurable composition containing a large amount of a white pigment such as titanium oxide in which the UV absorption range of the arylonium salt compound overlaps the absorption range has many problems in use. As a solution to this, sensitizers have been studied.For example, various dye derivatives have been reported to be effective as sensitizers for diaryliodonium salts, and thioxanthone derivatives are particularly inexpensive and commonly used. It has been known. However, the photocurability of a photocurable composition using an additive such as a pigment is insufficient with the thioxanthone derivative alone. In addition, general sensitizers are effective at the time of photocuring, but after photocuring, they are merely plasticizers from the viewpoint of the properties of the cured product. It is expected to make it worse.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの事情
からみてなされたもので、本発明の課題は、ジアリール
ヨードニウム塩誘導体又はトリアリールスルホニウム塩
誘導体等を光硬化触媒として含有する光硬化性組成物を
効果的に光硬化することが可能な光硬化性組成物を提供
すると共に、顔料等の添加剤を含む組成物であっても短
時間で硬化することが可能で、かつ優れた硬化物特性を
有する光硬化性組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of these circumstances, and an object of the present invention is to provide a photocurable composition containing a diaryliodonium salt derivative or a triarylsulfonium salt derivative as a photocuring catalyst. The present invention provides a photocurable composition capable of effectively photocuring a product, and is capable of curing in a short time even if the composition contains an additive such as a pigment, and is an excellent cured product. An object of the present invention is to provide a photocurable composition having characteristics.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために鋭意研究したところ、ジアリールヨー
ドニウム塩誘導体又はトリアリールスルホニウム塩誘導
体を光硬化触媒として含有する光硬化性組成物に、増感
剤として分子内にカチオン重合性基と光カチオン開始反
応を促進する増感基とを有する化合物、特にカチオン重
合性基を芳香環又はアルコキシ基の一部に置換基として
有する置換アルコキシ多環芳香族化合物又はその重合体
を使用することで、上記課題を克服する光硬化性組成物
が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and found that a photocurable composition containing a diaryliodonium salt derivative or a triarylsulfonium salt derivative as a photocuring catalyst. Compounds having, as a sensitizer, a cationically polymerizable group and a sensitizing group that promotes a photocation initiation reaction in a molecule, particularly a substituted alkoxy group having a cationically polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group The present inventors have found that a photocurable composition that overcomes the above problems can be obtained by using a ring-aromatic compound or a polymer thereof, and has completed the present invention.

【0005】すなわち本発明は、新規な化合物である、
分子内にカチオン重合性基と光カチオン開始反応を促進
する増感基とを有する化合物や、増感基が置換基として
水酸基、置換されていてもよいアラルキルオキシ基又は
置換されていてもよいアルコキシ基を少なくとも1つ以
上有し、かつ330nmよりも長波長にUV吸収スペク
トルをもつ多環芳香族基を含んだ基である上記化合物
や、増感基が330nmよりも長波長にUV吸収スペク
トルをもつカルバゾール誘導体構造を有する基である上
記化合物や、カチオン重合性基がエポキシシリコーン構
造を有するエポキシ基等のオキシラン構造を有する基で
ある上記化合物や、カチオン重合性基を芳香環又はアル
コキシ基の一部に置換基として有するアントラセン誘導
体若しくはフェナントレン誘導体等の置換アルコキシ多
環芳香族化合物又はその重合体(以下これらの化合物を
「本発明の成分化合物」という)に関する。
That is, the present invention relates to a novel compound,
Compounds having a cationically polymerizable group and a sensitizing group that promotes a photocation initiation reaction in the molecule, or a sensitizing group having a hydroxyl group as a substituent, an optionally substituted aralkyloxy group or an optionally substituted alkoxy group The above compound, which has at least one group and contains a polycyclic aromatic group having a UV absorption spectrum at a wavelength longer than 330 nm, or a sensitizing group having a UV absorption spectrum at a wavelength longer than 330 nm. A compound having a carbazole derivative structure, a compound having a oxirane structure such as an epoxy group having a cation polymerizable group such as an epoxy group having an epoxysilicone structure, or an aromatic ring or an alkoxy group having a cation polymerizable group. A substituted alkoxy polycyclic aromatic compound such as an anthracene derivative or a phenanthrene derivative having a substituent in the moiety, or About polymers (hereinafter these compounds will be referred to as "component compounds of the present invention").

【0006】また本発明は、光カチオン重合触媒として
作用する、分子内に光カチオン重合開始剤として機能す
る基を有する化合物、好ましくはジアリールヨードニウ
ム塩誘導体又はトリアリールスルホニウム塩誘導体等の
オニウム塩化合物と、本発明の成分化合物とを含有する
光硬化性組成物や、上記分子内に光カチオン重合開始剤
として機能する基を有する化合物と、本発明の成分化合
物と、エポキシシリコーンなどの脂環型エポキシ化合
物、ビニルエーテル化合物又はオキセタン化合物から選
ばれた群の1種又は2種以上の化合物等からなるカチオ
ン重合性化合物を含有する光硬化性組成物や、さらに二
酸化チタン等の顔料及び/又はラジカル重合性化合物等
を含んでいる上記光硬化性組成物に関する。
The present invention also relates to a compound having a group functioning as a photocationic polymerization initiator in the molecule, preferably an onium salt compound such as a diaryliodonium salt derivative or a triarylsulfonium salt derivative, which acts as a photocationic polymerization catalyst. A photocurable composition containing the component compound of the present invention, a compound having a group functioning as a photocationic polymerization initiator in the molecule, a component compound of the present invention, and an alicyclic epoxy such as epoxy silicone. A photocurable composition containing a cationically polymerizable compound composed of one or more compounds selected from the group consisting of compounds, vinyl ether compounds and oxetane compounds; and pigments such as titanium dioxide and / or radical polymerizable compounds The present invention relates to the photocurable composition containing a compound or the like.

【0007】本発明はまた、顔料を含む上記光硬化性組
成物に、ガリウム含有ランプを照射する上記光硬化性組
成物の光硬化方法に関する。
[0007] The present invention also relates to a method for photocuring the above photocurable composition, which comprises irradiating the photocurable composition containing a pigment with a gallium-containing lamp.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の光硬化性組成物の構成成
分としては、光カチオン重合触媒として作用する分子内
に光カチオン重合開始剤として機能する基を有する化合
物、分子内にカチオン重合性基と光カチオン開始反応を
促進する増感基とを有する化合物、カチオン重合性化合
物、顔料、ラジカル重合性化合物等を挙げることができ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The components of the photocurable composition of the present invention include a compound having a group functioning as a photocationic polymerization initiator in a molecule acting as a photocationic polymerization catalyst, and a cationically polymerizable compound in a molecule. Examples thereof include compounds having a group and a sensitizing group that promotes a photocation initiation reaction, cationically polymerizable compounds, pigments, radically polymerizable compounds, and the like.

【0009】本発明の分子内に光カチオン重合開始剤と
して機能する基を有する化合物としては、光カチオン重
合開始剤として作用するものであればその種類に限定さ
れることなく使用可能であり、好ましくはオニウム塩、
より好ましくはジアリールヨードニウム塩誘導体又はト
リアリールスルホニウム塩誘導体を挙げることができ、
ジアリールヨードニウム塩誘導体としては、ジフェニル
ヨードニウム塩誘導体、フェニルナフチルヨードニウム
塩誘導体、ジナフチルヨードニウム塩誘導体からなる群
から選ばれた化合物を例示することができ、具体的には
(化1)に示されるような化合物を挙げることができ、
また、トリアリールスルホニウム塩誘導体としては、ト
リフェニルスルホニウム塩誘導体から選ばれた化合物を
例示することができ、具体的には(化2)に示されるよ
うな化合物を挙げることができる。そして、これらの誘
導体の対アニオンは、非求核性のアニオン、例えばSb
6 、AsF6 、PF6 、BF6 、(F554B など
であればその種類に限定されることはない。
The compound having a group functioning as a cationic photopolymerization initiator in the molecule of the present invention can be used without any limitation as long as it acts as a cationic photopolymerization initiator. Is an onium salt,
More preferably, a diaryliodonium salt derivative or a triarylsulfonium salt derivative can be exemplified,
As the diaryliodonium salt derivative, a compound selected from the group consisting of a diphenyliodonium salt derivative, a phenylnaphthyliodonium salt derivative, and a dinaphthyliodonium salt derivative can be exemplified, and specifically, as shown in (Formula 1) Compounds can be mentioned,
In addition, as the triarylsulfonium salt derivative, a compound selected from triphenylsulfonium salt derivatives can be exemplified, and specifically, a compound represented by (Chemical Formula 2) can be exemplified. The counter anion of these derivatives is a non-nucleophilic anion such as Sb
The type is not limited as long as it is F 6 , AsF 6 , PF 6 , BF 6 , (F 5 C 5 ) 4 B, or the like.

【0010】[0010]

【化1】 Embedded image

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】本発明における分子内にカチオン重合性基
と光カチオン開始反応を促進する増感基とを有する化合
物は新規化合物であり、これらの化合物は主として増感
剤として作用するが、分子内にカチオン重合性基を有す
るため、従来公知の増感剤では期待できなかった光硬化
組成物中のカチオン重合性化合物との良好な相溶性をも
つという特徴を有している。また、硬化物中で増感剤が
フリーで残存することがないので、硬化物特性が低下し
ないことが期待できる上に、増感剤が硬化物からブリー
ドすることがなくなるので、経時的な密着性の低下や増
感剤による毒性の影響を最小限に押えることができる。
そして、この化合物中のカチオン重合性基の占める割合
が大きい、例えば連鎖重合体の場合、光硬化組成物中の
カチオン重合性化合物の配合割合を少なくしてもよく、
場合によってはカチオン重合性化合物を用いなくてもよ
い。
In the present invention, the compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group for accelerating the photocation initiation reaction in the molecule is a novel compound, and these compounds mainly act as sensitizers, Since it has a cationically polymerizable group, it has a feature that it has good compatibility with the cationically polymerizable compound in the photocurable composition, which could not be expected with a conventionally known sensitizer. In addition, since the sensitizer does not remain free in the cured product, the properties of the cured product can be expected not to deteriorate, and the sensitizer does not bleed from the cured product. The effects of toxicity and toxicity due to sensitizers can be minimized.
And the proportion of the cationically polymerizable group in this compound is large, for example, in the case of a chain polymer, the blending ratio of the cationically polymerizable compound in the photocurable composition may be reduced,
In some cases, a cationically polymerizable compound may not be used.

【0013】これらの化合物として、特にカチオン重合
性基を芳香環又はアルコキシ基の一部に置換基として有
する置換アルコキシ多環芳香族化合物又はその重合体を
好ましい例として挙げることができ、その増感基骨格と
しては、例えば、9−ヒドロキシフェナントレン、9−
メトキシフェナントレン、9−エトキシフェナントレ
ン、9−ベンジルオキシフェナントレン、9,10−ジ
メトキシフェナントレン、9,10−ジエトキシフェナ
ントレン、9,10−ジプロポキシフェナントレン、
9,10−ジベンジルオキシフェナントレン、9,10
−ジ−α−メチルベンジルオキシフェナントレン、9−
ヒドロキシ−10−メトキシフェナントレン、9−ヒド
ロキシ−10−エトキシフェナントレン等のフェナント
レン誘導体構造や、9,10−ジメトキシアントラセ
ン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、
2−tブチル−9,10−ジメトキシアントラセン、
2,3−ジメチル−9,10−ジメトキシアントラセ
ン、9−メトキシ−10−メチルアントラセン、9,1
0−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−
ジエトキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジ
エトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−
ジエトキシアントラセン、9−エトキシ−10−メチル
アントラセン、9,10−ジプロポキシアントラセン、
2−エチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2
−tブチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、
2,3−ジメチル−9,10−ジプロポキシアントラセ
ン、9−イソプロポキシ−10−メチルアントラセン、
9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−エチル
−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−tブ
チル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2,
3−ジメチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセ
ン、9−ベンジルオキシ−10−メチルアントラセン、
9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセ
ン、2−エチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオ
キシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジ−α−
メチルベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチル
−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセ
ン、9−(α−メチルベンジルオキシ)−10−メチル
アントラセン、9,10−ジ(2−ヒドロキシエトキ
シ)アントラセン、2−エチル−9,10−ジ(2−カ
ルボキシエトキシ)アントラセン等のアントラセン誘導
体構造を挙げることができる。
Preferred examples of these compounds include a substituted alkoxy polycyclic aromatic compound having a cationically polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group or a polymer thereof. As the basic skeleton, for example, 9-hydroxyphenanthrene, 9-
Methoxyphenanthrene, 9-ethoxyphenanthrene, 9-benzyloxyphenanthrene, 9,10-dimethoxyphenanthrene, 9,10-diethoxyphenanthrene, 9,10-dipropoxyphenanthrene,
9,10-dibenzyloxyphenanthrene, 9,10
-Di-α-methylbenzyloxyphenanthrene, 9-
Phenanthrene derivative structures such as hydroxy-10-methoxyphenanthrene and 9-hydroxy-10-ethoxyphenanthrene, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene,
2-tbutyl-9,10-dimethoxyanthracene,
2,3-dimethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9-methoxy-10-methylanthracene, 9.1
0-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-
Diethoxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-diethoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-
Diethoxyanthracene, 9-ethoxy-10-methylanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene,
2-ethyl-9,10-dipropoxyanthracene, 2
-Tbutyl-9,10-dipropoxyanthracene,
2,3-dimethyl-9,10-dipropoxyanthracene, 9-isopropoxy-10-methylanthracene,
9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 2,
3-dimethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 9-benzyloxy-10-methylanthracene,
9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-di-α-
Methylbenzyloxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 9- (α-methylbenzyloxy) -10-methylanthracene, 9,10-di (2-hydroxyethoxy) Examples include anthracene derivative structures such as anthracene and 2-ethyl-9,10-di (2-carboxyethoxy) anthracene.

【0014】本発明において増感剤として使用される、
分子内にカチオン重合性基と光カチオン開始反応を促進
する増感基とを有する上記化合物における「光カチオン
開始反応を促進する増感基」としては、光硬化性触媒作
用を増強しうるものであればどのようなものでもよい
が、好ましくは、置換基として水酸基、置換されていて
もよいアラルキルオキシ基又は置換されていてもよいア
ルコキシ基を少なくとも1つ以上有し、かつ330nm
よりも長波長にUV吸収スペクトルをもつ多環芳香族基
を含んだ基や、330nmよりも長波長にUV吸収スペ
クトルをもつカルバゾール誘導体構造を有する基を挙げ
ることができ、例えば増感基構造として以下に示される
増感剤として機能する化合物の構造及びその類似化合物
の構造を増感基として具体的に挙げることができる。
Used as a sensitizer in the present invention;
In the compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group that promotes a photocation initiation reaction in the molecule, the “sensitizing group that promotes a photocation initiation reaction” is one that can enhance photocurable catalytic action. Any one may be used as long as it is present, but it preferably has at least one hydroxyl group, an optionally substituted aralkyloxy group or an optionally substituted alkoxy group, and
Examples include a group containing a polycyclic aromatic group having a UV absorption spectrum at a longer wavelength and a group having a carbazole derivative structure having a UV absorption spectrum at a longer wavelength than 330 nm. The structures of the compounds functioning as sensitizers shown below and the structures of similar compounds thereof can be specifically mentioned as sensitizing groups.

【0015】4−メトキシフェノール、4−ベンジルオ
キシフェノール、4−メトキシ−2−(t−ブチル)フ
ェノール、ハイドロキノン、2−ヒドロキシジベンゾフ
ラン等のフェノール誘導体、1−ナフトール、2−ナフ
トール、1−メトキシナフタレン、2−メトキシナフタ
レン、グリシジル−1−ナフチルエーテル、2−(2−
ナフトキシ)エチルビニルエーテル、1,4−ジヒドロ
キシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、
1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキ
シナフタレン、2,7−ジメトキシナフタレン、1,
1′−チオビス(2−ナフトール)、1,1′−ビ−2
−ナフトール、1,5−ナフチルジグリシジルエーテ
ル、2,7−ジ(2−ビニルオキシエチル)ナフチルエ
ーテル、4−メトキシ−1−ナフトール、E S N−
175(新日鉄化学社製のエポキシ樹脂)またはそのシ
リーズ、ナフトール誘導体とホルマリンとの縮合体、ナ
フトール誘導体とフェノール誘導体の混合物とホルマリ
ンとの縮合体およびそれらとエピクロロヒドリンとの反
応したエポキシ化合物、9,10−ジメトキシアントラ
セン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセ
ン、2−tブチル−9,10−ジメトキシアントラセ
ン、2,3−ジメチル−9,10−ジメトキシアントラ
セン、9−メトキシ−10−メチルアントラセン、9,
10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10
−ジエトキシアントラセン、2−tブチル−9,10−
ジエトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10
−ジエトキシアントラセン、9−エトキシ−10−メチ
ルアントラセン、9,10−ジプロポキシアントラセ
ン、2−エチル−9,10−ジプロポキシアントラセ
ン、2−tブチル−9,10−ジプロポキシアントラセ
ン、2,3−ジメチル−9,10−ジプロポキシアント
ラセン、9−イソプロポキシ−10−メチルアントラセ
ン、9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−エ
チル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−
tブチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、
2,3−ジメチル−9,10−ジベンジルオキシアント
ラセン、9−ベンジルオキシ−10−メチルアントラセ
ン、9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラ
セン、2−エチル−9,10−ジ−α−メチルベンジル
オキシアントラセン、2−tブチル−9,10−ジ−α
−メチルベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチ
ル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラ
セン、9−(α−メチルベンジルオキシ)−10−メチ
ルアントラセン等のアントラセン誘導体、1,4−ジメ
トキシクリセン、1,4−ジエトキシクリセン、1,4
−ジプロポキシクリセン、1,4−ジメベンジルオキシ
クリセン、1,4−ジ−α−メチルベンジルオキシクリ
セン等のクリセン誘導体、9−ヒドロキシフェナントレ
ン、9−メトキシフェナントレン、9−エトキシフェナ
ントレン、9−ベンジルオキシフェナントレン、9,1
0−ジメトキシフェナントレン、9,10−ジエトキシ
フェナントレン、9,10−ジプロポキシフェナントレ
ン、9,10−ジベンジルオキシフェナントレン、9,
10−ジ−α−メチルベンジルオキシフェナントレン、
9−ヒドロキシ−10−メトキシフェナントレン、9−
ヒドロキシ−10−エトキシフェナントレン等のフェナ
ントレン誘導体、カルバゾール、N−ビニルカルバゾー
ル、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体
等。
Phenol derivatives such as 4-methoxyphenol, 4-benzyloxyphenol, 4-methoxy-2- (t-butyl) phenol, hydroquinone and 2-hydroxydibenzofuran, 1-naphthol, 2-naphthol and 1-methoxynaphthalene , 2-methoxynaphthalene, glycidyl-1-naphthyl ether, 2- (2-
Naphthoxy) ethyl vinyl ether, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene,
1,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,7-dimethoxynaphthalene, 1,
1'-thiobis (2-naphthol), 1,1'-bi-2
-Naphthol, 1,5-naphthyldiglycidyl ether, 2,7-di (2-vinyloxyethyl) naphthyl ether, 4-methoxy-1-naphthol, ES N-
175 (epoxy resin manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) or a series thereof, a condensate of a naphthol derivative and formalin, a condensate of a mixture of a naphthol derivative and a phenol derivative and formalin, and an epoxy compound obtained by reacting them with epichlorohydrin; 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9-methoxy-10-methyl Anthracene, 9,
10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10
-Diethoxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-
Diethoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10
-Diethoxyanthracene, 9-ethoxy-10-methylanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dipropoxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-dipropoxyanthracene, 2,3 -Dimethyl-9,10-dipropoxyanthracene, 9-isopropoxy-10-methylanthracene, 9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-
t-butyl-9,10-dibenzyloxyanthracene,
2,3-dimethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 9-benzyloxy-10-methylanthracene, 9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-di-α- Methylbenzyloxyanthracene, 2-tbutyl-9,10-di-α
Anthracene derivatives such as -methylbenzyloxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 9- (α-methylbenzyloxy) -10-methylanthracene, and 1,4-dimethoxychrysene , 1,4-diethoxychrysene, 1,4
-Chrysene derivatives such as -dipropoxychrysene, 1,4-dimethylbenzyloxychrysene, 1,4-di-α-methylbenzyloxychrysene, 9-hydroxyphenanthrene, 9-methoxyphenanthrene, 9-ethoxyphenanthrene, and 9-benzyloxy Phenanthrene, 9.1
0-dimethoxyphenanthrene, 9,10-diethoxyphenanthrene, 9,10-dipropoxyphenanthrene, 9,10-dibenzyloxyphenanthrene, 9,
10-di-α-methylbenzyloxyphenanthrene,
9-hydroxy-10-methoxyphenanthrene, 9-
Phenanthrene derivatives such as hydroxy-10-ethoxyphenanthrene; carbazole derivatives such as carbazole, N-vinylcarbazole and N-ethylcarbazole;

【0016】これらの中でも、2−エチル−9,10−
ジメトキシアントラセン等の9,10−ジアルコキシア
ントラセン誘導体、2,4−ジエチルチオキサントン等
のチオキサントン誘導体、N−エチルカルバゾール等の
カルバゾール誘導体、1−ナフトール、2−メトキシナ
フタレン等のナフタレン誘導体、9,10−ジメトキシ
フェナントレン等のフェナントレン誘導体が好ましく、
また、例えば、9,10−ジメトキシフェナントレン等
のフェナントレン誘導体と2,4−ジエチルチオキサン
トン等のチオキサントン誘導体などのように増感基を組
合せることにより、更に効果的に増感作用を発揮させる
ことができる場合もある。
Of these, 2-ethyl-9,10-
9,10-dialkoxyanthracene derivatives such as dimethoxyanthracene, thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole, naphthalene derivatives such as 1-naphthol and 2-methoxynaphthalene, 9,10- Phenanthrene derivatives such as dimethoxyphenanthrene are preferred,
Further, by combining a sensitizing group such as a phenanthrene derivative such as 9,10-dimethoxyphenanthrene and a thioxanthone derivative such as 2,4-diethylthioxanthone, the sensitizing effect can be more effectively exerted. Sometimes you can.

【0017】また、本発明の成分化合物におけるカチオ
ン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合
性化合物である、たとえば以下に示されるモノマー、オ
リゴマーやポリマーのカチオン重合性基と同様なものが
使用可能であるが、エポキシ化合物やオキセタン化合物
におけるオキシラン構造を有するものが、合成の容易さ
や硬化物特性が良好になる点で好ましい。特にエポキシ
シリコーン構造を有する化合物では、増感剤や光カチオ
ン重合開始剤との相溶性が悪いことが一般的に知られて
いるが、予め増感剤やカチオン重合開始剤をエポキシシ
リコーン構造に導入しておくことでこの相溶性の問題が
解決される。
The cationically polymerizable group in the component compound of the present invention is a generally known cationically polymerizable compound, for example, the same as the following cationically polymerizable groups of monomers, oligomers and polymers. Although usable, an epoxy compound or an oxetane compound having an oxirane structure is preferable in terms of easiness of synthesis and good cured product characteristics. In particular, compounds having an epoxysilicone structure are generally known to have poor compatibility with sensitizers and cationic photopolymerization initiators, but sensitizers and cationic polymerization initiators are previously introduced into the epoxysilicone structure. This solves the compatibility problem.

【0018】(a)ビニル化合物構造として、スチレ
ン、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−
t−ブトキシスチレン等のスチレン化合物、メチルビニ
ルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、エチルビニル
エーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、2
−フェノキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシエ
チルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエー
テル、ステアリルビニルエーテル、2−アセトキシエチ
ルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル化合物、
アリルビニルエーテル、2−メタクリロイルオキシエチ
ルビニルエーテル、2−アクリロイルオキシエチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル化合物、フェ
ニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエー
テル等のアリールビニルエーテル化合物、N−ビニルカ
ルバゾール、N−ビニルピロリドン等のカチオン重合性
窒素含有化合物、ブタンジオールジビニルエーテル、ト
リエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ンジオールジビニルエーテル、1,4−ベンゼンジメタ
ノールジビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエー
テル、サゾルシノールジビニルエーテル等の多官能ビニ
ル化合物、Journal of Polymer S
cience:Part A:Polymer Che
mistry,Vol.32 ,2895(1994)
に記載されているプロペニル化合物、Journal
of Polymer Science:Part
A:Polymer Chemistry,Vol.3
3,2493(1995)に記載されているアルコキシ
アレン化合物、Journal of Polymer
Science:Part A:Polymer C
hemistry,Vol.34,1015(199
6)に記載されているビニル化合物、Journal
of Polymer Science:Part
A:Polymer Chemistry,Vol.3
4,2051(1996)に記載されているイソプロペ
ニル化合物等が挙げられる。
(A) Styrene, α-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-
styrene compounds such as t-butoxystyrene, methyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether;
-Alkyl vinyl ether compounds such as phenoxyethyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, stearyl vinyl ether, and 2-acetoxyethyl vinyl ether;
Alkenyl vinyl ether compounds such as allyl vinyl ether, 2-methacryloyloxyethyl vinyl ether and 2-acryloyloxyethyl vinyl ether; aryl vinyl ether compounds such as phenyl vinyl ether and p-methoxyphenyl vinyl ether; cationic polymerizable compounds such as N-vinyl carbazole and N-vinyl pyrrolidone Nitrogen-containing compounds, polyfunctional vinyl compounds such as butanediol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, cyclohexanediol divinyl ether, 1,4-benzene dimethanol divinyl ether, hydroquinone divinyl ether, sasolcinol divinyl ether, etc., Journal of Polymer S
science: Part A: Polymer Che
mystry, Vol. 32, 2895 (1994)
Compounds described in the above, Journal
of Polymer Science: Part
A: Polymer Chemistry, Vol. 3
No. 3,2493 (1995), an alkoxyallene compound, Journal of Polymer
Science: Part A: Polymer C
hemistry, Vol. 34, 1015 (199
The vinyl compound described in 6), Journal
of Polymer Science: Part
A: Polymer Chemistry, Vol. 3
And isopropenyl compounds described in U.S. Pat. No. 4,2051 (1996).

【0019】(b)エポキシ化合物構造として、フェニ
ルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニル
グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−
エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジル
エーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタ
ジエンモノオキサイド、1,2−ドデシレンオキサイ
ド、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、エ
チレンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオ
キサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロ
イルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アク
リロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−
ビニルシクロヘキセンオキサイド等の単官能のモノマ
ー、1,1,3−テトラデカジエンジオキサイド、リモ
ネンジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−(3,4−エポキシシクロヘキシル)カルボキシ
レート、ジ(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペ
ート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂、o−,m−,p−クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、信
越シリコーン社製のK−62−722や東芝シリコーン
社製のUV9300等のエポキシシリコーン、Jour
nal of Polymer Science:Pa
rt A:Polymer Chemistry,Vo
l.28,497(1990)に記載されているシリコ
ーン含有エポキシ化合物のような多官能エポキシ化合物
が挙げられる。
(B) As the epoxy compound structure, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-
Ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene monoxide, 1,2-dodecylene oxide, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, ethylene oxide, propylene oxide, Styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-
Monofunctional monomers such as vinylcyclohexene oxide, 1,1,3-tetradecadienedoxide, limonenedoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxycyclohexyl) carboxylate, di (3,4 -Epoxycyclohexyl) adipate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, o-, m-, p-cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol, manufactured by Shin-Etsu Silicone Epoxy silicones such as K-62-722 and UV9300 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.
nal of Polymer Science: Pa
rt A: Polymer Chemistry, Vo
l. And polyfunctional epoxy compounds such as the silicone-containing epoxy compounds described in U.S. Pat. No. 28,497 (1990).

【0020】(c)ビシクロオルソエステル化合物構造
として、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリ
オキサビシクロ〔2,2,2〕オクタン、1−エチル−
4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシク
ロ〔2,2,2〕オクタン等の化合物が挙げられる。
(C) The structure of the bicycloorthoester compound is 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane, 1-ethyl-
Examples include compounds such as 4-hydroxymethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane.

【0021】(d)スピロオルソカーボネート化合物構
造として、1,5,7,11−テトラオキサスピロ
〔5,5〕ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,
7,11−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、
1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン、2−
メチル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナ
ン、1,4,6−トリオキサスピロ〔4,5〕デカン等
の化合物が挙げられる。
(D) 1,5,7,11-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 3,9-dibenzyl-1,5,5
7,11-tetraoxaspiro [5,5] undecane,
1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane, 2-
Examples include compounds such as methyl-1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane and 1,4,6-trioxaspiro [4,5] decane.

【0022】(e)オキセタン化合物構造として、3,
3−ジメチルオキセタン、3,3−ビス(クロロメチ
ル)オキセタン、2−ヒドロキシメチルオキセタン、3
−メチル−3−オキセタンメタノール、3−メチル−3
−メトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−フェノ
キシメチルオキセタン、レゾルシノールビス(3−メチ
ル−3−オキセタニルエチル)エーテル、m−キシリレ
ンビス(3−エチル−3−オキセタニルエチルエーテ
ル)等の化合物が挙げられる。
(E) As the oxetane compound structure,
3-dimethyloxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 2-hydroxymethyloxetane, 3
-Methyl-3-oxetanemethanol, 3-methyl-3
Compounds such as -methoxymethyloxetane, 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane, resorcinol bis (3-methyl-3-oxetanylethyl) ether, and m-xylylenebis (3-ethyl-3-oxetanylethylether) are exemplified.

【0023】したがって、分子内にカチオン重合性基と
光カチオン開始反応を促進する増感基とを有する化合物
としては、例えば、9−グリシジルオキシフェナントレ
ン、9−(2−ビニルオキシエトキシ)フェナントレ
ン、9−(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)フ
ェナントレン、9−(p−エポキシフェニルメトキシ)
フェナントレン、9−(p−ビニルフェニルメトキシ)
フェナントレン、9,10−ジ(グリシジルオキシ)フ
ェナントレン、9,10−ジ(2−ビニルオキシエトキ
シ)フェナントレン、9,10−ジ(3−メチル−3−
オキセタニルメメトキシ)フェナントレン、9,10−
ジ(p−エポキシフェニルメトキシ)フェナントレン、
9,10−ジ(p−ビニルフェニルメトキシ)フェナン
トレン等のフェナントレン誘導体や、9,10−ジ(グ
リシジルオキシ)アントラセン、2−エチル−9,10
−ジ(グリシジルオキシ)アントラセン、2−tブチル
−9,10−ジ(グリシジルオキシ)アントラセン、
2,3−ジメチル−9,10−ジ(グリシジルオキシ)
アントラセン、9−(グリシジルオキシ)−10−メチ
ルアントラセン、9,10−ジ(2−ビニルオキシエト
キシ)アントラセン、2−エチル−9,10−ジ(2−
ビニルオキシエトキシ)アントラセン、2−tブチル−
9,10−ジ(2−ビニルオキシエトキシ)アントラセ
ン、2,3−ジメチル−9,10−ジ(2−ビニルオキ
シエトキシ)アントラセン、9−(2−ビニルオキシエ
トキシ)−10−メチルアントラセン、9,10−ジ
(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)アントラセ
ン、2−エチル−9,10−ジ(3−メチル−3−オキ
セタニルメメトキシ)アントラセン、2−tブチル−
9,10−ジ(3−メチル−3−オキセタニルメメトキ
シ)アントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジ
(3−メチル−3−オキセタニルメメトキシ)アントラ
セン、9−(3−メチル−3−オキセタニルメメトキ
シ)−10−メチルアントラセン、9,10−ジ(p−
エポキシフェニルメトキシ)アントラセン、2−エチル
−9,10−ジ(p−エポキシフェニルメトキシ)アン
トラセン、2−tブチル−9,10−ジ(p−エポキシ
フェニルメトキシ)アントラセン、2,3−ジメチル−
9,10−ジ(p−エポキシフェニルメトキシ)アント
ラセン、9−(p−エポキシフェニルメトキシ)−10
−メチルアントラセン、9,10−ジ(p−ビニルフェ
ニルメトキシ)アントラセン、2−エチル−9,10−
ジ(p−ビニルフェニルメトキシ)アントラセン、2−
tブチル−9,10−ジ(p−ビニルフェニルメトキ
シ)アントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジ
(p−ビニルフェニルメトキシ)アントラセン、9−
(p−ビニルフェニルメトキシ)−10−メチルアント
ラセン等のアントラセン誘導体等を挙げることができ、
代表的なものの構造式を(化3)として示す。
Accordingly, compounds having a cationically polymerizable group and a sensitizing group for promoting a photocation initiation reaction in the molecule include, for example, 9-glycidyloxyphenanthrene, 9- (2-vinyloxyethoxy) phenanthrene, and 9-glycidyloxyphenanthrene. -(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) phenanthrene, 9- (p-epoxyphenylmethoxy)
Phenanthrene, 9- (p-vinylphenylmethoxy)
Phenanthrene, 9,10-di (glycidyloxy) phenanthrene, 9,10-di (2-vinyloxyethoxy) phenanthrene, 9,10-di (3-methyl-3-
Oxetanylmemethoxy) phenanthrene, 9,10-
Di (p-epoxyphenylmethoxy) phenanthrene,
Phenanthrene derivatives such as 9,10-di (p-vinylphenylmethoxy) phenanthrene, 9,10-di (glycidyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10
-Di (glycidyloxy) anthracene, 2-tbutyl-9,10-di (glycidyloxy) anthracene,
2,3-dimethyl-9,10-di (glycidyloxy)
Anthracene, 9- (glycidyloxy) -10-methylanthracene, 9,10-di (2-vinyloxyethoxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-di (2-
Vinyloxyethoxy) anthracene, 2-tbutyl-
9,10-di (2-vinyloxyethoxy) anthracene, 2,3-dimethyl-9,10-di (2-vinyloxyethoxy) anthracene, 9- (2-vinyloxyethoxy) -10-methylanthracene, 9 , 10-Di (3-methyl-3-oxetanylmethoxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-di (3-methyl-3-oxetanylmemethoxy) anthracene, 2-tbutyl-
9,10-di (3-methyl-3-oxetanylmemethoxy) anthracene, 2,3-dimethyl-9,10-di (3-methyl-3-oxetanylmemethoxy) anthracene, 9- (3-methyl-3 -Oxetanylmemethoxy) -10-methylanthracene, 9,10-di (p-
Epoxyphenylmethoxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-di (p-epoxyphenylmethoxy) anthracene, 2-tbutyl-9,10-di (p-epoxyphenylmethoxy) anthracene, 2,3-dimethyl-
9,10-di (p-epoxyphenylmethoxy) anthracene, 9- (p-epoxyphenylmethoxy) -10
-Methylanthracene, 9,10-di (p-vinylphenylmethoxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-
Di (p-vinylphenylmethoxy) anthracene, 2-
t-butyl-9,10-di (p-vinylphenylmethoxy) anthracene, 2,3-dimethyl-9,10-di (p-vinylphenylmethoxy) anthracene, 9-
And anthracene derivatives such as (p-vinylphenylmethoxy) -10-methylanthracene.
The structural formula of a representative one is shown as (Formula 3).

【0024】[0024]

【化3】 Embedded image

【0025】また、それらの重合体としては、例えば、
連鎖重合体として9−(2−ビニルオキシエトキシ)フ
ェナントレン、9−(3−メチル−3−オキセタニルメ
トキシ)フェナントレン、9−(p−エポキシフェニル
メトキシ)フェナントレン、9−(p−ビニルフェニル
メトキシ)フェナントレン等の単独カチオン重合体又は
カチオン共重合体や、重付加体としてテレフタル酸やマ
レイン酸等の二塩基酸やビスフェノールA等二官能フェ
ノール性化合物との付加反応体を挙げることができ、代
表的なものの構造式を(化4)として示す。
Further, as such polymers, for example,
9- (2-vinyloxyethoxy) phenanthrene, 9- (3-methyl-3-oxetanylmethoxy) phenanthrene, 9- (p-epoxyphenylmethoxy) phenanthrene, 9- (p-vinylphenylmethoxy) phenanthrene as chain polymers Homogenized cationic polymers or cation copolymers and the like, polyaddition products such as dibasic acids such as terephthalic acid and maleic acid, and addition reactants with bifunctional phenolic compounds such as bisphenol A can be mentioned. Its structural formula is shown as (Formula 4).

【0026】[0026]

【化4】 Embedded image

【0027】本発明の成分化合物の合成方法としては、
基質となる化合物と、カチオン重合性基を有する化合物
と、光カチオン開始反応を促進する増感基を有する化合
物との反応によって合成する方法や、カチオン重合性基
を有する化合物と、光カチオン開始反応を促進する増感
基を有する化合物との反応によって合成する方法などを
例示することができるが、官能基としてカルボキシル
基、芳香族水酸基等を有する光カチオン開始反応を促進
する増感剤と、この光カチオン開始反応を促進する増感
剤と反応しても少なくとも1つ以上のエポキシ基又はオ
キセタン基が残存するエポキシシリコーン等のエポキシ
基含有化合物又はオキセタン基含有化合物とを反応させ
て本発明の成分化合物を合成する方法が、合成の容易さ
や各基をコントロールすることができる点から有利であ
る。そして、これら本発明の成分化合物は、当業者であ
れば容易に合成をすることができる。
The method for synthesizing the component compounds of the present invention includes:
A method of synthesizing a compound serving as a substrate, a compound having a cationically polymerizable group, and a compound having a sensitizing group that promotes a photocationic initiation reaction, or a compound having a cationically polymerizable group, and a photocationic initiation reaction Examples thereof include a method of synthesizing the compound by a reaction with a compound having a sensitizing group that promotes a photosensitization initiation reaction having a carboxyl group, an aromatic hydroxyl group, or the like as a functional group. The component of the present invention is reacted with an epoxy group-containing compound or an oxetane group-containing compound such as an epoxy silicone in which at least one or more epoxy groups or oxetane groups remain even when reacted with a sensitizer that promotes a photocation initiation reaction. The method of synthesizing the compound is advantageous in that the synthesis is easy and each group can be controlled. Those skilled in the art can easily synthesize these component compounds of the present invention.

【0028】本発明に使用されるカチオン重合性化合物
としては、一般に知られているカチオン重合性基を有す
るモノマー、オリゴマーやポリマーであれば何ら制限さ
れることなく使用することができ、例えば、以下のもの
を例示することができる。 (a)ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルス
チレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチ
レン等のスチレン化合物、メチルビニルエーテル、n−
ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブ
チルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、
2−クロロエチルビニルエーテル、2−フェノキシエチ
ルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ステアリル
ビニルエーテル、2−アセトキシエチルビニルエーテル
等のアルキルビニルエーテル化合物、アリルビニルエー
テル、2−メタクリロイルオキシエチルビニルエーテ
ル、2−アクリロイルオキシエチルビニルエーテル等の
アルケニルビニルエーテル化合物、フェニルビニルエー
テル、p−メトキシフェニルビニルエーテル等のアリー
ルビニルエーテル化合物、N−ビニルカルバゾール、N
−ビニルピロリドン等のカチオン重合性窒素含有化合
物、ブタンジオールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジ
ビニルエーテル、1,4−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、サゾル
シノールジビニルエーテル等の多官能ビニル化合物、J
ournal of PolymerScience:
Part A:Polymer Chemistry,
Vol.32,2895(1994)に記載されている
プロペニル化合物、Journal of Polym
er Science:Part A:Polymer
Chemistry,Vol.33,2493(19
95)に記載されているアルコキシアレン化合物、Jo
urnal of Polymer Science:
Part A:Polymer Chemistry,
Vol.34,1015(1996)に記載されている
ビニル化合物、Journal ofPolymer
Science:Part A:Polymer Ch
emistry,Vol.34,2051(1996)
に記載されているイソプロペニル化合物等を挙げること
ができる。
The cationically polymerizable compound used in the present invention can be used without any limitation as long as it is a generally known monomer, oligomer or polymer having a cationically polymerizable group. Can be exemplified. (A) As the vinyl compound, styrene compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-methoxystyrene, pt-butoxystyrene, methyl vinyl ether, n-
Butyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether,
Alkyl vinyl ether compounds such as 2-chloroethyl vinyl ether, 2-phenoxyethyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, stearyl vinyl ether, and 2-acetoxyethyl vinyl ether; allyl vinyl ether; 2-methacryloyloxyethyl vinyl ether; Alkenyl vinyl ether compounds such as acryloyloxyethyl vinyl ether; aryl vinyl ether compounds such as phenyl vinyl ether and p-methoxyphenyl vinyl ether; N-vinyl carbazole;
-Polyfunctional such as cationically polymerizable nitrogen-containing compounds such as vinylpyrrolidone, butanediol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, cyclohexanediol divinyl ether, 1,4-benzenedimethanol divinyl ether, hydroquinone divinyl ether, and sasolcinol divinyl ether. Vinyl compound, J
own of PolymerScience:
Part A: Polymer Chemistry,
Vol. 32, 2895 (1994), a Journal of Polym.
er Science: Part A: Polymer
Chemistry, Vol. 33, 2493 (19
95) the alkoxyallene compound described in Jo,
urnal of Polymer Science:
Part A: Polymer Chemistry,
Vol. 34, 1015 (1996), the Journal of Polymer.
Science: Part A: Polymer Ch
chemistry, Vol. 34, 2051 (1996)
And the like.

【0029】(b)エポキシ化合物としては、フェニル
グリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エ
チルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエ
ーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジ
エンモノオキサイド、1,2−ドデシレンオキサイド、
エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、エチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオキサ
イド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイル
オキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロ
イルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニ
ルシクロヘキセンオキサイド等の単官能のモノマー、
1,1,3−テトラデカジエンジオキサイド、リモネン
ジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)カルボキシレー
ト、ジ(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペー
ト、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、o−,m−,p−クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、信越
シリコーン社製のK−62−722や東芝シリコーン社
製のUV9300等のエポキシシリコーン、Journ
al of Polymer Science:Par
t A:Polymer Chemistry,Vo
l.28,497(1990)に記載されているシリコ
ーン含有エポキシ化合物のような多官能エポキシ化合物
を挙げることができる。
(B) Epoxy compounds include phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene Monooxide, 1,2-dodecylene oxide,
Monofunctional such as epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, ethylene oxide, propylene oxide, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-vinylcyclohexene oxide monomer,
1,1,3-tetradecadienedoxide, limonenedoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxycyclohexyl) carboxylate, di (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bisphenol A type epoxy Resin, bisphenol F type epoxy resin, o-, m-, p-cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol, K-62-722 manufactured by Shin-Etsu Silicone and Toshiba Silicone Epoxy silicone such as UV9300 manufactured by Journ
al of Polymer Science: Par
tA: Polymer Chemistry, Vo
l. And polyfunctional epoxy compounds such as the silicone-containing epoxy compounds described in U.S. Pat. No. 28,497 (1990).

【0030】(c)ビシクロオルソエステル化合物とし
ては、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオ
キサビシクロ〔2,2,2〕オクタン、1−エチル−4
−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2,2,2〕オクタン等の化合物を挙げることができ
る。
(C) The bicycloorthoester compounds include 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane and 1-ethyl-4
And compounds such as -hydroxymethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane.

【0031】(d)スピロオルソカーボネート化合物と
しては、1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,1
1−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、1,
4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン、2−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン、
1,4,6−トリオキサスピロ〔4,5〕デカン等の化
合物を挙げることができる。
(D) Spiro orthocarbonate compounds include 1,5,7,11-tetraoxaspiro [5,
5] undecane, 3,9-dibenzyl-1,5,7,1
1-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,
4,6-trioxaspiro [4,4] nonane, 2-methyl-1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane,
Compounds such as 1,4,6-trioxaspiro [4,5] decane can be exemplified.

【0032】(e)オキセタン化合物としては、3,3
−ジメチルオキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)
オキセタン、2−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メ
チル−3−オキセタンメタノール、3−メチル−3−メ
トキシメチルオキセタン、3−エチル−3−フェノキシ
メチルオキセタン、レゾルシノールビス(3−メチル−
3−オキセタニルエチル)エーテル、m−キシリレンビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルエチルエーテル)等
の化合物を挙げることができる。
(E) Oxetane compounds include 3,3
-Dimethyloxetane, 3,3-bis (chloromethyl)
Oxetane, 2-hydroxymethyloxetane, 3-methyl-3-oxetanemethanol, 3-methyl-3-methoxymethyloxetane, 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane, resorcinol bis (3-methyl-
Examples thereof include compounds such as 3-oxetanylethyl) ether and m-xylylenebis (3-ethyl-3-oxetanylethylether).

【0033】これらは、単独もしくは2種以上を併用し
て用いても差し支えない。また、これらのうち、脂環型
エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物又はオキセタン
化合物から選ばれた群の1種又は2種以上の化合物を用
いることが好ましい。さらにエポキシシリコーン構造を
有するエポキシ基等のオキシラン構造を有する基を重合
性基として有する本発明の成分化合物を増感剤として用
いると、エポキシシリコーン等の脂環型エポキシ化合物
との良好な相溶性が得られることから、カチオン重合性
化合物としては、エポキシシリコーン等の脂環型エポキ
シ化合物が好ましい。
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use one or more compounds selected from the group consisting of alicyclic epoxy compounds, vinyl ether compounds and oxetane compounds. Further, when the component compound of the present invention having a group having an oxirane structure such as an epoxy group having an epoxy silicone structure as a polymerizable group is used as a sensitizer, good compatibility with an alicyclic epoxy compound such as epoxy silicone can be obtained. From the viewpoint of being obtained, the cationic polymerizable compound is preferably an alicyclic epoxy compound such as epoxy silicone.

【0034】本発明において、光カチオン重合開始剤と
して作用するジアリールヨードニウム塩誘導体又はトリ
アリールスルホニウム塩誘導体とカチオン重合性化合物
との配合割合は、カチオン重合性化合物100重量部に
対し、それら塩誘導体0.01〜20重量部、好ましく
は0.1〜10重量部である。このジアリールヨードニ
ウム塩誘導体又はトリアリールスルホニウム塩誘導体が
少ないと、カチオン重合性化合物の硬化性が低下し、過
剰であると硬化物の特性が低下する。
In the present invention, the compounding ratio of the diaryl iodonium salt derivative or triaryl sulfonium salt derivative acting as a photocationic polymerization initiator and the cationic polymerizable compound is such that the salt derivative is not added to 100 parts by weight of the cationic polymerizable compound. 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight. If the amount of the diaryliodonium salt derivative or triarylsulfonium salt derivative is small, the curability of the cationically polymerizable compound will be reduced, and if it is excessive, the properties of the cured product will be reduced.

【0035】一方、前記分子内にカチオン重合性基と光
カチオン開始反応を促進する増感基とを有する化合物、
特にカチオン重合性基を芳香環又はアルコキシ基の一部
に置換基として有する置換アルコキシ多環芳香族化合物
又はその重合体と、カチオン重合性化合物との配合割合
は、置換アルコキシ多環芳香族化合物の場合、希望する
硬化物の特性に依存し、任意に使用することができる
が、好ましくはカチオン重合性化合物100重量部に対
して0.1〜30重量部であり、また置換アルコキシ多
環芳香族化合物の重合体の場合、カチオン重合性化合物
100重量部に対して0.01〜20重量部、好ましく
は0.1〜10重量部である。
On the other hand, a compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group for promoting a photocation initiation reaction in the molecule,
In particular, the compounding ratio of the substituted alkoxy polycyclic aromatic compound or a polymer thereof having a cationic polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group, and the cationic polymerizable compound, In this case, it can be used arbitrarily, depending on the properties of the desired cured product, but is preferably 0.1 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the cationically polymerizable compound, and is preferably a substituted alkoxy polycyclic aromatic. In the case of a compound polymer, the amount is 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable compound.

【0036】本発明の光硬化性組成物は、光により容易
に硬化することができる。光源としては、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、クセノンランプ、カーボンアーク灯等が用い
られ、また半導体レーザー、アルゴンレーザー、He−
Cdレーザー等のレーザー光を用いることもできるが、
白色顔料として二酸化チタンを含む光硬化性組成物の場
合、二酸化チタンによる吸収がない380〜450nm
の光を効率的に発するランプ、特にガリウム含有ランプ
を使用すると、効果的に光硬化させることが可能とな
り、硬化速度や硬化物特性の向上、厚膜硬化性の点で好
ましい。また、本発明の光硬化性組成物は、α線、β
線、γ線、中性子線、X線、加速電子線のような電離性
放射線によっても容易に硬化することができる。
The photocurable composition of the present invention can be easily cured by light. As the light source, a low-pressure mercury lamp,
Medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, etc. are used, and semiconductor lasers, argon lasers, He-
Although laser light such as Cd laser can be used,
In the case of a photocurable composition containing titanium dioxide as a white pigment, 380 to 450 nm without absorption by titanium dioxide
The use of a lamp that emits light efficiently, particularly a gallium-containing lamp, enables effective photo-curing, and is preferable in terms of improving the curing speed, the properties of the cured product, and the thick film curability. Further, the photocurable composition of the present invention comprises α rays, β
It can be easily cured by ionizing radiation such as X-ray, γ-ray, neutron beam, X-ray and accelerating electron beam.

【0037】本発明の光硬化性組成物に顔料を含有させ
ると、インキ、フォトレジスト用途に用いることができ
る。本発明に用いられる顔料としては、カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック、ランブラック、アニリンブラ
ック等の黒色顔料、黄鉛、亜鉛黄、カドミウムイエロ
ー、黄色酸化鉄、ミネラルファストイエロー、ニッケル
チタンイエロー、ネーブルスイエロー、ナフトールイエ
ローS、ハンザイエローG、ハンザイエロー10G、ベ
ンジジンイエローG、ベンジジンイエローGR、キノリ
ンイエローレーキ、パーマンネントイエローNCG、タ
ートラジンレーキ等の黄色顔料、赤口黄鉛、モリブデン
オレンジ、パーマネントオレンジGTR、ピラゾロンオ
レンジ、バルカンオレンジ、インダスレンブリリアント
オレンジRK、ベンジジンオレンジG、インダスレンブ
リリアントオレンジGK等の橙色顔料、ベンガラ、カド
ミウムレッド、鉛丹、硫化水銀カドミウム、パーマネン
トレッド4R、リソールレッド、ピラゾロンレッド、ウ
オッチングレッドカルシウム塩、レーキレッドD、ブリ
リアントカーミン6B、エオシンレーキ、ローダミンレ
ーキB、アリザリンレーキ、ブリリアントカーミン3B
等の赤色顔料、マンガン紫、ファストバイオレットB、
メチルバイオレットレーキ等の紫色顔料、紺青、コバル
トブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレ
ーキ、フタロシアニンブルー、無金属フタロシアニンブ
ルー、フタロシアニンブルー部分塩素化物、ファースト
スカイブルー、インダスレンブルーBC等の青色顔料、
クロムグリーン、酸化クロム、ピグメントグリーンB、
マラカイトグリーンレーキ、ファナルイエローグリーン
G等の緑色顔料、亜鉛華、二酸化チタン、アンチモン
白、硫化亜鉛等の白色顔料、及びバライト粉、炭酸バリ
ウム、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、ア
ルミナホワイト等の体質顔料を例示することができる。
When the photocurable composition of the present invention contains a pigment, it can be used for inks and photoresists. As the pigment used in the present invention, carbon black, acetylene black, orchid black, black pigments such as aniline black, graphite, zinc yellow, cadmium yellow, yellow iron oxide, mineral fast yellow, nickel titanium yellow, navels yellow, Yellow pigments such as naphthol yellow S, Hansa yellow G, Hansa yellow 10G, benzidine yellow G, benzidine yellow GR, quinoline yellow lake, permanent yellow NCG, tartrazine lake, red mouth lead, molybdenum orange, permanent orange GTR, pyrazolone orange , Vulcan orange, Indaslen brilliant orange RK, Benzidine orange G, Indaslen brilliant orange GK, etc., orange pigments, bengara, cadmium red, lead red, sulfuric acid Mercury cadmium, permanent red 4R, lithol red, pyrazolone red, watching red calcium salt, lake red D, brilliant carmine 6B, eosin lake, rhodamine lake B, alizarin lake, brilliant carmine 3B
Red pigment, manganese purple, fast violet B, etc.
Purple pigments such as methyl violet lake, navy blue, cobalt blue, alkali blue lake, Victoria blue lake, phthalocyanine blue, metal-free phthalocyanine blue, partially chlorinated phthalocyanine blue, fast sky blue, blue pigments such as indaslen blue BC,
Chrome green, chromium oxide, pigment green B,
Green pigments such as Malachite Green Lake and Fanal Yellow Green G; white pigments such as zinc white, titanium dioxide, antimony white and zinc sulfide; and barite powder, barium carbonate, clay, silica, silica, white carbon, talc, alumina white, etc. An extender can be exemplified.

【0038】そして、本発明の光硬化性組成物における
本発明の成分化合物の効果は、顔料を使用しない場合よ
りも、亜鉛華、二酸化チタン、アンチモン白、硫化亜鉛
等の白色顔料を用いた組成物でより明快に発揮され、特
に二酸化チタンを用いた場合に効果的である。また、顔
料を使用する場合には別途増感剤を使用することもでき
る。
The effect of the component compound of the present invention in the photocurable composition of the present invention is more excellent than the case where no pigment is used, in that the composition using a white pigment such as zinc white, titanium dioxide, antimony white, and zinc sulfide is more effective. It is more evident in products and is particularly effective when titanium dioxide is used. When a pigment is used, a sensitizer can be separately used.

【0039】本発明にかかる光硬化性組成物の硬化物の
特性、硬化性等をコントロールする場合にはラジカル重
合性化合物を使用するこができる。本発明に用いられる
ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性のある
モノマー、オリゴマー及びポリマーなら、その種類を問
わずどのようなものでも使用しうるが、特に不飽和エス
テル型の化合物が好ましく、例えばラジカル重合性モノ
マーとしては、単官能や多官能のアクリレートやメタク
リレートモノマー等を、ラジカル重合性オリゴマーとし
ては、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタ
クリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリウレタン
メタクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリブ
タジエンメタクリレート等を、ラジカル重合性ポリマー
としては、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリエーテ
ル、ウレタン、エポキシ等の各アクリレート、各メタク
リレート化合物、不飽和ポリエステル等を例示すること
ができる。
For controlling the properties, curability and the like of the cured product of the photocurable composition according to the present invention, a radical polymerizable compound can be used. As the radical polymerizable compound used in the present invention, any monomers, oligomers and polymers having radical polymerizability can be used regardless of the kind thereof. As the radical polymerizable monomer, monofunctional or polyfunctional acrylate or methacrylate monomer, etc., as the radical polymerizable oligomer, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, polyester acrylate, polyester methacrylate, polyether acrylate, polyether methacrylate, polyurethane acrylate, Polyurethane methacrylate, polybutadiene acrylate, polybutadiene methacrylate, and the like, and radical polymerizable polymers include polyester, polybutadiene, and polyether. , Urethane, each acrylates such as epoxy, the methacrylate compounds, can be exemplified unsaturated polyesters.

【0040】ラジカル重合性の反応性希釈剤として、ア
クリル酸、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステルモ
ノマー、メタクリル酸、メタクリル酸メチル等のメタク
リル酸エステルモノマー、スチレン等を例示することが
できる。
Examples of the radically polymerizable reactive diluent include acrylate monomers such as acrylic acid and ethyl acrylate, methacrylate monomers such as methacrylic acid and methyl methacrylate, and styrene.

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、この発明の範囲はこれらの例示に限定される
ものではない。 合成例1(2−エチル−9,10−ジグリシジルオキシ
アントラセンの合成) 2−エチルアントラキノン14.2g、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド0.4g、エピクロロヒドリン2
3g、亜鉛粉末40gをジメチルホルムアミド100g
に溶解させ、120℃で3時間加熱し、その後炭酸カリ
ウム14gを加え、更に8時間反応させた。得られた溶
液を水1lに注ぎ、次いで酢酸エチル300mlを加え
て攪拌した。固形物を炉別し、酢酸エチル溶液を水で洗
浄し、余分のエピクロロヒドリン、ジメチルホルムアミ
ド、酢酸エチルを減圧除去し、固形物21gを得た。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples. Synthesis Example 1 (Synthesis of 2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene) 14.2 g of 2-ethylanthraquinone, 0.4 g of tetrabutylammonium bromide, epichlorohydrin 2
3 g, zinc powder 40 g and dimethylformamide 100 g
And heated at 120 ° C. for 3 hours. Thereafter, 14 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further reacted for 8 hours. The obtained solution was poured into 1 liter of water, and then 300 ml of ethyl acetate was added and stirred. The solid was filtered off, the ethyl acetate solution was washed with water, and excess epichlorohydrin, dimethylformamide and ethyl acetate were removed under reduced pressure to obtain 21 g of a solid.

【0042】合成例2(2−エチル−9,10−ジグリ
シジルオキシアントラセンの重合体の合成) 合成例1で得られた2−エチル−9,10−ジグリシジ
ルオキシアントラセン35gと無水コハク酸10gとを
ジメチルホルムアミド100gに溶解させ、120℃で
8時間反応させた。得られた溶液を水1lに注ぎ、固形
物を炉別し、減圧乾燥させ、固形物40gを得た。
Synthesis Example 2 (Synthesis of polymer of 2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene) 35 g of 2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene obtained in Synthesis Example 1 and 10 g of succinic anhydride Was dissolved in 100 g of dimethylformamide and reacted at 120 ° C. for 8 hours. The obtained solution was poured into 1 liter of water, and the solid matter was separated by filtration and dried under reduced pressure to obtain 40 g of a solid matter.

【0043】配合物1 UVR−6110(UCC社製脂環型エポキシ)100
部と酸化チタン(石原産業社製CR−58)100部
に、4,4’−ジ−tert−ブチルジフェニルヨード
ニウムヘキサフルオロホスホネート3部と合成例1で合
成した化合物(2−エチル−9,10−ジグリシジルオ
キシアントラセン)1部を混合し、配合物1を調製し
た。
Formulation 1 UVR-6110 (alicyclic epoxy manufactured by UCC) 100
Part and titanium oxide (CR-58 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) in 100 parts, 4,4′-di-tert-butyldiphenyliodonium hexafluorophosphonate and 3 parts of compound (2-ethyl-9,10) synthesized in Synthesis Example 1. -Diglycidyloxyanthracene) was mixed to prepare Formulation 1.

【0044】配合物2 合成例1で合成した2−エチル−9,10−ジグリシジ
ルオキシアントラセンの代わりに合成例2で合成した化
合物(2−エチル−9,10−ジグリシジルオキシアン
トラセンの重合体)を使用し、配合物1の場合と同様に
配合物2を調製した。
Formulation 2 A compound (2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene polymer) synthesized in Synthesis Example 2 in place of 2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene synthesized in Synthesis Example 1. ) Was used to prepare Formulation 2 as in Formulation 1.

【0045】配合物3 合成例1で合成した化合物(2−エチル−9,10−ジ
グリシジルオキシアントラセン)を使用しないで、他は
配合物1と同様に配合物を調製した。
Formulation 3 A formulation was prepared in the same manner as Formulation 1 except that the compound (2-ethyl-9,10-diglycidyloxyanthracene) synthesized in Synthesis Example 1 was not used.

【0046】光硬化性テスト 上記配合物1〜3を、ブリキ板にバーコターNo.4で
塗布し、以下の条件で光硬化させたところ、配合物1及
び配合物2ではその内部まで硬化していたが、配合物3
ではその内部まで硬化していなかった。 UV照射機器 :ベルトコンベア式UV照射機器(アイグラフィックス社 製) ランプ :集光型160Wガリウム入りメタルハライドランプ1灯 照射距離 :10cm(焦点距離) ベルトコンベア速度:40m/分
Photocurability Test Each of the above Formulations 1 to 3 was coated on a tin plate with a bar coater No. 4 and light-cured under the following conditions, Formulation 1 and Formulation 2 had hardened to the inside, but Formulation 3
Did not cure to its interior. UV irradiation equipment: belt conveyor type UV irradiation equipment (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) Lamp: one condensing type 160 W gallium-containing metal halide lamp Irradiation distance: 10 cm (focal length) Belt conveyor speed: 40 m / min

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明の光硬化性組成物は、光、電子
線、X線等の活性エネルギー線照射により、硬化が可能
である。更に、ジフェニルヨードニウム塩誘導体又はト
リアリールスルホニウム塩誘導体には吸収領域がないか
又は極めて吸収が小さい330nmよりも長波長の光で
も硬化することができるため、顔料等の添加剤を含有す
る組成物においても効果的に光硬化することができる。
従って、光硬化型の塗料、接着剤、インキおよびフォト
レジスト、光造形用の感光性樹脂等へ好適に用いられ
る。
The photocurable composition of the present invention can be cured by irradiating active energy rays such as light, electron beams and X-rays. Furthermore, since the diphenyliodonium salt derivative or the triarylsulfonium salt derivative has no absorption region or can be cured even with light having a wavelength of longer than 330 nm, which has extremely low absorption, the composition containing an additive such as a pigment may be used. Can also be photocured effectively.
Therefore, it is suitably used for a photocurable paint, an adhesive, an ink, a photoresist, a photosensitive resin for stereolithography, and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 57/00 C08L 57/00 63/00 63/00 Z 83/04 83/04 G03F 7/029 G03F 7/029 //(C08K 5/00 5:06 5:3417) ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 57/00 C08L 57/00 63/00 63/00 Z 83/04 83/04 G03F 7 / 029 G03F 7/029 // (C08K 5/00 5:06 5: 3417)

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内にカチオン重合性基と光カチオン
開始反応を促進する増感基とを有する化合物。
1. A compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group for accelerating a photocation initiation reaction in a molecule.
【請求項2】 分子内にカチオン重合性基と光カチオン
開始反応を促進する増感基とを有する化合物が、カチオ
ン重合性基を芳香環又はアルコキシ基の一部に置換基と
して有する置換アルコキシ多環芳香族化合物又はその重
合体であることを特徴とする請求項1記載の化合物。
2. A compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group which promotes a photocation initiation reaction in a molecule, wherein the compound has a cationically polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group. 2. The compound according to claim 1, which is a ring aromatic compound or a polymer thereof.
【請求項3】 置換アルコキシ多環芳香族化合物が、ア
ントラセン誘導体又はフェナントレン誘導体である請求
項2記載の化合物。
3. The compound according to claim 2, wherein the substituted alkoxy polycyclic aromatic compound is an anthracene derivative or a phenanthrene derivative.
【請求項4】 増感基が、置換基として水酸基、置換さ
れていてもよいアラルキルオキシ基又は置換されていて
もよいアルコキシ基を少なくとも1つ以上有し、かつ3
30nmよりも長波長にUV吸収スペクトルをもつ多環
芳香族基を含んだ基であることを特徴とする請求項1記
載の化合物。
4. The sensitizing group has at least one of a hydroxyl group, an optionally substituted aralkyloxy group and an optionally substituted alkoxy group, and
The compound according to claim 1, which is a group containing a polycyclic aromatic group having a UV absorption spectrum at a wavelength longer than 30 nm.
【請求項5】 増感基が、330nmよりも長波長にU
V吸収スペクトルをもつカルバゾール誘導体構造を有す
る基であることを特徴とする請求項1記載の化合物。
5. The method according to claim 1, wherein the sensitizing group has a wavelength longer than 330 nm.
2. The compound according to claim 1, which is a group having a carbazole derivative structure having a V absorption spectrum.
【請求項6】 カチオン重合性基が、オキシラン構造を
有する基であることを特徴とする請求項1〜5のいずれ
か記載の化合物。
6. The compound according to claim 1, wherein the cationically polymerizable group is a group having an oxirane structure.
【請求項7】 オキシラン構造を有する基が、エポキシ
シリコーン構造を有するエポキシ基であることを特徴と
する請求項6記載の化合物。
7. The compound according to claim 6, wherein the group having an oxirane structure is an epoxy group having an epoxysilicone structure.
【請求項8】 分子内に光カチオン重合開始剤として機
能する基を有する化合物と、分子内にカチオン重合性基
と光カチオン開始反応を促進する増感基とを有する化合
物とを含有することを特徴とする光硬化性組成物。
8. A composition comprising a compound having a group functioning as a photocationic polymerization initiator in a molecule and a compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group promoting a photocationic initiation reaction in the molecule. Characteristic photocurable composition.
【請求項9】 分子内に光カチオン重合開始剤として機
能する基を有する化合物と、分子内にカチオン重合性基
と光カチオン開始反応を促進する増感基とを有する化合
物と、カチオン重合性化合物とを含有することを特徴と
する光硬化性組成物。
9. A compound having a group that functions as a photocationic polymerization initiator in a molecule, a compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group that promotes a photocationic initiation reaction in a molecule, and a cationically polymerizable compound. And a photocurable composition comprising:
【請求項10】 分子内に光カチオン重合開始剤として
機能する基を有する化合物が、オニウム塩化合物である
ことを特徴とする請求項8又は9記載の光硬化性組成
物。
10. The photocurable composition according to claim 8, wherein the compound having a group that functions as a photocationic polymerization initiator in the molecule is an onium salt compound.
【請求項11】 オニウム塩化合物が、ジアリールヨー
ドニウム塩誘導体又はトリアリールスルホニウム塩誘導
体であることを特徴とする請求項10記載の光硬化性組
成物。
11. The photocurable composition according to claim 10, wherein the onium salt compound is a diaryliodonium salt derivative or a triarylsulfonium salt derivative.
【請求項12】 分子内にカチオン重合性基と光カチオ
ン開始反応を促進する増感基とを有する化合物が、カチ
オン重合性基を芳香環又はアルコキシ基の一部に置換基
として有する置換アルコキシ多環芳香族化合物又はその
重合体であることを特徴とする請求項8〜11のいずれ
か記載の光硬化性組成物。
12. A compound having a cationically polymerizable group and a sensitizing group for accelerating a photocation initiation reaction in a molecule, wherein the compound has a cationically polymerizable group as a substituent on a part of an aromatic ring or an alkoxy group. The photocurable composition according to any one of claims 8 to 11, which is a ring aromatic compound or a polymer thereof.
【請求項13】 置換アルコキシ多環芳香族化合物が、
アントラセン誘導体又はフェナントレン誘導体である請
求項12記載の光硬化性組成物。
13. The substituted alkoxy polycyclic aromatic compound,
The photocurable composition according to claim 12, which is an anthracene derivative or a phenanthrene derivative.
【請求項14】 増感基が、置換基として水酸基、置換
されていてもよいアラルキルオキシ基又は置換されてい
てもよいアルコキシ基を少なくとも1つ以上有し、かつ
330nmよりも長波長にUV吸収スペクトルをもつ多
環芳香族基を含んだ基であることを特徴とする請求項8
〜13のいずれか記載の光硬化性組成物。
14. The sensitizing group has at least one hydroxyl group, an optionally substituted aralkyloxy group or an optionally substituted alkoxy group as a substituent and absorbs UV light at a wavelength longer than 330 nm. 9. A group containing a polycyclic aromatic group having a spectrum.
14. The photocurable composition according to any one of items 13 to 13.
【請求項15】 増感基が、330nmよりも長波長に
UV吸収スペクトルをもつカルバゾール誘導体構造を有
する基であることを特徴とする請求項8〜13のいずれ
か記載の光硬化性組成物。
15. The photocurable composition according to claim 8, wherein the sensitizing group is a group having a carbazole derivative structure having a UV absorption spectrum at a wavelength longer than 330 nm.
【請求項16】 カチオン重合性基が、オキシラン構造
を有する基であることを特徴とする請求項8〜15のい
ずれか記載の光硬化性組成物。
16. The photocurable composition according to claim 8, wherein the cationically polymerizable group is a group having an oxirane structure.
【請求項17】 オキシラン構造を有する基が、エポキ
シシリコーン構造を有するエポキシ基であることを特徴
とする請求項16記載の光硬化性組成物。
17. The photocurable composition according to claim 16, wherein the group having an oxirane structure is an epoxy group having an epoxysilicone structure.
【請求項18】 カチオン重合性化合物が、脂環型エポ
キシ化合物、ビニルエーテル化合物又はオキセタン化合
物から選ばれた群の1種又は2種以上の化合物であるこ
とを特徴とする請求項9〜17のいずれか記載の光硬化
性組成物。
18. The cationic polymerizable compound according to claim 9, wherein the cationically polymerizable compound is one or more compounds selected from the group consisting of an alicyclic epoxy compound, a vinyl ether compound, and an oxetane compound. Or a photocurable composition according to the above.
【請求項19】 脂環型エポキシ化合物が、エポキシシ
リコーンであることを特徴とする請求項18記載の光硬
化性組成物。
19. The photocurable composition according to claim 18, wherein the alicyclic epoxy compound is epoxy silicone.
【請求項20】 光硬化性組成物が、さらにラジカル重
合性化合物を含有することを特徴とする請求項8〜19
のいずれか記載の光硬化性組成物。
20. The photocurable composition according to claim 8, further comprising a radical polymerizable compound.
The photocurable composition according to any one of the above.
【請求項21】 光硬化性組成物が、さらに顔料を含有
することを特徴とする請求項8〜20のいずれか記載の
光硬化性組成物。
21. The photocurable composition according to claim 8, wherein the photocurable composition further contains a pigment.
【請求項22】 顔料が、二酸化チタンであることを特
徴とする請求項21記載の光硬化性組成物。
22. The photocurable composition according to claim 21, wherein the pigment is titanium dioxide.
【請求項23】 請求項21記載の光硬化性組成物に、
ガリウム含有ランプを照射することを特徴とする光硬化
方法。
23. The photocurable composition according to claim 21,
A photocuring method comprising irradiating a gallium-containing lamp.
JP10111371A 1998-03-19 1998-04-08 Photocurable composition and curing Ceased JPH11322900A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10111371A JPH11322900A (en) 1998-03-19 1998-04-08 Photocurable composition and curing

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8958598 1998-03-19
JP10-89585 1998-03-19
JP10111371A JPH11322900A (en) 1998-03-19 1998-04-08 Photocurable composition and curing

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11322900A true JPH11322900A (en) 1999-11-26

Family

ID=26431004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10111371A Ceased JPH11322900A (en) 1998-03-19 1998-04-08 Photocurable composition and curing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11322900A (en)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044700A1 (en) * 1999-01-29 2000-08-03 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Novel anthracene compounds, resin composition containing the same, and process for producing 9,10-dietherified anthracene derivative
WO2002060973A1 (en) * 2001-01-31 2002-08-08 Nippon Soda Co., Ltd. Photocurable composition containing iodonium salt compound
JP2007249193A (en) * 2006-02-16 2007-09-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and pattern forming method using the same
US7285581B2 (en) 2003-06-18 2007-10-23 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Processed pigments, pigment-dispersed solution, ink for ink jet, manufacturing method of processed pigments and manufacturing method of pigment-dispersed solution
US7375145B2 (en) 2003-10-28 2008-05-20 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Inkjet ink
US7439281B2 (en) 2003-10-28 2008-10-21 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Pigment dispersion, precursor of ink for UV-curing type ink-jet recording, method of ink-jet recording, printed matter, and method of manufacturing pigment dispersion
JP2011180586A (en) * 2010-02-05 2011-09-15 Canon Inc Photosensitive resin composition, liquid discharge device, and method for producing fine structure
WO2011118506A1 (en) * 2010-03-24 2011-09-29 積水化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive tape, method for processing semiconductor wafer and method for producing tsv wafer
JP2011219515A (en) * 2010-04-05 2011-11-04 Kawasaki Kasei Chem Ltd Photopolymerization sensitizer having photocationic polymerizability
US8617795B2 (en) 2006-02-16 2013-12-31 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition and pattern forming method using the same
WO2015045426A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 Toyo Gosei Co., Ltd. Compounders for Enhancing Generation of Chemical Species
US9061499B2 (en) 2010-02-05 2015-06-23 Canon Kabushiki Kaisha Negative photosensitive resin composition, pattern formation method, and liquid discharge head
JP2017114849A (en) * 2015-12-23 2017-06-29 川崎化成工業株式会社 Polymeric photopolymerization sensitizer
WO2018212176A1 (en) * 2017-05-17 2018-11-22 川崎化成工業株式会社 Polymeric photopolymerization sensitizer
WO2020121577A1 (en) * 2018-12-13 2020-06-18 Jnc株式会社 Epoxy compound
JP2020173226A (en) * 2019-04-12 2020-10-22 三菱ケミカル株式会社 Scintillator array, radiation detector, and radiation inspection device

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044700A1 (en) * 1999-01-29 2000-08-03 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Novel anthracene compounds, resin composition containing the same, and process for producing 9,10-dietherified anthracene derivative
WO2002060973A1 (en) * 2001-01-31 2002-08-08 Nippon Soda Co., Ltd. Photocurable composition containing iodonium salt compound
US7285581B2 (en) 2003-06-18 2007-10-23 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Processed pigments, pigment-dispersed solution, ink for ink jet, manufacturing method of processed pigments and manufacturing method of pigment-dispersed solution
US7754785B2 (en) 2003-10-28 2010-07-13 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Pigment dispersion, precursor of ink for UV-curing type ink-jet recording, method of ink-jet recording, printed matter, and method of manufacturing pigment dispersion
US7375145B2 (en) 2003-10-28 2008-05-20 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Inkjet ink
US7439281B2 (en) 2003-10-28 2008-10-21 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Pigment dispersion, precursor of ink for UV-curing type ink-jet recording, method of ink-jet recording, printed matter, and method of manufacturing pigment dispersion
US7473720B2 (en) 2003-10-28 2009-01-06 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Photosensitive inkjet ink
US8617795B2 (en) 2006-02-16 2013-12-31 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition and pattern forming method using the same
JP2007249193A (en) * 2006-02-16 2007-09-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and pattern forming method using the same
US8980968B2 (en) 2010-02-05 2015-03-17 Canon Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition, method for producing structure, and liquid discharge head
US9061499B2 (en) 2010-02-05 2015-06-23 Canon Kabushiki Kaisha Negative photosensitive resin composition, pattern formation method, and liquid discharge head
JP2011180586A (en) * 2010-02-05 2011-09-15 Canon Inc Photosensitive resin composition, liquid discharge device, and method for producing fine structure
WO2011118506A1 (en) * 2010-03-24 2011-09-29 積水化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive tape, method for processing semiconductor wafer and method for producing tsv wafer
JP4846067B2 (en) * 2010-03-24 2011-12-28 積水化学工業株式会社 Semiconductor wafer processing method and TSV wafer manufacturing method
JP2011219515A (en) * 2010-04-05 2011-11-04 Kawasaki Kasei Chem Ltd Photopolymerization sensitizer having photocationic polymerizability
US9952508B2 (en) 2013-09-30 2018-04-24 Toyo Gosei Co., Ltd. Compounders for enhancing generation of chemical species
WO2015045426A1 (en) * 2013-09-30 2015-04-02 Toyo Gosei Co., Ltd. Compounders for Enhancing Generation of Chemical Species
JP2017114849A (en) * 2015-12-23 2017-06-29 川崎化成工業株式会社 Polymeric photopolymerization sensitizer
WO2018212176A1 (en) * 2017-05-17 2018-11-22 川崎化成工業株式会社 Polymeric photopolymerization sensitizer
JP2018193321A (en) * 2017-05-17 2018-12-06 川崎化成工業株式会社 Polymer photopolymerization sensitizer
JP2021181459A (en) * 2017-05-17 2021-11-25 川崎化成工業株式会社 Polymer photopolymerization sensitizer
JP2021181458A (en) * 2017-05-17 2021-11-25 川崎化成工業株式会社 Polymer photopolymerization sensitizer
US11420928B2 (en) 2017-05-17 2022-08-23 Kawasaki Kasei Chemicals Ltd. Polymer photopolymerization sensitizer
WO2020121577A1 (en) * 2018-12-13 2020-06-18 Jnc株式会社 Epoxy compound
CN113056459A (en) * 2018-12-13 2021-06-29 捷恩智株式会社 Epoxy compound
JP2020173226A (en) * 2019-04-12 2020-10-22 三菱ケミカル株式会社 Scintillator array, radiation detector, and radiation inspection device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11322900A (en) Photocurable composition and curing
JPH09118663A (en) New sulfonium salt compound, polymerization initiator, curable composition containing the same compound and curing
US6558871B1 (en) Photocurable composition containing iodonium salt compound
US7709548B2 (en) Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product
JP3437069B2 (en) Photocatalyst composition
JPH08165290A (en) Photopolymerization initiator, energy ray curing composition containing the same and its cured product
JPH11279212A (en) Photocurable composition containing new iodonium salt compound
JPH11263804A (en) Photo-curing composition and method of curing
JP2002302507A (en) Photocurable composition containing iodonium salt compound
JPH11279213A (en) Onium salt compound and photocurable composition containing the same
JPH06345726A (en) Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization
JPH11269209A (en) Onium salt compound and photocurable composition containing the same
JP2000119306A (en) Photocurable composition containing iodonium salt compound
JPH107680A (en) Photopolymerization initiator, energy ray-curable composition containing the same and its cured product
JP2001106648A (en) Photo-setting composition comprising iodonium salt compound
JPH10212286A (en) Photoinitiator, energy ray-hardenable composition containing the same and hardened material thereof
JPH10245378A (en) New sulfonium salt and photopolymerization initiator and energy ray curing composition comprising the same
JPH107649A (en) Photopolymerization initiator, energy-ray curable composition containing the initiator and its cured product
JP3741387B2 (en) Novel sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing them
JP3923096B2 (en) Novel sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing them
JP3565516B2 (en) New onium salt compound and polymerization initiator
JP3555119B2 (en) New sulfonium salt compound and polymerization initiator
JPH11269107A (en) Onium salt compound and photocurable composition containing the same
US6677390B1 (en) Photocurable composition containing iodonium salt compound
JPH0710914A (en) Photopolymerization initiator, actinic-ray-curable composition containing the same, and cured composition therefrom

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041217

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070410

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070611

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070705

A045 Written measure of dismissal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20071126