JPH11306867A - Transparent conductive film and manufacture thereof - Google Patents

Transparent conductive film and manufacture thereof

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JPH11306867A
JPH11306867A JP11401998A JP11401998A JPH11306867A JP H11306867 A JPH11306867 A JP H11306867A JP 11401998 A JP11401998 A JP 11401998A JP 11401998 A JP11401998 A JP 11401998A JP H11306867 A JPH11306867 A JP H11306867A
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JP
Japan
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conductive film
transparent conductive
layer
discharge treatment
uneven surface
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Application number
JP11401998A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Sakai
祥浩 坂井
Masato Koyama
正人 小山
Masaaki Kikkai
正彰 吉開
Akira Suzuki
彰 鈴木
Akiyoshi Nakajima
明美 中島
Yuichiro Harada
祐一郎 原田
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film having high contact of a transparent high polymer substrate with a transparent conductive film layer, and good visibility, and where Newton's rings are not generated. SOLUTION: This transparent conductive film is composed of a transparent high polymer substrate 1 on one of the main surfaces of which an irregularities surface layer 2 is formed, and where an irregularities surface 2a of the uneven surface layer 2 is applied with corona discharge treatment and/or glow discharge treatment, a zinc oxide layer 3 laminated on the uneven surface 2a applied with the corona discharge treatment and/or the glow discharge treatment, and a transparent conductive film layer 4 laminated on the zinc oxide layer 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明導電性フィル
ム及びその製造方法に関し、特にタッチパネル用の透明
電極として好適に使用し得る透明導電性フィルムとその
製造方法に関する。さらに詳しくは、透明高分子基板と
その上に積層される透明導電膜層との密着性が良好であ
り、タッチパネルの透明電極として使用したとき、優れ
た耐久性を有すると共に、ニュートンリングの発生を抑
制し得る透明導電性フィルムとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive film and a method for producing the same, and more particularly, to a transparent conductive film suitably usable as a transparent electrode for a touch panel and a method for producing the same. More specifically, the adhesiveness between the transparent polymer substrate and the transparent conductive film layer laminated thereon is good, and when used as a transparent electrode of a touch panel, it has excellent durability and generates Newton rings. The present invention relates to a transparent conductive film that can be suppressed and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ディスプレイ画面を指で触った
り、ペンで押圧するだけで入力できる透明タッチパネル
が普及している。タッチパネルを用いると、切符の自動
販売機や銀行の現金払出機のように、従来、複雑であっ
た機器の取扱いが簡単になり、しかも画面対話方式が採
用できるため、様々な新たな用途も開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a transparent touch panel that allows input by simply touching a display screen with a finger or pressing with a pen has become widespread. The use of a touch panel makes it easier to handle devices that were conventionally complicated, such as ticket vending machines and bank cash dispensers, and a screen interactive method can be used, thus developing various new applications. Have been.

【0003】通常のタッチパネルは、相対向する2枚の
透明電極をスペーサー等で或る程度の間隔を開けて重ね
合わせ、それぞれの透明電極の外周部の所定の位置に外
部電気回路との接続用に主に金属からなる電極を設けた
もので、液晶表示素子の最上層側に用いるものは、特に
透明性及び画像の視認性・鮮明度について留意しなけれ
ばならない。
[0003] In a normal touch panel, two transparent electrodes facing each other are overlapped at a certain interval by a spacer or the like, and a predetermined position on the outer peripheral portion of each transparent electrode is used for connection to an external electric circuit. In particular, when an electrode mainly composed of a metal is provided, and the electrode used on the uppermost layer side of the liquid crystal display element, attention must be paid particularly to the transparency and the visibility and sharpness of an image.

【0004】また、タッチパネルは、外部より指・ペン
などを用いて透明電極同士を接触させ、接触による電流
変化で接触場所を読み出す方式により入力信号を得るた
め、透明電極部の耐久性能にも留意しなけばならない。
その透明電極としては、ガラス板や透明高分子基板上に
酸化インジウム−錫(ITO)などの透明導電膜を積層
したものがよく用いられているが、ガラス板に比べ加工
上の利点から透明高分子基板が注目されている。しかし
ながら、透明高分子基板を用いた透明導電体に関しても
様々な問題点があり、これまでにもそれらの問題点の解
決が図られてきた。
[0004] In addition, since the touch panel is configured to contact the transparent electrodes from the outside with a finger or a pen or the like and obtain an input signal by a method of reading a contact location by a current change due to the contact, attention should be paid to the durability of the transparent electrode portion. I have to do it.
As the transparent electrode, a material obtained by laminating a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO) on a glass plate or a transparent polymer substrate is often used. Attention is focused on molecular substrates. However, there are various problems with a transparent conductor using a transparent polymer substrate, and these problems have been solved so far.

【0005】従来の公知の透明導電膜層としては、酸化
インジウム、酸化錫に酸化珪素や酸化アルミニウム等を
ドープしたもの(特開平4−206403号公報)や酸
化インジウム、酸化錫に窒素をドープしたもの(特開平
4−308612号公報)がある。 しかしながら、単
に透明導電膜層を透明高分子基板上に積層しただけで
は、ガラス板に比べて表面が著しく柔らかいために、プ
ラスチックペンなどで入力を繰り返すと表面が傷つけら
れ、最終的には透明高分子基板自身が破れてしまうとい
う問題点があった。
Conventionally known transparent conductive film layers include indium oxide and tin oxide doped with silicon oxide and aluminum oxide (JP-A-4-206403) and indium oxide and tin oxide doped with nitrogen. (JP-A-4-308612). However, simply laminating a transparent conductive film layer on a transparent polymer substrate has a significantly softer surface than a glass plate. There is a problem that the molecular substrate itself is broken.

【0006】そこで、現在では、透明高分子基板上にハ
ードコート処理したものを用いるのが一般的となってい
る。例えば、特開平8−148036号公報には、両面
をハードコート処理した高分子基板と、片面に透明導電
膜層を設けたフィルムの他面とを粘着層を介して接着積
層してなる透明導電性フィルムが示されている。これら
ハードコート処理した高分子基板は、透明導電膜層との
密着性が悪く、ペン入力などにより透明導電膜層が高分
子基板から剥がれるなどの問題点があった。 そこで、
透明導電膜層と透明高分子基板の間に密着性を向上させ
る層を設けるという改良が行われた。例えば、特開昭6
4−9729号公報には、密着性を改良するための層と
して水性ポリエステル層や酸化珪素薄膜層を設けた例が
開示されている。
Therefore, it is now common to use a transparent polymer substrate which has been subjected to a hard coat treatment. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-14836 discloses a transparent conductive film obtained by bonding and laminating a polymer substrate having both surfaces hard-coated and another surface of a film provided with a transparent conductive film layer on one surface via an adhesive layer. A conductive film is shown. The polymer substrate subjected to the hard coating treatment has problems such as poor adhesion to the transparent conductive film layer and the transparent conductive film layer being peeled off from the polymer substrate by pen input or the like. Therefore,
Improvements have been made in that a layer for improving adhesion is provided between the transparent conductive film layer and the transparent polymer substrate. For example, JP
No. 4,972,729 discloses an example in which an aqueous polyester layer or a silicon oxide thin film layer is provided as a layer for improving adhesion.

【0007】しかしながら、次世代のタッチパネル用資
材として、光学干渉縞(ニュートンリング)の発生がな
く、視認性を向上させた透明導電性積層体が要求される
ようになると、従来のハードコート処理した高分子基板
では不十分で、以下の手法が発案された。 霞度がヘーズ値(HAZE値)で10%以上のハード
コート処理した高分子基板を用いることにより、ニュー
トンリングが発生しても肉眼では見えにくいようにす
る。 ヘーズ値が5%以下のクリアハードコート処理した高
分子基板を用いる場合には、タッチパネルにおける上方
電極部材と下方電極部材の間隔を広くし(0.1mm以
上)、両者の接触部分をなくして、ニュートンリングの
発生を防ぐ。 特開平7−37466号公報記載のようにスペーサー
の数を増やして透明導電膜層同士が接触する部分をなく
す。 ところが、これらの手法を用いた場合、ヘーズ値が大き
いために面像の鮮明度が落ちる、画像自体が遠くに見え
る、間隔が離れているために入力圧を大きくしなければ
ならず、耐久性能が低下したり入力信号の誤作動が起こ
る、等々の問題があった。
However, when a transparent conductive laminate having no visible light interference fringes (Newton rings) and improved visibility is required as a next-generation touch panel material, a conventional hard coat treatment is performed. A polymer substrate is insufficient, and the following method has been proposed. By using a polymer substrate having a haze value (HAZE value) of 10% or more and subjected to a hard coat treatment, even if Newton rings occur, it is difficult for the naked eye to see. When using a polymer substrate having a haze value of 5% or less and subjected to a clear hard coat treatment, the distance between the upper electrode member and the lower electrode member in the touch panel is increased (0.1 mm or more) to eliminate a contact portion between the two. Prevent the generation of Newton rings. As described in JP-A-7-37466, the number of spacers is increased to eliminate a portion where the transparent conductive film layers are in contact with each other. However, when these methods are used, the sharpness of the surface image is reduced due to a large haze value, the image itself appears distant, and the input pressure must be increased due to the large distance, resulting in durability performance. And the input signal malfunctions.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明が解決
しようとする課題は、透明高分子基板を用いた透明導電
性フィルムに関する問題を総合的に解決し、凹凸処理さ
れた高分子基板を用いても、視認性が高く、透明導電膜
との密着性が良好で、タッチパネルの透明電極として用
いたときニュートンリングを発生することのない透明導
電性フィルム及びその製造方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to comprehensively solve the problem relating to a transparent conductive film using a transparent polymer substrate, and to use a polymer substrate which has been subjected to unevenness treatment. In particular, it is an object of the present invention to provide a transparent conductive film which has high visibility, good adhesion to a transparent conductive film and does not generate Newton rings when used as a transparent electrode of a touch panel, and a method for producing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、透明高分子基板
の一方の主面に、ピークの高さが0.1μm以上100
μm以下であり、かつ、ピークが20〜200個/cm
存在するような凹凸面層を形成した基板上に、コロナ放
電処理及び/又はグロー放電処理を施し、必要なら主と
してニッケルからなる金属薄膜層を積層し、次に酸化亜
鉛からなる層を積層し、最後に透明導電膜層を積層した
透明導電性フィルムによって、上記課題が解決できるこ
とを見出した。また、凹凸面上に透明導電膜層を積層す
ると、透明導電膜層にかかる負荷が小さくなるため、結
果として耐久性が向上し、誤作動が生じなくなること、
及び、負荷がかかっていない通常の状態では2枚の透明
電極の透明導電膜層同士が接触している部分は点であ
り、電圧の降下を引き起こす程の抵抗変化は生じないた
め、入力の誤作動などの不良が起こらないことを見い出
し、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems. As a result, the peak height of one of the transparent polymer substrates was 0.1 μm or more on one main surface.
μm or less and a peak of 20 to 200 peaks / cm
A corona discharge treatment and / or a glow discharge treatment are performed on the substrate on which the uneven surface layer is formed, and if necessary, a metal thin film layer mainly composed of nickel is laminated, and then a layer composed of zinc oxide is laminated, Finally, they have found that the above problem can be solved by a transparent conductive film in which a transparent conductive film layer is laminated. In addition, when the transparent conductive film layer is laminated on the uneven surface, the load applied to the transparent conductive film layer is reduced, and as a result, the durability is improved, and malfunction does not occur.
In a normal state where no load is applied, a point where the transparent conductive layers of the two transparent electrodes are in contact with each other is a point, and a resistance change that causes a voltage drop does not occur. The inventor has found that no malfunction such as operation occurs, and completed the present invention.

【0010】即ち、本発明は、一方の主面に凹凸面層が
形成され、当該凹凸面層の凹凸面にコロナ放電処理及び
/又はグロー放電処理が施された透明高分子基板と、上
記コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施された
凹凸面上に積層された酸化亜鉛層と、上記酸化亜鉛層上
に積層された透明導電膜層と、から構成されたことを特
徴とする透明導電性フィルムである。
That is, the present invention relates to a transparent polymer substrate having an uneven surface layer formed on one main surface, and a corona discharge treatment and / or a glow discharge treatment applied to the uneven surface of the uneven surface layer; A transparent conductive layer comprising: a zinc oxide layer laminated on an uneven surface subjected to a discharge treatment and / or a glow discharge treatment; and a transparent conductive film layer laminated on the zinc oxide layer. Film.

【0011】上記凹凸面の凹凸のピークの高さは0.1
μm以上100μm以下であり、単位長さ当りピーク数
が20〜200個/cmであることが好ましい。また、
必要に応じて、コロナ放電処理及び/又はグロー放電処
理が施された上記凹凸面と、上記酸化亜鉛層との間に、
主としてニッケルからなる金属薄膜層を挿入することも
可能である。
The peak height of the irregularities on the irregular surface is 0.1
It is preferable that the number of peaks per unit length is 20 to 200 / cm. Also,
If necessary, between the corrugated surface subjected to corona discharge treatment and / or glow discharge treatment and the zinc oxide layer,
It is also possible to insert a metal thin film layer mainly made of nickel.

【0012】また、本発明は、透明高分子基板の一方の
主面に凹凸面層を形成するステップと、 上記凹凸面層
の凹凸面にコロナ放電処理及び/又はグロー放電処理を
施すステップと、上記コロナ放電処理及び/又はグロー
放電処理を施した凹凸面上に酸化亜鉛層を積層するステ
ップと、上記酸化亜鉛層上に透明導電膜層を積層するス
テップと、を順次遂行することを特徴とする透明導電性
フィルムの製造方法である。
The present invention also provides a step of forming an uneven surface layer on one main surface of the transparent polymer substrate, and a step of performing corona discharge treatment and / or glow discharge treatment on the uneven surface of the uneven surface layer. Laminating a zinc oxide layer on the corrugated surface subjected to the corona discharge treatment and / or the glow discharge treatment, and laminating a transparent conductive film layer on the zinc oxide layer. This is a method for producing a transparent conductive film.

【0013】この場合においても、上記透明高分子基板
の一方の主面に凹凸面層を形成するステップにおいて、
凹凸面の凹凸のピークの高さが0.1μm以上100μ
m以下となり、単位長さ当りピーク数が20〜200個
/cmとなるように凹凸面層を形成することが好まし
く、また、必要に応じて、上記凹凸面にコロナ放電処理
及び/又はグロー放電処理を施すステップを遂行した
後、上記酸化亜鉛層を積層する前に、主としてニッケル
からなる金属薄膜層を積層するステップを含めることも
可能である。
[0013] Also in this case, in the step of forming an uneven surface layer on one main surface of the transparent polymer substrate,
The peak height of the irregularities on the irregular surface is 0.1 μm or more and 100 μm
m or less, and it is preferable to form an uneven surface layer so that the number of peaks per unit length is 20 to 200 / cm, and if necessary, a corona discharge treatment and / or a glow discharge may be applied to the uneven surface. After performing the processing step and before laminating the zinc oxide layer, a step of laminating a metal thin film layer mainly composed of nickel may be included.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面をも参照しつゝ本発明
を具体的に説明する。図1は、本発明に係る透明導電性
フィルムの一実施例を示す拡大断面模式図、図2は、も
う一つの実施例を示す拡大断面模式図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 1 is an enlarged schematic sectional view showing one embodiment of the transparent conductive film according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view showing another embodiment.

【0015】本発明に係る透明導電性フィルムの一実施
例を示す図1において、1はフィルム状の透明高分子基
板であり、その一方の主面に凹凸面層2が形成され、そ
の微細な凹凸処面2aにはコロナ放電処理及び/又はグ
ロー放電処理が施されている。3は、上記凹凸面2a上
に真空蒸着法、スパッタリング法、その他公知の成膜手
段によって積層された酸化亜鉛層であり、4は、さらに
その上に積層された透明導電膜層である。このような構
成の透明導電性フィルムを、タッチパネルの透明電極と
して使用し、透明高分子基板1を図の下側から指やプラ
スチックペンで押さえることにより、その透明導電膜層
4を、図示しないもう1枚の透明電極の透明導電膜層に
接触させて入力操作を行うことができる。
In FIG. 1 showing one embodiment of the transparent conductive film according to the present invention, reference numeral 1 denotes a transparent polymer substrate in the form of a film. Corrugated discharge treatment and / or glow discharge treatment are applied to the uneven surface 2a. Reference numeral 3 denotes a zinc oxide layer laminated on the uneven surface 2a by a vacuum deposition method, a sputtering method, or other known film forming means. Reference numeral 4 denotes a transparent conductive film layer further laminated thereon. By using the transparent conductive film having such a configuration as a transparent electrode of a touch panel, and pressing the transparent polymer substrate 1 from below with a finger or a plastic pen, the transparent conductive film layer 4 is not shown. An input operation can be performed by making contact with the transparent conductive film layer of one transparent electrode.

【0016】図2は、凹凸面層2のコロナ放電処理及び
/又はグロー放電処理を施した凹凸面2aと、酸化亜鉛
層3との間に、主としてニッケルからなる金属薄膜層5
を積層、挿入した実施例を示している。
FIG. 2 shows a metal thin film layer 5 mainly made of nickel between a corrugated surface 2 a on which a corona discharge treatment and / or a glow discharge treatment of the concavo-convex surface layer 2 is performed and a zinc oxide layer 3.
Are stacked and inserted.

【0017】上記の如く、本発明に係る透明導電性フィ
ルムは、透明高分子基板1の一方の主面に凹凸面層2を
形成し、その微細な凹凸面2aに対してコロナ放電処理
及び/又はグロー放電処理を施した後、その上に酸化亜
鉛層3が積層され、或いは必要に応じて金属薄膜層5を
積層した後、酸化亜鉛層3が積層され、更にその上に透
明導電膜層4が積層されて成るものである。このような
透明導電性フィルムをタッチパネルの少なくとも上側電
極部材として使用するものであるが、その場合、透明高
分子基板1の表面に凹凸面層2が設けられていないと、
これを下側透明導電性フィルムとを組み合わせてタッチ
パネルを形成した場合、上側の透明導電性フィルム自体
に充分な強度がないため、上側透明導電性フィルムが下
側透明導電性フィルムと接触している部分と接触してい
ない部分が発生する。この接触している部分と接触して
いない部分との間には間隔が連続的に変化する部分が存
在し、この部分においてニュートンリングが発生する。
As described above, in the transparent conductive film according to the present invention, the uneven surface layer 2 is formed on one main surface of the transparent polymer substrate 1, and the fine uneven surface 2a is subjected to corona discharge treatment and / or corona discharge treatment. Alternatively, after performing a glow discharge treatment, a zinc oxide layer 3 is laminated thereon, or a metal thin film layer 5 is laminated as necessary, and then a zinc oxide layer 3 is laminated, and a transparent conductive film layer is further laminated thereon. 4 are laminated. Such a transparent conductive film is used as at least the upper electrode member of the touch panel. In this case, if the uneven surface layer 2 is not provided on the surface of the transparent polymer substrate 1,
If this is combined with the lower transparent conductive film to form a touch panel, the upper transparent conductive film itself does not have sufficient strength, so the upper transparent conductive film is in contact with the lower transparent conductive film. Some parts are not in contact with the parts. Between the contacting portion and the non-contacting portion, there is a portion where the interval changes continuously, and a Newton ring occurs in this portion.

【0018】これに対して、本発明の如く、透明高分子
基板1の表面に凹凸面層2が形成されていると、その上
に積層された酸化亜鉛層3及び透明導電膜層4の表面に
も凹凸状態が形成され、そのため、他方の透明導電性フ
ィルムの透明導電膜層と部分的に接触する個所が生じて
も、その接触部分は、凹凸面におけるピーク部であり、
点接触となるものであるから、全体的には間隔が一定と
なり、ニュートンリングの発生を防止し得るものであ
る。
On the other hand, when the uneven surface layer 2 is formed on the surface of the transparent polymer substrate 1 as in the present invention, the surface of the zinc oxide layer 3 and the transparent conductive film layer 4 laminated thereon are formed. An uneven state is also formed, and therefore, even if a portion that partially contacts the transparent conductive film layer of the other transparent conductive film occurs, the contact portion is a peak portion on the uneven surface,
Since it is a point contact, the interval is generally constant as a whole, and the occurrence of Newton rings can be prevented.

【0019】凹凸面層2のの凹凸面2aにコロナ放電処
理及び/又はグロー放電処理を施した上で、酸化亜鉛層
3を積層する理由は、透明高分子基板1と透明導電膜層
4との密着性を向上させるためであり、図2のように金
属薄膜層5を介在させることにより、密着性、耐久性が
一層向上する。
The reason why the zinc oxide layer 3 is laminated after the corona discharge treatment and / or the glow discharge treatment is performed on the uneven surface 2a of the uneven surface layer 2 is that the transparent polymer substrate 1 and the transparent conductive film layer 4 This is because the metal thin film layer 5 is interposed as shown in FIG. 2 to further improve the adhesion and durability.

【0020】而して、本発明に係る透明導電性フィルム
の前記透明高分子基板1の材料としては、透明性の高い
ものであれば特に限定はないが、例えば、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサル
フォン、ポリアリレート、ポリ(メタ)アクリレート、
ポリエステル、ポリサルフォン、ポリアミド等のホモポ
リマー、およびこれら樹脂のモノマーと共重合可能なモ
ノマーとのコポリマー等を好適に用いることができる。
また、上記透明高分子基板中もしくは導電膜を積層する
面と反対の表面上に、公知の添加剤、例えば硬化剤、易
滑剤、帯電防止剤、ハードコート剤、防湿コート剤、ガ
スバリアコート剤、腐食剤などがそれぞれ添加もしくは
積層されていても良い。また、透明高分子基板に公知の
表面処理、例えば、粗面化処理、アンカーコートなどが
施されていても良い。また、透明高分子基板1の厚みに
ついても特に限定はないが、フィルムの強度・作業性か
ら10〜250μmが好ましい。
The material of the transparent polymer substrate 1 of the transparent conductive film according to the present invention is not particularly limited as long as it is highly transparent. For example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyether Sulfone, polyarylate, poly (meth) acrylate,
Homopolymers such as polyester, polysulfone, and polyamide, and copolymers of monomers of these resins with copolymerizable monomers can be suitably used.
Further, in the transparent polymer substrate or on the surface opposite to the surface on which the conductive film is laminated, known additives, for example, a curing agent, a lubricant, an antistatic agent, a hard coating agent, a moisture-proof coating agent, a gas barrier coating agent, A corrosive or the like may be added or laminated. Further, the transparent polymer substrate may be subjected to a known surface treatment, for example, a surface roughening treatment, an anchor coat, or the like. The thickness of the transparent polymer substrate 1 is not particularly limited, but is preferably 10 to 250 μm from the viewpoint of the strength and workability of the film.

【0021】本発明における透明高分子基板1の一方の
主面に凹凸面層2を形成する方法としては、例えば、フ
ィラーを分散させた透明樹脂を塗布する方法や、フィル
ム上に樹脂層を形成する際に表面を凹凸処理したロール
に圧着し、転写させる方法などが挙げられるが、最も好
ましい方法は、上記の二つの方法を組み合わせる方法で
ある。
The method of forming the uneven surface layer 2 on one main surface of the transparent polymer substrate 1 in the present invention includes, for example, a method of applying a transparent resin in which a filler is dispersed, and a method of forming a resin layer on a film. For example, a method in which the surface is pressure-bonded to a roll whose surface has been subjected to unevenness treatment and then transferred is exemplified. The most preferable method is a method in which the above two methods are combined.

【0022】即ち、まず、フィラーを分散させた透明樹
脂を塗布する場合について検討すれば、フィラーは表面
欠陥の原因となるため、加えるフィラーの粒径は、必然
的に小さいものに限られる。しかしまた、フィラーの径
が小さすぎると、塗布された樹脂中にフィラーが埋まっ
てしまい、凹凸層として有効に働くフィラーの数が少な
くなりやすい。このため、ニュートンリングを防ぐに
は、フィラーを多く加えなくてはならず、その結果ヘー
ズ値が高くなり、画像がぼやけてしまう可能性がある。
これらの点を考慮すると、フィラーの粒径は、1〜30
μmが好ましい。
That is, first, the case of applying a transparent resin in which a filler is dispersed is examined. Since the filler causes surface defects, the particle size of the filler to be added is necessarily limited to a small one. However, if the diameter of the filler is too small, the filler is buried in the applied resin, and the number of fillers that effectively work as the uneven layer tends to decrease. For this reason, in order to prevent Newton's ring, it is necessary to add a large amount of filler, and as a result, the haze value becomes high, and the image may be blurred.
Considering these points, the particle size of the filler is 1 to 30.
μm is preferred.

【0023】次に、フィルム上に樹脂層を形成する際
に、表面を凹凸処理したロールに圧着、転写させる方法
について検討すれば、その場合、いくら表面を凹凸加工
しても、樹脂自身が硬化するまでには或る程度の流動性
を有する時間があり、時間の経過と共に全体がレベリン
グされることは避けがたい。そのため、単位当りのピー
クの数は少なくなってしまう。また、レベリングによ
り、表面の凹凸のピークの形状が緩やかなものとなって
しまうので、力のかからない通常の状態ではニュートン
リングは認められないが、力のかかった状態では、ニュ
ートンリングが認められることがある。
Next, when forming a resin layer on a film, a method of pressing and transferring the film to a roll whose surface has been roughened is examined. In this case, the resin itself hardens even if the surface is roughened. There is a certain amount of fluidity time before it occurs, and it is inevitable that the whole will be leveled over time. Therefore, the number of peaks per unit decreases. In addition, because the leveling causes the peak shape of the surface irregularities to become gradual, Newton rings are not recognized under normal conditions where no force is applied, but Newton rings are recognized under force. There is.

【0024】従って、透明高分子基板の表面に凹凸面層
2を形成する方法としては、上記の二つの方法を組み合
わせることが好ましい。つまり、フィラーを加えた透明
樹脂を、表面に凹凸模様を有するロールで透明高分子基
板の一方の主面に塗布、転写することが好ましい。その
場合のフィラーと透明樹脂の分散率は、重量比でフィラ
ーが10〜50%が好ましい。また、透明樹脂は、特に
限定はしないが、メラミン系やアクリル系、シリコン系
などが好適に用いられる。
Therefore, as a method for forming the uneven surface layer 2 on the surface of the transparent polymer substrate, it is preferable to combine the above two methods. That is, it is preferable that the transparent resin to which the filler is added is applied and transferred to one main surface of the transparent polymer substrate by a roll having an uneven pattern on the surface. In this case, the filler and the transparent resin are preferably dispersed in a weight ratio of 10 to 50% by weight. The transparent resin is not particularly limited, but a melamine-based, acrylic-based, silicon-based, or the like is suitably used.

【0025】凹凸面層の具体的な形成手段に関しては、
通常の梨地処理などの方法を用いることが出来るが、こ
こでは三本のリバースコート法によりフィラーを含んだ
透明樹脂を凹凸模様状にコートする場合について説明す
る。三本リバースコート法では、フィラーを含んだ樹脂
をコートロールと呼ばれるロールでかきあげ、ドクター
ロールと呼ばれるロールをコートロールに接触させ、コ
ートロール上にある樹脂を均一化すると共に、両者の間
隔を調整することにより塗布する厚みを調整する。コー
トロール上に均一に、しかも所望の厚みの樹脂層を形成
した後に、バックアップロールと呼ばれるロールで前記
透明高分子基板をコートロールに接触させ、コートロー
ル上の樹脂を転写させ、乾燥または紫外線等により、樹
脂を硬化させる。ここで、コートロールの表面に、例え
ば梨地模様等の凹凸処理を施しておくことにより、梨地
様の凹凸を有する樹脂層を前記透明高分子基板上に塗布
することができる。
With respect to specific means for forming the uneven surface layer,
Although a method such as a usual satin finish can be used, a case in which a transparent resin containing a filler is coated in a concavo-convex pattern by three reverse coating methods will be described. In the three-reverse coating method, a resin containing filler is scraped up with a roll called a coat roll, and a roll called a doctor roll is brought into contact with the coat roll to equalize the resin on the coat roll and adjust the distance between the two. To adjust the thickness to be applied. After a resin layer having a desired thickness is uniformly formed on the coat roll, the transparent polymer substrate is brought into contact with the coat roll with a roll called a backup roll, and the resin on the coat roll is transferred, and dried or ultraviolet light or the like. Thereby, the resin is cured. Here, a resin layer having a satin-like unevenness can be applied to the transparent polymer substrate by subjecting the surface of the coat roll to an uneven treatment such as a satin pattern.

【0026】この場合の凹凸形成は、その凹凸のピーク
の高さが0.1μm以上100μm以下であり、かつ、
単位長さ当りのピーク数が20〜200個/cm程度と
なるようになされていなくてはならない。ピークの高さ
が0.1μmより小さい場合や、ピークの数が20個/
cmよりも少ない場合には、凹凸加工をしていない場合
と同様にニュートンリングが発生する可能性が高く好ま
しくない。作業性、及び、ピークが大きくなると表面欠
陥の原因となりかねないことを考慮すれば、ピークの大
きさは100μmを超えないことが好ましい。また、ピ
ークの数が200個/cmを超えると霞度(ヘーズ値)
が上昇するので好ましくない。
In this case, the height of the peak of the unevenness is 0.1 μm or more and 100 μm or less;
The number of peaks per unit length must be about 20 to 200 / cm. When the peak height is smaller than 0.1 μm, or when the number of peaks is 20 /
If it is less than cm, the possibility that Newton's rings will occur is not preferable, as in the case where the unevenness is not processed. In consideration of workability and that a large peak may cause surface defects, it is preferable that the peak size does not exceed 100 μm. When the number of peaks exceeds 200 / cm, haze (haze value)
Is undesirably increased.

【0027】凹凸面層2の上記凹凸面2aに施されるコ
ロナ放電処理は、大気中で通常10〜100kVで行わ
れるが、特にこれに限定されない。グロー放電処理は、
通常20Pa以下の減圧下で行うが、使用ガスは酸素、
窒素、一酸化窒素、アルゴンや水素等々、特に限定され
ない。このようなコロナ放電処理及び/又はグロー放電
処理により、凹凸面層2の凹凸面2aが活性化および清
浄化されて、透明高分子基板1と酸化亜鉛層3の高い密
着性が得られ、結果として、透明高分子基板1と透明導
電膜層4との密着性が改善される。
The corona discharge treatment applied to the uneven surface 2a of the uneven surface layer 2 is usually performed at 10 to 100 kV in the air, but is not particularly limited to this. Glow discharge treatment is
Usually performed under a reduced pressure of 20 Pa or less, but the gas used is oxygen,
There is no particular limitation on nitrogen, nitric oxide, argon, hydrogen, and the like. By such corona discharge treatment and / or glow discharge treatment, the uneven surface 2a of the uneven surface layer 2 is activated and cleaned, and high adhesion between the transparent polymer substrate 1 and the zinc oxide layer 3 is obtained. As a result, the adhesion between the transparent polymer substrate 1 and the transparent conductive film layer 4 is improved.

【0028】酸化亜鉛層3の膜厚は、通常3〜50nm
が一般的である。この厚みは可視光線透過率に影響する
ため、要求される可視光線透過率によって厚みを決定す
る。成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等々の従来公知の技術のい
ずれも採用できる。スパッタリング法においては、ター
ゲットに酸化亜鉛を使用し、通常、0.1〜0.6Pa
雰囲気下で、0.1〜2W/cm2 ・秒で行う。
The thickness of the zinc oxide layer 3 is usually 3 to 50 nm.
Is common. Since this thickness affects the visible light transmittance, the thickness is determined by the required visible light transmittance. As a film forming method, any of conventionally known techniques such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method can be adopted. In the sputtering method, using zinc oxide as a target, usually 0.1 to 0.6 Pa
This is performed at 0.1 to 2 W / cm 2 · second in an atmosphere.

【0029】透明導電膜層4としては、例えば、酸化イ
ンジウム−錫(ITO)、酸化錫、酸化インジウム亜鉛
等が挙げられるが、比抵抗や可視光線透過率を考慮する
と、錫の含有率が3〜50重量%のITOが良い。ま
た、透明導電膜層4の膜厚は、通常10〜150nmが
一般的であり、表面抵抗値としては、100〜1000
Ω/□が一般的である。この厚みは表面抵抗および可視
光線透過率に影響するため、要求される表面抵抗と可視
光線透過率によって厚みを決定する。透明導電膜層4の
成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法等々の従来公知の技術のいずれも
採用できる。スパッタリング法においては、ターゲット
に酸化インジウム−錫を使用しても、インジウム錫合金
を使用しても良く、通常、0.1〜0.6Pa雰囲気下
で、0.1〜2W/cm2 ・秒で行う。
As the transparent conductive film layer 4, for example, indium tin oxide (ITO), tin oxide, indium zinc oxide and the like can be mentioned, but when the specific resistance and the visible light transmittance are considered, the tin content is 3%. ~ 50% by weight of ITO is good. The thickness of the transparent conductive film layer 4 is generally 10 to 150 nm, and the surface resistance is 100 to 1000 nm.
Ω / □ is common. Since this thickness affects surface resistance and visible light transmittance, the thickness is determined by required surface resistance and visible light transmittance. As a method for forming the transparent conductive film layer 4, any of conventionally known techniques such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method can be adopted. In the sputtering method, either indium-tin oxide or an indium-tin alloy may be used for the target. Usually, under an atmosphere of 0.1 to 0.6 Pa, 0.1 to 2 W / cm 2 · second Do with.

【0030】図2に示す実施例におけるニッケル薄膜層
5は、主としてニッケルから形成されるが、クロム、鉄
などの金属との合金でも良い。また、金属薄膜でも酸化
物薄膜でも良く、連続膜でなくても、島状の不連続膜で
も効果は同等である。また、計算上の膜厚は通常0.2
〜3nmが好ましい。0.2nmより薄いものは密着性
・耐久性の効果が少ないため好ましくない。3nmより
も厚いものは透明性が損なわれるため好ましくない。す
なわち、厚みは耐久性を損なわない範囲で、特に可視光
線透過率を考慮して薄い方が好ましい。成膜方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法といった従来の公知技術のいずれも採用できる。
スパッタリング法においては、ターゲットにニッケル合
金を使用し、通常、0.1〜0.6Pa雰囲気下で、
0.01〜1W/cm2 ・秒で行う。以上、透明高分子
基板上に積層する膜の総厚みは、10〜200nmが好
ましい。
The nickel thin film layer 5 in the embodiment shown in FIG. 2 is mainly made of nickel, but may be an alloy with a metal such as chromium or iron. In addition, the effect may be the same even if a metal thin film or an oxide thin film is used. The calculated film thickness is usually 0.2
33 nm is preferred. Thicknesses smaller than 0.2 nm are not preferred because they have little effect on adhesion and durability. Thicknesses greater than 3 nm are not preferred because transparency is impaired. That is, the thickness is preferably as thin as possible without impairing the durability, particularly in consideration of the visible light transmittance. As the film forming method, any of the conventionally known techniques such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be adopted.
In the sputtering method, using a nickel alloy as a target, usually under an atmosphere of 0.1 to 0.6 Pa,
It is performed at 0.01 to 1 W / cm 2 · second. As described above, the total thickness of the film laminated on the transparent polymer substrate is preferably from 10 to 200 nm.

【0031】[0031]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。な
お、評価項目、評価方法に関しては以下のようにして行
った。 (a) 表面凹凸の評価(ピークの検出):透明高分子基板
の透明導電膜層が形成されている面の表面の凹凸の評価
をJIS−B−0601に基づき行った。詳しくは、触
針式表面粗さ計〔(株)小坂研究所製ET−30K、触
針の径:0.5μm〕を用いてカットオフ値0.8mm
の条件でフィルムの任意の方向に2.5mm走査させ、
その際に得られたピークの高さ及びその数から、ピーク
の平均高さ及び1cm区間当たりのピークの数を求め
た。 (b) 光線透過率及び霞度:JIS−K−7105に基づ
き行った。詳しくは、日本電色(株)製NDH−100
Hを用いて評価した。 (c) 表面抵抗:温度23℃、相対湿度50%の条件で、
四端子法により行った。詳しくは、三菱油化(株)製ロ
レスタSPを用いて行った。 (d) アンチニュートンリング性(ニュートンリングの有
無):2枚の透明導電性フィルムをそれらの透明導電膜
層同士が向き合うように重ね合わせた擬似タッチパネル
素子を作製し、これをポリカーボネート板(3mm厚
み)上に押しつけてニュートンリングの有無を目視によ
り判定した。 (e) 密着性:作製した透明導電性フィルムと、InとS
nの割合が80:20であり、かつ、膜厚が30nmの
ITOフィルムとを透明導電膜層同士で貼り合わせた
後、JIS−K−6854に基づき、引張剥離試験機で
測定した。詳しくは、(株)島津製作所製オートグラフ
AGS−100Aを使用し、90゜剥離、剥離速度5m
m/分を用いて評価した。
The present invention will be described below with reference to examples. The evaluation items and evaluation methods were as follows. (a) Evaluation of surface irregularities (detection of peak): The surface irregularities of the surface of the transparent polymer substrate on which the transparent conductive film layer was formed were evaluated based on JIS-B-0601. Specifically, the cut-off value is 0.8 mm using a stylus type surface roughness meter [ET-30K, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd., stylus diameter: 0.5 μm].
Scan 2.5 mm in any direction of the film under the conditions of
From the heights and the numbers of the peaks obtained at that time, the average height of the peaks and the number of peaks per 1 cm section were determined. (b) Light transmittance and haze: Performed based on JIS-K-7105. For details, NDH-100 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.
It evaluated using H. (c) Surface resistance: Under conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%,
This was performed by a four-terminal method. Specifically, the measurement was performed using Loresta SP manufactured by Mitsubishi Yuka Corporation. (d) Anti-Newton ring property (presence / absence of Newton ring): A pseudo touch panel element was prepared by laminating two transparent conductive films so that their transparent conductive layers faced each other. ) Pressed upward to visually determine the presence or absence of a Newton ring. (e) Adhesion: prepared transparent conductive film, In and S
After bonding an ITO film having a ratio of n of 80:20 and a thickness of 30 nm to each other with a transparent conductive film layer, it was measured with a tensile peeling tester based on JIS-K-6854. Specifically, using an autograph AGS-100A manufactured by Shimadzu Corporation, 90 ° peeling, peeling speed 5m
The evaluation was performed using m / min.

【0032】実施例1 厚み188μmの片面ハードコート付きポリエチレンテ
レフタレート(PET)フィルム(尾池工業製ハードコ
ートPETフィルムBタイプ)のハードコート加工を施
していない側の面上に、平均粒子径2μmのシリカ粉末
〔東芝シリコーン(株)製XC99−501〕を重量比
で20%分散させたメラミン系樹脂〔大日本インキ
(株)製SF−CC−329〕を三本リバース法により
塗布し、80℃で3分間乾燥し、厚み5μm、凹凸面の
ピークの平均高さが2μmでピークの数が30個/cm
の塗布膜(凹凸面層)を得た。詳しくは、コートロール
の表面に梨地様の凹凸処理をしておき、上記PETフィ
ルムに樹脂をコートする際に梨地様の模様が転写される
ようにした。上記の方法で作製した透明高分子基板を
「透明高分子基板P1 」とする。この透明高分子基板P
1 の凹凸面層の梨地様の凹凸面上を、まず、酸素グロー
放電処理(1.3Pa、900W、1分間)した後、酸
化亜鉛層を10nm形成した(反応ガスは酸素/アルゴ
ン=0.1の割合で導入し、0.4Pa雰囲気下でDC
マグネトロンスパッタリング法により成膜)。次に、I
TOから成る透明導電膜層を、表面抵抗が500Ω/□
となるように形成し(ターゲットは酸化錫を20重量%
含む酸化インジウム−錫、反応ガスは酸素/アルゴン=
0.03の割合で導入し、0.4Pa雰囲気下でDCマ
グネトロンスパッタリング法により成膜)、透明導電性
フィルムを得た。上記の方法で作製したフィルムを「透
明導電性フィルムA」(以下同様)とする。上記透明導
電性フィルムAの光線透過率(%)、霞度(ヘーズ値;
%)、表面抵抗(Ω/□)、アンチニュートンリング
性、密着性(g/25mm)を前記の方法で評価した。
結果を表1にまとめて示す。
Example 1 A single-sided hard-coated polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 188 μm (hard coat PET film B type, manufactured by Oike Kogyo Co., Ltd.) was coated on the non-hard-coated side with an average particle diameter of 2 μm. A melamine resin [SF-CC-329, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.] in which silica powder [XC99-501, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.] is dispersed at a weight ratio of 20%, is applied by a three-bar reverse method, and is heated to 80 ° For 3 minutes, the thickness of the peak is 5 μm, the average height of peaks on the uneven surface is 2 μm, and the number of peaks is 30
Was obtained. Specifically, the surface of the coat roll was subjected to a satin-like unevenness treatment so that the satin-like pattern was transferred when the PET film was coated with a resin. The transparent polymer substrate produced by the above method is referred to as “transparent polymer substrate P 1 ”. This transparent polymer substrate P
First, an oxygen glow discharge treatment (1.3 Pa, 900 W, 1 minute) was performed on the satin-like uneven surface of the uneven surface layer of No. 1 and then a zinc oxide layer was formed to a thickness of 10 nm (the reaction gas was oxygen / argon = 0. 1 at a rate of 1
Film formation by magnetron sputtering method). Next, I
A transparent conductive film layer made of TO is formed with a surface resistance of 500Ω / □.
(The target is tin oxide at 20% by weight.
Containing indium-tin oxide, reaction gas is oxygen / argon =
Introduced at a rate of 0.03 and formed by a DC magnetron sputtering method in a 0.4 Pa atmosphere) to obtain a transparent conductive film. The film produced by the above method is referred to as “transparent conductive film A” (the same applies hereinafter). Light transmittance (%) and haze (haze value) of the transparent conductive film A
%), Surface resistance (Ω / □), anti-Newton ring property, and adhesion (g / 25 mm) were evaluated by the above-described methods.
The results are summarized in Table 1.

【0033】実施例2 酸化亜鉛層の下に、ニッケルクロムからなる金属薄膜層
を膜厚1nmで設けた以外は、実施例1と同様にして透
明導電性フィルムBを作製した。評価結果を表1にまと
めて示す。
Example 2 A transparent conductive film B was produced in the same manner as in Example 1 except that a metal thin film layer of nickel chromium was provided with a thickness of 1 nm under the zinc oxide layer. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0034】実施例3 酸化亜鉛層の膜厚を50nmとした以外は、実施例1と
同様にして透明導電性フィルムCを作製した。評価結果
を表1にまとめて示す。
Example 3 A transparent conductive film C was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the zinc oxide layer was changed to 50 nm. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0035】実施例4 酸化亜鉛層の膜厚を3nmとした以外は、実施例1と同
様にして透明導電性フィルムDを作製した。評価結果を
表1にまとめて示す。
Example 4 A transparent conductive film D was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the zinc oxide layer was changed to 3 nm. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0036】実施例5 分散させるシリカ粉末の平均粒子径を10μm〔東芝シ
リコーン(株)製XC99−301〕として、凹凸面の
ピークの平均高さが7.5μmでピークの数が35個/
cmの塗布膜を得た以外は、実施例1と同様にして透明
導電性フィルムEを作製した。評価結果を表1にまとめ
て示す。
Example 5 Assuming that the average particle diameter of the silica powder to be dispersed is 10 μm [XC99-301 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.], the average height of peaks on the uneven surface is 7.5 μm and the number of peaks is 35 /
A transparent conductive film E was produced in the same manner as in Example 1 except that a coating film of cm was obtained. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0037】比較例1 酸素グロー処理及び酸化亜鉛の積層を行なわない以外
は、実施例1と同様にして、透明導電性フィルムFを作
製した。評価結果を表1にまとめて示す。
Comparative Example 1 A transparent conductive film F was prepared in the same manner as in Example 1 except that the oxygen glow treatment and the lamination of zinc oxide were not performed. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0038】比較例2 加えるシリカ粉末の量を90重量%として、凹凸面のピ
ークの平均高さが2μmでピークの数が250個/cm
の塗布膜を得た以外は、実施例1と同様にして透明導電
性フィルムGを作製した。評価結果を表1にまとめて示
す。
Comparative Example 2 Assuming that the amount of silica powder to be added was 90% by weight, the average height of peaks on the uneven surface was 2 μm and the number of peaks was 250 / cm.
A transparent conductive film G was produced in the same manner as in Example 1 except that a coating film was obtained. The evaluation results are summarized in Table 1.

【0039】比較例3 加えるシリカ粉末の量を0.1重量%として、凹凸面の
ピークの平均高さが2μmでピークの数が3個/cmの
塗布膜を得た以外は、実施例1と同様にして透明導電性
フィルムHを得た。
Comparative Example 3 Example 1 was repeated except that the amount of silica powder added was 0.1% by weight, and a coating film having an average height of peaks on the uneven surface of 2 μm and a peak number of 3 / cm was obtained. In the same manner as in the above, a transparent conductive film H was obtained.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【発明の効果】表面に凹凸面層を設けた透明高分子基板
の凹凸面上をコロナ放電処理及び/又はグロー放電処理
した後、酸化亜鉛層を積層し、更に、透明導電膜層を積
層して成る本発明に係る透明導電性フィルムは、これを
タッチパネルの透明電極として用いた場合、ニュートン
リングの発生が抑えられ、しかも画像の解像度・視認性
が落ちず、基板と導電膜層の密着性が良好である。
According to the present invention, after a corona discharge treatment and / or a glow discharge treatment is performed on the uneven surface of a transparent polymer substrate having an uneven surface layer provided on the surface, a zinc oxide layer is stacked, and a transparent conductive film layer is further stacked. When the transparent conductive film according to the present invention is used as a transparent electrode of a touch panel, the generation of Newton rings is suppressed, and the resolution and visibility of an image are not reduced. Is good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る透明導電性フィルムの一実施例
を示す拡大断面模式図である。
FIG. 1 is an enlarged schematic sectional view showing one embodiment of a transparent conductive film according to the present invention.

【図2】 もう一つの実施例を示す拡大断面模式図であ
る。
FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view showing another embodiment.

【符号の説明】 1 透明高分子基板 2 凹凸面層 2a 凹凸面 3 酸化亜鉛層 4 透明導電膜層 5 金属薄膜層[Description of Signs] 1 transparent polymer substrate 2 uneven surface layer 2a uneven surface 3 zinc oxide layer 4 transparent conductive film layer 5 metal thin film layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 彰 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井化学株式会社内 (72)発明者 中島 明美 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井化学株式会社内 (72)発明者 原田 祐一郎 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井化学株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akira Suzuki 2-1-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Prefecture Inside Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Akemi Nakajima 2-1-1, Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Yuichiro Harada 2-1-1, Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一方の主面に凹凸面層(2)が形成され、
当該凹凸面層の凹凸面(2a)にコロナ放電処理及び/
又はグロー放電処理が施された透明高分子基板(1)
と、 上記コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施され
た凹凸面(2a)上に積層された酸化亜鉛層(3)と、 上記酸化亜鉛層(3)上に積層された透明導電膜層
(4)と、 から構成されたことを特徴とする透明導電性フィルム。
An uneven surface layer (2) is formed on one main surface,
The corrugated surface treatment and / or corona discharge treatment is performed on the uneven surface (2a) of the uneven surface layer.
Or a transparent polymer substrate subjected to glow discharge treatment (1)
And a zinc oxide layer (3) laminated on the corrugated surface (2a) subjected to the corona discharge treatment and / or the glow discharge treatment; and a transparent conductive film layer laminated on the zinc oxide layer (3). (4) A transparent conductive film, comprising:
【請求項2】上記凹凸面(2a)の凹凸のピークの高さ
が0.1μm以上100μm以下であり、単位長さ当り
ピーク数が20〜200個/cmであることを特徴とす
る請求項1に記載の透明導電性フィルム。
2. The method according to claim 1, wherein the height of peaks of the irregularities on the irregular surface (2a) is 0.1 μm or more and 100 μm or less, and the number of peaks per unit length is 20 to 200 / cm. 2. The transparent conductive film according to 1.
【請求項3】コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理
が施された上記凹凸面(2a)と、上記酸化亜鉛層
(3)との間に、主としてニッケルからなる金属薄膜層
(5)を挿入したことを特徴とする請求項1に記載の透
明導電性フィルム。
3. A metal thin film layer (5) mainly made of nickel is inserted between the uneven surface (2a) subjected to the corona discharge treatment and / or the glow discharge treatment and the zinc oxide layer (3). The transparent conductive film according to claim 1, wherein:
【請求項4】透明高分子基板(1)の一方の主面に凹凸
面層(2)を形成するステップと、上記凹凸面層(2)
の凹凸面(2a)にコロナ放電処理及び/又はグロー放
電処理を施すステップと、 上記コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理を施した
凹凸面(2a)上に酸化亜鉛層(3)を積層するステッ
プと、 上記酸化亜鉛層(3)上に透明導電膜層(4)を積層す
るステップと、 を順次遂行することを特徴とする透明導電性フィルムの
製造方法。
4. A step of forming an uneven surface layer (2) on one main surface of a transparent polymer substrate (1), and said uneven surface layer (2).
Applying a corona discharge treatment and / or a glow discharge treatment to the uneven surface (2a), and laminating a zinc oxide layer (3) on the uneven surface (2a) subjected to the corona discharge treatment and / or the glow discharge treatment. And a step of laminating a transparent conductive film layer (4) on the zinc oxide layer (3).
【請求項5】上記透明高分子基板(1)の一方の主面に
凹凸面層(2)を形成するステップにおいて、凹凸面
(2a)の凹凸のピークの高さが0.1μm以上100
μm以下となり、単位長さ当りピーク数が20〜200
個/cmとなるように凹凸面層を形成することを特徴と
する請求項4に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
5. The step of forming an uneven surface layer (2) on one main surface of the transparent polymer substrate (1), wherein the height of uneven peaks on the uneven surface (2a) is 0.1 μm or more and 100 μm or more.
μm or less, and the number of peaks per unit length is 20 to 200.
The method for producing a transparent conductive film according to claim 4, wherein the uneven surface layer is formed to have a number of pieces / cm.
【請求項6】上記凹凸面(2a)にコロナ放電処理及び
/又はグロー放電処理を施すステップを遂行した後、上
記酸化亜鉛層(3)を積層する前に、主としてニッケル
からなる金属薄膜層(5)を積層するステップを含むこ
とを特徴とする請求項4に記載の透明導電性フィルムの
製造方法。
6. A metal thin film layer (mainly made of nickel) after the step of performing corona discharge treatment and / or glow discharge treatment on the uneven surface (2a) and before laminating the zinc oxide layer (3). 5. The method for producing a transparent conductive film according to claim 4, comprising a step of laminating 5).
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