JPH11287612A

JPH11287612A - 干渉測定装置

Info

Publication number: JPH11287612A
Application number: JP10091734A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Mizoroke; 茂男御菩薩池; Hajime Ichikawa; 元市川
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-04-03
Filing date: 1998-04-03
Publication date: 1999-10-19

Abstract

(57)【要約】【課題】被測定面を透過あるいは被測定面で反射され
て形成される被測定光束の光強度が低くても良好な干渉
縞コントラストを得て高精度な干渉測定を行う。【解決手段】光源１から出射された可干渉光はコリメ
ータレンズ２でコリメートされ、ビームスプリッター３
により参照鏡４を経て第２参照鏡１４ａに向かう光束
と、測定対象物６に向かう光束とに分割される。参照鏡
４および第２参照鏡１４ａで反射されて形成された参照
光束と、測定対象物６の被測定面で反射されて形成され
た被測定光束とはビームスプリッター３で合成され、結
像レンズ７を経て拡散板８上に干渉縞の像が形成され
る。第２参照鏡切換機構１４は、互いに異なる反射率を
有する第２参照鏡１４ａおよび１４ｂのうちいずれかを
参照光束形成用の参照面として切り換えるためのもので
ある。そして、測定対象物６の被測定面の反射率に応じ
て第２参照鏡１４ａまたは１４ｂが選択される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、干渉測定装置に関
するものであり、特に被測定面を透過あるいは被測定面
で反射されて形成される被測定光束の光強度が低くても
良好な干渉縞コントラストを得ることのできる干渉測定
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】参照鏡で形成された参照光と被測定面で
形成された測定光とで生じる干渉縞を用いて被測定面の
面精度や透過波面等を計測する干渉測定装置や干渉測定
方法において、可干渉性を有する光を出射する光源とし
て赤外波長領域の光源を用いるものでは、参照鏡に高反
射処理が施される。

【０００３】ところで、光干渉測定において、参照鏡で
反射されて形成される光束（以下、これを参照光束と称
する）と被測定面で反射された光束、あるいは被測定面
を透過して形成される光束（以下、これを被測定光束と
称する）とで、両者の光強度差の小さい方が干渉縞のコ
ントラストを高めることができる。したがって、比較的
透過率の高い測定対象物の透過波面を計測する場合や比
較的反射率の高い測定対象物の反射波面を計測する場合
には、高反射処理を施した参照鏡が有用である。また、
赤外光学材料や赤外光学素子などの測定対象物の透過波
面を測定する場合、可干渉性を有する光を出射する光源
として赤外波長領域の光を発する光源を用いるが、この
場合も測定対象物の透過率が比較的高い場合には上述の
高反射処理を施した参照鏡が有用である。なお、測定対
象物が赤外光学材料や赤外光学素子であっても、反射波
面を測定する際には測定に際して使用される光の波長を
問題としない事が多く、標準的な可視光を使用した干渉
計で代用されるのが一般的である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の干渉
測定装置や干渉測定方法では、比較的透過率の高い光学
材料や素子などの透過波面計測に有用ではあるものの、
透過率の低い材料には不向きである。つまり、参照光束
と被測定光束との光強度差が大きくなり、高いコントラ
ストの干渉縞を得にくい。又、表面の面粗度が粗く可視
光を利用出来ない面の計測に際しては、測定対象物が赤
外光学材料や赤外光学素子であるか否かを問わず、赤外
波長領域の光を発する光源が用いられることがあるが、
それでも高い表面反射率が得らない場合、上述した理由
により高いコントラストの干渉縞を得にくい。

【０００５】また、標準的な可視光源を使用した干渉計
で面精度の計測を行うには、被測定物が研削面等のよう
に表面粗度の粗いものの場合、被計測面の面粗度が良好
になるまで研摩加工を行う必要があり、更に、干渉縞の
縞密度が著しく高くならない程度まで表面形状を整える
必要がある。従って、計測に至るまでの時間がかかると
共に、余分な研摩加工コストを生じ、生産性を阻害する
要因ともなる。これは研磨工程に先だち、研削工程で所
定の精度が達成されているのを確認する事が研磨工程の
所要時間短縮の為に不可欠であり、重要だからである。

【０００６】本発明の目的は、広い測定光束の強度範囲
に対応して良好な干渉縞コントラストを得ることによ
り、測定物の透過率や表面反射率が低くても、高精度の
面精度測定が可能で、面精度の測定を短時間のうちに行
うことのできる干渉測定装置および干渉測定方法を提供
することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図１
に対応付けて以下の発明を説明する。（１）請求項１に記載の発明は、可干渉性を有する光
を出射する光源１と；干渉測定用の参照光束を形成する
ための参照鏡４と；光源１から出射された光を分割して
参照鏡４および測定対象物６の被測定面に導く光分割手
段３とを具備し；光分割手段３により参照鏡４に導かれ
る光束の光強度に対して、参照鏡４で反射され、干渉に
寄与する光束として形成される参照光束の光強度の割合
を６０％以下とすることにより上述の目的を達成する。
一実施の形態を示す図２に対応付けて以下の発明を説明
する。（２）請求項２に記載の発明は、可干渉性を有する光
を出射する光源１と；干渉測定用の参照光束を形成する
ための参照鏡１４ａ、１４ｂと；光源１から出射された
光を分割して参照鏡１４ａまたは１４ｂ、および測定対
象物６の被測定面に導く光分割手段３と；光分割手段３
により参照鏡４に導かれる光束の光強度に対して、参照
鏡３で反射され、干渉に寄与する光束として形成される
参照光束の光強度の割合を変化させる参照光束強度変更
手段１４とを有するものである。また、光源１から出射
される光は、赤外波長領域の光が好ましく、表面粗度の
粗い光学素子の面形状計測を可能とする。（３）請求項３に記載の発明において、参照光束強度
変更手段１４は、参照光束を形成する際に用いられ、か
つ互いに反射率の異なる複数の参照鏡１４ａおよび１４
ｂを有し、複数の参照鏡１４ａおよび１４ｂのうちの１
の参照鏡を選択することにより光強度の割合を変化させ
るものである。（４）一実施の形態を示す図３に対応付けて説明する
と、請求項４に記載の発明において、参照光束強度変更
手段は、光分割手段３から参照鏡４に導かれる赤外波長
領域光の光路上に配設される透過率変更手段１７をさら
に有し、透過率変更手段１７の透過率を変化させること
により光強度の割合を変化させるものである。さらに、以下に開示される内容から、上述の発明以外に
他の発明も記載されていることがあきらかである。これ
らの発明について、一実施の形態を示す図１に対応付け
て説明する。その発明の一つは、可干渉性を有する赤外
波長領域光を出射する光源１と、干渉測定用の参照光束
を形成するための参照鏡４とを有する干渉測定装置を用
いた干渉測定方法に適用される。そして、光源１から出
射された赤外波長領域光が参照鏡４で反射され、干渉に
寄与する光束として形成された参照光束の光強度を、参
照鏡４に入射する光束の光強度の６０％以下とする干渉
測定方法である。また、他にも、可干渉性を有する赤外
波長領域光を出射する光源１と、干渉測定用の参照光束
を形成するための参照鏡４と、光源１から出射された赤
外波長領域光を分割して参照鏡４および測定対象物６の
被測定面に導く光分割手段３とを有する干渉測定装置を
用いた干渉測定方法に適用されるものがある。そしてこ
の発明は、光分割手段３により参照鏡４に導かれる光束
の光強度に対して、参照鏡４で反射され、干渉に寄与す
る光束として形成される参照光束の光強度の割合を、測
定対象物６の被測定面で形成される被測定光束の強度に
応じて変化させる干渉測定方法である。さらには、参照
鏡４は高反射処理の施されない石英ガラスまたはゼロデ
ュア（ショット社の登録商標）で構成されるものであ
る。

【０００８】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。

【０００９】

【発明の実施の形態】−第１の実施の形態− 以下、図１を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明をトワイマングリーン型干渉計に適用し
た場合の構成を示す図である。

【００１０】図１において、光源１には、ヘリウムネオ
ンレーザーやヘリウムキセノンレーザー、あるいは炭酸
ガスレーザーなどのガスレーザーや赤外波長領域のレー
ザーダイオード等通常の可干渉性を有する光源を使用す
る。光源から出射されたコヒーレント光束は、必要に応
じて整形された後に、レンズ２ａおよび２ｂで構成され
るコリメータレンズ２でコリメートされ、ビームスプリ
ッター３により参照鏡４に向かう光束と測定対象物６に
向かう光束とに分割される。そして、ビームスプリッタ
ー３により参照鏡４に向かう光束である参照光束は、参
照鏡４によって反射され、再びビームスプリッター３に
入射する。

【００１１】また、ビームスプリッター３より測定対象
物６に向かう光束である被測定光束は、その光束の波面
を測定対象物６の理想形状と同じ波面に変換する補正光
学系である集光レンズ１３に入射する。そして、集光レ
ンズ１３を透過し、被測定対象物６で反射され、再び集
光レンズ１３を透過してビームスプリッター３に入射す
る。

【００１２】なお、集光レンズ１３は、高い透過率を有
する材料から形成され、その表面には反射防止膜を有し
ている。したがって、光強度の減衰が殆ど起こらないよ
うになっている。

【００１３】参照鏡４により反射されて形成された参照
光束の光強度は、最も単純にはビームスプリッター３の
光強度分割比率と参照鏡４の反射率により定まる。他
方、測定対象物６で反射されて形成された被測定光束の
光強度は、同様に、ビームスプリッターの３光強度分割
比率と測定対象物６の反射率により定まる。

【００１４】上記光路に光強度を減衰させる素子が含ま
れる場合には、勿論それらの減衰率も考慮しなければな
らないが、ここでは理解を容易にする為に、これら光強
度を減衰させる素子が含まれない事として説明を続け
る。参照鏡４、測定対象物６でそれぞれ正反射されて形
成された参照光束と被測定光束とは、再びビームスプリ
ッター３で合成され、レンズ７ａおよび７ｂで構成され
る結象レンズ７を経て拡散板８上に測定対象物６の被測
定面の精度に応じた像が結像され、これによって光の可
干渉性が取り除かれる。拡散板８に結像される像は、更
に観察レンズ９により干渉縞検出器１０の検出面上に再
度結像される。干渉縞の解析は通常の縞走査測定法、す
なわち参照光路（図１において参照鏡４とビームスプリ
ッター３との間の光路）の光学的光路長又は、被測定光
路（図１において測定対象物６とビームスプリッター３
との間光路）の光学的光路長を例えば光源波長の半分
（λ／２）だけ変位させて干渉縞に変調をかけ、この間
の干渉縞の変化から演算処理する方法で高精度に測定で
きる。本実施の形態では、縞走査用アクチュエータ５に
よって参照光路の光学的光路長を変化させるか、あるい
は光源１より出射される可干渉光の波長を変化させて、
干渉縞に変調をかける。

【００１５】以上の過程により得られた干渉縞信号は、
コンピュータ１１によって処理が行われる。また、縞走
査用アクチュエータ５はコンピュータ１１によりドライ
バー１２を介して駆動制御される。ここでは、理解を容
易にする為に測定対象物６の表面形状を測定する例を示
すが、測定光路上に配置される被測定対象の透過波面を
測定するものであってもよい。又、波面に大きな変化を
生じてしまう場合には、補正光学系として、いわゆるＮ
ＵＬＬ光学素子を使用しても良い。

【００１６】また、光源１として、赤外波長領域の光を
放射する光源を適用した理由は以下のとおりである。す
なわち、波長の比較的短い光を用いた場合、得られる干
渉縞の中には表面の粗さによる干渉縞が発生する。その
ため、得られた干渉縞は研磨すれば解消されるものなの
か、それとも測定対象物６の形状そのものを修正しなく
てはならないものなのか、判別が困難となる。これに対
して波長の長い光を用いた場合、表面粗さによる干渉縞
が発現しにくくなり、測定対象物６の形状が理想形状と
異なる部分にのみ干渉縞が発現するようになり、表面形
状の計測が容易となる。

【００１７】ところで、光干渉測定においては、参照光
束の光強度と被測定光束の光強度との差が少ない方が高
い干渉縞のコントラストを得やすいことは既に説明した
とおりである。

【００１８】そこで、図１に示す干渉測定装置では参照
鏡４で反射されて干渉に寄与する光強度を６０％以下に
設定してある。以下、これについて具体的に説明する。

【００１９】一般に、可視光での光学硝子の屈折率は、
高々１．５前後であり、垂直入射の強度反射率は４％前
後に止まる。一方、赤外波長領域の例えば炭酸ガスレー
ザーの波長１０．６μｍでの石英硝子の屈折率は、２．
２以上であり、減衰係数も考慮して求めると、垂直入射
の場合の強度反射率は１４．５％となる。又、物体表面
の反射率は、通常１００％を越えず、これは可視領域で
も赤外線波長領域でも同様である。そこで、参照鏡４に
熱膨張係数が低く、高精度研磨加工の良好な石英硝子や
その他、ゼロデュア（ショット社の登録商標）等同程度
の反射率を有する硝子又はセラミクスを用いて、表面処
理を行わずに使用すると、ビームスプリッタ３の光強度
分割比率を１：１とした時の干渉縞コントラストは、光
路上に光強度減衰が無い事を仮定すると、測定対象物６
の被測定面の反射率が１４．５％の場合に１００％とな
り、反射率が最高の１００％の時でも６６．５％のコン
トラストが得られる。更に、測定対象物６の被測定面の
反射率が１％の時でも５０％のコントラストが得られ
る。一方、参照鏡の反射率を従来のごとく約１００％と
した場合には、反射率１％の時のコントラストは高々２
０％となってしまって、良好な干渉計測は期待できな
い。

【００２０】また、測定対象物６の被測定面の面粗度が
粗くなると、反射率は低下する。表面粗度のｒｍｓ粗さ
をσとし、使用する光の波長をλとすると、例えば σ
／λ＝０．１の時に干渉縞コントラストは、４５％とな
る。従って、例えば波長３．４μｍの可干渉光を用いて
測定しようとすると被測定面のｒｍｓ粗さが０．３４μ
ｍ程度であっても干渉縞コントラストは４５％程度とな
ってしまい、同様に波長１０．６μｍの可干渉光を用い
た時には被測定面のｒｍｓ粗さが１．０６μｍ程度であ
っても干渉縞コントラストは４５％程度となってしま
う。これはつまり、波長が数百ナノメートル（可視領域
光）の可干渉光を用いた場合、表面のｒｍｓ粗さが数十
ナノメートルあるだけで干渉縞コントラストは低下して
しまうことを意味する。通常の研削加工で、表面の粗度
を数十ナノメートル以下のｒｍｓ粗さに仕上げたり、更
に干渉縞の縞密度が著しく高くならない様に良好な形状
精度を同時に満足するのは、困難である。

【００２１】これに対して、光源１に数ミクロンから１
０ミクロン程度の可干渉赤外光を出射するものを用い、
かつ参照鏡４の反射率を６０％以下とすることで測定対
象物６の被測定面の面粗度がｒｍｓ粗さで数百〜千ナノ
メートル程度であっても十分な干渉縞コントラストを得
ることができる。この数百〜千ナノメートル程度のｒｍ
ｓ粗さは、通常の研削加工で充分可能な加工精度であ
り、したがって余分な仕上げを施すことなく、面精度の
測定が短時間で高精度に行うことができる。特に、石英
硝子程度の屈折率と熱膨張率を有する基材を高反射処理
を施さずに参照鏡として使用すると１０％前後の反射率
が得られ、広い測定光強度に対して良好な干渉縞コント
ラストが安価に確保できる。

【００２２】以上、第１の実施の形態の説明では、参照
鏡４の反射率を６０％以下とする例について説明した
が、これは冒頭の説明でも述べたとおり、ビームスプリ
ッター３と参照鏡４との間の光路上に光強度を減衰させ
る素子や要因などが存在する場合、参照鏡４の反射率は
上記素子や要因などによる光強度の減衰量に応じて調節
することが望ましい。つまり、光源１より出射し、コリ
メートレンズ２でコリメートされた光束のうち、ビーム
スプリッター３で分割、反射されて参照鏡４に向かう光
束の光強度に対して、参照鏡４で反射され、干渉に寄与
する参照光束として形成される光束の光強度の比率を６
０％以下とすればよい。

【００２３】−第２の実施の形態− 図１に示すものと同様に本発明をトワイマングリーン型
干渉計に適用した場合の構成を示す図２を参照して本発
明の第２の実施の形態について説明する。図２におい
て、図１に示すものと同一の構成要素には同一の符号を
付し、その説明を省略する。

【００２４】図２に示す干渉測定装置は、参照光束を形
成するための反射面として参照鏡４に加えて互いに反射
率の異なる第２参照鏡１４ａおよび１４ｂを有する。こ
れらの第２参照鏡１４ａおよび１４ｂは、ターレット板
に固定した第２参照鏡切換機構１４を有する。第２参照
鏡切換機構１４は、コンピュータ１１からの指令に基づ
き、ドライバ１６を介してモータ１５により駆動され
る。これによって第２参照鏡１４ａまたは１４ｂが参照
光束形成用の反射面として選択される。

【００２５】上記第２参照鏡１４ａおよび１４ｂについ
てさらに説明する。第２の実施の形態に係る干渉測定装
置において、参照光束は上述のとおり参照鏡４と第２参
照鏡１４ａ、または参照鏡４と第２参照鏡１４ｂとで反
射されて形成される。そして、参照鏡４および第２参照
鏡１４ａによる合成反射率が６０％以下となるように第
２参照鏡１４ａの反射率は設定される。一方、参照鏡４
および第２参照鏡１４ｂによる合成反射率が６０％より
も高くなるように第２参照鏡１４ｂの反射率は設定され
る。したがって、測定対象物６の被測定面の反射率に応
じて第２参照鏡切換機構１４を駆動制御し、第２参照鏡
１４ａまたは１４ｂを選択することにより、常にコント
ラストの高い干渉縞を得ることができる。

【００２６】以上、第２の実施の形態では、測定対象物
６の被測定面の反射率に応じて第２参照鏡切換機構１４
を駆動制御し、２枚の第２参照鏡１４ａおよび１４ｂの
うち、いずれかを選択する例について説明したが、第２
参照鏡を３枚以上備えるものであってもよい。

【００２７】また、以上の第２の実施の形態において
も、第１の実施の形態の説明と同様にビームスプリッタ
ー３と参照鏡４との間、そして参照鏡４と第２参照鏡１
４ａ（または１４ｂ）との間の光路上に光強度を減衰さ
せる素子や要因などが存在する場合、参照鏡４および第
２参照鏡１４ａ（または１４ｂ）の合成反射率は上記素
子や要因などによる光強度の減衰量に応じて調節するこ
とが望ましい。

【００２８】−第３の実施の形態− 図１および図２に示すものと同様に本発明をトワイマン
グリーン型干渉計に適用した場合の構成を示す図３を参
照して本発明の第３の実施の形態について説明する。図
３において、図１に示すものと同一の構成要素には同一
の符号を付し、その説明を省略する。

【００２９】図３に示す干渉測定装置は、ビームスプリ
ッター３と参照鏡４との間に光強度減衰素子１７が設置
される。この光強度減衰素子１７としては、例えばフッ
化カルシウム等の吸収のあるウェッジ素子１７ａおよび
１７ｂを２つ以上配置して、これらの素子を図３に示す
矢印Ｘの方向に沿って対向方向に動かすことで連続的に
透過率を変える事が出来る。又、入射角度を変える事で
透過率を変えるようにこれらの素子を配置して、連続的
に透過率を変化させる事も出来る。これにより、ビーム
スプリッター３と参照鏡４との間を往復して干渉に寄与
する光の光強度を連続して変化させることが可能とな
る。この光強度減衰素子１７の減衰量を調整することに
より、測定対象物６の被測定面の反射率に応じ、参照鏡
４で反射されて干渉に寄与する光の光強度を６０％以下
とすることも、６０％よりも高くなるようにすることも
可能である。

【００３０】このとき、上述の光強度減衰素子１７を用
いて透過率を変化させた場合に、参照波面にひずみを生
じないように注意するか、ひずみが生じてしまう場合に
は、そのひずみを検出して補正する事が望ましい。

【００３１】また、干渉測定に直線偏光光束を使用する
場合には、ウエッジ素子１７ａおよび１７ｂに代えて偏
光板を使用して透過率を変える事も可能であるが、この
場合には参照光束及び被測定光束がビームスプリッター
で合成された後に、干渉が可能なように偏光方向を整え
る必要がある。

【００３２】以上、第１〜第３の実施の形態で説明した
干渉測定装置によれば、参照鏡で反射されて干渉に寄与
する光の光強度を６０％以下とすることにより、従来困
難あるいは不可能であった、比較的透過率の低い材料の
透過波面計測や表面の面粗度が粗く可視光を利用出来な
い面の計測、特に赤外波長を用いても高い表面反射率が
得られない面の計測も可能となる。従って、従来行われ
ていたような研削工程後の表面粗度を向上させる為のつ
や出し研磨工程が不要となり、通常の赤外干渉計を用い
て高精度の計測を短時間のうちに行うことが可能とな
る。

【００３３】ここで、第１〜第３の実施の形態で説明し
た干渉測定装置を用いて赤外線透過材料の透過波面計測
あるいは表面形状計測を行う具体例を示す。第１〜第３
の実施の形態に係る干渉測定装置によれば、例えばゲル
マニウムやセレン化亜鉛等の赤外線透過性の比較的高い
材料の透過波面計測やその反射波面計測の両者の計測が
可能である。これらの材料の波長１０．６μｍにおける
屈折率はそれぞれ、約４．０と約２．４程度であり、そ
れぞれの垂直入射時の強度反射率は、約３６％と約１７
％である。この時、参照鏡の反射率を１４．５％とする
と、それぞれの場合に形成される干渉縞のコントラスト
は、約９０％と約１００％となる。又、これらの材料の
透過率はそれぞれ約１７％と４７％であり、その時の干
渉縞コントラストとしては、それぞれ１００％と８５％
となる。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように、（１）請求項１に記載の発明よれば、測定対象物の透
過率や反射率が低い場合にもコントラストの高い干渉縞
を得ることができる。これにより、測定対象物の被測定
面が研削加工面などのように表面粗度の粗いものであっ
ても、あるいは測定対象物の透過率が低いものであって
も精度よく測定を行うことができる。したがって、面粗
度が粗く、透過率や反射率の低い研削面の評価も高精度
で行う事により次工程の研磨加工時間の短縮が実現出来
る。又、従来接触式座標測定器等を用いて長い時間をか
けて行われていた測定を、より短時間のうちに行うこと
ができる。（２）請求項２に記載の発明によれば、測定対象物の
透過率や反射率の高低に応じて参照光束の光強度の割合
を変化させることにより、常にコントラストの高い干渉
縞を得ることができ、したがって高精度の測定を行うこ
とができる。（３）請求項３に記載の発明によれば、測定対象物の
透過率や反射率の高低に応じて反射率の互いに異なる複
数の反射鏡のうちの１つを選択することができ、これに
より常にコントラストの高い干渉縞を得ることができ
る。（４）請求項４に記載の発明によれば、透過率変更手
段によって測定対象物の透過率や反射率の高低に応じて
参照光束の光強度の割合を変化させることができ、これ
により常にコントラストの高い干渉縞を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る干渉測定装置
の構成を示す図。

【図２】本発明の第２の実施の形態に係る干渉測定装置
の構成を示す図。

【図３】本発明の第３の実施の形態に係る干渉測定装置
の構成を示す図。

【符号の説明】

１光源２ａ、２ｂレンズ３ビームスプリッター４参照鏡４ａ、４ｂ第２参照鏡５縞走査用アクチュエータ６測定対象物７ａ、７ｂ結像レンズ８拡散板９観察レンズ１０干渉縞検出器１１コンピュータ１２、１６ドライバー１３集光レンズ１４第２参照鏡切換機構１５モータ１７光強度減衰素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】可干渉性を有する光を出射する光源と、干渉測定用の参照光束を形成するための参照鏡と、前記光源から出射された前記光を分割して前記参照鏡お
よび測定対象物の被測定面に導く光分割手段とを具備
し、前記光分割手段により前記参照鏡に導かれる光束の光強
度に対して、前記参照鏡で反射され、干渉に寄与する光
束として形成される参照光束の光強度の割合を６０％以
下にしたことを特徴とする干渉測定装置。
【請求項２】可干渉性を有する光を出射する光源と、干渉測定用の参照光束を形成するための参照鏡と、前記光源から出射された前記光を分割して前記参照鏡お
よび測定対象物の被測定面に導く光分割手段と、前記光分割手段により前記参照鏡に導かれる光束の光強
度に対して、前記参照鏡で反射され、干渉に寄与する光
束として形成される参照光束の光強度の割合を変化させ
る参照光束強度変更手段とを有することを特徴とする干
渉測定装置。
【請求項３】請求項２に記載の干渉測定装置におい
て、前記参照光束強度変更手段は、前記参照光束を形成する
際に用いられ、かつ互いに反射率の異なる複数の参照鏡
を有し、前記複数の参照鏡のうちの１の参照鏡を選択す
ることにより前記光強度の割合を変化させることを特徴
とする干渉測定装置。
【請求項４】請求項２に記載の干渉測定装置におい
て、前記参照光束強度変更手段は、前記光分割手段から前記
参照鏡に導かれる前記赤外波長領域光の光路上に配設さ
れる透過率変更手段をさらに有し、前記透過率変更手段
の透過率を変化させることにより前記光強度の割合を変
化させることを特徴とする干渉測定装置。