JPH11282822A - 画像処理プログラム合成方法及びその装置並びに最適解探索方法及びその装置 - Google Patents

画像処理プログラム合成方法及びその装置並びに最適解探索方法及びその装置

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JPH11282822A
JPH11282822A JP10079253A JP7925398A JPH11282822A JP H11282822 A JPH11282822 A JP H11282822A JP 10079253 A JP10079253 A JP 10079253A JP 7925398 A JP7925398 A JP 7925398A JP H11282822 A JPH11282822 A JP H11282822A
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JP10079253A
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Kazuhisa Goto
和久 後藤
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、環境変動の影響を受けずに信頼性の
高い画像処理プログラムの合成を行う。 【解決手段】予め複数グループに分類された複数の画像
処理部品2を概略手順5に従って選択して合成し、この
合成されたプログラムの性能を教示用の複数の画像6を
用いて評価する場合、教示用の画像6に対して画像変換
を行い、この画像変換して得られた新たな画像を教示用
の画像として追加画像データベース21に追加する画像
追加作成手段20を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、所望のプログラム
の概略手順に従って予め分類された複数グループの中か
らそれぞれ各画像処理プログラムを選択し合成して例え
ば外観検査用の画像処理プログラムを作成する画像処理
プログラム合成方法及びその装置、並びにこれら方法及
び装置に適用して最適な各画像処理プログラムを組み合
わせを得る最適解探索方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図18は画像処理プログラム合成方法の
概要を示す模式図である。画像処理プログラム合成装置
1には、画像処理として意味をもつ最小単位すなわち画
像処理プログラムを画像処理部品2として登録されてい
る。この画像処理部品2には、例えば2値化の閾値など
のパラメータ3が設定されるものとなっている。
【0003】又、これら画像処理部品2のうち処理の目
的が同じで手法の異なる各画像処理部品が各グループに
分類され、これらが概略処理4として登録されている。
この画像処理プログラム合成装置1には、ユーザによっ
て検査対象に応じて各概略処理4を複数接続し、検査プ
ログラムの大まかな流れである概略手順5が指示され
る。例えば、各概略処理4−1,4−2,…の流れであ
り、このうち概略処理4−1は位置合わせ、概略処理4
−2は2値化、概略処理4−3はマスク処理、概略処理
4−4は膨張処理などである。
【0004】又、画像処理プログラム合成装置1には、
予め良、不良の分かっている教示用の複数の画像6が登
録し指示される。このような画像処理プログラム合成装
置1は、各画像処理部品2及びそのパラメータの膨大な
組み合わせの中から検査対象にできるだけ適した画像処
理部品2を各概略処理4−1,4−2,…からそれぞれ
選択し、これら選択した画像処理部品2−1,2−2,
…を合成する。
【0005】図19はかかる画像処理プログラム合成装
置1を具体化した機能ブロック図である。プログラム用
データベース10には、画像処理として意味をもつ最小
単位すなわち複数の画像処理プログラムが画像処理部品
2として格納されている。これら画像処理部品2は、プ
ログラム言語の立場で見ると関数(例えばC言語など)
やサブルーチン(例えばFortran など)と呼ばれるもの
である。
【0006】部品記憶手段11は、関数やサブルーチン
と呼ばれるものとして管理し、かつ処理の目的が同じで
手法の異なる複数の画像処理部品2を概略処理4で呼ぶ
分類でグループ分けする機能を有している。さらに、部
品記憶手段11は、後述する画像処理プログラム合成手
段12において各画像処理部品2を接続してプログラム
にするための情報を管理する機能を有している。
【0007】一方、画像データベース13には、予め
良、不良の分かっている教示用の複数の画像6が格納さ
れている。画像記憶手段14は、画像データベース13
に格納されている教示用の各画像6をその良、不良の情
報とともに記憶、管理する機能を有している。
【0008】概略手順指定手段15は、ユーザによって
例えばキーボードやマウスなどの入力手段16から入力
された検査対象に応じた各概略処理4を組み合わせ、検
査プログラムの大まかな指針である概略手順5を部品選
択手段17に指示する機能を有している。
【0009】アルゴリズム評価手段18は、部品選択手
段17により選択され、画像処理プログラム合成手段1
2により合成されたプログラムの優劣を評価する機能を
有するもので、合成したプログラムに指定した複数の画
像6を処理させ、その評価値を算出する機能を有してい
る。この評価基準の一例としては、教示用データの良、
不良と合成したプログラムの判定した良、不良の一致率
である。
【0010】上記画像処理プログラム合成手段12は、
部品選択手段17で選択された各画像処理部品2を接続
して実行可能なプログラムにする機能を有している。上
記部品選択手段17は、概略手順指定手段15で指定さ
れた概略手順5の範囲内で初めは暫定的な画像処理部品
2を選択し、それを画像処理プログラム合成手段12で
合成し、この合成したプログラムをアルゴリズム評価手
段18で評価した結果を、次回の画像処理部品2の選択
に反映させることによって徐々にプログラムを検査対象
に適した画像処理プログラムに改良する機能を有してい
る。
【0011】結果出力手段19は、最終的に作成された
検査対象に適した画像処理プログラムを出力する機能を
有している。このような構成であれば、概略手順指定手
段15は、ユーザによって入力手段16から入力された
検査対象に応じた各概略処理4を組み合わせ、検査プロ
グラムの大まかな指針である概略手順5を部品選択手段
17に指示する。
【0012】この部品選択手段17は、概略手順指定手
段15で指定された概略手順5の範囲内で初めは暫定的
な画像処理部品2を選択し、それを画像処理プログラム
合成手段12に渡す。
【0013】この画像処理プログラム合成手段12は、
部品選択手段17で選択された各画像処理部品2を接続
して実行可能なプログラムにする。アルゴリズム評価手
段18は、画像処理プログラム合成手段12により合成
されたプログラムの優劣を画像データベース13から供
給される教示用の画像6を用いて評価し、その評価値を
算出する。
【0014】そして、部品選択手段17は、アルゴリズ
ム評価手段18で評価した結果を、次回の画像処理部品
2の選択に反映させることによって徐々にプログラムを
検査対象に適した画像処理プログラムに改良する。
【0015】しかしながら、工場などで収集した限られ
た枚数のサンプル画像を教示データとし、これら教示デ
ータを正確に良、不良に判別する画像処理検査プログラ
ムを上記装置を用いて自動合成しても、実際の工場のラ
インの実機に移し変えた場合、現場の様々な環境変動に
よって検査性能が悪くなることがある。例えば、昼、夜
の微妙な明るさの変動、カメラ照明系の設定やそれらの
経時的な特性変化、複数の実機ごとの特性の差(機差)
などにより入力画像に微妙な変化が起きるためである。
教師用として与えられたサンプルに対しては優秀である
が、現場において少し変動した画像に対しては特性が著
しく落ちることがある。
【0016】一方、上記装置における部品選択手段17
には、遺伝的アルゴリズムの手法が用いられている。図
20はかかる遺伝的アルゴリズムの流れ図である。先
ず、ステップ#1において、複数の固体からなる初期集
団の発生を行う。1つの固体は、計算機内ではビット列
で表現され、はじめに乱数で0、1の並びを決めた複数
の固体を発生させる。この場合、上記装置の画像処理プ
ログラム合成手段12により各画像処理部品を合成して
得られたプログラムを個体として表すとともに、画像処
理部品2をビットとして表す。図21には各固体「1」
〜「N」から成る初期集団が示されている。
【0017】次に、ステップ#2に移って突然変異・交
叉の処理を行う。突然変異は乱数で選んだ固体中の乱数
で選んだビットを反転する処理であり、交叉は固体群の
中から乱数で選んだ2つの固体に対して、乱数で選んだ
位置のビット列を交換する処理である。これら突然変異
・交叉の発生する割合は、係数で設定する。
【0018】次に、ステップ#3に移って各固体の適応
度を計算する。この適応度は、それぞれの固体がどの程
度良いかを表す指標であり、適応する問題に応じて定義
を行う。
【0019】ここで、適応する問題が検査対象に適した
画像処理プログラムを探索するものであれば、上記部品
選択手段17での遺伝的アルゴリズムにおける遺伝子の
ビット列と実際の画像処理の対応付けは、例えば図22
に示す通りとなる。概略処理5内の関数の候補とパラメ
ータの候補に関して、その数を表現できる2進数のビッ
トを割り振る。逆に1、0のビット列の並びが定まると
膨大な画像処理アルゴリズムの組み合わせの中から1つ
の画像処理アルゴリズムが定まることになる。
【0020】又、適応度の計算では、ビット列に対応し
た画像処理アルゴリズムに良否の分かっている画像6を
処理させて良否を判定させ、その良否一致率である次式
の値を適応度とする。
【0021】 適応度=(正しい判定をした枚数)/(全サンプル数) …(1) 次に、ステップ#4に移って選択、淘汰の処理を行って
世代交代を行う。例えば、適応度の高い固体を残し、適
応度の低い固体を省く。図23は適応度に応じた次世代
への生存確率を示す。
【0022】しかしながら、このような遺伝的アルゴリ
ズムの手法では、非常に探索時間が長くなるという問題
がある。この計算時間の概算としては、 探索時間=(適応度の計算時間)×(個体数)×(世代数) …(2) で予測できる。上記装置において 適応度の計算時間=(画像処理時間)×(画像枚数) …(3) であり、問題設定、使用する計算機によっても変化する
が、計算時間に関係するパラメータとして一例として、
一枚の画像を画像処理アルゴリズムが実行する時間を
0.5[s]、個体数を50、画像枚数を100
[枚]、世帯数を100とした場合には、 探索時間=0.5×100×50×100 =250000[s] =2.9[日] …(4) となる。このように適応度の計算に時間の掛かる問題に
対しては探索時間が非常にかかる。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】以上のような画像処理
プログラム合成装置1であれば、画像処理検査プログラ
ムを自動合成しても、実際の工場のラインの実機に移し
変えた場合、例えば昼、夜の微妙な明るさの変動などの
現場の様々な環境変動によって検査性能が悪くなること
がある。
【0024】又、上記装置の部品選択手段17に用いる
遺伝的アルゴリズムの手法では、非常に探索時間が長く
なるという問題がある。そこで本発明は、環境変動の影
響を受けずに信頼性の高い画像処理プログラムの合成が
できる画像処理プログラム合成方法及びその装置を提供
することを目的とする。又、本発明は、探索時間を短縮
して効率良く最適な解を求めることができる最適解探索
方法及びその装置を提供することを目的とする。
【0025】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、予め
複数グループに分類された複数の画像処理プログラム
を、これらグループからそれぞれ所望のプログラムの概
略手順に従って選択して合成し、この合成されたプログ
ラムの性能を教示用の複数の画像を用いて評価する画像
処理プログラム合成方法において、教示用の画像に対し
て画像変換を行い、この画像変換により得られた新たな
画像を教示用の画像として追加する画像処理プログラム
合成方法である。
【0026】請求項2によれば、請求項1記載の画像処
理プログラム合成方法において、教示用の画像に対して
少なくとも明度の変更、コントラストの変更、幾何変
更、又は平滑化処理のうちいずれか1つ又はこれらを組
み合わせて画像変換を行う。ここで、幾何変更とは、例
えば平行移動、回転、拡大、縮小が含まれる。
【0027】請求項3によれば、複数の画像処理プログ
ラムを予め複数グループに分類してプログラム用データ
ベースに記憶し、所望のプログラムの概略手順に従って
プログラム用データベースに記憶されている各グループ
からそれぞれ画像処理プログラムを選択して合成し、こ
の合成されたプログラムの性能を画像データベースに記
憶された教示用の複数の画像を用いて評価する画像処理
プログラム合成装置において、教示用の画像に対して画
像変換を行い、この画像変換して得られた新たな画像を
教示用の画像として画像データベースに追加する画像追
加手段を備えた。
【0028】請求項4によれば、請求項3記載の画像処
理プログラム合成装置において、画像追加手段は、画像
データベースに記憶されている教示用の画像に対して少
なくとも明度の変更、コントラストの変更、幾何変更、
又は平滑化処理のうちいずれか1つ又はこれらを組み合
わせた画像変換を行う機能を有する。ここで、幾何変更
とは、例えば平行移動、回転、拡大、縮小が含まれる。
【0029】請求項5によれば、任意のビット列で表現
する複数の固体から成る初期集団を発生し、この初期集
団における固体の各ビットに対して突然変異や交叉の処
理を行い、この後に各固体の優劣を示す適応度を求め、
この適応度の高い固体ほど次の世代に引き継がせること
を繰り返す最適解探索方法において、次の世代に引き継
がれなく淘汰された固体のビットをチェックしてその頻
度分布を求め、この頻度分布から予め設定された閾値よ
りも大きい頻度のビットを認識する淘汰頻度ステップ
と、突然変異や交叉の処理の後に、淘汰頻度ステップに
より認識された閾値よりも大きい頻度のビットを強制的
に省く訂正ステップとを有する最適解探索方法である。
【0030】請求項6によれば、請求項5記載の最適解
探索方法において、淘汰頻度ステップは、固体のビット
列を遺伝子列としてチェックしてビット別に値の度数を
積算し、この積算された度数を淘汰された個体数で除算
して頻度分布を求め、この頻度分布から予め設定された
閾値よりも大きい頻度のビットに対してその位置を示す
不良遺伝子フラグを立てる。
【0031】請求項7によれば、請求項5記載の最適解
探索方法において、訂正ステップは、突然変異や交叉の
処理の後の固体を淘汰頻度ステップで作成された不良遺
伝子フラグと照らし合わせ、この不良遺伝子フラグの立
っている固体におけるビット値を反転させる。
【0032】請求項8によれば、任意のビット列で表現
する複数の固体から成る初期集団を発生し、この初期集
団における固体の各ビットに対して突然変異や交叉の処
理を行い、この後に各固体の優劣を示す適応度を求め、
この適応度の高い固体ほど次の世代に引き継がせること
を繰り返す最適解探索装置において、次の世代に引き継
がれなく淘汰された固体のビットをチェックしてその頻
度分布を求め、この頻度分布から予め設定された閾値よ
りも大きい頻度のビットを認識する淘汰頻度手段と、突
然変異や交叉の処理の後に、淘汰頻度手段により認識さ
れた閾値よりも大きい頻度のビットを強制的に省く訂正
手段と、を備えた最適解探索装置である。
【0033】請求項9によれば、請求項8記載の最適解
探索装置において、淘汰頻度手段は、固体のビット列を
遺伝子列としてチェックしてビット別に値の度数を積算
し、この積算された度数を淘汰された個体数で除算して
頻度分布を求め、この頻度分布から予め設定された閾値
よりも大きい頻度のビットに対してその位置を示す不良
遺伝子フラグを立てる。
【0034】請求項10によれば、請求項8記載の最適
解探索装置において、訂正手段は、突然変異や交叉の処
理の後の固体を淘汰頻度ステップで作成された不良遺伝
子フラグと照らし合わせ、この不良遺伝子フラグの立っ
ている固体におけるビット値を反転させる。
【0035】請求項11によれば、予め複数グループに
分類された複数の画像処理プログラムを、これらグルー
プからそれぞれ所望のプログラムの概略手順に従って選
択して合成し、この合成されたプログラムの性能を教示
用の複数の画像を用いて評価する画像処理プログラム合
成方法において、合成されたプログラムを個体として表
するとともに画像処理プログラムをビットとして表して
固体の各ビットに対して突然変異や交叉の処理を行う突
然変異・交叉ステップと、この突然変異・交叉ステップ
の後に各固体の優劣を示す適応度を求める適応度計算ス
テップと、この適応度計算ステップの後に適応度の高い
固体ほど次の世代に引き継がせる世代交代ステップと、
この世代交代ステップの後に次の世代に引き継がれなく
淘汰された固体のビットをチェックしてその頻度分布を
求め、この頻度分布から予め設定された閾値よりも大き
い頻度のビットを認識する淘汰頻度ステップと、突然変
異・交叉ステップの後に、淘汰頻度ステップにより認識
された閾値よりも大きい頻度のビットを強制的に省く訂
正ステップと、を繰り返す画像処理プログラム合成方法
である。
【0036】請求項12によれば、請求項11記載の画
像処理プログラム合成方法において、教示用の画像に対
して画像変換を行い、この画像変換により得られた新た
な画像を教示用の画像として追加するステップを有す
る。
【0037】
【発明の実施の形態】(1) 以下、本発明の第1の実施の
形態について図面を参照して説明する。なお、図19と
同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。図1は画像処理プログラム合成装置の構成図であ
る。
【0038】画像追加作成手段20は、教示用の画像6
に対して画像変換を行い、この画像変換して得られた新
たな画像を教示用の画像として画像データベース21に
追加する機能を有している。
【0039】具体的に画像追加作成手段20は、図2に
示すように明度変更手段22、コントラスト変更手段2
3、幾何学変更手段24、平滑化手段25及びパラメー
タ設定手段26の各機能を備えている。
【0040】明度変更手段22は、図3に示すように原
画像すなわち図18に示す教示用の画像6の各画素に対
してパラメータoffsetを加えたものを新しい画像濃度と
する処理を行い、この画像を新たな教示用の画像とする
機能を有している。図3においてNは画像データの階調
数である。パラメータoffset=0、破線の時は教示用の
画像6と同じ画像となる。
【0041】コントラスト変更手段23は、図4に示す
ように教示用の画像6の各画素に対してコントラストの
変換を行い、この画像を新たな教示用の画像とする機能
を有している。図4においてNは画像データの階調数で
ある。パラメータoffset=0、破線の時は教示用の画像
6と同じ画像となる。
【0042】幾何学変更手段24は、次式(5) により平
行移動、回転、拡大、縮小を行い、この画像を新たな教
示用の画像とする機能を有している。新たな画像の座標
は(x’,y’)、原画像である教示用の画像6の座標
は(x,y)である。a,b,c,θはパラメータで、
aは拡大率、bはx軸平行移動、cはy軸平行移動、θ
は回転角度である。
【0043】
【数1】
【0044】平滑化手段25は、図5に示すようにn×
nの空間フィルタを用いて教示用の画像6を畳み込み演
算し、その新たな教示用の画像を作成する機能を有して
いる。nはパラメータとなる。
【0045】パラメータ設定手段26は、以上の明度変
更手段22、コントラスト変更手段23、幾何学変更手
段24及び平滑化手段25のパラメータや追加作成する
画像の枚数を設定する機能を有している。図6はかかる
パラメータ設定のインタフェース列を示しており、明度
変更手段22、コントラスト変更手段23、幾何学変更
手段24及び平滑化手段25の各下限、各上限や追加作
成する画像枚数を設定するようになっている。この作成
は、下限と上限の範囲内を乱数で発生し、指定画像枚数
を作成する。
【0046】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。画像追加作成手段20は、画像データベ
ース13に格納されている教示用の画像6を読み出し、
この画像6に対して画像変換を行い、この画像変換して
得られた新たな画像を教示用の画像として追加画像デー
タベース21に追加する。
【0047】具体的に明度変更手段22は、図3に示す
ように図18に示す教示用の画像6の各画素に対してパ
ラメータoffsetを加えたものを新しい画像濃度とする処
理を行い、この画像を新たな教示用の画像とする。この
新たな教示用の画像は、例えば現場の照明変動に対応す
る画像の明度が変化したものである。
【0048】コントラスト変更手段23は、図4に示す
ように教示用の画像6の各画素に対してコントラストの
変換を行い、この画像を新たな教示用の画像とする。こ
の新たな教示用の画像は、例えばカメラの撮像素子、画
像入力ボードなどの特性変動に対応する画像のコントラ
ストが変動したものである。
【0049】幾何学変更手段24は、教示用の画像6に
対して平行移動、回転、拡大、縮小を行い、この画像を
新たな教示用の画像とする。この新たな教示用の画像
は、例えばカメラの撮像素子と検査対象の相対的な位
置、回転、距離の変動に対応するものである。
【0050】平滑化手段25は、図5に示すようにn×
nの空間フィルタを用いて教示用の画像6を畳み込み演
算し、その新たな教示用の画像を作成する。この新たな
教示用の画像は、例えば光学系の変動例えばピントの変
動に対応するものである。
【0051】パラメータ設定手段26は、以上の明度変
更手段22、コントラスト変更手段23、幾何学変更手
段24及び平滑化手段25のパラメータや追加作成する
画像の枚数を設定する。
【0052】そして、画像データベース13に格納され
ている教示用の画像6及び追加画像データベース21に
格納されている新たな教示用の画像は、共にアルゴリズ
ム評価手段18に渡される。
【0053】一方、概略手順指定手段15は、ユーザに
よって入力手段16から入力された検査対象に応じた各
概略処理4を組み合わせ、検査プログラムの大まかな指
針である概略手順5を部品選択手段17に指示する。
【0054】この部品選択手段17は、概略手順指定手
段15で指定された概略手順5の範囲内で初めは暫定的
な画像処理部品2を選択し、それを画像処理プログラム
合成手段12に渡す。
【0055】この画像処理プログラム合成手段12は、
部品選択手段17で選択された各画像処理部品2を接続
して実行可能なプログラムにする。アルゴリズム評価手
段18は、画像処理プログラム合成手段12により合成
されたプログラムの優劣を教示用の画像6及び新たな教
示用の画像を用いて評価し、その評価値を算出する。
【0056】そして、部品選択手段17は、遺伝的アル
ゴリズムを用い、アルゴリズム評価手段18で評価した
結果を、次回の画像処理部品2の選択に反映させること
によって徐々にプログラムを検査対象に適した画像処理
プログラムに改良する。
【0057】次に、半導体の黒い点欠陥を検査する画像
処理アルゴリズムに適用した例について説明する。図7
は概略手順指定手段15により指定した概略手順5を示
す。この概略手順5は、概略処理4として先ず位置合わ
せ4−10で位置合わせを行い、次の2値化処理4−1
1で欠陥部分を抽出し、マスク処理4−12で半導体の
形が2値化処理に掛かっている部分を除去し、膨張収縮
処理4−13でノイズを除去し、最後の特徴量計算4−
14で最終的に残った免責を特徴量としてその値が一定
値を超えるかどうかで良品か不良品かを判定するという
大まかな流れである。
【0058】これら概略処理4−10〜4−14には、
候補となるか具体的な画像処理部品2(手法別に関数の
形で登録してある)が割り付けられている。又、各画像
処理部品2は、複数のパラメータを持っている。
【0059】例えば、図7に示すように位置合わせ4−
10は、関数としてマッチング1,2及びスルーの3つ
の違う手法の画像処理部品2からなっている。このうち
マッチング1は、正規化相関法によるマッチングでテン
プレートAを使用するもので、引数パラメータとして精
サーチと粗サーチとの2通りのサーチ方法を持ってい
る。
【0060】マッチング2は、正規化相関法によるマッ
チングでテンプレートBを使用するもので、引数パラメ
ータとして精サーチと粗サーチとの2通りのサーチ方法
を持っている。
【0061】スルーは、入力画像をそのまま出力するも
ので、引数パラメータを持っていない。2値化処理4−
11は、関数として濃度平均2値化、限定平均2値化及
びPタイル法2値化の3つの違う手法の画像処理部品2
からなっている。このうち濃度平均2値化は、画像を領
域分割し、各領域の平均濃度×係数Cで2値化するもの
で、引数パラメータとして例えば図8に示す6通りの画
像の領域分割モードと24通りの係数Cを持っている。
【0062】限定平均2値化は、画像を領域分割し、各
領域の平均濃度×係数Cで2値化するもので、但し、平
均濃度算出時に図9に示すようにA%の濃度範囲に限定
して濃度平均を算出する。引数パラメータとしては、例
えば上記図8に示す6通りの画像の領域分割モードと2
4通りの係数C、20通りの限定濃度A%を持ってい
る。
【0063】Pタイル法2値化は、SPIDERのPタ
イル法(thds1 )を使用して2値化するもので、引数パ
ラメータとして例えば1200通りのパーセント値を持
っている。
【0064】膨張収縮処理4−13は、関数としてラン
レングス孤立点除去、膨張収縮1及び2の3つの違う手
法の画像処理部品2からなっている。このうちランレン
グス孤立点除去は、x,y方向にそれぞれ画素を走査
し、C画素以上連続していなければ、それらの画素を孤
立点と見做し除去するもので、引数パラメータとして繰
り返し数4通りを持っている。
【0065】膨張収縮1は、膨張収縮処理するもので、
引数パラメータとして2通りの連結数、2通りの膨張又
は収縮、2通りの繰り返し数を持っている。膨張収縮1
は、膨張と収縮との組み合わせであり、引数パラメータ
として2通りの連結数、6通りのモード、2通りの繰り
返し数を持っている。このうちモードは、収縮−膨張、
収縮−膨張−収縮、収縮−膨張−膨張、膨張−収縮、膨
張−収縮−膨張、膨張−収縮−収縮の6通りである。
【0066】一方、画像記憶手段14により登録した教
示用の画像6及び画像追加作成手段21により新たに作
成した教示用の画像の内容は、教示用の画像6のうち良
品枚数が46枚、不良品枚数が50枚であり、新たな教
示用の画像のうち良品枚数が19枚、不良品枚数が21
枚となっている。又、合成された画像処理プログラムの
性能を検証するために別サンプル画像も用意してあり、
例えばこのアルゴリズム検証用として良品枚数が26
枚、不良品枚数が19枚用意されている。
【0067】しかるに、部品選択手段17は、遺伝的ア
ルゴリズムを用い、上記の如く概略手順指定手段15で
指定された概略手順5の範囲内で初めは暫定的な画像処
理部品2を選択し、それを画像処理プログラム合成手段
12で合成し、この合成したプログラムをアルゴリズム
評価手段18で評価した結果を、次回の画像処理部品2
の選択に反映させることによって徐々にプログラムを検
査対象に適した画像処理プログラムに改良する。
【0068】この部品選択手段17は、その探索過程で
図10に示すような評価値(良否一致率)の変化を求め
る。いずれも教示用の画像6及び新たな教示用の画像に
対して100%の良否一致を行える画像処理プログラム
が合成されている。
【0069】図11は得られた画像処理プログラムの概
要と検証用画像を用いて良否一致率を調べた結果を示
す。検証用画像に対して、原画像である教示用の画像6
だけで合成した画像処理プログラムの良否一致率は9
3.3%であったが、この教示用の画像6に新たな教示
用の画像を追加して合成した画像処理プログラムの良否
一致率は100%を得ることができた。
【0070】このように上記第1の実施の形態において
は、予め複数グループに分類された複数の画像処理部品
2を概略手順5に従って選択して合成し、この合成され
たプログラムの性能を教示用の複数の画像6を用いて評
価する場合、教示用の画像6に対して画像変換を行い、
この画像変換して得られた新たな画像を教示用の画像と
して追加画像データベース21に追加する画像追加作成
手段20を備えたので、限られたサンプル画像から信頼
性の高い画像処理プログラムを合成できる。実際におけ
る照明変動、撮像素子や画像取り込みボードの特性変
動、同機種の装置間の誤差、カメラ撮像素子と検査対象
間の相対的な位置変動などの環境変動に影響されにくい
画像処理プログラムを自動的に合成できる。 (2) 以下、本発明の第2の実施の形態について図面を参
照して説明する。なお、図1と同一部分には同一符号を
付してその詳しい説明は省略する。
【0071】この第2の実施の形態は、上記図1に示す
画像処理プログラム合成装置における部品選択手段17
の遺伝的プログラムを具体的に説明するものである。図
12は部品選択手段17の具体的な機能ブロック図であ
り、図13はその遺伝的プログラムの流れ図である。こ
の場合、上記同様に、画像処理プログラム合成手段12
により各画像処理部品を合成して得られた画像処理プロ
グラムを個体として表すとともに、画像処理部品2をビ
ットとして表す。
【0072】部品選択手段17には、淘汰頻度手段30
及び訂正手段31の各機能が備えられている。このうち
淘汰頻度手段30は、次の世代に引き継がれなく淘汰さ
れた固体(画像処理プログラム)のビット(画像処理部
品2)をチェックしてその頻度分布を求め、この頻度分
布から予め設定された閾値よりも大きい頻度のビットを
認識する機能を有している。
【0073】訂正手段31は、突然変異や交叉の処理の
後に、淘汰頻度手段30により認識された閾値よりも大
きい頻度のビットを強制的に省く機能を有している。次
に上記の如く構成された画像処理プログラム合成装置に
おける部品選択手段17の作用について図13に示す遺
伝的プログラムの流れ図に従って説明する。
【0074】先ず、ステップ#1において、例えば上記
図21に示すような複数の固体「1」〜「N」からなる
初期集団の発生を行う。1つの固体は、計算機内ではビ
ット列で表現され、はじめに乱数で0、1の並びを決め
た複数の固体を発生させる。
【0075】次に、ステップ#2に移って突然変異・交
叉の処理を行う。突然変異は乱数で選んだ固体中の乱数
で選んだビットを反転する処理であり、交叉は固体群の
中から乱数で選んだ2つの固体に対して、乱数で選んだ
位置のビット列を交換する処理である。これら突然変異
・交叉の発生する割合は、係数で設定する。
【0076】次に、ステップ#3に移って各固体の適応
度を計算する。この適応度は、それぞれの固体がどの程
度良いかを表す指標であり、適応する問題に応じて定義
を行う。
【0077】ここで、適応する問題が検査対象に適した
画像処理プログラムを探索するものであれば、上記部品
選択手段17での遺伝的アルゴリズムにおける遺伝子の
ビット列と実際の画像処理の対応付けは、例えば上記図
22に示す通りとなる。概略処理5内の関数の候補とパ
ラメータの候補に関して、その数を表現できる2進数の
ビットを割り振る。逆に1、0のビット列の並びが定ま
ると膨大な画像処理アルゴリズムの組み合わせの中から
1つの画像処理アルゴリズムが定まることになる。
【0078】又、適応度の計算では、ビット列に対応し
た画像処理アルゴリズムに良否の分かっている画像6を
処理させて良否を判定させ、その良否一致率である上記
式(1) の値を適応度とする。
【0079】次に、ステップ#4に移って選択、淘汰の
処理を行って世代交代を行い、例えば、適応度の高い固
体を残し、適応度の低い固体を省く。ところで、ステッ
プ#4の世代交代の処理の後、ステップ#5の淘汰遺伝
子のビット度数保持では、淘汰頻度手段30により、世
代交代のステップ#4で淘汰された次の世代に残れなか
った固体の遺伝子列をチェックし、その頻度データを保
持する。すなわち、図14に示すように淘汰された固体
の各ビット位置が「0」か「1」かを調べてカウント
し、その度数を積算する。又、第0世代から現在の世代
までに淘汰された固体の総計もカウントしておく。
【0080】次に、図14に示す度数をこの淘汰された
固体数の総数で除算し、図15に示すような頻度分布を
得る。さらに、同図に示すような不良遺伝子フラグを用
意し、予め設定される閾値thよりも頻度が大きくなっ
たビット位置のビット値に対応する不良遺伝子フラグの
ビットを立てる(「1」にする)。
【0081】又、ステップ#2の突然変異や交叉の処理
の後、ステップ#6の不良遺伝子訂正では、訂正手段3
1により、淘汰頻度手段30により認識された閾値th
よりも大きい頻度のビットを強制的に省く。すなわち、
突然変異・交叉ステップ#2の後、全ての固体を不良遺
伝子フラグと照らし合わせ、不良遺伝子フラグのビット
が「1」であるビット位置とビット値が等しい固体に関
して、そのビット値を反転させる。但し、この不良遺伝
子訂正のステップ#6では、初期集団発生後設定した数
世代は行わないものとする。
【0082】図16は不良遺伝子訂正のステップ#6で
の処理によってビットが強制的に修正される例を示す。
この固体の第4ビットの値が「1」から「0」へ修正さ
れる。不良遺伝子フラグの第4ビットの値が「1」のと
ころのフラグが立っており、対象の固体の第4ビット目
も「1」だからである。第7ビットの値が「1」のとこ
ろにもビットが立っているが、対象の固体の第7ビット
は値が「1」なので操作は加えられない。
【0083】図15に示す頻度分布で閾値thを超えて
いるところは、他のビット位置の値に関わらず、適応度
が低くなることを意味している。これにより、明らかに
性能に悪影響を与えるビット位置とその値のものは探索
の対象から省かれる。
【0084】このような遺伝的アルゴリズムにより探索
した場合での100%の良否一致率の解が見つかるまで
の探索数を図17に示す。閾値thは、0.95とし
た。不良遺伝子によるビット修正は、5世代以降とし
た。個体数は20、突然変異を起こす確立は0.1、交
叉を起こす確立は0.9とした。乱数を使用するアルゴ
リズムであり、初期値によるバラツキもあるため、初期
値5通りの場合を行った。平均値を比べると100%一
致の解が求まるまでの探索数は約2割ほど短縮されてい
る。
【0085】このように上記第2の実施の形態において
は、次の世代に引き継がれなく淘汰された固体のビット
をチェックしてその頻度分布を求め、この頻度分布から
予め設定された閾値よりも大きい頻度のビットを認識す
る淘汰頻度ステップと、突然変異・交叉ステップの後に
淘汰頻度ステップにより認識された閾値よりも大きい頻
度のビットを強制的に省く訂正ステップとを加えたの
で、膨大な組み合わせの中から効率よく探索し、準最適
な解である検査対象に適した画像処理プログラムの組み
合わせを求めるまでの時間を短縮できる。
【0086】なお、本発明は、上記第1及び第2の実施
の形態に限定されるものでなく次の通り変形してもよ
い。例えば、遺伝的アルゴリズムにより求める最適な解
は、画像処理プログラムに限ることはない。
【0087】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、環
境変動の影響を受けずに信頼性の高い画像処理プログラ
ムの合成ができる画像処理プログラム合成方法及びその
装置を提供できる。又、本発明によれば、探索時間を短
縮して効率良く最適な解を求めることができる最適解探
索方法及びその装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる画像処理プログラム合成装置の
第1の実施の形態を示す機能ブロック図。
【図2】同装置における画像追加作成手段の具体的な構
成図。
【図3】同画像追加作成手段における明度変更手段の作
用を示す図。
【図4】同画像追加作成手段におけるコントラスト変更
手段の作用を示す図。
【図5】同画像追加作成手段における平滑化手段の作用
を示す図。
【図6】同画像追加作成手段におけるパラメータ設定の
インタフェース列を示す図。
【図7】半導体の黒い点欠陥を検査する画像処理アルゴ
リズムに適用した場合の概略手順を示す図。
【図8】画像処理部品としての濃度平均2値化の引数パ
ラメータである画像の領域分割モードを示す図。
【図9】画像処理部品としての限定濃度2値化での限定
濃度を示す図。
【図10】探索過程で得られる評価値(良否一致率)の
変化を示す図。
【図11】得られた画像処理プログラムの概要と検証用
別画像を用いて良否一致率の結果を示す図。
【図12】本発明に係わる最適解探索方法を適用した画
像処理プログラム合成装置における部品選択手段の第2
の実施の形態を示すブロック構成図。
【図13】同部品選択手段の遺伝的プログラムの流れ
図。
【図14】淘汰された固体のビットの度数分布を示す
図。
【図15】淘汰された固体の頻度分布を示す図。
【図16】不良遺伝子訂正ステップの処理によってビッ
トが強制的に修正される例を示す図。
【図17】遺伝的アルゴリズムにより探索した場合の1
00%の良否一致率の解が見つかるまでの探索数を示す
図。
【図18】従来の画像処理プログラム合成方法の概要を
示す模式図。
【図19】従来の画像処理プログラム合成装置を具体化
した機能ブロック図。
【図20】上記装置に用いられる従来の遺伝的アルゴリ
ズムの流れ図。
【図21】遺伝的アルゴリズムにおける突然変異・交差
の処理を示す模式図。
【図22】上記装置における遺伝的アルゴリズムにおけ
る遺伝子のビット列と実際の画像処理の対応付けを示す
図。
【図23】適応度に応じた次世代への生存確率を示す
図。
【符号の説明】
2:画像処理部品、 4:概略処理、 5:概略手順、 6:教示用の画像、 10:プログラム用データベース、 11:部品記憶手段、 12:画像処理プログラム合成手段、 13:画像データベース、 14:画像記憶手段、 15:概略手順指定手段、 16:入力手段、 17:部品選択手段、 18:アルゴリズム評価手段、 20:画像追加作成手段、 22:明度変更手段、 23:コントラスト変更手段、 24:幾何学変更手段、 25:平滑化手段、 26:パラメータ設定手段、 30:淘汰頻度手段、 31:訂正手段。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予め複数グループに分類された複数の画
    像処理プログラムを、これらグループからそれぞれ所望
    のプログラムの概略手順に従って選択して合成し、この
    合成されたプログラムの性能を教示用の複数の画像を用
    いて評価する画像処理プログラム合成方法において、 前記教示用の画像に対して画像変換を行い、この画像変
    換により得られた新たな画像を教示用の画像として追加
    することを特徴とする画像処理プログラム合成方法。
  2. 【請求項2】 前記教示用の画像に対して少なくとも明
    度の変更、コントラストの変更、幾何変更、又は平滑化
    処理のうちいずれか1つ又はこれらを組み合わせて画像
    変換を行うことを特徴とする請求項1記載の画像処理プ
    ログラム合成方法。
  3. 【請求項3】 複数の画像処理プログラムを予め複数グ
    ループに分類してプログラム用データベースに記憶し、
    所望のプログラムの概略手順に従って前記プログラム用
    データベースに記憶されている前記各グループからそれ
    ぞれ前記画像処理プログラムを選択して合成し、この合
    成されたプログラムの性能を画像データベースに記憶さ
    れた教示用の複数の画像を用いて評価する画像処理プロ
    グラム合成装置において、 前記教示用の画像に対して画像変換を行い、この画像変
    換して得られた新たな画像を教示用の画像として前記画
    像データベースに追加する画像追加手段を具備すること
    を特徴とする画像処理プログラム合成装置。
  4. 【請求項4】 前記画像追加手段は、前記画像データベ
    ースに記憶された前記教示用の画像に対して少なくとも
    明度の変更、コントラストの変更、幾何変更、又は平滑
    化処理のうちいずれか1つ又はこれらを組み合わせた画
    像変換を行う機能を有することを特徴とする請求項3記
    載の画像処理プログラム合成装置。
  5. 【請求項5】 任意のビット列で表現する複数の固体か
    ら成る初期集団を発生し、この初期集団における前記固
    体の各ビットに対して突然変異や交叉の処理を行い、こ
    の後に前記各固体の優劣を示す適応度を求め、この適応
    度の高い前記か固体ほど次の世代に引き継がせることを
    繰り返す最適解探索方法において、 前記次の世代に引き継がれなく淘汰された前記固体のビ
    ットをチェックしてその頻度分布を求め、この頻度分布
    から予め設定された閾値よりも大きい頻度の前記ビット
    を認識する淘汰頻度ステップと、 前記突然変異や交叉の処理の後に、前記淘汰頻度ステッ
    プにより認識された前記閾値よりも大きい頻度の前記ビ
    ットを強制的に省く訂正ステップと、を有することを特
    徴とする最適解探索方法。
  6. 【請求項6】 前記淘汰頻度ステップは、前記固体のビ
    ット列を遺伝子列としてチェックして前記ビット別に値
    の度数を積算し、この積算された度数を前記淘汰された
    前記個体数で除算して頻度分布を求め、この頻度分布か
    ら予め設定された閾値よりも大きい頻度の前記ビットに
    対してその位置を示す不良遺伝子フラグを立てることを
    特徴とする請求項5記載の最適解探索方法。
  7. 【請求項7】 前記訂正ステップは、前記突然変異や交
    叉の処理の後の前記固体を前記淘汰頻度ステップで作成
    された不良遺伝子フラグと照らし合わせ、この不良遺伝
    子フラグの立っている前記固体における前記ビット値を
    反転させることを特徴とする請求項5記載の最適解探索
    方法。
  8. 【請求項8】 任意のビット列で表現する複数の固体か
    ら成る初期集団を発生し、この初期集団における前記固
    体の各ビットに対して突然変異や交叉の処理を行い、こ
    の後に前記各固体の優劣を示す適応度を求め、この適応
    度の高い前記か固体ほど次の世代に引き継がせることを
    繰り返す最適解探索装置において、 前記次の世代に引き継がれなく淘汰された前記固体のビ
    ットをチェックしてその頻度分布を求め、この頻度分布
    から予め設定された閾値よりも大きい頻度の前記ビット
    を認識する淘汰頻度手段と、 前記突然変異や交叉の処理の後に、前記淘汰頻度手段に
    より認識された前記閾値よりも大きい頻度の前記ビット
    を強制的に省く訂正手段と、を具備することを特徴とす
    る最適解探索装置。
  9. 【請求項9】 前記淘汰頻度手段は、前記固体のビット
    列を遺伝子列としてチェックして前記ビット別に値の度
    数を積算し、この積算された度数を前記淘汰された前記
    個体数で除算して頻度分布を求め、この頻度分布から予
    め設定された閾値よりも大きい頻度の前記ビットに対し
    てその位置を示す不良遺伝子フラグを立てることを特徴
    とする請求項8記載の最適解探索装置。
  10. 【請求項10】 前記訂正手段は、前記突然変異や交叉
    の処理の後の前記固体を前記淘汰頻度ステップで作成さ
    れた不良遺伝子フラグと照らし合わせ、この不良遺伝子
    フラグの立っている前記固体における前記ビット値を反
    転させることを特徴とする請求項8記載の最適解探索装
    置。
  11. 【請求項11】 予め複数グループに分類された複数の
    画像処理プログラムを、これらグループからそれぞれ所
    望のプログラムの概略手順に従って選択して合成し、こ
    の合成されたプログラムの性能を教示用の複数の画像を
    用いて評価する画像処理プログラム合成方法において、 前記合成されたプログラムを個体として表するとともに
    前記画像処理プログラムをビットとして表して前記固体
    の各ビットに対して突然変異や交叉の処理を行う突然変
    異・交叉ステップと、 この突然変異・交叉ステップの後に前記各固体の優劣を
    示す適応度を求める適応度計算ステップと、 この適応度計算ステップの後に前記適応度の高い前記固
    体ほど次の世代に引き継がせる世代交代ステップと、 この世代交代ステップの後に前記次の世代に引き継がれ
    なく淘汰された前記固体のビットをチェックしてその頻
    度分布を求め、この頻度分布から予め設定された閾値よ
    りも大きい頻度の前記ビットを認識する淘汰頻度ステッ
    プと、 前記突然変異・交叉ステップの後に、前記淘汰頻度ステ
    ップにより認識された前記閾値よりも大きい頻度の前記
    ビットを強制的に省く訂正ステップと、を繰り返すこと
    を特徴とする画像処理プログラム合成方法。
  12. 【請求項12】 前記教示用の画像に対して画像変換を
    行い、この画像変換により得られた新たな画像を教示用
    の画像として追加するステップを有することを特徴とす
    る請求項11記載の画像処理プログラム合成方法。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002251603A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Matsushita Electric Works Ltd 画像処理プログラム作成方法およびそのシステム
JP2006337152A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Sharp Corp 教示用画像生成方法および装置、画像処理アルゴリズム生成方法および装置、画像検査方法および装置、プログラムならびに記録媒体
JPWO2006001107A1 (ja) * 2004-06-24 2007-08-02 株式会社イシダ X線検査装置およびx線検査装置の画像処理手順の生成方法
JP2010032511A (ja) * 2008-06-30 2010-02-12 Denro Corp 塗装劣化診断方法および装置
JP2011235656A (ja) * 2011-08-30 2011-11-24 Sigumakkusu Kk 射出成形機監視装置
WO2012144183A1 (ja) * 2011-04-20 2012-10-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥分類方法及び欠陥分類システム
JP2015130093A (ja) * 2014-01-08 2015-07-16 株式会社東芝 画像認識アルゴリズム組合せ選択装置
WO2015189935A1 (ja) * 2014-06-11 2015-12-17 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
WO2015194006A1 (ja) * 2014-06-19 2015-12-23 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
JP2016062269A (ja) * 2014-09-17 2016-04-25 富士通株式会社 アルゴリズム生成装置、アルゴリズム生成方法及びアルゴリズム生成用コンピュータプログラム
WO2017109854A1 (ja) * 2015-12-22 2017-06-29 オリンパス株式会社 学習画像自動選別装置、学習画像自動選別方法および学習画像自動選別プログラム
WO2017203600A1 (ja) * 2016-05-24 2017-11-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥分類装置および欠陥分類方法
WO2020262571A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 学習用画像生成装置、方法及びプログラム、並びに学習方法、装置及びプログラム

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002251603A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Matsushita Electric Works Ltd 画像処理プログラム作成方法およびそのシステム
JPWO2006001107A1 (ja) * 2004-06-24 2007-08-02 株式会社イシダ X線検査装置およびx線検査装置の画像処理手順の生成方法
JP2006337152A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Sharp Corp 教示用画像生成方法および装置、画像処理アルゴリズム生成方法および装置、画像検査方法および装置、プログラムならびに記録媒体
JP2010032511A (ja) * 2008-06-30 2010-02-12 Denro Corp 塗装劣化診断方法および装置
US9401015B2 (en) 2011-04-20 2016-07-26 Hitachi High-Technologies Corporation Defect classification method, and defect classification system
JP2012225768A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥分類方法及び欠陥分類システム
CN103502801A (zh) * 2011-04-20 2014-01-08 株式会社日立高新技术 缺陷分类方法以及缺陷分类系统
WO2012144183A1 (ja) * 2011-04-20 2012-10-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥分類方法及び欠陥分類システム
JP2011235656A (ja) * 2011-08-30 2011-11-24 Sigumakkusu Kk 射出成形機監視装置
JP2015130093A (ja) * 2014-01-08 2015-07-16 株式会社東芝 画像認識アルゴリズム組合せ選択装置
JPWO2015189935A1 (ja) * 2014-06-11 2017-04-20 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
WO2015189935A1 (ja) * 2014-06-11 2015-12-17 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
US10540592B2 (en) 2014-06-11 2020-01-21 Fujitsu Limited Program generation apparatus and program generation method
WO2015194006A1 (ja) * 2014-06-19 2015-12-23 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
JPWO2015194006A1 (ja) * 2014-06-19 2017-04-20 富士通株式会社 プログラム生成装置、プログラム生成方法およびプログラム
CN106462401A (zh) * 2014-06-19 2017-02-22 富士通株式会社 程序生成装置、程序生成方法和程序
EP3159790A4 (en) * 2014-06-19 2017-06-21 Fujitsu Limited Program generation device, program generation method, and program
US10303447B2 (en) 2014-06-19 2019-05-28 Fujitsu Limited Program generating apparatus and method therefor
JP2016062269A (ja) * 2014-09-17 2016-04-25 富士通株式会社 アルゴリズム生成装置、アルゴリズム生成方法及びアルゴリズム生成用コンピュータプログラム
WO2017109854A1 (ja) * 2015-12-22 2017-06-29 オリンパス株式会社 学習画像自動選別装置、学習画像自動選別方法および学習画像自動選別プログラム
JPWO2017109854A1 (ja) * 2015-12-22 2018-10-11 オリンパス株式会社 学習画像自動選別装置、学習画像自動選別方法および学習画像自動選別プログラム
US10679358B2 (en) 2015-12-22 2020-06-09 Olympus Corporation Learning image automatic sorting device, learning image automatic sorting method, and learning image automatic sorting program
WO2017203600A1 (ja) * 2016-05-24 2017-11-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥分類装置および欠陥分類方法
US10810733B2 (en) 2016-05-24 2020-10-20 Hitachi High-Tech Corporation Defect classification apparatus and defect classification method
WO2020262571A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 富士フイルム株式会社 学習用画像生成装置、方法及びプログラム、並びに学習方法、装置及びプログラム
JPWO2020262571A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30

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