JPH1130703A - Plastic optical parts having antireflection film - Google Patents

Plastic optical parts having antireflection film

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JPH1130703A
JPH1130703A JP9173096A JP17309697A JPH1130703A JP H1130703 A JPH1130703 A JP H1130703A JP 9173096 A JP9173096 A JP 9173096A JP 17309697 A JP17309697 A JP 17309697A JP H1130703 A JPH1130703 A JP H1130703A
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雅章 葭原
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斉 嘉村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain plastic optical parts having antireflection films which are manufactured by utilizing a sputtering method and have the high evaluation of film performance by using specific multilayered films deposited by laminating high-refractive index materials and low-refractive index materials as the antireflection films. SOLUTION: The optical parts are formed by applying the antireflection films 13 on at least one surface of a plastic base material 11. The antireflection films 13 are the multilayered films 131 to 140 deposited by substantially consisting the first layer 131 on the plastic base material 11 side of a high refractive index material and consisting the next layer 132 thereof of the low- refractive index material and alternately laminating the high-refractive index materials and the low-refractive index materials. The main wavelength range thereof is 480 to 550 nm, the stimulus purity range thereof is 10 to 30% and the visual reflectivity thereof is 0.7 to 1.8%. The multilayered films are so formed as to exhibit interference colors of a green system. Since the antireflection films are designed to induce the interference colors of the green system, a lens having excellent aesthetic feel and high commercial value is obtd. if the spectacle plastic lens is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜を有す
るプラスチック光学部品に関し、特に、膜性能の評価が
高い反射防止膜をスパッタ法を利用して施した眼鏡プラ
スチックレンズ等のプラスチック光学部品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic optical component having an antireflection film, and more particularly to a plastic optical component such as a spectacle plastic lens in which an antireflection film having a high evaluation of film performance is formed by a sputtering method. .

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、眼鏡レンズでは、軽量、耐衝撃性
に優れるという観点からプラスチックが多用されてい
る。この眼鏡プラスチックレンズではその両面に反射防
止膜が施されている。反射防止膜は、眼鏡プラスチック
レンズでの表面反射を防止する働きを有する。表面反射
が生じると、光学系の透過率を低下させ、結像に寄与し
ない光の増加をもたらし、像のコントラストを低下させ
る原因となるからである。眼鏡プラスチックレンズの反
射防止膜は、従来、主に真空蒸着法により単層膜または
多層膜として形成されていた。
2. Description of the Related Art In recent years, plastics have been frequently used in eyeglass lenses from the viewpoint of light weight and excellent impact resistance. In this spectacle plastic lens, antireflection films are provided on both surfaces. The antireflection film has a function of preventing surface reflection from the spectacle plastic lens. This is because surface reflection lowers the transmittance of the optical system, increases the amount of light that does not contribute to imaging, and lowers the contrast of the image. Conventionally, the antireflection film of the spectacle plastic lens has been formed as a single layer film or a multilayer film mainly by a vacuum evaporation method.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】現在、スパッタ法(ま
たはスパッタリング法)を利用して簡単な構成で眼鏡プ
ラスチックレンズ等に反射防止膜を成膜し、生産性を高
めた成膜の方法および装置が提案されつつある。この成
膜装置では、真空容器内にターゲットを交換することに
より異なる薄膜を作製できるスパッタ成膜室を備えてお
り、眼鏡プラスチックレンズを大気にさらすことなくス
パッタ成膜室で、レンズ表面に多層の反射防止膜を成膜
でき、さらに当該レンズの両面を同時に成膜することが
できる。この成膜装置によれば、眼鏡プラスチックレン
ズの両面に同時に成膜を行えることから、レンズ両面の
成膜条件が同じとなり、レンズ両面に同質の膜を形成で
きる利点がある。さらにレンズ表面に多層の膜を堆積さ
せる場合であって、例えば性質の異なる2種の膜(高屈
折率物質と低屈折率物質)を交互に繰り返し積層させて
膜形成を行う場合に、上記スパッタ成膜室内で各膜の物
質に応じた2つのターゲットを装備し、ターゲットを交
換することによって、交互に繰り返してスパッタ成膜を
行えばよいので、成膜装置としての構成上、かかる多層
膜の成膜を容易に行えると共に、各層の膜の厚みの制御
を正確に行えるという利点もある。
At present, an antireflection film is formed on a plastic lens or the like of a spectacle with a simple structure using a sputtering method (or a sputtering method), and a method and apparatus for forming a film with improved productivity. Is being proposed. This film forming apparatus is equipped with a sputter film forming chamber in which a different thin film can be produced by exchanging a target in a vacuum vessel, and a multilayer film is formed on the lens surface in the sputter film forming chamber without exposing the spectacle plastic lens to the atmosphere. An anti-reflection film can be formed, and both surfaces of the lens can be simultaneously formed. According to this film forming apparatus, since film formation can be performed simultaneously on both surfaces of the spectacle plastic lens, film forming conditions on both surfaces of the lens are the same, and there is an advantage that a film of the same quality can be formed on both surfaces of the lens. Further, in the case where a multilayer film is deposited on the lens surface, for example, when two types of films having different properties (high-refractive-index material and low-refractive-index material) are alternately and repeatedly laminated to form a film, Since two targets according to the material of each film are equipped in the film formation chamber and the targets are exchanged, it is only necessary to alternately repeat the sputter film formation. There is an advantage that the film can be easily formed and the thickness of each layer can be accurately controlled.

【0004】そこで、スパッタ法を利用した前述の新し
い成膜方法および成膜装置を利用して製作される眼鏡プ
ラスチックレンズ等のプラスチック光学部品の反射防止
膜について、新しい多層膜構造を有し、膜性能の評価が
高い反射防止膜を提案することが可能となる。
Therefore, a new multilayer film structure is used for an antireflection film of a plastic optical component such as an eyeglass plastic lens manufactured by using the above-described new film forming method using a sputtering method and a film forming apparatus. It is possible to propose an antireflection film having high performance evaluation.

【0005】また眼鏡レンズにおける膜性能の評価で
は、干渉色は重要な評価項目となる。干渉色は白色光の
干渉により生じる色であり、多層反射防止膜が成膜され
た眼鏡プラスチックレンズで置き換えれば、レンズ表面
上に屈折率の異なる透明な薄膜がついたときに反射光が
示す干渉による色である。市販の反射防止膜付きレンズ
の干渉色は、一般的に、青色系、紫系、グリーン系の3
つ大別される。中でもグリーン系の干渉色は眼生理学的
や審美感として優れ、特に商業的価値においても優れる
ものであるが、膜原料の選択、膜厚の設定、成膜条件等
の種々の技術的問題があり、この干渉色を安定的に付与
させる技術については未だ確立されていなかった。
In the evaluation of the film performance of an eyeglass lens, the interference color is an important evaluation item. The interference color is a color generated by the interference of white light, and if replaced with a spectacle plastic lens on which a multilayer antireflection film is formed, the interference exhibited by the reflected light when a transparent thin film having a different refractive index is formed on the lens surface. Color. Generally, interference colors of commercially available lenses with an anti-reflection film are of three types: blue, purple, and green.
Are roughly divided into Among them, green interference colors are excellent in ocular physiology and aesthetics, and are particularly excellent in commercial value, but there are various technical problems such as selection of film raw materials, setting of film thickness, film forming conditions and the like. However, a technique for stably giving the interference color has not been established yet.

【0006】本発明の目的は、上記要望に応えることに
あり、主にスパッタ法を利用することにより反射防止膜
を作製し、膜性能の評価が高い、新しい多層膜構造の反
射防止膜を有するプラスチック光学部品を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to meet the above-mentioned demands. An anti-reflection film having a new multilayer structure, which has a high evaluation of film performance, is manufactured mainly by utilizing a sputtering method. An object of the present invention is to provide a plastic optical component.

【0007】本発明の他の目的は、眼鏡プラスチックレ
ンズに利用され、当該レンズでグリーン系の干渉色を安
定して付与でき、眼生理学、審美感に優れた商業的に価
値の高い反射防止膜を有するプラスチック光学部品を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide an antireflection film of high commercial value which is used for a spectacle plastic lens and which can stably impart a green interference color with the lens and is excellent in ocular physiology and aesthetics. An object of the present invention is to provide a plastic optical component having:

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
反射防止膜を有するプラスチック光学部品は、上記の各
目的を達成するために、次のように構成されている。
A plastic optical component having an antireflection film according to the present invention is configured as follows in order to achieve the above objects.

【0009】第1のプラスチック光学部品(請求項1に
対応): プラスチック基材の少なくとも一方の面に反
射防止膜を施してなるプラスチック光学部品であり、当
該反射防止膜は、プラスチック基材側の第1層を実質的
に高屈折率物質としかつその次の層を低屈折率物質とし
て、これらの高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層
して成膜された多層膜であり、さらに、その主波長範囲
が480〜550nm、刺激純度範囲が10〜30%、
視感反射率が0.7〜1.8%であってグリーン系の干
渉色を呈するように形成される。
First plastic optical component (corresponding to claim 1): A plastic optical component in which an antireflection film is applied to at least one surface of a plastic substrate, and the antireflection film is provided on the plastic substrate side. A multilayer film formed by alternately stacking these high-refractive-index substances and low-refractive-index substances, wherein the first layer is substantially a high-refractive-index substance and the next layer is a low-refractive-index substance, Furthermore, the main wavelength range is 480 to 550 nm, the stimulus purity range is 10 to 30%,
It is formed to have a luminous reflectance of 0.7 to 1.8% and exhibit a green-based interference color.

【0010】上記のプラスチック光学部品では、グリー
ン系の干渉色が生じるように多層の反射防止膜を設計し
製作したため、当該プラスチック光学部品を眼鏡プラス
チックレンズとして用いる場合に、審美感に優れた商業
的な価値が高いレンズを実現できる。
In the above plastic optical component, a multilayer antireflection film is designed and manufactured so as to generate a green interference color. Therefore, when the plastic optical component is used as a spectacle plastic lens, a commercial product having excellent aesthetic feeling is obtained. High value lens can be realized.

【0011】第2のプラスチック光学部品(請求項2に
対応): プラスチック基材の少なくとも一方の面に反
射防止膜を施してなるプラスチック光学部品であり、当
該反射防止膜は、プラスチック基材側の第1層を実質的
に高屈折率物質としかつその次の層を低屈折率物質とし
て、これらの高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層
して成膜された多層膜として構成され、さらに、この多
層膜構造の反射防止膜で中間領域に位置する低屈折率物
質の膜厚を、反射防止膜として必要な硬さおよび耐久性
が得られるように、相対的に大きくするようにしてい
る。
A second plastic optical component (corresponding to claim 2): a plastic optical component obtained by applying an antireflection film to at least one surface of a plastic substrate, wherein the antireflection film is provided on the plastic substrate side. The first layer is formed of a high refractive index material and the next layer is formed of a low refractive index material, and the high refractive index material and the low refractive index material are alternately laminated to form a multilayer film. Further, the thickness of the low-refractive index substance located in the intermediate region in the antireflection film having the multilayer structure is relatively increased so as to obtain the hardness and durability required for the antireflection film. ing.

【0012】上記のプラスチック光学部品では、第1層
を高屈折率膜、第2層を低屈折率膜として、高屈折率膜
と低屈折率膜を交互に成膜してなる多層膜構造の反射防
止膜が形成される。反射防止膜を形成する各層の薄膜
は、その膜厚や膜質が望ましい条件を満たすように適切
に制御され、この結果、高い膜性能を有する反射防止膜
が実現される。また膜設計の観点からも容易に所望の反
射防止膜を作製することができる。プラスチック基材に
施される反射防止膜として、中間領域に位置する低屈折
率膜の膜厚を大きくすることによって、硬さおよび耐久
性等の膜性能を高めている。
In the above-mentioned plastic optical component, a high refractive index film is used as a first layer and a low refractive index film is used as a second layer, and a high refractive index film and a low refractive index film are alternately formed. An anti-reflection film is formed. The thin film of each layer forming the anti-reflection film is appropriately controlled so that its thickness and film quality satisfy desired conditions, and as a result, an anti-reflection film having high film performance is realized. In addition, a desired antireflection film can be easily produced from the viewpoint of film design. The film performance such as hardness and durability is enhanced by increasing the thickness of a low refractive index film located in an intermediate region as an antireflection film applied to a plastic substrate.

【0013】第3のプラスチック光学部品(請求項3に
対応): 第1または第2のプラスチック光学部品にお
いて、好ましくは、上記の高屈折率物質はジルコニウム
(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)のいずれ
か、またはこれらのうち2つ以上の合金からなるターゲ
ットを用いてスパッタ法で成膜された金属酸化物であ
り、上記の低屈折率物質はシリコン(Si)のターゲッ
トを用いてスパッタ法で成膜された金属酸化物である。
Third plastic optical component (corresponding to claim 3): In the first or second plastic optical component, preferably, the high refractive index material is zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum ( Ta), or a metal oxide formed by a sputtering method using a target made of an alloy of two or more of them, and the low refractive index material is a silicon (Si) target. This is a metal oxide formed by a sputtering method.

【0014】第4のプラスチック光学部品(請求項4に
対応): 第3のプラスチック光学部品において、好ま
しくは、高屈折率物質のターゲットはSiを含むように
構成される。これによって高屈折率膜はSiを含んで形
成され、膜の硬さや耐久性等が改善される。
Fourth plastic optical component (corresponding to claim 4): In the third plastic optical component, preferably, the target of the high-refractive index substance is configured to include Si. Thereby, the high refractive index film is formed containing Si, and the hardness, durability, and the like of the film are improved.

【0015】第5のプラスチック光学部品(請求項5に
対応): 第3のプラスチック光学部品において、好ま
しくは、高屈折率物質の成膜時に高屈折率物質のターゲ
ットとは別にSiのターゲットを設け、これらの2種類
のターゲットを同時にスパッタして高屈折率物質を混合
膜として成膜するようにした。この場合にも、高屈折率
膜の中にSiを含んで、膜の硬さ等が改善される。
Fifth plastic optical component (corresponding to claim 5): In the third plastic optical component, preferably, a Si target is provided separately from the high refractive index material target when the high refractive index material is formed. The two types of targets are simultaneously sputtered to form a high refractive index substance as a mixed film. Also in this case, the high refractive index film contains Si to improve the film hardness and the like.

【0016】第6のプラスチック光学部品(請求項6に
対応): 上記の各プラスチック光学部品において、好
ましくは、上記反射防止膜の総膜厚が4800〜580
0オングストロームの範囲に含まれており、そのうち低
屈折率物質の総膜厚が3500オングストローム以上で
ある。
Sixth plastic optical component (corresponding to claim 6): In each of the above plastic optical components, the total thickness of the antireflection film is preferably 4800 to 580.
0 angstrom, and the total thickness of the low refractive index material is 3500 angstrom or more.

【0017】第7のプラスチック光学部品(請求項7に
対応): 上記の各プラスチック光学部品において、上
記プラスチック基材が曲率を有するとき、反射防止膜を
広帯域性の膜として成膜する。これにより、スパッタ法
による成膜の際の曲率依存による膜厚分布差に起因する
干渉色ムラと、斜め入射による干渉色変化とを低減させ
ることが可能となる。
Seventh plastic optical component (corresponding to claim 7): In each of the above plastic optical components, when the plastic substrate has a curvature, an antireflection film is formed as a broadband film. This makes it possible to reduce interference color unevenness caused by a difference in film thickness distribution due to curvature dependency during film formation by sputtering, and interference color change caused by oblique incidence.

【0018】第8のプラスチック光学部品(請求項8に
対応): 上記の各プラスチック光学部品において、好
ましくは、上記プラスチック基材は眼鏡用のプラスチッ
クレンズ基材であり、かつ上記プラスチック基材の両面
に多層膜の構造を有する上記反射防止膜が成膜されるよ
うに構成される。
Eighth plastic optical component (corresponding to claim 8): In each of the above plastic optical components, preferably, the plastic substrate is a plastic lens substrate for spectacles, and both sides of the plastic substrate. The antireflection film having a multilayer structure is formed on the substrate.

【0019】第9のプラスチック光学部品(請求項9に
対応): 上記のプラスチック光学部品において、上記
反射防止膜は好ましくは10層で構成され、中間に位置
する第6層の低屈折率物質の膜厚を大きくした。
Ninth plastic optical component (corresponding to claim 9): In the plastic optical component described above, the antireflection film is preferably composed of 10 layers, and is formed of a low refractive index material of a sixth layer located in the middle. The film thickness was increased.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
を添付図面に基づいて説明する。
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0021】本実施形態では、プラスチック光学部品と
して眼鏡プラスチックレンズの例を挙げ、この眼鏡プラ
スチックレンズの両面に成膜される反射防止膜について
説明する。本発明による反射防止膜が施される光学部品
は、眼鏡プラスチックレンズが最適ではあるが、これに
限定されるものではない。
In the present embodiment, an example of an eyeglass plastic lens will be described as an example of a plastic optical component, and an antireflection film formed on both surfaces of the eyeglass plastic lens will be described. The optical component to which the antireflection film according to the present invention is applied is optimally a plastic lens for spectacles, but is not limited thereto.

【0022】図1は反射防止膜の膜構造の代表例を示す
模式的断面図であり、図2はスパッタ成膜装置の一例を
示す構成図である。反射防止膜はレンズの両面に施され
るが、図1では、説明の便宜上、一方の面の反射防止膜
のみの断面構造を示している。レンズの他方の面にも同
様な構造を有する反射防止膜が施されている。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a typical example of a film structure of an antireflection film, and FIG. 2 is a structural diagram showing an example of a sputter film forming apparatus. Although the anti-reflection film is applied to both surfaces of the lens, FIG. 1 shows a cross-sectional structure of only one surface of the anti-reflection film for convenience of explanation. The other surface of the lens is also provided with an antireflection film having a similar structure.

【0023】図1に示したプラスチック基材11は眼鏡
プラスチックレンズの基材である。プラスチック基材1
1の材質には、例えばCR−39(ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート重合体、nd=1.499)
が使用される。このプラスチック基材11の表面には、
当該表面の硬度を高める目的でハード膜12がコーティ
ングされている。ハード膜12には例えばコロイド状シ
リカ含有の有機ケイ素系樹脂が使用され、その組成物の
詳細については例えば特公平4−55615号公報に記
述されている。
The plastic substrate 11 shown in FIG. 1 is a substrate of a spectacle plastic lens. Plastic substrate 1
Examples of the material 1 include CR-39 (diethylene glycol bisallyl carbonate polymer, nd = 1.499)
Is used. On the surface of the plastic substrate 11,
The hard film 12 is coated for the purpose of increasing the hardness of the surface. For the hard film 12, for example, an organosilicon resin containing colloidal silica is used, and details of the composition are described in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-55615.

【0024】なお眼鏡プラスチックレンズのプラスチッ
ク基材は、通常、曲率を有し、湾曲した形状を有してい
る。しかし、図1では、説明の便宜上、平板の形態で示
されている。プラスチック基材が湾曲しているとき、そ
の上に成膜される膜は、一般的に基材表面に沿って湾曲
する。
The plastic substrate of the spectacle plastic lens usually has a curvature and a curved shape. However, in FIG. 1, it is shown in a flat plate form for convenience of explanation. When a plastic substrate is curved, the film deposited thereon generally curves along the substrate surface.

【0025】プラスチック基材11に施される反射防止
膜13は、本実施形態ではハード膜12がコーティング
されているので、当該ハード膜の上に成膜される。本実
施形態による反射防止膜13は、図1に示されるよう
に、例えば10層の多層膜として構成される。この反射
防止膜13で、プラスチック基材11の側に位置する最
下層の膜131は高屈折率膜である。高屈折率膜131
の上に、次に成膜されるのは、低屈折率膜132であ
る。その後、高屈折率膜と低屈折率膜の順序で、これら
の膜133〜140が順次に交互に繰り返して成膜され
る。その結果、第1層、第3層、第5層、第7層、第9
層の膜131,133,135,137,139が高屈
折率膜となり、第2層、第4層、第6層、第8層、第1
0層の膜132,134,136,138,140が低
屈折率膜となって積層され、多層膜構造を有する反射防
止膜13が形成される。
The antireflection film 13 applied to the plastic substrate 11 is formed on the hard film since the hard film 12 is coated in this embodiment. As shown in FIG. 1, the antireflection film 13 according to the present embodiment is configured as, for example, a multilayer film having 10 layers. In this antireflection film 13, the lowermost film 131 located on the side of the plastic substrate 11 is a high refractive index film. High refractive index film 131
Next, a low refractive index film 132 is formed. Thereafter, these films 133 to 140 are sequentially and alternately and repeatedly formed in the order of the high refractive index film and the low refractive index film. As a result, the first layer, the third layer, the fifth layer, the seventh layer, the ninth layer
The layers 131, 133, 135, 137, and 139 are high-refractive-index films, and include the second, fourth, sixth, eighth, and first layers.
The zero-layer films 132, 134, 136, 138, and 140 are stacked as low-refractive-index films to form the antireflection film 13 having a multilayer structure.

【0026】本実施形態の場合では、上記高屈折率膜を
形成する高屈折率物質は例えばジルコニウム(Zr)の
金属酸化物ZrO2 であり、上記低屈折率膜を形成する
低屈折率物質は例えばシリコン(Si)の金属酸化物S
iO2 である。高屈折率物質としては、その他に、チタ
ン(Ti)、タンタル(Ta)のいずれかの金属酸化物
を用いることができる。さらに高屈折率物質としてジル
コニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)
のうち2つ以上の合金からなる金属酸化物を用いること
もできる。以上の高屈折率膜と低屈折率膜は、後述のご
とくスパッタ法を利用して作製される。そのため、高屈
折率物質のターゲットと低屈折率物質のターゲットが用
意される。
In the case of this embodiment, the high refractive index material forming the high refractive index film is, for example, a metal oxide ZrO 2 of zirconium (Zr), and the low refractive index material forming the low refractive index film is For example, metal oxide S of silicon (Si)
iO 2 . As the high refractive index substance, any one of metal oxides of titanium (Ti) and tantalum (Ta) can be used. Further, zirconium (Zr), titanium (Ti), and tantalum (Ta) are used as high refractive index substances.
Of these, metal oxides composed of two or more alloys can also be used. The high-refractive-index film and the low-refractive-index film described above are produced by using a sputtering method as described later. Therefore, a target of a high refractive index substance and a target of a low refractive index substance are prepared.

【0027】また上記の高屈折率膜については、前述の
高屈折率物質とSiを含む混合膜として形成することも
可能である。高屈折率膜の中にSiを含ませることによ
り、膜の硬さ、耐久性等の性能を改善することができ
る。このような混合膜の作り方としては、例えば2つの
方法を用いることができる。第1の方法は、上記高屈折
率物質のターゲットの中にSiを含ませることである。
このようなターゲットを用いてスパッタ成膜を行うこと
によって、Siを含む高屈折率膜を堆積させることがで
きる。第2の方法は、上記高屈折率物質のターゲットと
は別にSiのターゲットを設けることである。高屈折率
物質のターゲットとSiのターゲットは、同時にスパッ
タされ、混合膜が形成される。Siのターゲットは低屈
折率物質のターゲットを併用することもできる。
The above high refractive index film can be formed as a mixed film containing the above high refractive index substance and Si. By including Si in the high refractive index film, it is possible to improve performance such as hardness and durability of the film. As a method of forming such a mixed film, for example, two methods can be used. A first method is to include Si in the high refractive index material target.
By performing sputter film formation using such a target, a high-refractive-index film containing Si can be deposited. A second method is to provide a Si target separately from the high refractive index material target. The target of the high refractive index material and the target of Si are sputtered simultaneously to form a mixed film. As the Si target, a low refractive index material target can be used in combination.

【0028】上述のように形成される多層膜構造の反射
防止膜13において、各層の高屈折率膜と低屈折率膜の
膜厚は、λを500nm(ナノメートル)とするとき、
好ましくは次のように設定される。
In the antireflection film 13 having a multilayer structure formed as described above, the thickness of the high refractive index film and the low refractive index film of each layer is as follows when λ is 500 nm (nanometer).
Preferably, it is set as follows.

【0029】第1層の高屈折率膜の膜厚は0.075λ
〜0.085λの範囲に含まれ、第2層の低屈折率膜の
膜厚は0.115λ〜0.130λの範囲に含まれ、第
3層の高屈折率膜の膜厚は0.177λ〜0.199λ
の範囲に含まれ、第4層の低屈折率膜の膜厚は0.10
1λ〜0.114λの範囲に含まれ、第5層の高屈折率
膜の膜厚は0.102λ〜0.115λの範囲に含ま
れ、第6層の低屈折率膜の膜厚は0.471λ〜0.5
11λの範囲に含まれ、第7層の高屈折率膜の膜厚は
0.102λ〜0.115λの範囲に含まれ、第8層の
低屈折率膜の膜厚は0.045λ〜0.060λの範囲
に含まれ、第9層の高屈折率膜の膜厚は0.270λ〜
0.304λの範囲に含まれ、第10層の低屈折率膜の
膜厚は0.244λ〜0.275λの範囲に含まれるよ
うに設定される。以上において、各層のもっとも好まし
い膜厚の値は、各範囲における中心値である。
The thickness of the high refractive index film of the first layer is 0.075λ.
To 0.085λ, the thickness of the low refractive index film of the second layer is included in the range of 0.115λ to 0.130λ, and the thickness of the high refractive index film of the third layer is 0.177λ. ~ 0.199λ
And the thickness of the low refractive index film of the fourth layer is 0.10
The thickness of the high refractive index film of the fifth layer is included in the range of 0.102λ to 0.115λ, and the thickness of the low refractive index film of the sixth layer is 0.1 nm. 471λ ~ 0.5
The thickness of the high refractive index film of the seventh layer is included in the range of 0.102λ to 0.115λ, and the thickness of the low refractive index film of the eighth layer is included in the range of 0.045λ to 0. 060λ, and the thickness of the ninth high refractive index film is 0.270λ to
The thickness of the low refractive index film of the tenth layer is set so as to be included in the range of 0.244λ to 0.275λ. In the above, the most preferable value of the film thickness of each layer is the center value in each range.

【0030】前述の反射防止膜13では、その総膜厚が
4800〜5800オングストロームの範囲に含まれる
ことが好ましく、さらに、そのうち低屈折率膜の総膜厚
が3500オングストローム以上となることが好まし
い。これは、反射防止膜として要求される硬さ、耐摩耗
性等の耐久性、膜としての密着性等を確保するためであ
る。本実施形態の場合には、特に、中間領域に位置する
第6層の低屈折率膜136の膜厚を、他の膜に比較して
相対的に厚くしており、これによって反射防止膜13に
おける必要な膜厚を達成し、硬さや耐久性等の要求条件
を満足させている。複数の低屈折率膜のうちに中間に位
置する膜を相対的に厚くしたのは、膜の持つストレス等
の観点でかかる構造が適しているという理由に基づく。
The total thickness of the anti-reflection film 13 is preferably in the range of 4800 to 5800 angstroms, and more preferably, the total thickness of the low refractive index film is 3500 angstroms or more. This is to ensure the required hardness of the antireflection film, durability such as abrasion resistance, adhesion of the film, and the like. In the case of the present embodiment, in particular, the thickness of the low refractive index film 136 of the sixth layer located in the intermediate region is made relatively thicker than the other films, whereby the antireflection film 13 is formed. The required film thickness is achieved, and the required conditions such as hardness and durability are satisfied. The reason why the middle film among the plurality of low refractive index films is relatively thick is based on the reason that such a structure is suitable from the viewpoint of the stress or the like of the film.

【0031】なお、反射防止膜13の多層の層数は上記
の10層に限定されない。多層膜構造を持つ反射防止膜
の層数は、膜の生産性の観点からいえば、少ない方が好
ましいが、要求される膜性能との関係で任意に定められ
るものである。
The number of layers of the anti-reflection film 13 is not limited to the above-mentioned 10 layers. The number of layers of the antireflection film having a multilayer film structure is preferably small from the viewpoint of film productivity, but is arbitrarily determined in relation to required film performance.

【0032】また通常の眼鏡プラスチックレンズのプラ
スチック基材では、前述の通り、曲率を有し、湾曲形状
を有する。湾曲したプラスチック基材に対して、図1に
示された多層膜構造を有する反射防止膜13を、後述す
るようにスパッタ法を用いて作製する場合、プラスチッ
ク基材の各部の曲率に依存して膜厚分布差が生じ、それ
に起因する干渉色ムラや、斜め入射による干渉色変化が
発生する。そこで、このような不具合を低減するため
に、前述の反射防止膜13は広帯域特性を有する膜とし
て設計されることが好ましい。
As described above, the plastic base material of the ordinary spectacle plastic lens has a curvature and a curved shape. When the antireflection film 13 having the multilayer structure shown in FIG. 1 is formed on a curved plastic substrate by using a sputtering method as described later, depending on the curvature of each part of the plastic substrate. A difference in film thickness distribution occurs, causing interference color unevenness and interference color change due to oblique incidence. Therefore, in order to reduce such a problem, it is preferable that the above-described antireflection film 13 is designed as a film having broadband characteristics.

【0033】次に、図2を参照して、スパッタ法を利用
した上記反射防止膜13の作製装置の一例と作製プロセ
スを概説する。図2はスパッタ成膜装置の要部の縦断面
を示す。このスパッタ成膜装置によれば、プラスチック
基材11の両面に同時に前述の多層膜構造を持つ反射防
止膜13を成膜することが可能である。
Next, with reference to FIG. 2, an example of an apparatus for manufacturing the anti-reflection film 13 using a sputtering method and a manufacturing process will be outlined. FIG. 2 shows a longitudinal section of a main part of the sputtering film forming apparatus. According to this sputtering film forming apparatus, it is possible to simultaneously form the antireflection film 13 having the above-mentioned multilayer film structure on both surfaces of the plastic substrate 11.

【0034】このスパッタ成膜装置は、大きく分ける
と、処理対象物を搬入するための導入室21と、プラス
チック基材11の両面に高屈折率膜と低屈折率膜を交互
に成膜する真空処理室(スパッタ成膜室)22と、予備
処理室23から構成される。導入室21と真空処理室2
2と予備処理室23の各々の間はゲートバルブ24,2
5で仕切られている。ゲートバルブ24,25は、対象
物を出し入れするときに、適宜なタイミングで開閉され
る。
This sputtering film forming apparatus can be roughly divided into an introduction chamber 21 for carrying an object to be processed, and a vacuum for alternately forming a high refractive index film and a low refractive index film on both surfaces of the plastic substrate 11. A processing chamber (sputter film forming chamber) 22 and a preliminary processing chamber 23 are provided. Introducing chamber 21 and vacuum processing chamber 2
2 and each of the pretreatment chambers 23 have gate valves 24, 2
It is divided by five. The gate valves 24 and 25 are opened and closed at appropriate timing when an object is taken in and out.

【0035】導入室21を経由してスパッタ成膜装置の
内部に搬入された基板ホルダ26は、ゲートバルブ24
を通って真空処理室22の内部にセットされる。図2に
おいて、基板ホルダ26を移送する搬入・搬出機構の図
示は省略されている。基板ホルダ26は例えば円板形状
である。基板ホルダ26には多数の基材保持孔26aが
形成されている。これらの孔26aには、眼鏡プラスチ
ックレンズ用のプラスチック基材11が配置されてい
る。基材保持孔26aは上側および下側に開口されてい
るので、基材保持孔26aに保持されたプラスチック基
材11は、基板ホルダ26の上側および下側の空間に臨
む。その結果、プラスチック基材11の両面に、スパッ
タ法によって前述の反射防止膜13が成膜される。
The substrate holder 26 carried into the sputtering film forming apparatus via the introduction chamber 21 is
And set inside the vacuum processing chamber 22. In FIG. 2, the illustration of the loading / unloading mechanism for transferring the substrate holder 26 is omitted. The substrate holder 26 has, for example, a disk shape. The substrate holder 26 has a large number of substrate holding holes 26a. The plastic substrate 11 for the spectacle plastic lens is disposed in these holes 26a. Since the base material holding holes 26a are opened upward and downward, the plastic base material 11 held in the base material holding holes 26a faces the spaces above and below the substrate holder 26. As a result, the antireflection film 13 is formed on both surfaces of the plastic substrate 11 by the sputtering method.

【0036】真空処理室22おけるスパッタ成膜の工程
は、より詳しくは、金属系薄膜を形成するスパッタ工程
と、このスパッタ工程で堆積した金属系薄膜を酸化物薄
膜へ変換する変換工程とから構成される。そのため、真
空処理室22には、装置構成上、スパッタ工程領域22
Aと変換工程領域22Bが備えられている。
More specifically, the step of sputtering film formation in the vacuum processing chamber 22 comprises a sputtering step of forming a metal-based thin film and a conversion step of converting the metal-based thin film deposited in this sputtering step into an oxide thin film. Is done. Therefore, in the vacuum processing chamber 22, the sputtering process area 22
A and a conversion process area 22B are provided.

【0037】真空処理室22において、基板ホルダ26
は、その中心部を上側支持部材27と下側支持部材28
によって支持され、水平状態で配置されている。上側支
持部材27と下側支持部材28は、図示しない油圧シリ
ンダ等で上下に駆動され、かつ内蔵されるモータ回転機
構で回転自在である。プラスチック基材11に反射防止
膜13を成膜するときには、上側支持部材27と下側支
持部材28の回転動作によって、基板ホルダ26は所要
回転速度で回転状態に保たれる。従って、基板ホルダ2
6に配置された多数のプラスチック基材11は、スパッ
タ工程領域22Aと変換工程領域22Bを通過し、その
間に、プラスチック基材11は、スパッタ工程領域22
Aでスパッタ成膜処理を受け、変換工程領域22Bで変
換処理を受けることになる。
In the vacuum processing chamber 22, the substrate holder 26
Are connected to the upper support member 27 and the lower support member 28.
And is arranged horizontally. The upper support member 27 and the lower support member 28 are driven vertically by a hydraulic cylinder (not shown) or the like, and are rotatable by a built-in motor rotation mechanism. When the anti-reflection film 13 is formed on the plastic substrate 11, the substrate holder 26 is kept in a rotating state at a required rotation speed by the rotation of the upper support member 27 and the lower support member 28. Therefore, the substrate holder 2
6 pass through the sputter process area 22A and the conversion process area 22B, during which the plastic base material 11
A receives the sputter film forming process, and receives the conversion process in the conversion process area 22B.

【0038】スパッタ工程領域22Aでは、基板ホルダ
26の上方と下方にスパッタ装置が配備されている。各
スパッタ装置は、ターゲット31と、スパッタ電極32
と、スパッタ電源33と、スパッタガスボンベ34と、
マスフロー35から構成される。基板ホルダ26が回転
し、プラスチック基材11が上下のターゲット31の間
にくると、スパッタ状態にあるターゲット31から発し
たターゲット物質がプラスチック基材11の両面に堆積
し、プラスチック基材11の両面にターゲット物質の薄
膜が形成される。このとき、マスフロー35を介してス
パッタガスボンベ34によりアルゴンガス等のスパッタ
ガスが導入されており、スパッタ雰囲気が調整される。
In the sputtering process area 22A, a sputtering device is provided above and below the substrate holder 26. Each sputtering apparatus includes a target 31 and a sputter electrode 32.
A sputtering power supply 33, a sputtering gas cylinder 34,
It is composed of a mass flow 35. When the substrate holder 26 rotates and the plastic substrate 11 comes between the upper and lower targets 31, the target material emitted from the target 31 in a sputtered state is deposited on both surfaces of the plastic substrate 11, and both surfaces of the plastic substrate 11 are deposited. Then, a thin film of the target material is formed. At this time, a sputtering gas such as an argon gas is introduced from the sputtering gas cylinder 34 through the mass flow 35, and the sputtering atmosphere is adjusted.

【0039】真空処理室22におけるスパッタ成膜で
は、前述した反射防止膜13を作製するため、上記のス
パッタ工程と後述する変換工程とに基づいて、第1層に
高屈折率膜である金属酸化物ZrO2 が成膜され、第2
層に低屈折率膜である金属酸化物SiO2 が成膜され、
その後、第10層まで高屈折率膜ZrO2 、低屈折率膜
SiO2 が交互に成膜される。スパッタ工程領域22A
では、各金属酸化物の元となる金属が堆積される。第1
層の高屈折率膜131を形成するための最初のスパッタ
工程では、ターゲット31には、ジルコニウムZrから
なるターゲットが用意されて、プラスチック基材11の
両面にはZrが成膜される。次に、第2層の低屈折率膜
132を形成するためのスパッタ工程では、シリコンS
iからなる他のターゲットに交換されて、スパッタが行
われ、プラスチック基材11の両面にはSiが成膜され
る。このようにターゲットを交互に高屈折率膜用物質ま
たは低屈折率膜用物質に交換することにより、高屈折率
膜と低屈折率膜を交互に積層させて、反射防止膜13を
作製することができる。なお図2においてターゲットを
交換する機構の図示は省略されている。
In the sputtering film formation in the vacuum processing chamber 22, the first layer is formed of a metal oxide film having a high refractive index on the basis of the above-mentioned sputtering process and a conversion process to be described later in order to form the anti-reflection film 13 described above. The material ZrO 2 is deposited, and the second
A metal oxide SiO 2 that is a low refractive index film is formed on the layer,
Thereafter, high refractive index films ZrO 2 and low refractive index films SiO 2 are alternately formed up to the tenth layer. Sputter process area 22A
In, a metal that is a source of each metal oxide is deposited. First
In the first sputtering step for forming the high-refractive-index film 131, a target made of zirconium Zr is prepared as the target 31, and Zr is formed on both surfaces of the plastic substrate 11. Next, in the sputtering process for forming the low refractive index film 132 of the second layer, silicon S
The target is replaced with another target made of i, sputtering is performed, and Si is formed on both surfaces of the plastic substrate 11. By alternately replacing the target with a substance for a high-refractive-index film or a substance for a low-refractive-index film in this manner, the high-refractive-index film and the low-refractive-index film are alternately laminated to produce the antireflection film 13. Can be. In FIG. 2, a mechanism for exchanging the target is not shown.

【0040】変換工程領域22Bでは、基板ホルダ26
の上方と下方に誘導結合型プラズマ発生装置が配備され
ている。誘導結合型プラズマ発生装置は、高周波放電室
41と、高周波コイル42と、マッチングボックス43
と、高周波電源44と、反応性ガスボンベ45と、マス
フロー46から構成される。基板ホルダ26が回転し、
処理対象のプラスチック基材11が上下の誘導結合型プ
ラズマ発生装置の間にくると、反応性ガスボンベ45か
らマスフロー46を介して導入された酸素のプラズマに
プラスチック基材11が曝され、スパッタ工程で成膜さ
れた金属(ZrまたはSi)が酸化され、酸化物(Zr
2 またはSiO2 )に変換される。
In the conversion process area 22B, the substrate holder 26
An inductively-coupled plasma generator is provided above and below. The inductively coupled plasma generator includes a high-frequency discharge chamber 41, a high-frequency coil 42, a matching box 43.
, A high-frequency power supply 44, a reactive gas cylinder 45, and a mass flow 46. The substrate holder 26 rotates,
When the plastic substrate 11 to be treated comes between the upper and lower inductively coupled plasma generators, the plastic substrate 11 is exposed to the plasma of oxygen introduced from the reactive gas cylinder 45 via the mass flow 46, and is subjected to a sputtering process. The formed metal (Zr or Si) is oxidized to form an oxide (Zr
O 2 or SiO 2 ).

【0041】上記のごとく、真空処理室22で、内部に
回転自在にセットされた基板ホルダ26上の多数のプラ
スチック基材11の両面に対して、ターゲットを交換し
ながらスパッタ工程と変換工程を繰り返すことにより、
プラスチック基材11の両面に、図1に示したZrO2
(高屈折率膜)とSiO2 (低屈折率膜)からなる多層
膜構造を有する反射防止膜13が形成される。
As described above, in the vacuum processing chamber 22, the sputtering process and the conversion process are repeated while exchanging the targets on both surfaces of the large number of plastic substrates 11 on the substrate holder 26 rotatably set therein. By doing
The ZrO 2 shown in FIG.
An antireflection film 13 having a multilayer structure composed of a (high-refractive-index film) and SiO 2 (low-refractive-index film) is formed.

【0042】なお真空処理室22の内部には、上記のス
パッタ工程領域22Aと変換工程領域22Bを分離する
ため遮蔽部材47が設けられている。
A shielding member 47 is provided inside the vacuum processing chamber 22 to separate the above-mentioned sputtering process area 22A from the conversion process area 22B.

【0043】前述したスパッタ成膜装置において、スパ
ッタ工程における高屈折率膜であるZrO2 の成膜条件
の一例は、次の通りである。
In the above-mentioned sputtering film forming apparatus, an example of a film forming condition of ZrO 2 which is a high refractive index film in the sputtering step is as follows.

【0044】(1)スパッタガス:アルゴンガス(A
r)が使用され、380〜580cc/分の範囲内の流量
が供給される。 (2)酸化用ガス:酸素ガス(O2 )が46〜60cc/
分の範囲内の流量で供給される。 (3)成膜時の真空度:8.7×10-3Torrである。 (4)スパッタ出力:直流電力が3.3〜3.7kWの
範囲内で供給される。 (5)酸化ガン出力:高周波(RF)電力が0.4kW
供給される。 (6)成膜レート:320〜360オングストローム/
分である。
(1) Sputter gas: Argon gas (A
r) is used to provide a flow rate in the range of 380-580 cc / min. (2) Oxidizing gas: Oxygen gas (O 2 ) is 46 to 60 cc /
It is supplied at a flow rate in the range of minutes. (3) Degree of vacuum during film formation: 8.7 × 10 −3 Torr. (4) Sputter output: DC power is supplied within a range of 3.3 to 3.7 kW. (5) Oxidation gun output: RF power is 0.4 kW
Supplied. (6) Film formation rate: 320 to 360 angstroms /
Minutes.

【0045】またスパッタ成膜装置で、スパッタ工程に
おける低屈折率膜であるSiO2 の成膜条件の一例は、
次の通りである。
In a sputtering film forming apparatus, one example of a film forming condition of SiO 2 which is a low refractive index film in a sputtering step is as follows.
It is as follows.

【0046】(1)スパッタガス:アルゴンガス(A
r)が使用され、110〜190cc/分の範囲内の流量
が供給される。 (2)酸化用ガス:酸素ガス(O2 )が64〜70cc/
分の範囲内の流量で供給される。 (3)成膜時の真空度:2.4×10-3Torrである。 (4)スパッタ出力:直流電力が5.1〜5.3kWの
範囲内で供給され (5)酸化ガン出力:高周波(RF)電力が0.4kW
供給される。 (6)成膜レート:340〜380オングストローム/
分である。
(1) Sputter gas: Argon gas (A
r) is used and a flow rate in the range of 110-190 cc / min is provided. (2) Oxidizing gas: Oxygen gas (O 2 ) is 64 to 70 cc /
It is supplied at a flow rate in the range of minutes. (3) The degree of vacuum during film formation: 2.4 × 10 −3 Torr. (4) Sputter output: DC power is supplied within the range of 5.1 to 5.3 kW (5) Oxidation gun output: High frequency (RF) power is 0.4 kW
Supplied. (6) Film formation rate: 340 to 380 angstroms /
Minutes.

【0047】以上のようにして得られた反射防止膜13
を有する眼鏡プラスチックレンズにおける当該反射防止
膜について、成膜後初期の膜性能と、恒温恒湿1ヶ月後
の膜性能とを以下に示す。
The antireflection film 13 obtained as described above
Regarding the antireflection film in the spectacle plastic lens having the following, the film performance at the initial stage after film formation and the film performance after one month of constant temperature and humidity are shown below.

【0048】上記膜性能では、耐摩耗性、密着性、耐ア
ルカリ性、耐熱性、耐酸性、耐人工汗、干渉色につい
て、下記の要領で評価、測定した。
In the above film performance, abrasion resistance, adhesion, alkali resistance, heat resistance, acid resistance, artificial sweat resistance, and interference color were evaluated and measured in the following manner.

【0049】(1)耐摩耗性:スチールウールテストが
行われた。このテストでは、スチールウール#0000
で反射防止膜を擦って傷のつく程度を目視で判断した。 (2)密着性:反射防止膜を有したプラスチックレンズ
の表面を1mm間隔で100目にクロスカットし、セロ
ファンテープを強く貼り付けた後、急速に剥がして、多
層反射防止膜の剥離の有無を調べた。 (3)耐アルカリ性:10wt% NaOH水溶液に、反射防止
膜を有したプラスチックレンズを1時間浸漬し、多層反
射防止膜の表面の侵食状態を観察した。 (4)耐熱性:反射防止膜を有したプラスチックレンズ
をオーブンに1時間入れて加熱し、クラックの発生の有
無を調べた。加熱温度は、70℃より始め、5℃ずつ上
げて、クラックが発生する温度により優劣を判定した。 (5)耐酸性:10wt% HCl 水溶液および10wt% H 2
SO4 水溶液に、反射防止膜を備えたプラスチックレンズ
を1時間浸漬し、多層反射防止膜の表面の侵食状態を観
察した。 (6)耐人工汗:NaCl、Na2 S 、NH4 、乳酸を含む人工
的に作られた汗に、反射防止膜を備えたプラスチックレ
ンズを20℃の温度で24時間浸漬し、多層反射防止膜
の表面の侵食状態を観察した。 (7)干渉色:蛍光燈による反射光を目視で観察した。
(1) Abrasion resistance: A steel wool test was performed. In this test, steel wool # 0000
And the extent to which the antireflection film was scratched was visually judged. (2) Adhesion: The surface of the plastic lens having the anti-reflection film was cross-cut at 100 mm intervals at 1 mm intervals, and cellophane tape was strongly adhered. Examined. (3) Alkali resistance: A plastic lens having an antireflection film was immersed in a 10 wt% aqueous NaOH solution for 1 hour, and the erosion state of the surface of the multilayer antireflection film was observed. (4) Heat resistance: A plastic lens having an anti-reflection film was placed in an oven for 1 hour and heated to check for cracks. The heating temperature was started from 70 ° C. and increased in 5 ° C. increments. (5) Acid resistance: 10 wt% HCl solution and 10 wt% H 2
A plastic lens provided with an antireflection film was immersed in an aqueous solution of SO 4 for 1 hour, and the erosion state of the surface of the multilayer antireflection film was observed. (6) Anti-artificial sweat: A plastic lens with an anti-reflective coating is immersed in artificially made sweat containing NaCl, Na 2 S, NH 4 , and lactic acid at a temperature of 20 ° C. for 24 hours to form a multilayer anti-reflection. The erosion state of the film surface was observed. (7) Interference color: Light reflected by a fluorescent lamp was visually observed.

【0050】上記の評価・測定に基づく上記反射防止膜
13の成膜後初期の膜性能は、次の通りである。 (1)耐摩耗性は、ほとんど傷が入らず、問題がなかっ
た。 (2)密着性は、100目のすべてで剥離が認められな
かった。 (3)耐アルカリ性は、ほとんどダメージがなく、問題
がなかった。 (4)耐熱性は、75℃でクラックが発生した。 (5)耐酸性は、変化が認められず、問題がなかった。 (6)耐人工汗は、変化が認められず、問題がなかっ
た。 (7)干渉色はグリーンであった。
The initial film performance after the formation of the antireflection film 13 based on the above evaluation and measurement is as follows. (1) The abrasion resistance was hardly scratched and had no problem. (2) Regarding the adhesion, no peeling was observed at all of the 100 stitches. (3) Alkali resistance showed almost no damage and no problem. (4) Regarding heat resistance, cracks occurred at 75 ° C. (5) No change was observed in acid resistance, and there was no problem. (6) As for the artificial sweat resistance, no change was observed and there was no problem. (7) The interference color was green.

【0051】さらに、上記の評価・測定に基づく上記反
射防止膜13の恒温恒湿1ヶ月後の膜性能は、次の通り
である。 (1)耐摩耗性は、ほとんど傷が入らず、問題がなかっ
た。 (2)密着性は、100目のすべてで剥離が認められな
かった。 (3)耐アルカリ性は、ほとんどダメージがなく、問題
がなかった。 (4)耐熱性は、60℃でクラックが発生した。 (5)耐酸性は、変化が認められず、問題がなかった。 (6)耐人工汗は、変化が認められず、問題がなかっ
た。 (7)グリーン系の干渉色に変化が認められず、問題が
なかった。
Further, the film performance of the antireflection film 13 after one month of constant temperature and constant humidity based on the above evaluation and measurement is as follows. (1) The abrasion resistance was hardly scratched and had no problem. (2) Regarding the adhesion, no peeling was observed at all of the 100 stitches. (3) Alkali resistance showed almost no damage and no problem. (4) As for heat resistance, cracks occurred at 60 ° C. (5) No change was observed in acid resistance, and there was no problem. (6) As for the artificial sweat resistance, no change was observed and there was no problem. (7) No change was observed in the green interference color, and there was no problem.

【0052】また図3は反射防止膜13の分光反射率曲
線の測定例を示す。この分光反射率曲線から明らかなよ
うに、およそ420〜740nmの広い波長範囲で低い
反射率が達成され、広帯域の反射防止膜が実現されてい
る。また特におよそ480〜550nmの波長範囲では
反射率が相対的に高くなっている。
FIG. 3 shows a measurement example of a spectral reflectance curve of the antireflection film 13. As is apparent from this spectral reflectance curve, a low reflectance is achieved in a wide wavelength range of about 420 to 740 nm, and a broadband antireflection film is realized. In particular, the reflectance is relatively high in a wavelength range of about 480 to 550 nm.

【0053】さらに本発明による反射防止膜では、主波
長範囲を480〜550nmとし、刺激純度範囲を10
〜30%とし、視感反射率を0.7〜1.8%とするこ
とによって、干渉色をグリーン系としている。ここで
「主波長」とは、単色表示によって色度を表す要素であ
り、色度図上において色度座標で表される点と光源を結
んだ線がスペクトル軌跡と交わる点に対応する波長をい
い、「刺激純度」とは、その主波長の点が、光源が0か
らスペクトル軌跡との光点にいかに近いかを表すもので
あり、近づくほど鮮やかな色となる。反射物体の色を表
示する場合、一般的に視感反射率と色度が用いられる。
さらに色度は、単色表示する場合には、上記の主波長と
刺激純度が用いられる。なお視感反射率は、物体から反
射する光束と物体に入射する光束の比で表される。
Further, in the antireflection film according to the present invention, the dominant wavelength range is 480 to 550 nm and the stimulus purity range is 10 nm.
By setting the luminous reflectance to 0.7 to 1.8%, the interference color is made green. Here, the “dominant wavelength” is an element representing chromaticity by monochromatic display, and a wavelength corresponding to a point where a line connecting a point represented by chromaticity coordinates and a light source on a chromaticity diagram intersects a spectrum locus. In other words, the "stimulus purity" indicates how close the point of the dominant wavelength is from the light source to a light point on the spectrum locus from 0, and the closer the point, the brighter the color. When displaying the color of a reflective object, luminous reflectance and chromaticity are generally used.
Further, when the chromaticity is displayed in a single color, the above dominant wavelength and stimulus purity are used. The luminous reflectance is represented by a ratio of a light beam reflected from the object to a light beam incident on the object.

【0054】図3に示した分光反射率曲線を有する本実
施形態による反射防止膜では、主波長は508nm、刺
激純度は22%、視感反射率は0.963%であり、グ
リーン系の干渉色を呈していた。
In the antireflection film according to the present embodiment having the spectral reflectance curve shown in FIG. 3, the main wavelength is 508 nm, the stimulus purity is 22%, the luminous reflectance is 0.963%, and the green interference It had a color.

【0055】上記では、反射防止膜をスパッタ法を用い
て成膜する方法を説明したが、同様な多層膜構造を有す
る反射防止膜は、その他の方法、例えば真空蒸着法やC
VD法等で作製することもできる。
In the above description, a method of forming an anti-reflection film by using a sputtering method has been described. However, an anti-reflection film having a similar multilayer structure can be formed by another method, for example, a vacuum deposition method or a C method.
It can also be manufactured by a VD method or the like.

【0056】また上記実施形態では眼鏡プラスチックレ
ンズ基材の両面に多層膜構造の反射防止膜が施された
が、他のプラスチック光学部品の場合では、一方の面の
みに上記反射防止膜が施されることも可能である。
In the above embodiment, the antireflection film having a multilayer structure is applied to both surfaces of the spectacle plastic lens substrate. In the case of other plastic optical parts, the antireflection film is applied only to one surface. It is also possible.

【0057】さらに上記の実施形態では、反射防止膜1
3の第1層が高屈折率膜131となっていたが、厳密に
第1層である必要はない。例えば、ハード膜12と高屈
折率膜膜131の間に他の膜を存在させることも可能で
ある。従って高屈折率膜131は、反射防止膜13にお
いて実質的に第1層であればよい。
Further, in the above embodiment, the anti-reflection film 1
Although the first layer of No. 3 was the high refractive index film 131, it need not be strictly the first layer. For example, another film may be present between the hard film 12 and the high-refractive-index film 131. Therefore, the high-refractive-index film 131 may be substantially the first layer in the antireflection film 13.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、主にスパッタ法を利用して、眼鏡プラスチックレ
ンズ等のプラスチック基材の例えば両面に、第1層を高
屈折率物質、第2層を低屈折率物質とし、高屈折率物質
と低屈折率物質を交互に積層した多層膜構造の反射防止
膜を成膜し、この反射防止膜で中間の低屈折率物質の膜
厚を相対的に大きくしたため、高い評価の膜性能を有す
る反射防止膜を実現することができる。また上記反射防
止膜を広帯域性の膜として成膜したため、プラスチック
基材が曲率を有するときに、スパッタ法による成膜の際
の曲率依存による膜厚分布差に起因する干渉色ムラと、
斜め入射による干渉色変化とを低減することができる。
さらに、グリーン系の干渉色が安定して得られ、眼生理
学、審美感に優れた商業的に価値の高い反射防止膜を作
ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the first layer is made of a high-refractive-index material on, for example, both surfaces of a plastic substrate such as an eyeglass plastic lens by mainly utilizing a sputtering method. The second layer is made of a low refractive index material, and an antireflection film having a multilayer structure in which a high refractive index material and a low refractive index material are alternately laminated is formed. Is relatively large, an antireflection film having a highly evaluated film performance can be realized. Further, since the antireflection film is formed as a film having a wide band, when the plastic substrate has a curvature, interference color unevenness caused by a difference in film thickness distribution due to curvature dependence during film formation by a sputtering method,
Interference color change due to oblique incidence can be reduced.
Further, a green interference color can be stably obtained, and a commercially valuable antireflection film having excellent ocular physiology and aesthetic feeling can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る反射防止膜の構造を示す断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view showing a structure of an antireflection film according to the present invention.

【図2】本発明に係る反射防止膜を作製するスパッタ成
膜装置の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a sputtering film forming apparatus for producing an antireflection film according to the present invention.

【図3】本発明に係る反射防止膜の分光反射率曲線を示
すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a spectral reflectance curve of the antireflection film according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 プラスチック基材 13 反射防止膜 22 真空処理室(スパッタ成膜室) 26 基板ホルダ 31 ターゲット DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Plastic base material 13 Anti-reflection film 22 Vacuum processing chamber (sputter deposition chamber) 26 Substrate holder 31 Target

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチック基材の少なくとも一方の面
に反射防止膜を施してなるプラスチック光学部品であ
り、 前記反射防止膜は、前記プラスチック基材側の第1層を
実質的に高屈折率物質としかつその次の層を低屈折率物
質として、これらの高屈折率物質と低屈折率物質を交互
に積層して成膜された多層膜であり、さらに、その主波
長範囲が480〜550nm、刺激純度範囲が10〜3
0%、視感反射率が0.7〜1.8%であってグリーン
系の干渉色を呈する、 ことを特徴とする反射防止膜を有するプラスチック光学
部品。
1. A plastic optical component in which an antireflection film is applied to at least one surface of a plastic substrate, wherein the antireflection film substantially changes the first layer on the plastic substrate side to a high refractive index material. And a multilayer film formed by alternately laminating these high-refractive-index substances and low-refractive-index substances with the next layer as a low-refractive-index substance, and further, the main wavelength range is 480 to 550 nm, Stimulation purity range 10-3
A plastic optical component having an antireflection film, wherein the plastic optical component has a luminous reflectance of 0.7% to 1.8% and exhibits a green interference color.
【請求項2】 プラスチック基材の少なくとも一方の面
に反射防止膜を施してなるプラスチック光学部品であ
り、 前記反射防止膜は、前記プラスチック基材側の第1層を
実質的に高屈折率物質としかつその次の層を低屈折率物
質として、これらの高屈折率物質と低屈折率物質を交互
に積層して成膜された多層膜であり、 前記多層膜上で中間領域に位置する前記低屈折率物質の
膜厚を、必要な硬さおよび耐久性が得られるように、相
対的に大きくした、 ことを特徴とする反射防止膜を有するプラスチック光学
部品。
2. A plastic optical component comprising at least one surface of a plastic substrate provided with an anti-reflection film, wherein the anti-reflection film substantially changes the first layer on the plastic substrate side to a high refractive index substance. And the next layer as a low refractive index material, a multilayer film formed by alternately laminating these high refractive index material and low refractive index material, wherein the multilayer film is located in an intermediate region on the multilayer film A plastic optical component having an antireflection film, characterized in that the thickness of the low refractive index material is relatively increased so as to obtain required hardness and durability.
【請求項3】 前記高屈折率物質はZr,Ti,Taの
いずれか、またはこれらのうち2つ以上の合金からなる
ターゲットを用いてスパッタ法で成膜された金属酸化物
であり、前記低屈折率物質はSiのターゲットを用いて
スパッタ法で成膜された金属酸化物であることを特徴と
する請求項1または2記載の反射防止膜を有するプラス
チック光学部品。
3. The high-refractive-index substance is a metal oxide formed by a sputtering method using a target made of any one of Zr, Ti, and Ta, or an alloy of two or more thereof. 3. The plastic optical component having an antireflection film according to claim 1, wherein the refractive index material is a metal oxide formed by a sputtering method using a Si target.
【請求項4】 前記高屈折率物質の前記ターゲットはS
iを含むことを特徴とする請求項3記載の反射防止膜を
有するプラスチック光学部品。
4. The method according to claim 1, wherein the target of the high refractive index material is S
The plastic optical component having an antireflection film according to claim 3, wherein i is included.
【請求項5】 前記高屈折率物質の成膜時に前記高屈折
率物質の前記ターゲットとは別にSiのターゲットを設
け、2種類の前記ターゲットを同時にスパッタして前記
高屈折率物質を混合膜として成膜したことを特徴とする
請求項3記載の反射防止膜を有するプラスチック光学部
品。
5. When forming the high-refractive-index substance, a Si target is provided separately from the target of the high-refractive-index substance, and two kinds of the targets are simultaneously sputtered to form the high-refractive-index substance as a mixed film. 4. A plastic optical component having an antireflection film according to claim 3, wherein the plastic optical component is formed.
【請求項6】 前記反射防止膜の総膜厚が4800〜5
800オングストロームの範囲に含まれ、そのうち前記
低屈折率物質の総膜厚が3500オングストローム以上
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に
記載の反射防止膜を有するプラスチック光学部品。
6. The total thickness of the antireflection film is 4800 to 5
The plastic optical component having an anti-reflection coating according to any one of claims 1 to 3, wherein the plastic optical component is included in a range of 800 angstroms, wherein the total thickness of the low refractive index material is 3500 angstroms or more. .
【請求項7】 前記プラスチック基材が曲率を有すると
き、前記反射防止膜を広帯域性の膜として形成し、スパ
ッタ法成膜の際の曲率依存による膜厚分布差に起因する
干渉色ムラと斜め入射による干渉色変化とを低減したこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反
射防止膜を有するプラスチック光学部品。
7. When the plastic substrate has a curvature, the anti-reflection film is formed as a film having a wide band, and interference color unevenness caused by a difference in film thickness distribution due to curvature dependence during film formation by sputtering is oblique. The plastic optical component having an anti-reflection film according to claim 1, wherein a change in interference color due to incidence is reduced.
【請求項8】 前記プラスチック基材は眼鏡プラスチッ
クレンズ基材であり、前記プラスチック基材の両面に前
記反射防止膜が成膜されることを特徴とする請求項1〜
3,7のいずれか1項に記載の反射防止膜を有するプラ
スチック光学部品。
8. The plastic substrate is an eyeglass plastic lens substrate, and the antireflection film is formed on both surfaces of the plastic substrate.
A plastic optical component having the antireflection film according to any one of claims 3 and 7.
【請求項9】 前記反射防止膜は10層で構成され、中
間に位置する第6層の前記低屈折率物質の膜厚を大きく
したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記
載の反射防止膜を有するプラスチック光学部品。
9. The anti-reflection film according to claim 1, wherein the anti-reflection film is composed of ten layers, and the thickness of the low-refractive-index substance of the sixth layer located in the middle is increased. A plastic optical component having the anti-reflection film according to claim 1.
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006083404A (en) * 2004-09-14 2006-03-30 Showa Shinku:Kk Sputtering apparatus for depositing multi-layered film, and method of controlling the film thickness
GB2431931A (en) * 2005-11-04 2007-05-09 Fu Ching Technologies Co Ltd Anti-reflection layer and manufacturing method and apparatus
JP2007127725A (en) * 2005-11-01 2007-05-24 Canon Inc Antireflection film
JP2007131896A (en) * 2005-11-09 2007-05-31 Ulvac Japan Ltd Sputtering system
KR100813460B1 (en) 2006-07-14 2008-03-13 (주)해빛정보 Method for fabricating optical devices by multi layer coating technology
WO2009041580A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Nikon-Essilor Co., Ltd. Optical component and manufacturing method of the optical component
US7852562B2 (en) 2005-02-28 2010-12-14 Nalux Co., Ltd. Optical element with laser damage suppression film
JP2011102436A (en) * 2010-12-24 2011-05-26 Shincron:Kk Thin film deposition method and thin film deposition system
WO2012043218A1 (en) 2010-09-29 2012-04-05 株式会社ニコン・エシロール Optical component and method for producing same
JP2012173639A (en) * 2011-02-23 2012-09-10 Tokai Kogaku Kk Endurance test method and device for optical product
US8263172B2 (en) 2006-08-25 2012-09-11 Nalux Co., Ltd. Method for producing optical element having multi-layered film
WO2013122253A1 (en) 2012-02-17 2013-08-22 株式会社ニコン・エシロール Optical component, spectacle lens, and manufacturing methods therefor
WO2014050930A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 株式会社ニコン・エシロール Optical component and method for producing same
WO2014069250A1 (en) 2012-11-05 2014-05-08 株式会社ニコン・エシロール Optical component, method for producing optical component, and method for quantitatively determining ghost light
JP2014199293A (en) * 2013-03-29 2014-10-23 Hoya株式会社 Spectacle lens evaluation method and production method
CN106873064A (en) * 2017-04-27 2017-06-20 深圳金曜来科技有限公司 Colorful film
JP2018503129A (en) * 2015-01-07 2018-02-01 ローデンシュトック ゲーエムベーハー Layer system and optical element comprising the layer system

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006083404A (en) * 2004-09-14 2006-03-30 Showa Shinku:Kk Sputtering apparatus for depositing multi-layered film, and method of controlling the film thickness
JP4530776B2 (en) * 2004-09-14 2010-08-25 株式会社昭和真空 Multilayer film forming sputtering apparatus and film thickness control method thereof
US7852562B2 (en) 2005-02-28 2010-12-14 Nalux Co., Ltd. Optical element with laser damage suppression film
JP2007127725A (en) * 2005-11-01 2007-05-24 Canon Inc Antireflection film
GB2431931A (en) * 2005-11-04 2007-05-09 Fu Ching Technologies Co Ltd Anti-reflection layer and manufacturing method and apparatus
JP2007131896A (en) * 2005-11-09 2007-05-31 Ulvac Japan Ltd Sputtering system
KR100813460B1 (en) 2006-07-14 2008-03-13 (주)해빛정보 Method for fabricating optical devices by multi layer coating technology
US8263172B2 (en) 2006-08-25 2012-09-11 Nalux Co., Ltd. Method for producing optical element having multi-layered film
US8189261B2 (en) 2007-09-28 2012-05-29 Nikon-Essilor Co., Ltd. Optical component and method for manufacturing the same
WO2009041580A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Nikon-Essilor Co., Ltd. Optical component and manufacturing method of the optical component
JP5248516B2 (en) * 2007-09-28 2013-07-31 株式会社ニコン・エシロール Optical component and method of manufacturing optical component
EP2624044A4 (en) * 2010-09-29 2016-03-30 Nikon Essilor Co Ltd Optical component and method for producing same
WO2012043218A1 (en) 2010-09-29 2012-04-05 株式会社ニコン・エシロール Optical component and method for producing same
US10371867B2 (en) 2010-09-29 2019-08-06 Nikon-Essilor Co., Ltd. Optical component and method of manufacturing the same
JP2011102436A (en) * 2010-12-24 2011-05-26 Shincron:Kk Thin film deposition method and thin film deposition system
JP2012173639A (en) * 2011-02-23 2012-09-10 Tokai Kogaku Kk Endurance test method and device for optical product
WO2013122253A1 (en) 2012-02-17 2013-08-22 株式会社ニコン・エシロール Optical component, spectacle lens, and manufacturing methods therefor
JP5625127B2 (en) * 2012-02-17 2014-11-12 株式会社ニコン・エシロール Optical component for spectacle lens and manufacturing method thereof
WO2014050930A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 株式会社ニコン・エシロール Optical component and method for producing same
WO2014069250A1 (en) 2012-11-05 2014-05-08 株式会社ニコン・エシロール Optical component, method for producing optical component, and method for quantitatively determining ghost light
JP2014199293A (en) * 2013-03-29 2014-10-23 Hoya株式会社 Spectacle lens evaluation method and production method
JP2018503129A (en) * 2015-01-07 2018-02-01 ローデンシュトック ゲーエムベーハー Layer system and optical element comprising the layer system
US10459124B2 (en) 2015-01-07 2019-10-29 Rodenstock Gmbh Layer system and optical element comprising a layer system
JP2019207424A (en) * 2015-01-07 2019-12-05 ローデンシュトック ゲーエムベーハー Layer system and optical element comprising layer system
CN106873064A (en) * 2017-04-27 2017-06-20 深圳金曜来科技有限公司 Colorful film

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