JPH11320682A - Apparatus and method for vacuum laminating - Google Patents
Apparatus and method for vacuum laminatingInfo
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- JPH11320682A JPH11320682A JP10138225A JP13822598A JPH11320682A JP H11320682 A JPH11320682 A JP H11320682A JP 10138225 A JP10138225 A JP 10138225A JP 13822598 A JP13822598 A JP 13822598A JP H11320682 A JPH11320682 A JP H11320682A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、真空雰囲気下におい
て、加熱及び加圧処理により基板上にフィルムを積層す
る真空式積層装置及びその方法に関し、特に、プリント
配線基板の表面上にフォトレジスト形成層を積層するた
めに、加熱・加圧して感光性樹脂の接着材が塗布された
フィルム基材を基板上に積層する真空式ラミネータ装置
及びその方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum laminating apparatus and method for laminating a film on a substrate in a vacuum atmosphere by heating and pressurizing, and more particularly to a method for forming a photoresist on the surface of a printed wiring board. The present invention relates to a vacuum laminator apparatus and a method for laminating a film base material coated with a photosensitive resin adhesive on a substrate by applying heat and pressure to laminate layers.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、2つのステージ材料を一体化
するために、これらのステージ材料をチャンバー内に収
納し、次いでこのチャンバーを真空源によって真空に
し、しかる後、上下位置に互いに対向するブレスプラテ
ンによって真空室内を加熱および加圧する真空プレス装
置がある。例えば、プリント配線基板を製造する場合に
おいて、基板上の電気回路をエッチング、メッキ、はん
だ等から保護するために、支持体フィルム及び感光層か
らなるフィルム状フォトレジスト形成層を基板表面に熱
圧着する工程がある。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to integrate two stage materials, these stage materials are housed in a chamber, and then the chamber is evacuated by a vacuum source. There is a vacuum press device that heats and pressurizes a vacuum chamber by a platen. For example, in the case of manufacturing a printed wiring board, in order to protect an electric circuit on the board from etching, plating, soldering, etc., a film-like photoresist forming layer including a support film and a photosensitive layer is thermocompression-bonded to the substrate surface. There is a process.
【0003】このために使用するフィルムは、一面側に
フォトレジスト形成層の接着面が塗布された上層の基材
フィルムと、この接着面を覆うための下層の保護フィル
ムから構成されている。それゆえ、真空プレス装置を用
いて、基板上にフィルム状のフォトレジスト形成層を接
着するには、始めに、真空プレス装置に送られるフィル
ムから保護フィルムを分離して残った基材フィルム上に
フォトレジスト形成層を露出させ、その後、この上層の
フィルムを真空プレス装置内に供給している。こうし
て、このフォトレジスト形成層は、真空室内で加熱され
ることによって、粘着性を有し、回路基板上に加圧され
て積層される。[0003] The film used for this purpose is composed of an upper layer base film coated on one side with an adhesive surface of a photoresist forming layer, and a lower protective film for covering the adhesive surface. Therefore, in order to bond the film-like photoresist forming layer on the substrate using a vacuum press device, first, the protective film is separated from the film sent to the vacuum press device and the remaining film is formed on the remaining base film. The photoresist forming layer is exposed, and then the upper layer film is supplied into a vacuum press. In this manner, the photoresist forming layer has adhesiveness by being heated in a vacuum chamber, and is pressed and laminated on a circuit board.
【0004】このような回路基板にフィルム状フォトレ
ジスト形成層が積層される表面には、回路ラインによる
凹凸があるため、特に、このフォトレジストによる感光
性樹脂層の厚さが回路ラインの厚さよりも薄い場合、回
路基板とフィルム状フォトレジスト形成層との間に気泡
等が残留するボイドが発生しやすくなる。この発生した
ボイドは、例えば、溶融ハンダ浴等、後工程における高
温処理時に膨張し、フィルム状フォトレジスト形成層を
破損させる場合等があり、回路構成の保護不良や絶縁不
良等の原因となるおそれがある。Since the surface of such a circuit board on which the film-like photoresist forming layer is laminated has irregularities due to the circuit lines, the thickness of the photosensitive resin layer made of the photoresist is more than the thickness of the circuit lines. When the thickness is too small, a void in which bubbles and the like remain between the circuit board and the film-like photoresist formation layer is likely to be generated. The generated voids may expand during high-temperature processing in a later step, for example, in a molten solder bath or the like, and may damage the film-like photoresist forming layer, and may cause poor protection of the circuit configuration or poor insulation. There is.
【0005】それゆえ、各種フイルムを積層する場合、
基板とフィルムの間にボイドを発生させないように、真
空雰囲気下において、フィルムを基板上に載置して加熱
及び加圧によってラミネート(積層)することが重要で
ある。Therefore, when laminating various films,
It is important that the film is placed on a substrate and laminated by heating and pressing under a vacuum atmosphere so as not to generate voids between the substrate and the film.
【0006】しかし、従来の真空積層装置では、例え
ば、特公昭55−13341号公報に開示されているよ
うに、真空積層装置の外側に配置された供給ロールから
繰り出されるフィルム基材が、真空室内に搬送される前
にカバーシートを剥離してフォトレジスト形成層の表面
を外気に露出した状態で供給されている。また、特開昭
63−295218号公報、および特開昭63−299
895号公報等に開示された他の従来の真空積層装置に
おいても、同様に、フォトレジスト層に対応するステー
ジ材料が外部に露出しており、周囲の環境の影響下にあ
り、ほこり等が付着する。However, in a conventional vacuum laminating apparatus, for example, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 55-13341, a film base material fed from a supply roll disposed outside the vacuum laminating apparatus is used in a vacuum chamber. Before being transported to the substrate, the cover sheet is peeled off and the surface of the photoresist forming layer is exposed to the outside air. Further, JP-A-63-295218 and JP-A-63-299
Similarly, in another conventional vacuum laminating apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 895-895, etc., similarly, the stage material corresponding to the photoresist layer is exposed to the outside, is under the influence of the surrounding environment, and dust and the like are adhered. I do.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】さらに、従来の装置で
は、真空引きする容積が大きく、また真空室内の密閉度
が低いため、減圧を十分に行うことができず、このた
め、真空室内において、基板とフィルムの接着面とが不
用意に部分的に接触し、両者間に気泡が混在したり、ま
たラミネート中においてシワの発生等が生じてしまうと
いう欠陥を完全に解消することができない。Further, in the conventional apparatus, since the volume to be evacuated is large and the degree of sealing in the vacuum chamber is low, the pressure cannot be reduced sufficiently. It is not possible to completely eliminate the defects that the substrate and the adhesive surface of the film are inadvertently partially contacted with each other, bubbles are mixed between them, and wrinkles are generated during lamination.
【0008】このような事情に鑑みて、本発明は、ラミ
ネート作業時において、フィルムに塗布された接着面と
基板との積層状態を安定させ、両者間に気泡やシワが生
じないようにした真空式ラミネート装置及びそのための
方法を提供することを目的としている。In view of such circumstances, the present invention provides a vacuum that stabilizes the state of lamination between an adhesive surface applied to a film and a substrate during lamination and prevents bubbles and wrinkles between the two. It is an object of the present invention to provide a laminating apparatus and a method therefor.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基材ロールから供給されるフィルムを基
板供給ライン上の基板の移動方向に合わせて搬送し、前
記フィルムから保護フィルムを分離して、接着面が露出
する基材フィルムと前記基板を真空室内で加熱圧着する
真空式ラミネータ装置であって、前記基板供給ラインの
途中に相対向して接近離間できるように配置され、かつ
前記ライン上に入口と出口を形成する一対のブロック体
を有し、さらに、室内を加熱するための加熱手段と、室
内を減圧しかつ前記基板とフィルムを挾持して押圧力を
与えるための真空加圧手段を備えた真空室と、この真空
室の前段で前記基板供給ラインに隣接して配置され、一
方は前記基材ロールからのフィルムが掛け渡され、他方
は、保護フィルムロールに巻き付けられる保護フィルム
を掛け渡たすための一対のフィルムガイドと、前記基材
フィルムを前進させるとともに、この前進動作に合わせ
て別のフィルム上に載置された基板を順次搬送する送出
装置と、前記基板の先端付近に前記基材フィルムと保護
フィルムの分離点を維持しつつ前記2つのフィルムを基
板とともに前進させ、真空室内において基板を覆った基
材フィルムの内側から保護フィルムを剥離して真空室外
に排出するために、前記基材ロールと保護フィルムロー
ルの回転を前記送出装置とともに制御し、かつ真空室の
前記加熱手段及び真空加圧手段を制御するための制御装
置とを備えていることを特徴としている。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for transporting a film supplied from a substrate roll in accordance with the direction of movement of a substrate on a substrate supply line, and removing the protective film from the film. Is a vacuum laminator device that heat-presses the substrate film and the substrate in a vacuum chamber where the adhesive surface is exposed, and is disposed so as to be able to face and close to each other in the middle of the substrate supply line, And a pair of blocks for forming an inlet and an outlet on the line, a heating means for heating the inside of the room, and a pressing means for depressurizing the inside of the room and holding the substrate and the film to apply a pressing force. A vacuum chamber equipped with a vacuum pressurizing means, disposed before the vacuum chamber and adjacent to the substrate supply line, one of which is overlaid with a film from the substrate roll, and the other is a protective film A pair of film guides for wrapping a protective film wound around the base film, and a feeder for advancing the base film and sequentially transporting a substrate placed on another film in accordance with the advancing operation. The device and the two films are moved forward with the substrate while maintaining the separation point between the base film and the protection film near the tip of the substrate, and the protection film is peeled from the inside of the base film covering the substrate in a vacuum chamber. And a control device for controlling the rotation of the substrate roll and the protective film roll together with the delivery device, and for controlling the heating means and the vacuum pressurizing means of the vacuum chamber. It is characterized by having.
【0010】また、本発明の真空積層方法では、前記真
空室の型開時に、前記フィルムと、このフイルムから分
離して保護ロールフィルムに巻き取られる保護フィルム
を一対のフィルムガイドに掛け渡し、前記基板を搬送す
る別のフィルムと前記基材フィルムを、真空室内に通過
させるとともに前記基板供給ラインの出口側に配置した
送出装置に連結する工程と、前記基板の真空室内への搬
送に合わせて、前記送出装置を介して基材ロールと保護
フィルムロールを共転し、前記基材フィルムと保護フィ
ルムの分離点を基板の先端付近に維持しつつ、これら2
つのフィルムを基板の移動方向に前進させる工程と、前
記基材フィルムの内側に保護フィルムが折り重なり、真
空室内の基板を前記基材フィルムと保護フィルムが覆っ
た状態から真空室の型閉を行う工程と、この型閉後、前
記真空室の吸引口から内部のエアを排出する工程と、こ
の真空引き工程中に、保護フィルムロールのみ逆転駆動
させて基材フィルムに覆われた基板上から保護フィルム
を真空室外に排出する工程と、前記真空室内の基板上に
前記基材フィルムの接着面を加熱圧着することを特徴と
している。In the vacuum laminating method of the present invention, when the mold of the vacuum chamber is opened, the film and a protective film separated from the film and wound on a protective roll film are passed over a pair of film guides. Another film for transporting the substrate and the base film, the step of connecting to a delivery device disposed on the exit side of the substrate supply line while passing through the vacuum chamber, in accordance with the transport of the substrate into the vacuum chamber, The base roll and the protective film roll are rotated together through the delivery device, and the separation point between the base film and the protective film is maintained near the front end of the substrate.
A step of advancing two films in the direction of movement of the substrate, and closing the mold in the vacuum chamber from a state in which the protective film is folded over the inside of the base film and the substrate in the vacuum chamber is covered with the base film and the protective film. A step of discharging the internal air from the suction port of the vacuum chamber after the mold is closed; and, during the evacuation step, only the protective film roll is reversely driven to protect the substrate covered with the base film from the substrate. The method is characterized in that the film is discharged to the outside of the vacuum chamber, and the bonding surface of the base film is heat-pressed on the substrate in the vacuum chamber.
【0011】このような構成によって、本発明では、真
空室内において、基材フィルムと基板との間に保護フィ
ルムが折り重なり、さらに、型閉時には、基板の入口及
び出口側においてフィルムが密着状態に合わせられるこ
とから、保護フィルムが完全に基材フィルムと基板によ
って完全に覆われた形となる。According to the present invention, in the present invention, the protective film is folded between the substrate film and the substrate in the vacuum chamber, and when the mold is closed, the films are brought into close contact with each other at the entrance and exit of the substrate. Since they are combined, the protective film is completely covered with the base film and the substrate.
【0012】その結果、保護フィルムは、真空室内でか
つ基材フィルムと基板との間に挟まれた閉鎖空間内で剥
されて分離して、基板に接着する基材フィルムの接着面
が露出するため、外部の影響を受けることがなくなり、
保護フィルムが分離した基材フィルムは、真空室内で均
一な押圧力により、接着面が基板上に貼り付いてラミネ
ートされる。As a result, the protective film is peeled off and separated in the vacuum chamber and in the closed space between the base film and the substrate, and the bonding surface of the base film bonded to the substrate is exposed. Therefore, there is no external influence,
The base film from which the protective film has been separated is adhered on the substrate by an even pressing force in a vacuum chamber and laminated.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図1は、本発明に係る真空式ラミネータ
装置1を示し、相対向して離間接近する上下のブロック
体2,3により囲まれた真空室4が、基板供給ラインA
上に配置される。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a vacuum laminator device 1 according to the present invention, in which a vacuum chamber 4 surrounded by upper and lower block bodies 2 and 3 facing and separated from each other is provided with a substrate supply line A.
Placed on top.
【0014】真空室4に供給するためのフィルム10
は、フォトレジスト層の接着面が塗布された上層の基材
フィルム11と、このフォトレジスト層を保護するため
の下層の保護フィルム12からなっている。このフィル
ム10は、基材ロール5から繰り出されて真空室4の前
段に設けた一対のフィルムガイド6,7の一方のロール
6に掛け渡される。また、フィルムガイド6,7との間
の分離点Pで分離される保護フィルム12は、他方のフ
ィルムガイド7に掛け渡されて保護フィルムロール8に
巻き取られる。このフィルムガイドは、図1に示すよう
に、通常、隣接するローラで構成されるが、フィルムを
案内するものであればよいので、板状のものであっても
よい。Film 10 for supply to vacuum chamber 4
Consists of an upper substrate film 11 on which an adhesive surface of a photoresist layer is applied, and a lower protective film 12 for protecting the photoresist layer. The film 10 is unwound from the substrate roll 5 and is wound over one roll 6 of a pair of film guides 6 and 7 provided in the preceding stage of the vacuum chamber 4. The protective film 12 separated at the separation point P between the film guides 6 and 7 is wound around the other film guide 7 and wound on the protective film roll 8. As shown in FIG. 1, the film guide is usually composed of adjacent rollers. However, the film guide may be of any type as long as it guides the film.
【0015】保護フィルム12が剥離したフィルムは、
接着材(フォトレジスト形成層)の付着した基材フィル
ム11となり、真空室内を通過し、基板供給ラインAに
沿って伸びて真空室4の出口から排出され、真空室4の
後方に配置された公知の送出手段(図示略)によって基
材フィルム11の先端部が把持されている。また、真空
室内に順次供給される基板14を搬送するためのキャリ
アフィルム15が、真空室内を通過しており、真空室4
の前方と後方に、それぞれ配置された、キャリアフィル
ム15の繰り出しロール16及び巻き取りロール17に
掛け渡されている。これらの各ロールは、1つまたは複
数の駆動手段(図示略)によっていずれかの回転方向に
駆動される。これら2つのロール及び駆動手段は、搬送
手段を構成する。また、この搬送手段と上記送出手段と
を1つの送出装置として構成することも可能であり、こ
れらの手段は、装置全体の作動を制御する制御装置(図
示略)に接続される。The film from which the protective film 12 has been peeled is
The substrate film 11 with the adhesive (photoresist forming layer) adhered thereto, passed through the vacuum chamber, extended along the substrate supply line A, discharged from the outlet of the vacuum chamber 4, and disposed behind the vacuum chamber 4. The leading end of the base film 11 is gripped by a known sending means (not shown). Further, a carrier film 15 for transporting the substrate 14 sequentially supplied into the vacuum chamber passes through the vacuum chamber, and
Is wound around a feed roll 16 and a take-up roll 17 of the carrier film 15 which are respectively arranged in front and rear of the carrier film 15. Each of these rolls is driven in one of the rotation directions by one or a plurality of driving means (not shown). These two rolls and drive means constitute a transport means. It is also possible to configure the transporting means and the sending means as one sending device, and these means are connected to a control device (not shown) for controlling the operation of the entire apparatus.
【0016】図2において、真空室4の構成は、2つの
ブロック体2,3に分割されており、一方の上型ブロッ
ク体2は、上枠21の内部に、順次外側から、上定盤2
2、ヒータ23、2層の断熱材24,24が積層された
構成からなり、上枠21の中央部に吸引口25が開口し
ている。断熱材24は、上層及び下層の断熱材がそれぞ
れ縦方向または横方向に沿った複数の溝を有し、これら
の溝を重ねることによって互いに直交した格子状の溝2
6が形成される。また、断熱材24と上枠21の内面と
の間には隙間があり、エアの通路を形成する。さらにヒ
ータ23に設けた開口孔や断熱材24の格子溝26を介
して、真空室内部のエアが吸引口25を通って排気され
るようになっている。上定盤22は、ヒータ、断熱材等
の中間部材を介して上枠21に密着固定されている。In FIG. 2, the configuration of the vacuum chamber 4 is divided into two block bodies 2 and 3, and one upper block body 2 is placed inside an upper frame 21 in order from the outside and an upper surface plate. 2
2, a heater 23, two layers of heat insulating materials 24, 24 are laminated, and a suction port 25 is opened at the center of the upper frame 21. The heat insulating material 24 has a plurality of grooves formed in the upper and lower layers of the heat insulating material, each of which extends in the vertical direction or the horizontal direction.
6 are formed. There is a gap between the heat insulating material 24 and the inner surface of the upper frame 21 to form an air passage. Further, the air inside the vacuum chamber is exhausted through the suction port 25 through the opening hole provided in the heater 23 and the lattice groove 26 of the heat insulating material 24. The upper surface plate 22 is tightly fixed to the upper frame 21 via an intermediate member such as a heater and a heat insulating material.
【0017】他方の下型ブロック体3は、移動可能な下
枠31内部に、順次外側から膜体32、多孔板33、下
定盤34、ヒータ35、断熱材36が積層された構成か
らなり、下枠31の中央部に吸引口37が開口してい
る。また、ヒータ35は、下定盤34、多孔板33、膜
体32へと熱を伝達する。通常ゴム製の膜体32は、吸
引口25,37の圧力差により生じた負圧によって、基
板14を下側から押圧するためのもので、この膜体32
の周縁部が、分割した下枠31の下板38とその上に固
定される枠体39との間に挾持されている。The other lower mold block 3 has a structure in which a membrane 32, a perforated plate 33, a lower platen 34, a heater 35, and a heat insulating material 36 are sequentially laminated from the outside inside a movable lower frame 31, A suction port 37 is opened at the center of the lower frame 31. Further, the heater 35 transmits heat to the lower platen 34, the perforated plate 33, and the membrane 32. Normally, the film 32 made of rubber is for pressing the substrate 14 from below by a negative pressure generated by the pressure difference between the suction ports 25 and 37.
Is sandwiched between a lower plate 38 of the divided lower frame 31 and a frame body 39 fixed thereon.
【0018】ここで、膜体32は、少なくとも耐熱性と
弾性を有する、例えば、シリコンゴムで、ゴム硬度Hs
が40〜60のものが採用されている。しかし、膜体3
2は、可撓性及び伸縮性に富んだ性質を有するものであ
れば良いので、ゴム材料以外に、合成樹脂製の膜体も利
用できる。Here, the film body 32 is made of, for example, silicon rubber having at least heat resistance and elasticity and a rubber hardness Hs.
Are used. However, the membrane 3
Since 2 may be any material having a property rich in flexibility and elasticity, a film made of a synthetic resin can be used in addition to the rubber material.
【0019】2つのブロック体2,3は公知の昇降手段
(図示略)によって相対的に上下動が可能になってい
る。ブロック体は、例えば、下型ブロック体3を固定と
し、上型ブロック体2のみ上下に移動できるようにして
もよい。加熱手段としてのヒータ23,35は、それぞ
れ、上定盤22または下定盤34に熱を伝達し、断熱材
24,36によって、上枠21および下枠31への熱の
伝達を遮断する。また、吸引口25,37には、ホース
を介して図示しない真空ポンプ等の吸引・加圧手段に接
続されており、真空室の真空引きの際にエアが排出され
る。The two block bodies 2 and 3 can be moved up and down relatively by known lifting means (not shown). As the block body, for example, the lower mold block body 3 may be fixed, and only the upper mold block body 2 may be moved up and down. The heaters 23 and 35 as heating means transmit heat to the upper stool 22 or the lower stool 34, respectively, and block the transfer of heat to the upper frame 21 and the lower frame 31 by the heat insulating materials 24 and 36. Further, the suction ports 25 and 37 are connected to suction / pressurizing means such as a vacuum pump (not shown) via hoses, and air is discharged when the vacuum chamber is evacuated.
【0020】このような構成により、上型ブロック体2
と下型ブロック体3は、昇降手段によって、両方または
いずれか一方が他方に対して接近離間して、室が開閉さ
れる真空室4を形成する。吸引口25,37は、ここで
は、中央部に各1つであるが、複数個を所定の位置に配
置することもできる。With such a configuration, the upper block 2
The lower block body 3 and the lower block body 3 form a vacuum chamber 4 in which both or one of them is approached or separated from the other by the elevating means, and the chamber is opened and closed. Here, the number of the suction ports 25 and 37 is one at the center, but a plurality of suction ports may be arranged at predetermined positions.
【0021】上記したように、基板14の上に積層する
ためのフィルム10は、基材ロール5から供給され、一
対のカイドロール(フィルムガイド)6,7を介して分
離点Pにおいて、基材フィルム11と保護フィルム12
に分離され、ブロック体2,3の型閉によって、基材フ
ィルム11が上枠の上面により押え付けられて下降する
ので、保護フィルム12は、この分離点P付近で、真空
室4に入来する基板14の先端部に接近または密着でき
るようになっている。As described above, the film 10 to be laminated on the substrate 14 is supplied from the base roll 5 and is separated at the separation point P through a pair of guide rolls (film guides) 6 and 7. 11 and protective film 12
The base film 11 is pressed down by the upper surface of the upper frame and descends by closing the molds of the blocks 2 and 3, so that the protective film 12 enters the vacuum chamber 4 near the separation point P. The substrate 14 can approach or be in close contact with the tip of the substrate 14.
【0022】そして、接着面を有する基材フィルム11
は、基板14を覆って真空室内を通過し、基板供給ライ
ンAに沿って伸びて真空室4の出口から、基板の搬送用
のキャリアフィルム15とともに送り出される。The base film 11 having an adhesive surface
Passes through the vacuum chamber covering the substrate 14, extends along the substrate supply line A, and is sent out from the outlet of the vacuum chamber 4 together with the carrier film 15 for transporting the substrate.
【0023】基材フィルム11の送り出しは、図示しな
いチャック部を備えた送出手段によって行われる。入力
側の配置される基材ロール5及びキャリアフィルムロー
ル16には、それぞれ、ブレーキが設けられ、順次成形
される基板製品が送出手段または、出力側のキャリアフ
ィルム巻き取りロール17によって引っ張られた際に、
基材フィルム11とキャリアフィルム15の緊張力が保
たれる。基材フィルム11は、接着材が塗布された接着
面が基板上面に対向し、上定盤22から離れるとともに
基板14から浮いた状態に張設されている。The feeding of the base film 11 is performed by sending means having a chuck portion (not shown). The substrate roll 5 and the carrier film roll 16 arranged on the input side are provided with brakes, respectively, when the substrate product to be sequentially formed is pulled by the sending means or the carrier film take-up roll 17 on the output side. To
The tension between the base film 11 and the carrier film 15 is maintained. The base film 11 has an adhesive surface coated with an adhesive opposed to the upper surface of the substrate, is separated from the upper surface plate 22, and is stretched in a state of floating from the substrate 14.
【0024】なお、本実施の形態では、フォトレジスト
形成層が、一方の基材フィルム面11a(図2参照)に
のみ塗布されているが、基板14の両面をラミネートす
る場合には、上側の基材フィルム11の他に、下側のキ
ャリアフィルム15にも保護フィルム付きのフォトレジ
スト形成層を塗布することができる。この場合、上型ブ
ロック体2の側に設けた一対のガイドロール6,7と同
様の別の一対のガイドロールが繰り出しロール16の代
わりに、下型ブロック体3の側に配置される。In this embodiment, the photoresist forming layer is applied only to one of the base film surfaces 11a (see FIG. 2). In addition to the base film 11, the lower carrier film 15 can be coated with a photoresist forming layer with a protective film. In this case, another pair of guide rolls similar to the pair of guide rolls 6 and 7 provided on the side of the upper mold block 2 are arranged on the side of the lower mold block 3 instead of the feeding roll 16.
【0025】次に、本発明の真空式ラミネータ装置1に
使用するフィルムについて説明する。フィルム10は、
2層のフィルム、即ち、基材フィルム11(PET)と
保護フィルム12(PET)の間に感光性樹脂を含む接
着材を挟んだ構成で、容易に保護フィルム12が剥離で
きるようになっている。基材フィルム11に塗布された
感光性樹脂のフォトレジスト形成層は、通常、UV照射
のパターン露光の後で、レジスト層の未露光部分または
露光部分を除去することによって、レジストパターンを
形成できる感光層を有するものであり、真空室4内で、
基板表面に対面し、ヒータ23,35による加熱手段
と、真空ポンプによる吸引手段によって、加熱及び加圧
されて基板上面に基材フィルム11が貼り付けられる。Next, the film used in the vacuum laminator 1 of the present invention will be described. The film 10
With a configuration in which an adhesive containing a photosensitive resin is sandwiched between two-layer films, that is, a base film 11 (PET) and a protective film 12 (PET), the protective film 12 can be easily peeled off. . The photoresist forming layer of the photosensitive resin applied to the base film 11 is usually formed by removing the unexposed or exposed portions of the resist layer after pattern exposure by UV irradiation, thereby forming a photoresist pattern. Having a layer, and in the vacuum chamber 4,
The substrate film 11 is attached to the upper surface of the substrate by being heated and pressurized by heating means by heaters 23 and 35 and suction means by a vacuum pump, facing the substrate surface.
【0026】フォトレジスト層は、通常、一方の面がポ
リエステル等の支持体フィルム、他方の面が、望ましく
は、PETフィルム等の保護フィルムにより覆われた積
層構造をなし、基板14への密着前に、保護フィルム1
2の方は剥離されて分離する。特に、この保護フィルム
にPETフィルムを用いる理由は、伸びが少なく、かつ
滑りが良いためであり、真空室の型閉時に、保護フィル
ム12を基板上に折り重なった状態から真空室の入口を
介して抜き出すのに最適である。また、フォトレジスト
層は、ネガフィルム的に作用する光硬化製物質、また
は、ポジフィルム的に作用する光可溶性または光減感性
物質からなり、これらのいずれかの感光性物質を採用す
ることができる。The photoresist layer usually has a laminated structure in which one surface is covered with a support film such as polyester and the other surface is desirably covered with a protective film such as a PET film. And protective film 1
2 is peeled and separated. In particular, the reason why the PET film is used as the protective film is that it has low elongation and good slippage. When the mold of the vacuum chamber is closed, the protective film 12 is folded over the substrate through the entrance of the vacuum chamber. Ideal for extracting. Further, the photoresist layer is made of a photocurable material acting as a negative film, or a photo-soluble or photo-desensitizing material acting as a positive film, and any of these photosensitive materials can be employed. .
【0027】なお、本発明は、フィルム状フォトレジス
ト形成層を基板14に積層することに制限されるもので
はなく、その他のフィルム状物、例えば、熱可塑性もし
くは熱硬化性の樹脂製フィルム同士、またはこれらフィ
ルムと基材、例えば、木材板、金属板、有機材料、無機
材料もしくは複合材料からなるシートと貼り合わせるた
めにも適用できる。また、上記したように、基板へのラ
ミネートは、片面または両面が可能である。The present invention is not limited to laminating a film-like photoresist forming layer on the substrate 14, but may include other film-like materials such as thermoplastic or thermosetting resin films. Alternatively, the present invention can be applied to bonding these films to a substrate, for example, a sheet made of a wood plate, a metal plate, an organic material, an inorganic material, or a composite material. As described above, lamination to a substrate can be performed on one side or both sides.
【0028】また、このようなフィルムが通過する真空
室4の入口41には、図3の(a) ,(b) に示すように、
上型ブロック体2に切り込み深さHの凹部43が設けら
れ、凹部の幅は、真空室の側部の寸法内で最大限の長さ
とし、切り込み深さHは、基材フィルム11と保護フィ
ルム12が真空室内に供給され、かつブロック体2,3
の型閉時に保護フィルムのみを取り出すことが容易とな
るようにその深さが決められる。そのため、この深さH
は、上枠21の底面から上定盤22の表面までの間隔S
に一致させるのが良く、その寸法は、約1mmで、フイ
ルム厚さ+0.5mm程度である。As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), an inlet 41 of the vacuum chamber 4 through which such a film passes is provided.
The upper block 2 is provided with a concave portion 43 having a cutting depth H, the width of the concave portion being the maximum length within the dimensions of the side of the vacuum chamber, and the cutting depth H is determined by the base film 11 and the protective film. 12 is supplied into the vacuum chamber, and the blocks 2, 3
The depth is determined so that only the protective film can be easily taken out when the mold is closed. Therefore, this depth H
Is the distance S from the bottom surface of the upper frame 21 to the surface of the upper surface plate 22.
The dimensions are about 1 mm and the film thickness is about +0.5 mm.
【0029】また、下型ブロック体3の上面3a上の周
囲にOリング45がはめ込められており、真空室4の密
閉性を高めている。このリング材質は、保護フィルム1
2の抜き出し時の抵抗力を小さくするために、単泡スポ
ンジがよく、耐熱性を考慮する場合には、シリコン、フ
ッ素ゴムを使用する。表示用大型パネルや厚板等にラミ
ネートを施す場合には、下型ブロック体3の上面3a
は、下枠31内の膜体32の表面と同一レベルにするこ
とで、板のバタ付きを防止する。An O-ring 45 is fitted around the upper surface 3a of the lower block 3 to enhance the sealing of the vacuum chamber 4. This ring material is protective film 1
In order to reduce the resistance at the time of extracting 2, a single-cell sponge is preferable, and when heat resistance is taken into consideration, silicon or fluorine rubber is used. When a large display panel or a thick plate is laminated, the upper surface 3a of the lower block 3 is used.
Is set to the same level as the surface of the film body 32 in the lower frame 31 to prevent the plate from fluttering.
【0030】次に、本発明の真空式ラミネータ装置を用
いて、基板表面にフィルムがラミネート(積層)される
手順を説明する。図4,図5では、基板供給ラインA上
に配置される真空室4を除いた各工程が示されている。Next, a procedure for laminating a film on a substrate surface using the vacuum laminator of the present invention will be described. 4 and 5 show the respective steps excluding the vacuum chamber 4 arranged on the substrate supply line A.
【0031】先ず、真空室4の開いた状態で、基材ロー
ル5からフォトレジスト形成層を含むフィルム10を繰
り出してガイドロール6に掛け渡され、隣接するガイド
ロール7との間の分離点Pにおいて、保護フィルム12
が剥離して分離され、基材フィルム11のみが真空室4
内を通って、出口側の図示しない送出手段に基材フィル
ム11の先端部が把持される。この基材フィルム11
は、一面側にフォトレジスト形成層(接着材)が塗布さ
れており、保護フィルム12を剥離すると、残った基材
フィルム11の下面にフォトレジスト層が露出する。剥
された保護フィルム12は、別のカイドロール7に掛け
渡されて保護フィルムロール8に巻き付けられる。First, in a state where the vacuum chamber 4 is open, the film 10 including the photoresist forming layer is unwound from the substrate roll 5 and is hung over the guide roll 6, and the separation point P between the guide roll 7 and the adjacent guide roll 7 is set. In the protective film 12
Are peeled and separated, and only the substrate film 11 is
The leading end of the base film 11 is gripped by the delivery means (not shown) on the outlet side through the inside. This base film 11
Is coated with a photoresist forming layer (adhesive) on one side, and when the protective film 12 is peeled off, the photoresist layer is exposed on the lower surface of the remaining base film 11. The peeled protective film 12 is wound around another guide roll 7 and wound around the protective film roll 8.
【0032】また、これとは別に基板14を搬送するキ
ャリアフィルム15が、真空室4の前方及び後方に配置
されたキャリアフィルム用のロール16,17間に掛け
渡たされて基板供給ライン上に沿って伸びている。この
キャリアフィルム15は、その上に被加工物としての基
板14を所定の間隔で載置して、順次、真空室内に搬送
できるように配設されている。この状態では、基材フィ
ルム11とキャリアフィルム15とは所定の間隔だけ離
れて平行に伸びており、基材フィルム11は、基板14
の上面から浮いている状態になっている。そして、この
型開き状態からブロック体2,3を接近させて一時的に
真空室4の型閉を行う。ここまでの過程が準備段階であ
る。In addition, a carrier film 15 for transporting the substrate 14 separately is stretched between rolls 16 and 17 for the carrier film disposed in front and rear of the vacuum chamber 4 to be placed on the substrate supply line. Extending along. The carrier film 15 is provided such that substrates 14 as workpieces are placed thereon at predetermined intervals and can be sequentially conveyed into a vacuum chamber. In this state, the base film 11 and the carrier film 15 extend in parallel at a predetermined distance apart from each other.
It is in a state of floating from the upper surface of the. Then, the blocks 2 and 3 are brought close to each other from the mold opening state to temporarily close the mold of the vacuum chamber 4. The process so far is the preparation stage.
【0033】上記型閉の時、真空室4の入口41及び出
口42では、接着面が露出する上側の基材フィルム11
と下側のキャリアフィルム15とが合わせられることか
ら、基板上面から浮いていた基材フィルム11の接着面
がキャリアフィルム15の面上にほぼ接触状態または確
実に密着して貼り付く。このため、型閉時の入口側で
は、図1に示す、基材フィルム11とキャリアフィルム
15とが離れて平行した状態から、ガイドロール6,7
上のそれぞれのフィルム11,12が下側に引っ張ら
れ、そして、図4(a) に示すように、型が開いた後で
は、保護フィルム12が、丁度、その下に位置する基板
の先端に接近して基板上に載せられる形となる。At the time of closing the mold, at the entrance 41 and the exit 42 of the vacuum chamber 4, the upper substrate film 11 from which the adhesive surface is exposed is provided.
Since the base film 11 and the lower carrier film 15 are aligned with each other, the adhesive surface of the base film 11 floating from the upper surface of the substrate adheres to the surface of the carrier film 15 in a substantially contact state or securely in close contact. For this reason, at the entrance side when the mold is closed, the guide rolls 6 and 7 are moved from the state where the base film 11 and the carrier film 15 are separated and parallel as shown in FIG.
Each of the upper films 11 and 12 is pulled downward, and after the mold is opened, the protective film 12 is just attached to the tip of the substrate located therebelow, as shown in FIG. It becomes a form that can be placed on the substrate in close proximity.
【0034】この型開き状態から、制御装置により送出
装置(搬送手段及び送出手段)を作動させ、基材フィル
ム11とキャリアフィルム15を同時に前進させる。そ
の結果、図4(b) の搬送状態に移行して、基板14がキ
ャリアフィルム15によって真空室内に搬送され、ま
た、基板の搬送と同期する形で基材ロール5と保護フィ
ルムロール8の共転によって、基材フィルム11と保護
フィルム12が前進する。この工程では、真空室内に入
る基板14とともに、保護フィルム12が基材フィルム
11に共連れする形でフィルムの前進方向に移動するの
で、フィルムの搬送中、基材フィルム11と保護フィル
ム12の分離点Pは、基板14の先端付近に維持された
状態で基板14とともに移動する。From this mold open state, the control device activates the delivery device (conveying means and delivery means) to advance the base film 11 and the carrier film 15 simultaneously. As a result, the state shifts to the transfer state shown in FIG. 4B, and the substrate 14 is transferred into the vacuum chamber by the carrier film 15, and the substrate roll 5 and the protective film roll 8 are shared in synchronization with the transfer of the substrate. By the rotation, the base film 11 and the protective film 12 advance. In this step, the protective film 12 moves in the forward direction of the film together with the substrate 14 entering the vacuum chamber along with the base film 11, so that the base film 11 and the protective film 12 are separated during the transport of the film. The point P moves together with the substrate 14 while being maintained near the tip of the substrate 14.
【0035】本実施の形態では、送出装置として、真空
室の出口側後方に送出手段及び搬送手段を設けたが、こ
の送出装置は、これに限らず、2つのフィルム12,1
1及びキャリアフィルムを前進させる手段であればよ
く、これらのフィルムを繰り出すために各ロール自体を
回転させる駆動装置として構成することもできる。In the present embodiment, as the sending device, the sending means and the conveying means are provided behind the outlet side of the vacuum chamber, but the sending device is not limited to this, and the two films 12 and 1 are provided.
Any means may be used as long as it is a means for advancing the carrier film 1 and the carrier film, and may be configured as a drive device for rotating each roll itself in order to pay out these films.
【0036】そして、図5(a) に示すように、基板全体
が真空室内の所定位置に移行した段階で、制御装置によ
り送出装置の作動を停止させて搬送を完了する。この搬
送完了時には、基材フィルム11の内側に保護フィルム
12が折り重なる。この搬送完了の後で、真空室4の型
閉動作が開始され、図示しない真空ポンプを作動して真
空室の真空引きを行う。この真空工程では、予めヒータ
によって加熱された真空室内において、エアが2つのブ
ロック体の両方の吸引口25,37から排出される。そ
して、所定の真空度に減圧された圧力下において、制御
装置により、保護フィルムロール8のみを逆転させる。Then, as shown in FIG. 5 (a), when the entire substrate has moved to a predetermined position in the vacuum chamber, the operation of the sending device is stopped by the control device, and the transfer is completed. When the transfer is completed, the protective film 12 is folded inside the base film 11. After the completion of the transfer, a mold closing operation of the vacuum chamber 4 is started, and a vacuum pump (not shown) is operated to evacuate the vacuum chamber. In this vacuum step, air is discharged from both suction ports 25 and 37 of the two block bodies in a vacuum chamber heated by a heater in advance. Then, under a pressure reduced to a predetermined degree of vacuum, only the protective film roll 8 is reversed by the control device.
【0037】これにより、保護フィルム12は、図5
(b) に示すように、基板14と基材フィルム11に囲ま
れた空間内で基板を覆った基材フィルム11の内側から
剥離しながら分離し、真空室4の入口側にたぐり寄せら
れ、保護フィルム12が真空室内から外部に排出されて
保護フィルムロール8に巻き取られる。さらに、保護フ
ィルム12が完全に外部に排出されると、保護フィルム
ロール8の回転を制御装置によって停止させる。As a result, the protective film 12 is
As shown in (b), in the space surrounded by the substrate 14 and the substrate film 11, the substrate 14 is separated from the inside of the substrate film 11 covering the substrate while being separated, and is approached to the inlet side of the vacuum chamber 4, The protection film 12 is discharged from the vacuum chamber to the outside, and is wound around the protection film roll 8. Further, when the protective film 12 is completely discharged to the outside, the rotation of the protective film roll 8 is stopped by the control device.
【0038】この保護フィルムの巻取り工程において、
基板14は、完全に上側の基材フィルム11および下側
のキャリアフィルム15によって覆われ、かつ真空室1
4の入口および出口の位置では、2つのフィルムが合わ
さっているので、粘着性の強いフィルムでもフィルムと
基板との間に気泡の巻込みを防止できる。また、基板と
基材フィルムは、所定の真空圧によって、真空室内で平
行度が保たれ、基材フィルムと基板との間に空間が維持
されるので、露出した接着面が部分的に基板に触れるこ
とがなく、加熱圧着時のシワの発生が防止できる。In the step of winding the protective film,
The substrate 14 is completely covered by the upper substrate film 11 and the lower carrier film 15 and
Since the two films are combined at the position of the entrance and the exit of 4, the entrapment of air bubbles between the film and the substrate can be prevented even with a highly adhesive film. In addition, the substrate and the base film are kept parallel in the vacuum chamber by a predetermined vacuum pressure, and a space is maintained between the base film and the substrate, so that the exposed adhesive surface is partially formed on the substrate. Without touching, generation of wrinkles during thermocompression bonding can be prevented.
【0039】次に、成形工程が開始され、吸引口25
は、吸引を継続し、一方、吸引口37は、大気あるいは
加圧空気を吸い込んで、膜体32を上方に膨らませ、基
板14を上定盤22側に均一な圧力で押し付けることに
よって、真空室内の基板上に基材フィルム11の接着面
が加熱圧着され、基材フィルム11が基板14に密着し
て貼り付いてラミネート加工が完了する。Next, the molding process is started, and the suction port 25 is formed.
Continues suction, while the suction port 37 draws in air or pressurized air to expand the film body 32 upward, and presses the substrate 14 against the upper surface plate 22 with a uniform pressure, thereby forming a vacuum chamber. The adhesive surface of the base film 11 is thermocompression-bonded on the substrate, and the base film 11 is stuck to and adhered to the substrate 14 to complete the laminating process.
【0040】このようにして、一連のステップ、即ち、
型開、搬送開始、搬送完了、型閉、真空引き、保護フィ
ルム巻取、成形の各工程を繰り返すことにより、連続し
て基板14をラミネート加工することができる。Thus, a series of steps, ie,
The substrate 14 can be continuously laminated by repeating the steps of opening the mold, starting the transfer, completing the transfer, closing the mold, evacuating, winding the protective film, and forming.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によれば、基材フィルムと保護フィルムが共に真
空室内に送られ、この真空室内で、接着面が基板に付着
しない所定の圧力下において、基板上を覆っている基材
フィルムの内側で保護フィルムを剥離して、これを真空
室の外部に排出できるので、フィルムと基板との間に気
泡を巻込むことがなく、かつシワの発生を防止できる。As is apparent from the above description,
According to the present invention, both the base film and the protective film are sent into a vacuum chamber, and in this vacuum chamber, under a predetermined pressure at which the adhesive surface does not adhere to the substrate, inside the base film covering the substrate. Since the protective film can be peeled off and discharged to the outside of the vacuum chamber, no bubbles are trapped between the film and the substrate, and wrinkles can be prevented.
【図1】本発明に係る真空式ラミネータ装置を示す概略
図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a vacuum laminator device according to the present invention.
【図2】図1の装置の真空室の構造を拡大して示す拡大
断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view showing the structure of the vacuum chamber of the apparatus of FIG. 1 in an enlarged manner.
【図3】本発明における真空室の入口の部分を示し、3
(a) は真空室での入口部分の切り込み深さを示す断面
図、3(b) は、その外形状を示す斜視図である。FIG. 3 shows an inlet portion of a vacuum chamber according to the present invention;
(a) is a sectional view showing a cut depth of an inlet portion in a vacuum chamber, and (b) is a perspective view showing an outer shape thereof.
【図4】本発明における真空積層方法を説明するための
各工程を示し、3(a) は型開時、3(b) は搬送時の各状
態を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing each step for explaining a vacuum laminating method according to the present invention, in which FIG. 3 (a) shows each state during mold opening and 3 (b) shows each state during transport.
【図5】図4に続く工程を示し、4(a) は搬送完了、型
閉、真空時、4(b) は保護フィルムの巻き取り時、4
(c) は成形、型開時を示す模式図である。FIG. 5 shows a step subsequent to FIG. 4; 4 (a) indicates the completion of conveyance, mold closing, in vacuum; 4 (b) indicates winding of the protective film;
(c) is a schematic diagram showing when molding and opening the mold.
1 真空式ラミネータ装置 2,3 ブロック体 4 真空室 5 基材ロール 6,7 ガイドロール(フィルムガイド) 8 保護フィルムロール 10 フィルム 11 基材フィルム 12 保護フィルム 14 基板 15 キャリアフィルム 17,18 ロール 23,35 ヒータ 25,37 吸引口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum laminator apparatus 2, 3 Block body 4 Vacuum chamber 5 Base roll 6, 7 Guide roll (film guide) 8 Protective film roll 10 Film 11 Base film 12 Protective film 14 Substrate 15 Carrier film 17, 18 Roll 23, 35 heater 25, 37 suction port
Claims (5)
供給ライン上の基板の移動方向に合わせて搬送し、前記
フィルムから保護フィルムを分離して、接着面が露出す
る基材フィルムと前記基板を真空室内で加熱圧着する真
空式ラミネータ装置であって、 前記基板供給ラインの途中に相対向して接近離間できる
ように配置され、かつ前記ライン上に入口と出口を形成
する一対のブロック体を有し、さらに、室内を加熱する
ための加熱手段と、室内を減圧しかつ前記基板とフィル
ムを挾持して押圧力を与えるための真空加圧手段を備え
た真空室と、 この真空室の前段で前記基板供給ラインに隣接して配置
され、一方は前記基材ロールからのフィルムが掛け渡さ
れ、他方は、保護フィルムロールに巻き付けられる保護
フィルムを掛け渡たすための一対のフィルムガイドと、 前記基材フィルムを前進させるとともに、この前進動作
に合わせて別のフィルム上に載置された基板を順次搬送
する送出装置と、 前記基板の先端付近に前記基材フィルムと保護フィルム
の分離点を維持しつつ前記2つのフィルムを基板ととも
に前進させ、真空室内において基板を覆った基材フィル
ムの内側から保護フィルムを剥離して真空室外に排出す
るために、前記基材ロールと保護フィルムロールの回転
を前記送出装置とともに制御し、かつ真空室の前記加熱
手段及び真空加圧手段を制御するための制御装置とを備
えていることを特徴とする真空式ラミネータ装置。A film supplied from a substrate roll is transported in accordance with a moving direction of a substrate on a substrate supply line, a protective film is separated from the film, and the substrate film and an adhesive surface are exposed. A vacuum laminator device that heat-presses in a vacuum chamber, comprising a pair of block bodies that are arranged in the middle of the substrate supply line so as to be able to approach and separate from each other and that form an inlet and an outlet on the line. A vacuum chamber having heating means for heating the chamber, vacuum means for reducing the pressure in the chamber, and holding the substrate and the film to apply a pressing force; Is disposed adjacent to the substrate supply line, one is over the film from the substrate roll, the other, over the protective film wound around the protective film roll. A pair of film guides, advancing the base film, and a delivery device that sequentially conveys a substrate placed on another film in accordance with the advancing operation, and the base film near the front end of the substrate. The substrate roll for advancing the two films together with the substrate while maintaining the separation point of the protective film, peeling the protective film from the inside of the substrate film covering the substrate in the vacuum chamber, and discharging the protective film outside the vacuum chamber. And a controller for controlling the rotation of the protective film roll together with the delivery device and for controlling the heating means and the vacuum pressurizing means of the vacuum chamber.
供給ラインに沿って搬送する搬送手段と、基材フィルム
の一端部を把持し、前記基板の一部または全体を覆って
前記基板供給ラインに沿って移動する送出手段とを含ん
でいることを特徴とする請求項1記載の真空式ラミネー
タ装置。A feeder for feeding a film on which a substrate is placed along a substrate supply line; and a feeder for gripping one end of the base film and covering a part or the whole of the substrate. 2. A vacuum laminator apparatus according to claim 1, further comprising a delivery means moving along a line.
装置を駆動して前記基材ロールと保護フィルムロールを
共転させ、真空室の型閉時には、前記送出装置の駆動を
停止して保護フィルムロールのみ逆転駆動することを特
徴とする請求項1または請求項2記載の真空式ラミネー
タ装置。3. The control device drives the delivery device to transfer the substrate roll and the protective film roll during the transfer of the substrate, and stops the drive of the delivery device when the mold of the vacuum chamber is closed. 3. The vacuum laminator according to claim 1, wherein only the protective film roll is driven in reverse.
板上面に供給されるフィルムと同様に、基材フィルムと
保護フィルムの間に接着材を含み、前記基板の両面をラ
ミネート加工できることを特徴とする請求項1ないし3
のいずれかに記載の真空式ラミネータ装置。4. A film of a transporting means for transporting a substrate includes an adhesive between a base film and a protective film, like the film supplied on the upper surface of the substrate, and both surfaces of the substrate can be laminated. Claims 1 to 3
The vacuum laminator device according to any one of the above.
供給ライン上の基板の移動方向に合わせて搬送し、前記
フィルムから保護フィルムを分離して、接着面が露出す
る基材フィルムと前記基板を真空室内で加熱圧着して真
空積層する方法であって、 前記真空室の型開時に、前記フィルムと、このフイルム
から分離して保護フィルムロールに巻き取られる保護フ
ィルムを一対のフィルムガイドに掛け渡し、前記基板を
搬送する別のフィルムと前記基材フィルムを、真空室内
に通過させるとともに前記基板供給ラインの出口側に配
置した送出装置に連結する工程と、 前記基板の真空室内への搬送に合わせて、前記送出装置
を介して基材ロールと保護フィルムロールを共転し、前
記基材フィルムと保護フィルムの分離点を基板の先端付
近に維持しつつ、これら2つのフィルムを基板の移動方
向に前進させる工程と、 前記基材フィルムの内側に保護フィルムが折り重なり、
真空室内の基板を前記基材フィルムと保護フィルムが覆
った状態から真空室の型閉を行う工程と、 この型閉後、前記真空室の吸引口から内部のエアを排出
する工程と、 この真空引き工程中に、保護フィルムロールのみ逆転駆
動させて基材フィルムに覆われた基板上から保護フィル
ムを真空室外に排出する工程と、 前記真空室内の基板上に前記基材フィルムの接着面を加
熱圧着することを特徴とする方法。5. A substrate film, which is fed from a substrate roll in accordance with a moving direction of a substrate on a substrate supply line, separates a protective film from the film, and exposes an adhesive surface between the substrate film and the substrate. And vacuum lamination by heating and pressing in a vacuum chamber, wherein when the mold of the vacuum chamber is opened, the film and a protective film separated from the film and wound on a protective film roll are hung on a pair of film guides. Passing, another film for transporting the substrate and the substrate film, passing the substrate film into a vacuum chamber and connecting the substrate film to a delivery device arranged on an exit side of the substrate supply line; and transporting the substrate into the vacuum chamber. At the same time, the substrate roll and the protective film roll are rotated together via the delivery device, and the separation point between the substrate film and the protective film is maintained near the front end of the substrate. While, the step of advancing the two films in the direction of movement of the substrate, the protective film folding on the inside of the base film,
A step of closing the mold of the vacuum chamber from a state in which the substrate film and the protective film cover the substrate in the vacuum chamber; a step of discharging the internal air from a suction port of the vacuum chamber after closing the mold; During the drawing step, a step of driving only the protective film roll in the reverse direction to discharge the protective film from the substrate covered with the base film to the outside of the vacuum chamber, and heating the adhesive surface of the base film on the substrate in the vacuum chamber A method comprising crimping.
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