JPH11319542A - Production ultrathin layer - Google Patents

Production ultrathin layer

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Publication number
JPH11319542A
JPH11319542A JP12552398A JP12552398A JPH11319542A JP H11319542 A JPH11319542 A JP H11319542A JP 12552398 A JP12552398 A JP 12552398A JP 12552398 A JP12552398 A JP 12552398A JP H11319542 A JPH11319542 A JP H11319542A
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JP
Japan
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solid
layer
gel
ultra
hydrogel
Prior art date
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Pending
Application number
JP12552398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toyoki Kunitake
豊喜 國武
Nobuo Kimizuka
信夫 君塚
Shigenori Fujikawa
茂紀 藤川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Tokuyama Corp filed Critical Tokuyama Corp
Priority to JP12552398A priority Critical patent/JPH11319542A/en
Publication of JPH11319542A publication Critical patent/JPH11319542A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a ultrathin layer on the surface of a solid to be treated such as a substrate by a method in which in semiconductor industries in which the high integration of electronic circuits is aimed, the surface of a hydrogel or an organogel, after being brought into contact with the surface of the solid, is peeled off, and the surface layer part of the gel is transferred to the surface of the solid. SOLUTION: An organic gel, as hydrogel, especially using a polysaccharide or synthetic polymer dispersant can be transferred to the surface of a solid with a high coverage ratio and is preferable for the formation of a thin transfer layer. A known organogel using an organic, solvent as a dispersing medium is adopted. The surface of the hydrogel or the organogel, after being brought into contact with the surface of a solid to be treated, is peeled off in order that the surface layer part of the gel is transferred on the surface of the solid, and a ultrathin layer is produced on the surface of the solid. One layer of the surface layer part of the hydrogel or the organogel is transferred additionally on the surface of the solid on which the ultrathin layer is formed in order to laminate the ultrathin layer precisely.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、固体表面に超薄層
を製造するための新規な方法に関する。
The present invention relates to a novel method for producing ultra-thin layers on solid surfaces.

【0002】[0002]

【従来の技術】ナノメートルレベルで層厚が制御された
超薄層の製造は、その広範囲な応用ならびに産業上の要
求から、多くの分野で活発に研究されている。たとえ
ば、導電性高分子を薄層化する技術は、電子回路の高度
集積化を目標とする半導体産業において極めて重要な技
術課題である。また、ナノメートルレベルで層厚が制御
された超薄層を、任意の基板表面上に作製する技術の開
発は、透過膜、逆浸透膜、酸素富化膜などの各種分離
膜;イオンセンサ、ガスセンサ、オプティカルセンサな
どの各種電子材料;医用材料;生体触媒固定化材料など
の開発にとり極めて有用である。
2. Description of the Related Art The production of ultrathin layers with controlled layer thickness at the nanometer level has been actively studied in many fields due to its wide application and industrial requirements. For example, a technique for thinning a conductive polymer is a very important technical problem in the semiconductor industry which aims at high integration of electronic circuits. In addition, the development of a technology for producing an ultra-thin layer with a controlled layer thickness at the nanometer level on an arbitrary substrate surface includes various separation membranes such as a permeable membrane, a reverse osmosis membrane, and an oxygen-enriched membrane; It is extremely useful for the development of various electronic materials such as gas sensors and optical sensors; medical materials; biocatalyst-immobilized materials.

【0003】これら多くの技術分野において、超薄層形
成プロセスに共通する必要条件は、構造がナノメートル
レベルで制御された薄層を、より安価にかつ穏和な条件
下で製造することである。ところが、ナノメートルレベ
ルで制御された超薄層を任意の担体表面に、簡単な方法
で形成させることは困難であった。
[0003] In many of these technical fields, a common requirement for ultra-thin layer formation processes is to produce thin layers whose structure is controlled at the nanometer level, at lower cost and under milder conditions. However, it has been difficult to form an ultrathin layer controlled at the nanometer level on an arbitrary carrier surface by a simple method.

【0004】例えば、従来、超薄層を製造する手段とし
て、以下のような手法が知られている。高分子の超薄層
を塗装乾燥法あるいはスピンコーティングにより形成さ
せる方法である。しかしこの場合、0.1μm以下の厚
みを有する、均一な薄層を作成することは極めて困難で
ある。
[0004] For example, conventionally, the following method has been known as a means for producing an ultra-thin layer. In this method, an ultra-thin polymer layer is formed by a coating drying method or spin coating. However, in this case, it is extremely difficult to form a uniform thin layer having a thickness of 0.1 μm or less.

【0005】また、気液界面に低分子化合物、もしくは
高分子の溶液を展開し、単分子膜を形成させ、ラングミ
ュア・ブロジェット(LB)法によりこれらを累積膜化する
手法、あるいはイオン性単分子膜に反対荷電を有する高
分子電解質を下相水溶液から吸着させることによりポリ
イオンコンプレックス単分子膜を調製し、これを累積膜
化する手法も知られている。しかしこれらの方法は、LB
膜作成装置ならびに、工程全体のコストが高くつくこと
から、超薄層を製造するための実用的手段として採用さ
れるには至っていない。
Further, a solution of a low molecular compound or a polymer is spread on a gas-liquid interface to form a monomolecular film, and these are formed into a cumulative film by a Langmuir-Blodgett (LB) method, or an ionic monolayer. There is also known a method of preparing a polyion complex monomolecular film by adsorbing a polymer electrolyte having an opposite charge to a molecular film from a lower phase aqueous solution, and forming the polyion complex monomolecular film into a cumulative film. But these methods, LB
Due to the high cost of the film forming apparatus and the entire process, it has not been adopted as a practical means for producing an ultra-thin layer.

【0006】また、荷電を有する高分子電解質溶液を反
対荷電を有する基板に吸着せしめる手法(吸着法)、さ
らにはその表面に高分子電解質と反対荷電を有する高分
子電解質を吸着せしめ、再び高分子電解質の吸着を逐次
的に繰り返す手法(交互吸着法)を用いて、高分子薄膜
を逐次成長させることも可能である。しかしながら、こ
れら吸着法では吸着させる基板と高分子との間に、静電
的相互作用などの強い相互作用が必要不可欠であり、ま
た逐次に薄膜を積層化する際にも同様な強い相互作用が
必須である。
Further, a technique of adsorbing a charged polyelectrolyte solution onto a substrate having an opposite charge (adsorption method), and further adsorbing a polyelectrolyte having an opposite charge to the polymer electrolyte on the surface thereof, and reapplying the polymer It is also possible to sequentially grow a polymer thin film by using a technique of repeating electrolyte adsorption successively (alternate adsorption method). However, in these adsorption methods, a strong interaction such as electrostatic interaction is indispensable between the substrate to be adsorbed and the polymer, and a similar strong interaction is also observed when thin films are sequentially laminated. Required.

【0007】さらに、高分子合成溶液に予め基板を入れ
ておき、重合とともに基板上に高分子を積層させる手法
(重合吸着法)、あるいはこの手法で吸着した高分子を
溶解させて取り除き、基板表面にエピタキシャル成長し
た高分子単分子膜を得る手法(重合誘起エピタキシー)
も知られている。これらの手法は、任意の固体表面上に
膜厚が制御された高分子薄膜が得られ好適である。
[0007] Further, a method of placing a substrate in a polymer synthesis solution in advance and stacking the polymer on the substrate together with polymerization (polymerization adsorption method), or dissolving and removing the polymer adsorbed by this method, and removing the substrate surface For obtaining polymer monolayers epitaxially grown on GaN (polymerization induced epitaxy)
Is also known. These techniques are suitable because a polymer thin film having a controlled thickness can be obtained on any solid surface.

【0008】しかしながら、重合吸着法は高分子鎖の二
次元面内での配列構造を制御することはできず、また重
合触媒が高分子膜中に残留する可能性を有する。さら
に、高い溶解性を有する高分子を基板上に吸着積層化さ
せることは困難である。一方、重合誘起エピタキシーに
おいては、高分子のエピタキシャル成長をおこすための
基板がグラファイトなどに限られ、任意の固体基板に対
して適用できない問題点を有する。
However, the polymerization adsorption method cannot control the arrangement structure of the polymer chains in a two-dimensional plane, and has a possibility that the polymerization catalyst remains in the polymer film. Further, it is difficult to form a polymer having high solubility by adsorption and lamination on a substrate. On the other hand, in polymerization-induced epitaxy, the substrate for causing the epitaxial growth of the polymer is limited to graphite or the like, and has a problem that it cannot be applied to any solid substrate.

【0009】その他、有機または無機化合物を真空中で
固体基板上に蒸着させる方法、あるいは重合性モノマー
を同様にして蒸着させ、ついで基板上にて重合させるこ
とにより超薄層を作成する方法も知られているが、この
手法は高真空中で行われるため、大面積の薄層を製造す
ることは困難であり、また製造プロセス全体のコストが
高いことから生産性がよいとは言えない。
In addition, there is also known a method in which an organic or inorganic compound is vapor-deposited on a solid substrate in a vacuum, or a method in which a polymerizable monomer is vapor-deposited in the same manner and then polymerized on the substrate to form an ultrathin layer. However, since this method is performed in a high vacuum, it is difficult to produce a large-area thin layer, and the cost of the whole production process is high, so that productivity cannot be said to be good.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】以上の通り、ナノメー
トルレベルで層厚を制御することが可能な、一般的かつ
実用的な超薄層の製造を、任意の固体表面上において実
現する方法は、現時点では見あたらない。従来の超薄層
の製造方法の問題点を考慮すると、新しい超薄層の製造
方法に必要とされる条件は、用いる分子(低分子、高分
子)の電荷の有無に拘わらず、様々な固体表面にナノメ
ートルレベルで厚みが制御された超薄層を生産性よく製
造することである。また、様々な薄層特性の要求に随時
対応できるよう、薄層構造を設計できることである。
As described above, a method for realizing the production of a general and practical ultra-thin layer capable of controlling the layer thickness at the nanometer level on any solid surface is as follows. , Not found at the moment. Considering the problems of the conventional ultra-thin layer manufacturing method, the conditions required for the new ultra-thin layer manufacturing method are various solids regardless of the presence or absence of the electric charge of the molecule (low molecule, polymer) used. An object of the present invention is to produce an ultrathin layer having a thickness controlled at the nanometer level on the surface with high productivity. Further, a thin-layer structure can be designed so as to be able to meet various demands for thin-layer characteristics at any time.

【0011】こうした背景にあって、本発明は、簡便な
操作で、汎用性があり、精密且つ構造設計が可能な超薄
層の製造方法を提供することを目的としている。
Against this background, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an ultra-thin layer which is simple, versatile, and capable of precise and structural design.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を行った。その結果、ハイドロゲ
ルならびにオルガノゲルの表面を被処理固体表面に接触
させた後剥離することによって、ゲルの表層部を被処理
固体表面にナノメートルレベルの厚さで転移せしめるこ
とができ、その結果、ナノメートルレベルの厚みを有す
る超薄層が該被処理固体表面上に形成されること、さら
に、この転移操作を逐次繰り返すことにより、この超薄
層を厚み精度良く積層可能であることを見いだし、本発
明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above problems. As a result, by bringing the surface of the hydrogel and the organogel into contact with the surface of the solid to be treated and then exfoliating, the surface layer of the gel can be transferred to the surface of the solid to be treated with a thickness of nanometer level. An ultra-thin layer having a thickness of a nanometer level is formed on the surface of the solid to be treated, and furthermore, by repeating this transition operation sequentially, it has been found that this ultra-thin layer can be laminated with high thickness accuracy, The present invention has been completed.

【0013】即ち、本発明は、ハイドロゲルまたはオル
ガノゲルの表面を被処理固体表面に接触させた後剥離さ
せることにより、該被処理固体表面に上記ゲルの表層部
を転移させることを特徴とする被処理固体表面上への超
薄層の製造方法である。
That is, the present invention is characterized in that the surface of the hydrogel or organogel is brought into contact with the surface of the solid to be treated and then peeled off, thereby transferring the surface layer of the gel to the surface of the solid to be treated. It is a method of producing an ultra-thin layer on a treated solid surface.

【0014】また、本発明は、このようにして超薄層が
形成された被処理固体表面上に、さらに同様の方法によ
り、ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表層部を少なく
とも一層転移させることを特徴とする超薄層の製造方法
も提供する。
Further, the present invention is characterized in that at least one surface layer of a hydrogel or an organogel is transferred on the surface of the solid to be treated on which the ultrathin layer is formed in the same manner as described above. Also provided is a method of manufacturing an ultra-thin layer.

【0015】本発明の方法では、以上の操作により、被
処理固体表面上にナノメートルのオーダーの層厚の超薄
層を形成させることができる。このような超薄層が形成
されるのは、以下のような原理に基づくものと推定され
る。即ち、ゲルはその内部と表層部において異なる構成
分子の充填構造を有しており、三次元架橋構造を有する
ゲル内部とは異なり、空気と接する表層部は二次元的な
網目構造を有している。この網目構造は、1〜数本の分
子または分子会合体より成り、従って、その厚みもナノ
メートルレベルでほぼ均一なものとなる。また、このゲ
ル表面のナノメートルレベルでのネットワーク構造は、
分子会合体の疎水性部分を外気側に向けることにより、
表面自由エネルギーを小さくする傾向があるものと推定
される。固体表面をゲル表面に接触せしめると、上記し
た構造の表層部が固体表面とのファンデワールス相互作
用により物理吸着する。そして、固体表面をゲル表面か
ら剥離する際に、二次元性の高い表層部が転移され、固
体表面上に超薄層が形成される。
According to the method of the present invention, an ultra-thin layer having a thickness on the order of nanometers can be formed on the surface of the solid to be processed by the above-described operations. The formation of such an ultra-thin layer is presumed to be based on the following principle. That is, the gel has a packing structure of different constituent molecules in the inside and the surface layer, and unlike the inside of the gel having a three-dimensional crosslinked structure, the surface layer in contact with air has a two-dimensional network structure. I have. This network structure is composed of one to several molecules or molecular aggregates, and therefore, its thickness is almost uniform at the nanometer level. The network structure of this gel surface at the nanometer level is
By directing the hydrophobic part of the molecular aggregate to the outside air side,
It is estimated that the surface free energy tends to be reduced. When the solid surface is brought into contact with the gel surface, the surface layer of the above structure is physically adsorbed by van der Waals interaction with the solid surface. Then, when the solid surface is peeled off from the gel surface, the surface layer having high two-dimensionality is transferred, and an ultra-thin layer is formed on the solid surface.

【0016】また、本発明では、このようにして超薄層
が形成された被処理固体表面上に、さらに同様の方法に
より、ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表層部を少な
くとも一層転移させることにより、ナノメートルレベル
で厚み及び構造が制御された超薄層を製造することもで
きる。
In the present invention, the surface layer portion of the hydrogel or organogel is further transferred onto the surface of the solid to be treated on which the ultrathin layer has been formed in the same manner as described above. Ultra-thin layers with controlled thickness and structure at the level can also be produced.

【0017】本発明において、ハイドロゲルとしては公
知のものが特に制限なく採用される。具体的には、アガ
ロース、アルギン酸、カラギーナンなどの多糖類;ゼラ
チン、コラーゲンなどの蛋白質;ポリアクリルアミド、
ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリ−L−ロイシンなどの合成高分子などを分散体
とする有機ゲルや、ゾルゲル法により調製されたシリカ
ゲル、酸化チタンゲル、酸化タングステンゲルなどの無
機ゲルが挙げられ、このうち特に多糖類や合成高分子を
分散体とする有機ゲルは、固体表面に対して被覆率の高
い状態で転移が行え、薄膜状に転移層が形成されるため
好ましい。
In the present invention, known hydrogels are employed without particular limitation. Specifically, polysaccharides such as agarose, alginic acid and carrageenan; proteins such as gelatin and collagen; polyacrylamide;
Examples include organic gels in which synthetic polymers such as polyisopropylacrylamide, polyvinyl alcohol, and poly-L-leucine are dispersed, and inorganic gels such as silica gel, titanium oxide gel, and tungsten oxide gel prepared by a sol-gel method. Among them, an organic gel containing a polysaccharide or a synthetic polymer as a dispersion is particularly preferable because it can be transferred to a solid surface in a state of high coverage and a transfer layer is formed in a thin film shape.

【0018】ハイドロゲルは、傾けても流動しない程度
の粘度を有するものが好ましく、このような性状のハイ
ドロゲルが形成されるように、使用する分散体の種類に
応じて分散媒である水の濃度を調整すればよい。例え
ば、分散体が多糖や蛋白質などである場合、これらの水
に対する濃度は、10重量%以下、好適には0.5〜3
重量%が好適である。また、ハイドロゲルは、表面にひ
び割れなどが形成されていないものが好ましい。
It is preferable that the hydrogel has a viscosity such that it does not flow even when tilted. In order to form a hydrogel having such properties, water as a dispersion medium is selected depending on the type of the dispersion used. The concentration may be adjusted. For example, when the dispersion is a polysaccharide, a protein, or the like, their concentration in water is 10% by weight or less, preferably 0.5 to 3%.
% By weight is preferred. Further, the hydrogel preferably has no cracks or the like formed on the surface.

【0019】ハイドロゲルの作製は、常法に従って適宜
実施すればよい。アガロースゲルを例にとると、所定量
のアガロースに純水、もしくは塩化カルシウムなどの金
属塩を溶解した水溶液を加え、これを加熱攪拌し、溶液
が均一透明になった時点で、溶液を別容器に移し放冷す
る操作が挙げられる。
The preparation of the hydrogel may be appropriately carried out according to a conventional method. Taking agarose gel as an example, pure water or an aqueous solution in which a metal salt such as calcium chloride is dissolved is added to a predetermined amount of agarose, and the mixture is heated and stirred. And allowed to cool.

【0020】本発明は、上記のようなハイドロゲルに制
限されず、有機溶媒を分散媒とするオルガノゲルについ
ても同様に適用可能である。オルガノゲルとしては、公
知のものが特に制限なく採用される。分散媒である有機
溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール
類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;クロロ
ホルム、塩化メチレン等の塩素化炭化水素類;ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル等の含窒素化合物類;ジ
メチルスルホキシドなどが挙げられる。
The present invention is not limited to the hydrogel as described above, and is similarly applicable to an organogel using an organic solvent as a dispersion medium. Known organogels are used without particular limitation. Examples of the organic solvent which is a dispersion medium include alcohols such as methanol and ethanol; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; chlorinated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; nitrogen-containing compounds such as dimethylformamide and acetonitrile. Dimethyl sulfoxide and the like;

【0021】また、分散体としては、これらの有機溶媒
をゲル化させることのできる化合物が制限なく採用でき
る。具体的には、ヒドロキシステアリン酸、オリゴペプ
チド、ジベンジリデンソルビトール等の低分子有機化合
物;N−ラウロイルグルタミン酸ジブチルアミド、〔1
1−({4−(ドデシルアミノ)−1−〔(ドデシルア
ミノ)カルボニル〕−4−オキソブチル}アミノ)−1
1−オキソウンデシル〕(2−ヒドロキシエチル)ジメ
チルアンモニウムブロミド等のアミノ酸誘導体;チタン
−n−ブトキシド等の金属アルコキシド;ジアルキルリ
ン酸のアルミニウム塩等の金属錯体;ポリエチレングリ
コール架橋体、ポリスチレンなどの合成高分子などが挙
げられる。
As the dispersion, compounds capable of gelling these organic solvents can be employed without limitation. Specifically, low molecular weight organic compounds such as hydroxystearic acid, oligopeptides, dibenzylidene sorbitol; N-lauroylglutamic acid dibutylamide;
1-({4- (dodecylamino) -1-[(dodecylamino) carbonyl] -4-oxobutyl} amino) -1
Amino acid derivatives such as 1-oxoundecyl] (2-hydroxyethyl) dimethylammonium bromide; metal alkoxides such as titanium-n-butoxide; metal complexes such as aluminum salts of dialkylphosphoric acid; cross-linked polyethylene glycol; and synthetic polymers such as polystyrene And the like.

【0022】これらのオルガノゲルも、傾けて流動しな
い程度の粘度を有しているのが好ましく、このようなゲ
ルになるように分散媒である有機溶媒の濃度を調整すれ
ばよい。
These organogels also preferably have a viscosity such that they do not flow when tilted, and the concentration of the organic solvent as a dispersion medium may be adjusted so as to form such a gel.

【0023】次ぎに、本発明において、上記ハイドロゲ
ルまたはオルガノゲルの表面を接触させる被処理固体
は、これらゲルに接触可能なものであれば、親水性や疎
水性の材質の性状や形状等に限定されず様々なものが採
択できる。臨界表面張力γcが20Nm-1以上であるも
のが、良好なゲルの表層部の転移が行えることから好ま
しい。代表的な被処理固体を例示すれば、グラファイト
(HOPG);雲母(マイカ)石英、水晶等の鉱物類;ガラ
ス;白金、金等の金属類;ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン等の合成高分子類を材質とする成形品
が挙げられる。形状は、転移の正確性や作業性から、板
状、フィルム状、多孔質膜状等の平坦面を有するものが
推奨される。
Next, in the present invention, the solid to be treated which is brought into contact with the surface of the above hydrogel or organogel is limited to the properties and shapes of hydrophilic or hydrophobic materials as long as it can contact these gels. Instead, various things can be adopted. Those having a critical surface tension γ c of not less than 20 Nm −1 are preferable because a good transition of the surface layer of the gel can be performed. A typical solid to be treated is graphite.
(HOPG); minerals such as mica quartz and quartz; glass; metals such as platinum and gold; and molded articles made of synthetic polymers such as polyethylene terephthalate and polystyrene. It is recommended that the shape has a flat surface such as a plate shape, a film shape, a porous film shape, etc. from the viewpoint of the accuracy of transfer and workability.

【0024】また、被処理固体表面に転移されるゲルの
表層部は、ファンデワールス相互作用により該固体表面
に良好に物理吸着しているが、本発明では、使用するゲ
ルの分散体が荷電を有するものである場合には、上記被
処理固体として、表面が該分散体の荷電と反対荷電を有
するものを用いる等して、さらにイオン吸着などの化学
結合を生じせしめ、上記ゲルの表層部を被処理固体表面
により強固に結合させても良い。
Although the surface layer of the gel transferred to the surface of the solid to be treated is well physically adsorbed to the surface of the solid due to van der Waals interaction, in the present invention, the dispersion of the gel used is charged. If the solid to be treated, for example, using a solid whose surface has a charge opposite to the charge of the dispersion, a chemical bond such as ion adsorption is generated, and the surface layer of the gel is formed. It may be more firmly bonded to the surface of the solid to be treated.

【0025】その際、被処理固体は、上記のような素材
からなる成形品の表面を物理吸着あるいは化学吸着によ
り表面修飾し、表面の電荷を変化させたものを用いても
良い。固体の物理吸着による表面修飾法としては、例え
ば、雲母(マイカ)等の負電荷を有する固体を、カチオ
ン性高分子電解質、あるいはカチオン性合成脂質水溶液
中に浸漬して、これらを過剰吸着せしめることにより、
正電荷を帯びたものにする方法が挙げられる。また、金
蒸着物に対しては、公知のチオール化合物による吸着法
を適用し、メルカプトプロピオン酸等を吸着させて負電
荷を表面に生じせしめたり、さらに、その表面に上記し
たようなカチオン性高分子電解質やカチオン性合成脂質
を物理吸着させて、正電荷を帯びたものにする方法など
が適用できる。
At this time, the solid to be treated may be one obtained by modifying the surface of a molded article made of the above-mentioned material by physical adsorption or chemical adsorption to change the surface charge. As a surface modification method by physical adsorption of a solid, for example, a solid having a negative charge such as mica (mica) is immersed in a cationic polyelectrolyte or an aqueous solution of a cationic synthetic lipid, and these are excessively adsorbed. By
There is a method of adding a positive charge. In addition, for the gold deposit, a known thiol compound adsorption method is applied, and a mercurtopropionic acid or the like is adsorbed to generate a negative charge on the surface. A method in which a molecular electrolyte or a cationic synthetic lipid is physically adsorbed to be positively charged can be applied.

【0026】上記のような被処理固体の表面修飾に使用
するカチオン性高分子電解質としては、ポリエチレンイ
ミン、ポリ(1,1-ジメチル-3,5-ジメチレン-ピペリジニ
ウム)などが好適である。また、カチオン性合成脂質と
しては、アンモニウム親水基を有する合成脂質などが好
適である。
As the cationic polymer electrolyte used for the surface modification of the solid to be treated as described above, polyethyleneimine, poly (1,1-dimethyl-3,5-dimethylene-piperidinium) and the like are preferable. Further, as the cationic synthetic lipid, a synthetic lipid having an ammonium hydrophilic group or the like is suitable.

【0027】また、被処理固体が、ガラスや石英等の表
面に水酸基を有する素材からなる場合、シランカップリ
ング剤による表面処理を施してもよい。シランカップリ
ング剤としては、たとえばアミノブチルトリエトキシシ
ラン、アミノプロピルトリエトキシシラン等を用いるこ
とができる。
When the solid to be treated is made of a material having a hydroxyl group on the surface, such as glass or quartz, a surface treatment with a silane coupling agent may be performed. As the silane coupling agent, for example, aminobutyltriethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane and the like can be used.

【0028】本発明において、ハイドロゲルまたはオル
ガノゲルの表面と上記被処理固体表面との接触は、該被
処理固体自体の重量をかけて接触させるだけで充分であ
るが、接触を完全にするために、ゲル表面の変形を伴わ
ない範囲で圧力をかけることもできる。また、この場合
の接触時間は特に制限されないが、良好な転移を実現す
るためには30分以上が適当である。接触させる際のゲ
ルや被処理固体の温度は、特に制限されるものではない
が、比較的低温の方が良好にゲルの転移が行えるため、
0〜30℃の範囲で実施するのが好適である。
In the present invention, the contact between the surface of the hydrogel or the organogel and the surface of the solid to be treated is sufficient by contacting the surface of the solid to be treated with the weight of the solid itself. Alternatively, pressure can be applied within a range that does not involve deformation of the gel surface. In addition, the contact time in this case is not particularly limited, but is preferably 30 minutes or more in order to realize good transfer. The temperature of the gel or the solid to be treated at the time of contact is not particularly limited, but the gel transition can be performed better at a relatively low temperature.
It is preferable to carry out in the range of 0 to 30 ° C.

【0029】以上の接触の後、両者を剥離させると、被
処理固体表面に上記ゲルの表層部を転移され超薄層が形
成される。この超薄層は、ゲルを構成する分散体の分子
会合体から成る二次元性の高い網目構造が高密度に転移
された層である。その層厚は用いたゲルの分散体の種類
にも左右されるが、2〜100nmが一般的であり、特
に2〜10nmが好ましい。形成される超薄層の被処理
固体表面に対する被覆率は、30%以上であるのが好ま
しく、特に80%以上の高い率で膜状に被覆されるのが
好ましい。
After the above-mentioned contact, when the two are peeled off, the surface layer of the gel is transferred to the surface of the solid to be treated, and an ultrathin layer is formed. This ultrathin layer is a layer in which a highly two-dimensional network structure composed of molecular aggregates of a dispersion constituting a gel is transferred at a high density. Although the layer thickness depends on the kind of the gel dispersion used, it is generally 2 to 100 nm, and particularly preferably 2 to 10 nm. The coating rate of the formed ultra-thin layer on the surface of the solid to be treated is preferably 30% or more, and more preferably 80% or more.

【0030】また、本発明では、上記により被処理固体
表面上に超薄層を形成させた後、再度、この面とハイド
ロゲルまたはオルガノゲルの表面とを接触させた後剥離
させることにより、該被処理固体表面上にさらにハイド
ロゲルまたはオルガノゲルの表層部を転移させることが
できる。そして、かかる操作を繰り返すことにより、被
処理固体表面上にハイドロゲルまたはオルガノゲルの表
層部を任意の数積層させることができ、ナノメートルレ
ベルで厚みが制御された超薄層を製造することができ
る。一般には、超薄層の積層操作を1〜5回程度繰り返
して、4〜500nm程度の層厚の超薄層を製造するの
が好ましい。また、このように超薄層の積層操作を繰り
返すことにより、被処理固体表面に対する超薄層の被覆
率が低い場合において、その被覆率を高めることもでき
る。
Further, in the present invention, after forming an ultrathin layer on the surface of the solid to be treated as described above, the surface is again brought into contact with the surface of the hydrogel or organogel, and then peeled off. The surface layer of the hydrogel or organogel can be further transferred onto the treated solid surface. By repeating such an operation, any number of surface layers of hydrogel or organogel can be laminated on the surface of the solid to be treated, and an ultrathin layer having a thickness controlled at the nanometer level can be manufactured. . Generally, it is preferable to repeat the lamination operation of the ultra-thin layer about 1 to 5 times to produce an ultra-thin layer having a layer thickness of about 4 to 500 nm. Further, by repeating the operation of laminating the ultra-thin layer in this manner, when the coverage of the ultra-thin layer on the surface of the solid to be treated is low, the coverage can be increased.

【0031】なお、上記超薄層が形成された被処理固体
表面とハイドロゲルまたはオルガノゲルの表面との接触
に際しては、先に、該被処理固体表面を乾燥させるのが
好ましい。乾燥は、例えば、窒素ガス等の不活性ガスを
吹き付けることにより行えば良い。さらに、乾燥に先立
って、流水等により被処理固体表面を洗浄しても良い。
When the surface of the solid to be treated on which the ultra-thin layer is formed is brought into contact with the surface of the hydrogel or organogel, it is preferable to dry the surface of the solid to be treated first. Drying may be performed, for example, by blowing an inert gas such as a nitrogen gas. Further, prior to drying, the surface of the solid to be treated may be washed with running water or the like.

【0032】また、上記の積層は、ハイドロゲルまたは
オルガノゲルの同種のものを用いて実施するだけでな
く、2種以上のものを用いて、異種の超薄層が積層され
た超薄層複合層を形成させても良い。
The above-mentioned lamination is performed not only by using the same kind of hydrogel or organogel, but also by using two or more kinds of ultra-thin composite layers in which different kinds of ultra-thin layers are laminated. May be formed.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明の方法は、極めて簡便な手法によ
り、特別な設備・装置を必要とせずとも、高い生産性
で、被処理固体表面に、ハイドロゲルまたはオルガノゲ
ルを形成する分散体からなる超薄層を製造することがで
きる。
The method of the present invention comprises a dispersion which forms a hydrogel or an organogel on the surface of a solid to be treated with a very simple method and without the need for special equipment and equipment, with high productivity. Ultra-thin layers can be produced.

【0034】また、本発明の方法は、ナノメートルの精
度で上記超薄層を積層化することができるので、多様な
表面特性を設計することができる。具体的には、鉱物
類、金属類、合成高分子などの成形品に対して、表面の
親水度を制御することができる。また、合成高分子フィ
ルムに、シリカゲル等の無機ゲルの分散体からなる超薄
層を形成させることは、該フィルムにブロッキング防止
性やガスバリヤー性を付与したり、滑り性を制御したり
することが期待できる。さらには、多孔質からなる分離
膜の表面に、上記超薄層を形成させることにより、該分
離膜の透過性を調整することも期待できる。このよう
に、本発明の方法は、種々の物品を表面改質する際の実
用的な基盤技術となり得るものである。
Further, the method of the present invention can laminate the ultra-thin layers with nanometer precision, so that various surface characteristics can be designed. Specifically, it is possible to control the hydrophilicity of the surface of a molded product such as a mineral, a metal, and a synthetic polymer. In addition, forming an ultra-thin layer made of a dispersion of an inorganic gel such as silica gel on a synthetic polymer film imparts anti-blocking properties or gas barrier properties to the film, or controls slipperiness. Can be expected. Further, by forming the ultra-thin layer on the surface of a porous separation membrane, it is expected that the permeability of the separation membrane can be adjusted. As described above, the method of the present invention can be a practical basic technique for surface-modifying various articles.

【0035】[0035]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳しく説明
するが、本発明は、これらの実施例に限定されるもので
はない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0036】実施例1及び2 アガロースを水に1重量%の濃度で加え、加熱攪拌し、
溶液が均一透明になった時点で、溶液を別容器に移し放
冷し、アガロースハイドロゲルを得た。
Examples 1 and 2 Agarose was added to water at a concentration of 1% by weight, heated and stirred.
When the solution became uniformly transparent, the solution was transferred to another container and allowed to cool to obtain an agarose hydrogel.

【0037】転移基板として、グラファイト(HOPG)
(実施例1)及び劈開した雲母板(実施例2)を用い、
これらをアガロースハイドロゲル表面に接触せしめた。
接触中のアガロースハイドロゲル及び基板の温度は、2
0℃であった。12時間経過後、転移基板をゲル表面よ
り剥離し、表面を原子間力顕微鏡により観察した。グラ
ファイト基板についての原子間力顕微鏡写真を図1に示
した。なお、原子間力顕微鏡観察は、窒化シリコンカン
チレバーを用い、大気中、ノンコンタクトモードの測定
条件で行った。
As a transfer substrate, graphite (HOPG)
(Example 1) and cleaved mica plate (Example 2)
These were brought into contact with the agarose hydrogel surface.
The temperature of the agarose hydrogel and substrate during contact is 2
It was 0 ° C. After a lapse of 12 hours, the transfer substrate was separated from the gel surface, and the surface was observed with an atomic force microscope. An atomic force micrograph of the graphite substrate is shown in FIG. The atomic force microscope observation was performed using a silicon nitride cantilever in the air under non-contact mode measurement conditions.

【0038】いずれの基板表面も、アガロースが基板に
良好に転移された超薄層を形成していた。グラファイト
を転移基板とした場合、アガロースの網目構造が厚み約
3nmで基板表面に転移されており、その基板面に対す
る被覆率は約80%であり膜状に被覆されていた。ま
た、雲母板を転移基板とした場合も、同様に、被覆率約
80%で雲母基板が、アガロース超薄層より膜状に被覆
されていた。
Each of the substrate surfaces formed an ultrathin layer in which agarose was well transferred to the substrate. When graphite was used as the transfer substrate, the network structure of the agarose was transferred to the substrate surface with a thickness of about 3 nm, and the coverage on the substrate surface was about 80%, which was covered in a film form. Similarly, when the mica plate was used as the transfer substrate, the mica substrate was coated in a film form from the ultrathin agarose layer at a coverage of about 80%.

【0039】これらの転移基板を純水に浸漬し、超音波
処理を5分間施して洗浄を行ったところ、いずれの基板
表面でもアガロース超薄層は安定に保持されており、剥
離することがなかった。
When these transfer substrates were immersed in pure water and subjected to ultrasonic treatment for 5 minutes for cleaning, the ultrathin agarose layer was stably held on any of the substrate surfaces and did not peel off. Was.

【0040】実施例3 実施例1において、転移基板として、金電極で被覆した
水晶発振子を用い、アガロースゲルの逐次転移を行っ
た。なお、水晶発振子はマイクロバランスとして知ら
れ、振動数変化によりその表面に形成された薄層の重さ
を10-9gの精度で測定できるデバイスである。
Example 3 In Example 1, an agarose gel was sequentially transferred using a quartz oscillator covered with a gold electrode as a transfer substrate. The crystal oscillator is known as a microbalance, and is a device that can measure the weight of a thin layer formed on the surface thereof with a change in frequency with an accuracy of 10 −9 g.

【0041】上記金蒸着水晶発振子に以下の操作で表面
処理を施した後、アガロースゲルの逐次転移を行った。
予め濃硫酸と31重量%過酸化水素水溶液を体積比率3
対1で混合し、その溶液を水晶発振子の金電極部位に塗
布し、ついで充分に水洗した。この操作を2回繰り返し
た後、窒素ガスを吹き付けて十分に乾燥させてから転移
に用いた。
After the above-mentioned gold-deposited crystal oscillator was subjected to a surface treatment by the following operation, the agarose gel was successively transferred.
Beforehand, concentrated sulfuric acid and a 31% by weight aqueous solution of hydrogen peroxide were mixed at a volume
The solution was mixed in a ratio of one to one, and the solution was applied to the gold electrode portion of the crystal oscillator, and then thoroughly washed with water. After this operation was repeated twice, nitrogen gas was sprayed to sufficiently dry and then used for transfer.

【0042】次ぎに、実施例1で用いたものと同じアガ
ロースハイドロゲル上に、上記水晶発振子を接触せしめ
た。接触中のアガロースハイドロゲル及び基板の温度
は、20℃であった。30分接触せしめた後、発振子を
ゲル表面から剥離し、流水による洗浄、窒素ガスによる
乾燥の後、水晶発振子の振動数を記録した。この転移−
水洗−乾燥からなる一連の操作をさらに5回繰り返し
て、アガロース超薄層を水晶発振子上に逐次積層化させ
た。
Next, the above quartz oscillator was brought into contact with the same agarose hydrogel as that used in Example 1. The temperature of the agarose hydrogel and the substrate during the contact was 20 ° C. After 30 minutes of contact, the oscillator was peeled off from the gel surface, washed with running water and dried with nitrogen gas, and the frequency of the crystal oscillator was recorded. This transition-
A series of operations consisting of washing and drying was further repeated five times, and an ultrathin agarose layer was sequentially laminated on the crystal oscillator.

【0043】上記の転移操作に伴う水晶発振子の振動数
変化を表1に示した。アガロース超薄層の各転移操作に
伴い、水晶発振子は振動数変化を示した。一回目の転移
に基づく振動数変化は46Hzであり、これは転移重量
約41ngに相当する。二回目の転移以降は、34Hz
〔31ng〕, 24Hz〔22ng〕,15Hz〔1
4ng〕,23Hz〔21ng〕,19Hz〔17n
g〕のアガロース超薄層が転移されており、再現性の良
い転移が行われていた。
Table 1 shows the change in the frequency of the crystal oscillator associated with the above-described transition operation. With each transition operation of the ultra-thin agarose layer, the crystal oscillator showed frequency change. The frequency change due to the first transition is 46 Hz, which corresponds to a transition weight of about 41 ng. 34 Hz after the second transition
[31 ng], 24 Hz [22 ng], 15 Hz [1
4ng], 23Hz [21ng], 19Hz [17n
g) of the agarose ultrathin layer was transferred, and the transfer was performed with good reproducibility.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】実施例4 ポリアクリルアミドゲルについて、実施例1と同様にし
てグラファイト表面との接触・剥離操作により、ポリア
クリルアミド超薄層を形成させた。
Example 4 An ultrathin polyacrylamide layer was formed on a polyacrylamide gel by the same procedure as in Example 1 by contacting and peeling off the graphite surface.

【0046】ポリアクリルアミドゲルの調製は、以下の
方法により行った。30重量%のアクリルアミド水溶液
(アクリルアミドモノマーとN,N'-メチレンビスアクリ
ルアミドモノマーを重量比29対1で含む)4.43ml
に、10重量%の過硫酸アンモニウム水溶液を加え、こ
れに純水を加えて全量を30mlとした。この水溶液を
充分脱酸素処理した後、水溶液をシャーレに注ぎ、窒素
気流下に20分間放置した。この後、N,N,N',N'-テトラ
メチル-エチレンジアミンを15マイクロリットル注入
し、窒素気流下60分間放置した。このようにして4重
量%のポリアクリルアミドゲルが調製された。
The preparation of polyacrylamide gel was carried out by the following method. 4.43 ml of a 30% by weight aqueous solution of acrylamide (containing acrylamide monomer and N, N'-methylenebisacrylamide monomer in a weight ratio of 29 to 1)
Then, a 10% by weight aqueous solution of ammonium persulfate was added thereto, and pure water was added thereto to adjust the total amount to 30 ml. After the aqueous solution was sufficiently deoxygenated, the aqueous solution was poured into a petri dish and left under a nitrogen stream for 20 minutes. Thereafter, 15 μl of N, N, N ′, N′-tetramethyl-ethylenediamine was injected, and the mixture was allowed to stand under a nitrogen stream for 60 minutes. Thus, a 4% by weight polyacrylamide gel was prepared.

【0047】転移基板として、グラファイト(HOPG)を
用い、これを上記ポリアクリルアミドゲル表面に接触せ
しめた。接触中のポリアクリルアミドゲル及び基板の温
度は、20℃であった。12時間経過後、基板をゲル表
面より剥離し、表面を原子間力顕微鏡により観察した。
この原子間力顕微鏡写真を図2に示した。
As a transfer substrate, graphite (HOPG) was used, which was brought into contact with the surface of the above-mentioned polyacrylamide gel. The temperature of the polyacrylamide gel and the substrate during the contact was 20 ° C. After 12 hours, the substrate was peeled off from the gel surface, and the surface was observed with an atomic force microscope.
The atomic force micrograph is shown in FIG.

【0048】図2においてグラファイト基板上にポリア
クリルアミド超薄層が転移され、直径約100nm〜2
00nmの球状ドメインが二次元的に集積した構造を有
していた。表面凹凸の高低さは約0〜6nmであり、基
板面に対する転移された超薄層の被覆率は約95%であ
り、膜状に被覆されていた。
In FIG. 2, a polyacrylamide ultra-thin layer is transferred onto a graphite substrate, and has a diameter of about 100 nm to 2 nm.
It had a structure in which 00 nm spherical domains were two-dimensionally integrated. The height of the surface irregularities was about 0 to 6 nm, the coverage of the transferred ultrathin layer on the substrate surface was about 95%, and the film was covered in a film form.

【0049】また、この転移基板を純水に浸漬し、超音
波処理を5分間施して洗浄を行ったところ、ポリアクリ
ルアミド超薄層は安定に保持されており、剥離すること
がなかった。
Further, when this transfer substrate was immersed in pure water and subjected to ultrasonic treatment for 5 minutes for washing, the polyacrylamide ultrathin layer was stably held and did not peel off.

【0050】実施例5 オルガノゲルについて、実施例1と同様にしてグラファ
イト表面との接触・剥離操作により、超薄層を形成させ
た。
Example 5 An ultra-thin layer was formed on an organogel by a contact / peeling operation with the graphite surface in the same manner as in Example 1.

【0051】分散体としては、L−グルタミン酸誘導体
であるカチオン性両親媒性化合物(〔11−({4−
(ドデシルアミノ)−1−〔(ドデシルアミノ)カルボ
ニル〕−4−オキソブチル}アミノ)−11−オキソウ
ンデシル〕(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニ
ウムブロミド)を用いた。有機溶媒としてクロロホルム
を用い、加熱により調製したクロロホルム溶液(濃度5
0mM)を4℃まで急冷することにより、オルガノゲル
を得た。このゲルを4℃で数時間放置した後、その表面
にグラファイト(HOPG)基板を接触させた。接触中のオ
ルガノゲル及び基板の温度は、4℃であった。12時間
放置後、基板を剥離し、表面を原子間力顕微鏡により観
察した。その原子間力顕微鏡写真を図3に示した。
As a dispersion, a cationic amphiphilic compound ([11- (タ 4-
(Dodecylamino) -1-[(dodecylamino) carbonyl] -4-oxobutyl {amino) -11-oxoundecyl] (2-hydroxyethyl) dimethylammonium bromide) was used. Using chloroform as an organic solvent, a chloroform solution prepared by heating (concentration 5
(0 mM) was rapidly cooled to 4 ° C. to obtain an organogel. After leaving this gel at 4 ° C. for several hours, a graphite (HOPG) substrate was brought into contact with its surface. The temperature of the organogel and the substrate during the contact was 4 ° C. After standing for 12 hours, the substrate was peeled off, and the surface was observed with an atomic force microscope. The atomic force micrograph is shown in FIG.

【0052】図3においてグラファイト基板上には、幅
約170nm、厚み約23nmのナノ構造が観察され
た。また、螺旋状の構造体も観察され、その厚みは約8
0nmであった。これらの転移物により、グラファイト
基板は、ほぼ完全に被覆されていた。この転移物は、両
親媒性化合物から形成される上記オルガノゲルの表層構
造であり、分散媒であるクロロホルムの乾燥により形成
されたものではないことは、以下の実験により確認され
た。即ち、オルガノゲル作成に用いたクロロホルム溶液
(濃度50mM)をグラファイト上に滴下、乾燥して得
られた試料について原子間力顕微鏡を行った結果、上記
のような超薄層は形成されていなかった。
In FIG. 3, a nanostructure having a width of about 170 nm and a thickness of about 23 nm was observed on the graphite substrate. In addition, a spiral structure was observed, and its thickness was about 8
It was 0 nm. With these transitions, the graphite substrate was almost completely covered. The following experiment confirmed that this transition product had a surface layer structure of the organogel formed from an amphiphilic compound and was not formed by drying chloroform as a dispersion medium. That is, the sample obtained by dropping the chloroform solution (concentration: 50 mM) used for preparing the organogel on graphite and drying was subjected to an atomic force microscope, and as a result, the ultrathin layer as described above was not formed.

【0053】また、これらの転移基板を純水に浸漬し、
超音波処理を5分間施して洗浄を行ったところ、上記超
薄層は安定に保持されており、剥離することがなかっ
た。
Further, these transfer substrates are immersed in pure water,
Ultrasonic treatment was performed for 5 minutes for cleaning, and as a result, the ultra-thin layer was stably held and did not peel off.

【0054】実施例6 シリカゲルについて、実施例1と同様にしてグラファイ
ト表面との接触・剥離操作により、超薄層を形成させ
た。
Example 6 An ultra-thin layer was formed on silica gel by the same procedure as in Example 1 by contacting and peeling off the graphite surface.

【0055】シリカゲルの調整は、以下の方法により行
った。テトラメトキシシラン8.3gをジメチルホルム
アミド5gに溶解させ、この溶液を、水10g、メタノ
ール3.8g、アンモニア0.001gを含む溶液に、
撹拌しながらゆっくり滴下した。次いで、この溶液を3
5℃にて5時間静置することにより柔軟なシリカゲルが
得られた。
The preparation of silica gel was performed by the following method. 8.3 g of tetramethoxysilane is dissolved in 5 g of dimethylformamide, and this solution is added to a solution containing 10 g of water, 3.8 g of methanol, and 0.001 g of ammonia.
It was dripped slowly with stirring. The solution was then added to 3
By leaving it to stand at 5 ° C for 5 hours, a flexible silica gel was obtained.

【0056】転移基板として、グラファイト(HOPG)を
用い、これを上記シリカゲル表面に接触せしめた。接触
中のシリカゲル及び基板の温度は、20℃であった。1
2時間経過後、基板をゲル表面より剥離し、表面を原子
間力顕微鏡により観察した。この原子間力顕微鏡写真を
図5に示した。
As a transfer substrate, graphite (HOPG) was used, which was brought into contact with the silica gel surface. The temperature of the silica gel and the substrate during the contact was 20 ° C. 1
After 2 hours, the substrate was separated from the gel surface, and the surface was observed with an atomic force microscope. This atomic force micrograph is shown in FIG.

【0057】図5においてグラファイト基板上にシリカ
粒子が転移され、直径約8〜400nmの球状ドメイン
が点在して、あるいは直線上に連なった構造を有してい
た。これらのドメインの高さは約2〜6nmであり、基
板面に対する転移された超薄層の被覆率は約40%であ
った。
In FIG. 5, the silica particles were transferred onto the graphite substrate, and had a structure in which spherical domains having a diameter of about 8 to 400 nm were scattered or connected linearly. The height of these domains was about 2-6 nm and the coverage of the transferred ultrathin layer on the substrate surface was about 40%.

【0058】また、これらの転移基板を純水に浸漬し、
超音波処理を5分間施して洗浄を行ったところ、シリカ
粒子超薄層は安定に保持されており、剥離することがな
かった。
Further, these transfer substrates are immersed in pure water,
Ultrasonic treatment was performed for 5 minutes for cleaning, and as a result, the ultra-thin silica particle layer was stably held and did not peel off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、実施例1において、アガロースゲルを
グラファイト基板に転移させて得られた超薄層の表面状
態を示す原子間力顕微鏡写真である。
FIG. 1 is an atomic force micrograph showing the surface state of an ultra-thin layer obtained by transferring an agarose gel to a graphite substrate in Example 1.

【図2】図2は、実施例4において、ポリアクリルアミ
ドゲルをグラファイト基板に転移させて得られた超薄層
の表面状態を示す原子間力顕微鏡写真である。
FIG. 2 is an atomic force micrograph showing the surface state of an ultra-thin layer obtained by transferring a polyacrylamide gel to a graphite substrate in Example 4.

【図3】図3は、実施例5において、オルガノゲルをグ
ラファイト基板に転移させて得られた超薄層の表面状態
を示す原子間力顕微鏡写真である。
FIG. 3 is an atomic force microscope photograph showing a surface state of an ultra-thin layer obtained by transferring an organogel to a graphite substrate in Example 5.

【図4】図4は、実施例6において、シリカゲルをグラ
ファイト基板に転移させて得られた超薄層の表面状態を
示す原子間力顕微鏡写真である。
FIG. 4 is an atomic force microscope photograph showing the surface state of an ultra-thin layer obtained by transferring silica gel to a graphite substrate in Example 6.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表面を
被処理固体表面に接触させた後剥離させることにより、
該被処理固体表面に上記ゲルの表層部を転移させること
を特徴とする被処理固体表面上への超薄層の製造方法。
1. The method according to claim 1, wherein the surface of the hydrogel or organogel is brought into contact with the surface of the solid to be treated and then peeled off.
A method for producing an ultra-thin layer on a surface of a solid to be treated, wherein the surface layer of the gel is transferred to the surface of the solid to be treated.
【請求項2】請求項1記載の方法により超薄層が形成さ
れた被処理固体表面上に、さらに請求項1記載の方法に
より、ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表層部を少な
くとも一層転移させることを特徴とする超薄層の製造方
法。
2. The method according to claim 1, wherein at least one surface layer of a hydrogel or an organogel is further transferred onto the surface of the solid to be treated on which the ultra-thin layer has been formed by the method according to claim 1. A method for producing an ultra-thin layer.
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