JPH11282004A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH11282004A
JPH11282004A JP8749198A JP8749198A JPH11282004A JP H11282004 A JPH11282004 A JP H11282004A JP 8749198 A JP8749198 A JP 8749198A JP 8749198 A JP8749198 A JP 8749198A JP H11282004 A JPH11282004 A JP H11282004A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
layer
display device
photoconductive layer
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Masami Kido
政美 城戸
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to manufacture a liquid crystal display device at a comparatively low cost in a high yield by varying a conductivity of a photo conductive layer by switching plural light sources, switching an electric connection between a region of the photo conductive layer irradiated with light and a signal electrode, and optically addressing to the liquid crystal layer. SOLUTION: A plasma emission cell 200b has plural plasma emission channels 25a where a gap between a substrate 16 and a substrate 19 is divided by plural rib barriers 17. The plasma emission channels 25a are sealed with an ionizable gas, and plasma is generated by impressing an electrical discharge pulse voltage between a cathode 18a and an anode 18b. The plural plasma emission channels 25a extend in the direction orthogonal to a signal electrode 15. Therefore, the regions of the photo conductive layer 14 to be electrically connected with the signal electrode 15 are line-sequentially selected by controlling ON-OFF of the plasma emission channel 25a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
る。より詳しくは光を用いて液晶層のアドレッシングを
行う液晶表示装置に関する。
[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal display device that addresses a liquid crystal layer using light.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、その駆動方式によっ
て、電気アドレス方式、熱アドレス方式、および光アド
レス方式に分類される。これらのうち、直視型表示装置
として現在もっとも多く用いられているのは、電気アド
レス方式のパッシブマトリクス(PM)方式ならびにア
クティブマトリクス(AM)方式である。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are classified into an electric addressing method, a thermal addressing method, and an optical addressing method according to their driving methods. Among them, the passive matrix (PM) method and the active matrix (AM) method of the electric addressing method which are currently most frequently used as the direct-view display device are currently used.

【0003】近年、表示装置の大型化や高精細化に対す
るニーズが高まっている。しかしながら、従来の方式の
液晶表示装置では、これらのニーズに十分に対応できて
おらず、市販品で対角20インチ、試作段階でも対角3
0インチ程度が限界となっているのが現状である。とく
に、PM方式では、画素数の増加に伴い、クロストーク
のためにコントラストが低下するという問題がある。ま
た、AM方式では、スイッチング素子(特に薄膜トラン
ジスタ:TFT)を無欠陥で多数作り込むことが困難で
あるという問題がある。
In recent years, there has been an increasing need for larger and higher definition display devices. However, the liquid crystal display device of the conventional type cannot sufficiently meet these needs, and a commercially available product has a diagonal of 20 inches and a diagonal of 3 even in the prototype stage.
At present, about 0 inches is the limit. In particular, the PM method has a problem that the contrast is reduced due to crosstalk as the number of pixels increases. Further, the AM method has a problem that it is difficult to form a large number of switching elements (especially thin film transistors: TFTs) without defects.

【0004】これに対し、TFTのような半導体スイッ
チング素子を用いないAM方式液晶表示装置として、19
90年にアメリカのTektronix社のT.Buzakらによってプラ
ズマアドレス方式液晶表示装置(PALC)が開発され
た(例えば、特開平1-217396号公報)。PALCの断面
構造を模式的に図1に示す。
On the other hand, as an AM type liquid crystal display device which does not use a semiconductor switching element such as a TFT, a 19
In 1990, T. Buzak of Tektronix of the United States developed a plasma-addressed liquid crystal display device (PALC) (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396). FIG. 1 schematically shows a cross-sectional structure of PALC.

【0005】PALC100は、液晶セルとプラズマセ
ルとを積層した構成をしている。基板1と、誘電体セパ
レータ4との間に液晶層3が挟持されており、信号電極
(列電極)2と、誘電体セパレータ4との間の電位差に
よって、液晶層3が駆動される。プラズマセルは、基板
9と誘電体セパレータ4との間隙が複数のリブ隔壁6で
分割された複数のプラズマ放電チャネル5を有してい
る。プラズマ放電チャネル5には、イオン化可能なガス
が封入されており、カソード7とアノード8との間に放
電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。複数のプラズマ放電チャネル5は、信号電極(列
電極)2と直交する方向に延びており、カソード7とア
ノード8とが走査電極(行電極)10として機能し、線
順次走査される。
[0005] The PALC 100 has a configuration in which a liquid crystal cell and a plasma cell are stacked. The liquid crystal layer 3 is sandwiched between the substrate 1 and the dielectric separator 4, and the liquid crystal layer 3 is driven by a potential difference between the signal electrode (column electrode) 2 and the dielectric separator 4. The plasma cell has a plurality of plasma discharge channels 5 in which a gap between a substrate 9 and a dielectric separator 4 is divided by a plurality of rib partition walls 6. An ionizable gas is sealed in the plasma discharge channel 5, and a plasma is generated by applying a discharge pulse voltage between the cathode 7 and the anode 8. The plurality of plasma discharge channels 5 extend in a direction orthogonal to the signal electrodes (column electrodes) 2, and the cathode 7 and the anode 8 function as scanning electrodes (row electrodes) 10, and are scanned line-sequentially.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したPALC方式
を用いた液晶表示装置は、TFTを用いた液晶表示装置
に比べ、比較的簡単に大型化を行うことが出来る。しか
しながら、PALCに用いられている誘電体セパレータ
4はガラスからなる薄板であり、これは高価である上に
表示装置が大きくなればなるほど取り扱いが難しく、表
示装置作製中に破損する確率が高くなる。
The liquid crystal display device using the above-described PALC system can be relatively easily enlarged in size as compared with a liquid crystal display device using a TFT. However, the dielectric separator 4 used for PALC is a thin plate made of glass, which is expensive and difficult to handle as the display device becomes larger, and the probability of breakage during the fabrication of the display device increases.

【0007】さらに、PALCの駆動時においてこの薄
板ガラスのプラズマ側表面は擬似的な電極として働く
が、そのガラスの厚さは約50〜100ミクロンであ
り、一般的なネマティック液晶層の厚さである3〜6ミ
クロンに比べて10倍以上の厚みを持っている。このた
めPALCを駆動する際には液晶層を有効に駆動する電
圧の10倍以上の電圧を印加する必要が有る。このこと
は駆動回路の負担を増やすと共に消費電力の増加、それ
に伴う発熱などの問題を引き起こす。
Further, when the PALC is driven, the plasma-side surface of the thin glass acts as a pseudo electrode. The thickness of the glass is about 50 to 100 μm, which is a thickness of a general nematic liquid crystal layer. It has a thickness of 10 times or more compared to a certain 3 to 6 microns. For this reason, when driving the PALC, it is necessary to apply a voltage ten times or more the voltage for effectively driving the liquid crystal layer. This causes problems such as an increase in the load on the drive circuit, an increase in power consumption, and accompanying heat generation.

【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、大型化や高精細化に適した低コスト、
高歩留まりな液晶表示装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has a low cost suitable for enlargement and high definition.
It is an object to provide a liquid crystal display device with a high yield.

【0009】[0009]

【課題を解決する為の手段】本発明の液晶表示装置は、
第1基板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との
間に挟持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側に設
けられた単一の第1電極と、該第2基板の該液晶層側に
設けられ、透明導電材料からなる、第1の方向に延びる
互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、該複数
の信号電極を覆う光導電層と、該第2基板の外側に設け
られ、該光導電層の少なくとも一部に光を照射する、該
第1の方向と異なる第2の方向に延びる互いに平行なス
トライプ状の複数の光源と、を有し、該複数の光源をス
イッチングすることによって該光導電層の電気伝導度を
変化させ、該光導電層の該光照射された領域と該信号電
極との電気的接続をスイッチングし、該液晶層を光アド
レスするので、上記目的を達成することができる。
The liquid crystal display device of the present invention comprises:
A first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and a single first electrode provided on the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of stripe-shaped signal electrodes that are provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and are made of a transparent conductive material and extend in a first direction and that are parallel to each other; and a photoconductive layer that covers the plurality of signal electrodes. A plurality of parallel stripe-shaped light sources that are provided outside the second substrate and irradiate at least a part of the photoconductive layer with light and extend in a second direction different from the first direction. Changing the electrical conductivity of the photoconductive layer by switching the plurality of light sources, switching the electrical connection between the light-irradiated region of the photoconductive layer and the signal electrode, and switching the liquid crystal layer; Therefore, the above object can be achieved.

【0010】本発明による他の液晶表示装置は、第1基
板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に挟
持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側に設けら
れ、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の複
数の第1電極と、該第2基板の該液晶層側に設けられ、
透明導電材料からなる、該第1の方向と異なる第2の方
向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の信号電極
と、該複数の信号電極を覆う光導電層と、該第2基板の
外側に設けられ、該光導電層の少なくとも一部に光を照
射する、該第2の方向に延びる互いに平行なストライプ
状の複数の光源と、を有し、該複数の光源をスイッチン
グすることによって該光導電層の電気伝導度を変化さ
せ、該光導電層の該光照射された領域と該信号電極との
電気的接続をスイッチングし、該液晶層を光アドレスす
るので、上記目的を達成することができる。
Another liquid crystal display device according to the present invention comprises a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the liquid crystal of the first substrate. A plurality of first electrodes in the form of stripes parallel to each other and provided on the layer side and extending in the first direction; and provided on the liquid crystal layer side of the second substrate;
A plurality of stripe-shaped signal electrodes extending in a second direction different from the first direction and made of a transparent conductive material, a photoconductive layer covering the plurality of signal electrodes, and an outer surface of the second substrate. And a plurality of light sources in a stripe shape extending in the second direction and illuminating at least a part of the photoconductive layer. The light sources are switched by switching the plurality of light sources. Since the electrical conductivity of the conductive layer is changed, the electrical connection between the light-irradiated region of the photoconductive layer and the signal electrode is switched, and the liquid crystal layer is optically addressed, the above object can be achieved. it can.

【0011】本発明による他の液晶表示装置は、第1基
板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に挟
持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側に設けられ
た単一の第1電極と、該第2基板の該液晶層側に設けら
れ、透明導電材料からなる、第1の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の信号電極と、該複数の信号
電極上に形成された絶縁層と、該複数の信号電極と該絶
縁層との間に形成された光導電層と、該絶縁層に形成さ
れたスルーホールを介して、該光導電層と接続された複
数の画素電極と、該第2基板の外側に設けられ、該光導
電層の少なくとも一部に光を照射する、該第1の方向と
異なる第2の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
複数の光源と、を有し、該複数の光源をスイッチングす
ることによって該光導電層の電気伝導度を変化させ、該
画素電極と該信号電極との電気的接続をスイッチング
し、そのことによって、該液晶層を光アドレスするの
で、上記目的を達成することができる。
Another liquid crystal display device according to the present invention comprises a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the liquid crystal of the first substrate. A single first electrode provided on the layer side, and a plurality of parallel striped signal electrodes provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and made of a transparent conductive material and extending in a first direction; An insulating layer formed on the plurality of signal electrodes, a photoconductive layer formed between the plurality of signal electrodes and the insulating layer, and a through hole formed in the insulating layer. A plurality of pixel electrodes connected to the photoconductive layer; and a plurality of pixel electrodes provided outside the second substrate and irradiating at least a portion of the photoconductive layer with light, and extending in a second direction different from the first direction. A plurality of stripe-shaped light sources parallel to each other, and The electrical conductivity of the conductive layers is changed, switching the electrical connection between the pixel electrode and the signal electrode, by its, since light address the liquid crystal layer, it is possible to achieve the above object.

【0012】本発明による他の液晶表示装置は、第1基
板と、第2基板と、該第1基板と該第2基板との間に挟
持された液晶層と、該第1基板の該液晶層側に設けら
れ、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の複
数の第1電極と、該第2基板の該液晶層側に設けられ、
透明導電材料からなる、該第1の方向と異なる第2の方
向に延びる互いに平行なストライプ状の複数の信号電極
と、該複数の信号電極上に形成された絶縁層と、該複数
の信号電極と該絶縁層との間に形成された光導電層と、
該絶縁層に形成されたスルーホールを介して、該光導電
層と接続された複数の画素電極と、該第2基板の外側に
設けられ、該光導電層の少なくとも一部に光を照射す
る、該第2の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
複数の光源と、を有し、該複数の光源をスイッチングす
ることによって該光導電層の電気伝導度を変化させ、該
光導電層の該光照射された領域と該信号電極との電気的
接続をスイッチングし、そのことによって、該液晶層を
光アドレスするので、上記目的を達成することができ
る。
Another liquid crystal display device according to the present invention comprises a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the liquid crystal of the first substrate. A plurality of first electrodes in the form of stripes parallel to each other and provided on the layer side and extending in the first direction; and provided on the liquid crystal layer side of the second substrate;
A plurality of stripe-shaped signal electrodes extending in a second direction different from the first direction and made of a transparent conductive material, an insulating layer formed on the plurality of signal electrodes, and the plurality of signal electrodes And a photoconductive layer formed between the insulating layer,
A plurality of pixel electrodes connected to the photoconductive layer through a through hole formed in the insulating layer; and a plurality of pixel electrodes provided outside the second substrate, and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light. A plurality of light sources in the form of stripes extending in the second direction in parallel with each other, and changing the electrical conductivity of the photoconductive layer by switching the plurality of light sources; Since the electrical connection between the light-irradiated region and the signal electrode is switched, thereby optically addressing the liquid crystal layer, the above object can be achieved.

【0013】前記光導電層は、前記複数の画素電極のそ
れぞれに対して配置された少なくとも1つのドット状の
光導電膜を有してもよい。
[0013] The photoconductive layer may include at least one dot-shaped photoconductive film disposed for each of the plurality of pixel electrodes.

【0014】前記画素電極に電気的に接続された蓄積容
量をさらに有してもよい。
[0014] The storage device may further include a storage capacitor electrically connected to the pixel electrode.

【0015】前記第1電極は透明導電層からなり、前記
第1電極層は、該第1電極と電気的に接続された金属電
極をさらに有してもよい。
[0015] The first electrode may include a transparent conductive layer, and the first electrode layer may further include a metal electrode electrically connected to the first electrode.

【0016】前記光導電層は、紫外光によって電気伝導
度が変化する物質を含み、透過モードまたは反射モード
で表示を行う構成としてもよい。
[0016] The photoconductive layer may include a substance whose electric conductivity changes by ultraviolet light, and may be configured to perform display in a transmission mode or a reflection mode.

【0017】前記光導電層は、可視光によって電気伝導
度が変化する物質を含み、反射モードで表示を行う構成
としてもよい。
[0017] The photoconductive layer may include a substance whose electric conductivity changes by visible light, and may be configured to perform display in a reflection mode.

【0018】前記光導電層は、単一の光導電膜であって
もよい。
[0018] The photoconductive layer may be a single photoconductive film.

【0019】前記光導電層は、ストライプ状の前記複数
の信号電極と平行なストライプ状の複数の光導電膜から
なってもよい。
The photoconductive layer may comprise a plurality of striped photoconductive films parallel to the plurality of striped signal electrodes.

【0020】前記複数の光源は、イオン化可能なガスを
封入したプラズマ発光チャネルを有してもよい。
The plurality of light sources may have a plasma emission channel filled with an ionizable gas.

【0021】前記複数の光源は、前記プラズマ発光チャ
ネルから発生した紫外光を可視光に変換する蛍光体をさ
らに有してもよい。
[0021] The plurality of light sources may further include a phosphor for converting ultraviolet light generated from the plasma emission channel into visible light.

【0022】以下、本発明の作用を説明する。Hereinafter, the operation of the present invention will be described.

【0023】本発明の液晶表示装置は、信号電極と、信
号電極を覆う光導電層と、光導電層に光照射する複数の
光源とを有している。光導電層に選択的に光照射するこ
とによって、信号電極と電気的に接続される光導電層の
領域を(例えば、列を線順次的に)選択することができ
る。従って、選択された光導電層の領域と対向電極との
間に印加された電圧を、光源のスイッチングによって線
順次走査することができる。即ち、液晶層を光アドレス
することができる。
The liquid crystal display device of the present invention has a signal electrode, a photoconductive layer covering the signal electrode, and a plurality of light sources for irradiating the photoconductive layer with light. By selectively irradiating the photoconductive layer with light, a region of the photoconductive layer that is electrically connected to the signal electrode can be selected (for example, columns are line-sequentially). Therefore, the voltage applied between the selected region of the photoconductive layer and the counter electrode can be line-sequentially scanned by switching the light source. That is, the liquid crystal layer can be optically addressed.

【0024】例えば、行方向に延びるストライプ状の複
数の信号電極上に形成された光導電層に、列方向(行方
向に直交)に延びるストライプ状に光照射すると、光照
射された領域と信号電極とが交差する領域が選択される
(所定の電圧になる)。従って、対向電極と光導電層の
光照射された領域との間の液晶層に所定の電圧が印加さ
れる。ストライプ状の信号電極とストライプ状の光源と
を互いに直交するように構成すると、単一の対向電極を
用いることができる。
For example, when a photoconductive layer formed on a plurality of stripe-shaped signal electrodes extending in the row direction is irradiated with light in a stripe shape extending in the column direction (perpendicular to the row direction), the light-irradiated region and the signal A region where the electrode intersects is selected (predetermined voltage). Therefore, a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer between the counter electrode and the light-irradiated region of the photoconductive layer. When the striped signal electrode and the striped light source are configured to be orthogonal to each other, a single counter electrode can be used.

【0025】また、行方向に延びるストライプ状の複数
の信号電極に形成された光導電層に、信号電極と平行な
ストライプ状に光を照射すると、光導電層が行毎に選択
される(所定の電圧になる)。従って、対向基板側の電
極を列方向に延びるストライプ状の複数の電極(走査電
極)とすると、走査電極と信号電極との交差部に位置す
る液晶層に所定の電圧が印加される。
When the photoconductive layer formed on a plurality of stripe-shaped signal electrodes extending in the row direction is irradiated with light in a stripe shape parallel to the signal electrodes, the photoconductive layer is selected for each row (predetermined). Voltage). Therefore, when the electrodes on the counter substrate side are a plurality of stripe-shaped electrodes (scanning electrodes) extending in the column direction, a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer located at the intersection of the scanning electrodes and the signal electrodes.

【0026】本発明による液晶表示装置の光源は、例え
ば、PALCのプラズマセルと類似の構成とすることが
できる。従来のPALCにおいては、プラズマ放電チャ
ネル5が誘電体セパレータ4を介して、液晶層3と電気
的にカップリングする必要がある。そのために、誘電体
セパレータ4として非常に薄いガラスシートを用いる必
要がある。一方、本願発明の液晶表示装置に用いられる
光源としてのプラズマセルは、光導電層の電気伝導度を
十分に変化させるだけの光を照射できればよい。従っ
て、光の強度と光導電層の感度とが十分であれば、プラ
ズマ発光部と光導電層との間に設けられる基板の厚さに
制限はなく、製造工程でのハンドリング等を考慮して適
宜設計することができる。
The light source of the liquid crystal display device according to the present invention can have, for example, a configuration similar to a PALC plasma cell. In the conventional PALC, the plasma discharge channel 5 needs to be electrically coupled to the liquid crystal layer 3 via the dielectric separator 4. Therefore, it is necessary to use a very thin glass sheet as the dielectric separator 4. On the other hand, the plasma cell as a light source used in the liquid crystal display device of the present invention only needs to be able to irradiate enough light to sufficiently change the electrical conductivity of the photoconductive layer. Therefore, as long as the light intensity and the sensitivity of the photoconductive layer are sufficient, there is no limitation on the thickness of the substrate provided between the plasma light emitting portion and the photoconductive layer, and handling in the manufacturing process is taken into consideration. It can be designed appropriately.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0028】(実施形態1)本実施形態による液晶表示
装置200を模式的に図2に示す。液晶表示装置200
は、液晶セル200aとプラズマ発光セル200bとを
有している。液晶セル200aとプラズマ発光セル20
0bとは、基板16を共有している。この基板16は、
従来のPALCの誘電体セパレータ(図1の参照符号
4)に相当する。
(Embodiment 1) The liquid crystal display device 200 according to the present embodiment is schematically shown in FIG. Liquid crystal display device 200
Has a liquid crystal cell 200a and a plasma light emitting cell 200b. Liquid crystal cell 200a and plasma light emitting cell 20
The substrate 16 is shared with 0b. This substrate 16
This corresponds to a dielectric separator of conventional PALC (reference numeral 4 in FIG. 1).

【0029】液晶セル200aは、基板11(第1基
板)と基板16(第2基板)との間に液晶層13を有す
る。基板11の液晶層13側の表面には、ITO(イン
ジウム錫酸化物)などの透明導電材料からなる対向電極
12が表示領域のほぼ全面に形成されている。必要に応
じて、カラーフィルタを形成してもよい。
The liquid crystal cell 200a has a liquid crystal layer 13 between a substrate 11 (first substrate) and a substrate 16 (second substrate). On the surface of the substrate 11 on the liquid crystal layer 13 side, a counter electrode 12 made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) is formed on almost the entire display area. If necessary, color filters may be formed.

【0030】基板16の液晶層13側表面には、互いに
平行なストライプ状の複数の信号電極15、信号電極1
5を覆う光導電層14が形成されている。光導電層14
は、表示領域のほぼ全面に形成されている。
On the surface of the substrate 16 on the liquid crystal layer 13 side, a plurality of stripe-shaped signal electrodes 15 and signal electrodes 1 parallel to each other are provided.
5, a photoconductive layer 14 is formed. Photoconductive layer 14
Are formed over almost the entire display area.

【0031】液晶層13は、従来のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置に用いられている液晶材料を用いて形
成することができる。例えば、ネマティック液晶、コレ
ステリック液晶などの液晶材料を用いることができる。
また、基板11および基板16の液晶層13に接する面
に必要に応じて配向膜を形成してもよい。
The liquid crystal layer 13 can be formed using a liquid crystal material used in a conventional active matrix type liquid crystal display device. For example, a liquid crystal material such as a nematic liquid crystal or a cholesteric liquid crystal can be used.
Further, an alignment film may be formed on the surfaces of the substrates 11 and 16 that are in contact with the liquid crystal layer 13 as necessary.

【0032】プラズマ発光セル200bは、基板16と
基板19との間隙が複数のリブ隔壁17で分割された複
数のプラズマ発光チャネル25aを有している。プラズ
マ発光チャネル25aには、イオン化可能なガスが封入
されており、カソード18aとアノード18bとの間に
放電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発
生する。複数のプラズマ発光チャネル25aは、信号電
極15と直交する方向に延びている(Type I)。従っ
て、プラズマ発光チャネル25aのON/OFFを制御
することによって、信号電極15と電気的に接続される
光導電層14の領域が線順次的に選択(走査)される。
この構成の場合、信号電極15とプラズマ発光チャネル
25aとの交差部に位置する光導電層14が選択される
ので、対向電極12は単一の電極とすることができる。
The plasma light emitting cell 200b has a plurality of plasma light emitting channels 25a in which a gap between the substrate 16 and the substrate 19 is divided by a plurality of rib partition walls 17. An ionizable gas is sealed in the plasma emission channel 25a, and a plasma is generated by applying a discharge pulse voltage between the cathode 18a and the anode 18b. The plurality of plasma emission channels 25a extend in a direction orthogonal to the signal electrodes 15 (Type I). Therefore, by controlling ON / OFF of the plasma emission channel 25a, a region of the photoconductive layer 14 electrically connected to the signal electrode 15 is selected (scanned) line-sequentially.
In this configuration, since the photoconductive layer 14 located at the intersection of the signal electrode 15 and the plasma emission channel 25a is selected, the counter electrode 12 can be a single electrode.

【0033】プラズマ発光セル200bは、PALCの
プラズマ放電セルと同様の構成のものを用いることがで
きる。基板19上に複数のリブ隔壁17を設ける代わり
に、厚い基板をエッチングすることによって、プラズマ
発光チャネル25aを形成してもよい。また、発光効率
を高めるために、プラズマ発光チャネル25aに封入す
るガスの種類やガス圧を最適化すればよい。例えば、紫
外線を発光させる場合には、例えば、ヘリウム、キセノ
ンやこれらの混合ガスを用いることができる。また、可
視光を発光させる場合には、ネオンとキセノンの混合ガ
スなどを用いるか、または、プラズマ発光チャネル25
aの内壁に適切な蛍光体を塗布し、紫外線を可視光に変
換する構成としてもよい。アドレス用の光として紫外線
を用いると透過型液晶表示装置を形成することができる
という利点がある。
The plasma light emitting cell 200b may have the same configuration as the plasma discharge cell of PALC. Instead of providing the plurality of rib barrier ribs 17 on the substrate 19, the plasma emission channel 25a may be formed by etching a thick substrate. Further, in order to enhance the luminous efficiency, the type and the gas pressure of the gas sealed in the plasma light-emitting channel 25a may be optimized. For example, when emitting ultraviolet light, for example, helium, xenon, or a mixed gas thereof can be used. In order to emit visible light, a mixed gas of neon and xenon is used, or the plasma emission channel 25 is used.
A suitable phosphor may be applied to the inner wall of a to convert ultraviolet rays into visible light. The use of ultraviolet light as addressing light has the advantage that a transmission type liquid crystal display device can be formed.

【0034】本発明による液晶表示装置においては、光
アドレス用の光源からの光の強度と光導電層の感度とが
十分であれば、液晶セル200aとプラズマセル200
bとの間に設けられる基板16の材料や厚さに制限はな
く、製造工程の歩留まりを考慮して適宜設定することが
できる。紫外線を用いる場合には、例えば、石英基板や
溶融シリカ基板などを用いることができる。また、大画
面の表示装置を構成する場合には、基板16を複数の基
板で構成してもよい。
In the liquid crystal display device according to the present invention, if the intensity of light from the light source for optical addressing and the sensitivity of the photoconductive layer are sufficient, the liquid crystal cell 200a and the plasma cell 200
There is no limitation on the material or thickness of the substrate 16 provided between the substrate 16 and the substrate 16, and it can be appropriately set in consideration of the yield of the manufacturing process. When ultraviolet rays are used, for example, a quartz substrate or a fused silica substrate can be used. When a large-screen display device is configured, the substrate 16 may include a plurality of substrates.

【0035】光導電層14の材料は、アドレス用の光に
対して電気伝導度が十分に変化する材料を、アドレス用
の光の波長や強度および装置の構成を考慮して、公知の
材料から選択すればよい。紫外線に対しては、例えば、
酸化チタンを用いることができる。また、可視光に対し
ては、例えば、アモルファスシリコンを用いることがで
きる。
The material of the photoconductive layer 14 may be a material whose electric conductivity is sufficiently changed with respect to the addressing light, from a known material in consideration of the wavelength and intensity of the addressing light and the configuration of the device. Just choose. For ultraviolet light, for example,
Titanium oxide can be used. For visible light, for example, amorphous silicon can be used.

【0036】プラズマ発光を用いた表示装置として、い
わゆるプラズマ表示装置(PDP)が知られている。P
DPは、プラズマ発光された紫外線を蛍光体で可視光に
変換し、その可視光を表示に用いる、自発光型の表示装
置である。それに対し、本発明による液晶表示装置にお
いては、プラズマ発光によって得られた光を、画素をア
ドレスするために用いる。表示に用いる光は、従来の液
晶表示装置と同様に、透過型の場合にはバックライトか
らの光であり、反射型の場合には周囲光である。従っ
て、プラズマ発光の強度は光導電層の電気伝導度を十分
に変化させることが可能であればよく、比較的弱い光を
用いることができる。例えば、プラズマ発光による紫外
線を用いる場合においては、その輝線を用いる必要がな
く、光導電層の感度や基板や信号電極の材料の透過率特
性を考慮して、最適化すればよい。
A so-called plasma display device (PDP) is known as a display device using plasma emission. P
DP is a self-luminous display device that converts ultraviolet light emitted by plasma into visible light with a phosphor and uses the visible light for display. In contrast, in the liquid crystal display device according to the present invention, light obtained by plasma emission is used for addressing pixels. Light used for display is light from a backlight in the case of a transmissive type, and is ambient light in the case of a reflective type, as in a conventional liquid crystal display device. Therefore, the intensity of plasma emission only needs to be able to sufficiently change the electrical conductivity of the photoconductive layer, and relatively weak light can be used. For example, in the case of using ultraviolet light by plasma emission, it is not necessary to use the bright line, and optimization may be performed in consideration of the sensitivity of the photoconductive layer and the transmittance characteristics of the material of the substrate and the signal electrode.

【0037】図3を参照しながら、本実施形態の液晶表
示装置200の動作原理を説明する。選択されたプラズ
マ発光チャネル25a内のカソード18aとアノード1
8bとの間に放電パルス電圧を印加することによって、
プラズマ発光チャネル25a内のガスがイオン化され、
プラズマが発生する。プラズマはそのガスの種類やガス
圧によって種々の波長の光を発生する(図3(a))。
The operation principle of the liquid crystal display device 200 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. Cathode 18a and anode 1 in selected plasma emission channel 25a
8b by applying a discharge pulse voltage to
The gas in the plasma emission channel 25a is ionized,
Plasma is generated. The plasma generates light of various wavelengths depending on the type and pressure of the gas (FIG. 3A).

【0038】この光は基板16(および信号電極15)
を通過し、光導電層14に照射される。光照射された領
域14aは、光導電層14の電気伝導度が増加し、導電
体となり、信号電極15に電気的に接続される。従っ
て、光照射された領域14aの電位は信号電極の電位と
同じになるので、対向電極12と信号電極15との間に
駆動電圧を印加すると、光導電層14の光照射された領
域14aと対向電極12との間の液晶層13に電圧が印
加され、画素に対応する領域の液晶層13aが駆動され
る(図3(b))。
This light is applied to the substrate 16 (and the signal electrode 15).
And is applied to the photoconductive layer 14. The light-irradiated region 14a increases the electrical conductivity of the photoconductive layer 14, becomes a conductor, and is electrically connected to the signal electrode 15. Accordingly, the potential of the light-irradiated region 14a becomes the same as the potential of the signal electrode. Therefore, when a drive voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 15, the light-irradiated region 14a of the photoconductive layer 14 A voltage is applied to the liquid crystal layer 13 between the counter electrode 12 and the liquid crystal layer 13a in a region corresponding to the pixel is driven (FIG. 3B).

【0039】次に、カソード18aとアノード18bと
の間の電圧を切り、プラズマ発光を停止すると、光導電
層14の電気伝導度は低下し絶縁体となり、信号電極1
5とは電気的に絶縁される。信号電極15/光導電層1
4/液晶層13/対向電極12は、キャパシタとして機
能するので、先に印加された駆動電圧に対応する電荷が
光導電層14上に保持され、液晶層13の駆動状態は保
持される(いわゆるサンプルホールドである)(図3
(c))。プラズマ発光が停止した状態(消光状態)で
は、対向電極12と信号電極15との間に駆動電圧を印
加しても、信号電極15と光導電層14とは電気的に切
り離されているので、光導電層14と液晶層13との容
量分割のために、液晶層13に十分な電圧が印加されな
い。次のフレーム(またはフィールド)で、プラズマ発
光チャネル25aが選択される期間(プラズマ発光する
期間)に、液晶層13に新たな駆動電圧が印加される。
Next, when the voltage between the cathode 18a and the anode 18b is turned off and the plasma emission is stopped, the electric conductivity of the photoconductive layer 14 is reduced and the photoconductive layer 14 becomes an insulator, and the signal electrode 1
5 is electrically insulated. Signal electrode 15 / photoconductive layer 1
Since the 4 / liquid crystal layer 13 / counter electrode 12 functions as a capacitor, a charge corresponding to the previously applied drive voltage is held on the photoconductive layer 14, and the drive state of the liquid crystal layer 13 is held (so-called. Sample hold) (Fig. 3
(C)). In the state in which the plasma emission is stopped (quenching state), even if a driving voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 15, the signal electrode 15 and the photoconductive layer 14 are electrically separated. Due to the capacitance division between the photoconductive layer 14 and the liquid crystal layer 13, a sufficient voltage is not applied to the liquid crystal layer 13. In the next frame (or field), a new drive voltage is applied to the liquid crystal layer 13 during a period in which the plasma emission channel 25a is selected (period of plasma emission).

【0040】本実施形態の液晶表示装置200は、従来
のプラズマアドレス型液晶表示装置(PALC)やプラ
ズマ表示装置(PDP)の製造方法と同様の製造方法で
製造することができる。本実施形態1の液晶表示装置2
00の製造方法の例を図4A〜図4Cを参照しながら説
明する。
The liquid crystal display device 200 of this embodiment can be manufactured by the same manufacturing method as that of a conventional plasma addressed liquid crystal display device (PALC) or plasma display device (PDP). Liquid crystal display device 2 of the first embodiment
An example of the manufacturing method 00 will be described with reference to FIGS. 4A to 4C.

【0041】図4A(a)および(b)に示すように、
例えば、約1.1mm厚のガラス基板11上に厚さ約5
0nmのITOをスパッタ法により形成し、対向電極1
2を形成する。必要に応じて、配向膜やカラーフィルタ
を形成してもよい。
As shown in FIGS. 4A (a) and (b),
For example, on a glass substrate 11 having a thickness of about 1.1 mm, a thickness of about 5 mm
0 nm ITO is formed by sputtering, and the counter electrode 1 is formed.
Form 2 If necessary, an alignment film and a color filter may be formed.

【0042】図4B(a)〜(c)に示すように、例え
ば、約1.1mm厚のガラス基板19をフッ酸等を用い
てエッチングすることによって、高さ約200μmのリ
ブ隔壁17を形成する。あるいは、基板19上にリブ隔
壁17を形成してもよい。放電用の電極18aおよび1
8bは、例えば、厚さ約1μmのニッケル膜をスパッタ
法で形成し、エッチングすることによって形成すること
ができる。
As shown in FIGS. 4A to 4C, for example, a rib partition 17 having a height of about 200 μm is formed by etching a glass substrate 19 having a thickness of about 1.1 mm using hydrofluoric acid or the like. I do. Alternatively, the rib partition walls 17 may be formed on the substrate 19. Discharge electrodes 18a and 1
8b can be formed, for example, by forming a nickel film having a thickness of about 1 μm by a sputtering method and etching it.

【0043】図4C(a)〜(c)に示すように、紫外
線透過性材料からなる基板16(例えば、約0.7mm
厚の石英基板)上に、約15nm厚の透明導電膜を例え
ばスパッタ法により形成し(図4(a))、ストライプ
状にエッチングして信号電極15を形成する(図4
(b))。この基板のほぼ全面を覆うように、約0.1
μmの酸化チタン膜をスパッタ法で形成し、光導電層1
4を得る(図4(c))。その後、必要に応じて、配向
膜の形成およびラビング処理を行ってもよい。
As shown in FIGS. 4C (a) to 4 (c), the substrate 16 (for example, about 0.7 mm
On a thick quartz substrate), a transparent conductive film having a thickness of about 15 nm is formed by, for example, a sputtering method (FIG. 4A), and etched in a stripe shape to form a signal electrode 15 (FIG. 4).
(B)). About 0.1% so as to cover almost the entire surface of the substrate.
A μm titanium oxide film is formed by a sputtering method, and a photoconductive layer 1 is formed.
4 is obtained (FIG. 4C). Thereafter, if necessary, an alignment film may be formed and a rubbing treatment may be performed.

【0044】得られた基板16および基板19を貼りあ
わせ、溝内部を減圧した後に、例えば、ヘリウムとキセ
ノンの混合ガスを封入し、プラズマ発光チャネル25a
を形成する。大型のパネルを形成する場合には、一枚の
基板19に対して、複数の基板16を貼り合わせてもよ
い。
After the obtained substrates 16 and 19 are bonded to each other and the inside of the groove is decompressed, for example, a mixed gas of helium and xenon is sealed, and the plasma emission channel 25a is formed.
To form When a large panel is formed, a plurality of substrates 16 may be attached to one substrate 19.

【0045】基板11と基板16とを、それぞれの電極
を内側にして、適当なスペーサーを用いてギャップを制
御しながら、貼り合わせる。このギャップに所望の液晶
材料を注入し、液晶層13を形成し、液晶表示装置20
0が作製される。本実施形態の液晶表示装置200は、
透明な基板を用い、紫外線をアドレス光として用いる構
成としたので、透過モードで表示を行うことができる。
The substrate 11 and the substrate 16 are bonded to each other with the respective electrodes inside, while controlling the gap using an appropriate spacer. A desired liquid crystal material is injected into this gap to form a liquid crystal layer 13 and a liquid crystal display device 20.
0 is created. The liquid crystal display device 200 of the present embodiment includes:
Since a transparent substrate is used and ultraviolet rays are used as address light, display can be performed in a transmission mode.

【0046】上述の例では、光導電層14を表示領域の
ほぼ全面に形成したが、必ずしもその必要はない。光導
電層14は、信号電極15との電気的接続を光でスイッ
チングするために設けられているので、例えば、図5に
示すように、信号電極15上に、信号電極15と同様に
ストライプ状の光導電層14’を形成してもよい。
In the above-described example, the photoconductive layer 14 is formed on almost the entire display area, but it is not always necessary. Since the photoconductive layer 14 is provided for switching the electrical connection with the signal electrode 15 by light, for example, as shown in FIG. May be formed.

【0047】本発明による液晶表示装置は、TFT等の
アクティブ素子を形成する必要がないので、歩留まりが
高く、比較的安価に製造できる。また、従来のPALC
のように、薄い誘電体セパレータを必要としないので、
大型のディスプレイの製造も比較的容易であり、駆動電
圧も低くすることができ、低消費電力の大型表示装置を
提供することができる。
The liquid crystal display device according to the present invention does not need to form an active element such as a TFT, so that it can be manufactured at a high yield and at a relatively low cost. In addition, conventional PALC
Since it does not require a thin dielectric separator like
A large display can be manufactured relatively easily, a driving voltage can be reduced, and a large display device with low power consumption can be provided.

【0048】(実施形態2)本実施形態による液晶表示
装置300を模式的に図6に示す。液晶表示装置300
は、液晶セル300aとプラズマ発光セル300bとを
有している。液晶セル300aの構成以外は、実施形態
1の液晶表示装置200と同様なので、同様の機能を有
する構成要素には同じ参照符号を用い、その説明を省略
する。
(Embodiment 2) FIG. 6 schematically shows a liquid crystal display device 300 according to the present embodiment. Liquid crystal display device 300
Has a liquid crystal cell 300a and a plasma light emitting cell 300b. Except for the configuration of the liquid crystal cell 300a, the configuration is the same as that of the liquid crystal display device 200 according to the first embodiment.

【0049】液晶セル300aは、基板11の液晶層側
表面に、複数の互いに平行なストライプ状の電極20が
配置されている。このストライプ電極20は、信号電極
22と直交する方向に延びており、プラズマ発光チャネ
ル25a’は信号電極22と平行に配置されている(Ty
pe II)。すなわち、プラズマ発光セル300bのプラ
ズマ発光チャネル25a’とストライプ電極20とは互
いに直交している。
In the liquid crystal cell 300a, a plurality of parallel striped electrodes 20 are arranged on the surface of the substrate 11 on the liquid crystal layer side. The stripe electrode 20 extends in a direction orthogonal to the signal electrode 22, and the plasma emission channel 25a 'is disposed in parallel with the signal electrode 22 (Ty
pe II). That is, the plasma emission channel 25a 'of the plasma emission cell 300b and the stripe electrode 20 are orthogonal to each other.

【0050】本実施形態(Type II)の液晶表示装置3
00の動作原理は、実施形態1(TypeI)の液晶表示装置
200と基本的に同じであるが、プラズマ発光チャネル
25a’が信号電極22と平行に配置されているので、
液晶層の駆動のためには、ストライプ状に形成した電極
20の各々と、信号電極22との間に電圧を印加する必
要がある点において異なっている。
The liquid crystal display device 3 of this embodiment (Type II)
00 is basically the same as the liquid crystal display device 200 of the first embodiment (Type I), but since the plasma emission channel 25a 'is arranged in parallel with the signal electrode 22,
The difference is that in order to drive the liquid crystal layer, it is necessary to apply a voltage between each of the striped electrodes 20 and the signal electrode 22.

【0051】(実施形態3)本実施形態の液晶表示装置
においては、液晶層のプラズマセル側の電極及び光導電
層の配置が先の実施形態と異なっている。本実施形態に
よる液晶表示装置の液晶層のプラズマセル側に形成され
る電極及び光導電層の構成(アドレス側基板400’)
を図7に模式的に示す。
(Embodiment 3) In the liquid crystal display device of this embodiment, the arrangement of the electrode on the plasma cell side of the liquid crystal layer and the photoconductive layer are different from those of the previous embodiment. Configuration of Electrode and Photoconductive Layer Formed on Plasma Cell Side of Liquid Crystal Layer of Liquid Crystal Display Device According to the Present Embodiment (Address Side Substrate 400 ′)
Is schematically shown in FIG.

【0052】基板46上に複数のストライプ状の信号電
極42が形成されている。この複数のストライプ状の信
号電極42を覆って光導電層41が形成されている。図
7に示した例では、光導電層41が全てのストライプ状
の信号電極42を覆うように単一の光導電層41をほぼ
全面に形成した例を示したが、図5に示したように、信
号電極上にストライプ状の光導電層14’(図5
(a))またはドット状の光導電層14’’(図5
(b))を形成してもよい。
A plurality of striped signal electrodes 42 are formed on a substrate 46. A photoconductive layer 41 is formed so as to cover the plurality of striped signal electrodes 42. In the example shown in FIG. 7, an example is shown in which a single photoconductive layer 41 is formed on almost the entire surface so that the photoconductive layer 41 covers all the stripe-shaped signal electrodes 42, but as shown in FIG. Next, a stripe-shaped photoconductive layer 14 '(see FIG.
(A)) or a dot-shaped photoconductive layer 14 ″ (FIG. 5).
(B)) may be formed.

【0053】さらに、この光導電層41を覆うように絶
縁層45が形成されており、絶縁層45上に、各画素に
応じてドット状に画素電極44が形成されている。絶縁
層45には、コンタクトホール43が形成されている。
コンタクトホール43には、例えば、画素電極44を形
成する材料が少なくとも一部充填されており、このコン
タクトホール43を介して、画素電極44と光導電層4
1は接続されている。
Further, an insulating layer 45 is formed so as to cover the photoconductive layer 41, and a pixel electrode 44 is formed on the insulating layer 45 in a dot shape for each pixel. A contact hole 43 is formed in the insulating layer 45.
The contact hole 43 is at least partially filled with, for example, a material for forming the pixel electrode 44, and the pixel electrode 44 and the photoconductive layer 4 are filled through the contact hole 43.
1 is connected.

【0054】本実施形態の液晶表示装置は、実施形態1
と同様の材料を用いて、同様の方法で形成することがで
きる。なお絶縁層の材料としては、特に限定されず、公
知の有機材料や無機材料を広く用いることができる。絶
縁膜の形成やコンタクトホールの形成も公知の方法を用
いることができる。
The liquid crystal display device of the present embodiment is the same as that of the first embodiment.
It can be formed by a similar method using the same material as described above. Note that the material of the insulating layer is not particularly limited, and widely known organic materials and inorganic materials can be used. Known methods can be used for forming an insulating film and a contact hole.

【0055】本実施形態の液晶表示装置400の動作原
理を図8(a)〜(c)を参照しながら説明する。
The principle of operation of the liquid crystal display device 400 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0056】液晶表示装置400は、液晶セル400a
とプラズマ発光セル400bとを有している。液晶セル
400aの構成以外は、実施形態1の液晶表示装置20
0と同様なので、同様の機能を有する構成要素には同じ
参照符号を用い、その説明を省略する。液晶セル400
aは、図7に示したアドレス側基板400’を有する。
ここでは、プラズマ発光チャネル25aを信号電極42
と直交する(TypeI)ように構成した例について、その
動作を説明する。なお、プラズマ発光チャネル25aを
信号電極42と平行(Type II)に配置してもよい。但
し、この場合には、対向電極12を信号電極42と直交
する方向に延びる複数のストライプ状電極とする必要が
ある(実施形態2参照)。
The liquid crystal display device 400 includes a liquid crystal cell 400a.
And a plasma light emitting cell 400b. Except for the configuration of the liquid crystal cell 400a, the liquid crystal display device 20 of the first embodiment
Therefore, the same reference numerals are used for components having the same functions, and the description thereof is omitted. Liquid crystal cell 400
a has the address side substrate 400 'shown in FIG.
Here, the plasma emission channel 25a is connected to the signal electrode 42.
The operation of an example configured so as to be orthogonal to (Type I) will be described. The plasma emission channel 25a may be arranged in parallel with the signal electrode 42 (Type II). However, in this case, the counter electrode 12 needs to be a plurality of stripe-shaped electrodes extending in a direction orthogonal to the signal electrodes 42 (see Embodiment 2).

【0057】選択されたプラズマ発光チャネル25a内
のカソード18aとアノード18bとの間に放電パルス
電圧を印加することによって、プラズマ発光チャネル2
5a内のガスがイオン化され、プラズマが発生する。プ
ラズマはそのガスの種類やガス圧によって種々の波長の
光を発生する(図8(a))。
By applying a discharge pulse voltage between the cathode 18a and the anode 18b in the selected plasma emission channel 25a, the plasma emission channel 2
The gas in 5a is ionized and plasma is generated. The plasma generates light of various wavelengths depending on the type and pressure of the gas (FIG. 8A).

【0058】この光は基板46(および信号電極42)
を通過し、光導電層41に照射される。光照射された光
導電層41aは、その電気伝導度が増加し、導電体とな
り、信号電極42と画素電極44とがコンタクトホール
43を介して電気的に接続される。光導電層41が導電
状態の時に、対向電極12と信号電極42との間に駆動
電圧を印加すると、信号電極42と対向電極12との間
の液晶層13に電圧が印加され、画素に対応する領域の
液晶層13aが駆動される(図8(b))。
This light is applied to the substrate 46 (and the signal electrode 42).
And is applied to the photoconductive layer 41. The photoconductive layer 41a irradiated with light increases its electrical conductivity and becomes a conductor, and the signal electrode 42 and the pixel electrode 44 are electrically connected through the contact hole 43. When a driving voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 42 while the photoconductive layer 41 is in a conductive state, a voltage is applied to the liquid crystal layer 13 between the signal electrode 42 and the counter electrode 12 to correspond to the pixel. The liquid crystal layer 13a in the region to be driven is driven (FIG. 8B).

【0059】次に、カソード18aとアノード18bと
の間の電圧を切り、プラズマ発光を停止すると、光導電
層41の電気伝導度は低下し絶縁体となり、信号電極4
2と画素電極44とは電気的に絶縁される。信号電極4
2/光導電層41/絶縁層45/画素電極44/液晶層
13/対向電極12は、キャパシタとして機能するの
で、先に印加された駆動電圧に対応する電荷が画素電極
44上に保持され、液晶層13の駆動状態は保持される
(いわゆるサンプルホールドである)(図8(c))。
プラズマ発光が停止した状態(消光状態)では、対向電
極12と信号電極42との間に駆動電圧を印加しても、
信号電極42と画素電極44とは、電気的に切り離され
ているので、容量分割のために、画素電極44上の液晶
層13に十分な電圧が印加されない。次のフレーム(ま
たはフィールド)で、プラズマ発光チャネル25aが選
択される期間(プラズマ発光する期間)に、液晶層13
に新たな駆動電圧が印加される。
Next, when the voltage between the cathode 18a and the anode 18b is turned off and the plasma emission is stopped, the electric conductivity of the photoconductive layer 41 is reduced, and the photoconductive layer 41 becomes an insulator.
2 and the pixel electrode 44 are electrically insulated. Signal electrode 4
Since 2 / photoconductive layer 41 / insulating layer 45 / pixel electrode 44 / liquid crystal layer 13 / counter electrode 12 function as a capacitor, a charge corresponding to the previously applied driving voltage is held on pixel electrode 44, The driving state of the liquid crystal layer 13 is maintained (so-called sample hold) (FIG. 8C).
In the state where the plasma emission is stopped (quenching state), even if a driving voltage is applied between the counter electrode 12 and the signal electrode 42,
Since the signal electrode 42 and the pixel electrode 44 are electrically separated from each other, a sufficient voltage is not applied to the liquid crystal layer 13 on the pixel electrode 44 due to capacitance division. In the next frame (or field), during the period in which the plasma emission channel 25a is selected (period of plasma emission), the liquid crystal layer 13
Is applied with a new drive voltage.

【0060】なお、本実施形態の構成の場合、液晶層1
3に印加される電圧は、信号電極42/光導電層41/
絶縁層45/画素電極44によって形成される容量と画
素電極44/液晶層13/対向電極12とによって形成
される容量との比で分配されるので、絶縁層45の厚さ
および誘電率を調整することによって、光導電層41の
厚さや誘電率のマージンを大きくとることができ、設計
上有利である。
In the case of the structure of this embodiment, the liquid crystal layer 1
3 is applied to the signal electrode 42 / photoconductive layer 41 /
Since the capacitance is distributed by the ratio of the capacitance formed by the insulating layer 45 / pixel electrode 44 and the capacitance formed by the pixel electrode 44 / liquid crystal layer 13 / counter electrode 12, the thickness and the dielectric constant of the insulating layer 45 are adjusted. By doing so, a margin for the thickness and permittivity of the photoconductive layer 41 can be increased, which is advantageous in design.

【0061】(実施形態4)本実施形態においては、反
射型の液晶表示装置を作製する。基本的な構成は実施形
態3と同様なので、詳細な説明は省略する。
(Embodiment 4) In this embodiment, a reflective liquid crystal display device is manufactured. Since the basic configuration is the same as that of the third embodiment, a detailed description is omitted.

【0062】図9に示した本実施形態4の液晶表示装置
のアドレス側基板400’’は、光導電層41’を可視
光に対して電気伝導度が変化する材料を用いて形成(例
えば、アモルファスシリコンを化学気相成長(CVD)
法を用いて形成)した点と、画素電極44’を可視光を
反射する材料を用いて形成(例えば、アルミニウムをス
パッタ法で形成)した点において、実施形態4と異なっ
ている。また、遮光機能を持つ高分子材料(例えば、黒
色顔料を含む高分子材料)からなるスペーサー50を画
素電極44’間の隙間を埋めるように形成すれば、隣接
する画素からの余分な反射光を防ぐことが出来るのでコ
ントラストが上がる(図9中では、画素電極44’の右
側のスペーサを省略してある)。なお、可視光を反射す
る材料を用いて画素電極を形成する代わりに、透明な画
素電極上に、反射膜(例えば、誘電体反射膜)を形成し
てもよい。
The address-side substrate 400 ″ of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment shown in FIG. 9 has a photoconductive layer 41 ′ formed of a material whose electric conductivity changes with respect to visible light (for example, Chemical vapor deposition (CVD) of amorphous silicon
Embodiment 4 is different from Embodiment 4 in that the pixel electrode 44 ′ is formed using a material that reflects visible light (for example, aluminum is formed by a sputtering method). Further, if the spacer 50 made of a polymer material having a light-shielding function (for example, a polymer material containing a black pigment) is formed so as to fill the gap between the pixel electrodes 44 ', extra reflected light from adjacent pixels can be generated. Since this can be prevented, the contrast increases (in FIG. 9, the spacer on the right side of the pixel electrode 44 'is omitted). In addition, instead of using a material that reflects visible light to form a pixel electrode, a reflective film (for example, a dielectric reflective film) may be formed on a transparent pixel electrode.

【0063】可視光によって電気伝導度が変化する光導
電層を用いる場合、プラズマ発光チャネルに封入するガ
スの種類やガス圧を適宜変更する。例えば、可視光の発
光強度が比較的強いネオンとキセノンとの混合ガスを用
いることができる。あるいは、紫外線を発光するガス
と、紫外線を受けて可視光を発光する蛍光体とを組み合
わせて用いてもよい。これらの組み合わせは、PDPで
用いられている組み合わせを用いることができる。ま
た、蛍光体はプラズマ発光チャネル内に、例えば塗布す
ることによって形成すればよい。
In the case of using a photoconductive layer whose electric conductivity changes by visible light, the type and gas pressure of the gas sealed in the plasma emission channel are appropriately changed. For example, a mixed gas of neon and xenon having a relatively strong emission intensity of visible light can be used. Alternatively, a gas that emits ultraviolet light and a phosphor that emits visible light in response to ultraviolet light may be used in combination. As these combinations, the combinations used in the PDP can be used. The phosphor may be formed in the plasma emission channel by, for example, coating.

【0064】アドレス光として可視光を用いる場合に
は、光導電層を例えば、硫化カドミウムを用いて形成し
てもよい。また、アドレス用の光源として、EL素子等
を用いてもよい。光導電層の材料とアドレス用の光源の
組み合わせは、公知の材料および光源のなかから種々の
組み合わせを用いることができる。
When using visible light as address light, the photoconductive layer may be formed using, for example, cadmium sulfide. Further, an EL element or the like may be used as the address light source. As the combination of the material of the photoconductive layer and the light source for address, various combinations can be used from known materials and light sources.

【0065】また、反射型の液晶表示装置を形成する場
合、液晶層としてSTNモードの液晶層を用いることに
よって、一枚の偏光板を用いて、コントラストが比較的
高い液晶表示装置を形成することができるという利点が
ある。
When a reflective liquid crystal display device is formed, an STN mode liquid crystal layer is used as a liquid crystal layer, so that a liquid crystal display device having a relatively high contrast can be formed using a single polarizing plate. There is an advantage that can be.

【0066】(実施形態5)本実施形態では、実施形態
3および4で説明した液晶表示装置の表示特性を改善す
るために、画素電極に電気的に接続された蓄積容量をさ
らに有する液晶表示装置について説明する。
(Embodiment 5) In this embodiment, in order to improve the display characteristics of the liquid crystal display device described in Embodiments 3 and 4, the liquid crystal display device further having a storage capacitor electrically connected to the pixel electrode Will be described.

【0067】上述した実施形態3および4の液晶表示装
置においては、電荷保持時間の調整(特に、十分な保持
時間の確保)が問題となることがある。電荷保持時間
は、液晶材料の抵抗値、素子に用いた絶縁層や配向層の
誘電率、セルギャップ、透明電極の抵抗値などによって
決定されるので、保持時間を変更することは極めて困難
である。
In the liquid crystal display devices according to the third and fourth embodiments, adjustment of the charge holding time (particularly, securing a sufficient holding time) may be problematic. Since the charge retention time is determined by the resistance value of the liquid crystal material, the dielectric constant of the insulating layer or alignment layer used for the element, the cell gap, the resistance value of the transparent electrode, etc., it is extremely difficult to change the retention time. .

【0068】そこで本実施形態においては、例えば、実
施形態4の液晶表示装置において、画素電極に電気的に
接続された蓄積容量(補助容量)を作り込むことによ
り、電荷保持時間の設定を可能にする。
Therefore, in the present embodiment, for example, in the liquid crystal display device of the fourth embodiment, the charge holding time can be set by forming a storage capacitor (auxiliary capacitor) electrically connected to the pixel electrode. I do.

【0069】蓄積容量を含むアドレス側基板500の模
式的な構成を図10に示す。基板56(アドレス側基板
400’の基板46に対応)上に複数のストライプ状の
信号電極52が形成されている。この信号電極52上に
単一の(またはストライプ状の)光導電層51が形成さ
れている。光導電層51を覆う絶縁層55上に形成され
た画素電極54は、コンタクトホール53を介して光導
電層51と接続されている。
FIG. 10 shows a schematic configuration of the address side substrate 500 including the storage capacitor. A plurality of striped signal electrodes 52 are formed on a substrate 56 (corresponding to the substrate 46 of the address side substrate 400 '). A single (or striped) photoconductive layer 51 is formed on the signal electrode 52. The pixel electrode 54 formed on the insulating layer 55 covering the photoconductive layer 51 is connected to the photoconductive layer 51 via the contact hole 53.

【0070】画素電極54と絶縁層55との間には、金
属配線57と、金属配線57を覆う絶縁層58が形成さ
れており、金属配線57/絶縁層58/画素電極54
が、蓄積容量を形成する。この例では、金属配線57を
信号電極52と直交する方向に延びるストライプ状の電
極として形成したが、これに限られない。
A metal wiring 57 and an insulating layer 58 covering the metal wiring 57 are formed between the pixel electrode 54 and the insulating layer 55. The metal wiring 57 / the insulating layer 58 / the pixel electrode 54
Form a storage capacitor. In this example, the metal wiring 57 is formed as a stripe-shaped electrode extending in a direction orthogonal to the signal electrode 52, but is not limited thereto.

【0071】蓄積容量は、例えば、以下のようにして形
成することができる。約0.7mm厚の基板56上に約
0.1μm厚のアルミ層を蒸着し、約30μm幅のスト
ライプ状にエッチングし、アルミ配線57を形成する。
得られたアルミ配線57を陽極酸化することにより、そ
の表面に絶縁膜(陽極酸化膜)58を形成する。これら
を覆って、約50nm厚のITOをスパッタ法により形
成し、ドット状にエッチングして、マトリクス状に配置
された画素電極54を形成する。得られたアルミ/酸化
アルミ/ITO構造が蓄積容量として機能する。
The storage capacitor can be formed, for example, as follows. An aluminum layer having a thickness of about 0.1 μm is vapor-deposited on a substrate 56 having a thickness of about 0.7 mm, and is etched into a stripe having a width of about 30 μm to form an aluminum wiring 57.
The obtained aluminum wiring 57 is anodized to form an insulating film (anodized film) 58 on its surface. An ITO having a thickness of about 50 nm is formed by a sputtering method so as to cover them, and is etched in a dot shape to form pixel electrodes 54 arranged in a matrix. The obtained aluminum / aluminum oxide / ITO structure functions as a storage capacitor.

【0072】保持時間は、画素電極54の下のアルミ配
線57の幅や絶縁層58の厚み、種類(酸化アルミ57
上にさらに窒化シリコンをスパッタする等)などを変え
ることにより、変更が可能なことは言うまでもない。
The holding time depends on the width of the aluminum wiring 57 under the pixel electrode 54, the thickness of the insulating layer 58, and the type (the aluminum oxide 57).
It is needless to say that the change can be made by changing silicon nitride or the like further on the surface.

【0073】ここで、アルミ配線57を対向基板に形成
されるカラーフィルターのブラックマトリクスに隠れる
位置に配置すると、液晶表示装置の開口率を下げること
はない。ただし電荷保持時間の要求上、ブラックマトリ
クス以上の幅で配置しなければならない場合でも、開口
率の低下は最小限に抑えられる。
Here, when the aluminum wiring 57 is arranged at a position hidden by the black matrix of the color filter formed on the opposite substrate, the aperture ratio of the liquid crystal display device is not reduced. However, even in the case where the width must be larger than the black matrix due to the requirement of the charge retention time, the decrease in the aperture ratio can be minimized.

【0074】(実施形態6)本実施形態では、実施形態
3の液晶表示装置400の対向基板の構成を改良した例
を説明する。ITOなどの透明導電材料は電気伝導率が
比較的低いので、大型の表示装置において、電極12を
ITOで形成すると、信号電圧の遅延、電圧波形の歪や
振幅の低下等の問題を生じる場合がある。本実施形態で
は、上記の問題を回避するために、透明電極に電気的に
接続された金属電極を形成する。以下の例では、カラー
表示を行うためのカラーフィルター層を併せて形成した
例について説明するが、カラーフィルター層を省略する
こともできる。 図11を参照しながら、本実施形態に
よる対向基板およびその製造方法を説明する。
(Embodiment 6) In this embodiment, an example will be described in which the configuration of the counter substrate of the liquid crystal display device 400 of Embodiment 3 is improved. Since a transparent conductive material such as ITO has a relatively low electrical conductivity, in a large-sized display device, when the electrode 12 is formed of ITO, a problem such as a delay of a signal voltage, a distortion of a voltage waveform or a decrease in amplitude may occur. is there. In this embodiment, a metal electrode electrically connected to the transparent electrode is formed in order to avoid the above problem. In the following example, an example in which a color filter layer for performing color display is formed is described, but the color filter layer may be omitted. The counter substrate according to the present embodiment and the method for manufacturing the counter substrate will be described with reference to FIG.

【0075】約1.1mm厚のガラス基板61上にカラ
ーレジスト(例えば、富士ハント社製CR−2000
(赤)、CG−2000(緑)、CB−2000
(青))を用い、これらを順次スピンナー塗布、マスク
露光、現像、焼成を繰り返すことにより、ストライプ状
のカラーフィルター層62(例えば、R:62a、G:
62b、B:62c)を形成する(図11(a)および
(b))。
A color resist (for example, CR-2000 manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd.) is formed on a glass substrate 61 having a thickness of about 1.1 mm.
(Red), CG-2000 (green), CB-2000
(Blue)) and sequentially repeating spinner coating, mask exposure, development, and baking, thereby forming a stripe-shaped color filter layer 62 (for example, R: 62a, G:
62b, B: 62c) are formed (FIGS. 11A and 11B).

【0076】次に、基板表面の平坦化とカラーフィルタ
ー層62を保護するためのオーバーコート層63を透明
な高分子材料(例えば新日鐵化挙社製 V259−P
A)を用いて形成する(図11(c))。
Next, an overcoat layer 63 for flattening the substrate surface and protecting the color filter layer 62 is formed of a transparent polymer material (for example, V259-P manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.).
A) (FIG. 11C).

【0077】さらに、オーバーコート層63上に、例え
ば、金属クロムからなる約0.2μm厚の金属電極64
を形成する(図11(d))。この金属電極64は、画
素電極(図7及び図8の参照符号44参照)の隙間に対
応する位置に形成されているので、ブラックマトリクス
としても機能する。最後に、この基板の表面を覆ってほ
ぼ全面に約50nm厚のITO膜を形成し、対向電極6
5を得る(図11(e))。
Further, on the overcoat layer 63, for example, a metal electrode 64 of about 0.2 μm
Is formed (FIG. 11D). Since the metal electrode 64 is formed at a position corresponding to the gap between the pixel electrodes (see reference numeral 44 in FIGS. 7 and 8), it also functions as a black matrix. Finally, an ITO film having a thickness of about 50 nm is formed on almost the entire surface to cover the surface of the substrate.
5 is obtained (FIG. 11E).

【0078】(実施形態7)実施形態3および4では、
Type IIの液晶表示装置を例示したが、実施形態3およ
び4と同様の構成でType Iの液晶表示装置を構成するこ
とが可能なことは、勿論である。信号電極と画素電極と
が、信号電極と画素電極との間(信号電極/絶縁層/光
導電層/画素電極)に形成される容量によってカップリ
ングしているので、画素電極が選択されていない期間に
おいても、信号電極の電位の影響で画素電極の電位が変
化し、液晶層に印加される電圧が所望の電圧からずれ、
その結果、表示品質が低下する場合がある。
(Embodiment 7) In Embodiments 3 and 4,
Although the Type II liquid crystal display device has been illustrated, it is needless to say that the Type I liquid crystal display device can be configured with the same configuration as the third and fourth embodiments. The pixel electrode is not selected because the signal electrode and the pixel electrode are coupled by the capacitance formed between the signal electrode and the pixel electrode (signal electrode / insulating layer / photoconductive layer / pixel electrode). Even during the period, the potential of the pixel electrode changes due to the influence of the potential of the signal electrode, the voltage applied to the liquid crystal layer deviates from a desired voltage,
As a result, display quality may be degraded.

【0079】本実施形態では、信号電極と画素電極との
間に形成される容量(信号電極と画素電極との容量カッ
プリング)を小さくする構成例を説明する。ここでは、
信号電極/光導電層/絶縁層/画素電極の構成について
のみ説明する。本実施形態の構成は、先の実施形態の液
晶表示装置に適用することができる。
In the present embodiment, a configuration example in which the capacitance formed between the signal electrode and the pixel electrode (capacitive coupling between the signal electrode and the pixel electrode) is reduced will be described. here,
Only the configuration of the signal electrode / photoconductive layer / insulating layer / pixel electrode will be described. The configuration of the present embodiment can be applied to the liquid crystal display device of the above embodiment.

【0080】図12(a)および(b)に本実施形態の
画素電極/光導電層/信号電極の構成例を模式的に示
す。簡単のために、マトリクス状に形成された複数の画
素電極の内の1つの構成を説明する。
FIGS. 12A and 12B schematically show an example of the structure of the pixel electrode / photoconductive layer / signal electrode of the present embodiment. For simplicity, one configuration of a plurality of pixel electrodes formed in a matrix will be described.

【0081】基板166上に、信号電極162が形成さ
れている。画素電極164との間に形成される容量を小
さくするように、信号電極162の幅は先の実施形態の
信号電極の幅よりも狭い。信号電極162上には、ドッ
ト状の光導電層161が形成されており、これらの上を
覆って基板166のほぼ全面に形成されている絶縁層1
65は、光導電層161上にスルーホール163を有し
ている。ドット状の光導電層161は、例えば、画素電
極164上の端辺の中央部に形成されている。本実施形
態の構成は、先の実施形態と同様に、公知の材料および
製造方法を用いて製造することができる。
The signal electrode 162 is formed on the substrate 166. The width of the signal electrode 162 is smaller than the width of the signal electrode of the previous embodiment so that the capacitance formed between the pixel electrode 164 and the pixel electrode 164 is reduced. A dot-shaped photoconductive layer 161 is formed on the signal electrode 162, and the insulating layer 1 is formed on almost the entire surface of the substrate 166 so as to cover them.
65 has a through hole 163 on the photoconductive layer 161. The dot-shaped photoconductive layer 161 is formed, for example, at the center of the edge on the pixel electrode 164. The configuration of the present embodiment can be manufactured using a known material and a manufacturing method as in the previous embodiment.

【0082】さらに、例えば、図13(a)および
(b)に示したように構成すると、絶縁膜を省略し、且
つ、信号電極と画素電極との間に形成される容量を低下
することができる。
Further, for example, when the structure is as shown in FIGS. 13A and 13B, the insulating film can be omitted and the capacitance formed between the signal electrode and the pixel electrode can be reduced. it can.

【0083】基板76上に形成された信号電極72は、
隣接する画素電極74間に設けられており、信号電極7
2の一部がT字型に分岐した凸部72aを有している。
この凸部72aを覆うようにドット状の光導電層71が
形成されており、光導電層71を覆うように画素電極7
4が形成されている。
The signal electrode 72 formed on the substrate 76
The signal electrode 7 is provided between the adjacent pixel electrodes 74.
Part 2 has a T-shaped branched projection 72a.
A dot-shaped photoconductive layer 71 is formed so as to cover the projection 72 a, and the pixel electrode 7 is formed so as to cover the photoconductive layer 71.
4 are formed.

【0084】図13から明らかなように、信号電極72
と画素電極74とが重なって容量を形成する領域は、信
号電極72の凸部72aの下部に限られる。従って、信
号電極と画素電極との間に形成される容量が小さい。な
お、1つの画素電極に対して、複数のドット状の光導電
層71を形成してもよい。例えば、2つの光導電層71
を形成し、П字型に分岐した信号電極の凸部とを接続し
てもよい。
As is apparent from FIG. 13, the signal electrode 72
The region where the capacitor overlaps with the pixel electrode 74 to form a capacitance is limited to the lower part of the projection 72 a of the signal electrode 72. Therefore, the capacitance formed between the signal electrode and the pixel electrode is small. Note that a plurality of dot-shaped photoconductive layers 71 may be formed for one pixel electrode. For example, two photoconductive layers 71
May be formed and connected to the protruding portions of the signal electrode branched into a rectangular shape.

【0085】また、本実施形態の構成のように、光導電
層の面積を小さくすることで、アドレス光の利用効率を
高めることもできる。プラズマ発光チャネルの内壁に反
射層を形成し、また、必要に応じて集光機能を有する部
材を形成し、プラズマ発光チャネルで発生する光を光導
電層に集中することができる。
Further, by reducing the area of the photoconductive layer as in the configuration of the present embodiment, it is possible to increase the efficiency of using the address light. A reflection layer is formed on the inner wall of the plasma emission channel, and a member having a condensing function is formed as necessary, so that light generated in the plasma emission channel can be concentrated on the photoconductive layer.

【0086】[0086]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、光に
よってアドレスする新しい方式の液晶表示装置が提供さ
れる。本発明による液晶表示装置は、TFTなどのアク
ティブ素子を必要としないので、高い歩留まりで比較的
安価に製造できる。さらに、光によってアドレスするの
で、従来のPALCで必要とされるきわめて薄い(約5
0μm程度)誘電体セパレータを必要としないので、従
来のPALCよりも比較的安価に高歩留まりで作製でき
る上に、従来のPALCに比べて低電圧で駆動できる液
晶表示装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a new type of liquid crystal display device which performs addressing by light. Since the liquid crystal display device according to the present invention does not require an active element such as a TFT, it can be manufactured at a high yield at a relatively low cost. Furthermore, because of addressing by light, the extremely thin (about 5
Since a dielectric separator is not required, it is possible to provide a liquid crystal display device that can be manufactured relatively inexpensively with higher yield than conventional PALC and that can be driven at a lower voltage than conventional PALC.

【0087】本発明における透過型の表示装置において
バックライトを置く場合に、バックライトと表示装置と
の間に紫外線吸収層(例えば高分子からなるフィルムな
ど)を適時追加しても構わない。また、本発明による液
晶表示装置では、液晶層の構造には制限がなく(例えば
ホスト−ゲスト型液晶、コレステリック液晶、高分子分
散型液晶など)公知の液晶層を広く利用することができ
る。
When a backlight is provided in the transmission type display device of the present invention, an ultraviolet absorbing layer (for example, a film made of a polymer) may be added between the backlight and the display device as needed. Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the structure of the liquid crystal layer is not limited (for example, a host-guest type liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, a polymer dispersed type liquid crystal, etc.), and widely known liquid crystal layers can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のPALCの断面構造を模式的に示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of a conventional PALC.

【図2】本発明による液晶表示装置の一例を模式的に示
す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing one example of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】本発明による液晶表示装置の動作原理を説明す
るための断面である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the operation principle of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4A】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4A is a schematic view illustrating an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4B】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4B is a schematic view illustrating an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図4C】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
FIG. 4C is a schematic view showing an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】本発明による液晶表示装置における光導電層の
配置の他の例を模式的に示す図である。
FIG. 5 is a diagram schematically showing another example of the arrangement of the photoconductive layer in the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
FIG. 6 is a diagram schematically showing another example of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図7】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
FIG. 7 is a diagram schematically showing another example of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示装置の動作原理を説明す
るための断面である。
FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the operation principle of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示装置の他の例を模式的に
示す図である。
FIG. 9 is a diagram schematically showing another example of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図10】本発明の液晶表示装置における蓄積容量の構
成を模式的に示す図である。
FIG. 10 is a diagram schematically showing a configuration of a storage capacitor in the liquid crystal display device of the present invention.

【図11】本発明の液晶表示装置の製造方法の一部を模
式的に示す図である。
FIG. 11 is a diagram schematically showing a part of the method for manufacturing the liquid crystal display device of the present invention.

【図12】実施形態7による信号電極/光導電層/絶縁
層/画素電極の構成例を模式的に示す図である。(a)
は平面図、(b)は(a)の12b−12b’断面図で
ある。
FIG. 12 is a diagram schematically illustrating a configuration example of a signal electrode / photoconductive layer / insulating layer / pixel electrode according to a seventh embodiment. (A)
Is a plan view, and (b) is a sectional view taken along line 12b-12b 'of (a).

【図13】実施形態7による信号電極/光導電層/画素
電極の構成例を模式的に示す図である。(a)は平面
図、(b)は(a)の13b−13b’断面図である。
FIG. 13 is a diagram schematically illustrating a configuration example of a signal electrode / photoconductive layer / pixel electrode according to a seventh embodiment. (A) is a plan view, and (b) is a cross-sectional view taken along line 13b-13b 'of (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 信号(列)電極 3 液晶層 4 誘電セパレータ 5 プラズマ放電チャネル 6 リブ隔壁 7 カソード 8 アノード 9 ガラス基板 10 走査(行)電極 11 基板 12 対向電極(ITO) 13 液晶層 13a 電圧が印加された液晶層 14、14’、41 光導電層 14a、41a 光照射された光導電層 15 信号電極 16、46 基板 17、50 リブ隔壁 18 放電電極 18a カソード 18b アノード 19、46、56 基板 20 電極(ITO) 21、51 光導電層 22、42、52 信号電極(ストライプ状) 25a プラズマ発光チャネル 43、53 コンタクトホール 44、54 画素電極 45、55 絶縁層 57 金属配線 58 絶縁層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Signal (column) electrode 3 Liquid crystal layer 4 Dielectric separator 5 Plasma discharge channel 6 Rib partition 7 Cathode 8 Anode 9 Glass substrate 10 Scanning (row) electrode 11 Substrate 12 Counter electrode (ITO) 13 Liquid crystal layer 13a Voltage is applied. Liquid crystal layer 14, 14 ', 41 Photoconductive layer 14a, 41a Photoconductive layer irradiated with light 15 Signal electrode 16, 46 Substrate 17, 50 Rib partition 18 Discharge electrode 18a Cathode 18b Anode 19, 46, 56 Substrate 20 Electrode (ITO) 21, 51 Photoconductive layer 22, 42, 52 Signal electrode (striped) 25a Plasma emission channel 43, 53 Contact hole 44, 54 Pixel electrode 45, 55 Insulating layer 57 Metal wiring 58 Insulating layer

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側に設けられた単一の第1電極
と、 該第2基板の該液晶層側に設けられ、透明導電材料から
なる、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
複数の信号電極と、 該複数の信号電極を覆う光導電層と、 該第2基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に光を照射する、該第1の方向と異なる第2の方向
に延びる互いに平行なストライプ状の複数の光源と、を
有し、 該複数の光源をスイッチングすることによって該光導電
層の電気伝導度を変化させ、該光導電層の該光照射され
た領域と該信号電極との電気的接続をスイッチングし、
そのことによって、該液晶層を光アドレスする液晶表示
装置。
A first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and a single substrate provided on the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of signal electrodes provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and formed of a transparent conductive material and extending in a first direction and having a stripe shape parallel to each other; and covering the plurality of signal electrodes. A photoconductive layer, and a plurality of stripe-shaped parallel layers provided outside the second substrate and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light and extending in a second direction different from the first direction. Switching the plurality of light sources to change the electrical conductivity of the photoconductive layer, and switching the electrical connection between the light-irradiated region of the photoconductive layer and the signal electrode. And
Thereby, a liquid crystal display device that optically addresses the liquid crystal layer.
【請求項2】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側に設けられ、第1の方向に延び
る互いに平行なストライプ状の複数の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側に設けられ、透明導電材料から
なる、該第1の方向と異なる第2の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該複数の信号電極を覆う光導電層と、 該第2基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に光を照射する、該第2の方向に延びる互いに平行
なストライプ状の複数の光源と、を有し、 該複数の光源をスイッチングすることによって該光導電
層の電気伝導度を変化させ、該光導電層の該光照射され
た領域と該信号電極との電気的接続をスイッチングし、
そのことによって、該液晶層を光アドレスする液晶表示
装置。
2. A first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and a first substrate provided on the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of stripe-shaped first electrodes extending in a direction parallel to each other, and provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and made of a transparent conductive material and extending in a second direction different from the first direction. A plurality of parallel stripe-shaped signal electrodes; a photoconductive layer covering the plurality of signal electrodes; and a second layer provided outside the second substrate and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light. A plurality of stripe-shaped light sources parallel to each other extending in the direction of, the electric conductivity of the photoconductive layer is changed by switching the plurality of light sources, and the light of the photoconductive layer is irradiated with the light. Switching the electrical connection between the region and the signal electrode,
Thereby, a liquid crystal display device that optically addresses the liquid crystal layer.
【請求項3】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側に設けられた単一の第1電極
と、 該第2基板の該液晶層側に設けられ、透明導電材料から
なる、第1の方向に延びる互いに平行なストライプ状の
複数の信号電極と、 該複数の信号電極上に形成された絶縁層と、 該複数の信号電極と該絶縁層との間に形成された光導電
層と、 該絶縁層に形成されたスルーホールを介して、該光導電
層と接続された複数の画素電極と、 該第2基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に光を照射する、該第1の方向と異なる第2の方向
に延びる互いに平行なストライプ状の複数の光源と、を
有し、 該複数の光源をスイッチングすることによって該光導電
層の電気伝導度を変化させ、該画素電極と該信号電極と
の電気的接続をスイッチングし、そのことによって、該
液晶層を光アドレスする液晶表示装置。
3. A first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and a single substrate provided on the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of parallel striped signal electrodes provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and made of a transparent conductive material and extending in a first direction. An insulating layer formed; a photoconductive layer formed between the plurality of signal electrodes and the insulating layer; and a plurality of photoconductive layers connected to the photoconductive layer via through holes formed in the insulating layer. A plurality of pixel electrodes provided on the outside of the second substrate and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light in a stripe shape extending in a second direction different from the first direction. And a light source, wherein the electric conductivity of the photoconductive layer is changed by switching the plurality of light sources. So, switching the electrical connection between the pixel electrode and the signal electrode, by the liquid crystal display device for optically addressing the liquid crystal layer.
【請求項4】 第1基板と、第2基板と、該第1基板と
該第2基板との間に挟持された液晶層と、 該第1基板の該液晶層側に設けられ、第1の方向に延び
る互いに平行なストライプ状の複数の第1電極と、 該第2基板の該液晶層側に設けられ、透明導電材料から
なる、該第1の方向と異なる第2の方向に延びる互いに
平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該複数の信号電極上に形成された絶縁層と、 該複数の信号電極と該絶縁層との間に形成された光導電
層と、 該絶縁層に形成されたスルーホールを介して、該光導電
層と接続された複数の画素電極と、 該第2基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
一部に光を照射する、該第2の方向に延びる互いに平行
なストライプ状の複数の光源と、を有し、 該複数の光源をスイッチングすることによって該光導電
層の電気伝導度を変化させ、該光導電層の該光照射され
た領域と該信号電極との電気的接続をスイッチングし、
そのことによって、該液晶層を光アドレスする液晶表示
装置。
4. A first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, and a first substrate provided on the liquid crystal layer side of the first substrate. A plurality of stripe-shaped first electrodes extending in a direction parallel to each other, and provided on the liquid crystal layer side of the second substrate and made of a transparent conductive material and extending in a second direction different from the first direction. A plurality of parallel striped signal electrodes; an insulating layer formed on the plurality of signal electrodes; a photoconductive layer formed between the plurality of signal electrodes and the insulating layer; A plurality of pixel electrodes connected to the photoconductive layer via the formed through holes; and a second electrode provided outside the second substrate and irradiating at least a part of the photoconductive layer with light. And a plurality of stripe-shaped light sources parallel to each other extending in the direction of. Photoconductive layer changing the electric conductivity of, switching the electrical connection between the light irradiated area and the signal electrode of the photoconductive layer by,
Thereby, a liquid crystal display device that optically addresses the liquid crystal layer.
【請求項5】 前記光導電層は、前記複数の画素電極の
それぞれに対して配置された少なくとも1つのドット状
の光導電膜を有する請求項3または4に記載の液晶表示
装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the photoconductive layer has at least one dot-shaped photoconductive film disposed for each of the plurality of pixel electrodes.
【請求項6】 前記画素電極に電気的に接続された蓄積
容量をさらに有する請求項3から5のいずれかに記載の
液晶表示装置。
6. The liquid crystal display device according to claim 3, further comprising a storage capacitor electrically connected to said pixel electrode.
【請求項7】 前記第1電極は透明導電層からなり、前
記第1電極層は、該第1電極と電気的に接続された金属
電極をさらに有する請求項1から6のいずれかに記載の
液晶表示装置。
7. The device according to claim 1, wherein the first electrode is formed of a transparent conductive layer, and the first electrode layer further includes a metal electrode electrically connected to the first electrode. Liquid crystal display.
【請求項8】 前記光導電層は、紫外光によって電気伝
導度が変化する物質を含み、透過モードまたは反射モー
ドで表示を行う、請求項1から7のいずれかに記載の液
晶表示装置。
8. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the photoconductive layer includes a substance whose electric conductivity changes by ultraviolet light, and performs display in a transmission mode or a reflection mode.
【請求項9】 前記光導電層は、可視光によって電気伝
導度が変化する物質を含み、反射モードで表示を行う、
請求項1から7のいずれかに記載の液晶表示装置。
9. The photoconductive layer includes a substance whose electric conductivity changes by visible light, and performs display in a reflection mode.
The liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項10】 前記光導電層は、単一の光導電膜であ
る請求項1から4および6から9のいずれかに記載の液
晶表示装置。
10. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the photoconductive layer is a single photoconductive film.
【請求項11】 前記光導電層は、ストライプ状の前記
複数の信号電極と平行なストライプ状の複数の光導電膜
からなる請求項1から4および6から9のいずれかに記
載の液晶表示装置。
11. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the photoconductive layer is formed of a plurality of striped photoconductive films parallel to the plurality of striped signal electrodes. .
【請求項12】 前記複数の光源は、イオン化可能なガ
スを封入したプラズマ発光チャネルを有する請求項1か
ら11のいずれかに記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the plurality of light sources have a plasma emission channel filled with an ionizable gas.
【請求項13】 前記複数の光源は、前記プラズマ発光
チャネルから発生した紫外光を可視光に変換する蛍光体
をさらに有する請求項12に記載の液晶表示装置。
13. The liquid crystal display device according to claim 12, wherein the plurality of light sources further include a phosphor that converts ultraviolet light generated from the plasma emission channel into visible light.
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