JPH11288994A - Transfer error predicting mechanism for substrate processing device - Google Patents

Transfer error predicting mechanism for substrate processing device

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JPH11288994A
JPH11288994A JP10854398A JP10854398A JPH11288994A JP H11288994 A JPH11288994 A JP H11288994A JP 10854398 A JP10854398 A JP 10854398A JP 10854398 A JP10854398 A JP 10854398A JP H11288994 A JPH11288994 A JP H11288994A
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JP
Japan
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cassette
substrate
load lock
chamber
output unit
Prior art date
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Pending
Application number
JP10854398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Sahase
肇 佐長谷
Toshiaki Oguchi
俊明 小口
Nobuyuki Takahashi
信行 高橋
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Canon Anelva Corp
Original Assignee
Anelva Corp
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Publication date
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Publication of JPH11288994A publication Critical patent/JPH11288994A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance a substrate processing equipment in productivity by a method wherein a transfer system is lessened in frequency of maintenance. SOLUTION: A cassette raising and lowering mechanism 62 is provided to serve as a transfer system, which transfers a substrate into a processing chamber and to enable a cassette 61 inside a load lock chamber 6 to ascend or descend, wherein the cassette up-down mechanism 62 is composed of a stay 621 fixed to the lower edge of the cassette 61 in the load lock chamber 6, a holding arm 622 which holds the lower end of the stay 621, a driven body 624 which fixes the holding arm 622, a pole screw 624 engaged with the driven body 624, a servo motor 625 which rotates the pole screw 624, and a servo motor controller 626 which controls the servo motor 625, and furthermore the cassette raising and lowering mechanism 62 is equipped with an output unit 81, which outputs monitoring the servo signals of the servo motor 625 and a display means 82 which indicates the probability of occurrence of a transfer error, ion accordance with signals transmitted from the output unit 81.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願の発明は、大規模集積回
路(LSI)やフラットパネルディスプレイ(FPD)
等の製造に使用される基板処理装置に関し、特に、基板
の搬送エラーを事前に知らせる搬送エラー予知機構に関
するものである。
The present invention relates to a large scale integrated circuit (LSI) and a flat panel display (FPD).
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a substrate processing apparatus used in the manufacture of, for example, the present invention, and particularly to a transport error predicting mechanism for notifying a transport error of a substrate in advance.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIやFPD等のハイテク製品は、基
板に対する多くの表面処理を経て製造される。このよう
な表面処理を行う基板処理装置は、殆ど100%自動化
されている。基板の搬送の点でいえば、搬送ロボット等
を備えた搬送系によって基板は処理チャンバーに自動搬
送されて処理される。
2. Description of the Related Art High-tech products such as LSIs and FPDs are manufactured through many surface treatments for substrates. A substrate processing apparatus that performs such a surface treatment is almost 100% automated. In terms of substrate transfer, the substrate is automatically transferred to a processing chamber and processed by a transfer system including a transfer robot or the like.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】製品の高機能化や生産
性の更なる向上等の要請を背景として、上記基板処理装
置の搬送系に対する信頼性の要求が益々厳しくなってき
ている。例えば、LSIの製造に使用される各種基板処
理装置では、MTBMA(Meatn Time Between Mainten
ance Action,平均保全アクション間隔)は従来は100
時間であったが、最近では300時間が要求されてい
る。
With the demand for higher functionality of products and further improvement of productivity, the demand for the reliability of the transport system of the substrate processing apparatus is becoming more and more severe. For example, in various substrate processing apparatuses used for manufacturing LSI, MTBMA (Meatn Time Between Maintenance) is used.
ance Action, average maintenance action interval) is 100
Time, but recently 300 hours are required.

【0004】特に、スパッタリング装置や化学蒸着装
置、エッチング装置等のように、処理チャンバー内を真
空に排気して処理する装置では、メンテナンスの際には
処理チャンバー内を大気に開放する必要がある。そし
て、メンテナンス後、再度処理チャンバー内を所定の圧
力に排気して、残存パーティクル等の清浄度の確認や処
理の再現性の確認を行った後、処理を再開するようにし
ている。従って、一回のメンテナンスに要する装置の運
転中断時間は他の装置に比べて長くかかり易く、メンテ
ナンス頻度の低減が強く要請されている。
[0004] In particular, in an apparatus such as a sputtering apparatus, a chemical vapor deposition apparatus, an etching apparatus, or the like, which evacuates a processing chamber to perform processing, it is necessary to open the processing chamber to the atmosphere during maintenance. After the maintenance, the inside of the processing chamber is evacuated again to a predetermined pressure, and after checking the cleanliness of the remaining particles and the like and the reproducibility of the processing, the processing is restarted. Therefore, the operation interruption time of the device required for one maintenance is likely to be longer than that of other devices, and a reduction in maintenance frequency is strongly demanded.

【0005】ここで、上記搬送系は、処理チャンバー内
に基板を搬送したり処理チャンバーから基板を搬出した
りするものであるため、搬送系に故障が生じて搬送エラ
ーとなると、処理チャンバーから基板を手作業で取り出
す等のために処理チャンバーを大気に開放する必要が多
く生ずる。従って、MTBMAを長くするには、搬送系
の故障に起因したメンテナンスの頻度を減らすことが肝
要である。搬送系の故障に起因したメンテナンスの頻度
を減らすには、搬送系の故障の発生を事前に知らせ、定
期的なメンテナンスの際に併せて手当しておくことが有
効である。
Here, since the transfer system transfers a substrate into or out of the processing chamber, if a failure occurs in the transfer system and a transfer error occurs, the substrate is transferred from the processing chamber. It is often necessary to open the processing chamber to the atmosphere, for example, to manually remove the processing chamber. Therefore, in order to lengthen the MTBMA, it is important to reduce the frequency of maintenance due to the failure of the transport system. In order to reduce the frequency of maintenance due to the failure of the transport system, it is effective to notify the occurrence of the failure of the transport system in advance and to allow for the periodic maintenance.

【0006】本願の発明は、かかる課題を解決するため
になされたものであり、搬送系のメンテナンスの頻度を
減少させることで生産性を向上させることを目的として
いる。
The present invention has been made to solve such a problem, and has as its object to improve the productivity by reducing the frequency of maintenance of a transport system.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項1記載の発明は、処理チャンバー内に
搬送系によって基板を搬送して処理する基板処理装置に
おける搬送エラーを予知する機構であって、搬送系に使
用されたサーボモータのサーボ信号をモニターして出力
する出力ユニットと、出力ユニットからの信号に従い搬
送エラーの発生の可能性を表示する表示手段とを備えて
いる。また、上記課題を解決するため、本願の請求項1
記載の発明は、上記請求項2の構成において、前記サー
ボモータは、交流サーボモータであり、前記出力ユニッ
トは、交流サーボ電流のピーク値をモニターして保持す
るピークホールドユニットである。また、上記課題を解
決するため、本願の請求項3記載の発明は、上記請求項
1又は2の構成において、前記表示手段は、定期的なメ
ンテナンス時に点検すべきことを知らせる注意レベル
と、早急に点検して修理すべきことを知らせる警告レベ
ルとを表示することが可能となっている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a mechanism for predicting a transfer error in a substrate processing apparatus for transferring and processing a substrate by a transfer system into a processing chamber. An output unit for monitoring and outputting a servo signal of a servomotor used in the transport system; and a display unit for displaying a possibility of occurrence of a transport error according to a signal from the output unit. Further, in order to solve the above-mentioned problem, the present invention relates to claim 1 of the present application.
According to the invention described in the second aspect, the servomotor is an AC servomotor, and the output unit is a peak hold unit that monitors and holds a peak value of the AC servo current. According to a third aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, in the configuration of the first or second aspect, the display means includes a caution level indicating that inspection should be performed during regular maintenance, and an urgent level. And a warning level indicating that the inspection and repair are required.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。図1は、本願発明の実施形態に係る基板
処理装置の概略構成を示す平面図である。図1に示す基
板処理装置は、マルチチャンバータイプの装置であり、
中央に配置されたセパレーションチャンバー1と、セパ
レーションチャンバーの周囲に設けられた複数の処理チ
ャンバー2,3,4,5及び二つのロードロックチャン
バー6とからなるチャンバー配置になっている。各チャ
ンバー1,2,3,4,5,6は、専用又は兼用の排気
系によって排気される真空容器である。また、セパレー
ションチャンバー1に対する各チャンバー2,3,4,
5,6の接続個所にはゲートバルブ10がそれぞれ設け
られている。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus shown in FIG. 1 is a multi-chamber type apparatus,
The chamber arrangement includes a separation chamber 1 arranged at the center, a plurality of processing chambers 2, 3, 4, 5, and two load lock chambers 6 provided around the separation chamber. Each of the chambers 1, 2, 3, 4, 5, and 6 is a vacuum vessel evacuated by a dedicated or shared exhaust system. In addition, each chamber 2, 3, 4, with respect to the separation chamber 1
Gate valves 10 are provided at connection points 5 and 6, respectively.

【0009】セパレーションチャンバー1内には、搬送
ロボット11が設けられている。搬送ロボット11は、
一方のロードロックチャンバー6から基板9を一枚ずつ
取り出し、各処理チャンバー2,3,4,5に送って順
次処理を行うようになっている。そして、最後の処理を
終了した後、同一のロードロックチャンバー6に戻すよ
うになっている。搬送ロボット11としては、先端に基
板9を載置して保持するアームを備えた多関節ロボット
が好適に使用される。二つのアームを備えて同時に二枚
の基板9を独立して移動させることができるよう構成さ
れると、搬送の効率が向上するため好適である。また、
セパレーションチャンバー1内は、不図示の排気系によ
って排気され、所定の真空圧力に維持される。従って、
搬送ロボット11としては、真空圧力下で動作可能なも
のが採用される。
A transfer robot 11 is provided in the separation chamber 1. The transfer robot 11
The substrates 9 are taken out one by one from the load lock chamber 6 and sent to each of the processing chambers 2, 3, 4, and 5, where the processing is sequentially performed. Then, after the last processing is completed, the processing is returned to the same load lock chamber 6. As the transfer robot 11, an articulated robot provided with an arm for mounting and holding the substrate 9 at the tip is suitably used. It is preferable to provide two arms so that the two substrates 9 can be moved independently independently at the same time, because the efficiency of transportation is improved. Also,
The interior of the separation chamber 1 is evacuated by an exhaust system (not shown) and is maintained at a predetermined vacuum pressure. Therefore,
As the transfer robot 11, a transfer robot that can operate under vacuum pressure is used.

【0010】各処理チャンバー2,3,4,5,6の構
成は、処理の内容によって適宜決定される。例えば、本
装置がスパッタリング装置である場合について一例を示
すと、処理チャンバーのうちの一つは、基板9の表面の
酸化膜や保護膜をスパッタエッチングによって除去する
エッチングチャンバー2として構成される。また、他の
処理チャンバーのうちの一つは、成膜前に基板9を予備
加熱して脱ガス等を行うプリヒートチャンバー3として
構成される。そして、さらに別の処理チャンバーの一つ
は、スパッタリングによって所定の薄膜を作成するスパ
ッタチャンバー4として構成される。さらに別の処理チ
ャンバー5の一つは、成膜前に下地膜を作成する成膜チ
ャンバーとして構成されたり、成膜後に基板9を冷却す
る冷却チャンバーとして構成されたりする。
The configuration of each of the processing chambers 2, 3, 4, 5, and 6 is appropriately determined according to the content of the processing. For example, when an example is shown in which the present apparatus is a sputtering apparatus, one of the processing chambers is configured as an etching chamber 2 for removing an oxide film and a protective film on the surface of the substrate 9 by sputter etching. One of the other processing chambers is configured as a preheat chamber 3 for preheating the substrate 9 before film formation and performing degassing or the like. One of the other processing chambers is configured as a sputter chamber 4 for forming a predetermined thin film by sputtering. Still another processing chamber 5 is configured as a film forming chamber for forming a base film before film formation, or as a cooling chamber for cooling the substrate 9 after film formation.

【0011】また、大気側に置かれた外部カセット71
とロードロックチャンバー6との間で基板9の搬送を行
うため、オートローダ7が設けられている。オートロー
ダ7は、多関節アームからなるロボットであり、基板9
を一枚又は複数枚ずつ保持して搬送するよう構成されて
いる。
The external cassette 71 placed on the atmosphere side
An autoloader 7 is provided for transferring the substrate 9 between the substrate and the load lock chamber 6. The autoloader 7 is a robot including an articulated arm,
Are transported while holding one or more sheets at a time.

【0012】次に、図1に示す基板処理装置の全体の動
作について説明する。図1において、オートローダ7に
よって所定数の基板9が外部カセット71から一方のロ
ードロックチャンバー6に搬入され、ロードロックチャ
ンバー6内のカセット(以下、ロードロック内カセッ
ト)61に収容される。搬送ロボット11は、このロー
ドロックチャンバー6から一枚の基板9を取り出し、ま
ずエッチングチャンバー2に送る。エッチングチャンバ
ー2では、前述の通り表面の自然酸化膜や保護膜が除去
される。次に、搬送ロボット11はこの基板9をプリヒ
ートチャンバー3に送る。基板9は、プリヒートチャン
バー3で予備加熱され、脱ガス等が行われる。
Next, the overall operation of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1 will be described. In FIG. 1, a predetermined number of substrates 9 are carried into one load lock chamber 6 from an external cassette 71 by an autoloader 7 and stored in a cassette (hereinafter referred to as a load lock cassette) 61 in the load lock chamber 6. The transfer robot 11 takes out one substrate 9 from the load lock chamber 6 and sends it to the etching chamber 2 first. In the etching chamber 2, the natural oxide film and the protective film on the surface are removed as described above. Next, the transfer robot 11 sends the substrate 9 to the preheat chamber 3. The substrate 9 is preheated in the preheat chamber 3 and degassing is performed.

【0013】次に、搬送ロボット11は、この基板9を
スパッタチャンバー4に送る。スパッタチャンバー4で
は、ターゲットをスパッタして所望の薄膜が基板9の表
面に作成される。そして、その後、必要に応じて基板9
の冷却を行った後、基板9は搬送ロボット11によって
他方のロードロックチャンバー6に搬送され、ロードロ
ック内カセット61に収容される。このようにして、基
板9を一枚ずつ各処理チャンバー2,3,4に送って処
理を行った後、他方のロードロックチャンバー6内のロ
ードロック内カセット61に収容する。そして、ロード
ロック内カセット61に所定数の処理済みの基板9が収
容されたら、オートローダ7によって外部カセット71
に搬送する。
Next, the transfer robot 11 sends the substrate 9 to the sputtering chamber 4. In the sputtering chamber 4, a desired thin film is formed on the surface of the substrate 9 by sputtering the target. Then, if necessary, the substrate 9
After cooling, the substrate 9 is transferred to the other load lock chamber 6 by the transfer robot 11 and stored in the cassette 61 in the load lock. In this way, the substrates 9 are sent one by one to each of the processing chambers 2, 3, and 4 to perform the processing, and then are stored in the load lock cassette 61 in the other load lock chamber 6. When a predetermined number of processed substrates 9 are stored in the load lock cassette 61, the external cassette 71 is
Transport to

【0014】さて、本願発明が対象とする搬送系は、基
板9を搬送するシステムの総称である。本実施形態の装
置では、ロードロック内カセット61と外部カセット7
1との間で基板9の搬送を行うオートローダ7、各処理
チャンバー2,3,4,5及びロードロックチャンバー
6間で基板9の搬送を行うためにセパレーションチャン
バー1内に設けられた搬送ロボット11、及び、搬送ロ
ボット11による基板9の受け渡しのため、ロードロッ
ク内カセット71を昇降させるカセット昇降機構等が搬
送系の概念に含まれている。以下の説明では、一例とし
て、カセット昇降機構に関連して本実施形態の搬送エラ
ー予知機構の構成を説明する。図2は、図1に示すロー
ドロックチャンバー内に設けられたカセット昇降機構の
概略構成を示す正面図である。
The transport system to which the present invention is directed is a general term for a system for transporting the substrate 9. In the apparatus of the present embodiment, the cassette 61 in the load lock and the external cassette 7
1 and a transfer robot 11 provided in the separation chamber 1 for transferring the substrate 9 between the processing chambers 2, 3, 4, 5 and the load lock chamber 6. In addition, a cassette elevating mechanism for elevating and lowering the cassette 71 in the load lock for the transfer of the substrate 9 by the transport robot 11 is included in the concept of the transport system. In the following description, as an example, the configuration of the transport error prediction mechanism of the present embodiment will be described in relation to the cassette lifting mechanism. FIG. 2 is a front view showing a schematic configuration of a cassette elevating mechanism provided in the load lock chamber shown in FIG.

【0015】ロードロック内カセット61は、多数の基
板を水平な姿勢で所定間隔をおいて重ねた状態で収容可
能な構造となっている。ロードロックチャンバー6の内
部空間の高さは、ロードロック内カセット61の高さの
2倍強あり、ロードロック内カセット61は、ロードロ
ックチャンバー6の真ん中の高さより下方の位置(以
下、下限位置)と、真ん中の高さより上方の位置(以
下、上限位置)との間で昇降可能となっている。
The cassette 61 in the load lock has a structure in which a large number of substrates can be accommodated in a state where they are stacked in a horizontal position at predetermined intervals. The height of the internal space of the load lock chamber 6 is slightly more than twice the height of the cassette 61 in the load lock, and the cassette 61 in the load lock is located at a position lower than the middle height of the load lock chamber 6 (hereinafter, a lower limit position). ) And a position above the middle height (hereinafter, upper limit position).

【0016】上記二つの位置でロードロック内カセット
61を昇降させるカセット昇降機構62は、ロードロッ
ク内カセット61の下部に固定された支柱621と、支
柱621の下端を保持した保持アーム622と、保持ア
ーム622を固定した被駆動体623と、被駆動体62
3が噛み合っているボールネジ624と、ボールネジ6
24を回転させるサーボモータ625と、サーボモータ
625を制御するサーボモータコントローラ626から
主に構成されている。
The cassette elevating mechanism 62 for elevating and lowering the cassette 61 in the load lock at the above two positions includes a column 621 fixed to the lower portion of the cassette 61 in the load lock, a holding arm 622 holding the lower end of the column 621, The driven body 623 to which the arm 622 is fixed, and the driven body 62
3 is engaged with the ball screw 624 and the ball screw 6
It mainly comprises a servo motor 625 for rotating the motor 24 and a servo motor controller 626 for controlling the servo motor 625.

【0017】ロードロックチャンバー6の底板部分に
は、開口が形成されており、この開口に支柱が挿通され
ている。支柱621には、不図示のリニアガイドが設け
られており、直線性良く昇降するようになっている。
尚、ロードロックチャンバー6から下方の突出した支柱
の周囲を覆うようにしてベローズ627が設けられてい
る。これによって、底板部分の開口を通してのリーク
(真空漏れ)を防止している。サーボモータ625が動
作してボールネジ624が回転すると、ボールネジ24
に噛み合う被駆動体623に固定された保持アーム62
2が昇降する。この結果、支柱621も昇降してロード
ロック内カセット616も一体に昇降するようになって
いる。
An opening is formed in the bottom plate portion of the load lock chamber 6, and a column is inserted through the opening. The support 621 is provided with a linear guide (not shown) so that the support 621 moves up and down with good linearity.
Note that a bellows 627 is provided so as to cover the periphery of the support column projecting downward from the load lock chamber 6. This prevents leakage (vacuum leakage) through the opening in the bottom plate portion. When the servomotor 625 operates and the ball screw 624 rotates, the ball screw 24
Arm 62 fixed to driven body 623 that meshes with
2 goes up and down. As a result, the column 621 also moves up and down, and the cassette 616 in the load lock also moves up and down integrally.

【0018】図2において、右側に設けられたゲートバ
ルブ(以下、真空側ゲートバルブ101)を介して図1
に示すセパレーションチャンバー1が気密に接続されて
いる。基板9をロードロックチャンバー6から取り出す
場合について説明すると、まず、ロードロック内カセッ
ト61は下限位置に位置し、この状態で、真空側ゲート
バルブ101が開く。そして、搬送ロボット11のアー
ムの先端がロードロック内カセット61の最上段の基板
9の下方に進入する。そして、カセット昇降機構62が
動作してロードロック内カセット61が所定の短い距離
だけ下降する。この結果、最上段の基板9がアームの先
端に乗る。その後、搬送ロボット11は、この基板9を
各処理チャンバー2,3,4,5に送り、処理を行わせ
る。この間、カセット昇降機構62が動作し、ロードロ
ック内カセット61を所定距離上昇させる。この結果、
最上段より一段低い収容位置の基板9が搬送ロボット1
1のアームの進入ラインより僅かに高い位置に位置した
状態となる。そして、アームがこの段の基板9の下方に
進入した後、カセット昇降機構62が動作してさらにロ
ードロック内カセット61が所定の短い距離だけ下降す
る。この結果、この基板9がアームの上に乗り、搬送ロ
ボット11によって搬送される。
In FIG. 2, a gate valve provided on the right side (hereinafter, a vacuum side gate valve 101) is used.
The separation chamber 1 shown in FIG. The case where the substrate 9 is taken out of the load lock chamber 6 will be described. First, the load lock inner cassette 61 is located at the lower limit position, and in this state, the vacuum side gate valve 101 is opened. Then, the tip of the arm of the transfer robot 11 enters below the uppermost substrate 9 of the cassette 61 in the load lock. Then, the cassette elevating mechanism 62 operates to lower the cassette 61 in the load lock by a predetermined short distance. As a result, the uppermost substrate 9 rides on the tip of the arm. Thereafter, the transfer robot 11 sends the substrate 9 to each of the processing chambers 2, 3, 4, and 5, and performs the processing. During this time, the cassette lifting mechanism 62 operates to raise the cassette 61 in the load lock by a predetermined distance. As a result,
The substrate 9 at the accommodation position one level lower than the uppermost stage is the transfer robot 1
The arm is located at a position slightly higher than the entry line of the first arm. Then, after the arm has entered below the substrate 9 at this stage, the cassette elevating mechanism 62 operates to further lower the cassette 61 in the load lock by a predetermined short distance. As a result, the substrate 9 rides on the arm and is transferred by the transfer robot 11.

【0019】このようにして、上の段から順次基板9を
搬送ロボット11が取り出して、各処理チャンバー2,
3,4,5に送り、処理を行わせる。この間、取り出し
た基板9の処理が終了してロードロックチャンバー6に
戻ってきたら、その基板9をロードロック内カセット6
1内の元の位置に戻すようにする。具体的には、カセッ
ト昇降機構62が動作し、その基板9が当初に収容され
ていた位置が搬送ロボット11のアームの進入ラインよ
りも所定の短い距離だけ高い位置になるようにロードロ
ック内カセット61を上昇又は下降させる。そして、基
板9を保持したアームが進入ライン上を進んでロードロ
ック内カセット61に達した後、カセット昇降機構62
はロードロック内カセット61を所定の短い距離だけ上
昇させる。この結果、基板9は元の位置に収容される。
このようにしてすべての処理済みの基板9を元の位置に
収容されたら、図2の左側の大気側ゲートバルブ102
が開き、処理済みの基板9の搬出動作がオートローダ7
により行われる。
In this way, the transfer robot 11 takes out the substrate 9 sequentially from the upper stage, and
Send to 3, 4, 5 for processing. During this time, when the processing of the substrate 9 taken out is completed and the substrate 9 returns to the load lock chamber 6, the substrate 9 is loaded into the cassette 6 in the load lock.
Return to the original position in 1. Specifically, the cassette elevating mechanism 62 operates, and the cassette inside the load lock is moved so that the position where the substrate 9 is initially accommodated is higher than the entrance line of the arm of the transfer robot 11 by a predetermined short distance. 61 is raised or lowered. After the arm holding the substrate 9 advances on the entry line and reaches the cassette 61 in the load lock, the cassette lifting mechanism 62
Raises the cassette 61 in the load lock by a predetermined short distance. As a result, the substrate 9 is stored at the original position.
When all the processed substrates 9 are stored in their original positions in this manner, the atmosphere-side gate valve 102 on the left side of FIG.
Opens, and the unloading operation of the processed substrate 9 is performed by the autoloader 7.
It is performed by

【0020】さて、本実施形態では、ロードロック内カ
セット61の昇降動作の信頼性を高めるため、以下のよ
うな搬送エラー予知機構を設けている。この点を、図2
及び図3を使用して説明する。図3は、搬送エラー予知
機構の概略構成を示す図である。搬送エラー予知機構
は、サーボモータのサーボ信号をモニターして出力する
出力ユニット81と、出力ユニット81からの信号に従
い搬送エラーの発生の可能性を表示する表示手段82と
から主に構成されている。
In the present embodiment, the following transport error prediction mechanism is provided in order to increase the reliability of the operation of lifting and lowering the cassette 61 in the load lock. This point is illustrated in FIG.
This will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of the transport error prediction mechanism. The transport error predicting mechanism mainly includes an output unit 81 that monitors and outputs a servo signal of a servomotor, and a display unit 82 that displays a possibility of occurrence of a transport error according to a signal from the output unit 81. .

【0021】本実施形態では、サーボモータ625には
交流サーボモータが使用されている。図3には、交流サ
ーボモータの駆動制御の概略が示されている。商用交流
電源からの入力は、コンバータ部83で三つの直流分の
電流に変換される。この直流分の電流は、インバータ部
84によって120度ずつ位相の異なる交流(三相交
流)となり、モータ本体85に送られる。この結果、モ
ータ本体85のロータが回転する。
In this embodiment, an AC servomotor is used as the servomotor 625. FIG. 3 schematically shows the drive control of the AC servomotor. The input from the commercial AC power supply is converted by the converter unit 83 into three DC currents. The DC current is converted into an alternating current (three-phase alternating current) having a phase difference of 120 degrees by the inverter 84, and is sent to the motor body 85. As a result, the rotor of the motor main body 85 rotates.

【0022】モータ本体85には、磁極位置検出器86
と速度検出器87が設けられている。速度検出器87が
検出した速度信号は、外部から送られる速度指令と比較
されて速度制御信号(減速信号又は加速信号)が作られ
る。この速度制御信号に、磁極位置検出器87の検出信
号を併せて電流基準信号を作る。そして、変成器によっ
てモニターされる各励磁電流をこの電流基準信号と比較
して最終的な制御信号を送り、インバータ部84に送
る。インバータ部84は、パルス幅変調(PWM)制御
を行う。上記最終的な制御信号は、インバータ部84を
構成する各トランジスタのゲート信号であり、この制御
信号に従って各トランジスタがオンオフする。この結
果、各相の励磁電流が負帰還制御される。
The motor body 85 includes a magnetic pole position detector 86
And a speed detector 87 are provided. The speed signal detected by the speed detector 87 is compared with a speed command sent from the outside to generate a speed control signal (deceleration signal or acceleration signal). A current reference signal is created by combining the speed control signal with the detection signal of the magnetic pole position detector 87. Then, each exciting current monitored by the transformer is compared with this current reference signal, and a final control signal is sent to the inverter 84. The inverter section 84 performs pulse width modulation (PWM) control. The final control signal is a gate signal of each transistor included in the inverter unit 84, and each transistor is turned on and off according to the control signal. As a result, the exciting current of each phase is subjected to negative feedback control.

【0023】ここで、本実施形態では、インバータ部8
4から送られる各励磁電流をモニターするように、出力
ユニット81を設けている。具体的には、励磁電流をモ
ニタする変成器からの出力を分岐させて出力ユニット8
1に入力させている。出力ユニット81は、上記各励磁
電流のピーク値を保持するピークホールドユニットにな
っている。ピークホールドユニットは、各励磁電流のう
ち、例えば+側のピーク値を保持するものである。より
具体的には、+側の最大値を常に記憶するよう構成され
ている。
Here, in the present embodiment, the inverter unit 8
An output unit 81 is provided so as to monitor each exciting current sent from the device 4. More specifically, the output from the transformer for monitoring the excitation current is branched and output unit 8
1 is input. The output unit 81 is a peak hold unit that holds the peak value of each exciting current. The peak hold unit holds, for example, a peak value on the + side of each excitation current. More specifically, the maximum value on the positive side is always stored.

【0024】このような出力ユニット81の出力は、表
示手段82に送られる。表示手段82としては、本実施
形態では、マイクロコンピュータのディスプレイが採用
されている。マイクロピュータは、出力ユニット81の
出力に従い、搬送エラーの予知情報として、「正常動
作」,「注意レベル」,「警告レベル」の三つを表示す
るようになっている。この表示内容を、図4を使用して
説明する。図4は、表示手段における表示内容の説明図
である。この図4には、上記励磁電流をモニターした結
果の例が示されている。
The output of the output unit 81 is sent to the display means 82. In the present embodiment, a display of a microcomputer is employed as the display means 82. In accordance with the output of the output unit 81, the microcomputer displays three information, "normal operation", "caution level", and "warning level", as the transport error prediction information. This display content will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram of display contents on the display means. FIG. 4 shows an example of the result of monitoring the exciting current.

【0025】図4に示す励磁電流の波形において、出力
ユニット81として用いられたピークホールドユニット
は、+側のピークの最大値を常に保持していく。即ち、
検出を開始した後の最初のピークP1を保持した後、次
に現れたピークP2がP1より高いため、P1に代えて
P2を保持する。そして、次のP3も同様にP2に代え
て保持する。そして、その後のピークはP3より低いの
でP3はそのまま保持され、P4が検出された段階で、
P3に代えてP4を保持する。
In the waveform of the exciting current shown in FIG. 4, the peak hold unit used as the output unit 81 always holds the maximum value of the peak on the + side. That is,
After holding the first peak P1 after the start of detection, since the next peak P2 is higher than P1, P2 is held instead of P1. Then, the next P3 is similarly held instead of P2. Then, since the subsequent peak is lower than P3, P3 is held as it is, and when P4 is detected,
P4 is held instead of P3.

【0026】一方、マイクロコンピュータのメモリに
は、サーボ電流の大きさを判断する基準として「注意レ
ベル」及び「警告レベル」の情報が記憶されている。マ
イクロコンピュータの論理回路は、出力ユニット81か
ら送られるピーク値の信号をこの情報と比較して、ディ
スプレイへの表示信号を作る。即ち、ピーク値が注意レ
ベルよりも下であれば「正常動作」の表示を行い、注意
レベル以上、警告レベル未満であれば、「注意レベル」
の表示をする。そして、警告レベル以上であれば、「警
告レベル」の表示をする。この図4に示す例では、P3
を検出した段階で注意レベルが表示され、それがP4を
検出した段階でも維持される。
On the other hand, information of "attention level" and "warning level" is stored in the memory of the microcomputer as a criterion for judging the magnitude of the servo current. The logic circuit of the microcomputer compares the signal of the peak value sent from the output unit 81 with this information to generate a display signal on the display. That is, if the peak value is lower than the caution level, “normal operation” is displayed. If the peak value is higher than the caution level and lower than the warning level, “caution level” is displayed.
Is displayed. If the level is equal to or higher than the warning level, "warning level" is displayed. In the example shown in FIG.
Is displayed at the stage when is detected, and is maintained at the stage when P4 is detected.

【0027】注意レベルは、定期的なメンテナンス時に
点検すべきことを知らせるレベルである。この予知を行
うことで、定期的なメンテナンスと併せてカセット昇降
機構62のメンテナンスも忘れずに行うことができる。
従って、後に、カセット昇降機構62の故障のみが原因
で装置の動作を停止させる必要がなく、生産性の低下が
防止される。また、警告レベルは、早急に点検して修理
すべきことを知らせるレベルである。この場合は、現在
のロットの処理が終了した後などに直ちにメンテナンス
を行うようにする。尚、出力ユニット81には、リセッ
ト回路が設けられており、メンテナンスを行った後にリ
セット回路を動作させる。この結果、保持していたピー
ク値は消去され、初期のピーク値の信号として「0」が
設定される。
The caution level is a level that indicates that inspection should be performed during regular maintenance. By performing this prediction, the maintenance of the cassette elevating mechanism 62 can be performed without forgetting the periodic maintenance.
Therefore, it is not necessary to stop the operation of the apparatus later only due to the failure of the cassette elevating mechanism 62, thereby preventing a decrease in productivity. In addition, the warning level is a level for notifying that it should be checked and repaired immediately. In this case, maintenance is performed immediately after the processing of the current lot is completed. The output unit 81 is provided with a reset circuit, and the reset circuit is operated after maintenance is performed. As a result, the held peak value is deleted, and “0” is set as the signal of the initial peak value.

【0028】上記構成のカセット昇降機構62における
搬送エラーを想定すると、注意レベルや警告レベルに達
する一つの例として、ボールねじ624の油切れが考え
られる。油が切れると、サーボモータ625の必要トル
クが大きくなり、励磁電流のピーク値が上昇していく。
いずれにしても、本実施形態では、サーボモータ625
のサーボ信号をモニターして搬送エラーの発生の可能性
を表示しているので、搬送系のメンテナンスの必要性を
常時判断できる。このため、装置の定期的なメンテナン
スとともに搬送系のメンテナンスを行っておくことで、
搬送エラーのみに起因したメンテナンスをする必要が無
くなる。従って、装置の生産性が向上する。尚、前述し
たスパッタリング装置の場合、ターゲットは消耗品であ
るので、ターゲットの交換は定期的なメンテナンスの一
例である。
Assuming a transport error in the cassette elevating mechanism 62 having the above configuration, one example of reaching a caution level or a warning level is that the ball screw 624 runs out of oil. When the oil runs out, the required torque of the servomotor 625 increases, and the peak value of the exciting current increases.
In any case, in the present embodiment, the servo motor 625
Since the servo signal is monitored and the possibility of occurrence of a transport error is displayed, the necessity of maintenance of the transport system can always be determined. For this reason, by carrying out maintenance of the transport system together with regular maintenance of the equipment,
It is not necessary to perform maintenance due to only the transport error. Therefore, the productivity of the device is improved. In the case of the sputtering apparatus described above, the replacement of the target is an example of regular maintenance because the target is a consumable item.

【0029】上述した説明では、カセット昇降機構62
に対して搬送エラーを予知する機構を採り上げたが、オ
ートローダ7や搬送ロボット11についても同様に構成
することが好ましい。そして、装置の搬送系の駆動部を
すべてサーボモータとし、サーボ信号をモニタして搬送
エラーの可能性を表示すると最適である。
In the above description, the cassette lifting mechanism 62
Although a mechanism for predicting a transport error has been adopted for the above, it is preferable that the autoloader 7 and the transport robot 11 be similarly configured. It is optimal that all the drive units of the transport system of the apparatus are servomotors, and the servo signals are monitored to indicate the possibility of a transport error.

【0030】また、交流サーボモータだけではなく、直
流サーボモータについても、本願発明の考え方は適用で
きる。この場合は、サーボ信号は直流になることが多い
ので、ピーク値をホールドする必要はなく、サーボ信号
をそのまま出力し、サーボ信号の大きさが注意レベルや
警告レベルを越えていないか判断するようにする。ま
た、交流サーボモータの場合でも、ピーク値の最大値を
ホールドする場合だけでなく、ピーク値の最小値をホー
ルドする場合もある。これは、トルク低下による搬送エ
ラーを予測する場合が該当する。
The concept of the present invention can be applied not only to an AC servomotor but also to a DC servomotor. In this case, since the servo signal is often a direct current, it is not necessary to hold the peak value, the servo signal is output as it is, and it is determined whether or not the magnitude of the servo signal exceeds the caution level or the warning level. To Also, in the case of an AC servomotor, not only the case where the maximum value of the peak value is held but also the case where the minimum value of the peak value is held. This corresponds to a case where a transport error due to a decrease in torque is predicted.

【0031】尚、本願発明における「サーボ信号」は、
サーボ制御に使用される信号であってそれをモニタする
ことにより搬送エラーを予知できるものの総称である。
従って、前述した励磁電流以外の信号の場合もあり得る
(電圧,周波数等)。
The "servo signal" in the present invention is:
This is a general term for signals used for servo control, which can predict a transport error by monitoring the signals.
Therefore, there may be a signal other than the above-described excitation current (voltage, frequency, etc.).

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明した通り、本願の各請求項の発
明によれば、サーボモータのサーボ信号をモニターして
搬送エラーの発生の可能性を表示しているので、搬送系
のメンテナンスの必要性を常時判断できる。このため、
装置の定期的なメンテナンスとともに搬送系のメンテナ
ンスを行っておくことで、搬送エラーのみに起因したメ
ンテナンスをする必要が無くなる。従って、装置の生産
性が向上する。
As described above, according to the invention of each claim of the present application, the servo signal of the servomotor is monitored to indicate the possibility of occurrence of a transport error. Sex can always be determined. For this reason,
By performing the maintenance of the transport system together with the periodic maintenance of the apparatus, it is not necessary to perform the maintenance caused only by the transport error. Therefore, the productivity of the device is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明の実施形態に係る基板処理装置の概略
構成を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すロードロックチャンバー内に設けら
れたカセット昇降機構の概略構成を示す正面図である。
FIG. 2 is a front view showing a schematic configuration of a cassette elevating mechanism provided in the load lock chamber shown in FIG.

【図3】搬送エラー予知機構の概略構成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a transport error prediction mechanism.

【図4】表示手段における表示内容の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of display contents on a display unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6 ロードロックチャンバー 61 ロードロック内カセット 62 カセット昇降機構 621 支柱 622 保持アーム 623 被被駆動体 624 ボールネジ 625 サーボモータ 81 出力ユニット 82 表示ユニット 9 基板 Reference Signs List 6 load lock chamber 61 cassette in load lock 62 cassette elevating mechanism 621 support column 622 holding arm 623 driven body 624 ball screw 625 servo motor 81 output unit 82 display unit 9 substrate

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成10年4月6日[Submission date] April 6, 1998

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of sign

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【符号の説明】 6 ロードロックチャンバー 61 ロードロック内カセット 62 カセット昇降機構 621 支柱 622 保持アーム 623 被駆動体 624 ボールネジ 625 サーボモータ 81 出力ユニット 82 表示ユニット 9 基板 ─────────────────────────────────────────────────────
[Description of Signs] 6 Load lock chamber 61 Load lock cassette 62 Cassette raising / lowering mechanism 621 Support 622 Holding arm 623 Driven body 624 Ball screw 625 Servo motor 81 Output unit 82 Display unit 9 Substrate ───────────────────────────────────────────

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年2月9日[Submission date] February 9, 1999

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0003[Correction target item name] 0003

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】製品の高機能化や生産
性の更なる向上等の要請を背景として、上記基板処理装
置の搬送系に対する信頼性の要求が益々厳しくなってき
ている。例えば、LSIの製造に使用される各種基板処
理装置では、MTBMA(Mean Time Between Maintena
nce Action,平均保全アクション間隔)は従来は100
時間であったが、最近では300時間が要求されてい
る。
With the demand for higher functionality of products and further improvement of productivity, the demand for the reliability of the transport system of the substrate processing apparatus is becoming more and more severe. For example, in various substrate processing apparatuses used in the manufacture of LSI, MTBMA ( Mean Time Between Maintena) is used.
nce Action, average maintenance action interval) is 100
Time, but recently 300 hours are required.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0007[Correction target item name] 0007

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項1記載の発明は、処理チャンバー内に
搬送系によって基板を搬送して処理する基板処理装置に
おける搬送エラーを予知する機構であって、搬送系に使
用されたサーボモータのサーボ信号をモニターして出力
する出力ユニットと、出力ユニットからの信号に従い搬
送エラーの発生の可能性を表示する表示手段とを備えて
いる。また、上記課題を解決するため、本願の請求項
記載の発明は、上記請求項の構成において、前記サー
ボモータは、交流サーボモータであり、前記出力ユニッ
トは、交流サーボ電流のピーク値をモニターして保持す
るピークホールドユニットである。また、上記課題を解
決するため、本願の請求項3記載の発明は、上記請求項
1又は2の構成において、前記表示手段は、定期的なメ
ンテナンス時に点検すべきことを知らせる注意レベル
と、早急に点検して修理すべきことを知らせる警告レベ
ルとを表示することが可能となっている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a mechanism for predicting a transfer error in a substrate processing apparatus for transferring and processing a substrate by a transfer system into a processing chamber. An output unit for monitoring and outputting a servo signal of a servomotor used in the transport system; and a display unit for displaying a possibility of occurrence of a transport error according to a signal from the output unit. Further, in order to solve the above-mentioned problem, a second aspect of the present invention is described.
According to the invention described in the first aspect , the servo motor is an AC servo motor, and the output unit is a peak hold unit that monitors and holds a peak value of the AC servo current. According to a third aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, in the configuration of the first or second aspect, the display means includes a caution level indicating that inspection should be performed during regular maintenance, and an urgent level. And a warning level indicating that the inspection and repair are required.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0008[Correction target item name] 0008

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。図1は、本願発明の実施形態に係る基板
処理装置の概略構成を示す平面図である。図1に示す基
板処理装置は、マルチチャンバータイプの装置であり、
中央に配置されたセパレーションチャンバー1と、セパ
レーションチャンバーの周囲に設けられた複数の処理
チャンバー2,3,4,5及び二つのロードロックチャ
ンバー6とからなるチャンバー配置になっている。各チ
ャンバー1,2,3,4,5,6は、専用又は兼用の排
気系によって排気される真空容器である。また、セパレ
ーションチャンバー1に対する各チャンバー2,3,
4,5,6の接続個所にはゲートバルブ10がそれぞれ
設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus shown in FIG. 1 is a multi-chamber type apparatus,
The chamber arrangement includes a separation chamber 1 arranged at the center, a plurality of processing chambers 2, 3, 4, 5, and two load lock chambers 6 provided around the separation chamber 1 . Each of the chambers 1, 2, 3, 4, 5, and 6 is a vacuum vessel evacuated by a dedicated or shared exhaust system. Further, each chamber 2, 3, with respect to the separation chamber 1
Gate valves 10 are provided at connection points of 4, 5, and 6, respectively.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0015】ロードロック内カセット61は、多数の基
を水平な姿勢で所定間隔をおいて重ねた状態で収容
可能な構造となっている。ロードロックチャンバー6の
内部空間の高さは、ロードロック内カセット61の高さ
の2倍強あり、ロードロック内カセット61は、ロード
ロックチャンバー6の真ん中の高さより下方の位置(以
下、下限位置)と、真ん中の高さより上方の位置(以
下、上限位置)との間で昇降可能となっている。
The cassette 61 in the load lock has a structure in which a large number of substrates 9 can be accommodated in a horizontal position in a stacked state at a predetermined interval. The height of the internal space of the load lock chamber 6 is slightly more than twice the height of the cassette 61 in the load lock, and the cassette 61 in the load lock is located at a position lower than the middle height of the load lock chamber 6 (hereinafter, a lower limit position). ) And a position above the middle height (hereinafter, upper limit position).

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0017】ロードロックチャンバー6の底板部分に
は、開口が形成されており、この開口に支柱が挿通され
ている。支柱621には、不図示のリニアガイドが設け
られており、直線性良く昇降するようになっている。
尚、ロードロックチャンバー6から下方の突出した支柱
の周囲を覆うようにしてベローズ627が設けられてい
る。これによって、底板部分の開口を通してのリーク
(真空漏れ)を防止している。サーボモータ625が動
作してボールネジ624が回転すると、ボールネジ24
に噛み合う被駆動体623に固定された保持アーム62
2が昇降する。この結果、支柱621も昇降してロード
ロック内カセット61も一体に昇降するようになってい
る。
An opening is formed in the bottom plate portion of the load lock chamber 6, and a column is inserted through the opening. The support 621 is provided with a linear guide (not shown) so that the support 621 moves up and down with good linearity.
Note that a bellows 627 is provided so as to cover the periphery of the support column projecting downward from the load lock chamber 6. This prevents leakage (vacuum leakage) through the opening in the bottom plate portion. When the servomotor 625 operates and the ball screw 624 rotates, the ball screw 24
Arm 62 fixed to driven body 623 that meshes with
2 goes up and down. As a result, the column 621 is also moved up and down, and the cassette 61 in the load lock is also moved up and down integrally.

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0019[Correction target item name] 0019

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0019】このようにして、上の段から順次基板9を
搬送ロボット11が取り出して、各処理チャンバー2,
3,4,5に送り、処理を行わせる。この間、取り出し
た基板9の処理が終了して基板9がロードロックチャン
バー6に戻ってきたら、その基板9をロードロック内カ
セット61内の元の位置に戻すようにする。具体的に
は、カセット昇降機構62が動作し、その基板9が当初
に収容されていた位置が搬送ロボット11のアームの進
入ラインよりも所定の短い距離だけ高い位置になるよう
にロードロック内カセット61を上昇又は下降させる。
そして、基板9を保持したアームが進入ライン上を進ん
でロードロック内カセット61に達した後、カセット昇
降機構62はロードロック内カセット61を所定の短い
距離だけ上昇させる。この結果、基板9は元の位置に収
容される。このようにしてすべての処理済みの基板9
元の位置に収容されたら、図2の左側の大気側ゲートバ
ルブ102が開き、処理済みの基板9の搬出動作がオー
トローダ7により行われる。
In this way, the transfer robot 11 takes out the substrate 9 sequentially from the upper stage, and
Send to 3, 4, 5 for processing. During this time, when the processing of the substrate 9 taken out is completed and the substrate 9 returns to the load lock chamber 6, the substrate 9 is returned to the original position in the cassette 61 in the load lock. Specifically, the cassette elevating mechanism 62 operates, and the cassette inside the load lock is moved so that the position where the substrate 9 is initially accommodated is higher than the entrance line of the arm of the transfer robot 11 by a predetermined short distance. 61 is raised or lowered.
Then, after the arm holding the substrate 9 advances on the entry line and reaches the cassette 61 in the load lock, the cassette elevating mechanism 62 raises the cassette 61 in the load lock by a predetermined short distance. As a result, the substrate 9 is stored at the original position. When all the processed substrates 9 are stored in the original positions in this way, the left air-side gate valve 102 in FIG. 2 is opened, and the unloading operation of the processed substrates 9 is performed by the autoloader 7. Will be

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Correction target item name] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0023】ここで、本実施形態では、インバータ部8
4から送られる各励磁電流をモニターするように、出力
ユニット81を設けている。具体的には、励磁電流を
ニターする変成器からの出力を分岐させて出力ユニット
81に入力させている。出力ユニット81は、上記各励
磁電流のピーク値を保持するピークホールドユニットに
なっている。ピークホールドユニットは、各励磁電流の
うち、例えば+側のピーク値を保持するものである。よ
り具体的には、+側の最大値を常に記憶するよう構成さ
れている。
Here, in the present embodiment, the inverter unit 8
An output unit 81 is provided so as to monitor each exciting current sent from the device 4. Specifically, the excitation current model
The output from the transformer to be monitored is branched and input to the output unit 81. The output unit 81 is a peak hold unit that holds the peak value of each exciting current. The peak hold unit holds, for example, a peak value on the + side of each excitation current. More specifically, the maximum value on the positive side is always stored.

【手続補正8】[Procedure amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of sign

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【符号の説明】 6 ロードロックチャンバー 61 ロードロック内カセット 62 カセット昇降機構 621 支柱 622 保持アーム 623 被駆動体 624 ボールネジ 625 サーボモータ 81 出力ユニット 82 表示手段 9 基板[Description of Signs] 6 Load lock chamber 61 Load lock inner cassette 62 Cassette elevating mechanism 621 Support 622 Holding arm 623 Driven body 624 Ball screw 625 Servo motor 81 Output unit 82 Display means 9 Substrate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理チャンバー内に搬送系によって基板
を搬送して処理する基板処理装置における搬送エラーを
予知する機構であって、搬送系に使用されたサーボモー
タのサーボ信号をモニターして出力する出力ユニット
と、出力ユニットからの信号に従い搬送エラーの発生の
可能性を表示する表示手段とを備えていることを特徴と
する基板処理装置における搬送エラー予知機構。
1. A mechanism for predicting a transport error in a substrate processing apparatus that transports a substrate into a processing chamber by a transport system and processes the substrate. The mechanism monitors and outputs a servo signal of a servomotor used in the transport system. A transport error predicting mechanism in a substrate processing apparatus, comprising: an output unit; and display means for displaying a possibility of occurrence of a transport error according to a signal from the output unit.
【請求項2】 前記サーボモータは、交流サーボモータ
であり、前記出力ユニットは、交流サーボ電流のピーク
値をモニターして保持するピークホールドユニットであ
ることを特徴とする請求項1記載の搬送エラー予知機
構。
2. The transport error according to claim 1, wherein the servomotor is an AC servomotor, and the output unit is a peak hold unit that monitors and holds a peak value of the AC servo current. Foresight mechanism.
【請求項3】 前記表示手段は、定期的なメンテナンス
時に点検すべきことを知らせる注意レベルと、早急に点
検して修理すべきことを知らせる警告レベルとを表示す
ることが可能となっていることを特徴とする請求項1又
は2記載の基板処理装置における搬送エラー予知機構。
3. The display means is capable of displaying a caution level notifying that inspection should be performed during regular maintenance and a warning level notifying that inspection and repair should be performed immediately. 3. The transport error predicting mechanism in the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002198353A (en) * 2000-12-26 2002-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Plasma pcocessing system
KR20050067751A (en) * 2003-12-29 2005-07-05 동부아남반도체 주식회사 Elevator rotation device and rotation method of loadlock chamber
JP2009232532A (en) * 2008-03-21 2009-10-08 Daihen Corp Impedance matching device
JP2011077891A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Daihen Corp Impedance matching apparatus

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