JP3405690B2 - Plasma address display - Google Patents

Plasma address display

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JP3405690B2
JP3405690B2 JP36347898A JP36347898A JP3405690B2 JP 3405690 B2 JP3405690 B2 JP 3405690B2 JP 36347898 A JP36347898 A JP 36347898A JP 36347898 A JP36347898 A JP 36347898A JP 3405690 B2 JP3405690 B2 JP 3405690B2
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plasma
light
shielding film
display device
substrate
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマアドレス
表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma addressed display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶セルを用いたマトリクスタイ
プの電気光学装置(例えば液晶表示装置)において、高
解像度化及び高コントラスト化を図るための手段として
は、各画素毎に薄膜トランジスタ等のスイッチング素子
を設けてこれを線順次で駆動する方法が一般に知られて
いる。しかしながら、この方法では、薄膜トランジスタ
のような半導体素子を基板上に多数設ける必要があるた
め、特に、大面積化した場合に製造歩留りが悪くなると
いう問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a matrix type electro-optical device (for example, a liquid crystal display device) using a liquid crystal cell, a switching element such as a thin film transistor is provided for each pixel as a means for achieving high resolution and high contrast. There is generally known a method of providing the above and driving it line-sequentially. However, in this method, it is necessary to provide a large number of semiconductor elements such as thin film transistors on the substrate, and therefore there is a problem that the manufacturing yield is deteriorated particularly when the area is increased.

【0003】そこで、これを解決する手段として、ブザ
ク等は特開平1−217396号公報において、薄膜ト
ランジスタ等からなるスイッチング素子に代えてプラズ
マスイッチを利用するプラズマアドレス表示装置を提案
している。
In order to solve this problem, Buzaku et al. Propose a plasma addressed display device using a plasma switch in place of a switching element composed of a thin film transistor in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396.

【0004】図7に、このプラズマアドレス表示装置の
一例を示す。
FIG. 7 shows an example of this plasma addressed display device.

【0005】このプラズマアドレス表示装置は、電気光
学材料層として液晶層101を有する液晶セル121と
プラズマ放電がなされるプラズマ室102を有するプラ
ズマセル122とが積層形成され、液晶層101とプラ
ズマ室102とがガラス等の誘電体からなる薄い中間基
板103を介して隣接配置されている。
In this plasma addressed display device, a liquid crystal cell 121 having a liquid crystal layer 101 as an electro-optical material layer and a plasma cell 122 having a plasma chamber 102 for plasma discharge are laminated to form a liquid crystal layer 101 and a plasma chamber 102. Are adjacently arranged via a thin intermediate substrate 103 made of a dielectric material such as glass.

【0006】プラズマセル122は、ガラス等からなる
プラズマ基板104上に帯状の導電ペーストからなる一
対のプラズマ電極105a、105bの複数本が、互い
にほぼ平行に等間隔で配置されている。一対のプラズマ
電極105a、105bの各一端部には、これらのプラ
ズマ電極105a、105bに電圧を印加するための端
子(図示せず)が交互に設けられている。さらに、プラ
ズマ電極105a、105bを各一対毎に隔絶するよう
にガラスペーストからなるバリアリブ106が互いに平
行に設けられている。このバリアリブ106により、プ
ラズマ基板104と中間基板103との間の空間が区切
られて、各プラズマ電極105a、105b毎にプラズ
マ室(放電領域)102が設けられる。このプラズマ室
102内にはイオン化可能なガスが封入され、各プラズ
マ室102内では各プラズマ電極105a、105bが
各々アノード及びカソードとして機能する。そして、こ
れらバリアリブ106の上端部及びプラズマ基板104
の周縁部に設けられたフリットシール107により中間
基板103の下部が支持固定されている。
In the plasma cell 122, a plurality of a pair of plasma electrodes 105a and 105b made of strip-shaped conductive paste are arranged on a plasma substrate 104 made of glass or the like at substantially equal intervals. Terminals (not shown) for applying a voltage to the plasma electrodes 105a and 105b are alternately provided at one end of each of the pair of plasma electrodes 105a and 105b. Further, barrier ribs 106 made of glass paste are provided in parallel with each other so as to separate the pair of plasma electrodes 105a and 105b. The barrier rib 106 divides a space between the plasma substrate 104 and the intermediate substrate 103, and a plasma chamber (discharge region) 102 is provided for each of the plasma electrodes 105a and 105b. An ionizable gas is enclosed in the plasma chamber 102, and the plasma electrodes 105a and 105b function as an anode and a cathode in the plasma chamber 102, respectively. Then, the upper ends of the barrier ribs 106 and the plasma substrate 104.
The lower part of the intermediate substrate 103 is supported and fixed by a frit seal 107 provided at the peripheral edge of the.

【0007】液晶セル121は、中間基板103上に液
晶の配向を整えるための配向層108aが形成され、こ
の中間基板103との間に間隔を開けて、カラーフィル
タ層112、複数のデータ電極110及び配向層108
bが形成された対向基板111が配置されている。中間
基板103と対向基板111との間には、ネマティック
液晶等からなる液晶層101が、その周囲を液晶シール
109により支持されて設けられている。データ電極1
10は、上記各プラズマ電極105a、105bと交差
(ここでは直交)しており、各プラズマ室102とデー
タ電極112との交差領域が各画素に対応している。
In the liquid crystal cell 121, an alignment layer 108a for adjusting the alignment of liquid crystals is formed on the intermediate substrate 103, and a space is provided between the alignment layer 108a and the intermediate substrate 103 to form a color filter layer 112 and a plurality of data electrodes 110. And alignment layer 108
The counter substrate 111 on which b is formed is arranged. A liquid crystal layer 101 made of nematic liquid crystal or the like is provided between the intermediate substrate 103 and the counter substrate 111, with the periphery thereof being supported by a liquid crystal seal 109. Data electrode 1
10 intersects (here, is orthogonal to) the plasma electrodes 105a and 105b, and the intersection region between the plasma chamber 102 and the data electrode 112 corresponds to each pixel.

【0008】上記プラズマアドレス表示装置において
は、プラズマ放電が行われるプラズマ室102を上記プ
ラズマ電極105a、105bの各一端部に設けられた
端子により順次切り替え走査すると共に、これと同期し
て液晶層101側のデータ電極110に信号電圧を印加
する。これにより、その信号電圧が各画素に保持され、
液晶層101が駆動される。従って、各プラズマ室10
2が各々1走査ラインに相当し、走査単位毎に放電領域
が分割されている。
In the plasma addressed display device, the plasma chamber 102 in which plasma discharge is performed is sequentially switched and scanned by the terminals provided at one end of each of the plasma electrodes 105a and 105b, and in synchronization with this, the liquid crystal layer 101 is synchronized. A signal voltage is applied to the side data electrode 110. This holds the signal voltage in each pixel,
The liquid crystal layer 101 is driven. Therefore, each plasma chamber 10
2 corresponds to one scanning line, and the discharge region is divided for each scanning unit.

【0009】図8に、図7に示したプラズマアドレス表
示装置を対向基板側から見た場合について、1つのプラ
ズマ室における3画素分(R、G、B)の平面図を示
す。
FIG. 8 shows a plan view of three pixels (R, G, B) in one plasma chamber when the plasma addressed display device shown in FIG. 7 is viewed from the counter substrate side.

【0010】図8に示すように、プラズマ基板上にバリ
アリブ106とプラズマ電極105a、105bが各々
平行に形成されている。対向基板上にはデータ電極11
0がバリアリブ106と直交するように形成され、さら
に、遮光膜115が形成されている。この遮光膜115
は、隣り合うデータ電極110間からの不要光を遮断す
るためにデータ電極110間に形成され、バリアリブ1
06に対向する位置にも形成されている。
As shown in FIG. 8, a barrier rib 106 and plasma electrodes 105a and 105b are formed in parallel on a plasma substrate. Data electrodes 11 are provided on the counter substrate.
0 is formed so as to be orthogonal to the barrier rib 106, and a light shielding film 115 is further formed. This light-shielding film 115
Are formed between the data electrodes 110 in order to block unnecessary light from between the adjacent data electrodes 110, and the barrier ribs 1
It is also formed at a position facing 06.

【0011】この遮光膜115は、バリアリブ106の
両側のはみ出し幅d1を5μm以下にして形成されてい
る。さらに、遮光膜115とデータ電極110とのオー
バーラップ幅d2を大きくすると開口率が低下するた
め、d2はできるだけ小さく形成されている。
The light shielding film 115 is formed so that the protrusion width d1 on both sides of the barrier rib 106 is 5 μm or less. Further, when the overlap width d2 between the light shielding film 115 and the data electrode 110 is increased, the aperture ratio is reduced, so that d2 is formed as small as possible.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記プラズ
マアドレス表示装置においては、一方側にバックライト
が配置される。そして、バリアリブは例えばガラスペー
ストをスクリーン印刷法により複数回積層して印刷する
ことにより約200μmの厚みで形成される。又は、ガ
ラス基板をエッチングしてプラズマ室を形成する場合に
は、ガラス基板自体がバリアリブの役割を果たすことに
なる。
By the way, in the above plasma addressed display device, a backlight is arranged on one side. The barrier ribs are formed to have a thickness of about 200 μm, for example, by stacking and printing glass paste a plurality of times by screen printing. Alternatively, when the glass substrate is etched to form the plasma chamber, the glass substrate itself serves as a barrier rib.

【0013】このように、バリアリブは通常ガラス材料
で形成されているので、バックライトから照射された光
がこのバリアリブによって散乱を起こし易く、これはプ
ラズマアドレス表示装置のコントラスト低下の一因とな
る。
As described above, since the barrier ribs are usually made of a glass material, the light emitted from the backlight is likely to be scattered by the barrier ribs, which is one of the causes of lowering the contrast of the plasma addressed display device.

【0014】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、バリアリブによるバック
ライト光の散乱を防いでコントラストが高い表示を得る
ことができるプラズマアドレス表示装置を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and provides a plasma addressed display device which can prevent back light from being scattered by a barrier rib and can obtain a high contrast display. The purpose is to

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマアドレ
ス表示装置は、対向配置された第1の基板と第2の基板
との間に該第1の基板上に設けられたバリアリブにより
区切られた複数のプラズマ室を有するプラズマセルと、
該第2の基板の該プラズマ室とは反対側に対向配置され
た第3の基板との間に液晶層を有する液晶セルとを備
え、該プラズマ室内に設けられたプラズマ電極により該
プラズマ室内の放電可能な気体がプラズマ放電し、その
プラズマ放電により該液晶セルが選択的に駆動されるプ
ラズマアドレス表示装置であって、該第2の基板には、
少なくとも該バリアリブと重なる位置に形成され、該バ
リアリブ両側のはみ出し幅が5μmを超える遮光膜が設
けられ、そのことにより上記目的が達成される。
In the plasma addressed display device of the present invention, a barrier rib provided on the first substrate is provided between a first substrate and a second substrate which face each other. A plasma cell having a plurality of plasma chambers,
A liquid crystal cell having a liquid crystal layer between the second substrate and a third substrate opposite to the plasma chamber, the plasma electrode provided inside the plasma chamber A plasma address display device in which a gas that can be discharged is plasma-discharged, and the liquid crystal cell is selectively driven by the plasma discharge, wherein the second substrate has:
A light-shielding film that is formed at least at a position overlapping the barrier rib and has a protrusion width of more than 5 μm on both sides of the barrier rib is provided.
Vignetting, the objects can be achieved.

【0017】前記遮光膜の前記バリアリブ両側のはみ出
し幅が8μm以上であるのが好ましい。
It is preferable that the width of protrusion of both sides of the barrier rib of the light shielding film is 8 μm or more.

【0018】前記遮光膜の前記バリアリブ両側のはみ出
し幅が16μm以上であるのが好ましい。
The protruding width on both sides of the barrier rib of the light shielding film is preferably 16 μm or more.

【0019】前記遮光膜が有機材料からなるのが好まし
い。
It is preferable that the light shielding film is made of an organic material.

【0020】前記プラズマ電極は前記バリアリブに接し
て形成されているのが好ましい。
The plasma electrode is preferably formed in contact with the barrier rib.

【0021】前記バリアリブは前記第1の基板に密着し
て形成されているのが好ましい。
The barrier ribs are preferably formed in close contact with the first substrate.

【0022】以下、本発明の作用について説明する。The operation of the present invention will be described below.

【0023】請求項1に記載の本発明にあっては、第3
の基板(対向基板)に、バリアリブと対向し、バリアリ
ブ両側のはみ出し幅が5μmを超える遮光膜が形成され
ている。この遮光膜によってバリアリブによる散乱光を
遮断することができるので、遮光膜のバリアリブ両側の
はみ出し幅が5μm以下である従来のプラズマアドレス
表示装置に比べてコントラストの高い表示が得られる。
In the present invention according to claim 1, the third aspect
The substrate (counter substrate) is provided with a light-shielding film that faces the barrier rib and has a protrusion width of more than 5 μm on both sides of the barrier rib. Since this light-shielding film can block scattered light from the barrier ribs, a display with a higher contrast can be obtained as compared with a conventional plasma addressed display device in which the width of protrusion on both sides of the barrier ribs of the light-shielding film is 5 μm or less.

【0024】請求項2に記載の本発明にあっては、第2
の基板(中間基板)に、バリアリブと重なり、バリアリ
ブ両側のはみ出し幅が5μmを超える遮光膜が形成され
ている。この遮光膜によってバリアリブによる散乱光を
遮断することができるので、遮光膜のバリアリブ両側の
はみ出し幅が5μm以下である従来のプラズマアドレス
表示装置に比べてコントラストの高い表示が得られる。
さらに、遮光膜がバリアリブに近い位置に形成されてい
るので、より効果的にバリアリブによる散乱光を遮断す
ることができる。
In the present invention according to claim 2, the second aspect
On the substrate (intermediate substrate), a light-shielding film that overlaps with the barrier rib and has a protrusion width of more than 5 μm on both sides of the barrier rib is formed. Since this light-shielding film can block scattered light from the barrier ribs, a display with a higher contrast can be obtained as compared with a conventional plasma addressed display device in which the width of protrusion on both sides of the barrier ribs of the light-shielding film is 5 μm or less.
Furthermore, since the light shielding film is formed at a position close to the barrier rib, it is possible to more effectively block the scattered light by the barrier rib.

【0025】請求項3に記載の本発明にあっては、対向
基板又は中間基板に形成される遮光膜のバリアリブ両側
のはみ出し幅を8μm以上とすることにより、バリアリ
ブによる散乱光がほぼ遮断されるので、よりコントラス
トの高い表示が得られる。
According to the third aspect of the present invention, by setting the protruding width on both sides of the barrier rib of the light shielding film formed on the counter substrate or the intermediate substrate to be 8 μm or more, the scattered light by the barrier rib is almost blocked. Therefore, a display with higher contrast can be obtained.

【0026】請求項4に記載の本発明にあっては、対向
基板又は中間基板に形成される遮光膜のバリアリブ両側
のはみ出し幅を16μm以上とすることにより、バリア
リブによる散乱光の影響がほとんど生じない。
According to the fourth aspect of the present invention, by setting the protrusion width on both sides of the barrier rib of the light-shielding film formed on the counter substrate or the intermediate substrate to be 16 μm or more, the influence of scattered light by the barrier rib almost occurs. Absent.

【0027】請求項5に記載の本発明にあっては、遮光
膜が有機材料からなるので、遮光膜が金属材料からなる
場合のように、バックライトから照射された光が遮光膜
に当たって反射して散乱光となり、この散乱光によりコ
ントラストが低下するという問題は生じない。
According to the fifth aspect of the present invention, since the light-shielding film is made of an organic material, the light emitted from the backlight hits the light-shielding film and is reflected as in the case where the light-shielding film is made of a metal material. As a result, scattered light is generated, and there is no problem that the scattered light lowers the contrast.

【0028】請求項6に記載の本発明にあっては、プラ
ズマ電極がバリアリブに接しているので、遮光膜をバリ
アリブから大きくはみ出させても、通常、遮光膜はプラ
ズマ電極の途中の位置までしか形成されない。よって、
この遮光膜による開口率の低下は生じず、明るい表示が
実現される。
According to the present invention of claim 6, since the plasma electrode is in contact with the barrier rib, even if the light shielding film is largely protruded from the barrier rib, the light shielding film is normally only extended to a position in the middle of the plasma electrode. Not formed. Therefore,
The light-shielding film does not reduce the aperture ratio, and bright display is realized.

【0029】請求項7に記載の本発明にあっては、バリ
アリブが第1の基板(プラズマ基板)に密着して形成さ
れているので、バリアリブをプラズマ電極上に形成した
場合のように、密着性が悪くてバリアリブが剥がれると
いう問題は生じない。
According to the present invention of claim 7, since the barrier rib is formed in close contact with the first substrate (plasma substrate), the barrier rib is adhered as in the case of forming the barrier rib on the plasma electrode. The problem that the barrier rib is peeled off due to poor performance does not occur.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら本発
明の実施形態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】(実施形態1)図1は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分(R、G、B)を示している。図2は
図1のA−A’線部分の対向基板の断面図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a plan view of a plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels (R, G, B) in one plasma chamber. FIG. 2 is a sectional view of the counter substrate taken along the line AA ′ of FIG.

【0032】このプラズマアドレス表示装置において、
プラズマ基板には一定間隔でバリアリブ6が形成され、
隣り合うバリアリブ6間に一対のプラズマ電極5a、5
bが形成されている。このバリアリブ6により、プラズ
マ基板とその上に配置された中間基板との間の空間が一
対のプラズマ電極5a、5b毎に区切られ、区切られた
各プラズマ室内にイオン化可能なガスが封入されてい
る。
In this plasma addressed display device,
Barrier ribs 6 are formed on the plasma substrate at regular intervals,
A pair of plasma electrodes 5a, 5 is provided between the adjacent barrier ribs 6.
b is formed. The barrier rib 6 divides the space between the plasma substrate and the intermediate substrate arranged thereon into a pair of plasma electrodes 5a and 5b, and an ionizable gas is enclosed in each of the divided plasma chambers. .

【0033】対向基板は、ガラス等からなる基板11上
にR、G、Bの各カラーフィルタ層17、18、19及
び遮光層15が形成され、その上を覆うように保護膜2
0が形成されている。この遮光膜15は、隣り合うデー
タ電極10間からの不要光を遮断するためにデータ電極
10間に形成され、さらに、バリアリブ6に対向する位
置にも形成されてバリアリブ6の両側にはみ出してい
る。その上にプラズマ電極と交差(ここでは直交)する
方向にデータ電極10が形成されている。この対向基板
は中間基板との間に間隔を開けて配置され、両基板の間
に液晶層が挟持されている。
In the counter substrate, R, G, B color filter layers 17, 18, 19 and a light shielding layer 15 are formed on a substrate 11 made of glass or the like, and a protective film 2 is formed so as to cover them.
0 is formed. The light shielding film 15 is formed between the data electrodes 10 in order to block unnecessary light from between the adjacent data electrodes 10, and is also formed at a position facing the barrier ribs 6 and protrudes on both sides of the barrier ribs 6. . The data electrode 10 is formed on it in a direction intersecting (here, orthogonal to) the plasma electrode. The counter substrate is arranged with a space between it and the intermediate substrate, and a liquid crystal layer is sandwiched between the two substrates.

【0034】このプラズマアドレス表示装置において、
対向基板は例えば以下のようにして作製することができ
る。
In this plasma addressed display device,
The counter substrate can be manufactured, for example, as follows.

【0035】まず、基板11上に非透光性の金属や黒色
の有機材料を用いて遮光膜15を形成し、遮光膜15間
の画素となる部分にR、G、Bの各カラーフィルタ層1
7、18、19をカラーレジスト等を用いて順次形成す
る。このとき、反射率が低い黒色の有機材料を用いて遮
光膜15を形成すれば、バックライトからの光がこの遮
光膜で反射することはなく、この反射による散乱光によ
ってプラズマアドレス表示装置のコントラストが低下す
ることはない。
First, the light-shielding film 15 is formed on the substrate 11 by using a non-light-transmitting metal or a black organic material, and the R, G, B color filter layers are formed in the pixel portions between the light-shielding films 15. 1
7, 18 and 19 are sequentially formed using a color resist or the like. At this time, if the light-shielding film 15 is formed using a black organic material having a low reflectance, the light from the backlight is not reflected by this light-shielding film, and the contrast of the plasma addressed display device is caused by the scattered light due to this reflection. Is never reduced.

【0036】次に、カラーフィルタ層の段差を低減する
ための保護膜20を形成し、その上にITO(Indi
um Tin Oxide)等の透明導電膜を用いてデ
ータ電極10を形成する。
Next, a protective film 20 for reducing the step of the color filter layer is formed, and ITO (Indi) is formed on the protective film 20.
The data electrode 10 is formed using a transparent conductive film such as um tin oxide).

【0037】本実施形態のプラズマアドレス表示装置に
おいて、遮光膜15はデータ電極10間、及び5μm以
下のオーバーラップ幅D2でデータ電極10と重なる領
域に形成されている。さらに、遮光膜15はバリアリブ
6と対向する位置、及びバリアリブ6の両側にはみ出し
幅D1ではみ出した領域にも形成されている。
In the plasma addressed display device of this embodiment, the light-shielding film 15 is formed between the data electrodes 10 and in a region overlapping the data electrodes 10 with an overlap width D2 of 5 μm or less. Further, the light-shielding film 15 is also formed at a position facing the barrier rib 6 and in a region protruding on both sides of the barrier rib 6 with a protrusion width D1.

【0038】従来のプラズマアドレス表示装置において
は、遮光膜のバリアリブ両側のはみ出し幅d1は5μm
以下であったが、本実施形態では遮光膜15のバリアリ
ブ6両側のはみ出し幅D1を大きくすることにより、バ
ックライトからの光がバリアリブ6により散乱して不要
光となるのを防いでいる。
In the conventional plasma addressed display device, the protrusion width d1 on both sides of the barrier rib of the light shielding film is 5 μm.
As described below, in the present embodiment, the protrusion width D1 on both sides of the barrier rib 6 of the light shielding film 15 is increased to prevent light from the backlight from being scattered by the barrier rib 6 and becoming unnecessary light.

【0039】図3に、この遮光膜のはみ出し幅D1とコ
ントラストCとの関係を示す。ここでは、バリアリブ6
のピッチを200μmとして実験を行った。バックライ
トはプラズマ基板下部に配置し、プラズマ基板側からバ
ックライトの光を照射した。遮光膜とデータ電極とのオ
ーバーラップ幅D2は5μmとした。
FIG. 3 shows the relationship between the protrusion width D1 of the light shielding film and the contrast C. Here, the barrier rib 6
The experiment was conducted with a pitch of 200 μm. The backlight was arranged below the plasma substrate, and the light of the backlight was irradiated from the plasma substrate side. The overlap width D2 between the light shielding film and the data electrode was set to 5 μm.

【0040】この図3に示すように、D1が大きくなる
に従ってコントラストが高くなり、8μm以上とするこ
とによりコントラスト100:1が達成されている。よ
って、高コントラストの表示を得るためには、D1を8
μm以上とするのが好ましい。さらに、D1を16μm
以上とすれば、コントラストがほぼ一定となり、バリア
リブからの散乱光による影響をほとんど無くすることが
できる。
As shown in FIG. 3, the contrast increases as D1 increases, and a contrast of 100: 1 is achieved by setting D1 to 8 μm or more. Therefore, in order to obtain a high contrast display, set D1 to 8
It is preferably at least μm. Furthermore, D1 is 16 μm
With the above, the contrast becomes almost constant, and the influence of scattered light from the barrier ribs can be almost eliminated.

【0041】なお、通常のプラズマアドレス表示装置に
おいて、バリアリブのピッチは100μmから500μ
mであるので、はみ出し幅D1をあまり大きくすると開
口率が低下して画面が暗くなるため、はみ出し幅D1は
24μm以下にするのが好ましい。
In a normal plasma addressed display device, the barrier rib pitch is 100 μm to 500 μm.
Therefore, if the protrusion width D1 is too large, the aperture ratio decreases and the screen becomes dark. Therefore, the protrusion width D1 is preferably 24 μm or less.

【0042】従って、好ましいD1の範囲は8μm〜2
4μmであり、さらに好ましくは16μm〜24μmで
あると言える。
Therefore, the preferable range of D1 is 8 μm to 2
It can be said that the thickness is 4 μm, and more preferably 16 μm to 24 μm.

【0043】本実施形態によれば、対向基板に形成する
遮光膜のパターンを形成するだけで、製造プロセスの増
加やコストの増加もなく、コントラストの高いプラズマ
アドレス表示装置を実現することができる。
According to this embodiment, only by forming the pattern of the light-shielding film formed on the counter substrate, it is possible to realize a plasma address display device having a high contrast without increasing the manufacturing process and increasing the cost.

【0044】(実施形態2)図4は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。
(Embodiment 2) FIG. 4 is a plan view of a plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber.

【0045】このプラズマアドレス表示装置において、
対向基板は図1及び図2に示したものと同様である。そ
して、プラズマ基板は、プラズマ電極5a、5bをバリ
アリブ6の下部領域及びプラズマ室に露出させるための
バリアリブ近傍の領域に形成した。このプラズマ電極5
a、5bによりプラズマ室に放電を生じさせる。
In this plasma addressed display device,
The counter substrate is similar to that shown in FIGS. Then, the plasma substrate was formed in the lower region of the barrier rib 6 and the region near the barrier rib for exposing the plasma electrode 5a, 5b to the plasma chamber. This plasma electrode 5
Electric discharge is generated in the plasma chamber by a and 5b.

【0046】本実施形態においても、実施形態1と同様
に、遮光膜15のバリアリブ6両側のはみ出し幅D1を
5μmを超え、好ましくは8μm以上、さらに好ましく
は16μm以上とすることにより、プラズマアドレス表
示装置のコントラストを向上させることができた。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the protrusion width D1 on both sides of the barrier rib 6 of the light shielding film 15 is set to exceed 5 μm, preferably 8 μm or more, more preferably 16 μm or more, so that the plasma address display is performed. The contrast of the device could be improved.

【0047】さらに、本実施形態のようなプラズマ電極
のパターンでは、実施形態1と同様に遮光膜15のバリ
アリブ6両側のはみ出し幅をD1としても、プラズマ電
極5a、5bの端よりもバリアリブ6側に形成すること
ができる。例えば、遮光膜15とプラズマ電極5bの端
との間にはD3のスペースがあるため、遮光膜15のバ
リアリブ6両側のはみ出し幅D1を従来に比べて大きく
しても、遮光膜15による開口率低下は生じない。仮
に、遮光膜15がプラズマ電極5a、5bからはみ出し
て形成されても、はみ出した部分のみが開口率の低下に
影響するので、実施形態1のようにD1を大きくした分
がそのまま開口率の低下に影響することはない。従っ
て、本実施形態によれば、さらに明るいプラズマアドレ
ス表示装置を実現することができる。
Further, in the pattern of the plasma electrode as in the present embodiment, even if the protruding width on both sides of the barrier rib 6 of the light shielding film 15 is D1 as in the case of the first embodiment, the barrier rib 6 side is closer to the barrier rib 6 side than the ends of the plasma electrodes 5a and 5b. Can be formed. For example, since there is a space D3 between the light-shielding film 15 and the edge of the plasma electrode 5b, even if the protrusion width D1 on both sides of the barrier rib 6 of the light-shielding film 15 is made larger than in the conventional case, the aperture ratio by the light-shielding film 15 is increased. No decrease occurs. Even if the light-shielding film 15 is formed so as to protrude from the plasma electrodes 5a and 5b, only the protruding portion affects the reduction in the aperture ratio. Therefore, the increase in D1 as in the first embodiment directly reduces the aperture ratio. Does not affect. Therefore, according to the present embodiment, a brighter plasma addressed display device can be realized.

【0048】(実施形態3)図5は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。
(Embodiment 3) FIG. 5 is a plan view of the plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber.

【0049】このプラズマアドレス表示装置において、
対向基板は図1及び図2に示したものと同様である。そ
して、プラズマ基板は、プラズマ電極5a、5bとバリ
アリブ6とが隙間無く接するように形成され、バリアリ
ブ6はプラズマ電極5a、5bの上ではなく基板11に
密着して形成されている。
In this plasma addressed display device,
The counter substrate is similar to that shown in FIGS. The plasma substrate is formed so that the plasma electrodes 5a, 5b and the barrier rib 6 are in contact with each other without a gap, and the barrier rib 6 is formed in close contact with the substrate 11 not on the plasma electrodes 5a, 5b.

【0050】本実施形態においても、実施形態1と同様
に、遮光膜15のバリアリブ6両側のはみ出し幅D1を
5μmを超え、好ましくは8μm以上、さらに好ましく
は16μm以上とすることにより、プラズマアドレス表
示装置のコントラストを向上させることができた。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the protrusion width D1 of the light-shielding film 15 on both sides of the barrier rib 6 is more than 5 μm, preferably 8 μm or more, more preferably 16 μm or more. The contrast of the device could be improved.

【0051】また、本実施形態のようなプラズマ電極の
パターンでは、実施形態2と同様に遮光膜15のバリア
リブ6両側のはみ出し幅をD1としても、プラズマ電極
5a、5bの端よりもバリアリブ6側に形成することが
できる。例えば、遮光膜15とプラズマ電極5bの端と
の間にはD3のスペースがあるため、遮光膜15のバリ
アリブ6両側のはみ出し幅D1を従来に比べて大きくし
ても、遮光膜15による開口率低下は生じない。仮に、
遮光膜15がプラズマ電極5a、5bからはみ出して形
成されても、はみ出した部分のみが開口率の低下に影響
するので、実施形態1のようにD1を大きくした分がそ
のまま開口率の低下に影響することはない。従って、本
実施形態によれば、さらに明るいプラズマアドレス表示
装置を実現することができる。
Further, in the pattern of the plasma electrode as in this embodiment, even if the protruding width on both sides of the barrier rib 6 of the light shielding film 15 is set to D1 as in the case of the second embodiment, the barrier rib 6 side is closer to the barrier rib 6 side than the ends of the plasma electrodes 5a and 5b. Can be formed. For example, since there is a space D3 between the light-shielding film 15 and the edge of the plasma electrode 5b, even if the protrusion width D1 on both sides of the barrier rib 6 of the light-shielding film 15 is made larger than in the conventional case, the aperture ratio by the light-shielding film 15 is increased. No decrease occurs. what if,
Even if the light-shielding film 15 is formed so as to protrude from the plasma electrodes 5a and 5b, only the protruding portion affects the reduction in the aperture ratio, so that increasing D1 as in Embodiment 1 directly affects the reduction in the aperture ratio. There is nothing to do. Therefore, according to the present embodiment, a brighter plasma addressed display device can be realized.

【0052】さらに、本実施形態のようなプラズマ電極
のパターンでは、実施形態2のようにバリアリブ6の下
部にプラズマ電極のパターンが存在しない。よって、バ
リアリブ6の基板に対する密着性が良くなり、バリアリ
ブ6の剥がれによる表示不良の問題が起こらない。
Further, in the plasma electrode pattern as in the present embodiment, the plasma electrode pattern does not exist below the barrier rib 6 as in the second embodiment. Therefore, the adhesion of the barrier rib 6 to the substrate is improved, and the problem of display failure due to peeling of the barrier rib 6 does not occur.

【0053】(実施形態4)本実施形態では、プラズマ
アドレス表示装置の中間基板として、図6に示すような
ものを用いた。
(Embodiment 4) In the present embodiment, the one shown in FIG. 6 is used as the intermediate substrate of the plasma addressed display device.

【0054】この中間基板は、ガラスからなる薄板30
に遮光膜31が形成され、画素に対応する部分には遮光
膜31が形成されていない。遮光膜のパターンは、実施
形態1〜3において対向基板に形成された遮光膜15の
パターンと同様であり、データ電極間の遮光膜のパター
ンも中間基板上に形成されている。
This intermediate substrate is a thin plate 30 made of glass.
The light-shielding film 31 is formed on the above, and the light-shielding film 31 is not formed on the portion corresponding to the pixel. The pattern of the light-shielding film is similar to the pattern of the light-shielding film 15 formed on the counter substrate in Embodiments 1 to 3, and the pattern of the light-shielding film between the data electrodes is also formed on the intermediate substrate.

【0055】本実施形態においても、実施形態1と同様
に、遮光膜31のバリアリブ6両側のはみ出し幅D1を
5μmを超え、好ましくは8μm以上、さらに好ましく
は16μm以上とすることにより、プラズマアドレス表
示装置のコントラストを向上させることができた。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the protrusion width D1 of the light shielding film 31 on both sides of the barrier rib 6 exceeds 5 μm, preferably 8 μm or more, more preferably 16 μm or more, so that the plasma address display is performed. The contrast of the device could be improved.

【0056】また、反射率が低い黒色の有機材料を用い
て遮光膜31を形成すれば、バックライトからの光がこ
の遮光膜で反射することはなく、この反射による散乱光
によってプラズマアドレス表示装置のコントラストが低
下することはない。
If the light-shielding film 31 is formed of a black organic material having a low reflectance, the light from the backlight will not be reflected by this light-shielding film, and the plasma-addressed display device will be scattered by this reflection. The contrast does not decrease.

【0057】また、プラズマ電極をバリアリブと接する
ように形成すれば、遮光膜のバリアリブ両側のはみ出し
幅D1を従来に比べて大きくしても、遮光膜による開口
率低下は生じない。従って、さらに明るいプラズマアド
レス表示装置を実現することができる。
Further, if the plasma electrode is formed so as to be in contact with the barrier rib, the aperture ratio due to the light-shielding film does not decrease even if the protrusion width D1 on both sides of the barrier rib of the light-shielding film is made larger than in the conventional case. Therefore, a brighter plasma address display device can be realized.

【0058】また、バリアリブの下部にプラズマ電極を
設けずにバリアリブを基板に密着して形成することによ
り、バリアリブの基板に対する密着性が良くなり、バリ
アリブの剥がれによる表示不良の問題が起こらない。
Further, by forming the barrier rib in close contact with the substrate without providing a plasma electrode below the barrier rib, the adhesion of the barrier rib to the substrate is improved, and the problem of display failure due to peeling of the barrier rib does not occur.

【0059】さらに、本実施形態によれば、実施形態1
〜3よりもバリアリブに近い位置に遮光膜31が形成さ
れているので、バリアリブによる散乱光をより効果的に
遮断することができる。
Further, according to this embodiment, the first embodiment
Since the light-shielding film 31 is formed at a position closer to the barrier rib than 3 to 3, the scattered light by the barrier rib can be blocked more effectively.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
対向基板に設けられた遮光膜によってバリアリブによる
散乱光を遮断して、コントラストの高いプラズマアドレ
ス表示装置を得ることができる。
As described in detail above, according to the present invention,
The light-shielding film provided on the counter substrate blocks the light scattered by the barrier ribs, so that a plasma-addressed display device with high contrast can be obtained.

【0061】請求項2に記載の本発明によれば、中間基
板に設けられた遮光膜によってバリアリブによる散乱光
を遮断して、コントラストの高いプラズマアドレス表示
装置を得ることができる。さらに、遮光膜がバリアリブ
により近い位置に形成されているので、より効果的にバ
リアリブによる散乱光を遮断することができる。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to obtain a high contrast plasma addressed display device by blocking the light scattered by the barrier ribs by the light shielding film provided on the intermediate substrate. Further, since the light shielding film is formed at a position closer to the barrier rib, it is possible to more effectively block the scattered light by the barrier rib.

【0062】請求項3及び請求項4に記載の本発明によ
れば、対向基板又は中間基板に設けられる遮光膜によっ
て、バリアリブによる散乱光をほぼ遮断してその影響が
ほとんど生じないようにすることができるので、さらに
コントラストの高いプラズマアドレス表示装置を得るこ
とができる。
According to the third and fourth aspects of the present invention, the light-shielding film provided on the counter substrate or the intermediate substrate substantially blocks the light scattered by the barrier ribs so that the influence thereof hardly occurs. Therefore, it is possible to obtain a plasma addressed display device having higher contrast.

【0063】請求項5に記載の本発明によれば、遮光膜
が有機材料からなるので、遮光膜が金属材料からなる場
合のように、バックライトから照射された光が遮光膜に
当たって反射し、散乱光となることはない。よって、コ
ントラストの高いプラズマアドレス表示装置を得ること
ができる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the light-shielding film is made of an organic material, the light emitted from the backlight hits the light-shielding film and is reflected, as in the case where the light-shielding film is made of a metal material. It does not become scattered light. Therefore, a plasma addressed display device with high contrast can be obtained.

【0064】請求項6に記載の本発明によれば、遮光膜
をバリアリブから大きくはみ出させても、遮光膜による
開口率の低下は生じず、明るい表示のプラズマアドレス
表示装置が得られる。
According to the sixth aspect of the present invention, even if the light-shielding film is largely protruded from the barrier rib, the aperture ratio is not reduced by the light-shielding film, and a bright display plasma address display device can be obtained.

【0065】請求項7に記載の本発明によれば、バリア
リブがプラズマ基板に密着して形成されているので、バ
リアリブをプラズマ電極上に形成した場合のように、密
着性が悪くてバリアリブが剥がれるという問題は生じ
ず、製造歩留りを向上することができる。
According to the present invention as set forth in claim 7, since the barrier rib is formed in close contact with the plasma substrate, the barrier rib is peeled off due to poor adhesion as in the case where the barrier rib is formed on the plasma electrode. Therefore, the manufacturing yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施形態1のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a plasma addressed display device of a first embodiment.

【図2】実施形態1のプラズマアドレス表示装置におけ
る対向基板の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a counter substrate in the plasma addressed display device of the first embodiment.

【図3】本発明のプラズマアドレス表示装置について、
遮光膜のバリアリブ両側のはみ出し幅とコントラストと
の関係を示すグラフである。
FIG. 3 shows a plasma address display device of the present invention.
6 is a graph showing the relationship between the protrusion width on both sides of the barrier rib of the light shielding film and the contrast.

【図4】実施形態2のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a plasma addressed display device according to a second embodiment.

【図5】実施形態3のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a plasma addressed display device of a third embodiment.

【図6】実施形態4のプラズマアドレス表示装置におけ
る中間基板の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of an intermediate substrate in a plasma addressed display device of Embodiment 4.

【図7】従来のプラズマアドレス表示装置を示す断面図
である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional plasma addressed display device.

【図8】従来のプラズマアドレス表示装置を示す平面図
である。
FIG. 8 is a plan view showing a conventional plasma addressed display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5a、5b プラズマ電極 6 バリアリブ 10 データ電極 11 基板(対向基板) 15、31 遮光膜 17、18、19 カラーフィルタ層 20 保護膜 30 薄板(中間基板) 5a, 5b Plasma electrode 6 Barrier rib 10 data electrodes 11 Substrate (counter substrate) 15, 31 Light-shielding film 17, 18, 19 Color filter layer 20 Protective film 30 Thin plate (intermediate substrate)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 H01J 17/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333 H01J 17/04

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 対向配置された第1の基板と第2の基板
との間に該第1の基板上に設けられたバリアリブにより
区切られた複数のプラズマ室を有するプラズマセルと、
該第2の基板の該プラズマ室とは反対側に対向配置され
た第3の基板との間に液晶層を有する液晶セルとを備
え、該プラズマ室内に設けられたプラズマ電極により該
プラズマ室内の放電可能な気体がプラズマ放電し、その
プラズマ放電により該液晶セルが選択的に駆動されるプ
ラズマアドレス表示装置であって、 該第2の基板には、少なくとも該バリアリブと重なる位
置に形成され、該バリアリブ両側のはみ出し幅が5μm
を超える遮光膜が設けられているプラズマアドレス表示
装置。
1. A plasma cell having a plurality of plasma chambers, which are partitioned by barrier ribs provided on the first substrate, between a first substrate and a second substrate which are opposed to each other,
A liquid crystal cell having a liquid crystal layer between the second substrate and a third substrate opposite to the plasma chamber, the plasma electrode provided inside the plasma chamber A plasma-addressed display device in which a gas that can be discharged is plasma-discharged, and the liquid crystal cell is selectively driven by the plasma discharge, the plasma-addressed display device being formed on the second substrate at least at a position overlapping the barrier ribs. The protruding width on both sides of the barrier rib is 5 μm
A plasma addressed display device having a light-shielding film exceeding the above.
【請求項2】 前記遮光膜の前記バリアリブ両側のはみ
出し幅が8μm以上である請求項1に記載のプラズマア
ドレス表示装置。
2. The plasma addressed display device according to claim 1 , wherein the protrusion width of both sides of the barrier rib of the light shielding film is 8 μm or more.
【請求項3】 前記遮光膜の前記バリアリブ両側のはみ
出し幅が16μm以上である請求項1に記載のプラズマ
アドレス表示装置。
3. The plasma addressed display device according to claim 1 , wherein the protrusion width on both sides of the barrier rib of the light shielding film is 16 μm or more.
【請求項4】 前記遮光膜が有機材料からなる請求項1
乃至請求項3のいずれかに記載のプラズマアドレス表示
装置。
4. The method of claim 1, wherein the light-shielding film made of an organic material
4. The plasma addressed display device according to claim 3 .
【請求項5】 前記プラズマ電極は前記バリアリブに接
して形成されている請求項1乃至請求項4のいずれかに
記載のプラズマアドレス表示装置。
Wherein said plasma electrode is a plasma addressed display device according to any one of claims 1 to 4 is formed in contact with the barrier ribs.
【請求項6】 前記バリアリブは前記第1の基板に密着
して形成されている請求項1乃至請求項5のいずれかに
記載のプラズマアドレス表示装置。
Wherein said barrier rib plasma addressed display device according to any one of claims 1 to 5 are formed in close contact with the first substrate.
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