JPH11296657A - Image pickup optical system for image processor - Google Patents

Image pickup optical system for image processor

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JPH11296657A
JPH11296657A JP9790198A JP9790198A JPH11296657A JP H11296657 A JPH11296657 A JP H11296657A JP 9790198 A JP9790198 A JP 9790198A JP 9790198 A JP9790198 A JP 9790198A JP H11296657 A JPH11296657 A JP H11296657A
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JP
Japan
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work
diffusion
hemisphere
light
camera
Prior art date
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Application number
JP9790198A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Hattori
新一 服部
Takefumi Okamoto
武文 岡本
Shuzo Matsuno
修三 松野
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Nippon Avionics Co Ltd
Original Assignee
Nippon Avionics Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11296657A publication Critical patent/JPH11296657A/en
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06Illumination; Optics
    • G01N2201/063Illuminating optical parts
    • G01N2201/0631Homogeneising elements
    • G01N2201/0632Homogeneising elements homogeneising by integrating sphere
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06Illumination; Optics
    • G01N2201/063Illuminating optical parts
    • G01N2201/0634Diffuse illumination

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To appropriately pick up the image of a work in a distorted mirror surface shape. SOLUTION: The diffusion surface of a diffusion hemisphere 4 is irradiated with light emitted from a halogen lamp from the tips of optical fibers 3a and 3b and the inner wall of the diffusion hemisphere 4 is turned to a hemispherical reflection type diffusion surface. In such a manner, diffused indirect light is generated by the diffusion hemisphere 4 and the work 6 is irradiated with the diffused indirect light. Reflected light from the work 6 is passed through an observation window 14 provided on the hemisphere 4 and made incident on a camera 1. Since the diffused indirect light by the diffusion hemisphere 4 is made incident on the work 6 from various directions, the variously distorted surface of the work 6 is uniformly irradiated and the image of the work 6 is correctly picked up.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パターン検査装置
等の画像処理装置に係り、特に画像処理の対象となるワ
ークを撮像する撮像光学系に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an image processing apparatus such as a pattern inspection apparatus, and more particularly to an image pickup optical system for picking up an image of a work to be subjected to image processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、IC、LSIの多ピン化要求
に適した実装技術として、TCP(Tape Carrier Packa
ge)が知られている。TCPは、TAB(Tape Automat
ed Bonding)の技術を利用したフィルム・キャリア・タ
イプのパッケージであり、ポリイミド製のフィルムキャ
リア(TABテープ)上にエッチングによって形成され
た銅箔パターンをICチップの電極に接合して外部リー
ドとする。図7はTCPの断面図である。TCPは、フ
ィルムキャリア21、フィルムキャリア21上に形成さ
れた銅箔パターン22、ICチップ23、チップ23の
パッド上に形成されたAu等からなるバンプ24、銅箔
パターン22のインナリードとなる部分やチップ23を
外部力や湿気、汚染物などから保護するための樹脂25
から構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, TCP (Tape Carrier Packa) has been used as a mounting technique suitable for a demand for increasing the number of pins of an IC or LSI.
ge) is known. TCP is TAB (Tape Automat
This is a film carrier type package that uses the technology of ed bonding). A copper foil pattern formed by etching on a polyimide film carrier (TAB tape) is bonded to the electrodes of the IC chip to form external leads. . FIG. 7 is a sectional view of the TCP. TCP is a film carrier 21, a copper foil pattern 22 formed on the film carrier 21, an IC chip 23, a bump 24 made of Au or the like formed on a pad of the chip 23, and a portion serving as an inner lead of the copper foil pattern 22. 25 for protecting the chip and the chip 23 from external force, moisture, contaminants, etc.
It is composed of

【0003】TCPでは、製造時に銅箔パターン22の
短絡あるいは欠け等の欠陥が生じることがある。これら
の欠陥の有無は、従来は人手により目視検査されてい
た。ところが、生産量の増大と高密度化による微細パタ
ーン化により目視検査には多くの人手が必要となったた
め、近年急速に自動化の要求が高まっており、フィルム
キャリアの銅箔パターンをTVカメラで撮像して自動的
に検査する技術が提案されている(例えば、特開平6−
341960号公報)。
In TCP, defects such as short-circuit or chipping of the copper foil pattern 22 may occur during manufacturing. Conventionally, the presence or absence of these defects has been visually inspected manually. However, due to the increase in production volume and fine patterning due to high density, visual inspection has required a lot of human labor, and in recent years the demand for automation has been rapidly increasing, and the copper foil pattern of a film carrier has been imaged with a TV camera. Inspection technology has been proposed (see, for example,
341960).

【0004】このようなTCPの表面に関わる検査とは
別に、TCPの裏面(図7の下面)に関わる検査とし
て、樹脂25の不足やはみ出し、フィルムキャリア21
あるいはICチップ23への樹脂25の付着(図7で
は、フィルムキャリア21あるいはICチップ23の下
面への付着を意味する)、ICチップ23の未実装等を
検査する必要がある。よって、表面と同様にTCP裏面
の検査の自動化が望まれるが、これには以下のような問
題があった。
[0004] Apart from such an inspection relating to the front surface of the TCP, as an inspection relating to the back surface of the TCP (the lower surface in FIG. 7), the shortage or protrusion of the resin 25 and the film carrier 21
Alternatively, it is necessary to inspect the adhesion of the resin 25 to the IC chip 23 (in FIG. 7, this means the adhesion to the film carrier 21 or the lower surface of the IC chip 23), the non-mounting of the IC chip 23, and the like. Therefore, it is desired to automate the inspection of the TCP back surface as well as the front surface, but this has the following problems.

【0005】図8にTCPの裏面を示す。TCPの中央
にある白色部がICチップ23、その周囲の黒色部が樹
脂25、その他の灰色部がフィルムキャリア21であ
る。フィルムキャリア21の裏面は、滑らかなテクスチ
ャで、非常に強い光沢性を持っている。さらに、ICチ
ップ23の実装、樹脂25の塗布および樹脂25の硬化
等の影響によってフィルムキャリア21は、歪みやうね
りを有している。一方、樹脂25は、ベーク炉を経て乾
燥した状態で半光沢性であり、ICチップ23の裏面は
樹脂コーティングされておらず、金属性の光沢を持って
いる。
FIG. 8 shows a back surface of the TCP. The white part at the center of the TCP is the IC chip 23, the black part around it is the resin 25, and the other gray parts are the film carrier 21. The back surface of the film carrier 21 has a smooth texture and very strong gloss. Furthermore, the film carrier 21 has distortion and undulation due to the effects of mounting the IC chip 23, applying the resin 25, and curing the resin 25. On the other hand, the resin 25 is semi-glossy when dried after passing through a baking oven, and the back surface of the IC chip 23 is not resin-coated and has a metallic luster.

【0006】このように、TCPの裏面は強光沢性のた
め、一種の鏡面として考えることが必要である。鏡面状
の物体は照射される可視光を高効率に正反射するため、
観測者は鏡面状物体に映り込んだ映像(物体から正反射
された可視光)を観測している。したがって、鏡面状物
体の観測は、物体表面に観測条件を満足するようなもの
を映し込むことが前提となる。TCP裏面の観測におい
て照明に直接光を用いた場合、観測位置によっては正反
射した直接光そのものを観測することになる。直接光の
正反射を避けて観測した場合は、TCP面に照射される
光量が非常に少なく満足な観測結果を得ることができな
い。このような理由から、鏡面反射を起こすTCP裏面
に直接光を照射する照明方法は得策ではない。
As described above, the back surface of TCP must be considered as a kind of mirror surface due to its high gloss. Since mirror-like objects reflect the emitted visible light with high efficiency,
The observer is observing an image (visible light specularly reflected from the object) reflected on a mirror-like object. Therefore, the observation of a mirror-like object is based on the premise that an object that satisfies the observation conditions is projected on the object surface. When direct light is used for illumination in observing the TCP back surface, the specularly reflected direct light itself is observed depending on the observation position. When observation is performed while avoiding direct reflection of direct light, the amount of light applied to the TCP surface is extremely small, and satisfactory observation results cannot be obtained. For these reasons, an illumination method of directly irradiating light to the TCP back surface that causes specular reflection is not advisable.

【0007】TCP裏面に対する有効な照明法として、
拡散間接光を用いる方法が考えられる。図9にハーフミ
ラーと拡散板を用いた従来のパターン検査装置の撮像光
学系のブロック図を示す。この検査装置では、光源31
からの光を拡散板32によって拡散光にして、拡散光を
ハーフミラー33によってTCP34に照射する。そし
て、TCP34からの反射光はハーフミラー33を透過
してカメラ35に入射する。図9のような照明方法によ
れば、擬似的に均一面光源を作り、完全な落射照明とし
て照射することが可能である。さらに、拡散板32によ
って拡散光が生成されるため、鏡面状の物体であるTC
P34の裏面に対する照明として非常に有効である。ハ
ーフミラー33によって得られる拡散光は単一の指向性
を持った光であるので、平坦な鏡面部分に均等な光束の
照射ができるからである。
As an effective illumination method for the TCP back side,
A method using diffuse indirect light is conceivable. FIG. 9 shows a block diagram of an imaging optical system of a conventional pattern inspection apparatus using a half mirror and a diffusion plate. In this inspection device, the light source 31
Is diffused by the diffusion plate 32 and the TCP 34 is irradiated with the diffused light by the half mirror 33. Then, the reflected light from the TCP 34 passes through the half mirror 33 and enters the camera 35. According to the illumination method as shown in FIG. 9, a pseudo-uniform surface light source can be created and illuminated as complete epi-illumination. Further, since diffused light is generated by the diffuser plate 32, the mirror-like object TC
This is very effective as illumination for the back surface of P34. This is because the diffused light obtained by the half mirror 33 is light having a single directivity, so that a flat mirror surface can be evenly irradiated with a light beam.

【0008】しかし、TCP34の裏面は、歪みやうね
りのために平坦な鏡面状態とは程遠く、様々な方向への
傾き成分を持っている。カメラ35は、TCP34の傾
斜面に対する照射光の反射成分とは正対関係にないた
め、ハーフミラー33によって傾斜部分に対する均等な
照明効果を得ることは不可能である。この場合、カメラ
35はTCP34の傾斜面に映り込んだ照明以外の物体
を観測する結果になる。映り込む物体が黒ければ、取り
込まれる画像も映り込んだ部分の輝度レベルが低いもの
となり、誤検出を起こす要因となり得る。このような状
態を避けるためには、TCPに対する光源がTCPの傾
斜面にも均等に照射可能なものでなくてはならないが、
ハーフミラーを用いた従来の撮像方法ではTCPの傾斜
に対する対応力がない。
However, the rear surface of the TCP 34 is far from a flat mirror surface due to distortion and undulation, and has tilt components in various directions. Since the camera 35 has no direct relationship with the reflection component of the irradiation light on the inclined surface of the TCP 34, it is impossible to obtain a uniform illumination effect on the inclined portion by the half mirror 33. In this case, the camera 35 observes an object other than the illumination reflected on the inclined surface of the TCP 34. If the reflected object is black, the captured image also has a low luminance level in the reflected portion, which may cause erroneous detection. In order to avoid such a state, the light source for the TCP must be able to irradiate the inclined surface of the TCP evenly,
The conventional imaging method using a half mirror has no ability to respond to the inclination of TCP.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の検
査装置の撮像光学系では、TCPのような歪曲した鏡面
対象物を適切に撮像して検査することができないという
問題点があった。本発明は、上記課題を解決するために
なされたもので、鏡面状で、かつ歪みが存在するワーク
を正しく撮像することができる撮像光学系を提供するこ
とを目的とする。
As described above, the imaging optical system of the conventional inspection apparatus has a problem that a distorted mirror-like object such as TCP cannot be properly imaged and inspected. SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to provide an imaging optical system capable of correctly imaging a workpiece having a mirror surface and having a distortion.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、請求項1に記
載のように、反射光がワークに入射するようにワークと
対向する位置に配設された、半球状の拡散面を備えた拡
散半球と、この拡散半球の拡散面を照らすための環状の
照明手段と、ワークからの反射光が拡散半球に設けられ
た窓を通って入射するように配設された、ワークを撮像
するためのカメラとを有するものである。このように、
拡散半球を用いて拡散間接光を生成し、この拡散間接光
でワークを照らすと、拡散半球で得られる拡散間接光が
ワークに対して様々な方向から入射するので、鏡面状の
ワークに歪みが存在しても、このワークの多様に歪曲し
た面を均等に照らすことができる。また、請求項2に記
載のように、上記環状の照明手段は、光源からの光を一
端で受光し出射側の端面が環を囲むように配置された複
数の光ファイバからなるものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a hemispherical diffusing surface disposed at a position facing the work so that reflected light is incident on the work. Diffusion hemisphere, annular illumination means for illuminating the diffusion surface of the diffusion hemisphere, and imaging of the work, which is arranged such that reflected light from the work enters through a window provided in the diffusion hemisphere. Camera. in this way,
When diffused indirect light is generated using a diffuse hemisphere and the work is illuminated with this diffuse indirect light, the diffused indirect light obtained by the diffuse hemisphere enters the work from various directions, causing distortion in the mirror-like work. Even if present, the variously distorted surfaces of the work can be evenly illuminated. Further, as described in claim 2, the annular illuminating means comprises a plurality of optical fibers arranged to receive light from the light source at one end and to have an end face on the emission side surrounding the ring.

【0011】また、請求項3に記載のように、上記カメ
ラは、ワークに対して所定の角度だけ傾いて配設された
ラインセンサカメラであり、上記拡散半球の窓は、上記
カメラの傾斜に応じて拡散半球の頂点から外れた位置に
設けられたスリット状の窓である。このように、カメラ
をワークに対して所定の角度だけ傾いて配設し、拡散半
球の窓をカメラの傾斜に応じて拡散半球の頂点から外れ
た位置に設けることにより、拡散半球の窓がワークに映
り込むことを防止することができる。
According to a third aspect of the present invention, the camera is a line sensor camera disposed at a predetermined angle with respect to the workpiece, and the window of the diffuse hemisphere is provided at an angle of the camera. It is a slit-shaped window provided at a position off the vertex of the diffusion hemisphere accordingly. As described above, the camera is disposed at a predetermined angle with respect to the workpiece, and the window of the diffusion hemisphere is provided at a position deviated from the vertex of the diffusion hemisphere in accordance with the inclination of the camera. Can be prevented from being reflected in the image.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
を示すパターン検査装置の撮像光学系のブロック図、図
2は図1の撮像光学系の平面図である。ただし、図2で
は、ラインセンサカメラを省略している。1はラインセ
ンサカメラ、2aは複数本の光ファイバ3aを束ねた光
ガイド、2bは複数本の光ファイバ3bを束ねた光ガイ
ド、4は内壁が半球状の拡散面となっている拡散半球、
5は光ガイド2a,2b、光ファイバ3a,3b及び拡
散半球4を保持するブラケット、6は観測面が鏡面状と
なっているワーク(本実施の形態ではTCP)である。
FIG. 1 is a block diagram of an image pickup optical system of a pattern inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the image pickup optical system of FIG. However, in FIG. 2, the line sensor camera is omitted. 1 is a line sensor camera, 2a is a light guide bundling a plurality of optical fibers 3a, 2b is a light guide bundling a plurality of optical fibers 3b, 4 is a diffusion hemisphere whose inner wall is a hemispherical diffusion surface,
Reference numeral 5 denotes a bracket that holds the light guides 2a and 2b, optical fibers 3a and 3b, and the diffusion hemisphere 4, and reference numeral 6 denotes a work (TCP in the present embodiment) whose observation surface is a mirror surface.

【0013】次に、このようなパターン検査装置の撮像
光学系の構造を説明する。光源となるハロゲンランプ
(不図示)から発せられた光は、光ガイド2aで束ねら
れた複数の光ファイバ3aによって導かれる。同様に、
他のハロゲンランプ(不図示)から発せられた光は、光
ガイド2bで束ねられた複数の光ファイバ3bによって
導かれる。
Next, the structure of the imaging optical system of such a pattern inspection apparatus will be described. Light emitted from a halogen lamp (not shown) serving as a light source is guided by a plurality of optical fibers 3a bundled by a light guide 2a. Similarly,
Light emitted from another halogen lamp (not shown) is guided by a plurality of optical fibers 3b bundled by a light guide 2b.

【0014】光ガイド2a,2bの出射側はブラケット
5によって固定される。そして、ワーク6への照明光及
びワーク6からの反射光が通過する空間を形成するため
に、ブラケット5には、これを垂直方向に貫通する貫通
穴が配設されている。拡散半球4は、内壁が半球状の反
射型拡散面となっており、この拡散面は、照明の正反射
成分の発生を防止するために白色ノングレア(艶消し)
処理が施されている。そして、拡散半球4は、図1に示
すように、ブラケット5の貫通穴に装着される。
The emission sides of the light guides 2a and 2b are fixed by brackets 5. To form a space through which the illumination light to the work 6 and the reflected light from the work 6 pass, the bracket 5 is provided with a through hole penetrating the bracket 5 in the vertical direction. The diffusion hemisphere 4 has a reflection-type diffusion surface having a hemispherical inner wall. This diffusion surface is white non-glare (matte) in order to prevent generation of a regular reflection component of illumination.
Processing has been applied. Then, the diffusion hemisphere 4 is mounted in a through hole of the bracket 5 as shown in FIG.

【0015】ブラケット5によって固定される各光ファ
イバ3aは、出射側の端面が上記貫通穴の壁面から上向
きの所定の角度で露出し、かつ該端面が貫通穴を囲むよ
うにランダムに配置される。光ファイバ3bについても
同様である。このとき、光ファイバ3aと光ファイバ3
bは、図1に示すように、垂直方向に所定の間隔だけ離
して配置される。
Each of the optical fibers 3a fixed by the bracket 5 is arranged at random so that the end face on the emission side is exposed at a predetermined upward angle from the wall surface of the through hole and the end face surrounds the through hole. . The same applies to the optical fiber 3b. At this time, the optical fiber 3a and the optical fiber 3
b are arranged at a predetermined interval in the vertical direction, as shown in FIG.

【0016】こうして、ハロゲンランプから発せられた
光が、光ファイバ3a,3bの先端から拡散半球4の拡
散面に照射される。光ファイバ3a,3bを使って複数
の方向から斜方照射するのは、拡散半球4の拡散面に陰
ができないようにするためである。以上のように、拡散
半球4を複数の方向から照らし、かつ各光ファイバから
放射される光束の広がり角度が大きいため、拡散半球4
の拡散面は均一に照らされる。このように拡散半球4の
拡散面に均一に光を照射することにより、この拡散面の
反射光は拡散間接光となる。
Thus, the light emitted from the halogen lamp irradiates the diffusion surface of the diffusion hemisphere 4 from the tips of the optical fibers 3a and 3b. The oblique irradiation from a plurality of directions using the optical fibers 3a and 3b is performed so that the diffusion surface of the diffusion hemisphere 4 cannot be shaded. As described above, since the diffusion hemisphere 4 is illuminated from a plurality of directions and the spread angle of the light beam emitted from each optical fiber is large, the diffusion hemisphere 4
Is uniformly illuminated. By uniformly irradiating the light on the diffusion surface of the diffusion hemisphere 4, the light reflected from the diffusion surface becomes diffuse indirect light.

【0017】拡散半球4によって生成される間接光は、
原理的に、拡散半球4に対して平行な面から(ここでの
平行とは、拡散半球4の頂点と中心を通る半球4の中心
軸に対して垂直になることを言う)、垂直(上記中心軸
に平行)直前まで傾斜するすべての面に、均等に光を照
射することが可能である。したがって、従来のハーフミ
ラーを用いた照明では照らすことのできない歪んだ部分
にも、効果的に光を照射することができる。
The indirect light generated by the diffusing hemisphere 4 is
In principle, from a plane parallel to the diffusion hemisphere 4 (parallel here means perpendicular to the center axis of the hemisphere 4 passing through the vertex and center of the diffusion hemisphere 4), It is possible to uniformly irradiate light on all surfaces inclined immediately before (parallel to the central axis). Therefore, it is possible to effectively irradiate light even to a distorted portion that cannot be illuminated by illumination using a conventional half mirror.

【0018】なお、ハロゲンランプと光ガイドは1組で
もよいが、本実施の形態のように2組設けたのは、光量
を十分に確保するためである。このとき、2台のハロゲ
ンランプの光量に差があったとしても、光ファイバ3
a,3bの各々を環(ブラケット5の貫通穴)を囲むよ
うにランダムに配置しているので、拡散半球4の拡散面
を均一に照らすことができる。
Although one set of the halogen lamp and the light guide may be provided, two sets are provided as in the present embodiment in order to secure a sufficient amount of light. At this time, even if there is a difference between the light amounts of the two halogen lamps,
Since each of a and 3b is randomly arranged so as to surround the ring (the through hole of the bracket 5), the diffusion surface of the diffusion hemisphere 4 can be uniformly illuminated.

【0019】一方、ワーク6をラインセンサカメラ1で
撮像するためには、ワーク6からの反射光を得る必要が
あるが、拡散半球4そのものは有色であり、不透明なた
め、その頂点にワーク6を観測するための窓(以下、観
測ウインドウという)14を設けることが不可欠とな
る。これにより、ワーク6からの反射光が観測ウインド
ウ14を通ってラインセンサカメラ1に入射する。な
お、観測ウインドウ14がスリット状になっているの
は、カメラ1がラインセンサカメラだからである。
On the other hand, in order to image the work 6 with the line sensor camera 1, it is necessary to obtain the reflected light from the work 6. However, since the diffuse hemisphere 4 itself is colored and opaque, the work 6 It is indispensable to provide a window 14 (hereinafter referred to as an observation window) for observing. Thereby, the reflected light from the work 6 enters the line sensor camera 1 through the observation window 14. The observation window 14 has a slit shape because the camera 1 is a line sensor camera.

【0020】このとき、観測ウインドウ14を拡散半球
4の頂点に設けると、ワーク6の観測面が鏡面状である
ために、観測ウインドウ14がワーク6に映り込み、検
査を行う上での障害となる。そこで、この観測ウインド
ウ14を観測視野範囲から除外するために、ウインドウ
14を拡散半球4の頂点から映り込まない位置までずら
して設置し、カメラ1の取込軸をワーク6に対して垂直
な位置から適当な角度で傾斜させ、ワーク6の画像を取
り込む。この方法によって、ワーク6上へ観測ウインド
ウ14が映り込む現象を防止することができる。
At this time, if the observation window 14 is provided at the apex of the diffusion hemisphere 4, the observation window 14 is reflected on the work 6 because the observation surface of the work 6 is mirror-like, and there is a problem in performing an inspection. Become. Therefore, in order to exclude the observation window 14 from the observation field of view, the window 14 is shifted from the vertex of the diffusion hemisphere 4 to a position not to be reflected, and the capturing axis of the camera 1 is set at a position perpendicular to the workpiece 6. And an image of the work 6 is taken in at an appropriate angle. With this method, the phenomenon that the observation window 14 is reflected on the work 6 can be prevented.

【0021】次に、以上のような撮像光学系の詳細な計
算について説明する。まず、ワーク6とラインセンサカ
メラ1(正確には、カメラ1の撮像素子)との距離(以
下、ワークディスタンスという)dは、カメラ1のレン
ズの焦点距離および分解能によって決定される。また、
拡散半球4の縁とワーク6との距離Wd、拡散半球4の
半径rは、分解能やワーク6上の観測エリア(検査範
囲)の大きさ、ワーク6の歪み等の要素によって決定さ
れる。
Next, detailed calculations of the above-described imaging optical system will be described. First, a distance (hereinafter, referred to as a work distance) d between the work 6 and the line sensor camera 1 (more precisely, an image sensor of the camera 1) is determined by a focal length and resolution of a lens of the camera 1. Also,
The distance Wd between the edge of the diffusion hemisphere 4 and the work 6 and the radius r of the diffusion hemisphere 4 are determined by factors such as the resolution, the size of the observation area (inspection range) on the work 6, the distortion of the work 6, and the like.

【0022】分解能や観測エリアサイズは仕様によって
決定されるが、ワーク6の歪み等は不確定要素である。
したがって、距離Wdや半径rは、ワーク6の歪み等を
現実的な範囲に限定した上で実験を行い、理想的な照明
状態を実現する条件を実験値として確定する。
The resolution and the observation area size are determined by the specifications, but the distortion of the work 6 is an uncertain factor.
Therefore, the distance Wd and the radius r are determined by limiting the distortion or the like of the work 6 to a realistic range and conducting an experiment to determine conditions for realizing an ideal illumination state as experimental values.

【0023】続いて、図3に示すように、カメラ1の撮
像素子11(例えばCCD素子)のx方向の長さをWx
ccd、y方向の長さをWyccdとし、観測ウインド
ウ14のx方向の長さをWx、y方向の長さをWyと
し、ワーク6上の観測エリア15のx方向の長さをWx
work、y方向の長さをWyworkとすると、撮像
素子11、観測ウインドウ14、観測エリア15の位置
関係は、図4のように設定される。
Subsequently, as shown in FIG. 3, the length of the imaging device 11 (for example, a CCD device) of the camera 1 in the x direction is represented by Wx
ccd, the length in the y direction is Wyccd, the length of the observation window 14 in the x direction is Wx, the length in the y direction is Wy, and the length of the observation area 15 on the workpiece 6 in the x direction is Wx.
Assuming that the length in the work and y directions is Wywork, the positional relationship among the image sensor 11, the observation window 14, and the observation area 15 is set as shown in FIG.

【0024】なお、y方向、z方向については図1に示
したとおりであるが、x方向とは図1において紙面に垂
直な方向を意味する。そして、図4の位置関係から、拡
散半球4に設ける観測ウインドウ14の大きさWx、W
yを次式によって求めることができる。
The y-direction and the z-direction are as shown in FIG. 1, but the x-direction means a direction perpendicular to the plane of FIG. Then, from the positional relationship of FIG. 4, the sizes Wx and W of the observation window 14 provided in the diffusion hemisphere 4 are shown.
y can be determined by the following equation.

【0025】 Wx=Wxwork−{(Wxwork−Wxccd)×(Wd+r)/d} ・・・(1) Wy=Wywork−{(Wywork−Wyccd)×(Wd+r)/d} ・・・(2)Wx = Wxwork − {(Wxwork−Wxccd) × (Wd + r) / d} (1) Wy = Wywork − {(Wywork−Wyccd) × (Wd + r) / d} (2)

【0026】上述のようにラインセンサカメラ1を傾斜
させると、取込画像に若干の歪みを生じることは回避で
きないため、カメラ1の傾きを最小限にする必要があ
る。また、カメラ1を傾斜させる方向は、歪みを最小限
にするために長さの短いy方向とする。次いで、観測ウ
インドウ14の位置及びラインセンサカメラ1の傾角θ
3の計算について説明する。図5はこの計算方法を説明
するための図である。
When the line sensor camera 1 is tilted as described above, it is unavoidable that a slight distortion occurs in the captured image, and therefore it is necessary to minimize the tilt of the camera 1. In addition, the direction in which the camera 1 is tilted is set to the short y direction in order to minimize distortion. Next, the position of the observation window 14 and the inclination angle θ of the line sensor camera 1
The calculation of No. 3 will be described. FIG. 5 is a diagram for explaining this calculation method.

【0027】図5において、拡散半球4に射影される観
測エリア15のエッジEと拡散半球4の中心Oを結ぶ直
線と、ワーク6の垂線との成す角θ1は、次式で求める
ことができる。 θ1=arcsin{Wywork/(2×r)} ・・・(3) 拡散半球4の頂点Pに観測ウインドウ14を設けて、ワ
ーク6に対して垂直な位置から画像を取り込む場合、ワ
ーク6上のK1の位置に観測ウインドウ14が映り込ん
でしまう。
In FIG. 5, an angle θ1 between a straight line connecting the edge E of the observation area 15 projected onto the diffusion hemisphere 4 and the center O of the diffusion hemisphere 4 and a perpendicular to the work 6 can be obtained by the following equation. . θ1 = arcsin {Wywork / (2 × r)} (3) When an observation window 14 is provided at the vertex P of the diffusion hemisphere 4 and an image is taken in from a position perpendicular to the work 6, The observation window 14 is reflected at the position of K1.

【0028】これに対して、ワーク6上の観測エリア1
5に映り込まない位置に観測ウインドウ14を設定した
場合の、拡散半球4の頂点Pから観測ウインドウ14の
中心Qまでの円周距離ds1は次式で求めることができ
る。 ds1=(θ1/180)×π×r+(1/2)×Wy ・・・(4)
On the other hand, the observation area 1 on the work 6
In the case where the observation window 14 is set at a position not reflected in 5, the circumferential distance ds1 from the vertex P of the diffusion hemisphere 4 to the center Q of the observation window 14 can be obtained by the following equation. ds1 = (θ1 / 180) × π × r + (1/2) × Wy (4)

【0029】よって、観測ウインドウ14は、拡散半球
4の頂点Pから円周距離ds1だけずれた位置Qを中心
として、x方向にWx、y方向にWyの大きさを有す
る。また、この距離ds1によって、拡散半球4の中心
Oと観測ウインドウ14の中心Qを結ぶ直線と、ワーク
6の垂線との成す角θ2は次式で求められる。 θ2={180/(π×r)}×ds1 ・・・(5)
Therefore, the observation window 14 has a size of Wx in the x direction and Wy in the y direction, centered on the position Q shifted from the vertex P of the diffusion hemisphere 4 by the circumferential distance ds1. Further, an angle θ2 between a straight line connecting the center O of the diffusion hemisphere 4 and the center Q of the observation window 14 and the perpendicular line of the workpiece 6 is obtained by the following equation using the distance ds1. θ2 = {180 / (π × r)} × ds1 (5)

【0030】したがって、観測エリア15の中心と観測
ウインドウ14の中心Qを結ぶ直線と、ワーク6の垂線
との成す角、すなわちラインセンサカメラ1の傾角θ3
は次式によって計算できる。 θ3=arctan{r×sinθ2/(r×cosθ2+Wd)} ・・・(6)
Therefore, the angle between the straight line connecting the center of the observation area 15 and the center Q of the observation window 14 and the perpendicular of the work 6, that is, the inclination angle θ3 of the line sensor camera 1
Can be calculated by the following equation. θ3 = arctan {r × sin θ2 / (r × cos θ2 + Wd)} (6)

【0031】以上の計算により、観測ウインドウ14が
映るワーク6上の位置をK2に移動させることができ、
観測ウインドウ14の映り込まない観測エリア15の画
像をラインセンサカメラ1で取り込むことが可能とな
る。次に、カメラ1を角度θ3だけで単純に傾け、観測
エリア15を取り込む位置に動かした場合、ワーク6と
撮像素子11間の距離が上記ワークディスタンスdより
も長くなる。ワークディスタンスdは、分解能によって
決定された値であるので、カメラ1の傾き如何に関わら
ず一定にしなければならない。
By the above calculation, the position on the work 6 where the observation window 14 is reflected can be moved to K2,
The image of the observation area 15 where the observation window 14 is not reflected can be captured by the line sensor camera 1. Next, when the camera 1 is simply tilted by only the angle θ3 and moved to a position where the observation area 15 is taken in, the distance between the work 6 and the image sensor 11 becomes longer than the work distance d. Since the work distance d is a value determined by the resolution, it must be constant regardless of the tilt of the camera 1.

【0032】そこで、ワークディスタンスdを保つため
に、カメラ1のy方向のシフト量dy、z方向のシフト
量dzを次式によって算出する。 dy=d×sinθ3 ・・・(7) dz=d×(1−cosθ3) ・・・(8)
Therefore, in order to maintain the work distance d, the shift amount dy in the y direction and the shift amount dz in the z direction of the camera 1 are calculated by the following equations. dy = d × sin θ3 (7) dz = d × (1-cos θ3) (8)

【0033】こうして、図5に示すように、撮像素子1
1(カメラ1)をθ3だけ傾けて、y方向にdy及びz
方向にdzだけシフトさせることにより、分解能を変化
させることなく、観測ウインドウ14の映り込みの無い
画像を取り込むことが可能となる。
Thus, as shown in FIG.
1 (camera 1) is tilted by θ3, and dy and z are
By shifting by dz in the direction, it is possible to capture an image without reflection of the observation window 14 without changing the resolution.

【0034】また、カメラ1を傾けて画像を取り込む
と、前述のように取込画像に歪みが生じる。図6は取込
画像の歪みの補正方法を説明するための図である。図6
に示すように、ワークディスタンスdを不変としてカメ
ラ1をθ3だけ傾けた場合、ワーク6上の観測エリア1
5のエッジP1、P2における一画素の分解能PIXP
1、PIXP2は次式のように計算される。
When the camera 1 is tilted to capture an image, the captured image is distorted as described above. FIG. 6 is a diagram for explaining a method of correcting the distortion of the captured image. FIG.
As shown in the figure, when the camera 1 is tilted by θ3 with the work distance d unchanged, the observation area 1 on the work 6
Resolution PIXP of one pixel at edges P1 and P2 of 5
1, PIXP2 is calculated as follows.

【0035】 PIXP1=PIXorg ×(d−δd)/d ・・・(9) PIXP2=PIXorg ×(d+δd)/d ・・・(10) 式(9)、(10)において、PIXorg は標準の分解
能、δd=(Wy×sinθ3)/2である。こうし
て、式(9)、(10)に基づいて、取込画像に対する
分解能を補正し実際の検査を行う。
PIXP1 = PIXorg × (d−δd) / d (9) PIXP2 = PIXorg × (d + δd) / d (10) In equations (9) and (10), PIXorg is a standard resolution. , Δd = (Wy × sin θ3) / 2. In this way, based on the equations (9) and (10), the resolution of the captured image is corrected and the actual inspection is performed.

【0036】実際の検査では、ラインセンサカメラ1に
よって撮像されたワーク6の濃淡画像を図示しないA/
D変換回路でディジタル化し、このディジタル画像デー
タを図示しない2値化回路によって2値化して、2値化
パターンを例えば基準となるマスタパターンと比較する
ことにより、ワーク6を検査することができる。一回の
走査でワーク6の全検査範囲を撮像できない場合は、ラ
インセンサカメラ1とブラケット5(拡散半球4)とを
移動させるか、あるいはワーク6が載置されたテーブル
(不図示)を移動させればよいことは言うまでもない。
In an actual inspection, a grayscale image of the work 6 captured by the line sensor camera 1 is not shown in A / A.
The work 6 can be inspected by digitizing with a D conversion circuit, binarizing the digital image data with a binarization circuit (not shown), and comparing the binarized pattern with, for example, a master pattern serving as a reference. If the entire inspection range of the work 6 cannot be imaged by one scan, the line sensor camera 1 and the bracket 5 (diffusion hemisphere 4) are moved, or the table (not shown) on which the work 6 is placed is moved. Needless to say, it should be done.

【0037】TCPの裏面には、ICチップやフィルム
キャリア等の強い反射が生じる部分と樹脂等の弱い反射
が生じる部分が存在する。ところが、このようなTCP
の裏面を従来の撮像光学系で取り込むと、フィルムキャ
リアと樹脂との輝度差(コントラスト)が十分に得られ
ない。コントラストが得られない要因としては、ハーフ
ミラーの構造上、乳白色アクリル板によって拡散された
間接光の色が白色から若干変化しているため、TCPに
映り込んだ時にフィルムキャリアの輝度レベルを十分に
高められないことが挙げられる。
On the back surface of the TCP, there are a portion where strong reflection such as an IC chip and a film carrier occurs and a portion where weak reflection such as a resin occurs. However, such a TCP
When the back surface is taken in by a conventional imaging optical system, a sufficient difference in brightness (contrast) between the film carrier and the resin cannot be obtained. The reason why contrast cannot be obtained is that, due to the structure of the half mirror, the color of the indirect light diffused by the milky white acrylic plate slightly changes from white, so that when reflected on TCP, the brightness level of the film carrier can be sufficiently increased. It cannot be raised.

【0038】また、TCPはベーク炉で受ける熱の影響
によって歪みを生じフィルム面がさまざまな角度を持っ
ているため、ハーフミラーから照射される単一方向の光
束ではフィルム面の角度に対応できない。その結果、フ
ィルムキャリア上には陰が発生してしまう。したがっ
て、従来の撮像光学系によって、樹脂の不足やはみ出
し、フィルムキャリア上の樹脂付着を検出することは非
常に困難である。
Further, since the TCP generates distortion under the influence of heat received in the baking furnace and has various angles on the film surface, the unidirectional light beam emitted from the half mirror cannot correspond to the angle of the film surface. As a result, shadows occur on the film carrier. Therefore, it is very difficult for the conventional imaging optical system to detect the shortage or protrusion of the resin and the adhesion of the resin on the film carrier.

【0039】これに対し、TCPの裏面を本発明の撮像
光学系で取り込むと、フィルムキャリアと樹脂との輝度
差が十分に得られ、フィルムキャリア上には陰が発生し
ない。これは、拡散半球4を用いることによって、TC
Pの歪みで傾いたフィルム面に拡散光を照射することが
可能になったためである。
On the other hand, when the back surface of the TCP is taken in by the image pickup optical system of the present invention, a sufficient difference in luminance between the film carrier and the resin is obtained, and no shadow is generated on the film carrier. This is due to the TC
This is because it has become possible to irradiate diffused light to the film surface inclined by the distortion of P.

【0040】このように本発明の撮像光学系によれば、
濃淡を適切に取り込むことができるので、ICチップや
フィルムキャリアの濃度と樹脂の濃度の間の値を2値化
のためのしきい値に設定して、取り込んだ画像データを
2値化すれば、ICチップやフィルムキャリアが例えば
「1」となり、樹脂が「0」となる2値化パターンが得
られる。
As described above, according to the imaging optical system of the present invention,
Since the density can be appropriately captured, the value between the density of the IC chip or film carrier and the density of the resin is set as a threshold for binarization, and the captured image data is binarized. For example, a binary pattern in which the IC chip or the film carrier becomes “1” and the resin becomes “0” is obtained.

【0041】このとき、ICチップやフィルムキャリア
上に樹脂が付着していれば、本来「1」となるべきチッ
プあるいはフィルムキャリアの部分が「0」となる。よ
って、この2値化パターンをマスタパターンと比較すれ
ば、樹脂の付着を容易に検出することができる。逆に、
樹脂が不足していると、本来「0」となるべき部分が
「1」となる。これにより、樹脂の不足を容易に検出す
ることができる。
At this time, if the resin adheres to the IC chip or the film carrier, the portion of the chip or the film carrier which should be "1" becomes "0". Therefore, if the binarized pattern is compared with the master pattern, the adhesion of the resin can be easily detected. vice versa,
If the resin is insufficient, the portion that should originally be “0” becomes “1”. Thereby, shortage of resin can be easily detected.

【0042】同様に、ICチップが実装されていない場
合、本来「1」となるべきチップの部分が「0」とな
る。これにより、ICチップの未実装を容易に検出する
ことができる。以上のようにして、ワーク6が正常か否
かを検査することができる。
Similarly, when the IC chip is not mounted, the portion of the chip which should be "1" is "0". This makes it possible to easily detect that the IC chip is not mounted. As described above, whether or not the work 6 is normal can be inspected.

【0043】なお、TCPでは、フィルムキャリアに穴
があいており、拡散半球4による反射照明(観測側から
照射する照明)だけでは穴部分が黒く抜けた状態で取り
込まれる。その結果、輝度レベルが樹脂と同一となり、
誤検出を起こす要因となる。穴部分をフィルムの輝度レ
ベルにすることで、このような問題は未然に防ぐことが
できる。
In the TCP, a hole is formed in the film carrier, and only the reflection illumination (illumination illuminated from the observation side) by the diffusion hemisphere 4 is taken in with the hole portion blackened out. As a result, the brightness level becomes the same as the resin,
This may cause erroneous detection. Such a problem can be prevented beforehand by setting the hole portion to the brightness level of the film.

【0044】そこで、TCPの裏面のような穴の開いて
いるワーク6に対しては、観測面の反対(つまり、図1
の下側)から面光源を照射し、穴部分の輝度レベルをフ
ィルムのレベルまで高く設定する。このような照明を構
成することで、検査を行うための安定した画像を得るこ
とが可能になる。また、本実施の形態では、TCPの裏
面を撮像しているが、他の物体に本発明を適用してもよ
いことは言うまでもない。
Therefore, for the work 6 having a hole such as the back surface of the TCP, the observation surface is opposite (that is, FIG.
Illuminate the surface light source from below) and set the brightness level at the hole to the level of the film. By configuring such illumination, it is possible to obtain a stable image for performing an inspection. Further, in the present embodiment, the rear surface of the TCP is imaged, but it goes without saying that the present invention may be applied to other objects.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によれば、請求項1に記載のよう
に、拡散半球を用いて拡散間接光を生成し、この拡散間
接光でワークを照らすので、ワークが鏡面状で、かつワ
ークに歪みが存在しても、このワークの多様に歪曲した
面を均等に照らすことができ、歪曲したワークを正しく
撮像することが可能となる。その結果、撮像した画像を
ワークを検査する検査装置に使用すれば、ワークを正し
く検査することができる。
According to the present invention, as described in claim 1, diffused indirect light is generated using a diffuse hemisphere, and the work is illuminated with the diffused indirect light. Even if there is distortion, the variously distorted surfaces of the work can be evenly illuminated, and the distorted work can be correctly imaged. As a result, if the captured image is used for an inspection device that inspects a work, the work can be correctly inspected.

【0046】また、光源からの光を一端で受光し出射側
の端面が環を囲むように配置された複数の光ファイバに
よって環状の照明手段を構成することにより、拡散半球
を均一に照らすことができる。
Further, the light from the light source is received at one end, and the annular illuminating means is constituted by a plurality of optical fibers arranged so that the end face on the emission side surrounds the ring, thereby uniformly illuminating the diffusion hemisphere. it can.

【0047】また、請求項3に記載のように、カメラを
ワークに対して所定の角度だけ傾いて配設し、拡散半球
の窓をカメラの傾斜に応じて拡散半球の頂点から外れた
位置に設けることにより、拡散半球の窓がカメラの観測
エリア内のワークに映り込むことを防止することができ
る。
According to a third aspect of the present invention, the camera is disposed at a predetermined angle with respect to the workpiece, and the window of the diffusion hemisphere is located at a position deviated from the vertex of the diffusion hemisphere in accordance with the inclination of the camera. With this arrangement, it is possible to prevent the window of the diffuse hemisphere from being reflected on the work in the observation area of the camera.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態を示すパターン検
査装置の撮像光学系のブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of an imaging optical system of a pattern inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1の撮像光学系の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the imaging optical system of FIG.

【図3】 ラインセンサカメラの撮像素子、観測ウイン
ドウ及び観測エリアの大きさを説明するための図であ
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating the size of an image sensor, an observation window, and an observation area of a line sensor camera.

【図4】 撮像素子、観測ウインドウ及び観測エリアの
位置関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a positional relationship among an image sensor, an observation window, and an observation area.

【図5】 観測ウインドウの位置及びラインセンサカメ
ラの傾角の計算方法を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of calculating a position of an observation window and a tilt angle of a line sensor camera.

【図6】 取込画像の歪みの補正方法を説明するための
図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a method of correcting a distortion of a captured image.

【図7】 TCPの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a TCP.

【図8】 TCPの下面図である。FIG. 8 is a bottom view of the TCP.

【図9】 従来のパターン検査装置の撮像光学系のブロ
ック図である。
FIG. 9 is a block diagram of an imaging optical system of a conventional pattern inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ラインセンサカメラ、2a、2b…光ガイド、3
a、3b…光ファイバ、4…拡散半球、5…ブラケッ
ト、6…ワーク、11…撮像素子、14…観測ウインド
ウ、15…観測エリア。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Line sensor camera, 2a, 2b ... Light guide, 3
Reference numerals a, 3b: optical fiber, 4: diffusion hemisphere, 5: bracket, 6: work, 11: imaging element, 14: observation window, 15: observation area.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反射光がワークに入射するようにワーク
と対向する位置に配設された、半球状の拡散面を備えた
拡散半球と、 この拡散半球の拡散面を照らすための環状の照明手段
と、 ワークからの反射光が拡散半球に設けられた窓を通って
入射するように配設された、ワークを撮像するためのカ
メラとを有することを特徴とする画像処理装置の撮像光
学系。
1. A diffusion hemisphere having a hemispherical diffusion surface, which is disposed at a position facing the work so that reflected light is incident on the work, and an annular illumination for illuminating the diffusion surface of the diffusion hemisphere. And an imaging optical system for an image processing apparatus, comprising: a camera for imaging the work, the camera being arranged such that reflected light from the work enters through a window provided in the diffusion hemisphere. .
【請求項2】 請求項1記載の画像処理装置の撮像光学
系において、 前記環状の照明手段は、光源からの光を一端で受光し出
射側の端面が環を囲むように配置された複数の光ファイ
バからなることを特徴とする画像処理装置の撮像光学
系。
2. The imaging optical system according to claim 1, wherein the annular illuminating means receives a light from a light source at one end, and has a plurality of emission surfaces arranged so that an end surface on an emission side surrounds the ring. An imaging optical system for an image processing device, comprising an optical fiber.
【請求項3】 請求項1記載の画像処理装置の撮像光学
系において、 前記カメラは、ワークに対して所定の角度だけ傾いて配
設されたラインセンサカメラであり、 前記拡散半球の窓は、前記カメラの傾斜に応じて拡散半
球の頂点から外れた位置に設けられたスリット状の窓で
あることを特徴とする画像処理装置の撮像光学系。
3. The imaging optical system of the image processing apparatus according to claim 1, wherein the camera is a line sensor camera arranged at a predetermined angle with respect to a workpiece, and the window of the diffusion hemisphere is An imaging optical system for an image processing apparatus, comprising a slit-shaped window provided at a position deviated from a vertex of a diffusion hemisphere in accordance with an inclination of the camera.
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