JPH11302851A - Cvd装置の原料ガス捕集トラップ - Google Patents

Cvd装置の原料ガス捕集トラップ

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JPH11302851A
JPH11302851A JP10669198A JP10669198A JPH11302851A JP H11302851 A JPH11302851 A JP H11302851A JP 10669198 A JP10669198 A JP 10669198A JP 10669198 A JP10669198 A JP 10669198A JP H11302851 A JPH11302851 A JP H11302851A
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JP
Japan
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trap
raw material
gas
inner cylinder
material gas
Prior art date
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Application number
JP10669198A
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English (en)
Inventor
Yuji Araki
裕二 荒木
Yuji Abe
▲祐▼士 阿部
Kuniaki Horie
邦明 堀江
Hidenao Suzuki
秀直 鈴木
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 トラップ容器のガス入口からガス出口付近ま
での広範囲にわたり原料ガスが凝結捕集ができ、内部体
積利用率が高いCVD装置の原料ガス捕集トラップを提
供すること。 【解決手段】 CVD装置の排気ライン又は気化器ベン
トラインに挿入接続して使用する原料ガス捕集トラップ
であって、トラップ容器1と、該トラップ容器1に原料
ガスを導入するガス入口2と、該トラップ容器1と真空
系を接続するガス出口3とを備え、トラップ容器1は内
筒5と該内筒5を覆う外筒4を具備し、ガス入口2から
該トラップ容器1内に流入した原料ガスは該内筒5と外
筒4の間を該内筒5の外面に沿って連続的に流れ、更に
流路断面がガス入口2からガス出口3に向かうに従い小
さくなるように構成している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はCVD装置、特に有
機金属液体原料を用いるMOCVD装置の排気ライン又
は気化器ベントラインに挿入接続して使用するのに好適
な原料ガス捕集トラップに関するものである。
【0002】
【従来の技術】有機金属液体原料は、気化させた後に気
相を維持できる温度範囲が狭く、温度が気化温度より下
がると凝結し、上がると分解するという性質を持ってい
る。そのため、真空ポンプでの凝結を防ぎ、該真空ポン
プを保護するために、該真空ポンプの前段に原料ガスを
捕集するための原料ガス捕集トラップを設け、原料ガス
を捕集する必要がある。
【0003】図7は従来のこの種の原料ガス捕集トラッ
プの構成例を示す図である。原料ガス捕集トラップはト
ラップ容器101内に入口103から流入する原料ガス
を含むガス106の流れに対して直交する捕集面を有す
る複数枚の捕集板102が配置された構成であり、入口
103から流入するガス106に含まれる原料ガスはト
ラップ容器101内に流入し、表面温度が気化温度より
低い捕集板102に衝突し、凝結して捕集される。原料
ガスの除去されたガス106は出口104から排出され
る。
【0004】図8は従来のこの種の原料ガス捕集トラッ
プの他の構成例を示す図である。本原料ガス捕集トラッ
プはトラップ容器101内に入口103から流入するガ
ス106の流れに対して平行な捕集面を有する複数枚の
捕集板105が配置された構成であり、入口103から
流入するガス106に含まれる原料ガスはトラップ容器
101内に流入し、表面温度が気化温度より低い捕集板
105に沿って流れる間に凝結して捕集され、原料ガス
の除去されたガス106は出口104から排出される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図7に示すように、原
料ガスの流れに対して直交する面を有する捕集板102
が配置された構成の原料ガス捕集トラップでは、原料ガ
スが気化温度より低い温度の捕集板102に衝突すると
すぐに凝結するため、図9の斜線を付した部分Aに示す
ように入口103の近傍の捕集板102で原料ガスの殆
どが凝結捕集され、その後流側で原料ガスが凝縮するこ
とがなく、やがては入口103の付近でトラップ容器1
01内のガス流路が閉塞されてしまい、トラップ容器1
01の内部容積の利用率が悪い。そのため原料捕集トラ
ップの寿命が短く、交換頻度が多いという問題があっ
た。
【0006】また、図8のように、捕集板105の面が
原料ガスの流れに対して直交しない場合でも、トラップ
容器101内のガスの流路断面が入口103から出口1
04まで一定の場合は、図10の斜線を付した部分Bに
示すように、原料ガスは入口103の付近からガス流路
の中間部位までに殆どの原料ガスは凝結捕集されてしま
い、それ以降で凝結するのは少量であり、この場合もト
ラップ容器101の内部容積の利用率が悪く、原料ガス
捕集トラップの交換頻度が多いという問題があった。
【0007】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、トラップ容器のガス入口からガス出口付近までの広
範囲にわたり原料ガスの凝結捕集ができ、トラップ容器
の利用率の高いCVD装置の原料ガス捕集トラップを提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項1に記載の発明は、CVD装置の排気ライン又は
気化器ベントラインに挿入接続して使用する原料ガス捕
集トラップであって、トラップ容器と、該トラップ容器
に原料ガスを導入する入口と、該トラップ容器と真空系
を接続する出口とを備え、トラップ容器は内筒と該内筒
を覆う外筒を具備し、入口から該トラップ容器内に流入
した原料ガスは該内筒と外筒の間を該内筒の外面に沿っ
て連続的に流れ、更に流路断面を入口から出口に向かう
に従い小さくなるように構成していることを特徴とす
る。
【0009】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載のCVD装置の原料ガス捕集トラップにおいて、
トラップ容器の内筒が冷却媒体によって冷却できるよう
に構成したことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図1は本発明の原料ガス捕集ト
ラップの構成例を示す図である。本原料ガス捕集トラッ
プはトラップ容器1と、該トラップ容器1に原料ガスを
含むガスを導入するガス入口2と、該トラップ容器1を
真空ポンプ等の真空系に接続するガス出口3を備えてい
る。
【0011】トラップ容器1は内筒5と該内筒5を覆う
外筒4を具備している。内筒5の外表面は滑らかな流線
形状でその横断面積がガス入口2からガス出口3に向か
うに従い大きくなるように構成している。即ち、トラッ
プ容器1内を流れるガスの流路断面はガス入口2の付近
は大きく、ガス出口3に向かうに従って小さくなるよう
に構成している。
【0012】外筒4は上部外筒4aと下部外筒4bに分
割され、上部外筒4aと下部外筒4bはクランプ6によ
り結合されるようになっている。また、内筒5は下部外
筒4bに取付けられ、該内筒5の下端にはガスが流れ込
む複数のガス流入口5aが設けられている。
【0013】ガス入口2からトラップ容器1内に流入し
た原料ガスを含むガス7は内筒5と外筒4の間を内筒5
の外面に沿って連続的に流れ、原料ガスの気化温度より
低い内筒4の表面で原料ガスは凝結し、捕集されながら
下方に流れ、原料ガスが除去されたガス8はガス流入口
5aを通って内筒5の下方に流れ込み、ガス出口から真
空ポンプ等の真空系に排出される。
【0014】原料ガス捕集トラップを上記構成とするこ
とにより、トラップ容器1内でのガスの流路断面はガス
入口2付近は大きく、ガス出口3に向かうに従って小さ
くなるため、流路断面が一定の場合に比較して、図2の
斜線を付したC部分に示すように、内筒5の外周全面に
原料ガスを凝結させることができる。また、トラップ容
器1内に原料ガスの流れに直交しその気化温度より低い
捕集面を持たないため、一個所に原料ガスが凝結するこ
とを防ぐことができる。従って、トラップ容器1内の体
積有効利用率の向上を図ることができ、原料ガス捕集ト
ラップの寿命を長くすることができる。
【0015】図3は本発明の原料ガス捕集トラップの他
の構成例を示す図である。同図において、図1と同一符
号を付した部分は同一又は相当部分を示す。以下他の図
面においても同様とする。本原料ガス捕集トラップが図
1に示す原料ガス捕集トラップと相違する点は、図1で
は内筒5が表面が流線形状で横断面積がガス入口2から
ガス出口3に向かうに従い大きくなるように構成してい
るのに対し、本原料ガス捕集トラップでは内筒5が円錐
形状で横断面積がガス入口2からガス出口3に向かうに
従い大きくなるように構成している点である。その他の
点は図1のものと略同一である。
【0016】このような構成としても、図1に示すもの
と同様、内筒5の外周全面に原料ガスを凝結させること
ができると共に、トラップ容器1内に原料ガスの流れに
直交しその気化温度より低い捕集面を持たないため、一
個所に原料ガスが凝結することを防ぐことができ、トラ
ップ容器1内の体積有効利用率の向上を図ることができ
る。
【0017】図4は本発明の原料ガス捕集トラップの他
の構成例を示す図である。本原料ガス捕集トラップが図
3に示す原料ガス捕集トラップと相違する点は、図3で
は外筒4が直径が上下どの部分でも等しい円筒状である
のに対して、本原料ガス捕集トラップでは外筒4の上部
外筒4aが上方径が下方径より小さい円錐台形状をして
いる点であり、その他の点は図3のものと略同一であ
る。
【0018】このような構成としても、図3に示すもの
と同様、内筒5の外周全面に原料ガスを凝結させること
ができると共に、トラップ容器1内に原料ガスの流れに
直交しその気化温度より低い捕集面を持たないため、一
個所に原料ガスが凝結することを防ぐことができ、トラ
ップ容器1内の体積有効利用率の向上を図ることができ
る。
【0019】図5は本発明の原料ガス捕集トラップの他
の構成例を示す図である。本原料ガス捕集トラップが図
3に示す原料ガス捕集トラップと相違する点は、図3で
は内筒5を積極的に冷却する手段を備えていないのに対
して、本原料ガス捕集トラップでは内筒5を円錐状で内
部空間が密閉された構造とし、該内部空間5bに液体又
はガス状の冷却媒体を供給する冷媒供給管9と該冷却媒
体を排出する冷媒排出管10を設け、該内部空間5aに
冷媒を供給し内筒5を積極的に冷却できるようにしてい
る点である。その他の点は図3のものと略同一である。
【0020】上記のように内筒5の内部空間5aに冷却
冷媒を供給して、内筒を冷却することにより、気化温度
の低い原料の場合でもトラップ効率を向上させることが
できる。なお、内筒5を冷却する冷却手段はガス状の冷
却媒体を供給するものに限定されるものではなく、例え
ば内筒5の内壁面にジャケットを設け、該ジャケットに
液状の冷媒を供給して冷却するような構造としてもよ
い。
【0021】なお、上記原料ガス捕集トラップの構成は
一例であり、本発明はこれに限定されるものではなく、
要はトラップ容器は内筒と該内筒を覆う外筒を具備し、
入口からトラップ容器内に流入した原料ガスは内筒と外
筒の間を該内筒の外面に沿って連続的に流れ、更に流路
断面が前記入口から出口に向かうに従い小さくなるよう
な構成となっていればよい。
【0022】例えば、図6に示すように、内筒5を円柱
状とし、外筒4を円錐台を倒立させた構成としてもよ
い。これにより、流路断面がトラップ容器1のガス入口
2からガス出口3に向かうに従い小さくすることができ
る。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように各請求項に記載の発
明によれば下記のような優れた効果が得られる。
【0024】請求項1に記載の発明によれば、トラップ
容器は内筒と外筒を具備し、入口から該トラップ容器内
に流入した原料ガスは内筒と外筒の間を内筒の外面に沿
って連続的に流れ、更に流路断面が入口から出口に向か
うに従い小さくなるように構成しているので、内筒の外
周全面に原料ガスを凝結させることができると共に、一
個所に原料ガスが凝結することを防ぐことができ、トラ
ップ容器内の体積有効利用率を向上させ、原料ガス捕集
トラップの寿命を長くすることができる。
【0025】また、請求項2に記載の発明によれば、ト
ラップ容器の内筒を冷却媒体によって冷却できるように
構成したので、気化温度の低い原料ガスの場合でもトラ
ップ効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原料ガス捕集トラップの構成例を示す
図である。
【図2】本発明の原料ガス捕集トラップの原料ガスの凝
結状態を示す図である。
【図3】本発明の原料ガス捕集トラップの構成例を示す
図である。
【図4】本発明の原料ガス捕集トラップの構成例を示す
図である。
【図5】本発明の原料ガス捕集トラップの構成例を示す
図である。
【図6】本発明の原料ガス捕集トラップの構成例を示す
図である。
【図7】従来の原料ガス捕集トラップの構成例を示す図
である。
【図8】従来の原料ガス捕集トラップの構成例を示す図
である。
【図9】従来の原料ガス捕集トラップの原料ガスの凝結
状態を示す図である。
【図10】従来の原料ガス捕集トラップの原料ガスの凝
結状態を示す図である。
【符号の説明】
1 トラップ容器 2 ガス入口 3 ガス出口 4 外筒 5 内筒 6 クランプ 9 冷媒供給管 10 冷媒排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 秀直 東京都大田区羽田旭町11番1号 株式会社 荏原製作所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 CVD装置の排気ライン又は気化器ベン
    トラインに挿入接続して使用する原料ガス捕集トラップ
    であって、 トラップ容器と、該トラップ容器に原料ガスを導入する
    入口と、該トラップ容器と真空系を接続する出口とを備
    え、 前記トラップ容器は内筒と該内筒を覆う外筒を具備し、
    前記入口から該トラップ容器内に流入した原料ガスは該
    内筒と外筒の間を該内筒の外面に沿って連続的に流れ、
    更に流路断面を前記入口から前記出口に向かうに従い小
    さくなるように構成していることを特徴とするCVD装
    置の原料ガス捕集トラップ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のCVD装置の原料ガス
    捕集トラップにおいて、 前記トラップ容器の内筒が冷
    却媒体によって冷却できるように構成したことを特徴と
    するCVD装置の原料ガス捕集トラップ。
JP10669198A 1998-04-16 1998-04-16 Cvd装置の原料ガス捕集トラップ Pending JPH11302851A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140138289A (ko) 2012-03-19 2014-12-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 트랩 장치 및 성막 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140138289A (ko) 2012-03-19 2014-12-03 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 트랩 장치 및 성막 장치
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