JPH11279780A - カーボンスチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤 - Google Patents
カーボンスチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤Info
- Publication number
- JPH11279780A JPH11279780A JP9080798A JP9080798A JPH11279780A JP H11279780 A JPH11279780 A JP H11279780A JP 9080798 A JP9080798 A JP 9080798A JP 9080798 A JP9080798 A JP 9080798A JP H11279780 A JPH11279780 A JP H11279780A
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- JP
- Japan
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- corrosion
- corrosion inhibitor
- carbon steel
- ppm
- amino alcohol
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- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルカリ性H2S/NH3/CN-/Cl- 水溶液中におけ
るカーボンスチールの腐食を防止するため、安価で入手
が容易な腐食抑制剤を提供する。 【解決手段】 H2S/NH3/CN-/Cl- 共存のアルカリ性腐食
環境において、アミノアルコール（ R3-X N-(CH2CH2OH)
X ，ｘ＝１〜３）を添加し、カーボンスチールの腐食を
抑制する。
るカーボンスチールの腐食を防止するため、安価で入手
が容易な腐食抑制剤を提供する。 【解決手段】 H2S/NH3/CN-/Cl- 共存のアルカリ性腐食
環境において、アミノアルコール（ R3-X N-(CH2CH2OH)
X ，ｘ＝１〜３）を添加し、カーボンスチールの腐食を
抑制する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】石油化学鉱業において、硫化
水素による設備の腐食は大きな問題であり、硫化水素に
よる金属材料の破壊を防止又は抑制するため、各種の腐
食抑制剤が添加されている。
水素による設備の腐食は大きな問題であり、硫化水素に
よる金属材料の破壊を防止又は抑制するため、各種の腐
食抑制剤が添加されている。
【０００２】
【従来の技術】硫化水素の腐食に対して、合成された複
雑な構造の腐食抑制剤が使用されるのが一般的である。
４級アミノ塩[N.M.Agave, Prpceedings of 8th Europea
n Symposium on Corrosion Inhibitors(8 SEIC), Unive
rsity of Ferrara, Italy,(1995)1311-1319] 、イミダ
ゾリン [A.J.Szyprowski, Proceeding of 8th European
Symposium on Corrosion Inhibitors(8 SEIC), Univers
ity of Ferrara, Italy,(1995)1229-1238] 、ジアミン
[U.S. Patent No.3,997,469]などが代表的である。しか
しこれらの腐食抑制剤はコストが高く、合成技術が難し
い。
雑な構造の腐食抑制剤が使用されるのが一般的である。
４級アミノ塩[N.M.Agave, Prpceedings of 8th Europea
n Symposium on Corrosion Inhibitors(8 SEIC), Unive
rsity of Ferrara, Italy,(1995)1311-1319] 、イミダ
ゾリン [A.J.Szyprowski, Proceeding of 8th European
Symposium on Corrosion Inhibitors(8 SEIC), Univers
ity of Ferrara, Italy,(1995)1229-1238] 、ジアミン
[U.S. Patent No.3,997,469]などが代表的である。しか
しこれらの腐食抑制剤はコストが高く、合成技術が難し
い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されてきた腐
食抑制剤は合成が必要で、コストが高く、合成が技術的
に難しい。本発明ではコストが低く、入手しやすい腐食
抑制剤を提供する。
食抑制剤は合成が必要で、コストが高く、合成が技術的
に難しい。本発明ではコストが低く、入手しやすい腐食
抑制剤を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明ではコストが低
く、入手しやすいアミノアルコール（式(1) を参照）を
腐食抑制剤として採用する。 R3-X N-(CH2CH2OH)X （ X＝１〜３、 R＝H 又はCH3) 式(1) 本発明では直線分極法（linear polarization)とターフ
ェル (Tafel)分極法で各システムの腐食抑制効率を評価
している。上述の電気化学測定方法において、AISI1010
低カーボンスチール（表面面積は75.5mm2)を作用電極と
し、飽和塩化第一水銀（SCE)を参照電極、直径 0.5mm、
長さ20cmの白金糸を補助電極とする。実験溶液は[NH4O
H] を35,000ppm 、[CN-] を2,000ppm、[Cl-] を100ppm
含むアルカリ性溶液を窒素で30分間置換し、溶液中の酸
素を除去する。その後濃度30％のH2S+Arである希釈硫化
水素を流入し、システムのpHを 8.6とする。これにより
触媒クラッキング又はその他精錬工場における腐食環境
をシュミレーションする。腐食抑制剤の性能を評価する
時は、この実験溶液に 0.1〜10ppm の商用腐食抑制剤又
はアミノアルコールを添加する（一般の工場では６〜12
ppm の腐食抑制剤を添加する) 。実験を開始する前にカ
ーボンスチールの表面を炭化シリコンサンドペーパー 6
00号で磨き、蒸留水に入れ超音波で２分間振とうする。
さらにアセトンに入れ超音波で１分間振とうした後、洗
浄、乾燥を行い、すぐに実験溶液に入れて実験を行う。
この実験システムは常温気圧下で行う。
く、入手しやすいアミノアルコール（式(1) を参照）を
腐食抑制剤として採用する。 R3-X N-(CH2CH2OH)X （ X＝１〜３、 R＝H 又はCH3) 式(1) 本発明では直線分極法（linear polarization)とターフ
ェル (Tafel)分極法で各システムの腐食抑制効率を評価
している。上述の電気化学測定方法において、AISI1010
低カーボンスチール（表面面積は75.5mm2)を作用電極と
し、飽和塩化第一水銀（SCE)を参照電極、直径 0.5mm、
長さ20cmの白金糸を補助電極とする。実験溶液は[NH4O
H] を35,000ppm 、[CN-] を2,000ppm、[Cl-] を100ppm
含むアルカリ性溶液を窒素で30分間置換し、溶液中の酸
素を除去する。その後濃度30％のH2S+Arである希釈硫化
水素を流入し、システムのpHを 8.6とする。これにより
触媒クラッキング又はその他精錬工場における腐食環境
をシュミレーションする。腐食抑制剤の性能を評価する
時は、この実験溶液に 0.1〜10ppm の商用腐食抑制剤又
はアミノアルコールを添加する（一般の工場では６〜12
ppm の腐食抑制剤を添加する) 。実験を開始する前にカ
ーボンスチールの表面を炭化シリコンサンドペーパー 6
00号で磨き、蒸留水に入れ超音波で２分間振とうする。
さらにアセトンに入れ超音波で１分間振とうした後、洗
浄、乾燥を行い、すぐに実験溶液に入れて実験を行う。
この実験システムは常温気圧下で行う。
【０００５】
【発明の実施の形態】〔実施例１〕図１は、標準試験溶
液に10ppm の商用腐食抑制剤又はアミノアルコールを添
加し直線分極法で計算した腐食抑制効率と時間の関係図
である。直線分極法で計算した腐食抑制効率と時間の関
係図である。図が示す通り、各システムの腐食抑制効率
は接触時間が長くなるほど高くなる。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄな
どの商用腐食抑制剤は腐食抑制効率が85％以上に達し、
Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｉの商用腐食抑制剤は腐食抑制効率が
65〜70％にあり、Ｊ、Ｋについては30〜50％代に止まっ
ている。メチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）、モノ
エタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（Ｄ
ＥＡ）などのアミノアルコールは、腐食抑制効率がいず
れも70％以上に達している。とくに、ＭＤＥＡとＭＥＡ
の効果は90％以上に達する。各システムの腐食抑制効率
は優れた順に、ＭＤＥＡ (96％) ＞Ａ（95％) ＞ＤＥＡ
（93％) ＞Ｂ（92％) ＞Ｃ（87％) ＞Ｄ（85％) ＞ＤＥ
Ａ（73％) ＞Ｅ（72％)＞Ｆ（71％) ＞ＴＥＡ（70％)
＞Ｇ（68％) ＞Ｈ（66％) ＞Ｉ（65％) ＞Ｊ（53％) ＞
Ｋ（34％) となっている。この結果からわかるように、
アミノアルコール腐食抑制剤は商用腐食抑制剤に匹敵す
る効果を持つ。
液に10ppm の商用腐食抑制剤又はアミノアルコールを添
加し直線分極法で計算した腐食抑制効率と時間の関係図
である。直線分極法で計算した腐食抑制効率と時間の関
係図である。図が示す通り、各システムの腐食抑制効率
は接触時間が長くなるほど高くなる。Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄな
どの商用腐食抑制剤は腐食抑制効率が85％以上に達し、
Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ、Ｉの商用腐食抑制剤は腐食抑制効率が
65〜70％にあり、Ｊ、Ｋについては30〜50％代に止まっ
ている。メチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）、モノ
エタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（Ｄ
ＥＡ）などのアミノアルコールは、腐食抑制効率がいず
れも70％以上に達している。とくに、ＭＤＥＡとＭＥＡ
の効果は90％以上に達する。各システムの腐食抑制効率
は優れた順に、ＭＤＥＡ (96％) ＞Ａ（95％) ＞ＤＥＡ
（93％) ＞Ｂ（92％) ＞Ｃ（87％) ＞Ｄ（85％) ＞ＤＥ
Ａ（73％) ＞Ｅ（72％)＞Ｆ（71％) ＞ＴＥＡ（70％)
＞Ｇ（68％) ＞Ｈ（66％) ＞Ｉ（65％) ＞Ｊ（53％) ＞
Ｋ（34％) となっている。この結果からわかるように、
アミノアルコール腐食抑制剤は商用腐食抑制剤に匹敵す
る効果を持つ。
【０００６】〔実施例２〕図２〜４は、標準試験溶液に
10ppm の商用腐食抑制剤を添加し、ターフェル分極法で
得たターフェル分極曲線である（Evs.SCE/V は、Electr
icity against Single coverd emial per volts log i/
A はイオン密度の対数値）。腐食防止剤を加えていない
システムＡｆについては、そのターフェル分極曲線に１
つの陽極ピークが見られる。しかし、腐食防止剤を加え
ると、腐食防止効果が高いほど、このピークは小さくな
り、最も高いＡシステムでは消失している。本発明の抑
制剤と商用抑制剤を比較するため、以下の実験を行っ
た。図５は、実験溶液に10ppm のアミノアルコール腐食
抑制剤を添加し、ターフェル分極法で得たターフェル分
極曲線である。陽極ピークは腐食抑制効果が最も低いＴ
ＥＡにのみ現れ（この結果は図２〜４とほぼ同じ傾向が
見られた）、各システムの腐食電位と腐食電流も腐食抑
制効率が低いほど大きくなっている。ターフェル分極法
のデータも本発明の効果を示している。表１は商用腐食
抑制剤とアミノアルコール腐食抑制剤をそれぞれ10ppm
加えた後、ターフェル分極法で得た電気化学的データで
ある。腐食電流は小さい順にＭＤＥＡ＜Ａ＜ＭＥＡ＜Ｂ
＜Ｃ＜Ｄ＜ＤＥＡ＜Ｅ＜Ｆ＜ＴＥＡ＜Ｇ＜Ｈ＜Ｉ＜Ｊ＜
Ｋ＜Ａｆとなっている。これからも分かる通り、アミノ
アルコール腐食抑制効果はＭＤＥＡとＭＥＡが最も高
く、ＤＥＡとＴＥＡが中程度の効果を示した。全体的
に、アミノアルコールの腐食抑制効率は現在工場で使用
されている商用腐食抑制剤に遜色なく、アミノアルコー
ル腐食抑制剤がカーボンスチールのH2S/NH3/CN-/Cl- 水
溶液中における腐食を有効に抑制していることを示して
いる。
10ppm の商用腐食抑制剤を添加し、ターフェル分極法で
得たターフェル分極曲線である（Evs.SCE/V は、Electr
icity against Single coverd emial per volts log i/
A はイオン密度の対数値）。腐食防止剤を加えていない
システムＡｆについては、そのターフェル分極曲線に１
つの陽極ピークが見られる。しかし、腐食防止剤を加え
ると、腐食防止効果が高いほど、このピークは小さくな
り、最も高いＡシステムでは消失している。本発明の抑
制剤と商用抑制剤を比較するため、以下の実験を行っ
た。図５は、実験溶液に10ppm のアミノアルコール腐食
抑制剤を添加し、ターフェル分極法で得たターフェル分
極曲線である。陽極ピークは腐食抑制効果が最も低いＴ
ＥＡにのみ現れ（この結果は図２〜４とほぼ同じ傾向が
見られた）、各システムの腐食電位と腐食電流も腐食抑
制効率が低いほど大きくなっている。ターフェル分極法
のデータも本発明の効果を示している。表１は商用腐食
抑制剤とアミノアルコール腐食抑制剤をそれぞれ10ppm
加えた後、ターフェル分極法で得た電気化学的データで
ある。腐食電流は小さい順にＭＤＥＡ＜Ａ＜ＭＥＡ＜Ｂ
＜Ｃ＜Ｄ＜ＤＥＡ＜Ｅ＜Ｆ＜ＴＥＡ＜Ｇ＜Ｈ＜Ｉ＜Ｊ＜
Ｋ＜Ａｆとなっている。これからも分かる通り、アミノ
アルコール腐食抑制効果はＭＤＥＡとＭＥＡが最も高
く、ＤＥＡとＴＥＡが中程度の効果を示した。全体的
に、アミノアルコールの腐食抑制効率は現在工場で使用
されている商用腐食抑制剤に遜色なく、アミノアルコー
ル腐食抑制剤がカーボンスチールのH2S/NH3/CN-/Cl- 水
溶液中における腐食を有効に抑制していることを示して
いる。
【０００７】
【表１】
【０００８】〔実施例３〕図６にアミノアルコール腐食
抑制剤の腐食抑制効率と濃度の関係を示している。腐食
抑制剤の濃度が0.1ppmの時、各システムの抑制効率はい
ずれも低い (10〜40％) が、抑制効果は依然見られてい
る。濃度が増加するに伴い、腐食抑制効率も上昇し、濃
度が10ppm に達すると、その腐食抑制効率は70〜96％に
達する。そのうちＭＤＥＡとＭＥＡのシステムについて
は腐食抑制効率が５〜10ppm ですでに安定値に達してい
るが、ＤＥＡ、ＴＥＡでは効率が上昇し続けている。腐
食抑制効率が高い順に、ＭＤＥＡ＞ＭＥＡ＞ＤＥＡ＞Ｔ
ＥＡとなっている。
抑制剤の腐食抑制効率と濃度の関係を示している。腐食
抑制剤の濃度が0.1ppmの時、各システムの抑制効率はい
ずれも低い (10〜40％) が、抑制効果は依然見られてい
る。濃度が増加するに伴い、腐食抑制効率も上昇し、濃
度が10ppm に達すると、その腐食抑制効率は70〜96％に
達する。そのうちＭＤＥＡとＭＥＡのシステムについて
は腐食抑制効率が５〜10ppm ですでに安定値に達してい
るが、ＤＥＡ、ＴＥＡでは効率が上昇し続けている。腐
食抑制効率が高い順に、ＭＤＥＡ＞ＭＥＡ＞ＤＥＡ＞Ｔ
ＥＡとなっている。
【０００９】〔実施例４〕表２にＡＣ交流抵抗法により
異なる濃度のアミノアルコール腐食抑制剤システムから
得られた電気化学的データを示す。ＥＱＵで等価回路を
シミュレーションし電気回路コード値（ＣＤＣ）を得て
いる。各システムのR1、R2抵抗値は濃度が増加するにつ
れて大きる一方、Q1、Q2値は小さくなる。ＭＤＥＡシス
テムにおいて、濃度が５ppm 以上の時、その抵抗値はそ
の他システムよりかなり大きい。これは付着膜の保護効
果がその他システムより高いことを示している。ＴＥＡ
とＤＥＡシステムにおいて、その濃度が0.1 〜１ppm の
場合、R1、R2値とQ1とQ2値が腐食抑制剤を加えないＡｆ
とほとんど変わらない。これは付着膜自身または金属表
面孔付近の保護効果が低いこと、付着膜と孔の密着性が
低いことを示している。分析については、概ね２つの機
構に分けられる。腐食抑制効果が高い場合、シミュレー
ション電気回路はRSL1[Q1[R1[Q2 R2]]] となり、反対に
腐食抑制効果が低い場合は、腐食生成物または付着膜と
鉄の結合力が弱まり、界面間で吸着、脱落の現象が生
じ、低周波数の部分に誘導圏が発生し、その腐食抑制機
構は RS L1[Q1[R1[Q2[R2L2]]]]となる。
異なる濃度のアミノアルコール腐食抑制剤システムから
得られた電気化学的データを示す。ＥＱＵで等価回路を
シミュレーションし電気回路コード値（ＣＤＣ）を得て
いる。各システムのR1、R2抵抗値は濃度が増加するにつ
れて大きる一方、Q1、Q2値は小さくなる。ＭＤＥＡシス
テムにおいて、濃度が５ppm 以上の時、その抵抗値はそ
の他システムよりかなり大きい。これは付着膜の保護効
果がその他システムより高いことを示している。ＴＥＡ
とＤＥＡシステムにおいて、その濃度が0.1 〜１ppm の
場合、R1、R2値とQ1とQ2値が腐食抑制剤を加えないＡｆ
とほとんど変わらない。これは付着膜自身または金属表
面孔付近の保護効果が低いこと、付着膜と孔の密着性が
低いことを示している。分析については、概ね２つの機
構に分けられる。腐食抑制効果が高い場合、シミュレー
ション電気回路はRSL1[Q1[R1[Q2 R2]]] となり、反対に
腐食抑制効果が低い場合は、腐食生成物または付着膜と
鉄の結合力が弱まり、界面間で吸着、脱落の現象が生
じ、低周波数の部分に誘導圏が発生し、その腐食抑制機
構は RS L1[Q1[R1[Q2[R2L2]]]]となる。
【００１０】
【表２】
【００１１】〔実施例５〕図７にアミノアルコール腐食
抑制剤の腐食抑制効率と温度の関係が示されている。温
度が20℃の場合、４つの腐食抑制剤の腐食抑制効率は70
％以上に達している。温度が上昇するにつれて、それぞ
れ腐食抑制効率は低下し、温度が80℃に達すると、腐食
抑制効率はいずれも30％以下に低下するが、依然抑制効
果が見られた。高温下におけるアミノアルコール腐食抑
制剤の腐食抑制効率は高い順に、ＭＤＥＡ＞ＭＥＡ＞Ｄ
ＥＡ＞ＴＥＡとなっている。
抑制剤の腐食抑制効率と温度の関係が示されている。温
度が20℃の場合、４つの腐食抑制剤の腐食抑制効率は70
％以上に達している。温度が上昇するにつれて、それぞ
れ腐食抑制効率は低下し、温度が80℃に達すると、腐食
抑制効率はいずれも30％以下に低下するが、依然抑制効
果が見られた。高温下におけるアミノアルコール腐食抑
制剤の腐食抑制効率は高い順に、ＭＤＥＡ＞ＭＥＡ＞Ｄ
ＥＡ＞ＴＥＡとなっている。
【００１２】
【発明の効果】１．アミノアルコール（ R3-X N-(CH2CH
2OH)X ）誘導体の腐食抑制剤はコストが低く、簡単に入
手することができ、工場の腐食防止コストを削減するこ
とができる。水溶性化合物であるため、システムの汚染
問題も発生しない。このため複雑な現場の環境に適用す
ることが容易である。このほか、毒性がなく、安定性が
高いため、環境保護の点から見ても優れている。 ２．アミノアルコール腐食抑制剤は硫黄が存在しないた
め、加工工場における触媒被毒現象を招く恐れがない。 ３．アミノアルコール腐食抑制剤は低濃度（0.1ppm) 又
は高温 (80℃) においても依然腐食抑制効果を持つ。
2OH)X ）誘導体の腐食抑制剤はコストが低く、簡単に入
手することができ、工場の腐食防止コストを削減するこ
とができる。水溶性化合物であるため、システムの汚染
問題も発生しない。このため複雑な現場の環境に適用す
ることが容易である。このほか、毒性がなく、安定性が
高いため、環境保護の点から見ても優れている。 ２．アミノアルコール腐食抑制剤は硫黄が存在しないた
め、加工工場における触媒被毒現象を招く恐れがない。 ３．アミノアルコール腐食抑制剤は低濃度（0.1ppm) 又
は高温 (80℃) においても依然腐食抑制効果を持つ。
【図１】腐食抑制剤（商用及びアミノアルコール) 10pp
m 添加後直線分極法により求めた腐食抑制効率と時間の
関係を示すグラフである。
m 添加後直線分極法により求めた腐食抑制効率と時間の
関係を示すグラフである。
【図２】腐食抑制剤（商用) 10ppm 添加後ターフェル分
極法により求めた分極曲線である。
極法により求めた分極曲線である。
【図３】腐食抑制剤（商用) 10ppm 添加後ターフェル分
極法により求めた分極曲線である。
極法により求めた分極曲線である。
【図４】腐食抑制剤（商用) 10ppm 添加後ターフェル分
極法により求めた分極曲線である。
極法により求めた分極曲線である。
【図５】腐食抑制剤（アミノアルコール) 10ppm 添加後
ターフェル分極法により求めた分極曲線である。
ターフェル分極法により求めた分極曲線である。
【図６】腐食抑制剤（アミノアルコール) の腐食抑制効
果と濃度の関係を示すグラフである。
果と濃度の関係を示すグラフである。
【図７】腐食抑制剤（アミノアルコール) の腐食抑制効
果と温度の関係を示すグラフである。
果と温度の関係を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】H2S/NH3/CN-/Cl- 共存のアルカリ性腐食環
境において、アミノアルコール（ R3-X N-(CH2CH2OH)
X ，ｘ＝１〜３）を添加することにより、カーボンスチ
ールの腐食を抑制することを特徴とするアルカリ性H2S/
NH3/CN-/Cl- 水溶液中におけるカーボンスチールのアミ
ノアルコール誘導体腐食抑制剤。 - 【請求項２】アミノアルコール腐食抑制剤が濃度0.1ppm
以上において腐食抑制効果を呈し、濃度が増加するにつ
れて腐食抑制効果も高まり、濃度が10ppm に達すると、
その腐食抑制効果が70〜96％に達し、とくにメチルジエ
タノールアミンとモノエタノールアミンについては、濃
度５〜10ppm で安定値（90％以上) を呈し、ジエタノー
ルアミンとトリエタノールアミンについては、その腐食
抑制効率が増加することを特徴とする請求項１に記載の
アルカリ性H2S/NH3/CN-/Cl- 水溶液中におけるカーボン
スチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤。 - 【請求項３】アミノアルコール腐食抑制剤が温度20℃に
おいていずれも腐食抑制効率70％以上と良好な腐食抑制
効果を示し、温度が上昇するにつれて、腐食抑制効率は
それぞれ異なる下降現象を示し、60℃においてメチルジ
エタノールアミンは依然80％以上の腐食抑制効果を呈
し、温度が80℃に達すると、腐食抑制効率がいずれも30
％以下になるが、依然腐食抑制効果を有し、80℃におい
てカーボンスチールの腐食抑制効果を有する、ことを特
徴とする請求項１に記載のアルカリ性H2S/NH3/CN-/Cl-
水溶液中におけるカーボンスチールのアミノアルコール
誘導体腐食抑制剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080798A JPH11279780A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | カーボンスチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080798A JPH11279780A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | カーボンスチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11279780A true JPH11279780A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=14008876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9080798A Pending JPH11279780A (ja) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | カーボンスチールのアミノアルコール誘導体腐食抑制剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11279780A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016191152A (ja) * | 2010-01-28 | 2016-11-10 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法及び防食剤 |
-
1998
- 1998-03-19 JP JP9080798A patent/JPH11279780A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016191152A (ja) * | 2010-01-28 | 2016-11-10 | 栗田工業株式会社 | ボイラの防食方法及び防食剤 |
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