JPH11296916A - Electronic beam device - Google Patents
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- JPH11296916A JPH11296916A JP9379698A JP9379698A JPH11296916A JP H11296916 A JPH11296916 A JP H11296916A JP 9379698 A JP9379698 A JP 9379698A JP 9379698 A JP9379698 A JP 9379698A JP H11296916 A JPH11296916 A JP H11296916A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の実施の形態】本発明は、光ディスクを作製する
ために必要な原盤を作製する場合に使用される電子ビー
ム装置に関する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to an electron beam apparatus used for producing a master required for producing an optical disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子情報処理装置において、情報記録媒
体として使用されるディスクのうち、CD−ROMや光
磁気ディスク(MO)等の光ディスクは、可搬型の大容
量記録媒体であることを特徴とし、広く使用されてい
る。2. Description of the Related Art In an electronic information processing apparatus, an optical disk such as a CD-ROM or a magneto-optical disk (MO) among the disks used as an information recording medium is a portable large-capacity recording medium. , Widely used.
【0003】これらの光ディスクは、ピット(凹部)を
有することから、たとえば、ガラス基板にレジスト層を
形成してなる原盤作製用ディスクを用意し、この原盤作
製用ディスクのレジスト層を加工して原盤を作製し、更
に、この原盤を使用してスタンパと呼ばれる金型を作製
した後、この金型を使用して作製される。[0003] Since these optical disks have pits (recesses), for example, a master disk is prepared by forming a resist layer on a glass substrate, and the resist layer of the master disk is processed to form a master disk. Is manufactured, and a mold called a stamper is manufactured using the master, and then manufactured using the mold.
【0004】従来、原盤は、光ディスクに記憶すべきデ
ジタル情報に応じたレーザビームを原盤作製用ディスク
のレジスト層に照射し、原盤作製用ディスクに必要なピ
ットを形成することにより作製されていた。Conventionally, the master has been manufactured by irradiating a resist layer of the master manufacturing disk with a laser beam corresponding to digital information to be stored on the optical disk to form pits necessary for the master manufacturing disk.
【0005】しかし、レーザビームを使用する原盤の作
製では、更なる高記録密度化が困難であると考えられる
ことから、電子ビームを使用する原盤の作製が検討され
ており、原盤作製に使用される種々の電子ビーム装置が
提案されている(特開平2−214046号公報、特開
平4−335226号公報、第44回春季応用物理学会
予稿集(1997)31a−NF−9)。However, in the production of a master using a laser beam, it is considered that it is difficult to further increase the recording density. Therefore, the production of a master using an electron beam has been studied. Various types of electron beam devices have been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-214046 and 4-335226, 44th Spring Applied Physics Society Proceedings (1997) 31a-NF-9).
【0006】特に、特開平2−214046号公報及び
特開平4−335226号公報においては、原盤作製用
ディスクの電子ビーム照射箇所を一括照射できないこと
に起因する電子ビーム装置の欠点である低スループット
を改善することを目的として、小型の電子ビーム鏡筒を
2次元に配列し、原盤作製用ディスクに対して同時に複
数の電子ビームを照射することができるようにした電子
ビーム装置が記載されている。[0006] In particular, JP-A-2-214046 and JP-A-4-335226 disclose low throughput, which is a drawback of an electron beam apparatus due to the inability to collectively irradiate an electron beam irradiation portion of a master disc. For the purpose of improvement, there is described an electron beam apparatus in which small electron beam barrels are two-dimensionally arranged so that a plurality of electron beams can be simultaneously applied to a master disc.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平2−2
14046号公報に記載されている電子ビーム装置や、
特開平4−335226号公報に記載されている電子ビ
ーム装置においては、動作不良の電子ビーム鏡筒を検出
することができず、動作不良の電子ビーム鏡筒が発生し
た場合、直ちに、これに対応することができず、作業効
率の大幅な低下を招いてしまうという問題点があった。However, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-2
No. 14046, an electron beam apparatus,
The electron beam apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-335226 cannot detect a malfunctioning electron beam column, and immediately responds to the occurrence of a malfunctioning electron beam column. And there is a problem that the work efficiency is greatly reduced.
【0008】また、従来の電子ビーム装置においては、
原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との位置合わせ
は、原盤作製用ディスクを保持するステージ機構系の精
度に依存したものであり、原盤作製用ディスクと電子ビ
ーム鏡筒群とを積極的に整合させる手段を有していなか
ったので、ピットの形成を高精度に行うことができない
場合があるという問題点があった。In a conventional electron beam apparatus,
The positioning of the master disk and the electron beam lens group depends on the precision of the stage mechanism that holds the master disk. Since there was no means for matching, there was a problem that pits could not be formed with high accuracy in some cases.
【0009】本発明は、かかる点に鑑み、複数の電子ビ
ームを配置してなる電子ビーム鏡筒群を備え、スループ
ットの向上を図ることができると共に、不良の電子ビー
ム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最
小限に抑えることができるようにした電子ビーム装置を
提供することを第1の目的とする。In view of the above, the present invention provides an electron beam lens barrel group in which a plurality of electron beams are arranged, thereby improving the throughput, and also, when a defective electron beam lens barrel occurs. Another object of the present invention is to provide an electron beam apparatus capable of minimizing a reduction in work efficiency.
【0010】また、本発明は、複数の電子ビームを配置
してなる電子ビーム鏡筒群を備え、スループットの向上
を図ることができると共に、不良の電子ビーム鏡筒が発
生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑え
ることができ、しかも、原盤作製用ディスクと電子ビー
ム鏡筒群との整合を図ることができ、原盤作製用ディス
クに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行
うことができるようにした電子ビーム装置を提供するこ
とを第2の目的とする。Further, the present invention includes an electron beam lens barrel group in which a plurality of electron beams are arranged, thereby improving the throughput and performing the operation even when a defective electron beam lens barrel occurs. The reduction in efficiency can be minimized, the disc for master fabrication can be aligned with the electron beam column group, and the information necessary for forming pits on the disc for master fabrication can be recorded with high precision. A second object is to provide an electron beam apparatus that can perform the operation.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明中、第1の発明の
電子ビーム装置は、原盤作製用ディスクを保持させて回
転させるための原盤作製用ディスク保持手段と、原盤作
製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスク
の回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記
録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録
用電子ビーム鏡筒群と、不良の情報記録用電子ビーム鏡
筒を検出する不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段と
を備えているというものである。According to the present invention, there is provided an electron beam apparatus according to a first aspect of the present invention, comprising: a disk holding means for holding and rotating a disk for manufacturing a master; and a disk holding means for manufacturing the master. A group of information-recording electron beam columns consisting of a plurality of information-recording electron beam columns that are rotationally symmetrically arranged at different radial distances from the center of rotation of the held master disk, and a defective information-recording electron. An electron beam column detecting means for recording defect information for detecting a beam column.
【0012】本発明中、第1の発明の電子ビーム装置に
よれば、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤
作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごと
に複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置し
てなる情報記録用電子ビーム鏡筒群を備えているので、
原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子
ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビ
ーム鏡筒で分担し、並行して行うことができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the first invention, a plurality of information recording electron beams are provided at different radial distances from the center of rotation of the master disc which is held by the master disc holding means. Since it has an information recording electron beam lens barrel group in which lens barrels are arranged rotationally symmetrically,
The irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation portion of the master disc can be performed by a plurality of rotationally symmetric electron beam columns for information recording and can be performed in parallel.
【0013】また、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を
検出する不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段を備え
ているので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を自動的
に検出することができ、しかも、原盤作製用ディスク保
持手段に保持させた原盤作製用ディスクの異なる半径方
向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対
称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群を備えて
いるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出した
ときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電
子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を回転対称に
ある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うこと
ができる。Further, since the apparatus includes the defect information recording electron beam column detecting means for detecting the defect information recording electron beam column, the defect information recording electron beam column can be automatically detected. A group of electron beam columns for information recording in which a plurality of electron beam column for information recording are rotationally symmetrically arranged at different radial distances of the disk for master production held by the disk holding means for disk production. Therefore, when a defective information recording electron beam column is detected, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column is performed in a rotationally symmetric other information recording mode. It can be performed using an electron beam lens barrel.
【0014】本発明中、第2の発明の電子ビーム装置
は、第1の発明において、複数の情報記録用電子ビーム
鏡筒の各々に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡
筒を備えているというものである。According to a second aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the first aspect is provided with a spare information recording electron beam column corresponding to each of the plurality of information recording electron beam columns. It is that there is.
【0015】本発明中、第2の発明の電子ビーム装置に
よれば、第1の発明の電子ビーム装置と同様に、原盤作
製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム
の照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡
筒で分担し、並行して行うことができると共に、不良の
情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情
報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所
に対する電子ビーム照射を予備の情報記録用電子ビーム
鏡筒を使用して行うことができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the second invention, similarly to the electron beam apparatus of the first invention, the irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation portion of the master disk is rotationally symmetric. A plurality of information recording electron beam columns can be shared and performed in parallel, and when a defective information recording electron beam column is detected, the defective information recording electron beam column The electron beam irradiation to the beam irradiation location can be performed using a spare information recording electron beam column.
【0016】本発明中、第3の発明の電子ビーム装置
は、第1又は第2の発明において、不良情報記録用電子
ビーム鏡筒検出手段は、原盤作製用ディスク保持手段に
保持させた原盤作製用ディスクからの反射電子又は2次
電子の検出量により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒
を検出するように構成されているというものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided an electron beam apparatus according to the first or second aspect, wherein the defect information recording electron beam column detecting means is provided in a master holding disc holding means. It is configured to detect a defective information recording electron beam column based on the amount of reflected electrons or secondary electrons detected from the disk.
【0017】本発明中、第3の発明の電子ビーム装置に
よれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の
作用を得ることができると共に、簡単な構成で、不良の
情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the third invention, it is possible to obtain the same operation as that of the electron beam apparatus of the first or second invention, and to record defective information with a simple configuration. The electron beam column for use can be detected.
【0018】本発明中、第4の発明の電子ビーム装置
は、第1又は第2の発明において、不良情報記録用電子
ビーム鏡筒検出手段は、電子ビーム電流の漏れ量を検出
することにより、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検
出するように構成されているというものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the first or second aspect, the defect information recording electron beam column detecting means detects an amount of leakage of the electron beam current. It is configured to detect a defective information recording electron beam column.
【0019】本発明中、第4の発明の電子ビーム装置に
よれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の
作用を得ることができると共に、簡単な構成で、不良の
情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができる。According to the present invention, according to the electron beam apparatus of the fourth invention, it is possible to obtain the same operation as that of the electron beam apparatus of the first or second invention, and to record defective information with a simple structure. The electron beam column for use can be detected.
【0020】本発明中、第5の発明の電子ビーム装置
は、第1、第2、第3又は第4の発明において、原盤作
製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスク
を一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディ
スクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム
照射量を出来る限り均等化する電子ビーム照射量均等化
手段を備えているというものである。In the present invention, the electron beam apparatus according to the fifth aspect of the present invention is the electron beam apparatus according to the first, second, third or fourth aspect, wherein the master disc is held at a constant angular velocity by the master disc holding means. An electron beam irradiation amount equalizing means for equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disc when rotated is provided as much as possible.
【0021】本発明中、第5の発明の電子ビーム装置に
よれば、第1、第2、第3又は第4の発明と同様の作用
を得ることができると共に、原盤作製用ディスクを一定
角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディス
クに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行
うことができる。According to the fifth aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the fifth aspect, the same operation as that of the first, second, third, or fourth aspect can be obtained, and the disk for producing the master is fixed at a constant angular velocity. In the case of rotating the disk, the information necessary for forming pits on the master disk can be recorded with high accuracy.
【0022】本発明中、第6の発明の電子ビーム装置
は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段
は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個以上
の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するもの
とし、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照射す
る情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク
保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの内周部から
外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡
筒を配置させることを含めて構成されているというもの
である。According to a sixth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect, the electron beam irradiation amount equalizing means includes the step of forming one or more pits on one or more information recording electron-producing portions of the master disc. The electron beam irradiation is performed by a beam column, and the number of electron beam column for information recording, which irradiates one pit forming portion of the master disk, is equal to the inner circumference of the master disk. It is configured to include the arrangement of the electron beam column for information recording so as to increase from the section to the outer periphery.
【0023】本発明中、第6の発明の電子ビーム装置に
よれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると
共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とする
ことができる。According to the sixth aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the sixth aspect, the same operation as that of the fifth aspect can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. .
【0024】本発明中、第7の発明の電子ビーム装置
は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段
は、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製
用ディスクに照射される電子ビームの電流量を制御する
ことにより、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた
原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合にお
ける原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積
あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するよう
に構成されているというものである。According to a seventh aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the fifth aspect of the present invention, in the fifth aspect, the electron beam irradiation amount equalizing means irradiates the original disc producing disc held by the original disc producing disc holding means. By controlling the amount of current of the electron beam, the disc per unit area at each point in the radial direction of the disc for producing the master when the disc for producing the master held by the disc holding means for master is rotated at a constant angular velocity is controlled. The configuration is such that the electron beam irradiation amount is made as uniform as possible.
【0025】本発明中、第7の発明の電子ビーム装置に
よれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると
共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とする
ことができる。According to the seventh aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the seventh aspect, the same operation as that of the fifth aspect can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. .
【0026】本発明中、第8の発明の電子ビーム装置
は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段
は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射する
電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤作製
用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを
一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディス
クの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照
射量を出来る限り均等化するように構成されているとい
うものである。In an eighth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the eighth aspect, in the fifth aspect, the electron beam irradiation amount equalizing means includes the number of times of irradiation of the one-pit formation portion of the master disc for irradiation with the electron beam. By controlling, the amount of electron beam irradiation per unit area at each point in the radial direction of the master disc can be obtained when the master disc held by the master disc holding means is rotated at a constant angular velocity. It is configured to equalize as far as possible.
【0027】本発明中、第8の発明の電子ビーム装置に
よれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると
共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とする
ことができる。According to the eighth aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the eighth aspect, the same operation as in the fifth aspect can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. .
【0028】本発明中、第9の発明の電子ビーム装置
は、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は第
8の発明において、原盤作製用ディスク保持手段に保持
させた原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤作
製用ディスク回転中心検出手段と、原盤作製用ディスク
保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心と
複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とを整
合させる整合手段とを備えているというものである。According to the ninth aspect of the present invention, there is provided an electron beam apparatus according to the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth aspect of the present invention, Disc center of rotation detecting means for detecting the center of rotation of the disc for producing a master held on the disc, and a plurality of electron beam mirrors for recording the center of rotation of the disc for producing the master held on the disc holding means for producing the master. Aligning means for aligning the rotational symmetry center of the cylinder.
【0029】本発明中、第9の発明の電子ビーム装置に
よれば、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又
は第8の発明と同様の作用を得ることができると共に、
原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の
記録を高精度に行うことができる。According to the ninth aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the ninth aspect, the same operation as that of the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth aspect is obtained. While being able to
Information required for forming pits on the master disc can be recorded with high accuracy.
【0030】本発明中、第10の発明の電子ビーム装置
は、第9の発明において、原盤作製用ディスク回転中心
検出手段は、原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用
ディスク搭載面の原盤作製用ディスク搭載箇所の外側に
原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として回
転対称に形成され、かつ、原盤作製用ディスクの回転方
向に沿った幅が原盤作製用ディスクの回転中心からの距
離によって異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク
回転中心検出用マークと、複数の原盤作製用ディスク回
転中心検出用マークに電子ビームを照射して複数の原盤
作製用ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又
は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク
回転中心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成されてい
るというものである。According to a tenth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the ninth aspect, the means for detecting the center of rotation of the disk for producing the master is provided for detecting the rotation center of the disk for producing the master of the master holding disk. It is formed rotationally symmetric around the center of rotation of the master disc for rotation on the outer side of the disc mounting location, and the width along the rotation direction of the master disc differs depending on the distance from the center of rotation of the master disc. A plurality of master-recording disk rotation center detection marks of the same shape and a plurality of master-recording disk rotation center detection marks are irradiated with an electron beam to reflect electrons from the plurality of master-recording disk rotation center detection marks or It is configured to include an electron beam column for detecting the center of rotation of a disk for producing a master having a means for detecting secondary electrons. .
【0031】本発明中、第10の発明の電子ビーム装置
によれば、第9の発明と同様の作用を得ることができる
と共に、原盤作製用ディスクの回転中心位置を簡単な構
成で、かつ、高精度に検出することができる。According to the tenth aspect of the present invention, according to the tenth aspect of the invention, the same operation as that of the ninth aspect can be obtained, and the rotation center position of the master disc can be simply configured. It can be detected with high accuracy.
【0032】本発明中、第11の発明の電子ビーム装置
は、第9の発明において、原盤作製用ディスク回転中心
検出手段は、原盤作製用ディスクに原盤作製用ディスク
の回転中心を回転対称中心として回転対称に形成され、
かつ、原盤作製用ディスクの回転方向に沿った幅が原盤
作製用ディスクの回転中心からの距離によって異なる同
一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マー
クに電子ビームを照射して原盤作製用ディスク回転中心
検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出する手
段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビー
ム鏡筒とを含めて構成されているというものである。In the eleventh aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the ninth aspect, in the ninth aspect of the invention, the means for detecting the center of rotation of the master disc may include a rotation center of the master manufacturing disc. Formed rotationally symmetrically,
In addition, the width of the master disc is varied along the direction of rotation of the disc according to the distance from the center of rotation of the master disc. It is configured to include an electron beam column for detecting the center of rotation of a disk for producing a master having means for detecting reflected electrons or secondary electrons from the mark for detecting the center of rotation of the disk.
【0033】本発明中、第11の発明の電子ビーム装置
によれば、第9の発明と同様の作用を得ることができる
と共に、原盤作製用ディスクの回転中心を簡単な構成
で、かつ、高精度に検出することができる。According to the eleventh aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the eleventh aspect, the same operation as that of the ninth aspect can be obtained, and the center of rotation of the master disc is made simple with a high structure. It can be detected with high accuracy.
【0034】本発明中、第12の発明の電子ビーム装置
は、第10又は第11の発明において、原盤作製用ディ
スク回転中心検出用電子ビーム鏡筒として、原盤作製用
ディスク回転中心検出用マークと同一数の原盤作製用デ
ィスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が複数の情報記録
用電子ビーム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として
回転対称に配置されているというものである。According to a twelfth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the tenth or eleventh aspect, an electron beam column for detecting the rotation center of the disk for producing the master is provided with a mark for detecting the rotation center of the disk for producing the master. The same number of electron beam barrels for detecting the center of rotation of the disk for producing a master disc are arranged rotationally symmetric with respect to the rotational symmetry centers of the plurality of electron beam barrels for information recording.
【0035】本発明中、第12の発明の電子ビーム装置
によれば、第10又は第11の発明と同様の作用を得る
ことができると共に、複数の原盤作製用ディスク回転中
心検出用マークの検出信号を同時に得ることができるの
で、原盤作製用ディスクの回転中心を効率的に検出する
ことができる。According to the twelfth aspect of the present invention, according to the twelfth aspect of the invention, it is possible to obtain the same operation as that of the tenth or eleventh aspect and to detect a plurality of marks for detecting the center of rotation of the disk for producing a master. Since the signals can be obtained at the same time, the rotation center of the master disc can be efficiently detected.
【0036】本発明中、第13の発明の電子ビーム装置
は、第10、第11又は第12の発明において、原盤作
製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒に対応させ
て予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム
鏡筒が配置されているというものである。According to a thirteenth aspect of the present invention, in the tenth, eleventh, or twelfth aspect, the electron beam apparatus according to the tenth, eleventh, or twelfth aspect of the present invention provides a spare master for producing a master corresponding to an electron beam column for detecting the center of rotation of a master for producing a disc. An electron beam column for detecting the center of rotation of the disk is provided.
【0037】本発明中、第13の発明の電子ビーム装置
によれば、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電
子ビーム鏡筒が発生した場合には、予備の原盤作製用デ
ィスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を使用することが
できる。According to the electron beam apparatus of the thirteenth aspect of the present invention, if a defective electron beam column for detecting the rotation center of the disk for producing a master is generated, a spare disk for detecting the rotation center of the disk for producing the master is detected. An electron beam column can be used.
【0038】本発明中、第14の発明の電子ビーム装置
は、第9、第10、第11、第12又は第13の発明に
おいて、整合手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保
持させた原盤作製用ディスクの回転中心と、複数の情報
記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致するよう
に、原盤作製用ディスク保持手段又は情報記録用電子ビ
ーム鏡筒群を移動する移動手段を含めて構成されている
というものである。According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided an electron beam apparatus according to the ninth, tenth, eleventh, twelfth, or thirteenth aspect, wherein the matching means is a master disc held by a disc manufacturing disc holding means. Including the disk holding means for producing the master disk or the moving means for moving the electron beam column group for information recording so that the rotation center of the production disk coincides with the rotational symmetry center of the plurality of electron beam column for information recording. It is that it is constituted.
【0039】本発明中、第14の発明の電子ビーム装置
によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の
発明と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構
成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合
を図ることができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fourteenth invention, the same operation as that of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth invention can be obtained, and with a simple configuration. In addition, it is possible to match the master disk and the electron beam column group.
【0040】本発明中、第15の発明の電子ビーム装置
は、第9、第10、第11、第12又は第13の発明に
おいて、整合手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保
持させた原盤作製用ディスクの回転中心と、情報記録用
電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致している場合と
同様の電子ビーム照射を行うことができるように、複数
の情報記録用電子ビーム鏡筒内の偏向器に供給する偏向
信号を補正する補正手段を含めて構成されているという
ものである。According to a fifteenth aspect of the present invention, in the electron beam apparatus according to the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect, the matching means is such that the master is held by a master manufacturing disk holding means. In order to perform the same electron beam irradiation as when the center of rotation of the manufacturing disk and the center of rotation of the electron beam column for information recording coincide with each other, a plurality of electron beam columns for information recording are used. And a correcting means for correcting the deflection signal supplied to the deflector.
【0041】本発明中、第15の発明の電子ビーム装置
によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の
発明と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構
成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合
を図ることができる。According to the fifteenth aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the fifteenth aspect, the same operation as that of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect can be obtained, and with a simple structure. In addition, it is possible to match the master disk and the electron beam column group.
【0042】[0042]
【発明の実施の形態】以下、図1〜図11を参照して、
本発明の第1実施形態及び第2実施形態について説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS.
A first embodiment and a second embodiment of the present invention will be described.
【0043】第1実施形態・・図1〜図10 図1は本発明の第1実施形態の概念図である。図1中、
1は真空室、2は光ディスクを作製するために必要な原
盤を作製するための原盤作製用ディスクであり、原盤作
製用ディスク2は、たとえば、ガラス基板に電子ビーム
レジストを塗布して構成される。First Embodiment FIGS. 1 to 10 FIG. 1 is a conceptual diagram of a first embodiment of the present invention. In FIG.
Reference numeral 1 denotes a vacuum chamber, and reference numeral 2 denotes a master disk for manufacturing a master disk required for manufacturing an optical disk. The master disk 2 is formed, for example, by coating an electron beam resist on a glass substrate. .
【0044】また、3は原盤作製用ディスク2を水平に
保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手
段、4は原盤作製用ディスク保持手段3の回転、移動を
行うステージ、5はステージ4の回転、移動を制御する
ステージ制御部である。Reference numeral 3 denotes a master holding disk holding means for holding and rotating the master holding disk 2 horizontally, 4 denotes a stage for rotating and moving the master holding disk 3, and 5 denotes a stage 4. This is a stage control unit for controlling the rotation and movement of the stage.
【0045】なお、原盤作製用ディスク保持手段3が原
盤作製用ディスク2を回転させる機構を備えるように
し、ステージ4は、原盤作製用ディスク保持手段3の移
動のみを行うように構成しても良い。Incidentally, the original disc producing disk holding means 3 may be provided with a mechanism for rotating the original disc producing disc 2, and the stage 4 may be constituted so as to move only the original disc producing disc holding means 3. .
【0046】また、6は原盤作製用ディスク2に対して
ピットを形成するために必要な情報の記録を行う複数の
情報記録用電子ビーム鏡筒と、原盤作製用ディスク2の
回転中心を検出するための複数の原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒とが配置されている電子ビ
ーム鏡筒群である。Reference numeral 6 denotes a plurality of information recording electron beam columns for recording information necessary for forming pits on the master disc 2, and the center of rotation of the master disc 2. Beam column group in which a plurality of master disk producing disk rotation center detecting electron beam columns are provided.
【0047】また、7は電子ビーム鏡筒群6を構成する
情報記録用電子ビーム鏡筒及び原盤作製用ディスク回転
中心検出用電子ビーム鏡筒による原盤作製用ディスク2
に対する電子ビーム照射を制御する電子ビーム照射制御
部である。Numeral 7 denotes an electron beam column for recording information and an electron beam column for detecting the rotation center of the disk, which constitute the electron beam column group 6, and a disk 2 for producing the original disk.
Is an electron beam irradiation control unit that controls the electron beam irradiation on.
【0048】また、8は情報記録用電子ビーム鏡筒及び
原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が備
える反射電子検出器を介して得られる反射電子検出量か
ら不良の電子ビーム鏡筒を検出する不良電子ビーム鏡筒
検出部である。Reference numeral 8 denotes a defective electron beam column based on the amount of reflected electrons detected via the reflected electron detector provided in the electron beam column for information recording and the electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing a master. This is a defective electron beam lens barrel detection unit to be detected.
【0049】また、9は原盤作製用ディスク回転中心検
出用電子ビーム鏡筒が備える反射電子検出器を介して得
られる反射電子検出信号から原盤作製用ディスクの回転
中心を検出する原盤作製用ディスク回転中心検出部であ
る。Reference numeral 9 denotes a master disk manufacturing disk rotation for detecting the center of rotation of the master disk from a backscattered electron detection signal obtained through a reflected electron detector provided in the electron beam column for detecting the center of rotation of the master disk. It is a center detection unit.
【0050】また、10はステージ制御部5及び電子ビ
ーム照射制御部7の制御など、装置の全体的な制御を行
うシステムコントローラである。A system controller 10 performs overall control of the apparatus, such as control of the stage control unit 5 and the electron beam irradiation control unit 7.
【0051】図2は原盤作製用ディスク保持手段3の概
略的平面図である。図2中、12は原盤作製用ディスク
搭載面、13は原盤作製用ディスク搭載箇所、14は原
盤作製用ディスク搭載面12の回転中心、即ち、原盤作
製用ディスク2の回転中心であり、矢印Aは、原盤作製
用ディスク保持手段3の回転方向、即ち、原盤作製用デ
ィスク2の回転方向を示している。FIG. 2 is a schematic plan view of the disk holding means 3 for producing a master. In FIG. 2, reference numeral 12 denotes a master mounting disk mounting surface, 13 denotes a master mounting disk mounting position, and 14 denotes a rotation center of the master manufacturing disk mounting surface 12, that is, a rotation center of the master manufacturing disk 2. Indicates the rotation direction of the master disc manufacturing means 3, that is, the rotation direction of the master disc 2.
【0052】また、15−1〜15−4は原盤作製用デ
ィスク搭載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13の
外周部に原盤作製用ディスク2の回転中心14に対して
90°の間隔をもって回転対称に形成された同一形状の
原盤作製用ディスク回転中心検出用マークである。Reference numerals 15-1 to 15-4 rotate on the outer periphery of the master mounting disk mounting portion 13 on the master mounting disk mounting surface 12 at an interval of 90 ° with respect to the rotation center 14 of the master manufacturing disk 2. These marks are symmetrically formed marks for detecting the center of rotation of a disk for producing a master having the same shape.
【0053】図3は図2のB−B線に沿った概略的断面
図であり、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク1
5−1〜15−4は、高さを一定とする凸状とし、か
つ、平面形状を二等辺三角形とし、二等辺三角形の高さ
方向が原盤作製用ディスク搭載面12に搭載された原盤
作製用ディスク2の半径方向と一致するように形成され
ている。FIG. 3 is a schematic sectional view taken along the line BB of FIG.
Reference numerals 5-1 to 15-4 denote a convex master having a constant height, a planar shape of an isosceles triangle, and a height direction of the isosceles triangle mounted on the master mounting disk mounting surface 12. It is formed so as to coincide with the radial direction of the use disk 2.
【0054】図4は電子ビーム鏡筒群6の平面構成を示
す模式図である。図4中、17は電子ビーム鏡筒配置円
板、18は原盤作製用ディスク2の回転中心14を一致
させるべき電子ビーム鏡筒群6の中心である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a plan configuration of the electron beam column group 6. As shown in FIG. In FIG. 4, reference numeral 17 denotes an electron beam lens barrel-arranged disk, and reference numeral 18 denotes a center of the electron beam lens barrel group 6 in which the center of rotation 14 of the master disc 2 is to be matched.
【0055】また、19−1〜19−4は情報記録用電
子ビーム鏡筒が配置されている情報記録用電子ビーム鏡
筒配置ブロックであり、これら情報記録用電子ビーム鏡
筒配置ブロック19−1〜19−4は、原盤作製用ディ
スク2の電子ビーム照射面に対応する部分であり、電子
ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として回転対
称に設定されたものである。Reference numerals 19-1 to 19-4 denote information recording electron beam column arrangement blocks in which the information recording electron beam column is disposed, and these information recording electron beam column arrangement blocks 19-1. Reference numerals 19 to 4 denote portions corresponding to the electron beam irradiation surface of the master disc 2, which are set to be rotationally symmetric about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0056】また、20−1〜20−4は原盤作製用デ
ィスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が配置されている
原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置
ブロックであり、これら原盤作製用ディスク回転中心検
出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−1〜20−4
も、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心とし
て回転対称に設定されたものである。Reference numerals 20-1 to 20-4 denote an electron beam column arrangement block for detecting the center of rotation of the disk for producing the master in which the electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the master is arranged. Beam column arrangement block 20-1 to 20-4 for detecting disk rotation center
Are also set to be rotationally symmetric about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0057】また、21−1〜24−1は情報記録用電
子ビーム鏡筒配置ブロック19−1に配置された情報記
録用電子ビーム鏡筒、25−1は原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−1に配
置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム
鏡筒である。Reference numerals 21-1 to 24-1 denote an electron beam column for information recording arranged in the information beam electron beam column arrangement block 19-1, and 25-1 denotes an electron for detecting the center of rotation of a master disk. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the master arranged in the beam column arrangement block 20-1.
【0058】また、21−2〜24−2は情報記録用電
子ビーム鏡筒配置ブロック19−2に配置された情報記
録用電子ビーム鏡筒、25−2は原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−2に配
置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム
鏡筒である。Reference numerals 21-2 to 24-2 denote an electron beam column for information recording arranged in the information beam electron beam column arrangement block 19-2, and 25-2 denotes an electron for detecting the center of rotation of the disk for producing the master. This is an electron beam lens barrel for detecting the center of rotation of the disk for producing a master arranged in the beam lens barrel arrangement block 20-2.
【0059】また、21−3〜24−3は情報記録用電
子ビーム鏡筒配置ブロック19−3に配置された情報記
録用電子ビーム鏡筒、25−3は原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−3に配
置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム
鏡筒である。Reference numerals 21-3 to 24-3 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-3, and 25-3 denotes an electron for detecting the center of rotation of a master disk. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing a master arranged in the beam column arrangement block 20-3.
【0060】また、21−4〜24−4は情報記録用電
子ビーム鏡筒配置ブロック19−4に配置された情報記
録用電子ビーム鏡筒、25−4は原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−4に配
置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム
鏡筒である。Reference numerals 21-4 to 24-4 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-4, and 25-4 denotes an electron for detecting the center of rotation of a master disk. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the master arranged in the beam column arrangement block 20-4.
【0061】なお、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1
〜21−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担
できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転
対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置さ
れている。The information recording electron beam column 21-1
21-4 are arranged so as to be able to share the electron beam irradiation of the same track group, and are rotationally symmetric with a 90 ° interval about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0062】また、情報記録用電子ビーム鏡筒22−1
〜22−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担
できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転
対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置さ
れている。The information recording electron beam column 22-1
22-4 are arranged so as to be able to share the electron beam irradiation of the same track group, and are rotationally symmetric with a 90 ° interval about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0063】また、情報記録用電子ビーム鏡筒23−1
〜23−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担
できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転
対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置さ
れている。The information recording electron beam column 23-1
23 to 4 are arranged so as to be able to share the electron beam irradiation of the same track group, and to be rotationally symmetric with a 90 ° interval about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0064】また、情報記録用電子ビーム鏡筒24−1
〜24−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担
できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転
対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置さ
れている。The information recording electron beam column 24-1
24-4 are arranged so as to be able to share the electron beam irradiation of the same track group, and to be rotationally symmetric with a 90 ° interval about the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
【0065】また、原盤作製用ディスク回転中心検出用
電子ビーム鏡筒25−1〜25−4は、原盤作製用ディ
スク回転中心検出用マーク15−1〜15−4に対応さ
せて、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心と
して90°の間隔をもって回転対称に配置されている。The electron beam lens barrels 25-1 to 25-4 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master disk correspond to the marks 15-1 to 15-4 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master disk. The cylinders 6 are rotationally symmetrically arranged at 90 ° intervals about the center 18 of the cylinder group 6 as the rotational symmetry center.
【0066】即ち、本発明の第1実施形態においては、
電子ビーム鏡筒配置円板17に、原盤作製用ディスク保
持手段3に保持させた原盤作製用ディスク2の回転中心
14から異なる4個の半径方向距離ごとに4個の情報記
録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜2
2−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4を回
転対称に配置するとしている。That is, in the first embodiment of the present invention,
Four electron beam lens barrels for information recording at four different radial distances from the rotation center 14 of the master disk 2 held on the disk holder 17 on the disk 17 21-1 to 21-4, 22-1 to 2
2-4, 23-1 to 23-4, and 241-1 to 24-4 are arranged to be rotationally symmetric.
【0067】なお、たとえば、図5に示すように、情報
記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜
22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4に
対応させて、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒26−1
〜26−4、27−1〜27−4、28−1〜28−
4、29−1〜29−4を設けるようにしても良い。For example, as shown in FIG. 5, the electron beam barrels 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4 for information recording are provided.
22-4, 23-1 to 23-4, 241-1 to 24-4, and a spare information recording electron beam column 26-1.
~ 26-4, 27-1 ~ 27-4, 28-1 ~ 28-
4, 29-1 to 29-4 may be provided.
【0068】また、たとえば、図6に示すように、原盤
作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1
〜25−4に対応させて、予備の原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4を配置
させるようにしても良い。For example, as shown in FIG. 6, an electron beam lens barrel 25-1 for detecting the center of rotation of a disk for producing a master.
25-4, the electron beam barrels 30-1 to 30-4 for detecting the center of rotation of the disk for preparing the original master may be arranged.
【0069】なお、原盤作製用ディスク回転中心検出用
電子ビーム鏡筒は、作業効率を考慮しなければ、1個あ
れば足りるものである。The number of electron beam columns for detecting the center of rotation of the disk for producing the master disk is sufficient if one does not consider the working efficiency.
【0070】また、図示は省略するが、予備の電子ビー
ム鏡筒として、たとえば、図5に示す予備の情報記録用
電子ビーム鏡筒26−1〜26−4、27−1〜27−
4、28−1〜28−4、29−1〜29−4と、たと
えば、図6に示す予備の原盤作製用ディスク回転中心検
出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4との両方を設け
るようにしても良い。Although not shown, a spare electron beam barrel, such as spare electron beam barrels 26-1 to 26-4 and 27-1 to 27- shown in FIG.
4, 28-1 to 28-4, 29-1 to 29-4, and, for example, the electron beam lens barrels 30-1 to 30-4 for detecting the center of rotation of a spare master disk shown in FIG. It may be provided.
【0071】図7は情報記録用電子ビーム鏡筒21−1
の概念図であり、他の情報記録用電子ビーム鏡筒21−
2〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−
4、24−1〜24−4及び原盤作製用ディスク回転中
心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4も同一構造
とされている。FIG. 7 shows an electron beam column 21-1 for recording information.
FIG. 14 is a conceptual diagram of another electron beam column 21-for recording information.
2-21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-
4, 24-1 to 24-4 and the electron beam barrels 25-1 to 25-4 for detecting the rotation center of the master disc are also of the same structure.
【0072】なお、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒2
6−1〜26−4、27−1〜27−4、28−1〜2
8−4、29−1〜29−4及び予備の原盤作製用ディ
スク回転中心検出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4
を設ける場合には、これらも同一構造とされる。Incidentally, a spare information recording electron beam column 2
6-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 to 2
8-4, 29-1 to 29-4, and an electron beam column 30-1 to 30-4 for detecting the center of rotation of a spare master disc
Are provided with the same structure.
【0073】図7中、32は電子源であり、33は電子
源32から電子ビーム形成のための電子を引き出すゲー
ト電極、34は電子源33から引き出した電子を加速し
て電子ビーム35とするアノード電極である。In FIG. 7, 32 is an electron source, 33 is a gate electrode for extracting electrons for forming an electron beam from the electron source 32, and 34 is an electron beam 35 by accelerating the electrons extracted from the electron source 33. It is an anode electrode.
【0074】また、36は電子ビーム35の径を制御し
て後述する電子ビーム径制限絞りと相まって原盤作製用
ディスク2に照射する電子ビームの電流量を制御する電
子ビーム径制御レンズ、37は電子ビーム35の原盤作
製用ディスク2への照射、非照射を制御するブランカで
あり、38はブランキング電極、39は開口板である。An electron beam diameter control lens 36 controls the diameter of the electron beam 35 to control the current amount of the electron beam applied to the master disc 2 in combination with an electron beam diameter limiting aperture, which will be described later. A blanker controls irradiation and non-irradiation of the beam 35 to the master disc 2, a blanking electrode 38, and an aperture plate 39.
【0075】また、40は電子ビーム35の径を制限す
る電子ビーム径制限絞り、41は電子ビーム35を原盤
作製用ディスク2の電子ビームレジスト面に集束させる
集束レンズである。Reference numeral 40 denotes an electron beam diameter limiting aperture for limiting the diameter of the electron beam 35, and reference numeral 41 denotes a converging lens for converging the electron beam 35 on the electron beam resist surface of the master disc 2.
【0076】また、42は電子ビーム35を偏向して原
盤作製用ディスク2に対する照射位置を制御する偏向
器、43は電子ビーム35を原盤作製用ディスク2に照
射した場合の原盤作製用ディスク2からの反射電子を検
出する反射電子検出器である。Reference numeral 42 denotes a deflector for deflecting the electron beam 35 to control the irradiation position on the master disc 2, and 43 denotes a deflector for irradiating the electron beam 35 onto the master disc 2. Is a backscattered electron detector for detecting backscattered electrons.
【0077】このように構成された本発明の第1実施形
態においては、原盤作製用ディスク2に対するピット形
成に必要な情報の記録のための電子ビーム照射を行う前
に、原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディス
ク搭載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13に搭載
した原盤作製用ディスク2の回転中心14を検出し、原
盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群
6の中心18との整合を行うことができる。In the first embodiment of the present invention having the above-described structure, before performing the electron beam irradiation for recording the information necessary for forming the pits on the master disc 2, the disc holding means for forming the master disc is used. 3, the rotation center 14 of the master disc 2 mounted on the master mounting disk mounting portion 13 of the master manufacturing disk mounting surface 12 is detected, and the rotation center 14 of the master manufacturing disc 2 and the electron beam column group 6 are detected. An alignment with the center 18 can be made.
【0078】ここに、原盤作製用ディスク2の回転中心
14の検出を行う場合には、原盤作製用ディスク保持手
段3を1/4回転させながら、原盤作製用ディスク回転
中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4を使用し
て電子ビームを同時に原盤作製用ディスク保持手段3の
原盤作製用ディスク搭載面12に照射する。When the center of rotation 14 of the master disc 2 is to be detected, the electron beam column for detecting the center of rotation of the master disc is rotated while the disc holding means 3 is rotated by 1/4. The electron beam is simultaneously applied to the master disk manufacturing disk mounting surface 12 of the master disk manufacturing disk holding means 3 using 25-1 to 25-4.
【0079】このようにすると、原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4におい
ては、それぞれ、反射電子検出器を介して、原盤作製用
ディスク回転中心検出用マーク15−1〜15−4から
の反射電子を検出してなる反射電子検出信号S1〜S4
を得ることができる。In this way, in the electron beam barrels 25-1 to 25-4 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master, the marks 15 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master are respectively received via the reflected electron detectors. Backscattered electron detection signals S1 to S4 obtained by detecting backscattered electrons from -1 to 15-4
Can be obtained.
【0080】このようにした場合において、原盤作製用
ディスク2の回転中心14と、電子ビーム鏡筒群6の中
心18とが一致している場合には、反射電子検出信号S
1〜S4は、図8に示すように、Hレベル幅T1〜T4
を同一とする信号となる。In this case, if the center of rotation 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide with each other, the reflected electron detection signal S
As shown in FIG. 8, 1 to S4 are H level widths T1 to T4.
Are the same.
【0081】これに対して、たとえば、図9に示すよう
に、原盤作製用ディスク2の回転中心14が電子ビーム
鏡筒群6の中心18に対して矢印Cの方向に位置ずれし
ている場合には、反射電子検出信号S1〜S4は、図1
0に示すように、Hレベル幅T1〜T4を、T1<T2
<T3>T4とする信号となる。On the other hand, for example, as shown in FIG. 9, when the rotation center 14 of the master disc 2 is displaced in the direction of arrow C with respect to the center 18 of the electron beam column group 6. FIG. 1 shows the reflected electron detection signals S1 to S4.
As shown in FIG. 0, the H level widths T1 to T4 are defined as T1 <T2
<T3> A signal to be T4.
【0082】そこで、この場合には、原盤作製用ディス
ク回転中心検出部9は、反射電子検出信号S1〜S4の
幅T1〜T4から原盤作製用ディスク2の回転中心14
の位置を算出して、これをシステムコントローラ10に
転送する。Therefore, in this case, the disc center-of-rotation detecting unit 9 determines the rotation center 14 of the disc 2 from the widths T1 to T4 of the backscattered electron detection signals S1 to S4.
Is calculated and transferred to the system controller 10.
【0083】そこで、システムコントローラ10は、原
盤作製用ディスク回転中心検出部9から転送された原盤
作製用ディスク2の回転中心14の位置の算出値に基づ
いて反射電子検出信号S1〜S4のHレベル幅T1〜T
4が同一となるであろう位置、即ち、原盤作製用ディス
ク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群の中心18とが
一致するように、原盤作製用ディスク保持手段3を移動
させるようにステージ制御部5を制御し、ステージ制御
部5は、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビ
ーム鏡筒群の中心18とが一致するようにステージ4を
移動することになる。Then, the system controller 10 sets the H level of the backscattered electron detection signals S1 to S4 based on the calculated value of the position of the rotation center 14 of the master disc 2 transferred from the master disc rotation center detector 9. Width T1-T
The stage is moved so that the original disc producing disk holding means 3 is moved so that the position 4 will be the same, that is, the center of rotation 14 of the original disc producing disc 2 coincides with the center 18 of the electron beam column group. The control unit 5 is controlled, and the stage control unit 5 moves the stage 4 so that the rotation center 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group coincide.
【0084】そして、当初から原盤作製用ディスク2の
回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致
している場合、あるいは、原盤作製用ディスク2の回転
中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とを一致させ
た後には、原盤作製用ディスク2にピットを形成のため
に必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射が行わ
れる。If the center of rotation 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide from the beginning, or the center of rotation 14 of the master disc 2 and the electron beam column After the center 18 of the group 6 is made to coincide with the center 18, the electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 is performed.
【0085】原盤作製用ディスク2にピットを形成のた
めに必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射は、
情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−
1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−
4を同時に使用して原盤作製用ディスク2の電子ビーム
照射箇所を分担し、並行して行われる。Electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 is performed as follows.
Electron beam column for information recording 21-1 to 21-4, 22-
1-22-4, 23-1-23-4, 241-1-24-
4 are used at the same time to share the electron beam irradiation location of the master disc 2 and are performed in parallel.
【0086】ここに、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒
が発生した場合には、不良電子ビーム鏡筒検出部8によ
り、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が検出され、不良
の情報記録用電子ビーム鏡筒がシステムコントローラ1
0に通知されることになる。Here, when a defective information recording electron beam column occurs, the defective electron beam column detecting section 8 detects the defective information recording electron beam column and outputs the defective information recording electron beam column. The electron beam column is the system controller 1
0 will be notified.
【0087】この場合、システムコントローラ10は、
不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム
照射箇所と回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡
筒を使用して電子ビームで照射するようにステージ制御
部5及び電子ビーム照射制御部7を制御することにな
る。In this case, the system controller 10
The stage control unit 5 and the electron beam irradiation control so as to irradiate with an electron beam using another information recording electron beam column that is rotationally symmetric with the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column. The unit 7 will be controlled.
【0088】たとえば、システムコントローラ10は、
情報記録用電子ビーム鏡筒22−1が不良となった場合
には、たとえば、情報記録用電子ビーム鏡筒22−2を
使用して、情報記録用電子ビーム鏡筒22−1が電子ビ
ーム照射を分担する箇所を電子ビーム照射するように制
御する。For example, the system controller 10
When the electron beam column 22-1 for information recording becomes defective, the electron beam column 22-1 for information recording is irradiated with the electron beam using the electron beam column 22-2 for information recording, for example. Is controlled so as to irradiate an electron beam to a portion sharing the power.
【0089】このように、本発明の第1実施形態によれ
ば、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、2
2−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜2
4−4を同時に使用して原盤作製用ディスク2の電子ビ
ーム照射箇所を分担し、並行して照射することができる
ので、スループットの向上を図ることができる。As described above, according to the first embodiment of the present invention, the electron beam columns 21-1 to 21-4, 2-4
2-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 2
4-4 can be used at the same time to irradiate the electron beam irradiating portions of the master disc 2 and irradiate them in parallel, so that the throughput can be improved.
【0090】また、本発明の第1実施形態によれば、原
盤作製用ディスク2に電子ビーム照射を行う前に、原盤
作製用ディスク2の回転中心を検出し、ステージ4を移
動させることにより、原盤作製用ディスク2の回転中心
14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とを整合させるこ
とができるので、原盤作製用ディスク2に対するピット
形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。
なお、原盤作製用ディスク保持手段3を移動させる構成
とする代わりに、電子ビーム鏡筒群6を移動させる構成
としても良い。According to the first embodiment of the present invention, the center of rotation of the master disc 2 is detected and the stage 4 is moved before the master disc 2 is irradiated with the electron beam. Since the center of rotation 14 of the master disc 2 can be aligned with the center 18 of the electron beam column group 6, information necessary for forming pits on the master disc 2 can be recorded with high accuracy. .
Note that, instead of moving the disk holding means 3 for producing a master, the electron beam barrel group 6 may be moved.
【0091】なお、原盤作製用ディスク2の回転中心1
4と電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致していない
場合には、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子
ビーム鏡筒群6の中心18とが一致している場合と同様
の電子ビーム照射を行うことができるように、情報記録
用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22
−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4内の偏
向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を設けるこ
とにより、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子
ビーム鏡筒群6の中心18との整合を行うように構成し
ても良い。The rotation center 1 of the master disc 2
When the center 4 of the electron beam column group 6 does not coincide with the center 18 of the electron beam column group 6, it is the same as the case where the center of rotation 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide. The information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 22-1 to 22 so that the electron beam irradiation can be performed.
-4, 23-1 to 23-4, correction means for correcting the deflection signal supplied to the deflectors in 241-1 to 24-4, the rotation center 14 of the master disc 2 and the electron beam mirror are provided. The alignment with the center 18 of the cylinder group 6 may be performed.
【0092】また、本発明の第1実施形態によれば、原
盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭載
面12に原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク15
−1〜15−4を設けると共に、原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4を設け
るようにしているので、原盤作製用ディスク2の回転中
心14を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することが
できる。Further, according to the first embodiment of the present invention, the mark 15 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master is provided on the mounting surface 12 for the disk for fabricating the master.
Since -1 to 15-4 are provided, and the electron beam barrels 25-1 to 25-4 for detecting the rotation center of the master disk are provided, the rotation center 14 of the master disk 2 is simple. And can be detected with high accuracy.
【0093】また、本発明の第1実施形態によれば、不
良電子ビーム鏡筒検出部8を備えているので、不良の情
報記録用電子ビーム鏡筒及び不良の原盤作製用ディスク
回転中心検出用電子ビーム鏡筒を自動的に検出すること
ができる。Further, according to the first embodiment of the present invention, since the defective electron beam column detecting section 8 is provided, the defective electron beam column for defective information recording and the defective disk center for detecting the master disk manufacturing disk rotational center are detected. The electron beam column can be automatically detected.
【0094】そして、電子ビーム鏡筒配置円板17に、
原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭
載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13に搭載した
原盤作製用ディスク2の回転中心14から異なる4個の
半径方向距離ごとに4個の情報記録用電子ビーム鏡筒2
1−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜2
3−4、24−1〜24−4を回転対称に配置すると共
に、4個の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビー
ム鏡筒25−1、25−2、25−3、25−4を回転
対称に配置するとしている。Then, the electron beam lens barrel arrangement disk 17 is
Four pieces of information are recorded at four different radial distances from the center of rotation 14 of the master disc 2 mounted on the master disc mounting portion 13 of the master disc mounting surface 12 of the master disc holding means 3. Electron beam column 2
1-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 2
3-4 and 24-1 to 24-4 are arranged rotationally symmetrically, and four electron beam barrels 25-1, 25-2, 25-3, and 25-4 for detecting the center of rotation of the disk for producing a master are arranged. It is said to be arranged rotationally symmetrically.
【0095】したがって、不良の情報記録用電子ビーム
鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡
筒が分担する電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回
転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して
行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡
筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限
に抑えることができる。Therefore, when a defective information recording electron beam column is detected, the electron beam irradiation at the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column is performed in another rotationally symmetric information recording system. Since it can be performed using an electron beam column, even when a defective information recording electron beam column occurs, a decrease in work efficiency can be minimized.
【0096】また、不良の原盤作製用ディスク回転中心
検出用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の原盤作
製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が分担する
電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回転対称にある
他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことがで
きるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した
場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えること
ができる。When the defective electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing a defective master is detected, the electron beam irradiation at the electron beam irradiation position shared by the electron beam column for detecting the center of rotation of the defective disk for producing the original master is performed. Can be performed by using another information recording electron beam column that is rotationally symmetric, so that even if a defective information recording electron beam column occurs, the reduction in work efficiency is minimized. Can be.
【0097】また、本発明の第1実施形態によれば、情
報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1
〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4
及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒
25−1〜25−4に原盤作製用ディスク2からの反射
電子を検出する反射電子検出器を備えると共に、反射電
子の検出量から不良の電子ビーム鏡筒の検出を行う不良
電子ビーム鏡筒検出部8を備えているので、簡単な構成
で、不良の電子ビーム鏡筒を検出することができる。According to the first embodiment of the present invention, the electron beam barrels 21-1 to 21-4, 22-1 for information recording are provided.
~ 22-4, 23-1 ~ 23-4, 241-1 ~ 24-4
In addition, the electron beam lens barrels 25-1 to 25-4 for detecting the rotation center of the master disc are provided with a backscattered electron detector for detecting the backscattered electrons from the master disc 2, and the defective electrons are detected from the amount of the backscattered electrons detected. Since the defective electron beam column detecting unit 8 for detecting the beam column is provided, a defective electron beam column can be detected with a simple configuration.
【0098】なお、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1
〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−
4、24−1〜24−4及び原盤作製用ディスク回転中
心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4に原盤作製
用ディスク2からの2次電子を検出する2次電子検出器
を備えると共に、2次電子検出量から不良の電子ビーム
鏡筒の検出を行う不良電子ビーム鏡筒検出部を備えて、
不良の電子ビーム鏡筒を検出するように構成しても良
い。Incidentally, the electron beam column 21-1 for information recording.
21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-
4, 24-1 to 24-4 and the electron beam barrels 25-1 to 25-4 for detecting the center of rotation of the master disk for producing a master are provided with secondary electron detectors for detecting secondary electrons from the disk 2 for manufacturing the master. In addition, a defective electron beam column detection unit that detects a defective electron beam column from the amount of detected secondary electrons is provided,
It may be configured to detect a defective electron beam column.
【0099】また、たとえば、電子ビーム鏡筒内に設け
られるゲート電極33や、アノード電極34や、電子ビ
ーム径制限絞り40等に漏れる電子ビーム電流を検出す
る漏れ電子ビーム電流検出器を設けて、電子ビーム電流
の漏れ量を検出することにより、不良の電子ビーム鏡筒
を検出するようにしても良い。Further, for example, a leaking electron beam current detector for detecting an electron beam current leaking to the gate electrode 33, the anode electrode 34, the electron beam diameter limiting aperture 40 and the like provided in the electron beam column is provided. By detecting the amount of leakage of the electron beam current, a defective electron beam column may be detected.
【0100】第2実施形態・・図11 図11は本発明の第2実施形態の要部を示す図であり、
本発明の第2実施形態が備える電子ビーム鏡筒群45の
平面構成を示す模式図である。なお、図11において、
図4に対応する部分には同一符号を付し、その重複説明
は省略する。Second Embodiment FIG. 11 FIG. 11 is a view showing a main part of a second embodiment of the present invention.
It is a schematic diagram which shows the planar structure of the electron beam lens-barrel group 45 with which 2nd Embodiment of this invention is provided. In FIG. 11,
Parts corresponding to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
【0101】本発明の第2実施形態は、原盤作製用ディ
スク2を一定角速度で回転させる場合に適用して好適な
電子ビーム装置であり、図11に示す電子ビーム鏡筒群
45を備え、その他については、概ね、図1に示す本発
明の第1実施形態と同様に構成したものである。The second embodiment of the present invention is an electron beam apparatus suitable for rotating the master disc 2 at a constant angular velocity, and is provided with an electron beam column group 45 shown in FIG. Is generally similar to the first embodiment of the present invention shown in FIG.
【0102】図11中、46−1〜55−1は情報記録
用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−1に配置された情
報記録用電子ビーム鏡筒、46−2〜55−2は情報記
録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−2に配置された
情報記録用電子ビーム鏡筒、46−3〜55−3は情報
記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−3に配置され
た情報記録用電子ビーム鏡筒、46−4〜55−4は情
報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−4に配置さ
れた情報記録用電子ビーム鏡筒である。In FIG. 11, reference numerals 46-1 to 55-1 denote an information recording electron beam column disposed in the information recording electron beam column arrangement block 19-1, and 46-2 to 55-2 denote information recording. An electron beam column for information recording arranged in the electron beam column arrangement block 19-2, and 46-3 to 55-3 are electron beams for information recording arranged in the electron beam column arrangement block 19-3 for information recording. The lens barrels 46-4 to 55-4 are information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-4.
【0103】これら情報記録用電子ビーム鏡筒46−1
〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−
3、46−4〜55−4は、本発明の第1実施形態が備
える情報記録用電子ビーム鏡筒と同様に構成されてい
る。The electron beam column 46-1 for recording information is
~ 55-1, 46-2 ~ 55-2, 46-3 ~ 55-
3, 46-4 to 55-4 are configured similarly to the information recording electron beam column included in the first embodiment of the present invention.
【0104】ここに、情報記録用電子ビーム鏡筒46−
P(但し、P=1、2、3、4)は、1個で原盤作製用
ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射
を行うものであるが、情報記録用電子ビーム鏡筒47−
P、48−Pは、これら2個で原盤作製用ディスク2の
1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記
録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。Here, the information recording electron beam column 46-
P (where P = 1, 2, 3, 4) is used to irradiate the electron beam to the one pit formation portion of the master disc 2 by one piece.
P and 48-P constitute an information recording electron beam column subgroup for performing electron beam irradiation on the one pit forming portion of the master disc 2 by these two pieces.
【0105】また、情報記録用電子ビーム鏡筒49−
P、50−P、51−Pは、これら3個で原盤作製用デ
ィスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を
行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。The information recording electron beam column 49-
P, 50-P, and 51-P constitute an information recording electron beam column sub-group for irradiating an electron beam to a portion where one pit is formed on the master disc 2 by these three pieces.
【0106】また、情報記録用電子ビーム鏡筒52−
P、53−P、54−P、55−Pは、これら4個で原
盤作製用ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビ
ーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成し
ている。The information recording electron beam column 52-
P, 53-P, 54-P, and 55-P constitute an information recording electron beam lens barrel subgroup for irradiating an electron beam to a portion where one pit is formed on the master disc 2 using these four pieces.
【0107】また、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1
〜46−4は、原盤作製用ディスク2の同一トラック群
の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担で
きるように、電子ビーム鏡筒群45の中心18を回転対
称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置され
ている。The information recording electron beam column 46-1
46 to 46-4 are rotated at 90 ° intervals about the center 18 of the electron beam column group 45 as the rotational symmetry center so that the electron beam irradiation to the same track group of the master disk 2 can be performed by the electron beam irradiation. They are arranged symmetrically.
【0108】また、情報記録用電子ビーム鏡筒47−
1、48−1からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、
情報記録用電子ビーム鏡筒47−2、48−2からなる
情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム
鏡筒47−3、48−3からなる情報記録用電子ビーム
鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒47−4、
48−4からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原
盤作製用ディスク2の同一トラック群の電子ビーム照射
箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子
ビーム鏡筒群45の中心18を回転対称中心として90
°の間隔をもって回転対称に配置されている。The information recording electron beam column 47-
An electron beam lens barrel subgroup for information recording consisting of 1, 48-1;
An information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam columns 47-2 and 48-2, and an information recording electron beam column subunit consisting of information recording electron beam columns 47-3 and 48-3. Group, and electron beam column 47-4 for recording information,
The information-recording electron beam column subgroup 48-4 includes the center 18 of the electron beam column group 45 so that the electron beam irradiation of the same track group of the master disc 2 can be shared by the electron beam irradiation. 90 as the center of rotational symmetry
It is arranged rotationally symmetrically with an interval of °.
【0109】また、情報記録用電子ビーム鏡筒49−
1、50−1、51−1からなる情報記録用電子ビーム
鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒49−2、50−
2、51−2からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、
情報記録用電子ビーム鏡筒49−3、50−3、51−
3からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報
記録用電子ビーム鏡筒49−4、50−4、51−4か
らなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用デ
ィスク2の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対す
る電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒
群45の中心18を回転対称中心として90°の間隔を
もって回転対称に配置されている。The information recording electron beam column 49-
An information recording electron beam column sub-group consisting of 1, 50-1, 51-1 and an information recording electron beam column 49-2, 50-
2, 51-2, an electron beam lens barrel subgroup for information recording,
Information recording electron beam column 49-3, 50-3, 51-
The information recording electron beam lens barrel sub-group consisting of No. 3 and the information recording electron beam lens barrel sub-group consisting of the information recording electron beam lens barrels 49-4, 50-4, 51-4 are discs for producing master disks. The center 18 of the electron beam lens barrel group 45 is rotationally symmetric with respect to the center 18 of the electron beam column group 45 so as to be able to share the electron beam irradiation to the electron beam irradiation locations of the two same track groups.
【0110】また、情報記録用電子ビーム鏡筒52−
1、53−1、54−1、55−1からなる情報記録用
電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒52−
2、53−2、54−2、55−2からなる情報記録用
電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒52−
3、53−3、54−3、55−3からなる情報記録用
電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒
52−4、53−4、54−4、55−4からなる情報
記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク2の
同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビー
ム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群45の中
心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転
対称に配置されている。The information recording electron beam column 52-
1, 53-1, 54-1 and 55-1, an electron beam lens barrel subgroup for information recording, and an electron beam lens barrel 52-
An information recording electron beam lens barrel subgroup consisting of 2, 53-2, 54-2, and 55-2;
The information recording electron beam lens barrel sub-group consisting of 3, 53-3, 54-3 and 55-3 and the information recording electron beam lens barrels 52-4, 53-4, 54-4 and 55-4 The information-recording electron beam column subgroup has the center 18 of the electron beam column group 45 as a rotationally symmetric center so that the electron beam irradiation of the same track group of the master disk 2 can be shared by the electron beam irradiation. They are arranged rotationally symmetrically at 90 ° intervals.
【0111】即ち、本発明の第2実施形態は、原盤作製
用ディスク2の1ピット形成部分を1個以上の情報記録
用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤
作製用ディスク2の1ピット形成部分を照射する情報記
録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク2の内周
部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビ
ーム鏡筒を配置させるように構成するというものであ
る。That is, in the second embodiment of the present invention, one pit forming portion of the master disc 2 is irradiated with an electron beam by one or more electron beam column for information recording. The information recording electron beam column is arranged so that the number of the electron recording column for irradiating one pit formation portion increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the master disc manufacturing disk 2. It is.
【0112】このように構成された本発明の第2実施形
態によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜55
−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46
−4〜55−4を同時に使用して原盤作製用ディスク2
の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担
し、並行して行うことができるので、スループットの向
上を図ることができる。According to the second embodiment of the present invention configured as described above, the electron beam barrels 46-1 to 55 for information recording are provided.
-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, 46
-4 to 55-4 at the same time, a master disc 2
Since the electron beam irradiation to the electron beam irradiation point can be shared and performed in parallel, the throughput can be improved.
【0113】また、原盤作製用ディスク2を一定角速度
で回転させる場合、原盤作製用ディスク2においては、
内周部よりも外周部の方が線速度は速くなってしまう
が、本発明の第2実施形態によれば、原盤作製用ディス
ク2の1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビー
ム鏡筒の数が内周部から外周部にかけて多くなるように
情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させているので、原盤
作製用ディスク2を一定角速度で回転させる場合におい
ても、原盤作製用ディスク2の半径方向の各点での単位
面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化する
ことができ、この結果、原盤作製用ディスク2に対する
ピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことがで
きる。When the master disc 2 is rotated at a constant angular velocity, the master disc 2 is
Although the outer peripheral portion has a higher linear velocity than the inner peripheral portion, according to the second embodiment of the present invention, an electron beam column for information recording that irradiates a portion where one pit is formed on the master disc 2 is formed. The information recording electron beam column is arranged so that the number of the laser beams increases from the inner periphery to the outer periphery. Therefore, even when the master disc 2 is rotated at a constant angular velocity, the radius of the master disc 2 is increased. The amount of electron beam irradiation per unit area at each point in the direction can be made as uniform as possible, and as a result, information necessary for forming pits on the master disc 2 can be recorded with high accuracy.
【0114】なお、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1
〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−
3、46−4〜55−4の内部に設けられる電子ビーム
径制御レンズを制御して、原盤作製用ディスク2に照射
する電子ビームの電流量を制御することにより、原盤作
製用ディスク2の半径方向の各点での単位面積あたりの
電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成し
ても良い。The electron beam column for information recording 46-1
~ 55-1, 46-2 ~ 55-2, 46-3 ~ 55-
3, by controlling an electron beam diameter control lens provided inside 46-4 to 55-4 to control a current amount of an electron beam to be applied to the master disc 2, thereby obtaining a radius of the master disc 2. The electron beam irradiation amount per unit area at each point in the direction may be configured to be as uniform as possible.
【0115】また、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1
〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−
3、46−4〜55−4の内部に設けられるブランキン
グ電極を制御し、1ピット形成部分に対する電子ビーム
の照射回数を制御することにより、原盤作製用ディスク
2の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照
射量を出来る限り均等化するように構成しても良い。The information recording electron beam column 46-1
~ 55-1, 46-2 ~ 55-2, 46-3 ~ 55-
3, 46-4 to 55-4, by controlling a blanking electrode and controlling the number of times of irradiation of the electron beam with respect to one pit formation portion, at each point in the radial direction of the master disc 2 The electron beam irradiation amount per unit area may be configured to be as uniform as possible.
【0116】また、本発明の第2実施形態によれば、本
発明の第1実施形態と同様に、原盤作製用ディスク2に
対する電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク
2の回転中心14を検出し、原盤作製用ディスク2の回
転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18との整合を
行うことができるので、この点からしても、原盤作製用
ディスク2に対するピット形成に必要な情報の記録を高
精度に行うことができる。Further, according to the second embodiment of the present invention, similarly to the first embodiment of the present invention, before the electron beam irradiation on the master disc 2 is performed, the rotation center 14 of the master disc 2 is rotated. Can be detected, and the center of rotation 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 can be aligned. From this point, it is necessary to form pits on the master disc 2. Information can be recorded with high accuracy.
【0117】また、本発明の第2実施形態によれば、不
良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出した場合におい
て、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用電子
ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用電子ビーム鏡筒
である場合には、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分
担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を、
情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない回転対称に
ある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うこと
ができ、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用
電子ビーム鏡筒小群を構成する情報記録用電子ビーム鏡
筒である場合には、回転対称にある他の情報記録用電子
ビーム鏡筒小群を使用して行うことができるので、不良
の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合において
も、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。Further, according to the second embodiment of the present invention, when a defective information recording electron beam column is detected, the defective information recording electron beam column is replaced with the information recording electron beam column subgroup. In the case of an information recording electron beam column that does not constitute the above, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column,
The electron beam column for information recording can be performed by using another electron beam column for information recording which is not symmetrical with the rotation and does not constitute a small group of electron beam columns for information recording. In the case of the electron beam column for information recording constituting the cylinder subgroup, since it can be performed using another electron beam column subgroup for information recording which is rotationally symmetric, the electron beam column for defective information recording can be performed. Even in the case where a beam barrel is generated, it is possible to minimize a decrease in work efficiency.
【0118】なお、本発明の第2実施形態においても、
情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用
電子ビーム鏡筒に対応させて予備の情報記録用電子ビー
ム鏡筒を設けると共に、情報記録用電子ビーム鏡筒小群
に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒小群を設
けるようにしても良いし、予備の原盤作製用ディスク回
転中心検出用電子ビーム鏡筒を設けるようにしても良
い。Note that in the second embodiment of the present invention,
A spare information recording electron beam column is provided corresponding to the information recording electron beam column which does not constitute the information recording electron beam column subgroup, and a spare is provided corresponding to the information recording electron beam column subgroup. The information recording electron beam lens barrel subgroup may be provided, or a spare master disk manufacturing disk rotation center detection electron beam lens barrel may be provided.
【0119】[0119]
【発明の効果】以上のように、本発明中、第1の発明の
電子ビーム装置によれば、原盤作製用ディスクの電子ビ
ーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にあ
る複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して
行うことができるので、スループットの向上を図ること
ができると共に、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検
出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担
する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を回転
対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行
うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒
が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に
抑えることができる。As described above, according to the electron beam apparatus of the first aspect of the present invention, the irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation position of the master disk is performed by a plurality of information recording devices having rotational symmetry. Since the electron beam can be shared by the electron beam column and can be performed in parallel, the throughput can be improved, and when a defective information recording electron beam column is detected, the defective information recording electron beam mirror is detected. Since the electron beam irradiation to the electron beam irradiation portion shared by the tube can be performed using another information recording electron beam column which is rotationally symmetric, when a defective information recording electron beam column occurs, In addition, it is possible to minimize a decrease in work efficiency.
【0120】また、本発明中、第2の発明の電子ビーム
装置によれば、第1の発明の電子ビーム装置と同様に、
原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子
ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビ
ーム鏡筒で分担し、並行して行うことができるので、ス
ループットの向上を図ることができると共に、不良の情
報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報
記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に
対する電子ビーム照射を予備の情報記録用電子ビーム鏡
筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用
電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の
低下を最小限に抑えることができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the second invention, like the electron beam apparatus of the first invention,
Irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation portion of the master disk can be shared by a plurality of rotationally symmetric electron beam columns for information recording and can be performed in parallel, so that throughput can be improved and When a defective information recording electron beam column is detected, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column is performed by using a spare information recording electron beam column. Therefore, even when a defective information-recording electron beam column occurs, a decrease in work efficiency can be minimized.
【0121】また、本発明中、第3の発明の電子ビーム
装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と
同様の効果を得ることができると共に、不良情報記録用
電子ビーム鏡筒検出手段は、原盤作製用ディスクからの
反射電子又は2次電子の検出量により、不良の情報記録
用電子ビーム鏡筒を検出するように構成するとしている
ので、簡単な構成で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒
を検出することができるという格別の効果を得ることが
できる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the third invention, the same effects as those of the electron beam apparatus of the first or second invention can be obtained, and the defect information recording electron beam mirror can be obtained. The tube detecting means is configured to detect a defective information recording electron beam column based on the amount of reflected electrons or secondary electrons detected from the master disc, so that the defect information can be detected with a simple configuration. A special effect that the recording electron beam column can be detected can be obtained.
【0122】また、本発明中、第4の発明の電子ビーム
装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と
同様の効果を得ることができると共に、不良情報記録用
電子ビーム鏡筒検出手段は、電子ビーム電流の漏れ量を
検出することにより、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒
を検出するように構成するとしているので、簡単な構成
で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することが
できるという格別の効果を得ることができる。Further, according to the present invention, according to the electron beam apparatus of the fourth invention, the same effects as those of the electron beam apparatus of the first or second invention can be obtained, and the electron beam mirror for recording defective information. The tube detecting means is configured to detect a defective information recording electron beam column by detecting the amount of leakage of the electron beam current, so that the defective information recording electron beam mirror has a simple configuration. A special effect that a cylinder can be detected can be obtained.
【0123】また、本発明中、第5の発明の電子ビーム
装置によれば、第1、第2、第3又は第4の発明の電子
ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、原
盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合におけ
る原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あ
たりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化する電子ビ
ーム照射量均等化手段を備えるとしているので、原盤作
製用ディスクを一定角速度で回転させる場合において
も、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情
報の記録を高精度に行うことができるという格別の効果
を得ることができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fifth invention, the same effects as those of the electron beam apparatus of the first, second, third or fourth invention can be obtained, and the master disk can be obtained. Since it is provided with an electron beam irradiation amount equalizing means for equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disc manufacturing disk when the manufacturing disk is rotated at a constant angular velocity as much as possible. Even when the master disc is rotated at a constant angular velocity, a special effect that information required for forming pits on the master disc can be recorded with high accuracy can be obtained.
【0124】また、本発明中、第6の発明の電子ビーム
装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効
果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化
手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個
以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射する
ものとし、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照
射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディ
スクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記
録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成する
としているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な
構成とすることができるという格別の効果を得ることが
できる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the sixth invention, the same effect as that of the electron beam apparatus of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be realized by the master disc. One or more pit-forming portions of the disc for production are irradiated with an electron beam by one or more electron beam column for information recording. Since the configuration includes the arrangement of the electron beam column for information recording so as to increase from the inner circumference to the outer circumference of the master disk, the electron beam irradiation amount equalizing means should be simple. It is possible to obtain a special effect that it can be performed.
【0125】また、本発明中、第7の発明の電子ビーム
装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効
果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化
手段は、原盤作製用ディスクに照射される電子ビームの
電流量を制御することにより、原盤作製用ディスク保持
手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回
転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の
各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限
り均等化するように構成するとしているので、電子ビー
ム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができると
いう格別の効果を得ることができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the seventh invention, the same effects as those of the electron beam apparatus of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be provided on the master disk. By controlling the amount of current of the electron beam applied to the production disk, each radial direction of the production disk for master when the production disk held by the production disk holding means is rotated at a constant angular velocity. Since the configuration is such that the electron beam irradiation amount per unit area at the point is equalized as much as possible, it is possible to obtain a special effect that the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. .
【0126】また、本発明中、第8の発明の電子ビーム
装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効
果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化
手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射
する電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤
作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディス
クを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用デ
ィスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビー
ム照射量を出来る限り均等化するように構成するとして
いるので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成と
することができるという格別の効果を得ることができ
る。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the eighth invention, the same effects as those of the electron beam apparatus of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be provided by the master disc. By controlling the number of times of electron beam irradiation to irradiate the one pit forming portion of the production disk, the master production disk held by the master production disk holding means is rotated at a constant angular velocity. Since the configuration is such that the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction is made as equal as possible, there is a special effect that the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. Obtainable.
【0127】また、本発明中、第9の発明の電子ビーム
装置によれば、第1、第2、第3、第4、第5、第6、
第7又は第8の発明と同様の効果を得ることができると
共に、原盤作製用ディスクの回転中心と複数の情報記録
用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とを整合させる整合手
段とを備えているので、原盤作製用ディスクに対するピ
ット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができ
るという格別の効果を得ることができる。In the present invention, according to the ninth aspect of the electron beam apparatus, the first, second, third, fourth, fifth, sixth,
An effect similar to that of the seventh or eighth invention can be obtained, and alignment means is provided for aligning the rotational center of the master disc and the rotational symmetry centers of the plurality of electron beam barrels for information recording. Therefore, it is possible to obtain a special effect that information necessary for forming pits on the master disc can be recorded with high accuracy.
【0128】また、本発明中、第10の発明の電子ビー
ム装置によれば、第9の発明と同様の効果を得ることが
できると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出手段
は、原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用ディスク
搭載面に形成された複数の原盤作製用ディスク回転中心
検出用マークと、複数の原盤作製用ディスク回転中心検
出用マークに電子ビームを照射して反射電子又は2次電
子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心
検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成するとしているの
で、原盤作製用ディスクの回転中心位置を簡単な構成
で、かつ、高精度に検出することができるという格別の
効果を得ることができる。In the present invention, according to the electron beam apparatus of the tenth aspect of the invention, the same effects as in the ninth aspect can be obtained, and the rotation center detecting means for the disk for producing the master can be formed by the disk for producing the master. An electron beam is applied to the plurality of marks for detecting the rotation center of the master disk and the plurality of marks for detecting the rotation center of the disk for forming the master disk formed on the surface of the holding means on which the disk for manufacturing the master disk is mounted. And the electron beam column for detecting the center of rotation of the master disk having means for detecting the original disk, so that the rotation center position of the master disk can be detected with a simple configuration and with high accuracy. It is possible to obtain a special effect that it can be performed.
【0129】また、本発明中、第11の発明の電子ビー
ム装置によれば、第9の発明と同様の効果を得ることが
できると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出手段
は、原盤作製用ディスクに形成された複数の原盤作製用
ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して
反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製
用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を含めて構成
するとしているので、原盤作製用ディスクの回転中心位
置を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができ
るという格別の効果を得ることができる。According to the eleventh aspect of the present invention, according to the electron beam apparatus of the eleventh aspect, the same effect as that of the ninth aspect can be obtained, and the rotation center detecting means for the master production disk can be provided by the original production disc. A structure including an electron beam barrel for detecting the center of rotation of a master disk for producing a master having means for irradiating a plurality of marks for detecting the center of rotation of the disk for forming a master with an electron beam to detect reflected electrons or secondary electrons Therefore, it is possible to obtain a special effect that the rotation center position of the master disc can be detected with a simple configuration and with high accuracy.
【0130】また、本発明中、第12の発明の電子ビー
ム装置によれば、第10又は第11の発明と同様の作用
を得ることができると共に、原盤作製用ディスク回転中
心検出用電子ビーム鏡筒として、原盤作製用ディスク回
転中心検出用マークと同一数の原盤作製用ディスク回転
中心検出用電子ビーム鏡筒が複数の情報記録用電子ビー
ム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として回転対称に
配置するとしているので、複数の原盤作製用ディスク回
転中心検出用マークの検出信号を同時に得ることがで
き、原盤作製用ディスクの回転中心を効率的に検出する
ことができる。According to the twelfth aspect of the present invention, the same effects as those of the tenth or eleventh aspects can be obtained, and the electron beam mirror for detecting the center of rotation of the disk for producing the master. As the cylinder, the same number of electron beam barrels for disc rotation center detection for master disc production as the number of marks for disc rotation center detection for master disc production are rotationally symmetric about the rotational symmetry center of the electron beam barrels for multiple information recording. Since it is arranged, the detection signals of a plurality of marks for detecting the rotation center of the master disc can be obtained at the same time, and the rotation center of the master disc can be efficiently detected.
【0131】また、本発明中、第13の発明の電子ビー
ム装置によれば、第10、第11又は第12の発明の電
子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、
原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒に対
応させて予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子
ビーム鏡筒を配置するとしているので、不良の原盤作製
用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が発生した場
合には、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子
ビーム鏡筒を使用することができ、この点からも、スル
ープットの向上を図ることができるという格別の効果を
得ることができる。According to the thirteenth aspect of the present invention, the same effects as those of the tenth, eleventh or twelfth aspect can be obtained.
Since the spare electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the original master is to be arranged corresponding to the electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the original master, the electron beam mirror for detecting the center of rotation of the disk for producing the defective master is defective. When a cylinder occurs, a spare electron beam barrel for detecting the center of rotation of the disk for producing the original master can be used, and from this point, a remarkable effect that the throughput can be improved can be obtained. it can.
【0132】また、本発明中、第14の発明の電子ビー
ム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第
13の発明と同様の効果を得ることができると共に、整
合手段は、原盤作製用ディスクの回転中心と、複数の情
報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致するよ
うに、原盤作製用ディスク保持手段又は情報記録用電子
ビーム鏡筒群を移動する移動手段を含めて構成するとし
ているので、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子
ビーム鏡筒群との整合を図ることができるという格別の
効果を得ることができる。According to the electron beam apparatus of the fourteenth aspect of the present invention, the same effect as that of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect can be obtained, and the matching means can be obtained. Is a movement for moving the master disk manufacturing means or the information recording electron beam column group such that the rotation center of the master disk and the rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam barrels coincide with each other. Since it is configured to include the means, it is possible to obtain a special effect that alignment between the master disk and the electron beam column group can be achieved with a simple configuration.
【0133】また、本発明中、第15の発明の電子ビー
ム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第
13の発明と同様の効果を得ることができると共に、整
合手段は、原盤作製用ディスクの回転中心と、情報記録
用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致している場合
と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、複
数の情報記録用電子ビーム鏡筒内の偏向器に供給する偏
向信号を補正する補正手段を含めて構成するとしている
ので、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム
鏡筒群との整合を図ることができるという格別の効果を
得ることができる。According to the fifteenth aspect of the present invention, the same effects as those of the ninth, tenth, eleventh, twelfth, or thirteenth aspects can be obtained, and the matching means can be obtained. In order to perform the same electron beam irradiation as when the center of rotation of the master disc and the center of rotation of the electron beam column for information recording coincide with each other, a plurality of information recording electron beams are used. It is configured to include a correction unit that corrects the deflection signal supplied to the deflector in the lens barrel, so that it is possible to match the master disk and the electron beam lens barrel group with a simple configuration. The effect of can be obtained.
【図1】本発明の第1実施形態の概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram of a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施形態が備える原盤作製用ディ
スク保持手段の概略的平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of a disc holding means for producing a master provided in the first embodiment of the present invention.
【図3】図2のB−B線に沿った概略的断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view taken along the line BB of FIG. 2;
【図4】本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒
群の平面構成を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a planar configuration of an electron beam column group provided in the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒
配置円板に予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を配置する
例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing an example in which a spare information recording electron beam column is arranged on an electron beam column arrangement disk provided in the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒
配置円板に予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電
子ビーム鏡筒を配置する例を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing an example in which an electron beam lens barrel for detecting a center of rotation of a disk for preparing a master disc is arranged on an electron beam lens barrel arrangement disk provided in the first embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第1実施形態が備える情報記録用電子
ビーム鏡筒の概念図である。FIG. 7 is a conceptual diagram of an information recording electron beam column included in the first embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第1実施形態が備える原盤作製用ディ
スク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器を
介して得られる反射電子検出信号の一例を示すタイミン
グチャートである。FIG. 8 is a timing chart showing an example of a backscattered electron detection signal obtained via a backscattered electron detector of the electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing a master provided in the first embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第1実施形態における原盤作製用ディ
スクの回転中心の検出方法を説明するための模式図であ
る。FIG. 9 is a schematic diagram for explaining a method for detecting the center of rotation of the master disc in the first embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第1実施形態が備える原盤作製用デ
ィスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器
を介して得られる反射電子検出信号の他の例を示すタイ
ミングチャートである。FIG. 10 is a timing chart showing another example of a backscattered electron detection signal obtained via the backscattered electron detector of the electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the master provided in the first embodiment of the present invention.
【図11】本発明の第2実施形態の要部を示す模式図
(本発明の第2実施形態が備える電子ビーム鏡筒群の平
面構成を示す模式図)である。FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a main part of a second embodiment of the present invention (a schematic diagram illustrating a planar configuration of an electron beam column group included in the second embodiment of the present invention).
1 真空室 2 原盤作製用ディスク 3 原盤作製用ディスク保持手段 4 ステージ 5 ステージ制御部 6 電子ビーム鏡筒群 7 電子ビーム照射制御部 8 不良電子ビーム鏡筒検出部 9 原盤作製用ディスク回転中心検出部 10 システムコントローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum chamber 2 Master disk manufacturing disk 3 Master disk manufacturing disk holding means 4 Stage 5 Stage control part 6 Electron beam column group 7 Electron beam irradiation control part 8 Defective electron beam column detection part 9 Master disk manufacturing disk rotation center detection part 10 System controller
Claims (15)
るための原盤作製用ディスク保持手段と、 前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤
作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごと
に複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置し
てなる情報記録用電子ビーム鏡筒群と、 不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出する不良情報記
録用電子ビーム鏡筒検出手段とを備えていることを特徴
とする電子ビーム装置。1. A master disc manufacturing means for holding and rotating a master manufacturing disc, and different radial distances from a rotation center of the master manufacturing disc held by the master manufacturing disc holding means. A group of electron beam columns for information recording, in which a plurality of electron beam columns for information recording are arranged rotationally symmetrically, and an electron beam column detecting means for defective information recording for detecting a defective electron beam column for information recording An electron beam device comprising:
々に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を備え
ていることを特徴とする請求項1記載の電子ビーム装
置。2. An electron beam apparatus according to claim 1, further comprising a spare electron beam column for information recording corresponding to each of said plurality of electron beam columns for information recording.
段は、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前
記原盤作製用ディスクからの反射電子又は2次電子の検
出量により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出す
るように構成されていることを特徴とする請求項1又は
2記載の電子ビーム装置。3. The defect information recording electron beam column detecting means detects defect information based on a detection amount of reflected electrons or secondary electrons from the master disc for disc production held by the disc production disc holding means. 3. The electron beam apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is configured to detect a recording electron beam column.
段は、電子ビーム電流の漏れ量を検出することにより、
不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出するように構成
されていることを特徴とする請求項1又は2記載の電子
ビーム装置。4. The defect information recording electron beam column detecting means detects the amount of leakage of the electron beam current,
3. The electron beam apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is configured to detect a defective information recording electron beam column.
せた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた
場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点
での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均
等化する電子ビーム照射量均等化手段を備えていること
を特徴とする請求項1、2、3又は4記載の電子ビーム
装置。5. An electron beam irradiation per unit area at each point in a radial direction of the master disc when the master disc is rotated at a constant angular velocity held by the master disc holding means. 5. An electron beam apparatus according to claim 1, further comprising an electron beam irradiation amount equalizing means for equalizing the amount as much as possible.
原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個以上の情
報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものと
し、前記原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照射
する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が前記原盤作製用デ
ィスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの
内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電
子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されている
ことを特徴とする請求項5記載の電子ビーム装置。6. The master disc producing disk according to claim 1, wherein said electron beam irradiation amount equalizing means irradiates an electron beam to one pit forming portion of said master disc by one or more electron beam column for information recording. The number of electron beam electron beam columns for irradiating the one pit forming portion is increased from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the master disc manufactured by the master disc holder. 6. The electron beam apparatus according to claim 5, wherein the apparatus is configured to include a beam column.
原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製
用ディスクに照射される電子ビームの電流量を制御する
ことにより、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持さ
せた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた
場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点
での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均
等化するように構成されていることを特徴とする請求項
5記載の電子ビーム装置。7. An electron beam irradiation amount equalizing means for controlling a current amount of an electron beam applied to the master disk for production held on the disk production means for holding a disk for producing the original disk. In order to equalize as much as possible the amount of electron beam irradiation per unit area at each point in the radial direction of the master disc when the master disc is rotated at a constant angular velocity held by the disc holding means. The electron beam device according to claim 5, wherein the electron beam device is configured.
原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射する電子
ビームの照射回数を制御することにより、前記原盤作製
用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディス
クを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製
用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子
ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成されて
いることを特徴とする請求項5記載の電子ビーム装置。8. An electron beam irradiation amount equalizing means controls the number of times of electron beam irradiation to irradiate one pit forming portion of the master disk to be held by the master disk manufacturing means. When the master disc is rotated at a constant angular velocity, the amount of electron beam irradiation per unit area at each point in the radial direction of the master disc is equalized as much as possible. The electron beam apparatus according to claim 5, wherein
せた前記原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤
作製用ディスク回転中心検出手段と、 前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤
作製用ディスクの回転中心と前記複数の情報記録用電子
ビーム鏡筒の回転対称中心とを整合させる整合手段とを
備えていることを特徴とする請求項1、2、3、4、
5、6、7又は8記載の電子ビーム装置。9. A master disk manufacturing disk rotation center detecting means for detecting a rotation center of the master disk manufacturing disk held by the master disk manufacturing disk holding means, and the master disk held by the master disk manufacturing disk holding means. 5. An alignment means for aligning a center of rotation of a manufacturing disk with a center of rotation of the plurality of electron beam barrels for information recording.
The electron beam apparatus according to 5, 6, 7, or 8.
段は、前記原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用デ
ィスク搭載面の原盤作製用ディスク搭載箇所の外側に前
記原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として
回転対称に形成され、かつ、前記原盤作製用ディスクの
回転方向に沿った幅が前記原盤作製用ディスクの回転中
心からの距離によって異なる同一形状の複数の原盤作製
用ディスク回転中心検出用マークと、 前記複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに
電子ビームを照射して前記複数の原盤作製用ディスク回
転中心検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出
する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電
子ビーム鏡筒とを含めて構成されていることを特徴とす
る請求項9記載の電子ビーム装置。10. The master disc producing disk rotation center detecting means rotates the center of rotation of the master producing disc on the outer surface of the master producing disc mounting surface of the master producing disc holding means. A plurality of master disk manufacturing disk rotation centers of the same shape, which are formed rotationally symmetrically as a center of symmetry, and whose width along the rotation direction of the master manufacturing disk varies depending on the distance from the rotation center of the master manufacturing disk. An original disc having means for irradiating an electron beam on the mark and the plurality of original disc producing disc rotation center detecting marks to detect reflected electrons or secondary electrons from the plurality of original disc producing disc rotating center detecting marks; 10. The electron beam apparatus according to claim 9, further comprising an electron beam lens barrel for detecting a rotation center of the disc.
段は、前記原盤作製用ディスクに前記原盤作製用ディス
クの回転中心を回転対称中心として回転対称に形成さ
れ、かつ、前記原盤作製用ディスクの回転方向に沿った
幅が前記原盤作製用ディスクの回転中心からの距離によ
って異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中
心検出用マークに電子ビームを照射して前記原盤作製用
ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又は2次
電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中
心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成されていること
を特徴とする請求項9記載の電子ビーム装置。11. The master disc producing disk rotation center detecting means is formed on the master producing disc to be rotationally symmetric about the rotation center of the master producing disc as a rotationally symmetric center, and to rotate the master producing disc. An electron beam is applied to a plurality of marks for detecting the center of rotation of the master disc for producing the same master, the widths of which in the direction differ according to the distance from the rotation center of the disc for forming the master, and the marks for detecting the center of rotation of the disc for forming the master are irradiated. 10. The electron beam apparatus according to claim 9, further comprising: an electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing a master having detection means for detecting reflected electrons or secondary electrons from the electron beam.
電子ビーム鏡筒として、前記原盤作製用ディスク回転中
心検出用マークと同一数の原盤作製用ディスク回転中心
検出用電子ビーム鏡筒が前記複数の情報記録用電子ビー
ム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として回転対称に
配置されていることを特徴とする請求項10又は11記
載の電子ビーム装置。12. An electron beam column for detecting the center of rotation of a disk for producing a master, wherein the same number of electron beam barrels for detecting the center of rotation of the disk for producing a master as the number of marks for detecting the center of rotation of the disk for producing a master are provided. The electron beam apparatus according to claim 10 or 11, wherein the electron beam apparatus is arranged to be rotationally symmetric about a rotational symmetry center of the information recording electron beam column.
電子ビーム鏡筒に対応させて予備の原盤作製用ディスク
回転中心検出用電子ビーム鏡筒が配置されていることを
特徴とする請求項10、11又は12記載の電子ビーム
装置。13. A spare electron beam column for detecting the center of rotation of a disk for producing a master disc is arranged corresponding to the electron beam column for detecting the center of rotation of a disc for producing a master disc. 13. The electron beam device according to 11 or 12.
ク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転
中心と、前記複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対
称中心とが一致するように、前記原盤作製用ディスク保
持手段又は前記情報記録用電子ビーム鏡筒群を移動する
移動手段を含めて構成されていることを特徴とする請求
項9、10、11、12又は13記載の電子ビーム装
置。14. The aligning means is arranged such that the center of rotation of the master disk manufactured by the master disk holding means coincides with the center of rotational symmetry of the plurality of electron beam barrels for information recording. 14. The electronic device according to claim 9, further comprising moving means for moving the master disc manufacturing disk holding means or the information recording electron beam column group. Beam device.
ク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転
中心と、前記情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心
とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うこ
とができるように、前記複数の情報記録用電子ビーム鏡
筒内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を
含めて構成されていることを特徴とする請求項9、1
0、11、12又は13記載の電子ビーム装置。15. The alignment means, wherein the center of rotation of the disk for producing a master held by the disk holding means for producing a master and the center of rotation symmetry of the electron beam column for information recording coincide with each other. And a correcting means for correcting a deflection signal supplied to a deflector in the plurality of electron beam barrels for information recording so as to perform the same electron beam irradiation as described above. Claims 9 and 1
14. The electron beam apparatus according to 0, 11, 12 or 13.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2004027771A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-04-01 | Tdk Corporation | Electron beam irradiator, electron beam irradiating method, system for producing disc-like body and process for producing disc-like body |
WO2007119475A1 (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-25 | Pioneer Corporation | Disc master exposure device and method for adjusting same |
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WO2004027771A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-04-01 | Tdk Corporation | Electron beam irradiator, electron beam irradiating method, system for producing disc-like body and process for producing disc-like body |
WO2007119475A1 (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-25 | Pioneer Corporation | Disc master exposure device and method for adjusting same |
US8335146B2 (en) | 2006-03-24 | 2012-12-18 | Nuflare Technology, Inc. | Master disk exposing apparatus and the adjusting method therefor |
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