JPH11284094A - Semiconductor device and manufacture of semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device and manufacture of semiconductor device

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JPH11284094A
JPH11284094A JP8073898A JP8073898A JPH11284094A JP H11284094 A JPH11284094 A JP H11284094A JP 8073898 A JP8073898 A JP 8073898A JP 8073898 A JP8073898 A JP 8073898A JP H11284094 A JPH11284094 A JP H11284094A
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semiconductor
pellet
semiconductor pellet
heat
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Keiji Sasaki
圭治 佐々木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make compatible the reduction in manufacturing cost, miniaturization of an exterior dimensions and improvement of heat radiation performance. SOLUTION: A semiconductor pellet 3 is fixed to a heat spreader 2 which is fixed on a package substrate 1. Bonding pads of a semiconductor pellet 3 are connected with solder bumps 4 which function as outer connecting electrodes, via a wiring pattern 1a formed on the package substrate 1 and bonding wires 5. Furthermore, the semiconductor pellet 3 encapsulated with resin 6, thus constitutes a semiconductor device in which the heat spreader 2 consisting of a metal like copper(Cu) satisfactory workability, cost and thermal conductivity. An uneven part 2a is formed on the outer surface of the heat spreader 2 itself by press working or the like, so that heat radiating performance is enhanced, without increasing the thickness or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
半導体装置の製造技術に関し、特に、半導体ペレットか
らの放熱に配慮の必要な半導体装置の製造技術等に適用
して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a semiconductor device manufacturing technology, and more particularly to a technology effective when applied to a semiconductor device manufacturing technology and the like in which heat dissipation from semiconductor pellets needs to be considered.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、日刊工業新聞社、1997年
3月1日発行、「表面実装技術」P2〜P8等の文献に
も記載されているように、半導体装置では、小型化、低
価格化と、入出力ピン数の増大、動作周波数の増加によ
る発熱量の増大等に対処すべく、パッケージ構造の一部
を平坦な金属板等からなるヒートスプレッダで構成し、
半導体ペレットを、このヒートスプレッダに搭載して放
熱を行わせることが知られている。
2. Description of the Related Art As described in documents such as "Surface Mount Technology" P2 to P8, published on March 1, 1997 by Nikkan Kogyo Shimbun, for example, miniaturization and cost reduction of a semiconductor device have been achieved. In order to cope with an increase in the number of input / output pins and an increase in the amount of heat generated by an increase in the operating frequency, a part of the package structure is constituted by a heat spreader made of a flat metal plate or the like,
It is known that semiconductor pellets are mounted on this heat spreader to release heat.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、半導体ペレ
ットの発熱量が増大すると、平坦なヒートスプレッダで
は放熱能力が不足し、実装される半導体ペレットの品種
等が制約を受ける懸念がある。
However, when the amount of heat generated by the semiconductor pellets increases, there is a concern that the heat dissipation capability of a flat heat spreader is insufficient, and the type of semiconductor pellets to be mounted is restricted.

【0004】このため、たとえば、日経BP社、199
3年5月31日発行、実践講座VLSIパッケージング
技術、P205等の文献にも記載されているように、ヒ
ートスプレッダの表面に、別部材の放熱フィンをネジ等
にて取り付けることにより、放熱量の向上を実現するこ
とが考えられるが、構造が複雑になるため半導体装置の
製造原価が増大するとともに、厚さ寸法も増大する、と
いう他の技術的課題を生じてしまう。
For this reason, for example, Nikkei BP, 199
As described in the literature such as VLSI Packaging Technology, P205, published on May 31, 3rd 2005, the radiation amount of heat is reduced by attaching the radiation fin of another member to the surface of the heat spreader with screws or the like. Although it is conceivable to achieve the improvement, another technical problem that the manufacturing cost of the semiconductor device is increased due to the complicated structure and the thickness dimension is increased is caused.

【0005】本発明の目的は、製造原価の低減と放熱性
能の向上とを両立させることが可能な半導体装置および
半導体装置の製造技術を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device and a semiconductor device manufacturing technique capable of achieving both a reduction in manufacturing cost and an improvement in heat radiation performance.

【0006】本発明の他の目的は、外形寸法の小型化と
放熱性能の向上とを両立させることが可能な半導体装置
および半導体装置の製造技術を提供することにある。
It is another object of the present invention to provide a semiconductor device and a semiconductor device manufacturing technique capable of achieving both a reduction in external dimensions and an improvement in heat dissipation performance.

【0007】本発明の他の目的は、発熱量の大きな半導
体ペレットを安価かつ小型なパッケージ構造にて実装す
ることが可能な半導体装置および半導体装置の製造技術
を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of mounting a semiconductor pellet having a large amount of generated heat in an inexpensive and small package structure and a technique for manufacturing the semiconductor device.

【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0010】本発明は、任意の機能を有する半導体ペレ
ットを放熱部材に固定してなる半導体装置において、放
熱部材が凹凸形状を有する構造としたものである。
According to the present invention, in a semiconductor device in which a semiconductor pellet having an arbitrary function is fixed to a heat radiating member, the heat radiating member has a structure having an uneven shape.

【0011】また、本発明は、任意の機能を有する半導
体ペレットを放熱部材に固定してなる半導体装置の製造
方法において、放熱部材に凹凸形状を形成する工程を含
むようにしたものである。
Further, the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor pellet having an arbitrary function is fixed to a heat radiating member, the method including a step of forming an uneven shape on the heat radiating member.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明の一実施の形態である半導
体装置の製造方法にて製造された半導体装置の構成の一
例を示す断面図であり、図2、本実施の形態の半導体装
置の製造方法の一例を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a configuration of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG. It is a flowchart which shows an example of a manufacturing method.

【0014】本実施の形態の半導体装置Aは、略枠形状
のパッケージ基板1と、パッケージ基板1に形成された
複数の配線パターン1aと、パッケージ基板1に支持さ
れるヒートスプレッダ2(放熱部材)と、ヒートスプレ
ッダ2に搭載された半導体ペレット3と、配線パターン
1aに接続された複数の半田バンプ4と、複数の配線パ
ターン1aと半導体ペレット3上の図示しない複数のボ
ンディングパッドとの間に個別に架設された複数のボン
ディングワイヤ5と、半導体ペレット3を封止する樹脂
6、等で構成されている。
The semiconductor device A according to the present embodiment includes a substantially frame-shaped package substrate 1, a plurality of wiring patterns 1a formed on the package substrate 1, and a heat spreader 2 (heat radiating member) supported by the package substrate 1. A semiconductor pellet 3 mounted on the heat spreader 2, a plurality of solder bumps 4 connected to the wiring pattern 1a, and a plurality of bonding pads (not shown) on the semiconductor pellet 3 and the plurality of wiring patterns 1a. And a resin 6 for sealing the semiconductor pellet 3.

【0015】パッケージ基板1は、たとえばガラスエポ
キシ樹脂等の絶縁物で構成され、各部の寸法は、一例と
して厚さ寸法が2mm、外形寸法が50mm×50m
m、程度である。配線パターン1aは、内端部が、枠形
状の内縁部に突設された段差部1bに露出し、外端部
は、側面部に露出し、その上に半田バンプ4が配置形成
されている。
The package substrate 1 is made of, for example, an insulating material such as a glass epoxy resin. The dimensions of each part are, for example, a thickness of 2 mm and an outer dimension of 50 mm × 50 m.
m, degree. The wiring pattern 1a has an inner end exposed to a step portion 1b protruding from an inner edge of the frame shape, an outer end exposed to a side surface, and a solder bump 4 disposed thereon. .

【0016】また、このパッケージ基板1に、たとえば
接着材等で固定されるヒートスプレッダ2は、たとえば
厚さ寸法が1mm、外形寸法が30mm×30mm、程
度である。材質は、たとえば、加工性が良く、安価で、
熱伝導率の高い、たとえば銅(Cu)、アルミニウム
(Al)あるいはその合金で構成されている。
The heat spreader 2 fixed to the package substrate 1 by, for example, an adhesive or the like has, for example, a thickness of 1 mm and an outer dimension of about 30 mm × 30 mm. The material is, for example, easy to process, inexpensive,
It is made of, for example, copper (Cu), aluminum (Al), or an alloy thereof having high thermal conductivity.

【0017】半田バンプ4は、径寸法が、たとえば1m
m程度であり、たとえば500個程度、すなわち500
ピン程度の入出力端子数を確保できる。また、半導体ペ
レット3は、上述の寸法例では、15mm×15mm程
度のサイズのものを使用できる。
The solder bump 4 has a diameter of, for example, 1 m.
m, for example, about 500 pieces, ie, 500 pieces
The number of input / output terminals on the order of pins can be secured. Further, as the semiconductor pellet 3, in the above-described example of dimensions, a pellet having a size of about 15 mm × 15 mm can be used.

【0018】この場合、ヒートスプレッダ2における半
導体ペレット3の搭載面と反対側の外部露出面には、凹
凸部2aが形成されており、別部材の放熱フィン等を必
要とすることなく、また実装面に対する投影面積を増大
させることなく、ヒートスプレッダ2それ自体での放熱
面積が大きくされている。図5は、本実施の形態のヒー
トスプレッダ2を取り出して例示した斜視図であり、同
図に例示されるように、凹凸部2aは、たとえば、断面
が矩形の複数の溝を呈する。
In this case, an uneven portion 2a is formed on the externally exposed surface of the heat spreader 2 opposite to the surface on which the semiconductor pellet 3 is mounted, so that a separate member such as a radiation fin is not required. The heat radiation area of the heat spreader 2 itself is increased without increasing the projected area with respect to. FIG. 5 is a perspective view illustrating the heat spreader 2 according to the present embodiment by taking out the heat spreader 2. As illustrated in FIG. 5, the uneven portion 2 a has, for example, a plurality of grooves having a rectangular cross section.

【0019】このようなヒートスプレッダ2の凹凸部2
aは、たとえば、図3(a)〜(c)に例示されるよう
に、対向面に任意の形状の凹凸型面100aが形成され
たプレス型100とプレス型101との間にヒートスプ
レッダ2を挟圧するプレス加工にて安価に形成すること
ができる。その場合、凹凸部2aの形状は、凹凸型面1
00aの種類やプレス圧等によって任意に制御すること
ができる。
The uneven portion 2 of such a heat spreader 2
3A, for example, as illustrated in FIGS. 3A to 3C, the heat spreader 2 is placed between the press mold 100 and the press mold 101 having the concavo-convex mold surface 100 a of an arbitrary shape formed on the opposing surface. It can be formed inexpensively by press working with pinching. In that case, the shape of the uneven portion 2a is
It can be arbitrarily controlled by the type of 00a, press pressure and the like.

【0020】あるいは、図4に例示されるように、外周
部に任意の形状の凹凸パターン103aが形成された回
転するローレット103をヒートスプレッダ2に押し当
てることにより、当該ヒートスプレッダ2に凹凸パター
ン103aに対応した凹凸部2aを形成してもよい。
Alternatively, as shown in FIG. 4, a rotating knurl 103 having an irregular pattern 103a of an arbitrary shape formed on the outer peripheral portion thereof is pressed against the heat spreader 2 so as to correspond to the irregular pattern 103a. The uneven portion 2a may be formed.

【0021】なお、図1、図3、図4では、ヒートスプ
レッダ2に形成される凹凸部2aは、図5に例示される
断面矩形の溝形状ものに限らず、表面積を大きくするも
のであれば、任意の形状でよい。
In FIGS. 1, 3 and 4, the uneven portion 2a formed on the heat spreader 2 is not limited to a groove having a rectangular cross section illustrated in FIG. Any shape may be used.

【0022】たとえば、図6に例示されるような断面が
山型の凹凸部2b、図7に例示されるような断面が滑ら
かな波型の凹凸部2c、あるいは、図8に例示されるよ
うな孤立した多数のブロック状の凹凸部2d、あるい
は、図9に例示されるような孤立した多数の円柱形の凹
凸部2e、あるいは、図10に例示されるように多数の
円柱形の穴からなる凹凸部2f等、任意の形状のものを
用いることができる。
For example, as shown in FIG. 6, an uneven portion 2b having a mountain-shaped cross section, as shown in FIG. 7, a corrugated uneven portion 2c having a smooth cross section, or as shown in FIG. A large number of isolated block-shaped uneven portions 2d, a large number of isolated cylindrical uneven portions 2e as illustrated in FIG. 9, or a large number of cylindrical holes as illustrated in FIG. Any shape such as the uneven portion 2f can be used.

【0023】ヒートスプレッダ2に対する上述のような
凹凸部2a〜2fの形成は、上述のようなプレス加工や
ローレット加工等に限らず、切削加工等で形成してもよ
い。さらには、所望のパターンをマスクとするエッチン
グ加工、レーザビームによる加工、等、任意の加工方法
を用いることができる。
The formation of the above-mentioned uneven portions 2a to 2f on the heat spreader 2 is not limited to the above-described press working or knurling, but may be formed by cutting. Further, an arbitrary processing method such as etching using a desired pattern as a mask, processing using a laser beam, or the like can be used.

【0024】以下、本実施の形態における上述のような
半導体装置Aの製造方法の一例を、図2のフローチャー
トにて説明する。
Hereinafter, an example of a method of manufacturing the above-described semiconductor device A according to the present embodiment will be described with reference to a flowchart of FIG.

【0025】半導体ペレット3は、たとえば、周知のフ
ォトリソグラフィを用いるウェハプロセスにて半導体ウ
ェハ内に複数個が一括して形成され(ステップ30
1)、個々にプローブ等の検査を経た後(ステップ30
2)、ダイシングにて個別に分離されることにより(ス
テップ303)、図1のようなチップ形状として組み立
て工程に供される。
A plurality of semiconductor pellets 3 are collectively formed in a semiconductor wafer by a known wafer process using photolithography (step 30).
1) After individually inspecting the probe etc. (step 30)
2) By being separated individually by dicing (step 303), it is provided to an assembling process in a chip shape as shown in FIG.

【0026】一方、パッケージ基板1は、たとえば所望
の形状のガラス布基材をエポキシ樹脂等にて接着/積層
して形成され、銅箔等を表面に被着させたり内部に多層
構造に挟み込むことにより、配線パターン1aが形成さ
れる(ステップ304)。
On the other hand, the package substrate 1 is formed, for example, by bonding and laminating a glass cloth base material of a desired shape with an epoxy resin or the like, and attaching a copper foil or the like to the surface or sandwiching the inside with a multilayer structure. Thereby, the wiring pattern 1a is formed (Step 304).

【0027】一方、ヒートスプレッダ2は、たとえば、
上述のようなプレス加工等の任意の加工方法にて、たと
えば、所定の形状の銅やアルミニウム等の薄板の一主面
に凹凸部2a〜2fを形成することで制作される(ステ
ップ305)。
On the other hand, for example, the heat spreader 2
It is manufactured by forming the concave and convex portions 2a to 2f on one main surface of a thin plate made of, for example, copper or aluminum in a predetermined shape by an arbitrary processing method such as the above-described pressing (step 305).

【0028】そして、パッケージ基板1とヒートスプレ
ッダ2とは、ヒートスプレッダ2の凹凸部2a〜2fの
形成面を外側にして、たとえば接着等の方法にてパッケ
ージに組み立てられる(ステップ306)。
Then, the package substrate 1 and the heat spreader 2 are assembled into a package by, for example, bonding or the like, with the surface of the heat spreader 2 on which the uneven portions 2a to 2f are formed facing outward (step 306).

【0029】なお、上述のステップ301〜303のペ
レット製造工程、ステップ304のパッケージ基板1の
製造工程、ステップ305のヒートスプレッダ2の製造
工程の各々は、任意に並行して進めることができ、互い
の順序関係は任意である。
It should be noted that the above-described steps 301 to 303 for producing a pellet, the step 304 for producing the package substrate 1 and the step 305 for producing the heat spreader 2 can be arbitrarily performed in parallel. The order relation is arbitrary.

【0030】次にステップ306で得られたパッケージ
のヒートスプレッダ2の内側の平坦な面に対して、ペレ
ットボンディングにより、所望の導電性接着材等を用い
て半導体ペレット3を固定する(ステップ307)。
Next, the semiconductor pellet 3 is fixed to the flat surface inside the heat spreader 2 of the package obtained in Step 306 by using a desired conductive adhesive or the like by pellet bonding (Step 307).

【0031】その後、半導体ペレット3の複数のボンデ
ィングパッドと、パッケージ基板1の配線パターン1a
の対応する複数の内端部との間に個別に金線等の導体か
らなるボンディングワイヤ5を架設するワイヤボンディ
ングを行う(ステップ308)。
Thereafter, the plurality of bonding pads of the semiconductor pellet 3 and the wiring pattern 1a of the package substrate 1 are formed.
Then, wire bonding is performed for individually laying the bonding wires 5 made of a conductor such as a gold wire between the plurality of corresponding inner ends (step 308).

【0032】次に、パッケージ基板1の内部に位置する
半導体ペレット3を、ポッティング等の方法で樹脂6に
て封止する(ステップ309)。
Next, the semiconductor pellet 3 located inside the package substrate 1 is sealed with a resin 6 by a method such as potting (step 309).

【0033】その後、パッケージ基板1の外面部に露出
している配線パターン1aの外端部の各々に、半田バン
プ4を突設して形成する(ステップ310)。
Thereafter, solder bumps 4 are formed to project from each of the outer ends of the wiring pattern 1a exposed on the outer surface of the package substrate 1 (step 310).

【0034】このような方法にて、製造された本実施の
形態の半導体装置Aは、半田バンプ4を介して、所望の
実装対象物に対して表面実装される。
The semiconductor device A of the present embodiment manufactured by such a method is surface-mounted on a desired mounting object via the solder bumps 4.

【0035】そして、稼働中の半導体装置Aの半導体ペ
レット3から発生する熱は、ヒートスプレッダ2の外面
に形成された凹凸部2a〜2fによる広い放熱面積を介
して外部に効率良く放散される。
The heat generated from the semiconductor pellet 3 of the operating semiconductor device A is efficiently radiated to the outside through a wide heat radiation area by the uneven portions 2a to 2f formed on the outer surface of the heat spreader 2.

【0036】また、放熱フィン等の余分の部品を装着し
ないので、実装面からヒートスプレッダ2における凹凸
部2a〜2fの形成面までの高さ寸法が増大せず、半導
体装置Aの小型化、すなわち実装スペースの削減を実現
できる。
Further, since no extra parts such as heat radiation fins are mounted, the height from the mounting surface to the surface on which the uneven portions 2a to 2f of the heat spreader 2 are formed does not increase, and the semiconductor device A is reduced in size, that is, mounted. Space can be reduced.

【0037】なお、半導体装置の構造としては、図1に
例示したパッケージ基板を用いる組み立て構造に限ら
ず、以下のような、TAB(Tape Automat
edBonding)テープによる組み立て構造を有す
るものにも適用できる。
The structure of the semiconductor device is not limited to the assembly structure using the package substrate illustrated in FIG. 1, but may be a TAB (Tape Automat) as described below.
The present invention is also applicable to those having an assembly structure using an edBonding tape.

【0038】すなわち、図11は、本実施の形態におけ
る半導体装置の変形例を示す断面図である。この図11
に例示される半導体装置Bは、ポリイミド樹脂等の絶縁
物からなる枠状のテープ基材10aと、このテープ基材
10aの一主面に放射状に形成された金属箔等からなる
複数のリード10bと、このリード10bと反対側のテ
ープ基材10aの主面に被着されたサポートリング10
c等で構成されるTABテープ10のリード10bの先
端部に対して、半導体ペレット3の図示しないボンディ
ングパッドを一括してボンディングした後、外面に凹凸
部2a〜2f等が形成されたヒートスプレッダ2を接着
材にてサポートリング10cおよび半導体ペレット3に
被着固定した構造となっている。また、複数のリード1
0bの基端部側には、複数の半田バンプ11が個別に被
着形成されている。半導体ペレット3は、たとえばポッ
ティング等の方法で樹脂12にて封止されている。
FIG. 11 is a sectional view showing a modification of the semiconductor device according to the present embodiment. This FIG.
The semiconductor device B illustrated in FIG. 1 includes a frame-shaped tape base 10a made of an insulator such as a polyimide resin, and a plurality of leads 10b made of a metal foil or the like radially formed on one main surface of the tape base 10a. And a support ring 10 attached to the main surface of the tape base 10a opposite to the lead 10b.
After bonding the bonding pads (not shown) of the semiconductor pellets 3 to the tips of the leads 10b of the TAB tape 10 composed of the heat spreader 2 and the like, the heat spreader 2 having the irregularities 2a to 2f on the outer surface is removed. The structure is such that the support ring 10c and the semiconductor pellet 3 are adhered and fixed with an adhesive. In addition, a plurality of leads 1
A plurality of solder bumps 11 are individually formed on the base end side of Ob. The semiconductor pellet 3 is sealed with the resin 12 by, for example, a method such as potting.

【0039】各部の寸法は、一例として、テープ基材1
0aおよびサポートリング10cの厚さは、それぞれ1
25μm、リード10bは厚さが35μm、半田バンプ
11は外径が500μm、ヒートスプレッダ2の厚さ
は、この場合、1000μm以下、であり、全体の厚さ
は、2mm以下である。
The dimensions of each part are, for example, as follows.
0a and the thickness of the support ring 10c are each 1
The lead 10b has a thickness of 35 μm, the solder bump 11 has an outer diameter of 500 μm, the thickness of the heat spreader 2 is 1000 μm or less in this case, and the total thickness is 2 mm or less.

【0040】このように、図11の半導体装置Bの場合
には、TABテープ10を用いることにより、図1のパ
ッケージ基板を用いる構成の場合よりもさらに薄型化、
低コスト化が可能であるが、その場合にも、ヒートスプ
レッダ2自体に凹凸部2a〜2f等を形成することによ
り、TABテープ10の採用による薄型寸法を維持した
ままで放熱性能を向上させることができ、ヒートスプレ
ッダ2における放熱性能による制約によって、半導体ペ
レット3の品種等が制約を受ける懸念がない。したがっ
て比較的高い発熱量の半導体ペレット3を、薄い小型の
パッケージ形態にて実装できる、という効果が得られ
る。
As described above, in the case of the semiconductor device B of FIG. 11, the use of the TAB tape 10 makes the semiconductor device B thinner than the case of using the package substrate of FIG.
Although it is possible to reduce the cost, even in that case, it is possible to improve the heat radiation performance while maintaining the thin dimensions by adopting the TAB tape 10 by forming the uneven portions 2a to 2f and the like on the heat spreader 2 itself. Thus, there is no concern that the type of the semiconductor pellets 3 is restricted by the heat radiation performance of the heat spreader 2. Therefore, an effect is obtained that the semiconductor pellet 3 having a relatively high calorific value can be mounted in a thin and small package form.

【0041】図12は、TABテープを用いた変形例を
示す半導体装置Cの構成の一例を示す断面図である。こ
の図12の場合には、TABテープ20が、テープ基材
20aの表裏両面にリード20bおよびテープ基材20
aを貫通して当該リード20bに電気的に接続された導
体パターン20cを形成した構造を呈しており、リード
20bの先端部は、半導体ペレット3の側に設けられた
半田バンプ3aを介してCCB接続されている。
FIG. 12 is a sectional view showing an example of the structure of a semiconductor device C showing a modification using a TAB tape. In the case of FIG. 12, the TAB tape 20 has the leads 20b and the tape base 20 on both the front and back surfaces of the tape base 20a.
a, and a conductive pattern 20c electrically connected to the lead 20b is formed, and a tip of the lead 20b is connected to the CCB via a solder bump 3a provided on the semiconductor pellet 3 side. It is connected.

【0042】サポートリング20dは、接着材層20e
を介してリード20bの上に被着され、さらに、このサ
ポートリング20dの上に、接着材層20fを介して、
その中央部が半導体ペレット3に固定され凹凸部2a〜
2fにて放熱を行うヒートスプレッダ2の周辺部が固定
されている。
The support ring 20d is provided with an adhesive layer 20e.
Is attached to the lead 20b via the support ring 20d, and further on the support ring 20d via the adhesive layer 20f.
The central portion is fixed to the semiconductor pellet 3 and the uneven portions 2a to
A peripheral portion of the heat spreader 2 that radiates heat at 2f is fixed.

【0043】また、半田バンプ21は、TABテープ2
0のリード20bとは反対側の導体パターン20c上に
配置形成されている。半導体ペレット3は、ポッティン
グされた樹脂22にて封止されている。
The solder bumps 21 are made of TAB tape 2
It is arranged and formed on the conductor pattern 20c on the side opposite to the 0 lead 20b. The semiconductor pellet 3 is sealed with a potted resin 22.

【0044】この図12の半導体装置Cの場合には、T
ABテープ20がリード20bおよび導体パターン20
c等の複数の導体層を積層した構成であるため、半導体
ペレット3から半田バンプ21に至る信号経路のインピ
ーダンス整合やインダクタンスの低減等の電気的な特性
の多様な設定が可能であり、ヒートスプレッダ2に形成
された凹凸部2a〜2fによる放熱性能の向上と合わせ
て、より多様な機能の半導体ペレット3の実装が可能に
なる、という利点がある。
In the case of the semiconductor device C shown in FIG.
The AB tape 20 is composed of the lead 20b and the conductor pattern 20.
Since the configuration is such that a plurality of conductor layers such as c are stacked, various settings of electrical characteristics such as impedance matching and reduction of inductance of a signal path from the semiconductor pellet 3 to the solder bump 21 can be performed. In addition to the improvement of the heat radiation performance by the uneven portions 2a to 2f formed in the semiconductor device, there is an advantage that the semiconductor pellet 3 having more various functions can be mounted.

【0045】以上本発明者によってなされた発明を実施
の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say, there is.

【0046】たとえば、外部接続電極は、半田バンプ等
に限らず、たとえば挿入実装タイプのピンを突設した構
造であってもよい。さらに、ヒートスプレッダの材質
は、金属等に限らず、たとえば金属粉を混和することで
熱伝導率を向上させた樹脂やセラミックス等であっても
よい。
For example, the external connection electrode is not limited to a solder bump or the like, and may have a structure in which, for example, an insertion mounting type pin is protruded. Further, the material of the heat spreader is not limited to a metal or the like, and may be, for example, a resin or a ceramic having improved thermal conductivity by mixing a metal powder.

【0047】[0047]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0048】本発明の半導体装置によれば、製造原価の
低減と放熱性能の向上とを両立させることができる、と
いう効果が得られる。
According to the semiconductor device of the present invention, it is possible to achieve both the reduction in manufacturing cost and the improvement in heat radiation performance.

【0049】また、本発明の半導体装置によれば、外形
寸法の小型化と放熱性能の向上とを両立させることがで
きる、という効果が得られる。
Further, according to the semiconductor device of the present invention, there is obtained an effect that it is possible to achieve both a reduction in the outer dimensions and an improvement in the heat radiation performance.

【0050】また、本発明の半導体装置によれば、発熱
量の大きな半導体ペレットを安価かつ小型なパッケージ
構造にて実装することができる、という効果が得られ
る。
Further, according to the semiconductor device of the present invention, there is obtained an effect that a semiconductor pellet having a large heat value can be mounted in a low-cost and small package structure.

【0051】また、本発明の半導体装置の製造方法によ
れば、製造原価の低減と放熱性能の向上とを両立させる
ことができる、という効果が得られる。
Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to obtain an effect that both reduction in manufacturing cost and improvement in heat radiation performance can be achieved.

【0052】また、本発明の半導体装置の製造方法によ
れば、外形寸法の小型化と放熱性能の向上とを両立させ
ることができる、という効果が得られる。
Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to achieve both the reduction in the size of the external dimensions and the improvement in the heat radiation performance.

【0053】また、本発明の半導体装置の製造方法によ
れば、発熱量の大きな半導体ペレットを安価かつ小型な
パッケージ構造にて実装することができる、という効果
が得られる。
Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, there is obtained an effect that a semiconductor pellet having a large calorific value can be mounted in an inexpensive and small package structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の構成の一例を示す断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法の一例を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図3】(a)〜(c)は、本発明の一実施の形態であ
る半導体装置の製造方法におけるヒートスプレッダの加
工方法の一例を工程順に例示した概念図である。
FIGS. 3A to 3C are conceptual views illustrating an example of a method of processing a heat spreader in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention in the order of steps;

【図4】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法におけるヒートスプレッダの加工方法の一例を工程
順に例示した概念図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating an example of a method of processing a heat spreader in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention in the order of steps;

【図5】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出して
例示した斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view illustrating a heat dissipation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図6】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出して
例示した斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating a heat radiation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図7】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出して
例示した斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view illustrating a heat dissipation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図8】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出して
例示した斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view illustrating a heat dissipation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図9】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出して
例示した斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view illustrating a heat radiation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図10】本発明の一実施の形態である半導体装置の製
造方法にて製造された半導体装置の放熱部材を取り出し
て例示した斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view illustrating a heat dissipation member of a semiconductor device manufactured by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図11】本発明の一実施の形態である半導体装置の製
造方法にて製造された半導体装置の変形例を示す断面図
である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a modification of the semiconductor device manufactured by the method for manufacturing a semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【図12】本発明の一実施の形態である半導体装置の製
造方法にて製造された半導体装置の変形例を示す断面図
である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a modification of the semiconductor device manufactured by the method for manufacturing a semiconductor device according to one embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パッケージ基板(枠構造) 1a 配線パターン(配線構造) 1b 段差部 2 ヒートスプレッダ(放熱部材) 2a〜2f 凹凸部 3 半導体ペレット 3a 半田バンプ 4 半田バンプ(外部接続電極) 5 ボンディングワイヤ(配線構造) 6 樹脂 10 TABテープ(枠構造) 10a テープ基材 10b リード(配線構造) 10c サポートリング 11 半田バンプ(外部接続電極) 12 樹脂 20 TABテープ(枠構造) 20a テープ基材 20b リード(配線構造) 20c 導体パターン(配線構造) 20d サポートリング 20e 接着材層 20f 接着材層 21 半田バンプ(外部接続電極) 22 樹脂 100 プレス型 100a 凹凸型面 101 プレス型 103 ローレット 103a 凹凸パターン A,B,C 半導体装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Package board (frame structure) 1a Wiring pattern (wiring structure) 1b Step part 2 Heat spreader (heat radiating member) 2a-2f Uneven part 3 Semiconductor pellet 3a Solder bump 4 Solder bump (external connection electrode) 5 Bonding wire (wiring structure) 6 Resin 10 TAB tape (frame structure) 10a Tape base 10b Lead (wiring structure) 10c Support ring 11 Solder bump (external connection electrode) 12 Resin 20 TAB tape (frame structure) 20a Tape base 20b Lead (wiring structure) 20c Conductor Pattern (wiring structure) 20d Support ring 20e Adhesive layer 20f Adhesive layer 21 Solder bump (external connection electrode) 22 Resin 100 Press mold 100a Uneven surface 101 Press mold 103 Knurl 103a Uneven pattern A, B, C Semiconductor device

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 任意の機能を有する半導体ペレットを放
熱部材に固定してなる半導体装置であって、前記放熱部
材は凹凸形状を有することを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device in which a semiconductor pellet having an arbitrary function is fixed to a heat radiating member, wherein the heat radiating member has an uneven shape.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、枠
形状を呈し、前記放熱部材の周辺部を支持する枠構造
と、前記枠構造の一部に突設された複数の外部接続電極
と、前記半導体ペレットと前記外部接続電極とを電気的
に接続する配線構造と、を有することを特徴とする半導
体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the frame structure has a frame shape and supports a peripheral portion of the heat radiation member, and a plurality of external connection electrodes protruding from a part of the frame structure. A wiring structure for electrically connecting the semiconductor pellet and the external connection electrode.
【請求項3】 請求項2記載の半導体装置において、前
記枠構造はパッケージ基板であり、前記配線構造は、前
記パッケージ基板に設けられ、前記外部接続電極に接続
される配線パターンと、前記配線パターンと前記半導体
ペレットとの間に架設されたボンディングワイヤとから
なることを特徴とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the frame structure is a package substrate, and the wiring structure is provided on the package substrate and is connected to the external connection electrode; And a bonding wire provided between the semiconductor pellet and the semiconductor pellet.
【請求項4】 請求項1の半導体装置において、前記枠
構造は、TABテープであり、前記配線構造は、前記T
ABテープ上に設けられ、前記半導体ペレットと前記外
部接続電極とを接続する複数のリードであることを特徴
とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said frame structure is a TAB tape, and said wiring structure is
A semiconductor device comprising a plurality of leads provided on an AB tape and connecting the semiconductor pellet and the external connection electrode.
【請求項5】 請求項2,3または4記載の半導体装置
において、前記外部接続電極は、半田バンプからなるこ
とを特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 2, wherein said external connection electrode is formed of a solder bump.
【請求項6】 請求項1,2,3,4または5記載の半
導体装置において、前記半導体ペレットは、ポッティン
グ樹脂にて封止されてなることを特徴とする半導体装
置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor pellet is sealed with a potting resin.
【請求項7】 任意の機能を有する半導体ペレットを放
熱部材に固定してなる半導体装置の製造方法であって、
前記放熱部材に凹凸形状を形成する工程を含むことを特
徴とする半導体装置の製造方法。
7. A method of manufacturing a semiconductor device comprising fixing a semiconductor pellet having an arbitrary function to a heat radiating member,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of forming an uneven shape on the heat dissipation member.
【請求項8】 請求項7記載の半導体装置の製造方法に
おいて、前記放熱部材を枠状のパッケージ基板に固定す
る工程と、前記パッケージ基板に外部接続電極を形成す
る工程と、前記外部接続電極と前記半導体ペレットとを
電気的に接続する工程とを任意の順序で行うことを特徴
とする半導体装置の製造方法。
8. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 7, wherein: the step of fixing the heat dissipation member to a frame-shaped package substrate; the step of forming an external connection electrode on the package substrate; Electrically connecting the semiconductor pellet with the semiconductor pellet in an arbitrary order.
【請求項9】 請求項7記載の半導体装置の製造方法に
おいて、前記半導体ペレットをTABテープ上のリード
に接続する工程と、前記放熱部材を前記TABテープに
固定する工程と、TABテープに外部接続電極を形成す
る工程とを任意の順序で行うことを特徴とする半導体装
置の製造方法。
9. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 7, wherein the step of connecting the semiconductor pellet to a lead on a TAB tape, the step of fixing the heat radiation member to the TAB tape, and an external connection to the TAB tape And a step of forming an electrode is performed in an arbitrary order.
【請求項10】 請求項8または9記載の半導体装置の
製造方法において、前記半導体ペレットを樹脂で封止す
る工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
10. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 8, further comprising a step of sealing the semiconductor pellet with a resin.
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