JPH11291652A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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Publication number
JPH11291652A
JPH11291652A JP10088982A JP8898298A JPH11291652A JP H11291652 A JPH11291652 A JP H11291652A JP 10088982 A JP10088982 A JP 10088982A JP 8898298 A JP8898298 A JP 8898298A JP H11291652 A JPH11291652 A JP H11291652A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
onium salt
printing plate
salt structure
Prior art date
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Pending
Application number
JP10088982A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuto Kunida
一人 國田
Ippei Nakamura
一平 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10088982A priority Critical patent/JPH11291652A/en
Publication of JPH11291652A publication Critical patent/JPH11291652A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive type image forming material for suitably obtaining a lithographic printing plate having excellent image formability (sensitivity, developing latitude) by directly engraving by using an infrared laser or the like to directly engrave the plate. SOLUTION: The image forming material comprises (A) an infrared absorbent having an onium salt structure, (B) water insoluble and alkali aqueous solution soluble polymer binder, (C) an oxidizer having a reducing potential of -1.2 V (standard calomel electrode reference) or more, or (B) water insoluble and alkali developable polymer binder, and (D) an infrared absorbent having an onium salt structure having a reducing potential of -1.2 V (standard calomel electrode reference) or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は画像形成材料に関
し、特に平版印刷用版材をに使用するのに適した、レー
ザ光等の光、レーザ光照射に伴って発生する熱等によっ
て書き込み可能であり、コンピュータ等のデジタル信号
から赤外線レーザ等を用いて直接製版できる、いわゆる
ダイレクト製版可能な平版印刷用版材に使用するのに適
した赤外線レーザ用画像形成材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming material, and more particularly, to a writable material such as laser light, heat generated by laser light irradiation, etc., which is suitable for use in a lithographic printing plate. The present invention relates to an infrared laser image forming material suitable for use in a so-called direct plate making lithographic printing plate which can directly make a plate using an infrared laser or the like from a digital signal of a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放
射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型
のものが容易に入手できる様になっている。コンピュー
タ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源と
して、これらのレーザは非常に有用である。このような
赤外線レーザにて記録可能な画像形成材料としては、欧
州特許公報703499A1号に記載されているテトラ
ヒドロピラニルエステルをアルカリ可溶性高分子化合物
に用いたポジ型記録材料がある。また、特開平8−31
0148号公報には紫外線レーザによるアブレージョン
により成るポジ型記録材料が記載されている。しかしな
がら、これらの画像形成材料を用いた版材では、高温高
湿条件下で保存した後、画像形成性が著しく低下すると
いう問題を有している。
2. Description of the Related Art Lasers have been remarkably developed in recent years. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers which emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available in high power and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. As an image forming material recordable by such an infrared laser, there is a positive recording material using a tetrahydropyranyl ester as an alkali-soluble polymer compound described in EP 703499 A1. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-31
No. 0148 describes a positive type recording material formed by abrasion with an ultraviolet laser. However, plate materials using these image forming materials have a problem that image forming properties are significantly reduced after storage under high temperature and high humidity conditions.

【0003】また、アルカリ可溶性高分子化合物に、赤
外線吸収剤及びアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
溶解抑制作用を有し、かつ光又は熱で分解する物質(以
下、「光熱分解物質」という場合もある。)を含有せし
めたポジ型感光性組成物を用いて、画像形成材料に、赤
外線レーザで書き込みを行うものも提案されている。し
かし、この種のものは、書き込みに使用する程度のエネ
ルギーのレーザでは前記の光熱分解物質の分解、言い換
えれば、アルカリ溶解性を抑制する作用の解除ないし消
失が十分に行われないので、照射部と非照射部とのアル
カリ溶解性に大きな差を生じさせることができず、その
結果として画像形成が良好ではない。
In addition, a substance which has an infrared absorbing agent and an alkali dissolution inhibiting action of an alkali-soluble polymer compound and is decomposed by light or heat (hereinafter, also referred to as a "photothermal decomposition substance") may be added to the alkali-soluble polymer compound. ) Has been proposed in which an image forming material is written with an infrared laser by using a positive photosensitive composition containing the same. However, in the case of this type, the irradiation of the irradiation part is not sufficiently performed by the laser having the energy used for writing because the decomposition of the photothermal decomposition substance, in other words, the action of suppressing the alkali solubility is not sufficiently released or eliminated. A large difference in alkali solubility between the non-irradiated part and the non-irradiated part cannot be caused, and as a result, image formation is not good.

【0004】特に、オニウム塩は、通常アルカリ可溶性
高分子化合物のアルカリ溶解性を抑制する作用(ポジ作
用)を有するため、オニウム塩構造を分子内に有する赤
外線吸収剤は、画像形成材料に使用できる。しかし、こ
のような構造を有する赤外線吸収剤は、レーザ光照射部
分ではレーザ光を吸収し熱を発生するが、赤外線吸収剤
自体の分解は少なく、アルカリ溶解性の抑制作用を完全
に消失することができない。つまり、照射部と非照射部
とのアルカリ可溶性に大きな差が出ず、良好な画像形成
ができないという問題があった。
In particular, since an onium salt generally has an action (positive action) of suppressing the alkali solubility of an alkali-soluble polymer compound, an infrared absorber having an onium salt structure in a molecule can be used for an image forming material. . However, although the infrared absorber having such a structure absorbs laser light and generates heat in the portion irradiated with the laser beam, the infrared absorber itself is less decomposed and completely eliminates the action of suppressing alkali solubility. Can not. In other words, there is no significant difference in alkali solubility between the irradiated part and the non-irradiated part, and there has been a problem that a good image cannot be formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点に鑑みなされたもので、その目的は、コンピュー
ター等のデジタルデータに基づき、赤外線を放射する固
体レーザ及び半導体レーザ等により直接書き込みが可能
であり、画像形成性(感度、現像ラチチュード)に優れ
た平版印刷版を得るために適した画像形成材料を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has as its object to directly write data based on digital data from a computer or the like using a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays. It is an object of the present invention to provide an image forming material suitable for obtaining a lithographic printing plate excellent in image forming properties (sensitivity, development latitude).

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
の結果、オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤の分解を
促進する化合物として、−1.2V(標準カロメル電極
基準)以上の酸化剤を用いると、レーザー露光時に、オ
ニウム塩構造を有する赤外線吸収剤の分解が促進される
ことを発見した。即ち、下記(A)、(B)及び(C)
の3成分を含有することを特徴とする画像形成材料であ
る。 (A)オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤、(B)水
不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダー、
(C)還元電位−1.2V(標準カロメル電極基準)以
上の酸化剤、
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that a compound which promotes the decomposition of an infrared absorber having an onium salt structure has an oxidizing agent of -1.2 V or more (based on a standard calomel electrode). It has been found that the use of a compound accelerates the decomposition of an infrared absorber having an onium salt structure during laser exposure. That is, the following (A), (B) and (C)
An image forming material comprising the following three components: (A) an infrared absorber having an onium salt structure, (B) a polymer binder which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution,
(C) an oxidizing agent having a reduction potential of -1.2 V (based on a standard calomel electrode),

【0007】さらに、還元電位が−1.2V(標準カロ
メル電極基準)以上であるような構造を有する部位をオ
ニウム塩構造を有する赤外線吸収剤に連結したもの、つ
まり前記(A)成分と前記(C)成分のものを1分子中
に有する化合物用いた場合には、さらにオニウム塩構造
を有する赤外線吸収剤の分解率が向上しする。即ち、下
記(B)及び(D)の2成分(B)水不溶性かつアルカ
リ水溶液に可溶な高分子バインダー、(D)還元電位−
1.2V(標準カロメル電極基準)以上のオニウム塩構
造を有する赤外線吸収剤、が含有することを特徴とする
画像形成材料である。
Further, a component having a structure having a reduction potential of -1.2 V or more (based on a standard calomel electrode) is connected to an infrared absorbing agent having an onium salt structure, ie, the component (A) and the component (A). When a compound having the component (C) in one molecule is used, the decomposition rate of the infrared absorber having an onium salt structure is further improved. That is, the following two components (B) and (D): (B) a polymer binder that is insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution;
An image forming material comprising an infrared absorber having an onium salt structure of 1.2 V (based on a standard calomel electrode) or more.

【0008】本発明の画像形成材料においては、感光層
中に含有されるオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤の
露光時の分解率が向上し、分解に伴うアルカリ溶解性を
向上することができる。つまり、照射部と非照射部との
アルカリ可溶性に大きな差が生まれ、良好なポジ画像が
形成できる。
In the image forming material of the present invention, the rate of decomposition of the infrared absorber having an onium salt structure contained in the photosensitive layer upon exposure can be improved, and the alkali solubility accompanying the decomposition can be improved. That is, there is a large difference in alkali solubility between the irradiated part and the non-irradiated part, and a good positive image can be formed.

【0009】現段階では酸化剤によるオニウム塩構造を
有する赤外線吸収剤の分解促進の機構について明確では
ないが、オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤は、極性
溶媒中では酸化電位が+0.3V〜+0.7V(標準カ
ロメル電極基準(以下「SCE」と称す。))程度であ
り、赤外光を吸収し励起状態となった場合、一番短波の
赤外光を吸収したとすると少なくとも励起状態の酸化電
位は−1.2V(SCE)以上となる。そのため、還元
電位が−1.2V(SCE)以上の酸化剤を共存させた
場合、励起状態のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤
から酸化剤へ電子が移動し、オニウム塩構造を有する赤
外線吸収剤はカチオン性であるため強制酸化されたこと
により不安定化し分解が起こるものと推測される。
At this stage, it is not clear how the oxidizing agent accelerates the decomposition of the infrared absorbing agent having an onium salt structure. However, the infrared absorbing agent having an onium salt structure has an oxidation potential of +0.3 V to +0 in a polar solvent. 0.7 V (standard calomel electrode reference (hereinafter referred to as “SCE”)), and when it is in an excited state by absorbing infrared light, if it absorbs the shortest infrared light, at least the excited state The oxidation potential becomes -1.2 V (SCE) or more. Therefore, when an oxidizing agent having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more coexists, electrons move from the excited infrared absorbing agent having an onium salt structure to the oxidizing agent, and the infrared absorbing agent having an onium salt structure Is presumed to be destabilized and decomposed by forced oxidation because it is cationic.

【0010】これらのことから、電子移動は電位差の大
きいもの程、また電子移動は分子間距離が近い程分解率
が高くなる。つまり、酸化力が強い酸化剤(還元電位が
正向きに大きい酸化剤)を用いたり、酸化剤の高濃度化
或いは酸化剤構造をオニウム塩構造を有する赤外線吸収
剤に連結することで分解率がさらに向上する。また原理
的には分子間距離を近付ける方法である酸化剤構造と赤
外線吸収剤との連結の結合形態はは、共有結合でもイオ
ン結合でもどちらでも可能であるが、より簡便なものと
して対アニオン部にイオン結合で連結するのが好まし
い。
From these facts, the higher the potential difference between the electron transfer and the closer the intermolecular distance, the higher the decomposition rate. In other words, the decomposition rate is increased by using an oxidizing agent having a strong oxidizing power (an oxidizing agent having a positive reduction potential in a positive direction), or by increasing the concentration of the oxidizing agent or connecting the oxidizing agent structure to an infrared absorbing agent having an onium salt structure. Further improve. In addition, in principle, the bonding form of the oxidizing agent structure and the infrared absorbing agent, which is a method of shortening the intermolecular distance, can be either a covalent bond or an ionic bond. It is preferable to connect to an ionic bond.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の画像形成材料は、少なく
とも、(A)オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤、
(B)水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダー、及び(C)−1.2V(SCE)以上の酸化剤
からなり、必要に応じて、その他の成分を含有してもよ
い。また、(A)及び(C)成分に代えて、還元電位−
1.2V(SCE)以上ある構造を、オニウム塩構造を
有する赤外線吸収剤に連結させたものを用いることも有
効である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The image forming material of the present invention comprises at least (A) an infrared absorbing agent having an onium salt structure,
It comprises (B) a polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution, and (C) an oxidizing agent of -1.2 V (SCE) or more, and may contain other components as necessary. Further, instead of the components (A) and (C), the reduction potential −
It is also effective to use a structure in which a structure having 1.2 V (SCE) or more is linked to an infrared absorber having an onium salt structure.

【0012】本発明において、還元電位とはアセトニト
リル、メタノールなどの極性溶媒中で、指示電極として
水素電極、ガラス電極、キンヒドロン電極等を用い、比
較電極として飽和甘コウ電極、銀−塩化銀電極などを用
いたポテンシオメトリーによるものを、測定した値を標
準カロメル電極に対する値に換算したものである。
In the present invention, the term "reduction potential" refers to the use of a hydrogen electrode, a glass electrode, a quinhydrone electrode or the like as an indicator electrode in a polar solvent such as acetonitrile or methanol, and a saturated sweetpotato electrode or a silver-silver chloride electrode as a reference electrode. Is a value obtained by converting the measured value to a value for a standard calomel electrode by potentiometry using

【0013】以下、本発明の構成について詳細に説明す
る。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail.

【0014】[(A)オニウム塩構造を有する赤外線吸
収剤]本発明においてオニウム塩構造を有する赤外線吸
収剤とは、分子内にオニウム塩構造があり、かつ赤外線
レーザ光を吸収して熱を発生させる染料又は顔料であ
る。これらの中でも、アブレーションによる露光時の画
像形成材料中の組成物の飛散が少ない等の観点から、オ
ニウム塩構造を有する染料が好ましい。
[(A) Infrared absorber having an onium salt structure] In the present invention, the infrared absorber having an onium salt structure refers to an infrared absorber having an onium salt structure in the molecule and absorbing infrared laser light to generate heat. Dyes or pigments. Among these, a dye having an onium salt structure is preferable from the viewpoint of the scattering of the composition in the image forming material at the time of exposure by ablation being small.

【0015】前記オニウム塩構造を有する染料として
は、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」 有機合
成化学協会編集 昭和45年刊)に記載されている染料
等の公知のものが挙げられ、具体的には、アゾ染料、金
属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン
染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノン
イミン染料、メチン染料、シアニン染料、アミニウム染
料、ジイモニウム染料、スクアリリウム染料等、が挙げ
られる。
Examples of the dye having an onium salt structure include known dyes such as commercially available dyes and dyes described in literatures (eg, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, 1970). Examples thereof include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, aminium dyes, diimonium dyes, and squarylium dyes.

【0016】これらの染料の中でも、光吸収極大が長波
長側にシフトし、赤外光、近赤外光に吸収のある染料
が、画像形成性の点で特に好ましく、このような染料と
しては、例えば特開昭58−125246号、同59−
84356号、同59−202829号、又は同60−
78787号公報等に記載されているシアニン染料、特
開昭58−173696号、同58−181690号、
又は同58−194595号公報等に記載されているメ
チン染料、特開昭58−112793号、同58−22
4793号、同59−48187号、同59−7399
6号、同60−52490号、又は同60−63744
号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭5
8−112792号公報等に記載されているスクワリリ
ウム色素、英国特許434,875号に記載のシアニン
染料、米国特許3,557,012号、又は特開平4−
349462号公報に記載のジイモニウム染料、米国特
許3,631,147号に記載のアミニウム染料等が好
適に用いられる。また、米国特許第5,156,938
号記載の近赤外吸収剤も好適に用いられる。
Among these dyes, dyes whose light absorption maximum shifts to the longer wavelength side and which absorbs infrared light and near-infrared light are particularly preferable from the viewpoint of image forming properties. For example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
No. 84356, No. 59-202829, or No. 60-
No. 78787, cyanine dyes described in JP-A-58-173696 and JP-A-58-181690,
Or methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-22.
No. 4793, No. 59-48187, No. 59-7399
No. 6, No. 60-52490 or No. 60-63744
Naphthoquinone dyes described in JP-A-5
Squarylium dyes described in JP-A-8-112792, cyanine dyes described in British Patent 434,875, U.S. Pat. No. 3,557,012, or
A diimmonium dye described in 349462, an aminium dye described in U.S. Pat. No. 3,631,147 and the like are preferably used. No. 5,156,938.
The near-infrared absorbing agent described in No. 1 is also preferably used.

【0017】更に、米国特許第3,881,924号記
載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、
特開昭57−142645号公報(米国特許第4,32
7,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特
開昭58−181051号、同58−220143号、
同59−41363号、同59−84248号、同59
−84249号、同59−146063号、又は同59
−146061号公報に記載されているピリリウム系化
合物、特開昭59−216146号公報に記載のシアニ
ン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペン
タメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514
号、同5−19702号公報に記載されているピリリウ
ム化合物は特に好ましく用いられる。また、特に好まし
い別の例として米国特許第4,756,993号明細書
中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収
染料を挙げることができる。
Further, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924,
JP-A-57-142645 (U.S. Pat.
7,169)), trimethinethiapyrylium salts described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143,
Nos. 59-41363, 59-84248, 59
No. -84249, No. 59-146063, or No. 59
Pyrylium compounds described in JP-A-146061; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475; -13514
And the pyrylium compounds described in JP-A-5-19702 are particularly preferably used. Another particularly preferred example is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

【0018】以下に、本発明に用いられるオニウム塩構
造を有する赤外線吸収剤の具体例(A−1〜A−56)
を示すが、本発明は、これらに限られるものではない。
Hereinafter, specific examples of the infrared absorbing agent having an onium salt structure used in the present invention (A-1 to A-56)
However, the present invention is not limited to these.

【0019】[0019]

【化1】 Embedded image

【0020】[0020]

【化2】 Embedded image

【0021】[0021]

【化3】 Embedded image

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】[0023]

【化5】 Embedded image

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】[0025]

【化7】 Embedded image

【0026】[0026]

【化8】 Embedded image

【0027】[0027]

【化9】 Embedded image

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】[0029]

【化11】 Embedded image

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】[0031]

【化13】 Embedded image

【0032】[0032]

【化14】 Embedded image

【0033】[0033]

【化15】 Embedded image

【0034】A−1〜A−56の構造式中、T- とは、
1価の対アニオンを表し、好ましくは、ハロゲンアニオ
ン(F- 、Cl- 、Br- 、I- )、ルイス酸アニオン
(BF4 - 、PF6 - 、SbCl6 - 、ClO4 - )、
アルキルスルホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニ
オンである。ここでいうアルキルとは、炭素原子数が1
から20までの直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基
を意味し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s
−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペン
チル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、シクロペンチル基、2一ノルボルニル基を挙げる
ことができる。これらの中では、炭素原子数1から12
までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、な
らびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基が
より好ましい。また、ここでいうアリールとは、1個の
ベンゼン環からなるもの、2又は3個のベンゼン撮が縮
合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合
環を形成したものを表し、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチ
ル基がより好ましい
[0034] In the structural formulas of A-1~A-56, T - A,
Represents a monovalent counter anion, preferably a halogen anion (F , Cl , Br , I ), a Lewis acid anion (BF 4 , PF 6 , SbCl 6 , ClO 4 ),
An alkylsulfonic acid anion and an arylsulfonic acid anion. As used herein, alkyl refers to a group having 1 carbon atom.
To 20 means a linear, branched, or cyclic alkyl group, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group,
Octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s
-Butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 21-norbornyl group. Among them, those having 1 to 12 carbon atoms
More preferred are straight-chain alkyl groups, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms. In addition, the aryl referred to herein refers to those composed of one benzene ring, those formed by condensing two or three benzene rings, and those formed by condensing a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group. Of these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferred .

【0035】本発明において、オニウム塩構造を有する
赤外線吸収剤は、本発明の画像形成材料の全固形分に対
し、0.01〜50重量%添加することが好ましく、よ
り好ましくは0.1〜20重量%、さらに好ましくは
0.5〜15重量%である。添加量が0.01重量%未
満であると、増感効果が見られず画像形成性に問題が生
じ易くなり、、一方50重量%を越えると印刷の際に、
非画像部に汚れが発生する傾向がある。
In the present invention, the infrared absorber having an onium salt structure is preferably added in an amount of 0.01 to 50% by weight, more preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solid content of the image forming material of the present invention. It is 20% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight. When the addition amount is less than 0.01% by weight, the sensitizing effect is not seen and the problem of image forming property is liable to occur. On the other hand, when it exceeds 50% by weight, during printing,
Non-image areas tend to be stained.

【0036】[(C)還元電位が−1.2V(SCE)
以上の酸化剤]本発明に用いられる酸化剤は、還元電位
が−1.2V(SCE)以上の酸化剤であれば特に限定
されるものではない。還元電位が−1.2V(SCE)
とは、前述のとおり、オニウム塩構造を有する赤外線吸
収剤が赤外光を吸収し励起状態となった場合、一番短波
の赤外光を吸収したときの励起状態の酸化電位が少なく
とも−1.2V(SCE)以上であり、励起状態のオニ
ウム塩構造を有する赤外線吸収剤から酸化剤へ電子を移
動させることにより強制酸化させ、不安定化にし分解を
起させるために最低限必要な電位である。この還元電位
は、大きければ大きいほど(還元電位が正向きに大きい
程)、オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤の分解率が
高くなるが、+0.5V(SCE)を超えると、励起せ
ずとも基底状態でも電子移動が起こり保存安定性を劣化
させる場合がある。そのため、還元電位を(+0.5V
(SCE)〜−1.2V(SCE))にするのがより好
ましく、電子移動の性格上、分子の置かれている媒体の
誘電率、剛直性が効いてくるので電位だけでは明確には
規定しにくいが一般的な観点から考えると、(+0.3
V(SCE)〜−1.0V(SCE))にするのが最も
好ましい。
[(C) The reduction potential is -1.2 V (SCE)
The above oxidizing agent] The oxidizing agent used in the present invention is not particularly limited as long as the oxidizing agent has a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more. Reduction potential is -1.2V (SCE)
As described above, when the infrared absorbing agent having an onium salt structure is in an excited state by absorbing infrared light, the oxidation potential of the excited state when absorbing the shortest infrared light is at least -1. .2 V (SCE) or more, at a minimum potential required for forced oxidation by transferring electrons from an infrared absorber having an onium salt structure in an excited state to an oxidizing agent, destabilizing and causing decomposition. is there. As the reduction potential increases (the reduction potential increases in the positive direction), the decomposition rate of the infrared absorbing agent having an onium salt structure increases, but when the reduction potential exceeds +0.5 V (SCE), even if no excitation occurs, Electron transfer occurs even in the ground state, which may degrade storage stability. Therefore, the reduction potential is set to (+0.5 V
(SCE) to -1.2 V (SCE)). Since the dielectric constant and rigidity of the medium in which the molecule is placed are effective due to the nature of electron transfer, it is clearly defined only by the potential. From a general point of view, (+0.3
V (SCE) to -1.0 V (SCE)).

【0037】本発明に好ましく用いられる還元電位が−
1.2V(SCE)以上の酸化剤としては、2,3−ジ
クロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン
(0.51V)、2,3−ジシアノ−1,4−ベンゾキ
ノン、テトラブロモ−1,4−ベンゾキノン(0.0
V)、テトラクロロ−1,4−ベンゾキノン(0.01
V)、トリクロロ−1,4−ベンゾキノン(−0.08
V)、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン(−
0.18V)、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノ
ン(−0.18V)、クロロ−1,4−ベンゾキノン
(−0.34V)、ヨード−1,4−ベンゾキノン、
2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノン(−0.67
V)、2,6−ジメチル−1,4−ベンゾキノン、2−
メチル−5−イソプロピル−1,4−ベンゾキノン、ト
リメチル−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジ−t−ブ
チル−1,4−ベンゾキノン、テトラメチル−1,4−
ベンゾキノン、メチル−1,4−ベンゾキノン(−0.
58V)、2,5−ジヒドロキシ−1,4−ベンゾキノ
ン、1,4−ベンゾキノン(−0.51V)などの1,
4−ベンゾキノン及びその誘導体、4−ニトロ−1,2
−ベンゾキノン、4−ベンゾイル−1,2−ベンゾキノ
ン、4−ホルミル−1,2−ベンゾキノン、4−アセチ
ル−1,2−ベンゾキノン、テトラクロロ−1,2−ベ
ンゾキノン、テトラブロモ−1,2−ベンゾキノン、4
−t−ブチル−1,2−ベンゾキノン、3,5−ジ−t
−ブチル−1,2−ベンゾキノン、3,4,5−トリメ
チル−1,2−ベンゾキノン、テトラメチル−1,2−
ベンゾキノンなどの1,2−ベンゾキノン及びその誘導
体、1,4−ナフトキノン(−0.71V)、2−ヒド
ロキシ−1,4−ナフトキノン(−0.64V)、5−
ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン(−0.52V)、
1,2−ナフトキノン(−0.56)、9,10−アン
トラキノン(−0.94V)、1−ヒドロキシ−9,1
0−アントラキノン(−0.77V)、1,8−ジヒド
ロキシ−9,10−アントラキノン(−0.64V)、
1,2−アントラキノン、9,10−フェナントレンキ
ノン(−0.66V)、2,4,7−トリニトロ−9,
10−フェナントレンキノン(−0.098V)、3,
6−ジニトロ−9,10−フェナントレンキノン(−
0.15V)、2,7−ジニトロ−9,10−フェナン
トレンキノン(−0.20V)、2,5−ジニトロ−
9,10−フェナントレンキノン(−0.27V)、
1,2−フェナントレンキノン、3,3’,5,5’−
テトラクロロ−4,4’−ジフェノキノン、4,4’−
ジフェノキノン、3,3’,5,5’−テトラメチル−
4,4’−ジフェノキノン、3,3’、5,5’−テト
ライソプロピル−4,4’−ジフェノキノン、3,
3’、5,5’−テトラ−s−ブチル−4,4’−ジフ
ェノキノン、3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチル
−4,4’−ジフェノキノン、5,12−ナフタセンキ
ノンなどのキノン誘導体、メチルビオロゲンのセミキノ
ン、エチルビオロゲンのセミキノン、ベンジルビオロゲ
ンのセミキノン等のピリジニウム塩、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼン等のニトロ化合物等が挙げられる。
(かっこ内は、文献T.K.Mukherjee,J.
Phys.Chem.,71,2277(1967),
M.E.Peover,J.Chem.Soc.,45
40(1962)に記載の還元電位の値である。) ま
たその他、Fe 3+錯体、Ce4+錯体等の金属錯体型酸化
剤、トリハロメチルトリアジン、ジアゾニム塩、ヨード
ニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩等の酸化力
のある化合物も好ましく用いられる。
The reduction potential preferably used in the present invention is-
As an oxidizing agent of 1.2 V (SCE) or more, 2,3-di
Chloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone
(0.51 V), 2,3-dicyano-1,4-benzoxy
Non, tetrabromo-1,4-benzoquinone (0.0
V), tetrachloro-1,4-benzoquinone (0.01
V), trichloro-1,4-benzoquinone (-0.08
V), 2,5-dichloro-1,4-benzoquinone (-
0.18 V), 2,6-dichloro-1,4-benzoquino
(-0.18V), chloro-1,4-benzoquinone
(-0.34 V), iodo-1,4-benzoquinone,
2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone (-0.67
V), 2,6-dimethyl-1,4-benzoquinone, 2-
Methyl-5-isopropyl-1,4-benzoquinone,
Limethyl-1,4-benzoquinone, 2,6-di-t-butyl
Tyl-1,4-benzoquinone, tetramethyl-1,4-
Benzoquinone, methyl-1,4-benzoquinone (-0.
58V), 2,5-dihydroxy-1,4-benzoquino
, Such as 1,4-benzoquinone (-0.51 V)
4-benzoquinone and its derivatives, 4-nitro-1,2
-Benzoquinone, 4-benzoyl-1,2-benzoquino
, 4-formyl-1,2-benzoquinone, 4-acetyl
1,2-benzoquinone, tetrachloro-1,2-be
Nzoquinone, tetrabromo-1,2-benzoquinone, 4
-T-butyl-1,2-benzoquinone, 3,5-di-t
-Butyl-1,2-benzoquinone, 3,4,5-trime
Tyl-1,2-benzoquinone, tetramethyl-1,2-
1,2-benzoquinones such as benzoquinone and derivatives thereof
Body, 1,4-naphthoquinone (-0.71V), 2-hydr
Roxy-1,4-naphthoquinone (-0.64V), 5-
Hydroxy-1,4-naphthoquinone (-0.52V),
1,2-naphthoquinone (-0.56), 9,10-anne
Traquinone (-0.94V), 1-hydroxy-9,1
0-anthraquinone (-0.77V), 1,8-dihydro
Roxy-9,10-anthraquinone (-0.64V),
1,2-anthraquinone, 9,10-phenanthrene
Non (-0.66V), 2,4,7-trinitro-9,
10-phenanthrenequinone (-0.098 V), 3,
6-dinitro-9,10-phenanthrenequinone (-
0.15 V), 2,7-dinitro-9,10-phenane
Trenquinone (-0.20V), 2,5-dinitro-
9,10-phenanthrenequinone (-0.27 V),
1,2-phenanthrenequinone, 3,3 ', 5,5'-
Tetrachloro-4,4'-diphenoquinone, 4,4'-
Diphenoquinone, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-
4,4'-diphenoquinone, 3,3 ', 5,5'-tet
Laisopropyl-4,4'-diphenoquinone, 3,
3 ', 5,5'-tetra-s-butyl-4,4'-diff
Enoquinone, 3,3 ', 5,5'-tetra-t-butyl
-4,4'-diphenoquinone, 5,12-naphthacene
Quinone derivatives such as nonone, semi-quino of methyl viologen
, Ethylquinolone semiquinone, benzylviologen
Pyridinium salts, such as semiquinone, nitrobenzene,
Examples thereof include nitro compounds such as dinitrobenzene.
(The contents in parentheses are described in TK Mukherjee, J. Mol.
Phys. Chem. , 71, 2277 (1967),
M. E. FIG. Peover, J .; Chem. Soc. , 45
40 (1962). )
Other, Fe 3+Complex, Ce4+Metal complex type oxidation such as complex
Agent, trihalomethyltriazine, diazonium salt, iodine
Oxidizing power of sodium, sulfonium and phosphonium salts
Are preferred.

【0038】本発明において、還元電位が−1.2V
(SCE)以上の酸化剤は、本発明の画像形成材料の全
固形分に対し、0.01〜50重量%添加することが好
ましく、より好ましくは0.1〜20重量%、さらに好
ましくは0.5〜15重量%である。添加量が0.01
重量%未満であると、画像が得られにくくなり、一方5
0重量%を越えると印刷の際に、非画像部に汚れが発生
する傾向がある。
In the present invention, the reduction potential is -1.2 V
The oxidizing agent (SCE) or more is preferably added in an amount of 0.01 to 50% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight, and still more preferably 0 to 50% by weight based on the total solid content of the image forming material of the present invention. 0.5 to 15% by weight. The amount added is 0.01
When the content is less than 5% by weight, it is difficult to obtain an image.
If the content exceeds 0% by weight, stains tend to occur in the non-image area during printing.

【0039】[(D)還元電位−1.2V(SCE)以
上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤]本発明に用
いられる還元電位−1.2V(SCE)以上のオニウム
塩構造を有する赤外線吸収剤とは、還元電位が−1.2
V(SCE)以上であるような構造を有する部位(以
下、「酸化剤部位」と称す。)が、オニウム塩構造を有
する赤外線吸収剤(以下、「赤外線吸収剤母核」と称
す。)にイオン結合又は共有結合により連結したもので
あるが、容易に合成できる点で、イオン結合、つまり酸
化剤部位が対アニオンとして連結されてるものが好まし
い。
[(D) Infrared absorbent having an onium salt structure having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more] Infrared absorption having an onium salt structure having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more used in the present invention The agent has a reduction potential of -1.2.
A portion having a structure of V (SCE) or more (hereinafter, referred to as “oxidant portion”) is used as an infrared absorber having an onium salt structure (hereinafter, referred to as “infrared absorber core”). Although they are linked by an ionic bond or a covalent bond, ionic bonds, that is, those in which an oxidizing agent site is linked as a counter anion, are preferable because they can be easily synthesized.

【0040】前記酸化剤部位としては、前記(C)還元
電位が−1.2V(SCE)以上の酸化剤で挙げられた
ものと同様の構造の部位が挙げられ、上記(A)赤外線
吸収剤母核としては、前記オニウム塩構造を有する赤外
線吸収剤で挙げられたものと同様の構造の部位が挙げら
れる。
Examples of the oxidizing agent site include those having the same structure as that of the oxidizing agent having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or higher (C). Examples of the mother nucleus include a site having the same structure as that of the infrared absorber having the onium salt structure.

【0041】また、酸化剤部位における還元電位が−
1.2V(SCE)とは、赤外線吸収剤母核が赤外光を
吸収し励起状態となった場合、一番短波の赤外光を吸収
したときの励起状態の酸化電位が少なくとも−1.2V
(SCE)以上であり、励起状態のオニウム塩構造を有
する赤外線吸収剤母核から酸化剤部位へ電子を移動させ
ることにより強制酸化させ、不安定化にし分解を起させ
るために最低限必要な電位である。この還元電位は、大
きければ大きいほど(還元電位が正向きに大きい程)、
オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤母核の分解率が高
くなるが、+0.5V(SCE)を超えると、励起せず
とも基底状態でも電子移動が起こり保存安定性を劣化さ
せる場合がある。そのため、還元電位を(+0.5V
(SCE)〜−1.2V(SCE))にするのがより好
ましく、電子移動の性格上、分子の置かれている媒体の
誘電率、剛直性が効いてくるので電位だけでは明確には
規定しにくいが一般的な観点から考えると、(+0.3
V(SCE)〜−1.0V(SCE))にするのが最も
好ましい。
The reduction potential at the oxidizing agent site is-
1.2V (SCE) means that when the infrared absorbent core is in an excited state by absorbing infrared light, the oxidation potential in the excited state when absorbing the shortest infrared light is at least −1. 2V
(SCE) or higher, the minimum potential required for forced oxidation by transferring electrons from the infrared absorber core having an excited onium salt structure to the oxidizing agent site, destabilizing and causing decomposition. It is. The larger this reduction potential is (the larger the reduction potential is in the positive direction),
Although the decomposition rate of the infrared absorbent mother nucleus having an onium salt structure is increased, if it exceeds +0.5 V (SCE), electron transfer may occur even in the ground state without excitation, and storage stability may be degraded. Therefore, the reduction potential is set to (+0.5 V
(SCE) to -1.2 V (SCE)). Since the dielectric constant and rigidity of the medium in which the molecule is placed are effective due to the nature of electron transfer, it is clearly defined only by the potential. From a general point of view, (+0.3
V (SCE) to -1.0 V (SCE)).

【0042】本発明において、還元電位−1.2V(S
CE)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤は、
酸化剤部を対アニオンとして、赤外線吸収剤母核に連結
させるのが好ましく、この酸化剤部位対アニオンとして
は、9,10−アントラキノン−1−スルホネート、
9,10−アントラキノン−2−スルホネート、9,1
0−アントラキノン−1,5−ジスルホネート、9,1
0−アントラキノン−1,8−ジスルホネート、9,1
0−アントラキノン−2,6−ジスルホネート、1,2
−ナフトキノン−4−スルホネート、2,4−ジニトロ
ベンゼンスルホネートなどのスルホネート等(すべて−
1.2V(SCE)以上)、及びスルホン酸アニオン
(スルホネート基:−SO3 θ)が、前記(C)還元電
位−1.2V(SCE)以上の酸化剤で挙げられた具体
例に連結したもの等が挙げられる。
In the present invention, the reduction potential is -1.2 V (S
CE) The infrared absorber having the above onium salt structure,
The oxidizing agent moiety is preferably linked to the infrared absorbent core as a counter anion. Examples of the oxidizing agent site counter anion include 9,10-anthraquinone-1-sulfonate,
9,10-anthraquinone-2-sulfonate, 9.1
0-anthraquinone-1,5-disulfonate, 9.1
0-anthraquinone-1,8-disulfonate, 9.1
0-anthraquinone-2,6-disulfonate, 1,2
-Sulfonates such as naphthoquinone-4-sulfonate and 2,4-dinitrobenzenesulfonate (all-
1.2 V (SCE) or more) and a sulfonate anion (sulfonate group: —SO 3 θ) were linked to the specific examples of the oxidizing agent having the (C) reduction potential of −1.2 V (SCE) or more. And the like.

【0043】以下に、本発明に好ましく用いられる還元
電位−1.2V(SCE)以上のオニウム塩構造を有す
る赤外線吸収剤の好ましい具体例としては、下記赤外線
吸収剤母核対カチオン((A’−1)〜(A’−3
9))と下記酸化剤部位対アニオン((D−1)〜(D
−14))とを組み合わせてイオン的に結合させた化合
物が挙げられ、さらに好ましくは、下記((Y−1)〜
(Y−17))に示す化合物が挙げられる。しかし、本
発明は、これらに限られるものではない。
Preferred specific examples of the infrared absorber having an onium salt structure having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more preferably used in the present invention are as follows: -1) to (A'-3)
9)) and the following oxidizing agent site counter anions ((D-1) to (D
-14)), and a compound ionically bonded thereto, and more preferably the following ((Y-1) to (Y-1)).
(Y-17)). However, the present invention is not limited to these.

【0044】[0044]

【化16】 Embedded image

【0045】[0045]

【化17】 Embedded image

【0046】[0046]

【化18】 Embedded image

【0047】[0047]

【化19】 Embedded image

【0048】[0048]

【化20】 Embedded image

【0049】[0049]

【化21】 Embedded image

【0050】[0050]

【化22】 Embedded image

【0051】[0051]

【化23】 Embedded image

【0052】[0052]

【化24】 Embedded image

【0053】[0053]

【化25】 Embedded image

【0054】[0054]

【化26】 Embedded image

【0055】[0055]

【化27】 Embedded image

【0056】[0056]

【化28】 Embedded image

【0057】[0057]

【化29】 Embedded image

【0058】[0058]

【化30】 Embedded image

【0059】[0059]

【化31】 Embedded image

【0060】[0060]

【化32】 Embedded image

【0061】[0061]

【化33】 Embedded image

【0062】[0062]

【化34】 Embedded image

【0063】次に、本発明に用いられる還元電位−1.
2V(SCE)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸
収剤の合成例を示すが、本発明はこれに限られるもので
はない。
Next, the reduction potential used in the present invention-1.
A synthesis example of an infrared absorber having an onium salt structure of 2 V (SCE) or more will be described, but the present invention is not limited thereto.

【0064】本発明に用いられる還元電位−1.2V
(SCE)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤
は、下記反応式に示すように、オニウム塩構造を有する
赤外線吸収剤が、赤外線吸収母核対対カチオン(Dye
+ )と末端連結部位対アニオン(Zy- )とからなり、
還元電位が−1.2V(SCE)以上の酸化剤が、酸化
剤部位対アニオン(Ox- )と1価の金属対カチオン
(Zy’+ )からなる場合、容易に塩交換反応により得
ることができる。ここで言う1価の金属対カチオンとし
ては、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイ
オン等が挙げられる。また、用いるオニウム塩構造を有
する赤外線吸収剤の一般的な製造方法は、前記(A)オ
ニウム塩構造を有する赤外線吸収剤で挙げれた公報等に
記載されている方法で製造し、還元電位が−1.2V
(SCE)以上の酸化剤部位を有する対アニオンに関し
ては、市販のもの(例えば、アルドリッチ社製「1,2
−ナフトキノン−4−スルホン酸ナトリウム塩」、「ア
ントラキノン−2−スルホン酸ナトリウム塩−水和物」
等)を使用すればよい。
Reduction potential -1.2 V used in the present invention
(SCE) As shown in the following reaction formula, an infrared absorber having an onium salt structure above has an infrared absorbing mother nucleus paired with a cation (Dye) as shown in the following reaction formula.
+) And terminal connection portion counter anion (Zy -) becomes from a,
When the oxidizing agent having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more is composed of an oxidizing agent site counter anion (Ox ) and a monovalent metal counter cation (Zy ′ + ), it can be easily obtained by a salt exchange reaction. it can. Examples of the monovalent metal counter cation here include a sodium ion, a potassium ion, and a lithium ion. Further, a general method for producing an infrared absorber having an onium salt structure to be used is a method described in (A) the publication cited in the publication cited above for the infrared absorber having an onium salt structure, and has a reduction potential of-. 1.2V
Regarding the counter anion having an oxidizing agent site (SCE) or higher, commercially available counter anions (for example, “1,2” manufactured by Aldrich)
-Naphthoquinone-4-sulfonic acid sodium salt "," Anthraquinone-2-sulfonic acid sodium salt-hydrate "
Etc.) may be used.

【0065】Dye+ Zy- +Zy’+ Ox- → D
ye+ Ox- + Zy’+ Zy-
[0065] Dye + Zy - + Zy '+ Ox - → D
ye + Ox - + Zy '+ Zy -

【0066】化合物Y−1の合成例 Y−A(0.1mol)と、メタノール(600ml)
とをビーカーに入れ、R−2(0.5mol/600m
l)の水溶液を加え、30分間攪拌した。反応液をろ過
し、析出した結晶をろ取した。その後、この結晶をさら
にメタノール(600ml)とともにビーカーに入れ、
R−1(0.5mol/600ml)の水溶液を加え、
30分間攪拌した。反応液をろ過し、析出した結晶をろ
取した。その後、この結晶をメタノール/水の3/7混
合液で洗浄し、Y−1を収率95%で得た。Y−1の構
造は、質量分析、1 H−NMR、赤外線吸収スペクトル
で確認した。以下に合成経路を模式的に示した。
Synthesis Example of Compound Y-1 YA (0.1 mol) and methanol (600 ml)
Into a beaker, R-2 (0.5mol / 600m
The aqueous solution of 1) was added and stirred for 30 minutes. The reaction solution was filtered, and the precipitated crystals were collected by filtration. Thereafter, the crystals were put into a beaker together with methanol (600 ml),
An aqueous solution of R-1 (0.5 mol / 600 ml) was added,
Stir for 30 minutes. The reaction solution was filtered, and the precipitated crystals were collected by filtration. Thereafter, the crystals were washed with a 3/7 mixed solution of methanol / water to obtain Y-1 in a yield of 95%. The structure of Y-1 was confirmed by mass spectrometry, 1 H-NMR, and infrared absorption spectrum. The synthetic route is schematically shown below.

【0067】[0067]

【化35】 Embedded image

【0068】化合物Y−2の合成例 Y−A(0.1mol)と、メタノール(600ml)
とをビーカーに入れ、R−2(0.5mol/600m
l)の水溶液を加え、30分間攪拌した。反応液をろ過
し、析出した結晶をろ取した。その後、この結晶をさら
にメタノール(600ml)とともにビーカーに入れ、
R−2(0.5mol/600ml)の水溶液を加え、
30分間攪拌した。反応液をろ過し、析出した結晶をろ
取した。その後、この結晶をメタノール/水の3/7混
合液で洗浄し、Y−2を収率95%で得た。Y−2の構
造は、質量分析、1 H−NMR、赤外線吸収スペクトル
で確認した。以下に合成経路を模式的に示した。
Synthesis Example of Compound Y-2 YA (0.1 mol) and methanol (600 ml)
Into a beaker, R-2 (0.5mol / 600m
The aqueous solution of 1) was added and stirred for 30 minutes. The reaction solution was filtered, and the precipitated crystals were collected by filtration. Thereafter, the crystals were put into a beaker together with methanol (600 ml),
An aqueous solution of R-2 (0.5 mol / 600 ml) was added,
Stir for 30 minutes. The reaction solution was filtered, and the precipitated crystals were collected by filtration. Thereafter, the crystals were washed with a 3/7 mixed solution of methanol / water to obtain Y-2 in a yield of 95%. The structure of Y-2 was confirmed by mass spectrometry, 1 H-NMR, and infrared absorption spectrum. The synthetic route is schematically shown below.

【0069】[0069]

【化36】 Embedded image

【0070】また、Y−3〜Y−17についても、Y−
A、R−1、R−2を代えるだけで上記同様の方法で、
容易に製造できる。
Further, for Y-3 to Y-17, Y-
A method similar to the above, except that A, R-1, and R-2 are changed,
Can be easily manufactured.

【0071】本発明において、還元電位−1.2V(S
CE)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤は、
本発明の画像形成材料の全固形分に対し、0.01〜5
0重量%添加することが好ましく、より好ましくは0.
1〜20重量%、さらに好ましくは0.5〜15重量%
である。添加量が0.01重量%未満であると、画像が
得られにくくなり、一方50重量%を越えると印刷の際
に、非画像部に汚れが発生する傾向がある。
In the present invention, the reduction potential is -1.2 V (S
CE) The infrared absorber having the above onium salt structure,
0.01 to 5 based on the total solid content of the image forming material of the present invention.
0% by weight, more preferably 0.1% by weight.
1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight
It is. If the addition amount is less than 0.01% by weight, it is difficult to obtain an image, while if it exceeds 50% by weight, the non-image area tends to be stained during printing.

【0072】[(B)水不溶性かつアルカリ水溶液に可
溶な高分子バインダー]本発明に用いられる水不溶性か
つアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーは、その主
鎖及び/又は側鎖の構造中に酸性基を含有する高分子、
及びこれらの混合物である。中でも、以下の(a−1)
〜(a−6)の酸性基を主鎖及び/又は側鎖の構造中に
有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点で
好ましい。
[(B) Polymer Binder Insoluble in Water and Soluble in Alkaline Aqueous Solution] The polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution used in the present invention has a structure in its main chain and / or side chain. A polymer containing an acidic group,
And mixtures thereof. Among them, the following (a-1)
Those having an acidic group of (a-6) in the structure of the main chain and / or the side chain are preferred from the viewpoint of solubility in an alkaline developer.

【0073】(a−1)フェノール基 (−Ar−O
H) (a−2)スルホンアミド基 (−SO2 NH−R) (a−3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イ
ミド基」という。) (−SO2 NHCOR、−SO2 NHSO2 R、−CO
NHSO2 R) (a−4)カルボン酸基 (−CO2 H) (a−5)スルホン酸基 (−SO3 H) (a−6)リン酸基 (−OPO3 2
(A-1) Phenol group (-Ar-O
H) (a-2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( a-3) substituted sulfonamide-based acid group (hereinafter, referred to as "active imide group".) (-SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CO
NHSO 2 R) (a-4 ) a carboxylic acid group (-CO 2 H) (a- 5) a sulfonic acid group (-SO 3 H) (a- 6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)

【0074】(a−1)〜(a−6)中、Arは置換基
を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、R
は、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
In (a-1) to (a-6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent;
Represents a hydrocarbon group which may have a substituent.

【0075】(a−1)〜(a−6)の酸性基を有する
水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダー
の中でも、(a−1)フェノール基、(a−2)スルホ
ンアミド基、及び(a−3)活性イミド基を有する水不
溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーが好
ましく、(a−1)フェノール基を有する水不溶性かつ
アルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーが、アルカリ
性現像液に対する溶解性の点、印刷時の着肉性及び耐刷
性の点で、さらに好ましい。さらに、主鎖に(a−1)
フェノール基を有し、主鎖の一部及び/又は側鎖に(a
−1)〜(a−3)の酸性基を有する共重合体も現像ラ
チチュードの点で好ましい。
Among the polymer binders (a-1) to (a-6) having an acidic group, which are water-insoluble and soluble in an aqueous alkaline solution, (a-1) a phenol group and (a-2) a sulfonamide group And (a-3) a water-insoluble and aqueous alkali-soluble polymer binder having an active imide group is preferable, and (a-1) a water-insoluble and aqueous alkali-soluble polymer binder having a phenol group is preferably It is further preferable in terms of solubility in an alkaline developer, inking property during printing, and printing durability. Furthermore, (a-1)
It has a phenol group and has (a) a part of the main chain and / or
Copolymers having acidic groups of -1) to (a-3) are also preferred from the viewpoint of development latitude.

【0076】(a−1)フェノール性水酸基を有する水
不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーと
しては、例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、
またはm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムア
ルデヒド樹脂などのノボラック樹脂やピロガロールアセ
トン樹脂を挙げることができる。フェノール性水酸基を
有する水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダーとしてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を
有する水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダーを用いることができる。側鎖にフェノール性水酸
基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基
と重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分
子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該
モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる
高分子化合物を挙げることができる。フェノール性水酸
基を有する重合性モノマーとしてはフェノール性水酸基
を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステルまたはヒドロキシス
チレン等が挙げられ、具体的には、N−(2−ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフ
ェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタ
クリルアミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、
m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタク
リレート、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p
−ヒドロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシ
スチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシス
チレン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタ
クリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメ
タクリレート、等を好適に使用することができる。かか
るフェノール性水酸基を有する樹脂は、1種類あるいは
2種類以上を組み合わせて使用してもよい。更に、米国
特許第4123279号明細書に記載されているよう
に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。
(A-1) Examples of the polymer binder having a phenolic hydroxyl group, which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, include phenol formaldehyde resin and m-
Cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-,
Or a mixture of m- / p-), a novolak resin such as a mixed formaldehyde resin, and a pyrogallol acetone resin. As the polymer binder having a phenolic hydroxyl group and being water-insoluble and soluble in an aqueous alkali solution, a polymer binder having a phenolic hydroxyl group in a side chain and soluble in an aqueous alkali solution can be used. As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group may be homopolymerized, or another polymerizable monomer may be used. Examples include a polymer compound obtained by copolymerizing a monomer. Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group, and specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl)
Methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate,
m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p
-Hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) Ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, and the like can be preferably used. These resins having a phenolic hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, a condensate of phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent and formaldehyde, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. May be used in combination.

【0077】(a−2)スルホンアミド基を有する水不
溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーとし
ては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独
重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合
させて得られる高分子化合物を挙げることができる。ス
ルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、1分
子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水素原子が結合
したスルホンアミド基−NH−SO2 −と、重合可能な
不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物から
なる重合性モノマーが挙げられる。その中でもアクリロ
イル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるい
はモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイ
ミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。このような
化合物としては、例えば、下記一般式(1)〜(5)で
示される化合物が挙げられる。
(A-2) As a water-insoluble and alkaline aqueous solution-soluble polymer binder having a sulfonamide group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group is homopolymerized, or another polymerizable monomer is used as the monomer. Examples thereof include polymer compounds obtained by copolymerization. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include, in one molecule, at least one sulfonamide group —NH—SO 2 — in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom, and at least one polymerizable unsaturated bond. And a polymerizable monomer composed of a low-molecular compound. Among them, a low-molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such compounds include compounds represented by the following general formulas (1) to (5).

【0078】[0078]

【化37】 Embedded image

【0079】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR27−を示す。R21、R24はそれぞれ水素原子又は−
CH3 を表す。R22、R25、R29 、R32、R36はそれ
ぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキ
レン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラル
キレン基を表す。R23、R27、R33は水素原子、それぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。また、R26、R37は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R28、R30、R
34は水素原子又は−CH3 を表す。R31、R35はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1 、Y2 はそれぞれ単結合
または−CO−を表す。
In the formula, X 1 and X 2 each represent -O- or-
NR 27 -is shown. R 21 and R 24 each represent a hydrogen atom or-
Represents CH 3 . R 22, R 25, R 29 , R 32, R 36 are each a substituent having optionally an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkylene group, arylene group, or aralkylene group. R 23 , R 27 and R 33 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 26 and R 37 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 28 , R 30 , R
34 represents a hydrogen atom or -CH 3. R 31 and R 35 each have a single bond or a carbon number of 1 to 12 which may have a substituent.
Represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—.

【0080】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。
Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0081】(a−3)活性イミド基を有する水不溶性
かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダーは、下記
式で表される活性イミド基を分子内に有するものであ
り、この高分子化合物としては、1分子中に、下記の式
で表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそ
れぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノ
マーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマ
ーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げることが
できる。
(A-3) A water-insoluble and aqueous alkali-soluble polymer binder having an active imide group has an active imide group represented by the following formula in the molecule. Is a homopolymerization of a polymerizable monomer composed of a low-molecular compound having at least one active imino group represented by the following formula and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule, or another polymerization of the monomer. And a polymer compound obtained by copolymerizing a hydrophilic monomer.

【0082】[0082]

【化38】 Embedded image

【0083】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0084】同様に、(a−4)カルボン酸基を有する
水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダー
としては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ1以上分子中に有する化合物を主たるモ
ノマーとする重合体が、(a−5)スルホン酸基を有す
る水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダ
ーとしては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和
結合とをそれぞれ1以上分子中に有する化合物を主たる
モノマーとする重合体が、また、(a−6)リン酸基を
有する水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダーとしては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和
結合とをそれぞれ1以上分子中に有する化合物を主たる
モノマーとする重合体が挙げられる。
Similarly, the (a-4) water-insoluble and aqueous alkali-soluble polymer binder having a carboxylic acid group includes, for example, one or more carboxylic acid groups and polymerizable unsaturated bonds in each molecule. Examples of the polymer having a (a-5) sulfonic acid group as a water-insoluble and alkali-soluble polymer binder in which a polymer having a compound as a main monomer is a sulfonic acid group and a polymerizable unsaturated bond. A polymer having a compound having at least one in each molecule as a main monomer; and (a-6) a water-insoluble and alkaline polymer-soluble polymer binder having a phosphate group, for example, a phosphate group And a polymer having a compound having at least one polymerizable unsaturated bond in the molecule as a main monomer.

【0085】本発明における水不溶性かつアルカリ水溶
液に可溶な高分子バインダーにおいて、前記(a−1)
〜(a−6)の酸性基を含むモノマーは、1種類である
必要はなく、同一の酸性基を有するモノマーを2種以
上、又は、異なる酸性基を有するモノマーを2種以上共
重合させたものも用いることもできる。
The polymer binder in the present invention, which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, comprises the aforementioned (a-1)
The monomer having an acidic group of (a-6) does not need to be one kind, and two or more kinds of monomers having the same acidic group or two or more kinds of monomers having different acidic groups are copolymerized. Those can also be used.

【0086】(a−1)〜(a−6)の酸性基を含むモ
ノマーを共重合させる場合には、これら成分の配合重量
比は50:50から5:95の範囲にあることが好まし
く、40:60から10:90の範囲にあることがより
好ましい。
When the monomers having acidic groups (a-1) to (a-6) are copolymerized, the blending ratio of these components is preferably in the range of 50:50 to 5:95, More preferably, it is in the range of 40:60 to 10:90.

【0087】本発明において、(a−1)〜(a−6)
の酸性基を含むモノマーと、他の重合性モノマーとの共
重合体である場合には、アルカリ水可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル
%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやす
く、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないこ
とがある。
In the present invention, (a-1) to (a-6)
In the case of a copolymer of a monomer having an acidic group of (i) and another polymerizable monomer, the monomer imparting alkali water solubility is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. . When the amount of the copolymer component is less than 10 mol%, alkali solubility tends to be insufficient, and the effect of improving development latitude may not be sufficiently achieved.

【0088】前記(a−1)〜(a−6)の酸性基を含
むモノマーと共重合させる他の共重合モノマー成分とし
ては、例えば、下記(1)〜(12)に挙げるモノマー
を用いることができるがこれらに限定されるものではな
い。 (1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸
エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。
As the other copolymerizable monomer component to be copolymerized with the monomer having an acidic group (a-1) to (a-6), for example, the following monomers (1) to (12) may be used. However, the present invention is not limited to these. (1) Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, and methacrylic esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate. (4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-
Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

【0089】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid;

【0090】共重合の方法としては、従来知られてい
る、ランダム共重合法、グラフト共重合法や、ブロック
重合法等を用いることができる。
As the copolymerization method, a conventionally known random copolymerization method, graft copolymerization method, block polymerization method, or the like can be used.

【0091】本発明において水不溶性かつアルカリ水溶
液に可溶な高分子バインダーが、前記(a−1)〜(a
−6)の酸性基を含むモノマーの単独重合体あるいは共
重合体の場合、重量平均分子量が2000以上、数平均
分子量が500以上のものが好ましい。さらに好ましく
は、重量平均分子量が5000〜300000、数平均
分子量が800〜250000であり、分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明において水不溶性かつアルカリ水溶液
に可溶な高分子バインダーがフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合
には、重量平均分子量が500〜20000で数平均分
子量が200〜10000のものが好ましい。
In the present invention, the polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution is selected from the above-mentioned (a-1) to (a
In the case of the homopolymer or copolymer of the monomer containing an acidic group of -6), those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferable. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. In the present invention, when the polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution is a resin such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the number average molecular weight is 500 to 20,000 and the number average molecular weight is 200 to 10,000. Are preferred.

【0092】これら水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶
な高分子バインダーは、それぞれ1種類あるいは2種類
以上を組み合わせて使用してもよく、全画像形成材料固
形分中、30〜99重量%、好ましくは40〜95重量
%、特に好ましくは50〜90重量%の添加量で用いら
れる。水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダーの添加量が30重量%未満であると記録層の耐久
性が悪化し、また、99重量%を越えると感度、耐久性
の両面で好ましくない。
These polymer binders which are insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution may be used alone or in combination of two or more. 30 to 99% by weight, preferably 30 to 99% by weight, based on the total solid content of the image forming material. It is used in an amount of 40 to 95% by weight, particularly preferably 50 to 90% by weight. If the amount of the polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution is less than 30% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated, and if it exceeds 99% by weight, both sensitivity and durability are not preferred.

【0093】[その他の成分]本発明の画像形成材料に
は、更に画像形成性を向上させる目的で、他の染料、顔
料等を添加することもできる(前記オニウム塩構造を有
する赤外線吸収剤,前記還元電位−1.2V(SCE)
以上の酸化剤,前記還元電位−1.2V(SCE)以上
のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤と同一の層に添
加してもよいし、別の層を設けその層の材として添加し
てもよい。)。染料については、前記の従来知られてい
る例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料、アミニウム染料、ジイモニウム染料、スクア
リリウム染料等、市販されている及び文献(「染料便
覧」 有機合成化学協会編集昭和45年刊)に記載され
ている染料等を用いることができる。また、顔料として
は、従来知られている、市販の顔料及びカラーインデッ
クス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技
術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(C
MC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC
出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐
色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍
光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げ
られる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔
料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン
系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン
系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジ
オキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタ
ロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ
顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カ
ーボンブラック等が使用できる。これらの染料及び顔料
の中でも、赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが
特に好ましい。また、染料及び顔料は、2種以上併用し
てもよい。
[Other Components] To the image-forming material of the present invention, other dyes, pigments and the like may be added for the purpose of further improving the image-forming properties (the infrared absorbing agent having the onium salt structure, The reduction potential -1.2 V (SCE)
The above oxidizing agent and the above-mentioned infrared absorbing agent having an onium salt structure having a reduction potential of -1.2 V (SCE) or more may be added to the same layer, or another layer may be provided and added as a material for the layer. Is also good. ). As for the dyes, the conventionally known dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, aminium dyes, diimonium dyes, squarylium Dyes and the like that are commercially available and described in a literature (“Dye Handbook”, edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, 1970) can be used. As the pigments, conventionally known commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (C
MC Publishing, 1986), "Printing ink technology" CMC
Published in 1984) can be used. For example, black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound dyes can be used. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like. Among these dyes and pigments, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable. Further, two or more dyes and pigments may be used in combination.

【0094】本発明における画像形成材料には、種々の
添加剤を添加することができる。例えばオニウム塩、芳
香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物
等は熱分解性物質として作用するので、このような物質
を添加すると、画像部の現像液への溶解阻止性を向上さ
せることができるので好ましい。
Various additives can be added to the image forming material of the present invention. For example, onium salts, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonate compounds, and the like act as a thermally decomposable substance, and thus the addition of such a substance can improve the dissolution inhibiting property of the image area in a developing solution. It is preferred.

【0095】オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アン
モニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホ
ニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる
事ができる。本発明において用いられるオニウム塩とし
て好適なものとしては、例えば、S.I.Schles
inger,Photogr.Sci.Eng.,1
8,387(1974)、T.S.Bal et a
l,Polymer,21,423(1980)、又
は、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、又は特開平3−140140号公報に記
載のアンモニウム塩、D.C.Necker et a
l,Macromolecules,17,2468
(1984)、C.S.Wen et al,Teh,
Proc.Conf.Rad.CuringASIA,
p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許
第4,069,055号、又は同4,069,056号
に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello
et al,Macromorecules,10
(6),1307(1977)、Chem.& En
g.News,Nov.28,p31(1988)、欧
州特許第104,143号、米国特許第339,049
号、同第410,201号、特開平2−150848号
公報、又は特開平2−296514号公報に記載のヨー
ドニウム塩、J.V.Crivello et al,
Polymer J.17,73(1985)、J.
V.Crivelloet al.J.Org.Che
m.,43,3055(1978)、W.R.Watt
et al,J.Polymer Sci.,Pol
ymer Chem.Ed.,22,1789(198
4)、J.V.Crivello etal,Poly
mer Bull.,14,279(1985)、J.
V.Crivello et al,Macromor
ecules,14(5),1141(1981)、
J.V.Crivello et al,J.Poly
mer Sci.,Polymer Chem.E
d.,17,2877(1979)、欧州特許第37
0,693号、同233,567号、同297,443
号、同297,442号、米国特許第4,933,37
7号、同3,902,114号、同410,201号、
同339,049号、同4,760,013号、同4,
734,444号、同2,833,827号、独国特許
第2,904,626号、同3,604,580号、又
は同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、
J.V.Crivello et al,Macrom
orecules,10(6),1307(197
7)、又はJ.V.Crivello etal,J.
Polymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレ
ノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Pr
oc.Conf.Rad.Curing ASIA,p
478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアル
ソニウム塩等が挙げられる。
Examples of the onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, S.I. I. Schles
inger, Photogr. Sci. Eng. , 1
8, 387 (1974); S. Bal et a
1, Polymer, 21, 423 (1980), or diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,06.
Ammonium salts described in JP-A-9,056 or JP-A-3-140140; C. Necker et a
1, Macromolecules, 17, 2468
(1984), C.I. S. Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. CuringASIA,
p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. No. 4,069,055 or 4,069,056; V. Crivello
et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & En
g. News, Nov .; 28, p31 (1988), EP 104,143, US Patent 339,049.
Iodonium salts described in JP-A No. 410,201, JP-A-2-150848, or JP-A-2-296514; V. Crivello et al,
Polymer J. J. 17, 73 (1985);
V. Crivello et al. J. Org. Che
m. 43, 3055 (1978); R. Watt
et al, J.A. Polymer Sci. , Pol
ymer Chem. Ed. , 22, 1789 (198
4). V. Crivello etal, Poly
mer Bull. , 14, 279 (1985);
V. Crivello et al, Macromor
ecules, 14 (5), 1141 (1981),
J. V. Crivello et al, J. Mol. Poly
mer Sci. , Polymer Chem. E
d. , 17, 2877 (1979), EP 37
No. 0,693, No. 233,567, No. 297,443
No. 297,442, U.S. Pat. No. 4,933,37.
7, 3,902,114, 410,201,
339,049, 4,760,013, 4,
Nos. 7,34,444 and 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581.
J. V. Crivello et al, Macrom
orecules, 10 (6), 1307 (197
7) or J. V. Crivello et al.
Polymer Sci. , Polymer Che
m. Ed. , 17, 1047 (1979); S. Wen etal, Teh, Pr
oc. Conf. Rad. Curing ASIA, p
478 Tokyo, Oct (1988).

【0096】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
The counter ions of the onium salt include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0097】オニウム塩の添加剤の添加量は、好ましく
は1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特
に好ましくは10〜30重量%である。本発明において
添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好まし
い。
The amount of the onium salt additive is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight. In the present invention, the additive and the binder are preferably contained in the same layer.

【0098】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,
128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,
6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノー
ル、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,
4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,
5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942
号、特開平2−96755号公報などに記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類など
があり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エ
チル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シク
ロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be added. As the cyclic acid anhydride, US Pat. No. 4,115,
No. 128, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,
6-endooxy-Δ 4 -tetrahydrophthalic anhydride,
Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone,
4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,
4 ', 3 ", 4"-tetrahydroxy-3,5,3',
5'-tetramethyltriphenylmethane and the like. Further, as the organic acids, JP-A-60-88942
Sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, and the like described in JP-A-2-96755 and JP-A-2-96755.
Examples thereof include phosphonic acids, phosphoric esters, and carboxylic acids. Specific examples include p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, and phenyl phosphate. Diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-Undecanoic acid, ascorbic acid and the like.

【0099】上記の環状酸無水物、フェノール類及び有
機酸類の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜20
重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is 0.05 to 20.
% By weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.1 to 10% by weight.

【0100】また、本発明における画像形成材料には、
現像条件に対する処理の安定性を向上させるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アル
キルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシ
エチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げ
られる。
The image forming material of the present invention includes:
In order to improve the stability of processing under development conditions, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-251740 and 3-208514
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example,
Trade name “Amogen K”: manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like.

【0101】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜15重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the printing plate material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0102】本発明における画像形成材料中には、露光
による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出
する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の
組合せを代表として挙げることができる。具体的には、
特開昭50−36209号、同53−8128号の各公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特
開昭53−36223号、同54−74728号、同6
0−3626号、同61−143748号、同61−1
51644号及び同63−58440号の各公報に記載
されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の
組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化
合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化
合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き
出し画像を与える。
In the image forming material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure,
Dyes and pigments as image colorants can be added.
Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. In particular,
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53-36223, 54-74728, 6
No. 0-3626, No. 61-143748, No. 61-1
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A-51644 and JP-A-63-58440 can be exemplified. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0103】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料が特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.1 to the total solid content of the printing plate material.
It can be added to the printing plate material in a proportion of from 01 to 10% by weight, preferably from 0.1 to 3% by weight.

【0104】また、エポキシ化合物、ビニルエーテル化
合物、特願平7−18120号公報記載のヒドロキシメ
チル基又はアルコキシメチル基を有するフェノール化合
物、及び、特願平9−328937号公報記載のアルカ
リ溶解抑制作用を増強する架橋性化合物を添加すると、
露光現像後のバーニング処理により耐刷性が向上する点
で好ましい。
Also, an epoxy compound, a vinyl ether compound, a phenol compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group described in Japanese Patent Application No. 7-18120, and an alkali dissolution inhibiting effect described in Japanese Patent Application No. 9-328937. Adding a cross-linking compound that enhances
Burning after exposure and development is preferred in that printing durability is improved.

【0105】更に本発明の画像形成材料中には、必要に
応じ、塗膜に柔軟性等を付与するために可塑剤を添加す
ることもできる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリ
マー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the image forming material of the present invention, if necessary, for imparting flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate,
An oligomer or polymer of trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid, or the like is used.

【0106】また、本発明の画像形成材料中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全
印刷版材料の0.01〜1重量%さらに好ましくは0.
05〜0.5重量%である。
Further, in the image forming material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-1
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-70950 can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total printing plate material, more preferably 0.1 to 1% by weight.
0.5 to 0.5% by weight.

【0107】[平版印刷版]本発明の画像形成材料は、
平版印刷版の態様にて使用されるのに適しているが、こ
れに限定されるものではない。以下に平版印刷版の一般
的製造方法を説明する。平版印刷版は、通常、上記各成
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することに
より製造する。ここで使用する溶媒としては、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プ
ロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳
酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。これらの
溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記
成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1
〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持
体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感
光性印刷版として用いられる場合は、一般的に0.5〜
5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法としては、種
々の方法を用いることができるが、例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディ
ップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗
布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれ
て、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低
下する。この塗布層は、平版印刷版において感光層とな
る。
[Lithographic printing plate] The image forming material of the present invention comprises:
It is suitable for use in the form of a lithographic printing plate, but is not limited thereto. Hereinafter, a general method for producing a lithographic printing plate will be described. A lithographic printing plate is usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene and the like can be mentioned. It is not limited. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1
5050% by weight. The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but when it is used as a photosensitive printing plate, it is generally 0.5 to 0.5%.
5.0 g / m 2 is preferred. Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate. This coating layer becomes a photosensitive layer in a lithographic printing plate.

【0108】支持体としては、寸度的に安定な板状物で
あり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしく
は蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が含
まれる。本発明の支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量
%以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
The support is a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, Copper film), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) Examples include paper or plastic film on which metal is laminated or deposited. As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0109】アルミニウム板は粗面化して用いるが、粗
面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去す
るための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水
溶液などによる脱脂処理を行うこともできる。アルミニ
ウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われ
るが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に
表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解
させる方法により行われる。機械的方法としては、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法
などの公知の方法を用いることができる。また、電気化
学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又
は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63
902号公報に開示されているように両者を組み合わせ
た方法も利用することができる。
The aluminum plate is used after being roughened. Before the surface is roughened, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing the rolling oil on the surface may be performed. it can. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-63
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 902, a method combining the two can also be used.

【0110】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、しゅう酸、クロム酸あるいはそれらの混酸
が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類に
よって適宜決められる。
The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, to enhance the water retention and abrasion resistance of the surface. You. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. . The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0111】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。
Since the anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, they cannot be specified unconditionally. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur.

【0112】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、第3,280,7
34号及び第3,902,734号に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム
水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ
酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理
される。他に特公昭36−22063号公報に開示され
ているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,2
76,868号、同第4,153,461号、同第4,
689,272号に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法などが用いられる。
After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as required. The hydrophilic treatment used in the present invention is described in U.S. Pat.
No. 66, No. 3,181,461, No. 3,280,7
No. 34 and 3,902,734, there is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat.
No. 76,868, No. 4,153,461, No. 4,
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A-689,272 is used.

【0113】支持体と感光層との間には、必要に応じ
て、下塗層を設けることもできる。下塗層成分としては
種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチ
ルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミ
ノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸
類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチ
ルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン
酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸な
どの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリ
ン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリ
ン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン
酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びト
リエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して
用いてもよい。
An undercoat layer may be provided between the support and the photosensitive layer, if necessary. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent , Naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, organic phosphonic acids such as glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Has hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

【0114】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。水又はメタノール、エタノール、メチル
エチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤
に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板
上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、
エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしく
はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶
液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着さ
せ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を
設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物
の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で
塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.0
1〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であ
り、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃
であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒
〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に
調整することもできる。また、画像形成材料の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. Water or methanol, ethanol, a method of applying a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof on an aluminum plate, drying and providing,
Ethanol, an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is dissolved in the above organic compound, a solution of the above organic compound is immersed in the aluminum plate, and the above compound is adsorbed. It is a method of providing. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.0
1 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50 ° C.
And the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to pH 1 to 12 with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide or the like, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye may be added for improving the tone reproducibility of the image forming material.

【0115】有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/
2 が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2
ある。上記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分
な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2 より
大きくても同様である。
The coating amount of the organic undercoat layer is 2 to 200 mg /
m 2 is appropriate, and preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0116】製造された平版印刷版は、通常、像露光、
現像処理を施され、画像を形成する。像露光に用いられ
る活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カー
ボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X
線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、i
線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レー
ザービーム)も使用される。レーザービームとしてはヘ
リウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエ
キシマレーザー、固体レーザー、半導体レーザー等が挙
げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域に発
光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レー
ザが特に好ましい。
The lithographic printing plate manufactured is usually subjected to image exposure,
A development process is performed to form an image. Examples of the light source of the actinic ray used for the image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, and the like. As radiation, electron beam, X
There are lines, ion beams, far infrared rays, and the like. G line, i
Lines, Deep-UV light, high density energy beams (laser beams) are also used. Examples of the laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium / cadmium laser, a KrF excimer laser, a solid laser, and a semiconductor laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0117】用いる現像液及び補充液としては従来より
知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケ
イ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げ
られる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジ
イソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジ
アミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
As a developer and a replenisher to be used, conventionally known aqueous alkali solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium potassium, tribasic sodium phosphate,
Same potassium, same ammonium, dibasic sodium phosphate,
Same potassium, same ammonium, sodium carbonate, same potassium, same ammonium, sodium hydrogen carbonate, same potassium, same ammonium, sodium borate, same potassium,
Same ammonium, sodium hydroxide, same ammonium,
Inorganic alkali salts such as the same potassium and the same lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine,
Organic alkaline agents such as triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0118】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、
特公昭57−7427号公報に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxides are components of the silicate
This is because developability can be adjusted by the ratio and concentration of M 2 O. For example, JP-A-54-62004 discloses
The alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0119】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には、現像性の促
進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ
性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤
が挙げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。
In the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher) is used.
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as needed for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and further include an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added.

【0120】上記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた平版印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の画像形成材料を印刷版として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。
The lithographic printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the image forming material of the present invention is used as a printing plate, these processings can be used in various combinations.

【0121】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。本発明における平版印刷版も、この自動現
像機にて処理を施すことができるものである。この自動
現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を
搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、
露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み
上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処
理するものである。また、最近は処理液が満たされた処
理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬
搬送させて処理する方法も知られている。このような自
動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応
じて補充液を補充しながら処理することができる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making and printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. The lithographic printing plate of the present invention can also be processed by this automatic developing machine. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device,
While the exposed printing plate is transported horizontally, each processing liquid pumped up by a pump is sprayed from a spray nozzle to perform development processing. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0122】画像露光、現像、水洗及び/又はリンス及
び/又はガム引きしを施された後、平版印刷版上に不必
要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡な
ど)がある場合は、その不必要な画像部を消去する処置
をとることもできる。消去方法としては、例えば特公平
2−13293号公報に記載されているような、消去液
を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置した
後に水洗する方法が好ましいが、特開平59−1748
42号公報に記載されているようなオプティカルファイ
バーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち
現像する方法も利用できる。
After image exposure, development, washing with water and / or rinsing and / or gumming, if there is an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film) on the lithographic printing plate, A measure for erasing the unnecessary image portion can be taken. As the erasing method, for example, a method described in Japanese Patent Publication No. 213293/1990, in which an erasing liquid is applied to an unnecessary image portion, left as it is for a predetermined time, and then washed with water, is preferable. 1748
No. 42, a method of irradiating an unnecessary image area with an actinic ray guided by an optical fiber and developing the same is also applicable.

【0123】以上の処理を施された平版印刷版は、所望
により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供する
ことができる。高耐刷力を向上させる目的で、バーニン
グ処理を施してもよい。平版印刷版をバーニング処理す
る場合には、該バーニング処理前に、特公昭61−25
18号、同55−28062号、特開昭62−3185
9号、同61−159655号の各公報に記載されてい
るような整面液で処理することが好ましい。その方法と
しては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿に
て、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバッ
ト中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーター
による塗布などが適用される。また、塗布した後にスキ
ージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均
一にするとより好ましい。整面液の塗布量は一般に0.
03〜0.8g/m2 (乾燥重量)が適当である。
The lithographic printing plate that has been subjected to the above-mentioned treatment can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum as required. Burning treatment may be performed for the purpose of improving high printing durability. When the lithographic printing plate is to be subjected to a burning process, the lithographic printing plate must be burned before the burning process.
No. 18, 55-28062 and JP-A-62-2185.
No. 9 and No. 61-159655 are preferably treated with surface-regulating liquids as described in JP-A Nos. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable that the application amount is made uniform using a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.1.
An appropriate amount is from 03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).

【0124】整面液が塗布された平版印刷版を乾燥した
後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイル
ム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:
「BP−1300」)などで高温に加熱してもよい。こ
の場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分
の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20
分の範囲が好ましい。
After drying the lithographic printing plate coated with the surface conditioning solution, a burning processor (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.):
"BP-1300") or the like. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but are in the range of 180 to 300 ° C. and 1 to 20.
A range of minutes is preferred.

【0125】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することもできる。
The burning-processed lithographic printing plate can be subjected to conventional treatment such as washing with water and gumming as needed. When a liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0126】この様な処理によって得られた平版印刷版
はオフセット印刷機等に組込まれ、用紙等の印刷に用い
られる。
The lithographic printing plate obtained by such a process is incorporated in an offset printing machine or the like and used for printing on paper or the like.

【0127】[0127]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples.

【0128】[実施例1] <基板の作製>厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2 であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/
2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を90℃で1分乾
燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/m2 であっ
た。
Example 1 <Preparation of Substrate> A 0.3 mm thick aluminum plate (material
1050) was degreased by washing with trichloroethylene.
After, nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension
The surface was grained using a liquid and washed well with water. This
Plate for 9 seconds in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C
Etching by immersion, washing with water, and then 20% nitric acid
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / m TwoMet. Next, this plate
% Sulfuric acid as electrolyte and current density 15A / dmTwo3g /
mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Furthermore, the following undercoat liquid is applied, and the coating film is dried at 90 ° C. for 1 minute.
Dried. The coating amount of the dried coating film is 10 mg / mTwoSo
Was.

【0129】 <下塗り液の組成> β−アラニン 0.5g メタノール 95 g 水 5 g<Composition of Undercoat Liquid> 0.5 g of β-alanine 95 g of methanol 5 g of water

【0130】得られた基板に以下に示す感光液1を塗布
量が1.8g/m2 になるよう塗布し、実施例1の平版
印刷版を得た。
On the obtained substrate, the following photosensitive solution 1 was applied so as to have a coating amount of 1.8 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate of Example 1.

【0131】 <感光液1の組成> ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平 均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量%含有)1.0 g ※水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダー ・オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤(N−1) 0.2 g ・酸化剤(Ox−1) 0.6 g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3 g ・メチルエチルケトン 8 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7 g<Composition of Photosensitive Solution 1> m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3500, unreacted cresol 0.5% by weight) 1.0 g * water-insoluble And a polymer binder soluble in an aqueous alkali solution ・ Infrared absorber (N-1) having an onium salt structure 0.2 g ・ Oxidizing agent (Ox-1) 0.6 g ・ Counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1 -Dye converted to naphthalenesulfonic acid anion 0.02 g-Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g-γ-butyrolactone 3 g-Methyl ethyl ketone 8 g-1 -Methoxy-2-propanol 7 g

【0132】[0132]

【化39】 Embedded image

【0133】[実施例2]酸化剤として下記Ox−2を
用いた以外は、実施例1と同様に実施例2の平版印刷版
を得た。
Example 2 A lithographic printing plate of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that Ox-2 shown below was used as an oxidizing agent.

【0134】[0134]

【化40】 Embedded image

【0135】[実施例3]酸化剤として下記Ox−3を
用いた以外は、実施例1と同様に実施例3の平版印刷版
を得た。
Example 3 A lithographic printing plate of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that Ox-3 shown below was used as an oxidizing agent.

【0136】[0136]

【化41】 Embedded image

【0137】[実施例4]酸化剤として下記Ox−4を
用いた以外は、実施例1と同様に実施例4の平版印刷版
を得た。
Example 4 A lithographic printing plate of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that Ox-4 shown below was used as an oxidizing agent.

【0138】[0138]

【化42】 Embedded image

【0139】[実施例5]酸化剤として下記Ox−5を
用いた以外は、実施例1と同様に実施例5の平版印刷版
を得た。
Example 5 A lithographic printing plate of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 1, except that Ox-5 shown below was used as an oxidizing agent.

【0140】[0140]

【化43】 Embedded image

【0141】[実施例6]オニウム塩構造を有する赤外
線吸収剤として下記N−2を、酸化剤として前記Ox−
3を用いた以外は、実施例1と同様に実施例6の平版印
刷版を得た。
Example 6 The following N-2 was used as an infrared absorbing agent having an onium salt structure, and the above-mentioned Ox- was used as an oxidizing agent.
Except for using Sample No. 3, a lithographic printing plate of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0142】[0142]

【化44】 Embedded image

【0143】[実施例7]オニウム塩構造を有する赤外
線吸収剤として下記N−3を、酸化剤として前記Ox−
3を用いた以外は、実施例1と同様に実施例7の平版印
刷版を得た。
Example 7 The following N-3 was used as an infrared absorbing agent having an onium salt structure, and the above-mentioned Ox- was used as an oxidizing agent.
Except for using Sample No. 3, a lithographic printing plate of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0144】[0144]

【化45】 Embedded image

【0145】[実施例8]オニウム塩構造を有する赤外
線吸収剤として下記N−4を、酸化剤として前記Ox−
4を用いた以外は、実施例1と同様に実施例8の平版印
刷版を得た。
Example 8 The following N-4 was used as an infrared absorber having an onium salt structure, and the above-mentioned Ox- was used as an oxidant.
Except for using Sample No. 4, a lithographic printing plate of Example 8 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0146】[0146]

【化46】 Embedded image

【0147】[実施例9]オニウム塩構造を有する赤外
線吸収剤として下記N−5を、酸化剤として前記Ox−
4を用いた以外は、実施例1と同様に実施例9の平版印
刷版を得た。
Example 9 The following N-5 was used as an infrared absorber having an onium salt structure, and the above-mentioned Ox- was used as an oxidant.
Except for using Sample No. 4, a lithographic printing plate of Example 9 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0148】[0148]

【化47】 Embedded image

【0149】[実施例10]オニウム塩構造を有する赤
外線吸収剤として下記N−6を、酸化剤として前記Ox
−4を用いた以外は、実施例1同様に実施例10の平版
印刷版を得た。
Example 10 The following N-6 was used as an infrared absorbing agent having an onium salt structure, and the above-mentioned Ox was used as an oxidizing agent.
Except that -4 was used, a lithographic printing plate of Example 10 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0150】[0150]

【化48】 Embedded image

【0151】[実施例11] <水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダ
ーとしての特定の共重合体の合成> 合成例(共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。
Example 11 <Synthesis of Specific Copolymer as Polymer Binder Insoluble in Water and Soluble in Alkaline Aqueous Solution> Synthesis Example (Copolymer 1) 500 ml provided with a stirrer, a cooling pipe and a dropping funnel A three-necked flask was charged with 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile, and the mixture was stirred while being cooled in an ice water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After the addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0152】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0153】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40
gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リッ
トルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪
拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥すること
により15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。
Next, 5.04 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
210 mol), and 2.05 g (0.05 g) of ethyl methacrylate.
180 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.02
1 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide, and 0.15 g of "V-65" were dropped by a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol 40
g was added to the mixture, the mixture was cooled, and the obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a white solid. I got The weight average molecular weight of this copolymer 1 (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.
It was 0.

【0154】実施例1で得られた基板と同様のものに、
以下に示す感光液2を塗布量が1.8g/m2 になるよ
う塗布し、実施例11の平版印刷版を得た。 <感光液2の組成> ・上記共重合体1 1.0 g ・還元電位−1.2V(SCE)以上の オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤(Y−2) 0.1 g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 0.02 g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05 g ・γ−ブチロラクトン 8 g ・メチルエチルケトン 8 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 4 g
The same substrate as that obtained in Example 1
Photosensitive solution 2 shown below was applied so that the coating amount was 1.8 g / m 2 , to obtain a lithographic printing plate of Example 11. <Composition of Photosensitive Liquid 2> ・ 11.0 g of the above copolymer ・ 0.1 g of infrared absorber (Y-2) having an onium salt structure having a reduction potential of −1.2 V (SCE) or more ・ p-toluene Sulfonic acid 0.002 g ・ Dye with the counter anion of Victoria Pure Blue BOH converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion 0.02 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Inki Chemical Industry Co., Ltd.) ) 0.05 g ・ γ-butyrolactone 8 g ・ Methyl ethyl ketone 8 g ・ 1-methoxy-2-propanol 4 g

【0155】[実施例12]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤とし
て、前記Y−4を用いた以外は、実施例1と同様に実施
例12の平版印刷版を得た。
Example 12 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Example 12 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the above-mentioned Y-4 was used as the infrared absorber having the above onium salt structure.

【0156】[実施例13]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤とし
て、前記Y−8を用いた以外は、実施例1と同様に実施
例13の平版印刷版を得た。
Example 13 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Example 13 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the above-mentioned Y-8 was used as the infrared absorber having the above onium salt structure.

【0157】[実施例14]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤とし
て、前記Y−11を用いた以外は、実施例1と同様に実
施例14の平版印刷版を得た。
Example 14 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Example 14 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the above-mentioned Y-11 was used as the infrared absorber having the above onium salt structure.

【0158】[実施例15]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤とし
て、前記Y−13を用いた以外は、実施例1と同様に実
施例15の平版印刷版を得た。
Example 15 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Example 15 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the above-mentioned Y-13 was used as the infrared absorber having the above onium salt structure.

【0159】[比較例1]酸化剤を添加しない以外は、
実施例1と同様に比較例1平版印刷版を得た。
[Comparative Example 1] Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1.

【0160】[比較例2]酸化剤を添加しない以外は、
実施例2と同様に比較例1平版印刷版を得た。
[Comparative Example 2] Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 2.

【0161】[比較例3]酸化剤を添加しない以外は、
実施例3と同様に比較例1平版印刷版を得た。
[Comparative Example 3] Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 3.

【0162】[比較例4]酸化剤を添加しない以外は、
実施例4と同様に比較例1平版印刷版を得た。
Comparative Example 4 Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 4.

【0163】[比較例5]酸化剤を添加しない以外は、
実施例5と同様に比較例1平版印刷版を得た。
[Comparative Example 5] Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 5.

【0164】[比較例6]酸化剤を添加しない以外は、
実施例6と同様に比較例1平版印刷版を得た。
[Comparative Example 6] Except that no oxidizing agent was added,
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 6.

【0165】[比較例7]酸化剤を添加せず、赤外線吸
収剤として下記N−7を用いた以外は、実施例1と同様
に比較例1平版印刷版を得た。
Comparative Example 7 A lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that no oxidizing agent was added and N-7 shown below was used as an infrared absorbing agent.

【0166】[0166]

【化49】 Embedded image

【0167】[比較例8]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−1に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例8の平版印刷版を得た。
Comparative Example 8 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 8 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-1 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0168】[比較例9]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−2に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例9の平版印刷版を得た。
[Comparative Example 9] Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 9 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-2 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0169】[比較例10]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−3に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例10の平版印刷版を得た。
Comparative Example 10 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 10 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-3 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0170】[比較例11]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−4に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例11の平版印刷版を得た。
[Comparative Example 11] Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 11 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-4 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0171】[比較例12]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−5に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例12の平版印刷版を得た。
[Comparative Example 12] Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 12 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-5 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0172】[比較例13]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−6に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例13の平版印刷版を得た。
Comparative Example 13 Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 13 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-6 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0173】[比較例14]還元電位−1.2V(SC
E)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を酸化
剤を、前記赤外線吸収剤N−7に代えた以外は、実施例
11と同様に比較例14の平版印刷版を得た。
[Comparative Example 14] Reduction potential -1.2 V (SC
E) A lithographic printing plate of Comparative Example 14 was obtained in the same manner as in Example 11, except that the oxidizing agent was replaced with the infrared absorbing agent N-7 in the infrared absorbing agent having the above onium salt structure.

【0174】[平版印刷版の性能評価]このようにして
作製した実施例1〜15、及び比較例1〜14の平版印
刷版について、下記の基準により性能評価を行った。評
価結果を表1及び2に示す。
[Evaluation of Performance of Lithographic Printing Plate] The lithographic printing plates of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 14 produced as described above were evaluated for performance according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0175】<感度及び現像ラチチュード(画像形成
性)の評価>得られた平版印刷版を、波長840nmの
半導体レーザ、又は、波長1064nmのYAGレーザ
を用いて露光した。どちらのレーザを用いるかについて
は、含まれる赤外線吸収染料の吸収波長に応じて適宜選
択した。露光後、富士写真フイルム(株)製現像液DP
−4、リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像
機(富士写真フイルム(株)製:「PSプロセッサー9
00VR」)を用いて現像した。現像液DP−4は1:
6で希釈したもの及び1:12で希釈したものの二水準
を使用し、それぞれの現像液にて得られた非画像部の線
幅を測定し、その線幅に相当するレーザーの照射エネル
ギーを求めて、これを感度(mJ/cm 2 )とした。ま
た、標準である1:6で希釈した現像液と、1:12で
希釈した現像液との感度の差を測定し、その差が小さい
ほど現像ラチチュードが良好であり、20mJ/cm2
以下であれば、実用可能なレベルである。
<Sensitivity and development latitude (image formation)
Evaluation)> The obtained lithographic printing plate was treated with a wavelength of 840 nm.
Semiconductor laser or YAG laser with a wavelength of 1064 nm
Exposure was performed using Which laser to use
Is appropriately selected according to the absorption wavelength of the infrared absorbing dye contained.
I chose. After exposure, developer DP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
-4, automatic development with rinsing liquid FR-3 (1: 7)
Machine (Fuji Photo Film Co., Ltd .: "PS Processor 9
00VR "). The developer DP-4 is 1:
Two levels, one diluted at 6 and one diluted at 1:12
And the line of the non-image area obtained with each developer
Measure the width and irradiate the laser energy corresponding to the line width.
Energy (mJ / cm) Two). Ma
And a 1: 6 standard developer solution and a 1:12
Measure the difference in sensitivity between the diluted developer and the difference
Development latitude is better, and 20 mJ / cmTwo
Below is a practical level.

【0176】[0176]

【表1】 [Table 1]

【0177】[0177]

【表2】 [Table 2]

【0178】<保存安定性の評価>得られた平版印刷版
を、60℃で3日間保存し、その後、前記感度及び現像
ラチチュード(画像形成性)の評価と同様にレーザ露光
及び現像を行い、感度を測定して保存前と保存後と差を
比較した。全ての平版印刷版に関し、感度の変動が、2
0mJ/cm2 以下であり、実施例1〜15の平版印刷
版の、還元電位−1.2V(標準カロメル電極基準)以
上の酸化剤及びオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤を
添加したことによる保存安定性の低下は見られなかっ
た。
<Evaluation of Storage Stability> The obtained lithographic printing plate was stored at 60 ° C. for 3 days, and then subjected to laser exposure and development in the same manner as in the evaluation of the sensitivity and the development latitude (image forming property). The sensitivity was measured and the difference between before and after storage was compared. For all lithographic printing plates, the sensitivity variation is 2
0 mJ / cm 2 or less, and the lithographic printing plates of Examples 1 to 15 preserved by adding an oxidizing agent having a reduction potential of −1.2 V or more (based on a standard calomel electrode) and an infrared absorber having an onium salt structure No decrease in stability was seen.

【0179】表1及び2より、実施例1〜15の平版印
刷版は、比較例1〜15の平版印刷版と比較して、赤外
線レーザに対する感度が高く、現像ラチチュードが良好
であり、画像形成性に優れていることがわかる。また、
保存の前後における感度の変動が少なく、保存安定性に
ついても優れていることがわかる。
As can be seen from Tables 1 and 2, the lithographic printing plates of Examples 1 to 15 have higher sensitivity to infrared laser, a better development latitude, and better image formation than the lithographic printing plates of Comparative Examples 1 to 15. It turns out that it is excellent. Also,
It can be seen that there is little change in sensitivity before and after storage, and the storage stability is excellent.

【0180】[0180]

【発明の効果】従って、本発明は、コンピューター等の
デジタルデータに基づき、赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザ等により直接書き込みが可能であり、
画像形成性(感度、現像ラチチュード)及び保存安定性
に優れた平版印刷版を得るために適した画像形成材料を
提供できる。
According to the present invention, therefore, it is possible to directly write data on the basis of digital data from a computer or the like by using a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays.
An image forming material suitable for obtaining a lithographic printing plate excellent in image formability (sensitivity, development latitude) and storage stability can be provided.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)、(B)及び(C)を含有す
ることを特徴とする画像形成材料。 (A)オニウム塩構造を有する赤外線吸収剤、(B)水
不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バインダー、
(C)還元電位−1.2V(標準カロメル電極基準)以
上の酸化剤。
1. An image-forming material comprising the following (A), (B) and (C). (A) an infrared absorber having an onium salt structure, (B) a polymer binder which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkaline solution,
(C) An oxidizing agent having a reduction potential of -1.2 V (based on a standard calomel electrode) or more.
【請求項2】 下記(B)及び(D)を含有することを
特徴とする画像形成材料。 (B)水不溶性かつアルカリ水溶液に可溶な高分子バイ
ンダー、(D)還元電位−1.2V(標準カロメル電極
基準)以上のオニウム塩構造を有する赤外線吸収剤。
2. An image forming material comprising the following (B) and (D). (B) a polymer binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution; and (D) an infrared absorber having an onium salt structure of a reduction potential of −1.2 V or more (based on a standard calomel electrode).
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