JPH11305055A - Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguide - Google Patents
Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguideInfo
- Publication number
- JPH11305055A JPH11305055A JP11196198A JP11196198A JPH11305055A JP H11305055 A JPH11305055 A JP H11305055A JP 11196198 A JP11196198 A JP 11196198A JP 11196198 A JP11196198 A JP 11196198A JP H11305055 A JPH11305055 A JP H11305055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- forming
- transparent layer
- resist film
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、原稿読み取り光学
系等に使用されるイメージセンサ、光通信用部品、又は
光ディスクピックアップ内光学部品等に用いられる光導
波路の製造方法、及びそのためのマスタ原板の製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an optical waveguide used for an image sensor, an optical communication component, an optical component in an optical disk pickup, or the like used in an original reading optical system or the like, and a master plate for the optical waveguide. It relates to a manufacturing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ポリマー材料を用いた高分子光導波路
は、無機材料を用いたものに比べて低コストで量産が可
能であるため、様々な製造方法の開発が進められてい
る。その１つとして、微細な溝が表面に形成された高分
子クラッド基板を用意し、硬化させると基板よりも屈折
率が高くなるコア材料をモノマー状態で溝の中にだけ注
入した後、重合・硬化させる手順で構成されるポリマー
光導波路の製造方法が知られている。この製造方法で
は、例え導波路基板が大面積で、なおかつ導波路のパタ
ーンが複雑で密に詰まっているような場合であっても、
溝を形成した基板を、同じ形状の金型を用いた射出成形
等の方法で作製することで低コストで大量生産が可能と
なり、低価格の高分子光導波路を製造することができ
る。2. Description of the Related Art Since a polymer optical waveguide using a polymer material can be mass-produced at a lower cost than that using an inorganic material, various manufacturing methods are being developed. One of them is to prepare a polymer clad substrate with fine grooves formed on the surface, and inject a core material that has a refractive index higher than that of the substrate when it is cured in the monomer state only into the grooves. 2. Description of the Related Art A method for manufacturing a polymer optical waveguide constituted by a curing procedure is known. In this manufacturing method, even if the waveguide substrate has a large area and the pattern of the waveguide is complicated and densely packed,
By manufacturing the substrate on which the grooves are formed by a method such as injection molding using a mold having the same shape, mass production becomes possible at low cost, and a low-cost polymer optical waveguide can be manufactured.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、表面
に微細な溝を有するクラッド基板を作製するプロセスに
以下のような問題があった。従来技術のプロセスでは、
溝を表面に形成したクラッド基板を射出成形等の金型を
用いる方法で作製する場合に、金型に流し込んだ樹脂を
変形させることなく離形することが困難である。特に、
溝が広い面積に密に詰まった導波路パターンを作製する
際には大きな問題となり、離形時にクラッド基板の溝や
クラッド基板自体の変形を招くことがあった。The above prior art has the following problems in the process of manufacturing a clad substrate having fine grooves on the surface. In the prior art process,
When a clad substrate having grooves formed on the surface is manufactured by a method using a mold such as injection molding, it is difficult to release the resin poured into the mold without deforming the resin. Especially,
This is a serious problem when fabricating a waveguide pattern in which grooves are densely packed in a wide area, and may cause deformation of the grooves of the clad substrate and the clad substrate itself during release.
【０００４】かかる変形が生じてしまうと、溝の外にも
コア材料が存在するようになったり、溝の中のコア材料
の充填率バラツキが増大する現象が発生し、導波光の透
過率の低下やバラツキ、コア間のクロストークの増大、
光導波路素子形状が歪むことによる他の素子との結合損
失等の原因にもなる。前記の課題の解決のためには、成
形時の樹脂の離形が容易な溝構造を持つ金型（スタン
パ）を得ることが必要である。そして、金型の形状は、
マスタ原板の形状を忠実に転写して作製されるので、こ
のマスタ原板の形状を改善することが必要となる。[0004] When such deformation occurs, a phenomenon occurs in which the core material is present outside the groove, and a variation in the filling rate of the core material in the groove is increased. Decrease and variation, increase in crosstalk between cores,
Distortion of the shape of the optical waveguide element causes a coupling loss with other elements and the like. In order to solve the above-mentioned problems, it is necessary to obtain a mold (stamper) having a groove structure that allows easy release of the resin during molding. And the shape of the mold is
Since the master master plate is manufactured by faithfully transferring the shape of the master master plate, it is necessary to improve the shape of the master master plate.
【０００５】従来のマスタ原板は、図３（ｂ）に示すよ
うに、その溝７の断面形状が正方形又は長方形であり、
レジスト面の難溶化層等の原因により、溝上部にひさし
２０が発生するすることがある。このようなひさし２０
があると、このようなマスタ原板Ｍを元に作製した金型
を用いた成形において、金型に流し込んだ樹脂を離形す
る際に樹脂が受ける抵抗が増加し、離形がより困難とな
る。本発明は上述の点に着目してなされたもので、マス
タ原板の樹脂の離形性を改良することにより、均一なコ
ア断面形状を得ることができ、導波光の透過率の低下や
バラツキを少なくできる光導波路の製造方法を提供する
ことを目的とする。As shown in FIG. 3 (b), a conventional master plate has a groove 7 having a square or rectangular cross section.
The eaves 20 may be formed at the upper part of the groove due to the insoluble layer on the resist surface. Such an eaves 20
Accordingly, in molding using a mold manufactured based on such a master plate M, resistance applied to the resin when the resin poured into the mold is released increases, and the release becomes more difficult. . The present invention has been made by paying attention to the above points, and by improving the releasability of the resin of the master plate, it is possible to obtain a uniform core cross-sectional shape, and to reduce or reduce the transmittance of the guided light. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical waveguide which can be reduced.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するべ
く、本発明の光導波路の製造方法は、マスタ原板を作製
する工程と、該マスタ原板に基づいて金型を作製する工
程と、該金型に基づいてクラッド基板を作製する工程
と、該クラッド基板に光導波路を作製する工程とを具備
する方法であって、前記マスタ原板を作製する工程は、
マスタ基板にレジスト膜を塗布する工程と、該レジスト
膜の表面に露光光が透過する透明層を形成する工程と、
光導波路コア部のパターンを該透明層を介して露光して
から、現像することにより、前記レジスト膜の溝側壁面
部の傾斜角度が溝底部に対して９０度以上をなす台形形
状の溝を形成する工程と、を具備する方法である。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing an optical waveguide according to the present invention comprises the steps of: manufacturing a master plate; manufacturing a mold based on the master plate; A step of producing a clad substrate based on a mold, and a method comprising a step of producing an optical waveguide on the clad substrate, wherein the step of producing the master master plate comprises:
A step of applying a resist film on the master substrate, and a step of forming a transparent layer through which exposure light passes on the surface of the resist film,
By exposing the pattern of the optical waveguide core portion through the transparent layer and then developing, a trapezoidal groove is formed in which the inclination angle of the groove side wall surface portion of the resist film is 90 ° or more with respect to the groove bottom. And a step of carrying out.
【０００７】また、前記透明層を形成する工程は、露光
することにより前記レジスト膜の表面に透明層を形成す
る工程であることにより、新たに成膜することなくフォ
トレジスト膜とフォトマスク膜との微小間隔を均一にす
ることができる。さらに、前記透明層を形成する工程
は、前記レジスト膜の上に水溶性の透明層を成膜する工
程であることにより、この透明層は、現像・リンス時に
容易に除去され、金型作製工程に影響を与えることはな
い。また、本発明のマスタ原板の製造方法は、マスタ基
板にレジスト膜を塗布する工程と、該レジスト膜の表面
に露光光が透過する透明層を形成する工程と、光導波路
コア部のパターンを該透明層を介して露光してから、現
像することにより、前記レジスト膜の溝側壁面部の傾斜
角度が溝底部に対して９０度以上をなす台形形状の溝を
形成する工程と、を具備する方法である。Further, the step of forming the transparent layer is a step of forming a transparent layer on the surface of the resist film by exposing, so that a photoresist film and a photomask film can be formed without forming a new film. Can be made uniform. Further, since the step of forming the transparent layer is a step of forming a water-soluble transparent layer on the resist film, the transparent layer is easily removed at the time of development and rinsing, and a mold preparation step Does not affect Further, the method for manufacturing a master master plate of the present invention includes a step of applying a resist film to a master substrate, a step of forming a transparent layer through which exposure light passes on the surface of the resist film, and a step of forming a pattern of an optical waveguide core. Exposing through a transparent layer and then developing to form a trapezoidal groove in which the inclination angle of the groove side wall surface of the resist film is 90 degrees or more with respect to the groove bottom. It is.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態に係
わる高分子光導波路の製造方法を図面を参照して説明す
る。まず、図１により、微細な溝を表面に設けた高分子
クラッド基板の作製法について説明する。最初に、図１
（ａ）において、ポジ型フォトレジスト膜２をガラス基
板１上にスピンコート法で塗布する。次に、図１（ｂ）
において、フォトレジスト膜２の表面全面を紫外線３で
露光する。これにより、図１（ｃ）に示すように、フォ
トレジスト膜２の表面に露光紫外線３に対して透過率の
高い透明層４が形成される。次に、図１（ｄ）におい
て、導波路コアに相当する部分に窓５の開いたフォトマ
スク６をフォトレジスト膜２の表面に密着させて紫外線
３でパターニング露光する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a polymer optical waveguide according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, a method for manufacturing a polymer clad substrate having fine grooves provided on the surface will be described with reference to FIG. First, FIG.
1A, a positive photoresist film 2 is applied on a glass substrate 1 by spin coating. Next, FIG.
, The entire surface of the photoresist film 2 is exposed to ultraviolet light 3. As a result, as shown in FIG. 1C, a transparent layer 4 having a high transmittance with respect to the exposure ultraviolet light 3 is formed on the surface of the photoresist film 2. Next, in FIG. 1D, a photomask 6 having a window 5 opened at a portion corresponding to the waveguide core is brought into close contact with the surface of the photoresist film 2 and is subjected to patterning exposure with ultraviolet light 3.
【０００９】これを現像及びリンスすることにより、図
１（ｅ）に示すように、導波路のコアに相当する断面部
分が溝７になっているパターンがフォトレジスト膜２に
転写される。このとき、フォトレジスト膜２の表面には
透明層４が形成されているため、フォトマスク６を通し
た露光はフォトマスク６とフォトレジスト膜２の間に一
定のギャップの空いたプロキシミティ露光となる。その
結果、フォトマスク６通過後の露光紫外線３の回折によ
り、溝７の断面形状は、図３（ａ）に示すように、溝底
面７ａに対する溝側壁面７ｂの傾斜角度θが９０度以上
の形状、すなわち、溝底面７ａから表面にいくに従って
溝幅ｔの広くなる台形形状となっている。これは、溝７
の断面形状が、正方形や長方形であるよりも、樹脂の離
形性が良好になるための配慮である。By developing and rinsing this, as shown in FIG. 1E, a pattern having a groove 7 in a cross section corresponding to the core of the waveguide is transferred to the photoresist film 2. At this time, since the transparent layer 4 is formed on the surface of the photoresist film 2, the exposure through the photomask 6 is the same as the proximity exposure with a certain gap between the photomask 6 and the photoresist film 2. Become. As a result, due to the diffraction of the exposure ultraviolet light 3 after passing through the photomask 6, the cross-sectional shape of the groove 7 is such that the inclination angle θ of the groove side wall surface 7b with respect to the groove bottom surface 7a is 90 degrees or more, as shown in FIG. It has a trapezoidal shape in which the groove width t increases from the groove bottom surface 7a to the surface. This is groove 7
This is because the cross-sectional shape of the resin is better than that of a square or a rectangle so that the releasability of the resin is improved.
【００１０】図１（ｆ）において、このレジストパター
ンをマスタ原板Ｍとして、メッキにより金型１０を作製
する。この金型１０はマスタ原板Ｍの溝７に対応した凸
部１０ａが形成されている。そして、この金型１０を使
用して射出成形法によって、図１（ｇ）のように溝１１
のある構造が表面に形成された高分子クラッド基板１２
を作製する。このクラッド基板１２の溝１１はマスタ原
板Ｍの溝７を転写した形状となっている。次に、上記ク
ラッド基板１２を用いた高分子光導波路の作製方法につ
いて、図２により説明する。In FIG. 1F, a mold 10 is manufactured by plating using the resist pattern as a master master M. The mold 10 has a convex portion 10a corresponding to the groove 7 of the master master plate M. Then, as shown in FIG. 1 (g), the grooves 11 are formed by injection molding using the mold 10.
Polymer clad substrate 12 having a structure having a surface formed thereon
Is prepared. The groove 11 of the clad substrate 12 has a shape obtained by transferring the groove 7 of the master master plate M. Next, a method of manufacturing a polymer optical waveguide using the clad substrate 12 will be described with reference to FIG.
【００１１】図２（ａ）において、前工程で微細な溝１
１が形成されたクラッド基板１２の表面にモノマー状態
のコア材料１３を滴下し、これをスキージゴム１４を用
いて掃き取り、溝１１の中だけにコア材料を充填する
（図２（ｂ））。コア材料１３の充填後、図２（ｃ）に
示すように、紫外線３をクラッド基板１２表面全体に照
射してコア材料１３を重合させる。コア材料１３の硬化
後、図２（ｄ）に示すように、モノマー状態のクラッド
材料１５を上記クラッド基板１２表面に塗布する。この
クラッド材料１５を接着材として補強基板１６を貼り付
けて、紫外線３照射によりクラッド層１５を硬化させて
補強基板１６を接着する（図２（ｅ））。このようにし
て埋め込み型の高分子光導波路が作製される。In FIG. 2A, fine grooves 1 are formed in a pre-process.
A core material 13 in a monomer state is dropped on the surface of the clad substrate 12 on which 1 is formed, and this is swept using a squeegee rubber 14 to fill only the groove 11 with the core material (FIG. 2B). After filling the core material 13, as shown in FIG. 2C, the entire surface of the clad substrate 12 is irradiated with ultraviolet rays 3 to polymerize the core material 13. After the core material 13 is cured, a cladding material 15 in a monomer state is applied to the surface of the cladding substrate 12 as shown in FIG. A reinforcing substrate 16 is attached using the clad material 15 as an adhesive, and the clad layer 15 is cured by irradiation with ultraviolet light 3 to bond the reinforcing substrate 16 (FIG. 2E). In this way, a buried polymer optical waveguide is manufactured.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 〔実施例１〕図１（ａ）において、膜厚が９．６μｍの
ポジ型フォトレジスト膜２をガラス基板１上にスピンコ
ート法で塗布した。次に、図１（ｂ）において、フォト
レジスト膜２の表面全面を紫外線３で露光した。露光量
は、３６５ｎｍの波長において２０ｍＪ／ｃｍ2 であっ
た。これにより、図１（ｃ）に示すように、フォトレジ
スト膜２の表面に露光紫外線３に対して透過率の高い透
明層４が形成された。次に、図１（ｄ）のように幅８μ
ｍの窓５の開いたフォトマスク６をフォトレジスト膜２
の表面に密着させて紫外線３でパターニング露光した。
このときの露光量は波長３６５ｎｍの波長において１７
０ｍＪ／ｃｍ2 とした。The present invention will be described below in detail with reference to examples. Example 1 In FIG. 1A, a positive type photoresist film 2 having a thickness of 9.6 μm was applied on a glass substrate 1 by a spin coating method. Next, in FIG. 1B, the entire surface of the photoresist film 2 was exposed to ultraviolet light 3. The exposure amount was 20 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm. As a result, as shown in FIG. 1C, a transparent layer 4 having a high transmittance with respect to the exposure ultraviolet light 3 was formed on the surface of the photoresist film 2. Next, as shown in FIG.
The photomask 6 having the window 5 of the m.
And exposed to patterning with ultraviolet light 3.
The exposure amount at this time is 17 at a wavelength of 365 nm.
0 mJ / cm 2 .
【００１３】これを現像及びリンスすることにより、図
１（ｅ）に示すように、導波路のコアに相当する断面部
分が、幅８．５μｍ、深さ８μｍの溝７になっているパ
ターンがフォトレジスト膜２に転写された。現像の際に
除去された表面透明層４の厚さは１．６μｍであり、傾
斜角度θは１０２度であった。また、溝７の上部にひさ
し構造は見られなかった。隣り合う溝７の間隔は１４μ
ｍであった。By developing and rinsing this, as shown in FIG. 1E, a pattern in which a cross section corresponding to the core of the waveguide is a groove 7 having a width of 8.5 μm and a depth of 8 μm is obtained. The image was transferred to the photoresist film 2. The thickness of the surface transparent layer 4 removed at the time of development was 1.6 μm, and the inclination angle θ was 102 degrees. Also, no eaves structure was seen above the groove 7. The interval between adjacent grooves 7 is 14μ
m.
【００１４】このレジストパターンをマスタ原板Ｍとし
て、図１（ｆ）のようにメッキにより金型１０を作製し
た。この金型１０を使用し、ＰＭＭＡ（polymethylmeth
acrylate）材料を用いた射出成形法によって、図１
（ｇ）のように、幅８．５μｍ、深さ８μｍの溝１１の
ある構造がその表面に形成された高分子クラッド基板１
２を作製した。射出成形離形時に基板の歪みは発生しな
かった。次に、図２（ａ）において、微細な溝１１を形
成したクラッド基板１２の表面にモノマー状態のコア材
料１３を滴下し、これをスキージゴム１４を用いて掃き
取り、溝１１の中だけにコア材料を充填した。Using the resist pattern as a master master M, a mold 10 was prepared by plating as shown in FIG. Using this mold 10, PMMA (polymethylmeth
1) by the injection molding method using acrylate) material.
(G) A polymer clad substrate 1 in which a structure having a groove 11 having a width of 8.5 μm and a depth of 8 μm is formed on its surface as shown in FIG.
2 was produced. No substrate distortion occurred during injection molding release. Next, in FIG. 2A, a core material 13 in a monomer state is dropped on the surface of the clad substrate 12 in which the fine grooves 11 are formed, and the core material 13 is swept with a squeegee rubber 14 so that the cores are left only in the grooves 11. The material was filled.
【００１５】コア材料１３には、紫外線硬化樹脂である
サマーズオプティカル社のＪ−９１を用いた。コア材料
充填後、紫外線３をクラッド基板１２表面全体に照射し
てコア材料１３を重合させ（図２（ｃ））、コア材料１
３の硬化後、モノマー状態のクラッド材料１５を上記ク
ラッド基板１２表面に塗布した（図２（ｄ））。これを
接着材としてＰＭＭＡ基板を補強材１６として貼り付け
て、紫外線３照射によりクラッド層１５を硬化させて基
板１６を接着した（図２（ｅ））。クラッド材料１５に
はサマーズオプティカル社のＳＫ９を用いた。このよう
にして埋め込み型の高分子光導波路を作製した。この光
導波路に、波長５３２ｎｍのレーザを入射させて、入
射、出射損失を測定したところ、コア間のクロストーク
なしで０．１ｄＢ／ｃｍと良好な特性を得ることができ
た。また、コア間の透過損失バラツキも１％以内に抑え
ることができた。As the core material 13, a UV-curable resin J-91 manufactured by Summers Optical Co., Ltd. was used. After filling the core material, the entire surface of the clad substrate 12 is irradiated with ultraviolet light 3 to polymerize the core material 13 (FIG. 2 (c)).
After curing of No. 3, a clad material 15 in a monomer state was applied to the surface of the clad substrate 12 (FIG. 2D). Using this as an adhesive, a PMMA substrate was attached as a reinforcing material 16, and the cladding layer 15 was cured by irradiation with ultraviolet light 3 to bond the substrate 16 (FIG. 2 (e)). SK9 manufactured by Summers Optical Co. was used as the cladding material 15. Thus, a buried polymer optical waveguide was produced. A laser having a wavelength of 532 nm was made incident on this optical waveguide, and the incidence and emission losses were measured. As a result, good characteristics of 0.1 dB / cm could be obtained without crosstalk between cores. In addition, variations in transmission loss between the cores could be suppressed to within 1%.
【００１６】〔実施例２〕図１（ａ）におけるフォトレ
ジスト膜２の膜厚を１０．４μｍ、図１（ｂ）における
全面露光の照射量を３０ｍＪ／ｃｍ2 とし、レジスト表
面層の厚さを実施例１より増加させた。この結果、導波
路のコアに相当する断面部分において、傾斜角度θが１
１０度となった。そして溝の幅は８．５μｍ、深さは８
μｍの形状がフォトレジスト膜２に転写され、溝上部に
ひさし構造は見られなかった。この光導波路に波長５３
２ｎｍのレーザを入射させて、入射、出射損失を除いた
透過損失を測定したところ、コア間のクロストークなし
で、０．１ｄＢ／ｃｍと良好な特性を得ることができ
た。また、コア間の透過損失バラツキも、１％以内に抑
えることができた。[Embodiment 2] The photoresist film 2 in FIG. 1A has a thickness of 10.4 μm, and the entire surface exposure dose in FIG. 1B is 30 mJ / cm 2. Was increased from Example 1. As a result, in the section corresponding to the core of the waveguide, the inclination angle θ is 1
It was 10 degrees. The width of the groove is 8.5 μm and the depth is 8
The μm shape was transferred to the photoresist film 2, and no eaves structure was seen above the groove. This optical waveguide has a wavelength of 53.
When a 2 nm laser was applied and the transmission loss excluding the incidence and emission losses was measured, good characteristics of 0.1 dB / cm could be obtained without crosstalk between the cores. In addition, variations in transmission loss between cores could be suppressed to within 1%.
【００１７】上記の各実施例においては、フォトレジス
ト膜２表面の透明層４の形成に露光紫外線３の短時間全
面露光を用いたが、この方法に限定されない。例えば、
水溶性の透明ポリマー層を、レジストスピンコート、プ
リベーク後にレジスト表面に成膜してもよい。この場
合、透明層は、現像・リンス時に容易に除去され、金型
１０作製工程に影響を与えることはない。In each of the above embodiments, the short-time full exposure of the exposure ultraviolet light 3 is used for forming the transparent layer 4 on the surface of the photoresist film 2, but the method is not limited to this method. For example,
A water-soluble transparent polymer layer may be formed on the resist surface after resist spin coating and prebaking. In this case, the transparent layer is easily removed at the time of development and rinsing, and does not affect the mold 10 manufacturing process.
【００１８】また、これらの場合、透明層４の厚さを変
える方法としても、スピンコート塗布法におけるスピン
回転数の制御、ディッピング塗布法におけるディッピン
グ条件の制御等があり、容易に透明層４の厚さを制御す
ることが可能である。また、上記実施例では、光導波路
作製方法として、スキージ１４を用いた余分コア材料の
掃き取り方法を用いたが、これに限定するものではな
い。例えば、表面に溝を持った高分子クラッド基板表面
にコア材料を滴下した後、上部クラッド基板を圧力をか
けて貼り合わせ、余分なコア材料を除去した後、コア材
料を硬化させる方法でもよい。あるいは、ディスペンサ
を用いて溝の中だけにコア材料を注入する方法でもよ
い。In these cases, methods for changing the thickness of the transparent layer 4 include controlling the number of spins in the spin coating method and controlling the dipping conditions in the dipping method. It is possible to control the thickness. Further, in the above-described embodiment, as a method of manufacturing an optical waveguide, a method of sweeping an extra core material using a squeegee 14 is used, but the present invention is not limited to this. For example, a method in which a core material is dropped on the surface of a polymer clad substrate having a groove on the surface, the upper clad substrate is bonded by applying pressure, excess core material is removed, and the core material is cured may be used. Alternatively, a method of injecting the core material only into the groove using a dispenser may be used.
【００１９】[0019]
【発明の効果】以上、詳述したように、本発明によれ
ば、レジスト膜の表面に透明層を形成して露光すること
により、クラッド基板作製用の金型の元になるマスタ原
板の溝の断面形状を、逆台形形状としたので、該マスタ
原板により作製した金型を使用して射出成形により前記
クラッド基板を作製すると、金型に流し込んだ樹脂を変
形させることなく容易に離形でき、離形時に発生しやす
い溝やクラッド基板自体の変形を防止することができ
る。このように、離形時のクラッド基板変形により発生
する溝やクラッド基板自体の変形を防ぐことにより、導
波路のパターン形状やその面積の大小に関係なく、パタ
ーン全面にわたって再現性よく、均一なコア断面形状を
得ることができる。また、離形時に発生する変形による
コア材料掃き残しの増大、導波光の透過率の低下やその
バラツキの増大も防ぐことができる。As described above in detail, according to the present invention, a transparent layer is formed on the surface of a resist film and exposed, thereby forming a groove on a master master plate which is a base of a mold for manufacturing a clad substrate. Since the cross-sectional shape of the substrate is an inverted trapezoidal shape, if the clad substrate is manufactured by injection molding using a mold manufactured from the master plate, the resin poured into the mold can be easily released without deformation. In addition, it is possible to prevent the grooves and the clad substrate itself from being easily deformed during mold release. In this way, by preventing the deformation of the grooves and the cladding substrate itself caused by the deformation of the cladding substrate during mold release, a uniform core with good reproducibility over the entire pattern, regardless of the waveguide pattern shape or the size of the area. A cross-sectional shape can be obtained. Further, it is possible to prevent an increase in unswept core material due to deformation occurring at the time of mold release, a decrease in transmittance of guided light, and an increase in variation thereof.
【図１】本発明の一実施の形態の光導波路の製造方法を
示すもので、クラッド基板の製造工程図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing an optical waveguide according to an embodiment of the present invention, which is a manufacturing process diagram of a clad substrate.
【図２】本発明の一実施の形態の光導波路の製造方法を
示すもので、光導波路の製造工程図である。FIG. 2 is a view illustrating a method of manufacturing an optical waveguide according to an embodiment of the present invention, and is a view illustrating a manufacturing process of the optical waveguide.
【図３】マスタ原板の溝形状を示す断面図で、（ａ）は
本発明のもの、（ｂ）は従来のものを示している。FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views showing a groove shape of a master master plate, wherein FIG.
１ ガラス基板 ２ レジスト膜 ４ 透明層 ６ フォトマスク ７ 溝 ７ａ 溝底面 ７ｂ 溝側壁面 １０ 金型 １１ クラッド基板の溝 １２ クラッド基板 θ 傾斜角度 Ｍ マスタ原板 Reference Signs List 1 glass substrate 2 resist film 4 transparent layer 6 photomask 7 groove 7a groove bottom surface 7b groove side wall surface 10 mold 11 groove of clad substrate 12 clad substrate θ tilt angle M master master plate
Claims (6)
原板に基づいて金型を作製する工程と、該金型に基づい
てクラッド基板を作製する工程と、該クラッド基板に光
導波路を作製する工程とを具備する光導波路の製造方法
において、 前記マスタ原板を作製する工程は、マスタ基板にレジス
ト膜を塗布する工程と、該レジスト膜の表面に露光光が
透過する透明層を形成する工程と、光導波路コア部のパ
ターンを該透明層を介して露光してから、現像すること
により、前記レジスト膜の溝側壁面部の傾斜角度が溝底
部に対して９０度以上をなす台形形状の溝を形成する工
程と、を具備することを特徴とする光導波路の製造方
法。1. A step of manufacturing a master plate, a step of forming a mold based on the master plate, a step of forming a clad substrate based on the die, and forming an optical waveguide in the clad substrate. In the method for manufacturing an optical waveguide comprising the steps of: a step of producing a master plate, a step of applying a resist film on the master substrate, and a step of forming a transparent layer through which exposure light is transmitted on the surface of the resist film By exposing the pattern of the optical waveguide core portion through the transparent layer and then developing, a trapezoidal groove in which the inclination angle of the groove side wall surface portion of the resist film is 90 degrees or more with respect to the groove bottom portion is formed. Forming the optical waveguide.
ことにより前記レジスト膜の表面に透明層を形成する工
程であることを特徴とする請求項１記載の光導波路の製
造方法。2. The method according to claim 1, wherein the step of forming the transparent layer is a step of forming a transparent layer on the surface of the resist film by exposing.
スト膜の上に水溶性の透明層を成膜する工程であること
を特徴とする請求項１記載の光導波路の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the step of forming the transparent layer is a step of forming a water-soluble transparent layer on the resist film.
と、該レジスト膜の表面に露光光が透過する透明層を形
成する工程と、光導波路コア部のパターンを該透明層を
介して露光してから、現像することにより、前記レジス
ト膜の溝側壁面部の傾斜角度が溝底部に対して９０度以
上をなす台形形状の溝を形成する工程と、を具備するこ
とを特徴とする光導波路製造のためのマスタ原板の製造
方法。4. A step of applying a resist film on a master substrate, a step of forming a transparent layer through which exposure light passes on the surface of the resist film, and exposing a pattern of an optical waveguide core portion through the transparent layer. Forming a trapezoidal groove in which the inclination angle of the groove side wall surface portion of the resist film is at least 90 degrees with respect to the groove bottom portion by developing the resist film. Manufacturing method of master master plate.
ことにより前記レジスト膜の表面に透明層を形成する工
程であることを特徴とする請求項４記載の光導波路製造
のためのマスタ原板の製造方法。5. The master plate for manufacturing an optical waveguide according to claim 4, wherein the step of forming the transparent layer is a step of forming a transparent layer on the surface of the resist film by exposing. Manufacturing method.
スト膜の上に水溶性の透明層を成膜する工程であること
を特徴とする請求項４記載の光導波路製造のためのマス
タ原板の製造方法。6. The master plate for manufacturing an optical waveguide according to claim 4, wherein the step of forming the transparent layer is a step of forming a water-soluble transparent layer on the resist film. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11196198A JPH11305055A (en) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11196198A JPH11305055A (en) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguide |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11305055A true JPH11305055A (en) | 1999-11-05 |
Family
ID=14574493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11196198A Pending JPH11305055A (en) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguide |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11305055A (en) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002027768A3 (en) * | 2000-09-27 | 2002-08-22 | Nuep2 Inc | Fabrication of semiconductor devices |
| JP2004505308A (en) * | 2000-07-28 | 2004-02-19 | グッドリッチ コーポレイション | Optical waveguide and manufacturing method thereof |
| KR100444180B1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-08-11 | 한국전자통신연구원 | Method of manufacturing 2-dimensional polymeric optical waveguide using hot embossing process |
| US6847773B2 (en) | 2002-06-27 | 2005-01-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical waveguide and method for manufacturing the same |
| US6950588B2 (en) | 2002-02-19 | 2005-09-27 | Omron Corporation | Optical wave guide, an optical component and an optical switch |
| WO2006001452A1 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Omron Corporation | Optical waveguide, optical waveguide module, optical transmission apparatus, and method for fabricating optical waveguide |
| WO2006098431A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Yamaha Corporation | 3-axis magnetic sensor and manufacturing method thereof |
| WO2006098367A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method thereof |
| JP2006261400A (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and its fabrication process |
| JP2006267023A (en) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Yamaha Corp | Manufacturing method of magnetic sensor |
| JP2006278440A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Yamaha Corp | Magnetic sensor |
| JP2006278894A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Yamaha Corp | Magnetic sensor |
| JP2006310585A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and its manufacturing method |
| US7155103B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-26 | Omron Corporation | Optical wave guide and method for producing the same |
| KR100688845B1 (en) | 2005-05-16 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | A method for manufacturing optical-waveguides, optical-electricity PCB with the optical-waveguides and method for manufacturing the same |
| JP2007157979A (en) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and method of manufacturing same |
| JP2008197326A (en) * | 2007-02-13 | 2008-08-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical transmission member and manufacturing method therefor |
| US7687284B2 (en) | 2005-01-13 | 2010-03-30 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method therefor |
-
1998
- 1998-04-22 JP JP11196198A patent/JPH11305055A/en active Pending
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004505308A (en) * | 2000-07-28 | 2004-02-19 | グッドリッチ コーポレイション | Optical waveguide and manufacturing method thereof |
| US6586327B2 (en) | 2000-09-27 | 2003-07-01 | Nup2 Incorporated | Fabrication of semiconductor devices |
| JP2004523881A (en) * | 2000-09-27 | 2004-08-05 | ニューピーツー・インコーポレイテッド | Manufacture of semiconductor devices |
| WO2002027768A3 (en) * | 2000-09-27 | 2002-08-22 | Nuep2 Inc | Fabrication of semiconductor devices |
| US7507663B2 (en) | 2000-09-27 | 2009-03-24 | Contour Semiconductor, Inc. | Fabrication of semiconductor devices |
| CN100435347C (en) * | 2000-09-27 | 2008-11-19 | Nup2公司 | Fabrication of semiconductor devices |
| US7183206B2 (en) | 2000-09-27 | 2007-02-27 | Contour Semiconductor, Inc. | Fabrication of semiconductor devices |
| US7155103B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-26 | Omron Corporation | Optical wave guide and method for producing the same |
| US6950588B2 (en) | 2002-02-19 | 2005-09-27 | Omron Corporation | Optical wave guide, an optical component and an optical switch |
| US6847773B2 (en) | 2002-06-27 | 2005-01-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical waveguide and method for manufacturing the same |
| KR100444180B1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-08-11 | 한국전자통신연구원 | Method of manufacturing 2-dimensional polymeric optical waveguide using hot embossing process |
| WO2006001452A1 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Omron Corporation | Optical waveguide, optical waveguide module, optical transmission apparatus, and method for fabricating optical waveguide |
| CN100412581C (en) * | 2004-06-28 | 2008-08-20 | 欧姆龙株式会社 | Optical waveguide, optical waveguide module, optical transmission apparatus, and method for fabricating optical waveguide |
| US7551829B2 (en) | 2004-06-28 | 2009-06-23 | Omron Corporation | Waveguide, waveguide module, optical transmission device, and method of manufacturing waveguide |
| US7687284B2 (en) | 2005-01-13 | 2010-03-30 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method therefor |
| JP2006261400A (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and its fabrication process |
| WO2006098367A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method thereof |
| WO2006098431A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Yamaha Corporation | 3-axis magnetic sensor and manufacturing method thereof |
| KR100950615B1 (en) | 2005-03-17 | 2010-04-01 | 야마하 가부시키가이샤 | 3-axis magnetic sensor and manufacturing method thereof |
| US8178361B2 (en) | 2005-03-17 | 2012-05-15 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method therefor |
| US9054028B2 (en) | 2005-03-17 | 2015-06-09 | Yamaha Corporation | Magnetic sensor and manufacturing method therefor |
| JP2006267023A (en) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Yamaha Corp | Manufacturing method of magnetic sensor |
| JP2006278440A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Yamaha Corp | Magnetic sensor |
| JP2006278894A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Yamaha Corp | Magnetic sensor |
| JP2006310585A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and its manufacturing method |
| KR100688845B1 (en) | 2005-05-16 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | A method for manufacturing optical-waveguides, optical-electricity PCB with the optical-waveguides and method for manufacturing the same |
| JP2007157979A (en) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Yamaha Corp | Magnetic sensor and method of manufacturing same |
| JP2008197326A (en) * | 2007-02-13 | 2008-08-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical transmission member and manufacturing method therefor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11305055A (en) | Production of optical waveguide and production of master raw glass for production of optical waveguide | |
| US5230990A (en) | Method for producing an optical waveguide array using a resist master | |
| US5298366A (en) | Method for producing a microlens array | |
| KR100508197B1 (en) | Method of manufacturing microlens array plate | |
| JP2968508B2 (en) | Manufacturing method of optical waveguide device | |
| JPH02131202A (en) | Manufacture of optical waveguide | |
| JPH09281351A (en) | Production of high-polymer optical waveguide | |
| JPH1090544A (en) | Manufacture of waveguide type optical element | |
| JPS61138903A (en) | Production of optical waveguide | |
| JP2007334235A (en) | Manufacturing method of optical waveguide | |
| JPH1090532A (en) | Optical waveguide and its production | |
| KR100371097B1 (en) | method for manufacturing a mold for a light guide panel | |
| JP3077188B2 (en) | Manufacturing method of optical waveguide | |
| JPH11174247A (en) | High polymer optical waveguide and manufacture therefor | |
| JPH10307226A (en) | Production of high-polymer optical waveguide | |
| JPH10221556A (en) | Manufacture of waveguide | |
| JPH10268152A (en) | Optical waveguide forming method using polymer material | |
| JP4692405B2 (en) | Optical waveguide, method for manufacturing the same, and optical communication module | |
| JP4279772B2 (en) | Manufacturing method of optical waveguide | |
| JPS63293509A (en) | Production of optical circuit board | |
| JPH08327844A (en) | Production of optical waveguide | |
| JPH0486707A (en) | Production of optical waveguide | |
| KR100678342B1 (en) | Fabrication method for optical waveguide device | |
| JPH04165310A (en) | Manufacture of photo waveguide passage | |
| KR101083341B1 (en) | Fabrication of Polymer Waveguides |