JPH11279538A - 研磨用組成物 - Google Patents
研磨用組成物Info
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- JPH11279538A JPH11279538A JP10136837A JP13683798A JPH11279538A JP H11279538 A JPH11279538 A JP H11279538A JP 10136837 A JP10136837 A JP 10136837A JP 13683798 A JP13683798 A JP 13683798A JP H11279538 A JPH11279538 A JP H11279538A
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- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/47—Burnishing
Abstract
(57)【要約】
【課題】 研磨用のスラリーとして使用するのに適した
チキソトープ流体特性を有する研磨用組成物を提供する
こと。 【解決手段】 １００重量部の水に対して、０．５〜２
０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化ア
ルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んでな
る研磨用組成物。
チキソトープ流体特性を有する研磨用組成物を提供する
こと。 【解決手段】 １００重量部の水に対して、０．５〜２
０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化ア
ルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んでな
る研磨用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、非ニュートン流体
特性を有する組成物に関するもので、とくに研磨液とし
て使用するのに適したチキソトロピック流体（thixotro
pic fluid）特性を有する組成物に関するものである。
特性を有する組成物に関するもので、とくに研磨液とし
て使用するのに適したチキソトロピック流体（thixotro
pic fluid）特性を有する組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ（集積回路）の設計・製造技術の発
達にともない、線幅が０．３５μｍ以下の半導体の製造
工程にＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）が広
く使用されるようになってきた。ＣＭＰでは、スラリー
の懸濁性がその実用度に大きく影響する。すなわち、ス
ラリーの保存寿命はスラリー中の粒子の分散性に依存す
る。しかしながら、重力の影響のため、静止状態にある
スラリー中で酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）などの研磨
材が浮かび続けるよう保つのは困難である。
達にともない、線幅が０．３５μｍ以下の半導体の製造
工程にＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）が広
く使用されるようになってきた。ＣＭＰでは、スラリー
の懸濁性がその実用度に大きく影響する。すなわち、ス
ラリーの保存寿命はスラリー中の粒子の分散性に依存す
る。しかしながら、重力の影響のため、静止状態にある
スラリー中で酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）などの研磨
材が浮かび続けるよう保つのは困難である。
【０００３】米国特許第５，５２７，４２３号明細書
は、キャボット コーポレーション（Cabot Corporatio
n）社による、分散性と懸濁性が改良され、界面活性剤
を含有するスラリーを開示している。添加される界面活
性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性または両
性であってよい。代表的な界面活性剤の例として、ポリ
アルキルシロキサン、ポリアリールシロキサン、ポリオ
キシアルキレンエーテルなどがある。
は、キャボット コーポレーション（Cabot Corporatio
n）社による、分散性と懸濁性が改良され、界面活性剤
を含有するスラリーを開示している。添加される界面活
性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性または両
性であってよい。代表的な界面活性剤の例として、ポリ
アルキルシロキサン、ポリアリールシロキサン、ポリオ
キシアルキレンエーテルなどがある。
【０００４】米国特許第５，６９３，２３９号明細書お
よび国際公開第９７／１３８８９号パンフレットは、１
〜５０％のα−Ａｌ2Ｏ3に他の形態の粒子を添加するこ
とによってスラリーの研磨効率を高める方法を開示して
いる。添加される粒子は、酸化アルミニウム三水和物、
水酸化アルミニウム、γ−アルミナ、δ−アルミナ、非
晶質アルミナまたは非晶質シリカであることが好まし
い。
よび国際公開第９７／１３８８９号パンフレットは、１
〜５０％のα−Ａｌ2Ｏ3に他の形態の粒子を添加するこ
とによってスラリーの研磨効率を高める方法を開示して
いる。添加される粒子は、酸化アルミニウム三水和物、
水酸化アルミニウム、γ−アルミナ、δ−アルミナ、非
晶質アルミナまたは非晶質シリカであることが好まし
い。
【０００５】米国特許第４，２６０，３９６号明細書
は、ＳｉＯ2と、水溶性のカルボキシポリメチレン・ガ
ムやキサンタム・ガム（xanthum gum）のような界面活
性剤を含有するシリコンやゲルマニウムを研磨するため
の組成物を開示している。
は、ＳｉＯ2と、水溶性のカルボキシポリメチレン・ガ
ムやキサンタム・ガム（xanthum gum）のような界面活
性剤を含有するシリコンやゲルマニウムを研磨するため
の組成物を開示している。
【０００６】米国特許第４，４７５，９８１号明細書
は、ハードディスクのＮｉ金属表面を研磨するための方
法を開示している。第１段階は金属表面をスラリーで研
磨する工程で、このスラリーはＡｌ2Ｏ3あるいはＣｅＯ
2の粒子と、分散剤としてのシルコノックス・ラップ（S
ilconox Lap.）と、酸化剤としての次亜塩素酸塩を含有
している。第２段階では、より精密に金属表面を研磨す
るための研磨剤としてアルミニウムゾル（aluminum so
l）を使用している。
は、ハードディスクのＮｉ金属表面を研磨するための方
法を開示している。第１段階は金属表面をスラリーで研
磨する工程で、このスラリーはＡｌ2Ｏ3あるいはＣｅＯ
2の粒子と、分散剤としてのシルコノックス・ラップ（S
ilconox Lap.）と、酸化剤としての次亜塩素酸塩を含有
している。第２段階では、より精密に金属表面を研磨す
るための研磨剤としてアルミニウムゾル（aluminum so
l）を使用している。
【０００７】以上に挙げた公知のスラリーは、界面活性
剤あるいは水溶性のポリマーを添加することによって液
中の粒子の懸濁性を高めている。しかしながら、えられ
た粒子の懸濁性は充分なものではなく、形成過程におい
て泡が生じ、しかも高純度のＩＣ製造プロセスでは添加
された界面活性剤や水溶性ポリマーが実際には不純物と
みなされてしまう。
剤あるいは水溶性のポリマーを添加することによって液
中の粒子の懸濁性を高めている。しかしながら、えられ
た粒子の懸濁性は充分なものではなく、形成過程におい
て泡が生じ、しかも高純度のＩＣ製造プロセスでは添加
された界面活性剤や水溶性ポリマーが実際には不純物と
みなされてしまう。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、上記した問題点を解決し、非ニュートン流体特性
を有する組成物を提供することにある。かかる組成物は
チキソトロピック流体で、ＩＣ製造工程のＣＭＰにおけ
る研磨用のスラリーとして使用するのに適している。界
面活性剤は不要で、泡は形成されず、保存寿命が非常に
長い。
的は、上記した問題点を解決し、非ニュートン流体特性
を有する組成物を提供することにある。かかる組成物は
チキソトロピック流体で、ＩＣ製造工程のＣＭＰにおけ
る研磨用のスラリーとして使用するのに適している。界
面活性剤は不要で、泡は形成されず、保存寿命が非常に
長い。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、１００重量部
の水に対して、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和
物、１〜５０重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０
重量部の酸性溶液を含んでなる研磨用組成物に関する。
の水に対して、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和
物、１〜５０重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０
重量部の酸性溶液を含んでなる研磨用組成物に関する。
【００１０】このばあい、酸化アルミニウムが、α−酸
化アルミニウム、Θ−酸化アルミニウム、δ−酸化アル
ミニウム、γ−酸化アルミニウムおよびこれらの混合物
よりなる群から選択されるのが好ましい。
化アルミニウム、Θ−酸化アルミニウム、δ−酸化アル
ミニウム、γ−酸化アルミニウムおよびこれらの混合物
よりなる群から選択されるのが好ましい。
【００１１】また、酸化アルミニウムの比表面積が５〜
３５０ｍ2／ｇで、一次粒子の粒径が０．５μｍより小
さいのが好ましい。
３５０ｍ2／ｇで、一次粒子の粒径が０．５μｍより小
さいのが好ましい。
【００１２】また、酸化アルミニウムが球状を呈するの
が好ましい。
が好ましい。
【００１３】また、酸化アルミニウムがスティック状を
呈するのが好ましい。
呈するのが好ましい。
【００１４】また、酸化アルミニウムが不規則な粒子状
を呈するのが好ましい。
を呈するのが好ましい。
【００１５】また、酸化アルミニウムが、球状、スティ
ック状、または不規則な粒子状のいずれか２種類の混合
状態を呈するのが好ましい。
ック状、または不規則な粒子状のいずれか２種類の混合
状態を呈するのが好ましい。
【００１６】また、酸性溶液が、硝酸、塩酸、酢酸、硫
酸、リン酸およびこれらの混合物よりなる群から選択さ
れるのが好ましい。
酸、リン酸およびこれらの混合物よりなる群から選択さ
れるのが好ましい。
【００１７】前記研磨用組成物は０．５〜４のｐＨ値を
有するのが好ましい。
有するのが好ましい。
【００１８】また、前記研磨用組成物はＡｌＯＯＨ水和
物を１〜７重量部含有するのが好ましい。
物を１〜７重量部含有するのが好ましい。
【００１９】また、前記研磨用組成物は酸化アルミニウ
ムを１〜２０重量部含有するのが好ましい。
ムを１〜２０重量部含有するのが好ましい。
【００２０】また、前記研磨用組成物は酸性溶液を１〜
５重量部含有するのが好ましい。
５重量部含有するのが好ましい。
【００２１】また、ＡｌＯＯＨ水和物がベーマイトであ
るのが好ましい。
るのが好ましい。
【００２２】また、ＡｌＯＯＨ水和物がアルミニウムの
水酸化物であるのが好ましい。
水酸化物であるのが好ましい。
【００２３】また、ＡｌＯＯＨ水和物が擬似ベーマイト
であるのが好ましい。
であるのが好ましい。
【００２４】また、ＡｌＯＯＨ水和物がベーマイト、ア
ルミニウムの水酸化物または擬似ベーマイトのいずれか
２つの混合物であるのが好ましい。
ルミニウムの水酸化物または擬似ベーマイトのいずれか
２つの混合物であるのが好ましい。
【００２５】本発明は、１００重量部の水に対して、
０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量
部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液
を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用する
半導体の製造方法にも関する。
０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量
部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液
を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用する
半導体の製造方法にも関する。
【００２６】また本発明は、１００重量部の水に対し
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用
する精密ガラスの製造方法にも関する。
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用
する精密ガラスの製造方法にも関する。
【００２７】さらに本発明は、１００重量部の水に対し
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用
する金属フィルムの製造方法に関する。
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨用のスラリーとして使用
する金属フィルムの製造方法に関する。
【００２８】また、本発明は、１００重量部の水に対し
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨
て、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０
重量部の酸化アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性
溶液を含んでなる組成物を研磨
【００２９】
【発明の実施の形態】前記目的を達成するため、本発明
の組成物は、１００重量部の水に対して、０．５〜２０
重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化アル
ミニウム（Ａｌ2Ｏ3）および１〜２０重量部の酸性溶液
を含んでなる。
の組成物は、１００重量部の水に対して、０．５〜２０
重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化アル
ミニウム（Ａｌ2Ｏ3）および１〜２０重量部の酸性溶液
を含んでなる。
【００３０】本発明者らは、適当な酸性物質を添加する
ことによってＡｌＯＯＨ水和物にチキソトロピック特性
を生じさせられることを発見した。静止状態ではスラリ
ー内の粒子間に引力が生じる。剪断速度がかかると粒子
間に応力が発生する。この発生した応力が剪断速度が減
少したときに直ちに回復しなければ、剪断速度が増加す
る際の剪断応力は剪断速度が減少する際の剪断応力より
も大きい。このようなスラリーはチキソトロピック流体
と呼ばれる。チキソトロピック流体が静止状態にあるば
あい、スラリー中の粒子は粒子間の応力によって安定し
て浮かび続けられる。スラリーが剪断速度を受けて流れ
だしたばあい、流れによって生じた剪断応力によって粒
子間の応力が小さくなり、これは直ちには回復しないの
で、流れている間スラリー中に小さな渦が発生する。こ
れは研磨に適したスラリーである。
ことによってＡｌＯＯＨ水和物にチキソトロピック特性
を生じさせられることを発見した。静止状態ではスラリ
ー内の粒子間に引力が生じる。剪断速度がかかると粒子
間に応力が発生する。この発生した応力が剪断速度が減
少したときに直ちに回復しなければ、剪断速度が増加す
る際の剪断応力は剪断速度が減少する際の剪断応力より
も大きい。このようなスラリーはチキソトロピック流体
と呼ばれる。チキソトロピック流体が静止状態にあるば
あい、スラリー中の粒子は粒子間の応力によって安定し
て浮かび続けられる。スラリーが剪断速度を受けて流れ
だしたばあい、流れによって生じた剪断応力によって粒
子間の応力が小さくなり、これは直ちには回復しないの
で、流れている間スラリー中に小さな渦が発生する。こ
れは研磨に適したスラリーである。
【００３１】その他の目的、特徴、長所などを一層明ら
かにするため、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
当該技術に精通した者にとって無数の修正および変更は
自明のことであるため、下記の実施の形態は、発明の範
囲を限定することなく本発明の方法および利点をさらに
十分に説明するためのものである。
かにするため、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
当該技術に精通した者にとって無数の修正および変更は
自明のことであるため、下記の実施の形態は、発明の範
囲を限定することなく本発明の方法および利点をさらに
十分に説明するためのものである。
【００３２】本発明で開示する研磨用の組成物は、１０
０重量部の水、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和
物、１〜５０重量部の酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）お
よび１〜２０重量部の酸性溶液からなる。
０重量部の水、０．５〜２０重量部のＡｌＯＯＨ水和
物、１〜５０重量部の酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）お
よび１〜２０重量部の酸性溶液からなる。
【００３３】本発明で使用できるＡｌＯＯＨ水和物とし
ては、ベーマイト、アルミニウムの水酸化物、擬似ベー
マイト（pseudoboehmite）、またはこれらのうちのいず
れか２種の混合物があげられる。ＡｌＯＯＨ水和物の化
学組成は研磨材Ａｌ2Ｏ3の化学組成と同価であるため、
ＡｌＯＯＨの添加によってスラリーが汚染されることは
ない。
ては、ベーマイト、アルミニウムの水酸化物、擬似ベー
マイト（pseudoboehmite）、またはこれらのうちのいず
れか２種の混合物があげられる。ＡｌＯＯＨ水和物の化
学組成は研磨材Ａｌ2Ｏ3の化学組成と同価であるため、
ＡｌＯＯＨの添加によってスラリーが汚染されることは
ない。
【００３４】本発明の主な目的は、スラリーの流動性を
チキソトロピック物質のそれに調整することによってス
ラリーの懸濁性を安定させることにある。したがって、
有機酸もしくは無機酸の中で拡散できる酸化アルミニウ
ムであれば全て本発明に使用することができ、このよう
な酸化アルミニウムとしては、α−酸化アルミニウム、
Θ−酸化アルミニウム、δ−酸化アルミニウム、γ−酸
化アルミニウムまたはこれらの混合物があげられる。
チキソトロピック物質のそれに調整することによってス
ラリーの懸濁性を安定させることにある。したがって、
有機酸もしくは無機酸の中で拡散できる酸化アルミニウ
ムであれば全て本発明に使用することができ、このよう
な酸化アルミニウムとしては、α−酸化アルミニウム、
Θ−酸化アルミニウム、δ−酸化アルミニウム、γ−酸
化アルミニウムまたはこれらの混合物があげられる。
【００３５】また、使用できる酸化アルミニウムの形状
には球状、スティック状、不規則な粒子状、あるいはい
ずれか２種類の混合状態がある。酸化アルミニウムの比
表面積は５〜３５０ｍ2／ｇであり、その一次粒子の粒
径は０．５μｍより小さいことが好ましい。
には球状、スティック状、不規則な粒子状、あるいはい
ずれか２種類の混合状態がある。酸化アルミニウムの比
表面積は５〜３５０ｍ2／ｇであり、その一次粒子の粒
径は０．５μｍより小さいことが好ましい。
【００３６】本発明によれば、使用できる酸性溶液に
は、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸、リン酸またはこれらの混
合物がある。さらに、えられたスラリーのｐＨ値は０．
５〜４であることが好ましい。
は、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸、リン酸またはこれらの混
合物がある。さらに、えられたスラリーのｐＨ値は０．
５〜４であることが好ましい。
【００３７】本発明によれば、えられる組成物の固形分
は２〜１０重量％であり、保存寿命は８ヶ月より長い。
本発明によるこの組成物をＣＭＰによるアルミニウムの
研磨に応用したばあい、研磨速度は４０００Å／分に達
し、不均質度（unevenness）は５％より小さい。
は２〜１０重量％であり、保存寿命は８ヶ月より長い。
本発明によるこの組成物をＣＭＰによるアルミニウムの
研磨に応用したばあい、研磨速度は４０００Å／分に達
し、不均質度（unevenness）は５％より小さい。
【００３８】本発明による組成物は、１〜７重量部のＡ
ｌＯＯＨ水和物、１〜２０重量部の酸化アルミニウムお
よび１〜５重量部の酸性溶液を含有することが好まし
い。
ｌＯＯＨ水和物、１〜２０重量部の酸化アルミニウムお
よび１〜５重量部の酸性溶液を含有することが好まし
い。
【００３９】本発明による組成物は、ＣＭＰによる半導
体製造に適しているほか、精密ガラス、金属フィルム、
ファインセラミックスなどの加工にも適している。
体製造に適しているほか、精密ガラス、金属フィルム、
ファインセラミックスなどの加工にも適している。
【００４０】当該技術に精通した者にとって、無数の修
正および変更は自明のことであるため、下記の実施例
は、発明の範囲を限定することなく本発明の方法および
利点をさらに十分に説明するためのものである。
正および変更は自明のことであるため、下記の実施例
は、発明の範囲を限定することなく本発明の方法および
利点をさらに十分に説明するためのものである。
【００４１】
【実施例】実施例１ ６０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１．９重量％の硝酸を加えた。万遍な
く撹拌した後、２５６ｇのΘ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられ
たスラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリー
のチキソトロピック特性を、測定器であるＲＨＥＯＭＥ
ＴＥＲで、２．５分間で剪断速度を０ｒｐｍから３００
ｒｐｍへ一定の割合で徐々に変化させたのち、同様に一
定の割合で２．５分間で０ｒｐｍにまで下降させ、剪断
速度が変化していく過程において剪断応力を測定すると
いう方法で測定し、結果を図１に示した。図１に示すと
おり、本発明の組成物は優れた懸濁性を有することがわ
かる。
に加えた。続いて１．９重量％の硝酸を加えた。万遍な
く撹拌した後、２５６ｇのΘ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられ
たスラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリー
のチキソトロピック特性を、測定器であるＲＨＥＯＭＥ
ＴＥＲで、２．５分間で剪断速度を０ｒｐｍから３００
ｒｐｍへ一定の割合で徐々に変化させたのち、同様に一
定の割合で２．５分間で０ｒｐｍにまで下降させ、剪断
速度が変化していく過程において剪断応力を測定すると
いう方法で測定し、結果を図１に示した。図１に示すと
おり、本発明の組成物は優れた懸濁性を有することがわ
かる。
【００４２】図１から、剪断速度が徐々に増加すると剪
断応力も大きくなることが見て取れる。しかしながら、
剪断速度が徐々に減少すると、剪断応力の減少カーブは
もとの増加カーブと一致せず、もとの剪断応力よりも小
さいことがわかる。このことは、この実施例のスラリー
がチキソトロピック流体特性を有することを示してい
る。
断応力も大きくなることが見て取れる。しかしながら、
剪断速度が徐々に減少すると、剪断応力の減少カーブは
もとの増加カーブと一致せず、もとの剪断応力よりも小
さいことがわかる。このことは、この実施例のスラリー
がチキソトロピック流体特性を有することを示してい
る。
【００４３】実施例２ ８０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１２０ｇのδ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図２に示した。図２に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１２０ｇのδ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図２に示した。図２に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
【００４４】実施例３ ５０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１００ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図３に示した。図３に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１００ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図３に示した。図３に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
【００４５】実施例４ ３０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１．２５重量％のリン酸を加えた。万
遍なく撹拌した後、９０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えら
れたスラリーをｐＨ４に調整した。えられたスラリーの
チキソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、
結果を図４に示した。図４に示すとおり、本発明の組成
物は優れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて１．２５重量％のリン酸を加えた。万
遍なく撹拌した後、９０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えら
れたスラリーをｐＨ４に調整した。えられたスラリーの
チキソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、
結果を図４に示した。図４に示すとおり、本発明の組成
物は優れた懸濁性を有することがわかる。
【００４６】実施例５ ２５ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１重量％のリン酸を加えた。万遍なく
撹拌した後、３０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３に調整した。えられたスラリーのチキソ
トロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結果を
図５に示した。図５に示すとおり、本発明の組成物は優
れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて１重量％のリン酸を加えた。万遍なく
撹拌した後、３０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３に調整した。えられたスラリーのチキソ
トロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結果を
図５に示した。図５に示すとおり、本発明の組成物は優
れた懸濁性を有することがわかる。
【００４７】実施例６ ６０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて０．５重量％の硫酸を加えた。万遍な
く撹拌した後、１４０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられ
たスラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリー
のチキソトロピック特性を実施例１と同様にして測定
し、結果を図６に示した。図６に示すとおり、本発明の
組成物は優れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて０．５重量％の硫酸を加えた。万遍な
く撹拌した後、１４０ｇのγ−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられ
たスラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリー
のチキソトロピック特性を実施例１と同様にして測定
し、結果を図６に示した。図６に示すとおり、本発明の
組成物は優れた懸濁性を有することがわかる。
【００４８】実施例７ ５０ｇのＡｌＯＯＨ水和物を２０００ｍｌの脱イオン水
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１００ｇのα−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図７に示した。図７に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
に加えた。続いて１重量％の硝酸を加えた。万遍なく撹
拌した後、１００ｇのα−Ａｌ2Ｏ3を加え、えられたス
ラリーをｐＨ３．５に調整した。えられたスラリーのチ
キソトロピック特性を実施例１と同様にして測定し、結
果を図７に示した。図７に示すとおり、本発明の組成物
は優れた懸濁性を有することがわかる。
【００４９】
【発明の効果】本発明による組成物はチキソトロピック
流体であり、優れた懸濁性を示す。よって、研磨用のス
ラリーとして使用するのに適している。
流体であり、優れた懸濁性を示す。よって、研磨用のス
ラリーとして使用するのに適している。
【図１】図１は、実施例１においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図２】図２は、実施例２においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図３】図３は、実施例３においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図４】図４は、実施例４においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図５】図５は、実施例５においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図６】図６は、実施例６においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
【図７】図７は、実施例７においてえた組成物の剪断応
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
力と剪断速度との関係を示すグラフである。
フロントページの続き (71)出願人 598065182 真茂企業股▲フン▼有限公司 台湾高雄県大寮郷大發工業区利民街４号 (71)出願人 598065193 中國石油化学工業開發股▲フン▼有限公司 台湾台北市東興路12号８−11樓 (71)出願人 598065207 華宏新技股▲フン▼有限公司 台湾高雄市中正四路235号10樓 (71)出願人 598065218 長興化学工業股▲フン▼有限公司 台湾高雄市三民区建工路578号 (71)出願人 598065229 中國石油股▲フン▼有限公司 台湾台北市中華路１段83号 (72)発明者 蔡 明雄 台湾台南県新化鎮金華街１段10号４樓之３ (72)発明者 陳 麗梅 台湾新竹市武陵街171号11−２樓 (72)発明者 葉 宇欽 台湾台北市泰順街40巷８−５号２樓 (72)発明者 謝 秋枝 台湾台北市文山区新光路１段122号 (72)発明者 陳 盈淙 台湾嘉義市東区宣信街342号
Claims (20)
- 【請求項１】 １００重量部の水に対して、０．５〜２
０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化ア
ルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んでな
る研磨用組成物。 - 【請求項２】 酸化アルミニウムが、α−酸化アルミニ
ウム、Θ−酸化アルミニウム、δ−酸化アルミニウム、
γ−酸化アルミニウムおよびこれらの混合物よりなる群
から選択される請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項３】 酸化アルミニウムの比表面積が５〜３５
０ｍ2／ｇで、一次粒子の粒径が０．５μｍより小さい
請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項４】 酸化アルミニウムが球状を呈する請求項
３記載の研磨用組成物。 - 【請求項５】 酸化アルミニウムがスティック状を呈す
る請求項３記載の研磨用組成物。 - 【請求項６】 酸化アルミニウムが不規則な粒子状を呈
する請求項３記載の研磨用組成物。 - 【請求項７】 酸化アルミニウムが、球状、スティック
状、または不規則な粒子状のいずれか２種類の混合状態
を呈する請求項３記載の研磨用組成物。 - 【請求項８】 酸性溶液が、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸、
リン酸およびこれらの混合物よりなる群から選択される
請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項９】 ０．５〜４のｐＨ値を有する請求項１記
載の研磨用組成物。 - 【請求項１０】 ＡｌＯＯＨ水和物の含有量が１〜７重
量部である請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１１】 酸化アルミニウムの含有量が１〜２０
重量部である請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１２】 １〜５重量部の酸性溶液の含有量が１
〜５重量部である請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１３】 ＡｌＯＯＨ水和物がベーマイトである
請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１４】 ＡｌＯＯＨ水和物がアルミニウムの水
酸化物である請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１５】 ＡｌＯＯＨ水和物が擬似ベーマイトで
ある請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１６】 ＡｌＯＯＨ水和物がベーマイト、アル
ミニウムの水酸化物または擬似ベーマイトのいずれか２
つの混合物である請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項１７】 １００重量部の水に対して、０．５〜
２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化
アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んで
なる組成物を研磨用のスラリーとして使用する半導体の
製造方法。 - 【請求項１８】 １００重量部の水に対して、０．５〜
２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化
アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んで
なる組成物を研磨用のスラリーとして使用する精密ガラ
スの製造方法。 - 【請求項１９】 １００重量部の水に対して、０．５〜
２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化
アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んで
なる組成物を研磨用のスラリーとして使用する金属フィ
ルムの製造方法。 - 【請求項２０】 １００重量部の水に対して、０．５〜
２０重量部のＡｌＯＯＨ水和物、１〜５０重量部の酸化
アルミニウムおよび１〜２０重量部の酸性溶液を含んで
なる組成物を研磨用のスラリーとして使用するファイン
セラミックスの製造方法。
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| CN104191320B (zh) * | 2014-08-13 | 2016-04-13 | 浙江工业大学 | 一种超声控制的剪切增稠抛光方法及其装置 |
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- 1998-05-19 JP JP13683798A patent/JP3212943B2/ja not_active Expired - Lifetime
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