JPH11287620A - 回折光を利用して凹部の寸法を測定する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回折光を利用して狭トラックピッチ化された
ガラス原盤の案内溝またはピットの寸法特性を測定する
装置を提供する。 【解決手段】 本発明の測定装置１００は、レーザー光
源１、光透過性媒体３、光透過性部材５、光検出器７及
び演算処理装置９から構成される。光透過性媒体３及び
光透過性部材５は空気よりも屈折率が高い光透過性の材
料で構成されている。これにより狭トラックピッチ化さ
れたガラス原盤であっても２次回折光を検出することが
でき、ガラス原盤に形成されている案内溝またはピット
の寸法特性を測定することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク原盤上の
案内溝やピットの寸法特性を回折光を利用して測定する
測定装置に関し、更に詳細には、高密度記録用に案内溝
やピットが微小化されたディスク原盤や光ディスク基板
であっても２次回折光を検出して案内溝及びピットの寸
法特性を測定することができる測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】マルチメディア時代の到来により、音声
や動画像、グラフィックなどの多量の情報データを取り
扱うことが可能な媒体として光記録媒体が使用されてい
る。この光記録媒体には、通常、案内溝やピットなどが
予め形成されている光透過性のプラスチック製基板が用
いられている。このプラスチック製基板は、通常、案内
溝やピットが形成されている原盤ディスクを原盤露光に
より製造し、得られた原盤ディスクからスタンパを複製
し、次いでスタンパを射出成形機の金型に装填して、溶
融樹脂を金型内に射出することによって製造される。上
記原盤ディスクは次のようにして製造される。

【０００３】まず、研磨したガラス基板上にフォトレジ
ストを塗布し、フォトレジスト膜の表面上の所望位置に
レーザー光を照射して案内溝やピットパターンが形成さ
れるように露光する。次いで、露光されたフォトレジス
ト膜を、現像液を用いて現像することによって案内溝や
ピットに相当する凹凸がフォトレジスト膜上に得られ
る。更にフォトレジスト膜上に紫外線を照射して、熱処
理を施すことによってフォトレジスト膜を硬化させる。
こうして案内溝やピットが形成された原盤ディスクが得
られる。

【０００４】上述のようにして得られた原盤ディスクに
ついて、通常、案内溝またはピットが所定の寸法で形成
されているかについて検査され、検査手法の一つとして
回折光を利用した光学的方法が知られている。この回折
光を利用した案内溝またはピットの測定方法の原理を以
下に説明する。

【０００５】図１は、案内溝またはピットが原盤半径方
向に一定周期で形成されているガラス原盤に対してレー
ザー光を垂直に照射したときに生じる回折光を概念的に
示す図である。ガラス原盤の案内溝またはピットが形成
されていない側からガラス原盤の表面に対して垂直にレ
ーザー光を照射すると、ガラス原盤に一定周期で形成さ
れている案内溝またはピットが回折格子として作用する
ため光の回折が生じる。このとき、ｍ次回折光（ｍは整
数）の回折角度θ_mとトラックピッチＴPの関係は、レー
ザー光の波長をλ、光が射出する側の媒質の屈折率をｎ
とすると下記式（１）で表される。

【０００６】

【数１】

【０００７】したがって、ガラス原盤に形成されている
案内溝のトラックピッチを求めるには、上記式（１）か
ら回折光の角度θ_mを測定すれば良い。また、案内溝や
ピットの幅や深さは、０次〜２次回折光の光強度比から
求めることができる。

【０００８】一方、このような回折光を利用した測定方
法のほかに、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により案内溝
やピットの寸法特性を直接観測する方法もあるが、ガラ
ス原盤の破壊を伴うため製造工程の検査手段として適当
ではない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】近年、光記録媒体の分
野では、記憶容量をより一層増大させることが要望され
ており、その方法としてトラックピッチを狭くすること
や最短ピット長を短くすることなどによる媒体の高密度
化が行われている。ところが、トラックピッチが狭くな
るように製造した原盤ディスクについて、上述の回折光
による測定方法を用いて案内溝やピットの寸法特性を測
定しようとすると、上記式（１）において２次回折光の
回折角度θ₂が９０°を超えてしまうため、２次回折光
がガラス原盤の光射出面で全反射して射出することがで
きないという問題があった。また、トラックピッチが更
に狭くなると１次回折光ですら検出できないという問題
も起こり得る。このため、高密度記録用の原盤ディスク
からは回折光を利用した測定方法を用いてトラックピッ
チ、案内溝やピットの幅及び深さなどの情報を得ること
ができなかった。

【００１０】例えば、ＤＶＤ−ＲＯＭの場合、トラック
ピッチは０．７４μｍであり、レーザー光の波長が６３
２．８ｎｍ、光射出側の媒質が空気（屈折率が１）であ
るとすると、上記式（１）からθ₁＝５８．８°となり
１次回折光は検出されるものの、２次回折光は回折角度
θ₂がθ₂ ＞９０°となり検出されない。式（１）から
レーザー光の波長を短くすることによって回折光の回折
角度を小さくすることができるので、レーザー光源の波
長を３５０〜４００ｎｍ程度に短くすれば、２次回折光
を検出することができる。しかしながら、レーザー光の
発振波長には限界があるため、高密度化が更に進んだ場
合にはレーザー光を短波長化しても上記問題を解決する
ことはできない。

【００１１】本発明は上記従来技術の問題を解決するた
めになされたものであり、その目的は、０次〜２次回折
光を検出することによって基盤に形成されている案内溝
またはピットの寸法を測定するための装置であって、狭
トラックピッチ化により従来検出することができなかっ
た２次回折光を検出することができる測定装置を提供す
ることにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明に従えば、一定の
周期で凹部が形成されてなる基盤に光を照射し、凹部か
ら生じる回折光を検出することによって該凹部の寸法特
性を測定する測定装置であって、上記基盤に光を照射す
るための光源と、ｎ＞１の屈折率ｎを有し、上記基盤の
光射出面上に配置した光透過性部材と、該光透過性部材
を透過して射出された回折光を検出する光検出器とを備
えることを特徴とする測定装置が提供される。

【００１３】本発明の測定装置は、ｎ＞１の屈折率ｎを
有する光透過性部材を基盤の光射出面上に設けている。
これによりレーザー光を基盤に照射すると、光透過性部
材の屈折率は空気よりも高いので、光透過性部材からは
光透過性部材を設けなかった場合よりも小さい回折角で
回折光が射出する。すなわち、上記式（１）において、
光が射出する側の屈折率ｎが大きいほどsinθ_mの値は小
さくなるので、本発明のようにｎ＞１の屈折率ｎを有す
る光透過性部材を介して回折光を射出させることによ
り、光が射出する側が空気であった従来の場合よりもθ
_mは小さくなる。それゆえ、狭トラックピッチ化された
基盤を用いた場合であっても回折光が全反射することな
く、検出された回折光強度を用いて基盤表面に形成され
ている案内溝やピットなどの寸法特性を求めることがで
きる。更に、基盤の屈折率と光が射出する側の媒質の屈
折率との差が大きくなるようにすることが好ましく、屈
折率の差が大きいと回折光の回折角が更に小さくなると
同時に光強度も大きくなるので回折光の検出がより容易
になる。

【００１４】本発明において、光透過性部材は、基盤か
ら射出した２次回折光が光透過性部材に入射するときに
基盤と光透過性部材との界面で全反射しないような屈折
率を有することが好ましく、好ましい屈折率の値として
は１．３〜２．０である。このような高い屈折率を有す
る光透過性の材料としては、例えば、ポリカーボネー
ト、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などのプラ
スチックやガラス、石英、サファイアなどが知られてお
り、これらの材料を用いて光透過性部材を構成すること
ができる。また、光透過性部材の形状は、基盤から射出
した種々の回折角の回折光の光路長がすべて等しくなる
と同時に透過性部材の光射出面で回折光が屈折または全
反射しないで射出するような形状、すなわち、光透過性
部材の光入射点を中心とする半球状であることが好まし
い。

【００１５】本発明の測定装置に用いて凹部寸法を測定
するのに好適な基盤は、案内溝及びピットの少なくとも
一方が予め形成されている基盤であり、例えば、光記録
媒体を製造するためのガラス原盤またはスタンパ、若し
くは光記録媒体に用いられる基板である。これらの基盤
の中でも、特にトラックピッチが０．３０μｍ〜０．７
４μｍに狭トラックピッチ化された基盤であることが望
ましい。

【００１６】本発明において光検出器は、基盤の光射出
点から一定の距離を保つように、すなわち基盤の光射出
点を中心とする円周上に位置するように配置される。基
盤上に形成されているトラックピッチの大きさが既にわ
かっている場合は、上記式（１）から０次〜２次回折光
の回折角を予め求めることができるので、求めた角度方
向に光検出器を配置しておき、０次〜２次回折光の光強
度を検出すればトラックピッチ以外の情報、例えば、案
内溝やピットの深さまたは幅を求めることができる。更
に、光検出器を所定の位置に固定して配置するのではな
く、図２に示すように基盤の光射出点を中心とした円弧
上を光検出器が移動できるように移動手段を設けてもよ
い。これにより回折光の光強度を検出すると同時に回折
光の回折角も測定できるので、上記式（１）を用いてト
ラックピッチを求めることもできる。

【００１７】また本発明では、基盤と光透過性部材との
間に１＜ｎ’を満足する屈折率ｎ’を有する光透過性媒
体を介在させることが好ましい。すなわち基盤に形成さ
れている凹部が光透過性媒体で満たされるように光透過
性媒体を基盤の光射出面上に設け、形成された光透過性
媒体の上に光透過性部材を密着させる。これにより光透
過性部材の平坦な面を基盤の凹部が形成されている面に
設けても、基盤の凹部部分に空気が介在することはなく
なり、凹部での回折光の全反射が防止される。また、光
透過性媒体の屈折率と光透過性部材の屈折率が等しいか
近いことが好ましい。これにより光透過性媒体と光透過
性部材との界面で回折光が屈折して回折角が変化するこ
とを抑えることができる。光透過性媒体は、水、油、ア
ルコール及びブロムナフタレンなどの液体から構成する
ことができる。

【００１８】本発明の測定装置に用いられる光源は、発
振波長が２５０ｎｍ〜６３３ｎｍのレーザー光源である
ことが好ましい。レーザー光は、基盤の凹部が形成され
ている面に入射してもその反対側の面に入射しても良
く、また、基盤面に対して垂直に入射しても斜めに入射
しても良い。

【００１９】本発明の測定装置は、回折光の角度や光強
度比から案内溝またはピットの深さ及び幅を計算により
求めるための演算処理装置を更に備えることができる。
案内溝またはピットの深さＤ及び幅Ｗは、案内溝または
ピットの形状をスカラー近似で矩形の一次元回折格子と
して取り扱うと、次の式（２）及び（３）に基づいて求
めることができる。

【００２０】

【数２】

【００２１】

【数３】

【００２２】なお、式（２）及び（３）中、acosはコサ
インの逆関数を意味する。また、式（２）中、Ｉ₁ 及び
Ｉ₂ はそれぞれ一次回折光及び二次回折光の光強度を示
す。また、式（３）中、ｎ₁ 及びｎ₂ はそれぞれ基盤及
び基盤と接する媒質の屈折率を、λはレーザー光の波長
を、Ｉ₀ は透過光強度を示し、ε＝Ｗ／Ｔ_P でありトラ
ックピッチと溝幅の比を示す。よって、回折光の回折角
を検出することにより上記式（１）からトラックピッチ
が求められ、０次〜２次回折光の光強度比を求めること
により上記式（２）及び（３）から案内溝またはピット
の深さＤ及び幅Ｗをそれぞれ求めることができる。

【００２３】また、上記式（３）において深さＤが一定
の場合、屈折率の差（ｎ₁−ｎ₂ ）が大きいほどＩ₁ ／
Ｉ₀ が大きくなるので、基盤と接する媒質と基盤との屈
折率の差が大きくなるように基盤の材料と、基板と接す
る媒質とを調整することが好ましい。これにより回折光
を良好に観測することができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明に従う測定装置の実
施の形態及び実施例について図面を用いて説明する。

【００２５】実施例１ 本実施例では、基盤として光記録媒体用基板を複製する
ために使用するガラス原盤を用い、本発明の測定装置で
このガラス原盤の案内溝及びピットの寸法を測定した。
かかるガラス原盤は原盤露光装置を用いてつぎに示すよ
うにして製造した。

【００２６】まず、研磨したガラス基板を用意し、ガラ
ス基板上に屈折率１．６５のクレゾールノボラック樹脂
の高分子とナフトキノンジアジドの感光剤からなるフォ
トレジストを０．１３μｍの膜厚で塗布した。次いで、
ガラス基板をターンテーブルで回転させながらフォトレ
ジスト上にレーザー光を照射して、プリピット及び案内
溝のパターンを露光した。つぎに現像液を用いて、露光
したフォトレジスト膜を現像し、フォトレジスト膜面に
案内溝及びプリピットに相当する凹凸を形成した。更に
紫外線を照射して、熱処理を施すことによってフォトレ
ジスト膜を硬化させた。こうして溝幅０．２５μｍ、溝
深さ０．１３μｍ、トラックピッチ０．７４μｍの案内
溝と、ピット幅０．２５μｍ、ピット深さ０．１３μｍ
のプリピットが形成された高密度記録媒体用のガラス原
盤を得た。なお、ピット長は、検出用のレーザー光スポ
ットサイズより大きくなるように形成した。

【００２７】つぎに、本発明に従う測定装置を用いて、
得られたガラス原盤の案内溝及びプリピットの幅並びに
深さを測定した。図２に本発明に従う測定装置の構成の
概略を示す。本発明の測定装置１００は、主に、ガラス
原盤１０に光を照射するためのレーザー光源１、ガラス
原盤１０に装着される光透過性部材としての半球体５、
０次〜２次回折光の光強度を検出する光検出器７、案内
溝またはピットの幅及び深さを計算するための演算処理
装置９及び演算処理結果を表示する表示器１５から構成
されている。本実施例では、レーザー光源１として発振
波長が２６６ｎｍのレーザー光（Ｎｄ−ＹＡＧレーザー
の４倍高調波）を用いた。

【００２８】ガラス原盤１０は測定装置１００に装填す
る前に水中に浸漬させて、ガラス原盤１０上のレジスト
により形成されたプリピット及び案内溝に光透過性媒体
として水を充填した。ガラス原盤１０を水中から取り出
した後、プリピット及び案内溝が形成されている面が上
方になるようにガラス原盤１０を水平に配置した。次い
で、プリピット及び案内溝が形成されている面上に光透
過性媒体としての水膜３を維持した状態で、光透過性部
材としての半径２ｍｍ、屈折率１．８のサファイア製の
半球体５を、その底面が密着するように水膜３を介して
装着した。この際、ガラス原盤１０と半球体５との間及
びガラス原盤１０上に形成されたプリピット及び案内溝
内の水膜３の中に気泡が発生しないようにした。また、
半球体５は、その中心がレーザー光の光軸がガラス原盤
と交差する点、すなわち、光入射点に位置するように配
置した。このように配置することにより、ガラス原盤１
０から射出した回折光は、半球体５内でその回折角の大
きさにかかわらず等しい光路長を有し且つ半球体５から
射出するときに屈折または反射することなく半球体５の
半径方向に直進する。

【００２９】測定装置１００は、更に、ガラス原盤１０
上の光射出点を中心とする円弧に沿って設けられたガイ
ドレール１１を備える。光検出器７はガイドレール１１
と係合し且つガイドレール１１上を摺動可能な係合部
（不図示）を備える。このように光検出器７がガイドレ
ール１１に沿って移動可能にすることによって種々の回
折角の回折光をそれぞれ等しい光路長で検出することが
できる。

【００３０】上記レーザー光源１からレーザー光１３を
ガラス原盤１０の案内溝及びピットが形成されていない
面に垂直に入射させて、０次回折光（透過光）の光強度
を検出した。次いで、ガイドレール１１に沿って光検出
器７を移動させ、光検出器７と０次回折光を検出した位
置とのなす角が１１．５°になったところで１次回折光
を検出し、更に２３．５°になったところで２次回折光
を検出した。検出した０次〜２次回折光の光強度Ｉ₀、
Ｉ₁及びＩ₂から相対的な光強度比Ｉ₁ ／Ｉ₂ 及びＩ₂ ／
Ｉ₁ を求めるとＩ₁ ／Ｉ₀ ＝０．０７、Ｉ₂ ／Ｉ₁ ＝
０．２５であった。上記式（２）及び（３）の計算処理
を行う演算処理装置９にこれらの値を入力して案内溝及
びピットの深さ並びに幅を求めた結果、案内溝深さ１２
０ｎｍ、案内溝幅２５０ｎｍ、ピット深さ１２０ｎｍ、
ピット幅２５０ｎｍであった。

【００３１】実施例２ 実施例１においてガラス原盤のトラックピッチを０．３
μｍ、０．４μｍ、０．５μｍ及び０．６μｍにそれぞ
れ変更した以外は、実施例１と同様にしてガラス原盤を
製造し、製造したそれぞれのガラス原盤について実施例
１と同様の測定装置を用いて案内溝及びピットの幅及び
深さを測定した。図３に、トラックピッチに対する回折
角依存性を表すグラフを示す。このグラフからわかるよ
うに本発明の測定装置では、トラックピッチが０．３μ
ｍ〜０．６μｍのすべてのガラス原盤において２次回折
光を検出することができ、特に、トラックピッチが０．
３μｍと極めて狭いガラス原盤であっても良好に２次回
折光を検出することができた。

【００３２】比較例１ 実施例１においてガラス原盤のトラックピッチを０．７
４μｍ、１．０μｍ、１．２μｍ、１．４μｍ及び１．
６μｍにそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にし
てガラス原盤を製造した。そして、レーザー光源として
発振波長が６３２．８ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザーを用
い、光透過性媒体としての水層３及び光透過性部材とし
ての半球体５を設けなかった以外は、実施例１と同様の
測定装置を用いて、製造したそれぞれのガラス原盤につ
いて案内溝及びピットの幅及び深さを測定した。トラッ
クピッチに対する回折角依存性のグラフを図４に示す。
このグラフからわかるように、トラックピッチが１．６
μｍ及び１．４μｍのガラス原盤においては２次回折光
を検出することができたが、トラックピッチが１．２μ
ｍ、１．０μｍ及び０．７４μｍのガラス原盤では２次
回折光を検出することができず、案内溝及びピットの深
さ並びに幅を求めることはできなかった。

【００３３】比較例２ 光透過性媒体としての水層３及び光透過性部材としての
半球体５を設けないで、発振波長が３５１ｎｍ、４００
ｎｍ、４８８ｎｍ、５４４ｎｍ及び６３３ｎｍのレーザ
ーを用いた以外は、実施例１と同様の測定装置を用い、
上記実施例１、２及び比較例１で製造したトラックピッ
チ０．４μｍ、０．７４μｍ及び１．０μｍのガラス原
盤の案内溝及びピットの深さ並びに幅をそれぞれ測定し
た。レーザー波長に対する回折角依存性のグラフを図５
に示す。図５のグラフからわかるように、トラックピッ
チが１．０μｍのガラス原盤は、レーザー波長を４８８
ｎｍ以下に短くすることにより２次回折光を検出するこ
とができ、トラックピッチが０．７４μｍのガラス原盤
はレーザー波長を３５１ｎｍにすることにより２次回折
光を検出することができた。しかしながら、トラックピ
ッチが０．４μｍのガラス原盤においてはレーザー波長
を３５０ｎｍに短くしても２次回折光を検出することは
できなかった。

【００３４】以上、本発明の測定装置について実施例を
用いて具体的に説明してきたが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、例えば、測定する基盤としてドライ
エッチングによって直接ガラス基板上に案内溝またはピ
ットを形成したガラス原盤やスタンパ、光記録媒体用の
プラスチック基板を用いてもよい。ただし、スタンパの
場合には、上記実施例とは逆に、案内溝またはピットが
形成されている面側から光透過性部材及び光透過性媒体
を介して光を入射することになり、回折光は反射光とし
て得られる。また、上記実施例ではガラス原盤を水平に
配置して測定を行ったが、光透過性媒体として粘着性の
ある透明材料を用いてガラス原盤と光透過性部材とを密
着させれば、ガラス原盤を垂直に配置した状態でも光透
過性部材がガラス原盤から落下することなく測定を行う
ことができる。或いは、光透過性部材を支持する支持部
材を設け、該支持部材をレールに固定させることによっ
てガラス原盤を垂直に配置してもよい。また、上記実施
例ではガイドレールに沿って移動可能な光検出器７を用
いたが、トラックピッチが既知の場合には図６に示すよ
うに、種々の回折光が射出する角度方向に固定して配置
した固定型の光検出器７ａ、７ｂ及び７ｃを用いて、そ
れらの回折光の光強度を検出して案内溝やピットの寸法
特性を測定しても良い。なお、図６の測定装置は、ガラ
ス原盤１０を垂直に配置し、上述した粘着性のある透明
材料を光透過性媒体として用いて、半球体５をガラス原
盤１０に密着させた装置の例である。

【００３５】また、上記実施例では、ガラス原盤の案内
溝またはピットが形成されている面の案内溝またはピッ
ト以外の部分にも光透過性媒体としての水を介在させて
測定を行ったが、ガラス原盤のピットまたは案内溝だけ
に水を充填して、光透過性部材としての半球体をガラス
原盤のピットまたは案内溝が形成されている面上に密着
させてもよい。また、レーザー光を基盤の案内溝または
ピットが形成されている側から入射させてもよい。この
場合、基盤の案内溝またはピットが形成されている面で
発生した回折光は基盤内を透過したのち、基盤の案内溝
またはピットが形成されていない平坦面で全反射してし
まうので、案内溝またはピットが形成されていない平坦
面に光透過性部材としての半球体を高屈折率媒質を介し
て設けるか、または高屈折率媒質を介しないで直接密着
させることによって、基盤の平坦面での回折光の全反射
を防止することができる。

【００３６】また、上記実施例では光透過性部材として
半球体を用いたが、これに限らず、回折角にかかわらず
等しい光路長で回折光を射出する形状、すなわち、入射
光と回折光を含む面で切断した断面が半円となり且つ案
内溝の接線方向に中心軸を有する半円柱体であっても良
い。

【００３７】

【発明の効果】本発明の測定装置は、基盤の光射出面上
に空気よりも屈折率の高い光透過性部材を設けているの
で、基盤が狭トラックピッチ化された高密度記録媒体用
のガラス原盤であっても０次〜２次回折光を検出してガ
ラス原盤上に形成されている案内溝やピットの寸法特性
を求めることができる。更に本発明の測定装置は、基盤
を破壊することなく簡便に測定を行うことができるの
で、高密度化された基盤を製造する際の検査手段に極め
て好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、ガラス原盤にレーザー光を垂直に入射
したときに生じる回折光を概念的に示す図である。

【図２】図２は、移動型の光検出器を備えた本発明に従
う測定装置の構成を概略的に示す図である。

【図３】図３は、本発明の測定装置を用いて検出された
回折光の回折角度とガラス原盤のトラックピッチとの関
係を示すグラフである。

【図４】図４は、光透過性媒体及び光透過性部材を設け
ないで検出された回折光の回折角度とガラス原盤のトラ
ックピッチとの関係を示すグラフである。

【図５】図５は、レーザー波長に対する回折角の依存性
を示すグラフである。

【図６】図６は、固定型の光検出器を備えた本発明に従
う測定装置の構成を概略的に示す図である。

【符号の説明】

１ レーザー光源 ３ 水膜 ５ 半球体 ７、７ａ、７ｂ、７ｃ 光検出器 ９ 演算処理装置 １１ ガイドレール １３ レーザー光 １００ 測定装置

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一定の周期で凹部が形成されてなる基盤
   に光を照射し、凹部から生じる回折光を検出することに
   よって該凹部の寸法特性を測定する測定装置であって、 上記基盤に光を照射するための光源と、 ｎ＞１の屈折率ｎを有し、上記基盤の光射出面上に配置
   した光透過性部材と、 該光透過性部材を透過して射出された回折光を検出する
   光検出器とを備えることを特徴とする測定装置。
2. 【請求項２】 上記凹部の寸法特性が、０次〜２次回折
   光の光強度比に基づいて測定されることを特徴とする請
   求項１に記載の測定装置。
3. 【請求項３】 上記光透過性部材の形状が半球状である
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の測定装置。
4. 【請求項４】 上記光透過性部材が、基盤の光射出面で
   ２次回折光の全反射を起こさないような屈折率を有する
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の
   測定装置。
5. 【請求項５】 上記光透過性部材の屈折率ｎが、１．３
   ≦ｎ≦２．０であることを特徴とする請求項１〜４のい
   ずれか一項に記載の測定装置。
6. 【請求項６】 上記基盤が、光記録媒体製造用のガラス
   原盤、スタンパ及び光記録媒体に用いられる基板から選
   ばれた一種であることを特徴とする請求項１〜５のいず
   れか一項に記載の測定装置。
7. 【請求項７】 上記凹部が案内溝及びピットの少なくと
   も一方であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか
   一項に記載の測定装置。
8. 【請求項８】 上記凹部の寸法特性が、溝深さ、溝幅、
   ピット幅、ピット深さ及びトラックピッチから選ばれた
   少なくとも一種であることを特徴とする請求項７に記載
   の測定装置。
9. 【請求項９】 上記トラックピッチが、０．３０μｍ〜
   ０．７４μｍであることを特徴とする請求項８に記載の
   測定装置。
10. 【請求項１０】 上記光源が、発振波長２５０ｎｍ〜６
    ３３ｎｍのレーザー光源であることを特徴とする請求項
    １〜９のいずれか一項に記載の測定装置。
11. 【請求項１１】 更に、上記基盤の光射出点を中心とす
    る円弧上で上記光検出器を移動させるための移動装置を
    備えることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項
    に記載の測定装置。
12. 【請求項１２】 上記基盤の光射出面と上記光透過性部
    材との間に１＜ｎ’を満足する屈折率ｎ’を有する光透
    過性媒体を介在させたことを特徴とする請求項１〜１１
    のいずれか一項に記載の測定装置。
13. 【請求項１３】 上記光透過性媒体が、水、油、アルコ
    ール及びブロムナフタレンから選ばれた光透過性の液体
    であることを特徴とする請求項１２に記載の測定装置。
14. 【請求項１４】 上記基盤の一方の面に対して斜めに光
    を入射することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか
    一項に記載の測定装置。
15. 【請求項１５】 上記基盤の凹部が形成されている面に
    光を入射することを特徴とする請求項１〜１４のいずれ
    か一項に記載の測定装置。
16. 【請求項１６】 上記光透過性部材が、ガラス、石英、
    プラスチック及びサファイアから選ばれた透明材質で形
    成されていることを特徴とする請求項１〜１５のいずれ
    か一項に記載の測定装置。
17. 【請求項１７】 更に、検出された０次〜２次回折光の
    光強度比から凹部の寸法特性を計算するための演算処理
    装置を備えることを特徴とする請求項１〜１６のいずれ
    か一項に記載の測定装置。