JPH11282655A - Aligner and system therefor, semiconductor production device and system therefor, and device production - Google Patents

Aligner and system therefor, semiconductor production device and system therefor, and device production

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JPH11282655A
JPH11282655A JP10099977A JP9997798A JPH11282655A JP H11282655 A JPH11282655 A JP H11282655A JP 10099977 A JP10099977 A JP 10099977A JP 9997798 A JP9997798 A JP 9997798A JP H11282655 A JPH11282655 A JP H11282655A
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JP
Japan
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program
exposure apparatus
new
network
version
Prior art date
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Pending
Application number
JP10099977A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Kiyoutoku
諭 京徳
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Stored Programmes (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain the version-up of a program even during its execution by preparing a version-up means to update a program stored in a storage means while it's continuously executed. SOLUTION: A new program stored in an FD or MO is read by an external storage 109 (an FDD or MOD device) which is connected to a stepper and written into an auxiliary storage 104 etc. When the version-up is started, the new program is read out of a medium and compared with an old program to decide the version-up or version-down to the new program. When the version-up is decided, the old program stored in the storage 104 is preserved in a different name. Then the new program is preserved in the storage 104 in its original name, and a program update flag is set to complete the updating of the program.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工場等
において用いられ、ソフトウェアプログラムのバージョ
ンアップにより機能追加や不具合の修正が可能である露
光装置、ネットワーク対応の露光装置および露光装置シ
ステムならびにこれらを用いた半導体製造装置、半導体
製造システムおよびデバイス製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, a network-compatible exposure apparatus, an exposure apparatus system, and the like, which are used in a semiconductor manufacturing factory or the like and can add a function or correct a defect by upgrading a software program. The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, a semiconductor manufacturing system, and a device manufacturing method used.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体製造装置の制御プログラム
は機能のソフトウェア化が進み、メンテナンス性を向上
するために、ソフトウェアのバージョンアップによる機
能追加や不具合修正ができるようになっている。ソフト
ウェアのバージョンアップはハードウェア部品の交換を
することなく、新しいソフトウェアプログラムの格納さ
れたメディア(媒体)を用いてバージョンアップ作業を
するだけで機能追加や不具合への対応を可能とする。
2. Description of the Related Art In recent years, the functions of control programs for semiconductor manufacturing equipment have been developed into software, and in order to improve maintainability, functions can be added or bugs can be corrected by upgrading software. Upgrading of software makes it possible to add a function or cope with a defect only by performing an upgrade operation using a medium storing a new software program without replacing hardware components.

【0003】また、半導体製造工場のネットワーク化が
進み、半導体露光装置(以下、ステッパという)はイー
サネット等の標準ネットワークプロトコル(TCP/I
P、NetWare、AppleTalk等)により、
各種のLAN(ローカルエリアネットワーク)接続機器
や専用/公衆回線網を用いて接続されることが多くなっ
ている。標準的なネットワーク技術の発展と普及によ
り、ネットワークに接続した半導体露光装置管理装置
(以下、サーバという)から、ネットワークを介してス
テッパを制御することができるようになってきている。
In addition, with the progress of networking of semiconductor manufacturing factories, a semiconductor exposure apparatus (hereinafter, referred to as a stepper) is provided with a standard network protocol (TCP / I) such as Ethernet.
P, NetWare, AppleTalk, etc.)
It is increasingly connected using various LAN (local area network) connection devices or dedicated / public line networks. With the development and spread of standard network technology, it has become possible to control a stepper from a semiconductor exposure apparatus management apparatus (hereinafter, referred to as a server) connected to the network via the network.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、装
置を動作させたままでのプログラムの書換えや、書換え
たプログラムの有効化、あるいはネットワークを介した
プログラムの書換え等は、半導体露光装置としての露光
動作等の実行中は実現困難である。
However, rewriting of a program while the apparatus is in operation, activation of the rewritten program, or rewriting of a program via a network, etc., require the exposure operation as a semiconductor exposure apparatus. It is difficult to realize during execution.

【0005】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、露光装置、露光装置システム、半導体製造
装置、半導体製造システム、およびデバイス製造方法に
おいて、プログラムの実行中においてもプログラムのバ
ージョンアップが行えるようにすることにある。
An object of the present invention is to provide an exposure apparatus, an exposure apparatus system, a semiconductor manufacturing apparatus, a semiconductor manufacturing system, and a device manufacturing method in which the version of a program is executed even during execution of the program. It is to be able to do up.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
露光装置に係る第1の発明では、プログラムを記憶手段
よりロードして実行することにより装置を制御する制御
手段を備えた露光装置において、前記プログラムの実行
の継続中に、前記記憶手段に記憶されているプログラム
を更新するバージョンアップ手段を具備することを特徴
とする。ここで「プログラムの実行の継続中」とは、プ
ログラムのアイドリング状態を含む意である。これによ
れば、プログラムの実行中においても記憶手段中のプロ
グラムの更新が行われるため、バージョンアップに伴う
長時間の生産停止や装置停止が回避され、半導体製造工
場における生産効率の向上が図られる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus having a control means for controlling an apparatus by loading and executing a program from a storage means. It is characterized by comprising version upgrade means for updating the program stored in the storage means during execution of the program. Here, "continuation of the execution of the program" means to include the idling state of the program. According to this, the program in the storage unit is updated even during the execution of the program, so that a long-term production stop or a device stop due to the version upgrade is avoided, and the production efficiency in the semiconductor manufacturing factory is improved. .

【0007】また、露光装置に係る第2の発明おいて
は、プログラムをロードして実行することにより装置を
制御する制御手段を備えた露光装置において、前記プロ
グラムの実行の継続中に、再立上げ動作を行うことな
く、ロードされているプログラムを新プログラムヘ切り
換えるバージョンアップ手段を具備することを特徴と
し、これによりプログラムの実行中においてもプログラ
ムのバージョンアップが行えるようにしている。これに
よれば、新プログラムヘの動的な切換えが行われ、露光
装置によるデバイスの生産を中断することなくバージョ
ンアップがなされる。また、本発明の露光装置システム
は、ネットワーク用インタフェイスを介して接続された
上述のような露光装置およびネットワーク上の管理装置
を具備することを特徴とする。
According to a second aspect of the exposure apparatus, in the exposure apparatus provided with control means for controlling the apparatus by loading and executing the program, the exposure apparatus can be re-established while the execution of the program is continued. A feature is provided of a version upgrade means for switching a loaded program to a new program without performing an ascending operation, so that the program can be upgraded even during execution of the program. According to this, the dynamic switching to the new program is performed, and the version is upgraded without interrupting the device production by the exposure apparatus. Further, an exposure apparatus system according to the present invention includes the above-described exposure apparatus connected via a network interface and a management apparatus on a network.

【0008】また、本発明の半導体製造装置は、上述の
ような露光装置を具備することを特徴とする。
[0008] A semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention includes the above-described exposure apparatus.

【0009】また、本発明の半導体製造システムは、上
述のような露光装置システムを具備することを特徴とす
る。
Further, a semiconductor manufacturing system according to the present invention is provided with the above-described exposure apparatus system.

【0010】また、本発明のデバイス製造方法は、上述
のような露光装置、露光装置システム、半導体製造装
置、または半導体製造システムを用い、そのバージョン
アップ手段により、プログラムをバージョンアップしな
がら露光を行うことを特徴とする。
A device manufacturing method according to the present invention uses the above-described exposure apparatus, exposure apparatus system, semiconductor manufacturing apparatus, or semiconductor manufacturing system, and performs exposure while upgrading a program by version upgrading means. It is characterized by the following.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】第1発明の好ましい実施形態にお
いては、バージョンアップ手段は、プログラムの実行の
継続中に、記憶手段に記憶されている旧プログラムを別
名で保存し、新プログラムを元のプログラム名で書き込
むことによりプログラムの更新を行うものである。
In a preferred embodiment of the first invention, the version-up means saves the old program stored in the storage means under another name while the execution of the program continues, and replaces the new program with the original program. The program is updated by writing with the program name.

【0012】また、ネットワーク用インタフェイスを備
え、バージョンアップ手段はネットワーク上の管理装置
から新プログラムを転送してプログラムの更新を行うよ
うにしてもよい。これによれば、従来は操作者(オペレ
ータ)がクリーンルームに赴いてソフトウェアのバージ
ョンアップを行わなければならなかったことに起因す
る、操作者のクリーンルームにおける作業時間の短縮が
図られる。
[0012] Further, a network interface may be provided, and the version upgrade means may update the program by transferring a new program from a management device on the network. According to this, the working time of the operator in the clean room can be shortened because the operator (operator) has to go to the clean room to upgrade the software.

【0013】さらに、更新したプログラムを有効にする
再立上げのタイミングを設定するタイマ手段を有する。
これによれば、更新したプログラムを有効にするために
は露光装置のリブート(再立上げ)を行って新しいプロ
グラムを有効にする必要があるが、タイマ手段により、
この立上げ処理を行うタイミングを工場の生産休止可能
な時刻等に設定することにより、生産に支障を来すこと
なく更新プログラムの有効化が行われる。
[0013] Further, there is provided timer means for setting a restart timing for making the updated program effective.
According to this, in order to make the updated program effective, it is necessary to perform a reboot (restartup) of the exposure apparatus to make the new program effective.
By setting the timing at which the start-up process is performed to a time when the production can be suspended at the factory, the update program is validated without hindering the production.

【0014】ネットワークに接続されている場合は、更
新したプログラムを有効にする再立上げを、ネットワー
ク上の管理装置からの司令に応じて行うようにしてもよ
い。つまり、旧プログラムから新プログラムヘの切換え
指示であるリブート司令をネットワークを介して管理装
置(サーバ)から露光装置にリモートで行い、手動によ
る露光装置の再立上げ操作を不要にしてオペレータの負
荷の軽減を図るようにしてもよい。
When connected to a network, a restart to validate the updated program may be performed in response to a command from a management device on the network. That is, a reboot command, which is an instruction to switch from the old program to the new program, is remotely sent from the management apparatus (server) to the exposure apparatus via the network, thereby eliminating the need to manually restart the exposure apparatus and reduce the load on the operator. The reduction may be achieved.

【0015】第2発明の好ましい実施形態においては、
バージョンアップ手段は、プログラムの実行の継続中
に、そのプログラムと異なる番地に新プログラムをロー
ドするとともにプログラムの実行開始番地を新プログラ
ムに対応した新たな番地に更新することにより新プログ
ラムヘの切換えを行う。この場合、さらにネットワーク
用インタフェイスを備え、バージョンアップ手段は、ネ
ットワーク上の管理装置から新プログラムを転送して新
プログラムへの切換えを行うようにしてもよい。これに
よれば、クリーンルームでの作業と生産の中断をするこ
となくバージョンアップが可能となる。
In a preferred embodiment of the second invention,
The upgrade means loads the new program to an address different from that of the program during execution of the program, and switches the program to the new program by updating the program execution start address to a new address corresponding to the new program. Do. In this case, a network interface may be further provided, and the version upgrade means may transfer the new program from the management device on the network and switch to the new program. According to this, the version can be upgraded without interrupting work and production in the clean room.

【0016】[0016]

【実施例】(第1の実施例)図1は、本発明の第1の実
施例に係る半導体露光装置のハードウェアシステム構成
を示すブロック図である。図1において、101はコン
ソール用CPUであり、半導体露光装置のコンソール表
示とコンソールコマンド入力による操作の制御を司る。
102はCPU101が実行プログラムを格納したりデ
ータを格納するためのRAM、103はプログラムを格
納するためのROM、104はデータおよびプログラム
を格納するために用いられる補助記憶装置(ハードディ
スク等)である。バージョンアップ対象の実行プログラ
ムは補助記憶装置104上に保存される。ブート用プロ
グラム等のいわゆるファームウェアに属する部分は、通
常、ROM103上に格納される。
FIG. 1 is a block diagram showing a hardware system configuration of a semiconductor exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a console CPU, which controls console display of the semiconductor exposure apparatus and operation control by console command input.
102 is a RAM for the CPU 101 to store an execution program or data, 103 is a ROM for storing programs, and 104 is an auxiliary storage device (such as a hard disk) used to store data and programs. The execution program to be upgraded is stored on the auxiliary storage device 104. A portion belonging to so-called firmware, such as a boot program, is usually stored on the ROM 103.

【0017】なお、補助記憶装置104上に格納された
プログラムのバージョンアップは、まず新プログラムが
旧プログラムに換えて補助記憶装置104上に上書き保
存され、装置立上げ時にRAM102上にロードされる
ことで実現される。本発明はこのバージョンアップ方式
を改良するものである。また、ROM103に格納され
たプログラムのバージョンアップの方法としては、RO
M部品の交換等による方法が考えられるが、フラッシュ
ROMやEEP−ROMといったソフトウェア的な書換
えが可能な部品を用いる場合は、本発明のバージョンア
ップ方式がROM103上のプログラムに対しても適用
可能となる。
The upgrade of the program stored in the auxiliary storage device 104 is performed by first overwriting and saving the new program in place of the old program on the auxiliary storage device 104 and loading the new program onto the RAM 102 when the device is started. Is realized. The present invention is to improve this version-up system. In addition, as a method for upgrading the program stored in the ROM 103, RO
Although a method by exchanging M parts is conceivable, when a software rewritable part such as a flash ROM or an EEP-ROM is used, the version upgrade method of the present invention is applicable to a program on the ROM 103. Become.

【0018】105は、イーサネット通信網108と通
信を行うためのLANインタフェイスである。LANイ
ンタフェイス105で通信を行う場合のプロトコルはT
CP/IP等の標準的ネットワークプロトコルが用いら
れることが多いが、AppleTalkやNetWar
eといった一般的に普及しているプロトコルを用いても
かまわない。ただし、ネットワークを用いる必要のない
機能を実現するためには、LANインタフェイス105
は必須ではない。
Reference numeral 105 denotes a LAN interface for communicating with the Ethernet communication network 108. The protocol for communication on the LAN interface 105 is T
Standard network protocols such as CP / IP are often used, but AppleTalk or NetWar
A commonly used protocol such as e may be used. However, in order to realize a function that does not require the use of a network, the LAN interface 105 is required.
Is not required.

【0019】106はコンソール装置であり、これによ
りオペレータ(操作者)はコンソール用CPU101に
対する指令を行うことができる。コンソール装置106
用の表示装置としては、CRTや液晶表示装置、ELパ
ネル、あるいはプラズマディスプレイ等が一般的に用い
られる。またコンソール装置106用の入力装置として
は、コマンドをキー入力するためのキーボードが用いら
れることが多いが、電子ペンによるペン入力装置(タブ
レット)やタッチパネルなどで構成されることもある。
Reference numeral 106 denotes a console device by which an operator (operator) can issue a command to the console CPU 101. Console device 106
A CRT, a liquid crystal display, an EL panel, a plasma display, or the like is generally used as a display device for the display. In addition, as an input device for the console device 106, a keyboard for inputting a command by a key is often used, but a keyboard input device (tablet) using an electronic pen or a touch panel may be used.

【0020】109は外部記憶装置である。外部記憶装
置109としてはFDD(フロッピディスクドライブ)
やMOD(光磁気ディスクドライブ)といったものが考
えられる。技術の発展によってDVD−RAMなどの新
規メディアを取り扱うことができるドライブが普及した
場合は、該新規外部記億装置が用いられる。メディアに
格納した新プログラムのデータが、外部記憶装置109
から読み出されて補助記憶装置104上に保存される。
後述するような、新プログラムを露光装置管理装置(サ
ーバ)より転送する方式を用いる場合は、外部記憶装置
l09は必須ではない。
Reference numeral 109 denotes an external storage device. FDD (floppy disk drive) as the external storage device 109
And MOD (magneto-optical disk drive). When a drive capable of handling a new medium such as a DVD-RAM becomes widespread due to the development of technology, the new external storage device is used. The data of the new program stored in the medium is stored in the external storage device 109.
And stored on the auxiliary storage device 104.
When using a method for transferring a new program from the exposure apparatus management apparatus (server) as described later, the external storage device 109 is not essential.

【0021】110は、半導体露光装置を構成する各種
の制御装置を全体制御するメインCPUである。メイン
CPU110とコンソール用CPU101はメインCP
Uバス107によって接続されて半導体露光装置として
動作する。111は、半導体製造用のウエハに対して露
光を行うための光源を制御する照明装置、112は半導
体製造用のウエハに対して露光するパターンを描いたレ
チクル(フォトマスク)の搬入搬出等を制御するための
レチクル駆動装置、113は半導体製造用のウエハをス
テップアンドリピートの方式で露光するためにXYステ
ージ上などでウエハを駆動制御するためのステージ駆動
装置、114は半導体製造用のウエハを正確な位置決め
をして制御するためのアライメント用TVシステムであ
る。これら照明装置111〜TVシステム114の各装
置は、周辺機器用バス115によりメインCPU110
の制御下におかれる。周辺機器用バス115は、本実施
例ではSCSIを用いているが、どのような汎用の標準
バスで構成されていても構わない。
Reference numeral 110 denotes a main CPU for controlling various control devices constituting the semiconductor exposure apparatus as a whole. The main CPU 110 and the console CPU 101 are connected to a main CP.
It is connected by the U bus 107 and operates as a semiconductor exposure apparatus. An illumination device 111 controls a light source for exposing a semiconductor manufacturing wafer to light, and a 112 controls loading and unloading of a reticle (photomask) depicting a pattern to be exposed on the semiconductor manufacturing wafer. A reticle driving device 113 for driving and controlling a wafer on an XY stage for exposing a wafer for semiconductor manufacturing in a step-and-repeat manner; and 114 a precision wafer for semiconductor manufacturing. This is an alignment TV system for performing accurate positioning and control. Each of the lighting devices 111 to the TV system 114 is connected to the main CPU 110 by a peripheral device bus 115.
Under the control of Although the peripheral device bus 115 uses SCSI in this embodiment, it may be configured with any general-purpose standard bus.

【0022】図2はこの半導体露光装置(ステッパ)に
おける更新動作を示すフローチャートである。この動作
は、露光装置が何らかのプログラムを実行している間に
並行して行われる。実行されているプログラムの中に
は、書換え更新対象となるプログラムも含まれている。
バージョンアップを行うためには新プログラムを格納し
たメディアを用意する。メディアとしては、FD(フロ
ッピディスク・フレキシブルディスク)やMO(光磁気
ディスク)が考えられる。FDやMOに格納された新規
プログラムは、ステッパに接続した外部記憶装置109
(FDD、MOD装置)によって読み込まれ、補助記憶
装置l04等に書き込まれる。
FIG. 2 is a flowchart showing an update operation in the semiconductor exposure apparatus (stepper). This operation is performed in parallel while the exposure apparatus is executing some program. The programs being executed include programs to be rewritten and updated.
To upgrade the version, prepare a medium that stores the new program. As the medium, an FD (floppy disk / flexible disk) or an MO (magneto-optical disk) can be considered. The new program stored in the FD or MO is stored in the external storage device 109 connected to the stepper.
(FDD, MOD device) and written to the auxiliary storage device 104 or the like.

【0023】バージョンアップを開始すると、図2に示
すように、まずステップS201において、新プログラ
ムをメディアから読み込み、新プログラムと旧プログラ
ムのバージョンを比較し、そしてステップS202にお
いて、新プログラムヘのバージョンアップかバージョン
ダウンかを判断する。この結果、バージョンアップと判
断した場合はステップS203へ進み、バージョンダウ
ンの場合はステップS205へ進む。ステップS205
では、バージョンダウンしてもよいか否かをオペレータ
に確認し、バージョンダウンしてもよい場合はステップ
S203へ進み、さもなければ、処理を終了する。ステ
ップ203では、補助記憶装置104上の旧プログラム
を別名で保存する。次に、ステップS204において、
新プログラムをプログラムのオリジナル名称(元々の名
称)で補助記憶装置104に保存し、そしてステップS
206においてプログラムを更新した旨のフラグをセッ
トしてプログラムの更新を完了する。
When the version upgrade is started, as shown in FIG. 2, first in step S201, the new program is read from the medium, the versions of the new program and the old program are compared, and in step S202, the version upgrade to the new program is performed. And version down. As a result, when it is determined that the version is upgraded, the process proceeds to step S203, and when the version is reduced, the process proceeds to step S205. Step S205
Then, the operator confirms whether or not the version can be downgraded. If the version can be downgraded, the process proceeds to step S203. Otherwise, the process ends. In step 203, the old program on the auxiliary storage device 104 is stored under another name. Next, in step S204,
Save the new program in the auxiliary storage device 104 under the original name of the program (original name), and
At 206, a flag indicating that the program has been updated is set, and the update of the program is completed.

【0024】従来のシステムでは、露光装置のプログラ
ムの動作中には、旧プログラムが実行中のロック対象と
なっており、補助記憶装置104上のプログラムを書き
換えることができなかった。このような実行中のロック
機構を提供するシステムとしてはUNIX系のOSが挙
げられる。これに対し、本実施例では、ステップS20
3およびステップS204によって、一旦ロックされて
いるファイルを別名で保存(ムーブ)する手段を設ける
ことで、動作中における露光装置のプログラムの更新を
可能としている。この点が従来の露光装置のバージョン
アップ方式とは異なっている。
In the conventional system, during the operation of the program of the exposure apparatus, the old program is to be locked during execution, and the program on the auxiliary storage device 104 cannot be rewritten. A system that provides such a locking mechanism during execution includes a UNIX-based OS. On the other hand, in the present embodiment, in step S20
By providing means for storing (moving) the file once locked under another name by step 3 and step S204, it is possible to update the program of the exposure apparatus during operation. This point is different from the version upgrade method of the conventional exposure apparatus.

【0025】(第2の実施例)図3は本発明の第2の実
施例に係る半導体露光装置システムのネットワーク接続
形態の一例を示す図である。同図に示すように、このシ
ステムでは、半導体露光装置(ステッパ)3011およ
び3012は、イーサネット通信網108を介してサー
バ302に接続される。サーバ302は、ネットワーク
上に接続された各ステッパ3011および3012に対
して各種リモート指示や報告データ収集、データファイ
ルの分類保持管理、データファイルの新規作成・編集等
を行う管理装置である。サーバ302はイーサネット通
信網108を介してバージョンアップ対象の新プログラ
ムのバイナリイメージをステッパ3011や3012に
対して転送する手段を有する。転送手段としては標準的
なLANの機能を用いる。LANによるデータ転送方式
としては、TCP/IPのソケットインタフェイスを用
いたり、FTP(ファイル転送プロトコル)を用いるこ
とが簡単であり、一般的に利用されているが、どのよう
な独自のプロトコルや方式を採用してもかまわない。
(Second Embodiment) FIG. 3 is a diagram showing an example of a network connection form of a semiconductor exposure apparatus system according to a second embodiment of the present invention. As shown in the figure, in this system, semiconductor exposure apparatuses (steppers) 3011 and 3012 are connected to a server 302 via an Ethernet communication network 108. The server 302 is a management device that performs various remote instructions and report data collection, management and maintenance of data files, new creation and editing of data files, and the like for each of the steppers 3011 and 3012 connected on the network. The server 302 has means for transferring a binary image of a new program to be upgraded to the steppers 3011 and 3012 via the Ethernet communication network 108. A standard LAN function is used as the transfer means. As a data transfer method using a LAN, it is easy to use a TCP / IP socket interface or an FTP (file transfer protocol), and it is generally used. May be adopted.

【0026】図4は、このシステムにおけるバージョン
アップ動作を示すフローチャートである。サーバから新
プログラムを転送する部分が付加されているところが、
図2のフローチャートとは異なっている。バージョンア
ップを開始すると、まずステップS401において、サ
ーバから新プログラムデータを転送し、補助記憶装置1
04内の一時ファイルとして保存する。次に、ステップ
S402において新旧両プログラムのバージョンを比較
し、ステップS403においてバージョンアップか否か
の判断を行い、バージョンアップであればステップS4
04へ進み、バージョンダウンであればステップS40
7へ進む。ステップS407では、サーバに対してバー
ジョンダウンの可否を問い合わせてステップS408で
その結果を判断し、バージョンダウン可であればステッ
プS404へ進み、さもなければステップS406へ進
む。ステップS404では旧プログラムを保存し、ステ
ップS405で新プログラムに更新する。ステップS4
04および405の処理は図2のステップS203およ
びS204と同様である。次のステップS406では、
バージョンアップの成否をサーバに通知し、そしてステ
ップS409においてプログラムを書き換えた旨のフラ
グをセットし、バージョンアップ作業を終了する。
FIG. 4 is a flowchart showing a version upgrade operation in this system. The part where the new program is transferred from the server is added,
This is different from the flowchart of FIG. When the upgrade is started, first, in step S401, the new program data is transferred from the server to the auxiliary storage device 1.
04 as a temporary file. Next, in step S402, the versions of the old and new programs are compared, and in step S403, it is determined whether or not the version is upgraded.
04, if the version is down, step S40
Proceed to 7. In step S407, a query is made to the server as to whether or not the version can be downgraded, and the result is determined in step S408. If the version can be downgraded, the process proceeds to step S404; otherwise, the process proceeds to step S406. In step S404, the old program is stored, and in step S405, the old program is updated. Step S4
Steps 04 and 405 are the same as steps S203 and S204 in FIG. In the next step S406,
The server notifies the server of the success or failure of the upgrade, sets a flag indicating that the program has been rewritten in step S409, and ends the upgrade.

【0027】(第3の実施例)本実施例は、第1実施例
および第2実施例で更新した新プログラムを有効にする
ためのリブート方法の工夫に関する。第1実施例および
第2実施例により、露光装置の動作中においてもプログ
ラムの新規更新を行うことができるようになったが、新
プログラムを有効にする(メモリにロードして実際のプ
ログラムとして動作させる)ためには、装置の再立上げ
(リブート)が必要となる。従来、再立上げはオペレー
タによる手動で行っていた。これには、クリーンルーム
での作業を伴うことと、生産休止可能な任意の時間に再
立上げを行うことができないという問題がある。これら
の問題が、本実施例では、半導体露光装置のタイマ指定
によってリブートのタイミングを生産休止可能な任意の
時刻に指定することにより解決される。タイマ指定によ
るリブートの実行は、たとえばUNIXならばcron
コマンド機能やatコマンド機能といった標準的に備わ
った機能により実現可能である。
(Third Embodiment) This embodiment relates to a device of a reboot method for making the new program updated in the first embodiment and the second embodiment effective. According to the first embodiment and the second embodiment, a new program can be updated even during the operation of the exposure apparatus. However, the new program is enabled (the program is loaded into the memory and operates as an actual program). In such a case, it is necessary to restart the apparatus (reboot). Conventionally, re-startup has been performed manually by an operator. This involves problems in that it involves work in a clean room, and that it cannot be restarted at any time during which production can be stopped. In the present embodiment, these problems are solved by designating the reboot timing at an arbitrary time during which production can be stopped by designating a timer of the semiconductor exposure apparatus. The execution of the reboot by the timer specification is, for example, cron in UNIX.
This can be realized by a standard function such as a command function and an at command function.

【0028】(第4の実施例)図5は、本発明の第4の
実施例に係る露光装置システムにおける動作を示すフロ
ーチャートである。この露光装置システムは、図3と同
様の構成を有し、図3のサーバ302より、リブートを
リモート指示することにより、クリーンルーム303で
の作業を伴うことなく、バージョンアップした新プログ
ラムの有効化を実現するものである。
(Fourth Embodiment) FIG. 5 is a flowchart showing an operation in an exposure apparatus system according to a fourth embodiment of the present invention. This exposure apparatus system has the same configuration as that of FIG. 3, and by remotely instructing a reboot from the server 302 of FIG. 3, the new program that has been upgraded can be validated without any work in the clean room 303. It will be realized.

【0029】図5に示すように、サーバからのリブート
指示が行われると、まずステップS501においてリモ
ート指示を受信する。サーバとステッパ間のリモート指
示の送受信は、TCP/IP等の標準的プロトコルを用
いた通信手段により実現できる。次に、ステップS50
2において、受信した指示がプログラム更新のためのリ
ブート指示か否かを判断し、プログラム更新のためのリ
ブート指示と判断した場合はステップS503へ進み、
さもなければアイドル状態へ戻る。ステップS503で
はステッパがリブート可能な状態であるか否かを判断
し、リブート不可状態であればステップS509におい
てサーバにリブート不可状態(ビジー状態)である旨を
通知してアイドル状態へ戻り、リブート可能状態(アイ
ドル状態)であれば、ステップS504へ進んでステッ
パの新たな露光動作関連の操作を制限し、以降、ビジー
状態へ移行しないようにする。
As shown in FIG. 5, when a reboot instruction is issued from the server, a remote instruction is first received in step S501. Transmission and reception of remote instructions between the server and the stepper can be realized by communication means using a standard protocol such as TCP / IP. Next, step S50
In step 2, it is determined whether the received instruction is a reboot instruction for updating a program, and if it is determined that the instruction is a reboot instruction for updating a program, the process proceeds to step S503.
Otherwise, return to the idle state. In step S503, it is determined whether or not the stepper is in a state in which a reboot is possible. If the stepper is not in a rebootable state, the server is notified in step S509 that the state is in a state in which rebooting is not possible (busy state). If it is in the state (idle state), the flow advances to step S504 to limit the operation related to the new exposure operation of the stepper so that the state does not shift to the busy state.

【0030】次に、ステップS505において、新プロ
グラム書換えフラグを参照する。新プログラム書換えフ
ラグは新プログラム更新時にセットされている。したが
ってこのフラグがセットされていれば、動作中に新プロ
グラムヘの書換えが行われたことを示している。新プロ
グラムへの書換えが行われていた場合はステップS50
6へ進み、さもなければステップS510へ進んで、リ
ブートによって有効にすべきプログラムが存在しない旨
をサーバに通知し、アイドル状態へ戻る。ステップS5
06では新プログラム書換えフラグをリセットし、そし
てステップS507においてプログラム書換えリブート
中フラグをセットする。最後にステップS508でシス
テムをシャットダウン(立下げ)し、リブート実行状態
へ移行する。
Next, in step S505, the new program rewrite flag is referred to. The new program rewrite flag is set when a new program is updated. Therefore, if this flag is set, it indicates that rewriting to a new program has been performed during operation. If the new program has been rewritten, step S50
The process proceeds to step S510, otherwise the process proceeds to step S510 to notify the server that there is no program to be validated by rebooting, and return to the idle state. Step S5
In step 06, the new program rewriting flag is reset, and in step S507, the program rewriting in-reboot flag is set. Finally, in step S508, the system is shut down (falling down), and the state shifts to a reboot execution state.

【0031】図6はこのリブート実行状態における動作
を示すフローチャートである。露光装置を制御するシス
テムのリブートを開始すると、まず、ステップS601
においてプログラム書換えリブート中フラグがセットさ
れているか否かを判定し、セットされていればステップ
S602へ進み、セットされていなければステップS6
03へ進む。ステップS602ではプログラム書換えリ
ブート中フラグをリセットする。プログラム書換えリブ
ート中フラグがセットされている場合は、補助記憶装置
104上のプログラムは更新したが、リブートは行って
いないため、メモリにロードされているプログラムは有
効になっていないということを示している。したがって
この場合は、ステップS603で新プログラムがメモリ
(RAM102)にロードされ、新プログラムが有効と
なる。ここでは相互に関連する多数のバージョンアップ
対象プログラムがあることを想定し、これらのプログラ
ムの有効化のためにリブートを行っているが、単機能の
プログラムであれば、該当プログラムだけを再起動する
だけでよい。
FIG. 6 is a flowchart showing the operation in the reboot execution state. When the reboot of the system for controlling the exposure apparatus is started, first, in step S601,
It is determined whether the program rewriting rebooting flag has been set in step. If the flag has been set, the process proceeds to step S602; if not, the process proceeds to step S6.
Go to 03. In step S602, the flag under program rewrite reboot is reset. If the program rewriting flag is set, the program in the auxiliary storage device 104 has been updated, but the program loaded in the memory has not been validated because the reboot has not been performed. I have. Therefore, in this case, the new program is loaded into the memory (RAM 102) in step S603, and the new program becomes valid. Here, it is assumed that there are many programs to be upgraded that are related to each other, and rebooting is performed to enable these programs. However, if the program is a single function, only the relevant program is restarted. Just need.

【0032】(第5の実施例)図7は本発明の第5の実
施例に係る露光装置におけるプログラムの動作を示すフ
ローチャートである。この露光装置では、露光処理など
のプログラムを実行中に、該プログラムの動的な更新を
可能としている。
(Fifth Embodiment) FIG. 7 is a flowchart showing the operation of a program in an exposure apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. In this exposure apparatus, a program such as an exposure process can be dynamically updated while the program is being executed.

【0033】すなわちまず、アイドル状態において、ス
テップS701で露光プログラムが起動されると、露光
プログラムは実メモリ(RAM102)上にロードさ
れ、スタートアドレスを実メモリ上に保持する。通常、
プログラムはリロケータブルであるため、該スタートア
ドレスは固定アドレスではない。次に、ステップS70
2〜S704において、露光処理を一通り実行する。通
常は、この露光処理が終了すると、プログラムは終了
し、次にオペレーティングシステムから起動されるまで
待ち状態(アイドル状態)となる。そこで本実施例で
は、次の起動待ちとなる直前のプログラムステップで、
ステップS705からステップS707の手順を実行す
る。
First, in the idle state, when the exposure program is started in step S701, the exposure program is loaded on the real memory (RAM 102) and the start address is held on the real memory. Normal,
Since the program is relocatable, the start address is not a fixed address. Next, step S70
In steps S2 to S704, the exposure processing is executed as a whole. Normally, when this exposure processing ends, the program ends, and the apparatus enters a waiting state (idle state) until the next operation from the operating system. Therefore, in this embodiment, in the program step immediately before the next start waiting,
The procedure from step S705 to step S707 is executed.

【0034】ステップS705では、後述するバージョ
ンアップ手順でセットされる「新プログラム動的ロード
フラグ」を参照し、フラグがセットされているか否かを
判定する。セットされている場合はステップS706へ
進み、セットされていない場合はアイドル状態へ戻る。
ステップS706では、新プログラムのスタートアドレ
スを取得し、リロケータブルとなっているスタートアド
レスを書き換える。新プログラムのスタートアドレスは
後述のバージョンアップ手順により実メモリ上の特定位
置に書き込まれている。ステップS706で新アドレス
を設定した後、ステップS707において新プログラム
動的ロードフラグをリセットする。このようにすること
で、次回、該露光プログラムがオペレーティングシステ
ムから起動された場合、ステップS701で使用される
スタートアドレスは、新プログラムのアドレスとなる。
In step S705, it is determined whether or not the flag is set by referring to a "new program dynamic load flag" set in a version upgrade procedure described later. If it is set, the process proceeds to step S706. If it is not set, the process returns to the idle state.
In step S706, the start address of the new program is obtained, and the relocatable start address is rewritten. The start address of the new program is written at a specific position on the real memory by a version upgrade procedure described later. After the new address is set in step S706, the new program dynamic load flag is reset in step S707. By doing so, the next time the exposure program is started from the operating system, the start address used in step S701 becomes the address of the new program.

【0035】図8は前記バージョンアップ手順のフロー
チャートである。まず、ステップS801において、補
助記憶装置104に格納されている旧プログラムを別名
で保存する。次にステップS802において新プログラ
ムを読み込み、補助記億装置104にコピーする。次
に、ステップS803において、該新プログラムを実メ
モリ(RAM102)上にロードする。ロードアドレス
は、旧プログラムとは別の領域とする。次に、ステップ
S804において、新プログラム動的ロードフラグをセ
ットし、メモリ上に新プログラムがロードされたことを
判別できるようにする。最後にステップS805におい
て、新プログラムのスタートアドレスをメモリ上の決め
られた領域にセットし、バージョンアップ手順を終了す
る。メモリ上にロードされた新プログラムは、図7のフ
ローチャートに示した方式により、装置を停止すること
なく有効となる。
FIG. 8 is a flowchart of the version upgrade procedure. First, in step S801, the old program stored in the auxiliary storage device 104 is saved under another name. Next, in step S802, a new program is read and copied to the auxiliary storage device 104. Next, in step S803, the new program is loaded on the real memory (RAM 102). The load address is in a different area from the old program. Next, in step S804, a new program dynamic load flag is set so that it can be determined that the new program has been loaded on the memory. Finally, in step S805, the start address of the new program is set in a predetermined area on the memory, and the version upgrade procedure ends. The new program loaded on the memory is effective without stopping the apparatus according to the method shown in the flowchart of FIG.

【0036】図9は、旧プログラムと新プログラムのメ
モリ上の配置を示したメモリマップである。901は新
プログラム動的ロードフラグであり、RAM102上の
任意の位置に指定される。902はバージョンアップ対
象となっているリロケータブルプログラムのスタートア
ドレスを設定するメモリ上の領域である。903は、新
プログラムと旧プログラムのメモリ上の配置を示すメモ
リマップである。旧プログラムのスタートアドレスはA
番地、新プログラムのスタートアドレスはB番地であ
る。プログラムのスタートアドレスはリロケータブルの
ため、オペレーティングシステムの管理するメモリ内の
任意の位置となる。本実施例では、該スタートアドレス
をプログラムスタートアドレスとして領域902に格納
し、バージョンアップ手順を実行するバージョンアップ
プログラム内で、該プログラムスタートアドレスを書き
換える(ステップS805)。バージョンアップ対象と
なっているプログラムでは動的ロードフラグ901を参
照し(ステップS705)、フラグがセットされていれ
ば、新しいプログラムスタートアドレスを用いて(ステ
ップS706)新プログラムを起動する方式により、装
置を停止することなくバージョンアップを実現すること
ができる。
FIG. 9 is a memory map showing the arrangement of the old program and the new program on the memory. A new program dynamic load flag 901 is specified at an arbitrary position on the RAM 102. Reference numeral 902 denotes a memory area for setting a start address of a relocatable program to be upgraded. A memory map 903 indicates an arrangement of the new program and the old program on the memory. The start address of the old program is A
The address and the start address of the new program are address B. Since the start address of the program is relocatable, it becomes an arbitrary position in the memory managed by the operating system. In this embodiment, the start address is stored in the area 902 as a program start address, and the program start address is rewritten in an upgrade program for executing the upgrade procedure (step S805). The program to be upgraded refers to the dynamic load flag 901 (step S705). If the flag is set, the new program is started using the new program start address (step S706). Version can be realized without stopping.

【0037】なお、図8のステップS802において
は、新プログラムをメディアから読み込むようにしてい
るが、この代わりに、サーバ302から転送するように
してもよい。
Although the new program is read from the medium in step S802 in FIG. 8, the new program may be transferred from the server 302 instead.

【0038】(デバイス製造例)次に、上述した露光装
置または露光システムを利用することができるデバイス
製造例について説明する。図10は微小デバイス(IC
やLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜
磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造のフローを示
す。ステップ31(回路設計)ではデバイスのパターン
設計を行なう。ステップ32(マスク製作)では設計し
たパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステッ
プ33(ウエハ製造)ではシリコンやガラス等の材料を
用いてウエハを製造する。ステップ34(ウエハプロセ
ス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを
用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回
路を形成する。次のステップ35(組み立て)は後工程
と呼ばれ、ステップ34によって作製されたウエハを用
いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程
(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程
(チップ封入)等の工程を含む。ステップ36(検査)
ではステップ35で作製された半導体デバイスの動作確
認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工
程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステッ
プ37)される。
(Device Manufacturing Example) Next, a device manufacturing example that can use the above-described exposure apparatus or exposure system will be described. FIG. 10 shows a micro device (IC
1 shows a flow of manufacturing semiconductor chips such as LSIs and LSIs, liquid crystal panels, CCDs, thin-film magnetic heads, micromachines, and the like. In step 31 (circuit design), a device pattern is designed. Step 32 is a process for making a mask on the basis of the designed pattern. On the other hand, in step 33 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon or glass. Step 34 (wafer process) is referred to as a preprocess, and an actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. The next step 35 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer prepared in step 34, and includes processes such as an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (chip encapsulation). including. Step 36 (inspection)
Then, inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the semiconductor device manufactured in step 35 are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step 37).

【0039】図11は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ41(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ42(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ43(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ44(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ4
5(レジスト処理)ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ46(露光)では上記説明した露光装置または
露光方法によってマスクの回路パターンをウエハの複数
のショット領域に並べて焼付露光する。ステップ47
(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ48
(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削
り取る。ステップ49(レジスト剥離)ではエッチング
が済んで不要となったレジストを取り除く。これらのス
テップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重
に回路パターンが形成される。
FIG. 11 shows a detailed flow of the wafer process. Step 41 (oxidation) oxidizes the wafer's surface. In step 42 (CVD), an insulating film is formed on the wafer surface. In step 43 (electrode formation), electrodes are formed on the wafer by vapor deposition. In step 44 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. Step 4
In step 5 (resist processing), a resist is applied to the wafer.
In step 46 (exposure), the circuit pattern of the mask is printed on a plurality of shot areas of the wafer by printing using the above-described exposure apparatus or exposure method. Step 47
In (development), the exposed wafer is developed. Step 48
In (etching), portions other than the developed resist image are scraped off. In step 49 (resist removal), unnecessary resist after etching is removed. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer.

【0040】これによれば、従来は製造が難しかった大
型のデバイスを低コストで製造することができる。
According to this, it is possible to manufacture a large-sized device, which was conventionally difficult to manufacture, at low cost.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、プ
ログラムの実行の継続中に、前記記憶手段に記憶されて
いるプログラムを更新するようにしたため、バージョン
アップのための装置の停止時間を短縮することができ
る。
As described above, according to the present invention, the program stored in the storage means is updated while the program is being executed. Can be shortened.

【0042】またさらに、ネットワーク上の管理装置か
ら新プログラムを転送してプログラムの更新を行うよう
にしたため、従来大変な時間と人件費を要していた、オ
ペレータによるクリーンルーム内でのバージョンアップ
作業を省力化することができる。
Further, since a new program is transferred from the management device on the network to update the program, the upgrade work in the clean room by the operator, which has conventionally required a great deal of time and labor costs, is required. Labor can be saved.

【0043】また、更新したプログラムを有効にする再
立上げのタイミングを設定するタイマ手段を有するた
め、書き換えたプログラムを有効にするための再立上げ
(リブート)のタイミングを工場の生産休止可能な時刻
に指定することができ、したがって、再立上げ時の露光
装置の停止による影響を軽減することができる。
Further, since there is provided a timer means for setting a re-start timing for validating the updated program, it is possible to set a re-start (reboot) timing for validating the rewritten program to be able to suspend production at the factory. The time can be designated, so that the influence of stopping the exposure apparatus at the time of restart can be reduced.

【0044】また、更新したプログラムを有効にする再
立上げを、ネットワーク上の管理装置からの司令に応じ
て行うようにしたため、オペレータによるクリーンルー
ム内でのバージョンアップ作業をさらに省力化すること
ができる。
Further, since the re-startup for making the updated program effective is performed according to a command from a management device on the network, it is possible to further reduce the labor required to upgrade the version in the clean room by the operator. .

【0045】また、プログラムの実行の継続中に、再立
上げ動作を行うことなくプログラムを新プログラムヘ切
り換えるようにしたため、露光装置の停止時間を最小限
に止めることができる。また、この場合、さらにネット
ワーク上の管理装置から新プログラムの転送を行うこと
により、動作中の半導体露光装置のプログラムを書き換
えて即時に新プログラムを有効にすることができる。し
たがって、露光装置による生産工程にまったく影響を与
えることなく、また、クリーンルーム作業を要すること
なく、ソフトウェアプログラムのバージョンアップを行
うことができるという効果がある。
Further, during the continuation of the execution of the program, the program is switched to the new program without performing the restarting operation, so that the stop time of the exposure apparatus can be minimized. Further, in this case, by transferring the new program from the management apparatus on the network, the program of the operating semiconductor exposure apparatus can be rewritten and the new program can be immediately activated. Therefore, there is an effect that the version of the software program can be upgraded without affecting the production process by the exposure apparatus at all and without requiring a clean room operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例に係る半導体露光装置
のハードウェア構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a hardware configuration of a semiconductor exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1の装置におけるバージョンアップ動作を
示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing a version upgrade operation in the apparatus of FIG.

【図3】 本発明の第2の実施例に係る半導体露光装置
システムのネットワーク構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a network configuration of a semiconductor exposure apparatus system according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 図3のシステムにおけるバージョンアップ動
作を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a version upgrade operation in the system of FIG. 3;

【図5】 本発明の第4の実施例に係る露光装置システ
ムにおける動作を示すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing an operation in an exposure apparatus system according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第4の実施例におけるリブート動作
のフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart of a reboot operation according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の第5の実施例に係る露光装置におけ
るプログラムの動作を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing an operation of a program in an exposure apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の第5の実施例におけるバージョンア
ップ動作のフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart of a version upgrade operation according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の第5の実施例におけるメモリマップ
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a memory map according to a fifth embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の装置または方法を用いることがで
きるデバイス製造例を示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing an example of manufacturing a device that can use the apparatus or method of the present invention.

【図11】 図10におけるウエハプロセスの詳細なフ
ローを示すフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing a detailed flow of a wafer process in FIG. 10;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101:コンソール用CPU、l02:プログラムを格
納したりデータを格納するためのRAM、103:プロ
グラムを格納するためのROM、104:データおよび
プログラムを格納する補助記億装置、105:LANイ
ンタフェイス、106:コンソール装置、107:メイ
ンCPUバス、108:イーサネット通信網、109:
外部記憶装置、110:メインCPU、111:照明装
置、112:レチクル駆動装置、113:ステージ駆動
装置、114:アライメント用TVシステム、115:
周辺機器用バス、302:サーバ、303:クリーンル
ーム、901:新プログラム動的ロードフラグ、90
2:スタートアドレスを設定するメモリ上の領域、90
3:メモリマップ、3011,3012:半導体露光装
置(ステッパ)。
101: CPU for console, 102: RAM for storing programs and data, 103: ROM for storing programs, 104: auxiliary storage device for storing data and programs, 105: LAN interface, 106: console device, 107: main CPU bus, 108: Ethernet communication network, 109:
External storage device, 110: Main CPU, 111: Illumination device, 112: Reticle drive device, 113: Stage drive device, 114: TV system for alignment, 115:
Peripheral device bus, 302: server, 303: clean room, 901: new program dynamic load flag, 90
2: Area on memory for setting start address, 90
3: memory map, 3011 and 3012: semiconductor exposure apparatus (stepper).

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プログラムを記憶手段よりロードして実
行することにより装置を制御する制御手段を備えた露光
装置において、前記プログラムの実行の継続中に、前記
記憶手段に記憶されているプログラムを更新するバージ
ョンアップ手段を具備することを特徴とする露光装置。
1. An exposure apparatus having a control unit for controlling an apparatus by loading a program from a storage unit and executing the program, wherein the program stored in the storage unit is updated during execution of the program. An exposure apparatus, comprising:
【請求項2】 前記バージョンアップ手段は、前記プロ
グラムの実行の継続中に、前記記憶手段において、記憶
されている旧プログラムを別名で保存し、新プログラム
を元のプログラム名で書き込むことにより前記プログラ
ムの更新を行うものであることを特徴とする請求項1に
記載の露光装置。
2. The version upgrade means stores the old program stored under another name in the storage means and writes a new program with an original program name in the storage means while the execution of the program is continued. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the updating is performed.
【請求項3】 ネットワーク用インタフェイスを備え、
前記バージョンアップ手段は前記ネットワーク上の管理
装置から前記新プログラムを転送し、前記プログラムの
更新を行うものであることを特徴とする請求項1または
2に記載の露光装置。
3. It has a network interface,
3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the upgrade unit transfers the new program from a management device on the network and updates the program.
【請求項4】 前記更新が行われたプログラムを有効に
する再立上げのタイミングを設定するタイマ手段を有す
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
の露光装置。
4. The exposure apparatus according to claim 1, further comprising timer means for setting a re-start timing for validating the updated program.
【請求項5】 ネットワークに接続され、前記更新が行
われたプログラムを有効にする再立上げを、前記ネット
ワーク上の管理装置からの司令に応じて行う手段を有す
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
の露光装置。
5. The apparatus according to claim 1, further comprising means for connecting to a network and performing a restart to validate the updated program in response to a command from a management device on the network. The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3.
【請求項6】 ネットワーク用インタフェイスを介して
接続された請求項1〜5のいずれかの露光装置および前
記ネットワーク上の管理装置を具備することを特徴とす
る露光装置システム。
6. An exposure apparatus system comprising: the exposure apparatus according to claim 1 connected via a network interface; and a management apparatus on the network.
【請求項7】 プログラムをロードして実行することに
より装置を制御する制御手段を備えた露光装置におい
て、前記プログラムの実行の継続中に、再立上げ動作を
行うことなく、ロードされている前記プログラムを新プ
ログラムヘ切り換えるバージョンアップ手段を具備する
ことを特徴とする露光装置。
7. An exposure apparatus comprising control means for controlling an apparatus by loading and executing a program, wherein the loaded program is executed without performing a re-startup operation while the execution of the program is continued. An exposure apparatus comprising version upgrade means for switching a program to a new program.
【請求項8】 前記バージョンアップ手段は、前記プロ
グラムの実行の継続中に、そのプログラムと異なる番地
に新プログラムをロードするとともにプログラムの実行
開始番地を前記新プログラムに対応した新たな番地に更
新することにより前記新プログラムヘの切換えを行うも
のであることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
8. The version upgrade means loads a new program to an address different from the program and updates the program execution start address to a new address corresponding to the new program while the program is being executed. 8. The exposure apparatus according to claim 7, wherein the switching to the new program is performed by the switching.
【請求項9】 ネットワーク用インタフェイスを備え、
前記バージョンアップ手段は前記ネットワーク上の管理
装置から前記新プログラムを転送して前記新プログラム
への切換えを行うものであることを特徴とする請求項7
または8に記載の露光装置。
9. It has a network interface,
8. The system according to claim 7, wherein the upgrade unit transfers the new program from a management device on the network and switches to the new program.
Or the exposure apparatus according to 8.
【請求項10】 ネットワーク用インタフェイスを介し
て接続された請求項7〜9のいずれかの露光装置および
前記ネットワーク上の管理装置を具備することを特徴と
する露光装置システム。
10. An exposure apparatus system comprising: the exposure apparatus according to any one of claims 7 to 9 connected via a network interface; and a management apparatus on the network.
【請求項11】 請求項1〜5のいずれかの露光装置も
しくは請求項7〜9のいずれかの露光装置を有すること
を特徴とする半導体製造装置。
11. A semiconductor manufacturing apparatus comprising the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5 or the exposure apparatus according to any one of claims 7 to 9.
【請求項12】 請求項6または10の露光装置システ
ムを有することを特徴とする半導体製造システム。
12. A semiconductor manufacturing system comprising the exposure apparatus system according to claim 6.
【請求項13】 請求項1〜12のいずれかの装置また
はシステムを用い、そのバージョンアップ手段によりプ
ログラムをバージョンアップしながら露光を行うことに
よりデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造
方法。
13. A device manufacturing method, characterized in that a device is manufactured by using the apparatus or system according to any one of claims 1 to 12 and performing exposure while upgrading a program by a version upgrading means.
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