JP4081845B2 - Electron beam equipment - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクを作製するために必要な原盤を作製する場合に使用される電子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子情報処理装置において、情報記録媒体として使用されるディスクのうち、ＣＤ−ＲＯＭや光磁気ディスク（ＭＯ）等の光ディスクは、可搬型の大容量記録媒体であることを特徴とし、広く使用されている。
【０００３】
これらの光ディスクは、ピット（凹部）を有することから、たとえば、ガラス基板にレジスト層を形成してなる原盤作製用ディスクを用意し、この原盤作製用ディスクのレジスト層を加工して原盤を作製し、更に、この原盤を使用してスタンパと呼ばれる金型を作製した後、この金型を使用して作製される。
【０００４】
従来、原盤は、光ディスクに記憶すべきデジタル情報に応じたレーザビームを原盤作製用ディスクのレジスト層に照射し、原盤作製用ディスクに必要なピットを形成することにより作製されていた。
【０００５】
しかし、レーザビームを使用する原盤の作製では、更なる高記録密度化が困難であると考えられることから、電子ビームを使用する原盤の作製が検討されており、原盤作製に使用される種々の電子ビーム装置が提案されている（特開平２−２１４０４６号公報、特開平４−３３５２２６号公報、第４４回春季応用物理学会予稿集（１９９７）３１ａ−ＮＦ−９）。
【０００６】
特に、特開平２−２１４０４６号公報及び特開平４−３３５２２６号公報においては、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所を一括照射できないことに起因する電子ビーム装置の欠点である低スループットを改善することを目的として、小型の電子ビーム鏡筒を２次元に配列し、原盤作製用ディスクに対して同時に複数の電子ビームを照射することができるようにした電子ビーム装置が記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特開平２−２１４０４６号公報に記載されている電子ビーム装置や、特開平４−３３５２２６号公報に記載されている電子ビーム装置においては、動作不良の電子ビーム鏡筒を検出することができず、動作不良の電子ビーム鏡筒が発生した場合、直ちに、これに対応することができず、作業効率の大幅な低下を招いてしまうという問題点があった。
【０００８】
また、従来の電子ビーム装置においては、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との位置合わせは、原盤作製用ディスクを保持するステージ機構系の精度に依存したものであり、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群とを積極的に整合させる手段を有していなかったので、ピットの形成を高精度に行うことができない場合があるという問題点があった。
【０００９】
本発明は、かかる点に鑑み、複数の電子ビームを配置してなる電子ビーム鏡筒群を備え、スループットの向上を図ることができ、しかも、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができるようにした電子ビーム装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の電子ビーム装置は、原盤作製用ディスクを保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段と、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群と、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備え、前記電子ビーム照射量均等化手段は、前記原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を１個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、前記原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されているというものである。
【００１１】
本発明の電子ビーム装置によれば、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群を備えているので、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができる。
【００１２】
また、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備えているので、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。
【００１３】
また、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を１個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図１〜図１１を参照して、本発明の参考例及び一実施形態について説明する。
【００１５】
（本発明の参考例・・図１〜図１０）
図１は本発明の参考例の概念図である。図１中、１は真空室、２は光ディスクを作製するために必要な原盤を作製するための原盤作製用ディスクであり、原盤作製用ディスク２は、たとえば、ガラス基板に電子ビームレジストを塗布して構成される。
【００１６】
また、３は原盤作製用ディスク２を水平に保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段、４は原盤作製用ディスク保持手段３の回転、移動を行うステージ、５はステージ４の回転、移動を制御するステージ制御部である。
【００１７】
なお、原盤作製用ディスク保持手段３が原盤作製用ディスク２を回転させる機構を備えるようにし、ステージ４は、原盤作製用ディスク保持手段３の移動のみを行うように構成しても良い。
【００１８】
また、６は原盤作製用ディスク２に対してピットを形成するために必要な情報の記録を行う複数の情報記録用電子ビーム鏡筒と、原盤作製用ディスク２の回転中心を検出するための複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とが配置されている電子ビーム鏡筒群である。
【００１９】
また、７は電子ビーム鏡筒群６を構成する情報記録用電子ビーム鏡筒及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒による原盤作製用ディスク２に対する電子ビーム照射を制御する電子ビーム照射制御部である。
【００２０】
また、８は情報記録用電子ビーム鏡筒及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が備える反射電子検出器を介して得られる反射電子検出量から不良の電子ビーム鏡筒を検出する不良電子ビーム鏡筒検出部である。
【００２１】
また、９は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が備える反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号から原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤作製用ディスク回転中心検出部である。
【００２２】
また、１０はステージ制御部５及び電子ビーム照射制御部７の制御など、装置の全体的な制御を行うシステムコントローラである。
【００２３】
図２は原盤作製用ディスク保持手段３の概略的平面図である。図２中、１２は原盤作製用ディスク搭載面、１３は原盤作製用ディスク搭載箇所、１４は原盤作製用ディスク搭載面１２の回転中心、即ち、原盤作製用ディスク２の回転中心であり、矢印Ａは、原盤作製用ディスク保持手段３の回転方向、即ち、原盤作製用ディスク２の回転方向を示している。
【００２４】
また、１５−１〜１５−４は原盤作製用ディスク搭載面１２の原盤作製用ディスク搭載箇所１３の外周部に原盤作製用ディスク２の回転中心１４に対して９０°の間隔をもって回転対称に形成された同一形状の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークである。
【００２５】
図３は図２のＢ−Ｂ線に沿った概略的断面図であり、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク１５−１〜１５−４は、高さを一定とする凸状とし、かつ、平面形状を二等辺三角形とし、二等辺三角形の高さ方向が原盤作製用ディスク搭載面１２に搭載された原盤作製用ディスク２の半径方向と一致するように形成されている。
【００２６】
図４は電子ビーム鏡筒群６の平面構成を示す模式図である。図４中、１７は電子ビーム鏡筒配置円板、１８は原盤作製用ディスク２の回転中心１４を一致させるべき電子ビーム鏡筒群６の中心である。
【００２７】
また、１９−１〜１９−４は情報記録用電子ビーム鏡筒が配置されている情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロックであり、これら情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−１〜１９−４は、原盤作製用ディスク２の電子ビーム照射面に対応する部分であり、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として回転対称に設定されたものである。
【００２８】
また、２０−１〜２０−４は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が配置されている原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロックであり、これら原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック２０−１〜２０−４も、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として回転対称に設定されたものである。
【００２９】
また、２１−１〜２４−１は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−１に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、２５−１は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック２０−１に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。
【００３０】
また、２１−２〜２４−２は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−２に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、２５−２は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック２０−２に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。
【００３１】
また、２１−３〜２４−３は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−３に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、２５−３は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック２０−３に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。
【００３２】
また、２１−４〜２４−４は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−４に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、２５−４は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック２０−４に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。
【００３３】
なお、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００３４】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒２２−１〜２２−４は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００３５】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒２３−１〜２３−４は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００３６】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒２４−１〜２４−４は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００３７】
また、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４は、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク１５−１〜１５−４に対応させて、電子ビーム鏡筒群６の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００３８】
即ち、本発明の参考例においては、電子ビーム鏡筒配置円板１７に、原盤作製用ディスク保持手段３に保持させた原盤作製用ディスク２の回転中心１４から異なる４個の半径方向距離ごとに４個の情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４を回転対称に配置するとしている。
【００３９】
なお、たとえば、図５に示すように、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４に対応させて、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒２６−１〜２６−４、２７−１〜２７−４、２８−１〜２８−４、２９−１〜２９−４を設けるようにしても良い。
【００４０】
また、たとえば、図６に示すように、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４に対応させて、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒３０−１〜３０−４を配置させるようにしても良い。
【００４１】
なお、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒は、作業効率を考慮しなければ、１個あれば足りるものである。
【００４２】
また、図示は省略するが、予備の電子ビーム鏡筒として、たとえば、図５に示す予備の情報記録用電子ビーム鏡筒２６−１〜２６−４、２７−１〜２７−４、２８−１〜２８−４、２９−１〜２９−４と、たとえば、図６に示す予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒３０−１〜３０−４との両方を設けるようにしても良い。
【００４３】
図７は情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１の概念図であり、他の情報記録用電子ビーム鏡筒２１−２〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４も同一構造とされている。
【００４４】
なお、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒２６−１〜２６−４、２７−１〜２７−４、２８−１〜２８−４、２９−１〜２９−４及び予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒３０−１〜３０−４を設ける場合には、これらも同一構造とされる。
【００４５】
図７中、３２は電子源であり、３３は電子源３２から電子ビーム形成のための電子を引き出すゲート電極、３４は電子源３３から引き出した電子を加速して電子ビーム３５とするアノード電極である。
【００４６】
また、３６は電子ビーム３５の径を制御して後述する電子ビーム径制限絞りと相まって原盤作製用ディスク２に照射する電子ビームの電流量を制御する電子ビーム径制御レンズ、３７は電子ビーム３５の原盤作製用ディスク２への照射、非照射を制御するブランカであり、３８はブランキング電極、３９は開口板である。
【００４７】
また、４０は電子ビーム３５の径を制限する電子ビーム径制限絞り、４１は電子ビーム３５を原盤作製用ディスク２の電子ビームレジスト面に集束させる集束レンズである。
【００４８】
また、４２は電子ビーム３５を偏向して原盤作製用ディスク２に対する照射位置を制御する偏向器、４３は電子ビーム３５を原盤作製用ディスク２に照射した場合の原盤作製用ディスク２からの反射電子を検出する反射電子検出器である。
【００４９】
このように構成された本発明の参考例においては、原盤作製用ディスク２に対するピット形成に必要な情報の記録のための電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク保持手段３の原盤作製用ディスク搭載面１２の原盤作製用ディスク搭載箇所１３に搭載した原盤作製用ディスク２の回転中心１４を検出し、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８との整合を行うことができる。
【００５０】
ここに、原盤作製用ディスク２の回転中心１４の検出を行う場合には、原盤作製用ディスク保持手段３を１／４回転させながら、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４を使用して電子ビームを同時に原盤作製用ディスク保持手段３の原盤作製用ディスク搭載面１２に照射する。
【００５１】
このようにすると、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４においては、それぞれ、反射電子検出器を介して、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク１５−１〜１５−４からの反射電子を検出してなる反射電子検出信号Ｓ１〜Ｓ４を得ることができる。
【００５２】
このようにした場合において、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と、電子ビーム鏡筒群６の中心１８とが一致している場合には、反射電子検出信号Ｓ１〜Ｓ４は、図８に示すように、Ｈレベル幅Ｔ１〜Ｔ４を同一とする信号となる。
【００５３】
これに対して、たとえば、図９に示すように、原盤作製用ディスク２の回転中心１４が電子ビーム鏡筒群６の中心１８に対して矢印Ｃの方向に位置ずれしている場合には、反射電子検出信号Ｓ１〜Ｓ４は、図１０に示すように、Ｈレベル幅Ｔ１〜Ｔ４を、Ｔ１＜Ｔ２＜Ｔ３＞Ｔ４とする信号となる。
【００５４】
そこで、この場合には、原盤作製用ディスク回転中心検出部９は、反射電子検出信号Ｓ１〜Ｓ４の幅Ｔ１〜Ｔ４から原盤作製用ディスク２の回転中心１４の位置を算出して、これをシステムコントローラ１０に転送する。
【００５５】
そこで、システムコントローラ１０は、原盤作製用ディスク回転中心検出部９から転送された原盤作製用ディスク２の回転中心１４の位置の算出値に基づいて反射電子検出信号Ｓ１〜Ｓ４のＨレベル幅Ｔ１〜Ｔ４が同一となるであろう位置、即ち、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群の中心１８とが一致するように、原盤作製用ディスク保持手段３を移動させるようにステージ制御部５を制御し、ステージ制御部５は、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群の中心１８とが一致するようにステージ４を移動することになる。
【００５６】
そして、当初から原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８とが一致している場合、あるいは、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８とを一致させた後には、原盤作製用ディスク２にピットを形成のために必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射が行われる。
【００５７】
原盤作製用ディスク２にピットを形成のために必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射は、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４を同時に使用して原盤作製用ディスク２の電子ビーム照射箇所を分担し、並行して行われる。
【００５８】
ここに、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合には、不良電子ビーム鏡筒検出部８により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が検出され、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒がシステムコントローラ１０に通知されることになる。
【００５９】
この場合、システムコントローラ１０は、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所と回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して電子ビームで照射するようにステージ制御部５及び電子ビーム照射制御部７を制御することになる。
【００６０】
たとえば、システムコントローラ１０は、情報記録用電子ビーム鏡筒２２−１が不良となった場合には、たとえば、情報記録用電子ビーム鏡筒２２−２を使用して、情報記録用電子ビーム鏡筒２２−１が電子ビーム照射を分担する箇所を電子ビーム照射するように制御する。
【００６１】
このように、本発明の参考例によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４を同時に使用して原盤作製用ディスク２の電子ビーム照射箇所を分担し、並行して照射することができるので、スループットの向上を図ることができる。
【００６２】
また、本発明の参考例によれば、原盤作製用ディスク２に電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク２の回転中心を検出し、ステージ４を移動させることにより、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８とを整合させることができるので、原盤作製用ディスク２に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。なお、原盤作製用ディスク保持手段３を移動させる構成とする代わりに、電子ビーム鏡筒群６を移動させる構成としても良い。
【００６３】
なお、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８とが一致していない場合には、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を設けることにより、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８との整合を行うように構成しても良い。
【００６４】
また、本発明の参考例によれば、原盤作製用ディスク保持手段３の原盤作製用ディスク搭載面１２に原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク１５−１〜１５−４を設けると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４を設けるようにしているので、原盤作製用ディスク２の回転中心１４を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができる。
【００６５】
また、本発明の参考例によれば、不良電子ビーム鏡筒検出部８を備えているので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒及び不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を自動的に検出することができる。
【００６６】
そして、電子ビーム鏡筒配置円板１７に、原盤作製用ディスク保持手段３の原盤作製用ディスク搭載面１２の原盤作製用ディスク搭載箇所１３に搭載した原盤作製用ディスク２の回転中心１４から異なる４個の半径方向距離ごとに４個の情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４を回転対称に配置すると共に、４個の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１、２５−２、２５−３、２５−４を回転対称に配置するとしている。
【００６７】
したがって、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。
【００６８】
また、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。
【００６９】
また、本発明の参考例によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４に原盤作製用ディスク２からの反射電子を検出する反射電子検出器を備えると共に、反射電子の検出量から不良の電子ビーム鏡筒の検出を行う不良電子ビーム鏡筒検出部８を備えているので、簡単な構成で、不良の電子ビーム鏡筒を検出することができる。
【００７０】
なお、情報記録用電子ビーム鏡筒２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−４、２３−１〜２３−４、２４−１〜２４−４及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒２５−１〜２５−４に原盤作製用ディスク２からの２次電子を検出する２次電子検出器を備えると共に、２次電子検出量から不良の電子ビーム鏡筒の検出を行う不良電子ビーム鏡筒検出部を備えて、不良の電子ビーム鏡筒を検出するように構成しても良い。
【００７１】
また、たとえば、電子ビーム鏡筒内に設けられるゲート電極３３や、アノード電極３４や、電子ビーム径制限絞り４０等に漏れる電子ビーム電流を検出する漏れ電子ビーム電流検出器を設けて、電子ビーム電流の漏れ量を検出することにより、不良の電子ビーム鏡筒を検出するようにしても良い。
【００７２】
（本発明の一実施形態・・図１１）
図１１は本発明の一実施形態の要部を示す図であり、本発明の一実施形態が備える電子ビーム鏡筒群４５の平面構成を示す模式図である。なお、図１１において、図４に対応する部分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
【００７３】
本発明の一実施形態は、原盤作製用ディスク２を一定角速度で回転させる場合に適用して好適な電子ビーム装置であり、図１１に示す電子ビーム鏡筒群４５を備え、その他については、概ね、図１に示す本発明の参考例と同様に構成したものである。
【００７４】
図１１中、４６−１〜５５−１は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−１に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、４６−２〜５５−２は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−２に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、４６−３〜５５−３は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−３に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、４６−４〜５５−４は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック１９−４に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒である。
【００７５】
これら情報記録用電子ビーム鏡筒４６−１〜５５−１、４６−２〜５５−２、４６−３〜５５−３、４６−４〜５５−４は、本発明の参考例が備える情報記録用電子ビーム鏡筒と同様に構成されている。
【００７６】
ここに、情報記録用電子ビーム鏡筒４６−Ｐ（但し、Ｐ＝１、２、３、４）は、１個で原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行うものであるが、情報記録用電子ビーム鏡筒４７−Ｐ、４８−Ｐは、これら２個で原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。
【００７７】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒４９−Ｐ、５０−Ｐ、５１−Ｐは、これら３個で原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。
【００７８】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒５２−Ｐ、５３−Ｐ、５４−Ｐ、５５−Ｐは、これら４個で原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。
【００７９】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒４６−１〜４６−４は、原盤作製用ディスク２の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群４５の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００８０】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒４７−１、４８−１からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒４７−２、４８−２からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒４７−３、４８−３からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒４７−４、４８−４からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク２の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群４５の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００８１】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒４９−１、５０−１、５１−１からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒４９−２、５０−２、５１−２からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒４９−３、５０−３、５１−３からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒４９−４、５０−４、５１−４からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク２の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群４５の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００８２】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒５２−１、５３−１、５４−１、５５−１からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒５２−２、５３−２、５４−２、５５−２からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒５２−３、５３−３、５４−３、５５−３からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒５２−４、５３−４、５４−４、５５−４からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク２の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群４５の中心１８を回転対称中心として９０°の間隔をもって回転対称に配置されている。
【００８３】
即ち、本発明の一実施形態は、原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分を１個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク２の内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させるように構成するというものである。
【００８４】
このように構成された本発明の一実施形態によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒４６−１〜５５−１、４６−２〜５５−２、４６−３〜５５−３、４６−４〜５５−４を同時に使用して原盤作製用ディスク２の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担し、並行して行うことができるので、スループットの向上を図ることができる。
【００８５】
また、原盤作製用ディスク２を一定角速度で回転させる場合、原盤作製用ディスク２においては、内周部よりも外周部の方が線速度は速くなってしまうが、本発明の一実施形態によれば、原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させているので、原盤作製用ディスク２を一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスク２の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化することができ、この結果、原盤作製用ディスク２に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。
【００８６】
なお、情報記録用電子ビーム鏡筒４６−１〜５５−１、４６−２〜５５−２、４６−３〜５５−３、４６−４〜５５−４の内部に設けられる電子ビーム径制御レンズを制御して、原盤作製用ディスク２に照射する電子ビームの電流量を制御することにより、原盤作製用ディスク２の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成しても良い。
【００８７】
また、情報記録用電子ビーム鏡筒４６−１〜５５−１、４６−２〜５５−２、４６−３〜５５−３、４６−４〜５５−４の内部に設けられるブランキング電極を制御し、１ピット形成部分に対する電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤作製用ディスク２の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成しても良い。
【００８８】
また、本発明の一実施形態によれば、本発明の参考例と同様に、原盤作製用ディスク２に対する電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク２の回転中心１４を検出し、原盤作製用ディスク２の回転中心１４と電子ビーム鏡筒群６の中心１８との整合を行うことができるので、この点からしても、原盤作製用ディスク２に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。
【００８９】
また、本発明の一実施形態によれば、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出した場合において、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用電子ビーム鏡筒である場合には、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を、情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができ、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成する情報記録用電子ビーム鏡筒である場合には、回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒小群を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。
【００９０】
なお、本発明の一実施形態においても、情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用電子ビーム鏡筒に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を設けると共に、情報記録用電子ビーム鏡筒小群に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒小群を設けるようにしても良いし、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を設けるようにしても良い。
【００９１】
【発明の効果】
以上のように、本発明の電子ビーム装置によれば、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができるので、スループットの向上を図ることができる。
【００９２】
また、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備えるとしているので、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができるという格別の効果を得ることができる。
【００９３】
また、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を１個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成するとしているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができるという格別の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の参考例の概念図である。
【図２】 本発明の参考例が備える原盤作製用ディスク保持手段の概略的平面図である。
【図３】 図２のＢ−Ｂ線に沿った概略的断面図である。
【図４】 本発明の参考例が備える電子ビーム鏡筒群の平面構成を示す模式図である。
【図５】 本発明の参考例が備える電子ビーム鏡筒配置円板に予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を配置する例を示す模式図である。
【図６】 本発明の参考例が備える電子ビーム鏡筒配置円板に予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を配置する例を示す模式図である。
【図７】 本発明の参考例が備える情報記録用電子ビーム鏡筒の概念図である。
【図８】 本発明の参考例が備える原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号の一例を示すタイミングチャートである。
【図９】 本発明の参考例における原盤作製用ディスクの回転中心の検出方法を説明するための模式図である。
【図１０】 本発明の参考例が備える原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号の他の例を示すタイミングチャートである。
【図１１】 本発明の一実施形態の要部を示す模式図（本発明の一実施形態が備える電子ビーム鏡筒群の平面構成を示す模式図）である。
【符号の説明】
１ 真空室
２ 原盤作製用ディスク
３ 原盤作製用ディスク保持手段
４ ステージ
５ ステージ制御部
６ 電子ビーム鏡筒群
７ 電子ビーム照射制御部
８ 不良電子ビーム鏡筒検出部
９ 原盤作製用ディスク回転中心検出部
１０ システムコントローラ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to an electron beam apparatus used for producing a master disk necessary for producing an optical disk.
[0002]
[Prior art]
  Among electronic disks used as information recording media in electronic information processing apparatuses, optical disks such as CD-ROMs and magneto-optical disks (MO) are portable large-capacity recording media and are widely used. Yes.
[0003]
  Since these optical discs have pits (recesses), for example, a master disc is prepared by forming a resist layer on a glass substrate, and the master layer is manufactured by processing the resist layer of the master disc. In addition, a mold called a stamper is manufactured using this master disk, and then manufactured using this mold.
[0004]
  Conventionally, a master has been manufactured by irradiating a resist layer of a master disk with a laser beam corresponding to digital information to be stored on the optical disk to form pits necessary for the master disk.
[0005]
  However, since it is considered difficult to further increase the recording density in the production of a master using a laser beam, the production of a master using an electron beam has been studied. Electron beam devices have been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2-214046, Japanese Patent Laid-Open No. 4-335226, 44th Annual Meeting of the Japan Society of Applied Physics (1997) 31a-NF-9).
[0006]
  In particular, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-214046 and 4-335226 improve the low throughput, which is a drawback of the electron beam apparatus due to the fact that the electron beam irradiated portions of the master disk cannot be irradiated at once. For this purpose, there is described an electron beam apparatus in which small electron beam barrels are two-dimensionally arranged so that a plurality of electron beams can be simultaneously irradiated onto a master disk.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
  However, in the electron beam apparatus described in JP-A-2-214046 and the electron beam apparatus described in JP-A-4-335226, a malfunctioning electron beam column can be detected. First, when a malfunctioning electron beam column is generated, it cannot be dealt with immediately, and there is a problem that the work efficiency is greatly reduced.
[0008]
  Further, in the conventional electron beam apparatus, the alignment of the master disk and the electron beam column group depends on the accuracy of the stage mechanism system that holds the master disk, and the master disk and Since there was no means for positively aligning the electron beam column group, there was a problem that pits could not be formed with high accuracy.
[0009]
  In view of this point, the present invention includes an electron beam column group in which a plurality of electron beams are arranged, and can improve throughput.In addition, the information necessary for pit formation on the master disc is recorded with high accuracy.Provided is an electron beam device that canPurposeAnd
0010]
[Means for Solving the Problems]
  Electron beam apparatus of the present inventionIs a master holding disk holding means for holding and rotating the master manufacturing disk;SaidIt was held by the disc holder for master production.SaidAn information recording electron beam barrel group in which a plurality of information recording electron beam barrels are rotationally symmetrically arranged at different radial distances from the rotation center of the master disk;Equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the master disk is held at a constant angular velocity when held on the master disk holding means. An electron beam irradiation amount equalizing means, wherein the electron beam irradiation amount equalizing means irradiates one pit formation portion of the master disc with one or more information recording electron beam barrels; The number of information recording electron beam columns that irradiate one pit formation portion of the master disc is increased from the inner periphery to the outer periphery of the master disc held by the master disc holder. Including an information recording electron beam column.That's it.
0011]
  Electron beam apparatus of the present inventionAccording to the present invention, an information recording electron beam comprising a plurality of information recording electron beam barrels arranged rotationally symmetrically at different radial distances from the center of rotation of the master recording disc held by the master recording disc holding means. Since the lens barrel group is provided, the irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation spot of the master disk can be shared by a plurality of information recording electron beam barrels which are rotationally symmetric, and can be performed in parallel.
0012]
  Also,Electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the master disk held on the master disk holding means is rotated at a constant angular velocity.EqualizeElectron beam irradiation amount equalizing meansTherefore, even when the master disc is rotated at a constant angular velocity, information necessary for pit formation on the master disc can be recorded with high accuracy..
0013]
  Also,The electron beam irradiation amount equalizing means irradiates one pit formation portion of the master disc with one or more information recording electron beam barrels, and irradiates one pit formation portion of the master disc. Including disposing the information recording electron beam column so that the number of the information recording electron beam column increases from the inner peripheral part to the outer peripheral part of the master recording disc held by the master manufacturing disc holding means. It is configuredTherefore, the electron beam irradiation amount equalizing means can be configured simply..
0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  Hereinafter, with reference to FIGS.Reference exampleas well asoneEmbodiments will be described.
0015]
(Reference example of the present invention..Figures 1 to 10)
  FIG. 1 illustrates the present invention.Reference exampleFIG. In FIG. 1, 1 is a vacuum chamber, 2 is a master disk for manufacturing a master disk necessary for manufacturing an optical disk, and the master disk 2 is formed by, for example, applying an electron beam resist to a glass substrate. Configured.
0016]
  Further, 3 is a disk-producing disk holding means for holding and rotating the disk-producing disk 2 horizontally, 4 is a stage for rotating and moving the disk-producing disk holding means 3, and 5 is a rotation of the stage 4. It is a stage control unit that controls movement.
0017]
  The master disk preparation means 3 may be provided with a mechanism for rotating the master record disk 2, and the stage 4 may be configured to only move the master disk preparation means 3.
0018]
  Reference numeral 6 denotes a plurality of information recording electron beam barrels for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 and a plurality of centers for detecting the rotation center of the master disc 2. This is an electron beam column group in which an original beam manufacturing disk rotation center detection electron beam column is arranged.
0019]
  Reference numeral 7 denotes an electron beam irradiation control for controlling the irradiation of the electron beam to the master disk 2 by the information recording electron beam lens barrel and the master disk-producing disk rotation center detecting electron beam cylinder constituting the electron beam column group 6. Part.
0020]
  Reference numeral 8 denotes a defect in which a defective electron beam column is detected from a reflected electron detection amount obtained through a reflected electron detector provided in the information recording electron beam column and the disk rotation center detection electron beam column for producing the master disc. This is an electron beam column detector.
0021]
  Reference numeral 9 denotes a master disk manufacturing center for detecting the rotation center of a master disk from a reflected electron detection signal obtained via a backscattered electron detector included in the master disk manufacturing center of rotation electron beam column. It is.
0022]
  Reference numeral 10 denotes a system controller that performs overall control of the apparatus such as control of the stage control unit 5 and the electron beam irradiation control unit 7.
0023]
  FIG. 2 is a schematic plan view of the disk holding means 3 for producing a master disk. In FIG. 2, 12 is a disk mounting surface for master recording, 13 is a disk mounting location for master recording, 14 is a rotation center of the disk mounting surface 12 for master recording, that is, a rotation center of the disk 2 for master recording, and arrow A Indicates the rotation direction of the master disk-producing disk holding means 3, that is, the rotation direction of the master disk-producing disk 2.
0024]
  Further, 15-1 to 15-4 are formed in a rotationally symmetrical manner at an interval of 90 ° with respect to the rotation center 14 of the master disc 2 on the outer peripheral portion of the master disc-mounting portion 13 on the master disc-mounting surface 12. This is a disc rotation center detection mark for producing a master of the same shape.
0025]
  FIG. 3 is a schematic cross-sectional view along the line BB in FIG. 2, and the disk rotation center detection marks 15-1 to 15-4 for forming a master disk have a convex shape with a constant height, and The planar shape is an isosceles triangle, and the height direction of the isosceles triangle is formed so as to coincide with the radial direction of the master disc 2 mounted on the master disc mounting surface 12.
0026]
  FIG. 4 is a schematic diagram showing a planar configuration of the electron beam column group 6. In FIG. 4, 17 is an electron beam column arrangement disk, and 18 is the center of the electron beam column group 6 in which the center of rotation 14 of the master disk 2 is to coincide.
0027]
  Reference numerals 19-1 to 19-4 denote information recording electron beam barrel arrangement blocks on which information recording electron beam barrels are arranged. These information recording electron beam barrel arrangement blocks 19-1 to 19- Reference numeral 4 denotes a portion corresponding to the electron beam irradiation surface of the master disc 2 and is set to be rotationally symmetric with the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.
0028]
  Reference numerals 20-1 to 20-4 are electron beam column arrangement blocks for disc rotation center detection for master disc production in which electron beam barrels for disc rotation center detection for master disc production are arranged. The center detection electron beam barrel arrangement blocks 20-1 to 20-4 are also set to be rotationally symmetric with the center 18 of the electron beam barrel group 6 as the rotational symmetry center.
0029]
  Reference numerals 21-1 to 24-1 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-1, and reference numeral 25-1 denotes an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of a master for producing a master arranged in the arrangement block 20-1.
0030]
  Reference numerals 21-2 to 24-2 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-2, and reference numeral 25-2 denotes an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master, which is arranged in the arrangement block 20-2.
0031]
  Reference numerals 21-3 to 24-3 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-3, and reference numeral 25-3 denotes an electron beam barrel for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master, which is arranged in the arrangement block 20-3.
0032]
  Reference numerals 21-4 to 24-4 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-4, and reference numeral 25-4 denotes an electron beam barrel for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of a master for producing a master arranged in the arrangement block 20-4.
0033]
  The information recording electron beam column 21-1 to 21-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam column group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.
0034]
  Further, the information recording electron beam column 22-1 to 22-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam column group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.
0035]
  The information recording electron beam barrels 23-1 to 23-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam barrel group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.
0036]
  The information recording electron beam column 24-1 to 24-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam column group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.
0037]
  Further, the electron beam column groups 25-1 to 25-4 for detecting the disk rotation center for producing the master disc correspond to the marks 15-1 to 15-4 for detecting the disk rotation center for producing the master plate, and the electron beam column group 6 Are centered rotationally symmetrically with an interval of 90 °.
0038]
  That is, the present inventionReference example, Four information recording electrons are provided for each of four different radial distances from the rotation center 14 of the master disc 2 held by the master disc holder 3 on the electron beam column arrangement disk 17. The beam barrels 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, and 24-1 to 24-4 are arranged rotationally symmetrically.
0039]
  For example, as shown in FIG. 5, the information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 Correspondingly, spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 to 28-4, 29-1 to 29-4 may be provided. good.
0040]
  Further, for example, as shown in FIG. 6, a disk rotation center detecting electron beam column 30 for spare master disk production is associated with the disk rotation center detecting electron beam column 25-1 to 25-4 for master disk production. -1 to 30-4 may be arranged.
0041]
  It should be noted that one electron beam column for detecting the disk rotation center for producing the master disk is sufficient if the work efficiency is not taken into consideration.
0042]
  Further, although not shown, as spare electron beam barrels, for example, spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 shown in FIG. ˜28-4, 29-1 to 29-4, and, for example, a spare master production disk rotation center detection electron beam column 30-1 to 30-4 shown in FIG. 6 may be provided. good.
0043]
  FIG. 7 is a conceptual diagram of the information recording electron beam column 21-1, and other information recording electron beam column 21-2 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23-1 to 23-. 4, 24-1 to 24-4 and the disk rotation center detecting electron beam column 25-1 to 25-4 for producing the master disc have the same structure.
0044]
  It should be noted that spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 to 28-4, 29-1 to 29-4, and spare master disk rotation When the center detection electron beam column 30-1 to 30-4 are provided, they are also of the same structure.
0045]
  In FIG. 7, 32 is an electron source, 33 is a gate electrode that extracts electrons for forming an electron beam from the electron source 32, and 34 is an anode electrode that accelerates electrons extracted from the electron source 33 to form an electron beam 35. is there.
0046]
  Reference numeral 36 denotes an electron beam diameter control lens that controls the diameter of the electron beam 35 and controls the current amount of the electron beam irradiated to the master disk 2 in combination with an electron beam diameter limiting aperture described later. A blanker for controlling irradiation and non-irradiation to the master disk 2, 38 is a blanking electrode, and 39 is an aperture plate.
0047]
  Reference numeral 40 denotes an electron beam diameter limiting aperture for limiting the diameter of the electron beam 35, and reference numeral 41 denotes a focusing lens that focuses the electron beam 35 on the electron beam resist surface of the master disk 2.
0048]
  Reference numeral 42 denotes a deflector that deflects the electron beam 35 to control the irradiation position on the master disk 2 and 43 denotes reflected electrons from the master disk 2 when the electron beam 35 is irradiated to the master disk 2. Is a backscattered electron detector.
0049]
  The present invention configured as described aboveReference exampleIn FIG. 1, before performing the electron beam irradiation for recording information necessary for forming the pits on the master disk 2, the master disk disc mounting portion of the master disk holder 12 of the master disk holder 3 is mounted. The rotation center 14 of the master disk production disk 2 mounted on the disk 13 can be detected, and the rotation center 14 of the master disk production disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 can be aligned.
0050]
  Here, when the rotation center 14 of the master disk 2 is detected, the master disk-rotating center detection electron beam column 25-1 is rotated while the master disk holder 3 is rotated by 1/4. ˜25-4 is used to simultaneously irradiate the disk-mounting surface 12 for producing a master of the master-producing disk holding means 3 with an electron beam.
0051]
  In this way, in the master disk preparation disk rotation center detection electron beam column 25-1 to 25-4, the master disk preparation disk rotation center detection marks 15-1 to 15-5 are respectively connected via the backscattered electron detector. The reflected electron detection signals S1 to S4 obtained by detecting the reflected electrons from 15-4 can be obtained.
0052]
  In this case, when the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide with each other, the reflected electron detection signals S1 to S4 are shown in FIG. Thus, the signals have the same H level width T1 to T4.
0053]
  On the other hand, for example, as shown in FIG. 9, when the rotation center 14 of the master disk 2 is displaced in the direction of arrow C with respect to the center 18 of the electron beam column group 6, As shown in FIG. 10, the reflected electron detection signals S1 to S4 are signals in which the H level widths T1 to T4 are set to T1 <T2 <T3> T4.
0054]
  Therefore, in this case, the master disk-producing disk rotation center detection unit 9 calculates the position of the rotation center 14 of the master-disk-producing disk 2 from the widths T1 to T4 of the reflected electron detection signals S1 to S4, and this is used as a system. Transfer to the controller 10.
0055]
  Therefore, the system controller 10 determines the H level width T1 of the reflected electron detection signals S1 to S4 based on the calculated value of the position of the rotation center 14 of the master disk 2 that has been transferred from the master disk rotation center detector 9. A stage so that the disk-producing disk holding means 3 is moved so that T4 will be the same, that is, the rotation center 14 of the disk-producing disk 2 and the center 18 of the electron beam column group coincide with each other. By controlling the control unit 5, the stage control unit 5 moves the stage 4 so that the rotation center 14 of the master disk production disk 2 and the center 18 of the electron beam column group coincide with each other.
0056]
  From the beginning, the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide with each other, or the rotation center 14 of the master disk disk 2 and the electron beam column group 6 After matching the center 18, the electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 is performed.
0057]
  Electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disk 2 is performed by information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23. -1 to 23-4 and 24-1 to 24-4 are used at the same time to share the electron beam irradiation spot of the master disk 2 and are performed in parallel.
0058]
  Here, when a defective information recording electron beam column is generated, the defective information recording electron beam column is detected by the defective electron beam column detector 8, and the defective information recording electron beam column is detected. The cylinder is notified to the system controller 10.
0059]
  In this case, the system controller 10 causes the stage to irradiate with an electron beam using another information recording electron beam column that is rotationally symmetric with respect to the electron beam irradiation site shared by the defective information recording electron beam column. The controller 5 and the electron beam irradiation controller 7 are controlled.
0060]
  For example, when the information recording electron beam column 22-1 becomes defective, the system controller 10 uses the information recording electron beam column 22-2, for example, and uses the information recording electron beam column 22-2. 22-1 controls to irradiate the electron beam irradiation to the part which shares the electron beam irradiation.
0061]
  Thus, the present inventionReference exampleThe information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, and 24-1 to 24-4 are simultaneously used for producing a master disc. Since the electron beam irradiation spot of the disk 2 can be shared and irradiated in parallel, the throughput can be improved.
0062]
  In addition, the present inventionReference exampleAccording to the above, the rotation center 14 of the master disc 2 and the electron beam are detected by detecting the rotation center of the master disc 2 and moving the stage 4 before irradiating the master disc 2 with the electron beam. Since the center 18 of the lens barrel group 6 can be aligned, information necessary for pit formation on the master disc 2 can be recorded with high accuracy. Instead of moving the master disk-producing disk holding means 3, the electron beam column group 6 may be moved.
0063]
  If the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 do not coincide with each other, the rotation center 14 of the master disk disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are the same. Are matched with each other so that the same electron beam irradiation can be performed as in the information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23-1 to 23-. 4 and 24-1 to 24-4, by providing a correction means for correcting the deflection signal supplied to the deflector, the rotation center 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are aligned. You may comprise so that it may perform.
0064]
  In addition, the present inventionReference exampleAccording to the present invention, the master disk-preparing disc rotation center detection marks 15-1 to 15-4 are provided on the master-preparing disk mounting surface 12 of the master-preparing disk holding means 3, and the master-preparing disk rotation center detecting electron beam is provided. Since the lens barrels 25-1 to 25-4 are provided, the rotation center 14 of the master disk production disk 2 can be detected with a simple configuration and high accuracy.
0065]
  In addition, the present inventionReference exampleAccording to the present invention, since the defective electron beam column detector 8 is provided, it is possible to automatically detect a defective information recording electron beam column and a defective master disk producing disk rotation center detection electron beam column. it can.
0066]
  Then, the electron beam column-arranged disk 17 is different from the rotation center 14 of the master disk 2 mounted on the master disk-mounting portion 13 of the master disk-mounting surface 12 of the master disk-holding means 3 of the master disk 4. Four information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 are rotated for each radial distance. In addition to arranging them symmetrically, the four electron beam barrels 25-1, 25-2, 25-3, 25-4 for detecting the disk rotation center for producing the master disk are arranged rotationally symmetrically.
0067]
  Therefore, when a defective information recording electron beam column is detected, other information recording electron beam mirrors that are rotationally symmetric with respect to the electron beam irradiation location that the defective information recording electron beam column shares Since a cylinder can be used, even when a defective information recording electron beam column is generated, a reduction in work efficiency can be minimized.
0068]
  In addition, when an electron beam column for detecting the rotation center of a defective master disk is detected, the electron beam irradiation at the electron beam irradiation location shared by the disk rotation center detection electron beam column for manufacturing a defective master disk is rotationally symmetric. Therefore, even if a defective information recording electron beam column is generated, a reduction in work efficiency can be minimized.
0069]
  In addition, the present inventionReference exampleAccording to the present invention, the information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 and the disk rotation center detection for master production are detected. The electron beam column 25-1 to 25-4 are provided with a backscattered electron detector for detecting backscattered electrons from the master disk 2 and a defective electron beam column is detected from the amount of backscattered electrons detected. Since the electron beam column detector 8 is provided, a defective electron beam column can be detected with a simple configuration.
0070]
  The information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 24-4, and the disk rotation center detection electron for producing the master disc The beam barrels 25-1 to 25-4 are provided with secondary electron detectors for detecting secondary electrons from the master disk 2 and a defective electron beam column is detected from the detected amount of secondary electrons. An electron beam column detector may be provided to detect a defective electron beam column.
0071]
  Further, for example, a leakage electron beam current detector for detecting an electron beam current leaking to the gate electrode 33, the anode electrode 34, the electron beam diameter limiting aperture 40, etc. provided in the electron beam column is provided, and the electron beam current is provided. By detecting the amount of leakage, a defective electron beam column may be detected.
0072]
(One of the present inventionEmbodiment FIG. 11)
  FIG. 11 shows the present invention.oneIt is a figure showing the principal part of an embodiment, andoneIt is a schematic diagram which shows the planar structure of the electron beam column group 45 with which embodiment is provided. In FIG. 11, parts corresponding to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.
0073]
  Of the present inventiononeThe embodiment is an electron beam apparatus suitable for application to the case where the master disc 2 is rotated at a constant angular velocity, and includes an electron beam column group 45 shown in FIG. Showing the present inventionReference exampleIt is comprised similarly to.
0074]
  In FIG. 11, reference numerals 46-1 to 55-1 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-1, and reference numerals 46-2 to 55-2 denote information recording electron beam mirrors. An information recording electron beam column arranged in the cylinder arrangement block 19-2, 46-3 to 55-3 are information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-3, Reference numerals 46-4 to 55-4 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-4.
0075]
  These information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4 are used in the present invention.Reference exampleIs configured in the same manner as the information recording electron beam column.
0076]
  Here, the information recording electron beam column 46-P (where P = 1, 2, 3, 4) is used to irradiate the 1-pit forming portion of the master disc 2 with an electron beam. However, the information recording electron beam column 47-P and 48-P constitute a small group of information recording electron beam columns that irradiate an electron beam onto the 1 pit formation portion of the master disc 2 with these two. ing.
0077]
  Further, the information recording electron beam column 49-P, 50-P, 51-P is a small information recording electron beam column that irradiates an electron beam to the 1 pit formation portion of the master disc 2 with these three. It constitutes a group.
0078]
  The information recording electron beam column 52-P, 53-P, 54-P, 55-P is an information recording electron that irradiates the 1-pit forming portion of the master disk 2 with these four. It constitutes a small group of beam barrels.
0079]
  Further, the information recording electron beam column 46-1 to 46-4 are arranged at the center of the electron beam column group 45 so that the electron beam irradiation can be shared with respect to the electron beam irradiation point of the same track group of the master disc 2. They are arranged in a rotationally symmetric manner with an interval of 90 ° with 18 as a rotationally symmetric center.
0080]
  Also, an information recording electron beam mirror subgroup consisting of information recording electron beam barrels 47-1, 48-1 and an information recording electron beam mirror consisting of information recording electron beam barrels 47-2, 48-2. Information recording comprising an information recording electron beam column small group consisting of a small tube group, information recording electron beam column tubes 47-3 and 48-3, and information recording electron beam column 47-4 and 48-4 The electron beam column small group is 90 ° with the center 18 of the electron beam column group 45 as the rotational symmetry center so that the electron beam irradiation can be shared with the electron beam irradiation point of the same track group of the master disk 2. Arranged rotationally symmetrically at intervals.
0081]
  In addition, an information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column 49-1, 50-1, 51-1, information recording electron beam column 49-2, 50-2, 51-2. Information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column subgroups 49-3, 50-3, 51-3, and information recording electron beam mirror The information recording electron beam column sub-group consisting of the cylinders 49-4, 50-4, and 51-4 is arranged so as to share the electron beam irradiation with respect to the electron beam irradiation position of the same track group of the master disc 2. The beam barrel groups 45 are arranged rotationally symmetrically at intervals of 90 ° with the center 18 of the beam barrel group 45 as the rotationally symmetric center.
0082]
  Further, an information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column 52-1, 53-1, 54-1, 55-1, information recording electron beam column 52-2, 53-2. , 54-2, 55-2, an information recording electron beam column sub-group, and an information recording electron beam column 52-3, 53-3, 54-3, 55-3. The information recording electron beam column small group consisting of the tube small group and the information recording electron beam column 52-4, 53-4, 54-4, 55-4 is the same track group of the master disc 2 Are arranged in a rotationally symmetrical manner with an interval of 90 ° with the center 18 of the electron beam column group 45 as a rotationally symmetric center so that the electron beam irradiation can be shared with respect to the electron beam irradiated portions.
0083]
  That is, the present inventiononeIn the embodiment, one pit formation portion of the master disc 2 is irradiated with an electron beam by one or more information recording electron beam barrels, and one pit formation portion of the master disc 2 is irradiated. The information recording electron beam column is arranged so that the number of electron beam column increases from the inner peripheral part to the outer peripheral part of the master disk production disk 2.
0084]
  The present invention configured as described aboveoneAccording to the embodiment, the information recording electron beam column 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4 are simultaneously used for the master. Since it is possible to share the electron beam irradiation on the electron beam irradiation site of the production disk 2 and perform it in parallel, the throughput can be improved.
0085]
  Further, when the master disc 2 is rotated at a constant angular velocity, the linear velocity of the outer peripheral portion of the master disc 2 is higher than that of the inner peripheral portion.oneAccording to the embodiment, the information recording electron beam column is arranged so that the number of information recording electron beam columns that irradiate one pit formation portion of the master disc 2 is increased from the inner periphery to the outer periphery. Therefore, even when the master disk 2 is rotated at a constant angular velocity, the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk 2 can be equalized as much as possible. As a result, information necessary for pit formation on the master disk 2 can be recorded with high accuracy.
0086]
  Electron beam diameter control lenses provided in the information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4. To control the amount of electron beam current applied to the master disc 2 to equalize the electron beam dose per unit area at each point in the radial direction of the master disc 2 as much as possible. You may comprise so that it may do.
0087]
  Further, blanking electrodes provided in the information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4 are controlled. In addition, by controlling the number of times the electron beam is irradiated to the pit formation portion, the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk 2 is configured to be as uniform as possible. Also good.
0088]
  In addition, the present inventiononeAccording to an embodiment of the present inventionReference exampleIn the same manner as described above, before the electron beam irradiation to the master disk 2 is performed, the rotation center 14 of the master disk 2 is detected, and the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are detected. Therefore, even from this point, information necessary for pit formation on the master disc 2 can be recorded with high accuracy.
0089]
  In addition, the present inventiononeAccording to the embodiment, when a defective information recording electron beam column is detected, the defective information recording electron beam column does not form a small group of information recording electron beam columns. The electron beam irradiation to the electron beam irradiation site shared by the defective information recording electron beam column is not rotationally symmetrical with other information recording electrons that do not constitute the information recording electron beam column subgroup. In the case where the defective information recording electron beam column is an information recording electron beam column forming a group of information recording electron beam columns, it is possible to perform rotation symmetry. Since it can be performed by using a certain other group of electron beam barrels for information recording, even when a defective information recording electron beam column is generated, a reduction in work efficiency can be minimized. .
0090]
  In the present invention,oneAlso in the embodiment, a spare information recording electron beam column is provided corresponding to an information recording electron beam column that does not constitute the information recording electron beam column small group, and the information recording electron beam column small group is provided. A spare group of information recording electron beam barrels may be provided corresponding to the above, or a spare disk rotation center detection electron beam barrel for preparing a master may be provided.
0091]
【The invention's effect】
  As aboveElectron beam apparatus of the present inventionAccording to the present invention, it is possible to share the electron beam irradiation on the electron beam irradiation spot of the disk for producing the master disk with a plurality of information recording electron beam barrels which are rotationally symmetric, and to improve the throughput.Can be planned.
0092]
  Also, a master discElectron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the disk is rotated at a constant angular velocityEqualizeSince the electron beam irradiation amount equalizing means is provided, information necessary for pit formation on the master disc can be recorded with high precision even when the master disc is rotated at a constant angular velocity. A special effect can be obtained.
0093]
  Also, electron beam irradiation leveling meansThe one-pit forming portion of the master disc is irradiated with an electron beam with one or more information recording electron beam barrels, and the information recording electron beam barrel is irradiated with one pit-forming portion of the master disc. The configuration includes the arrangement of the information-recording electron beam column so that the number of the recording discs increases from the inner periphery to the outer periphery of the master disc. The special effect of being able to be obtained can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 of the present inventionReference exampleFIG.
FIG. 2 of the present inventionReference exampleFIG. 2 is a schematic plan view of a master holding disc holding means included in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view along the line BB in FIG. 2;
FIG. 4 of the present inventionReference exampleIt is a schematic diagram which shows the planar structure of the electron beam barrel group with which is provided.
FIG. 5 shows the present invention.Reference exampleFIG. 2 is a schematic diagram showing an example in which a spare information recording electron beam column is arranged on an electron beam column arrangement disk included in the case of FIG.
FIG. 6 of the present inventionReference exampleFIG. 2 is a schematic diagram showing an example in which an electron beam column for detecting a disk rotation center for preparing a master disk is arranged on an electron beam column arrangement disk included in the disk.
[Fig. 7] of the present invention.Reference example1 is a conceptual diagram of an information recording electron beam column included in FIG.
[Fig. 8] of the present inventionReference example5 is a timing chart showing an example of a reflected electron detection signal obtained via a reflected electron detector of an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master.
FIG. 9 shows the present invention.Reference exampleIt is a schematic diagram for demonstrating the detection method of the rotation center of the disc for master recording in FIG.
FIG. 10 shows the present invention.Reference example6 is a timing chart showing another example of a reflected electron detection signal obtained via a reflected electron detector of an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master.
FIG. 11 shows the present invention.oneSchematic diagram showing the main part of the embodiment (of the present inventionone1 is a schematic diagram illustrating a planar configuration of an electron beam column group included in an embodiment.
[Explanation of symbols]
    1 Vacuum chamber
    2 Master disc
    3 Disc holding means for master production
    4 stages
    5 Stage controller
    6 Electron beam column group
    7 Electron beam irradiation controller
    8 Defective electron beam column detector
    9 Disc rotation center detector for master production
  10 System controller

Claims (1)

原盤作製用ディスクを保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備え、
前記電子ビーム照射量均等化手段は、前記原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を１個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、前記原盤作製用ディスクの１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されている
ことを特徴とする電子ビーム装置。A master-producing disc holding means for holding and rotating the master-producing disc;
An information recording electron beam column in which a plurality of information recording electron beam columns are rotationally symmetrically arranged at different radial distances from the center of rotation of the master plate manufacturing disk held by the master disk manufacturing disk holding means. Group,
Equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the master disk is held at a constant angular velocity when held on the master disk holding means. Equipped with electron beam irradiation leveling means,
The electron beam irradiation amount equalizing means irradiates one pit formation portion of the master disc with one or more information recording electron beam columns, and forms one pit portion of the master disc. The information recording electron beam column is arranged so that the number of the information recording electron beam column that irradiates is increased from the inner periphery to the outer periphery of the master disc that is held by the master disc holder. An electron beam apparatus characterized by being configured to include.
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