JPH11277793A - Beam scanner - Google Patents
Beam scannerInfo
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- JPH11277793A JPH11277793A JP8085798A JP8085798A JPH11277793A JP H11277793 A JPH11277793 A JP H11277793A JP 8085798 A JP8085798 A JP 8085798A JP 8085798 A JP8085798 A JP 8085798A JP H11277793 A JPH11277793 A JP H11277793A
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- beams
- optical path
- scanning direction
- sub
- cylindrical lens
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビーム走査するこ
とで画像を形成する電子写真装置等のビーム走査装置に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam scanning apparatus such as an electrophotographic apparatus for forming an image by beam scanning.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、ビーム走査光学系は電子写真
プロセスおける画像書き込みとして用いられ、コンピュ
ータやファクシミリの出力装置であるレーザビームプリ
ンタ、レーザFAX等に搭載されている。最近では高
速、高解像度をさらに上げるために、複数のビームを走
査するビーム走査装置への要求が高まりつつある。2. Description of the Related Art Conventionally, a beam scanning optical system has been used for image writing in an electrophotographic process, and is mounted on a laser beam printer, a laser facsimile, etc. which are output devices of a computer or a facsimile. Recently, in order to further increase the speed and the resolution, the demand for a beam scanning device that scans a plurality of beams is increasing.
【0003】以下に従来のマルチビームを走査するビー
ム走査装置について説明する。図6に示すように、第1
の光源1aを駆動してビーム21を照射させる駆動回路
23、および第2の光源1bを駆動してビーム22を照
射させる駆動回路24がそれぞれ設けられている。そし
て、第1の光源1aからのビーム21と第2の光源1b
からのビーム22が照射されることにより、一様に帯電
された感光ドラム18の被走査面18aに静電潜像が形
成される。第1の光源1aに対応してコリメータレンズ
2aが、また第2の光源1bに対応してコリメータレン
ズ2bがそれぞれ配置されており、各光源1a,1bか
らのビーム21,22はこれらのコリメータレンズ2
a,2bにより平行光にされる。A conventional beam scanning device for scanning a multi-beam will be described below. As shown in FIG.
And a drive circuit 24 for driving the second light source 1b to irradiate the beam 22 by driving the light source 1a. Then, the beam 21 from the first light source 1a and the second light source 1b
Irradiating the photosensitive drum 18 with a beam 22, an electrostatic latent image is formed on the scanned surface 18 a of the photosensitive drum 18 that is uniformly charged. A collimator lens 2a is arranged corresponding to the first light source 1a, and a collimator lens 2b is arranged corresponding to the second light source 1b. Beams 21 and 22 from each of the light sources 1a and 1b are arranged by these collimator lenses. 2
The light is made parallel by a and 2b.
【0004】コリメータレンズ2a,2bを経たビーム
21,22の光路上には、各光源1a,1bからのビー
ム21,22の副走査方向のピッチを調整するためのプ
リズム3a,3b、それぞれの光源1a,1bから出射
されたビーム21,22の光軸を合わせるビームスプリ
ッタ5が設置されている。また、プリズム3a,3bに
それぞれ対応して、各プリズム3a,3bを回動させて
ビーム21,22の副走査方向のピッチを所定の間隔に
調整するための光路補正手段4a,4bが設けられてい
る。Prisms 3a and 3b for adjusting the pitch in the sub-scanning direction of the beams 21 and 22 from the light sources 1a and 1b are provided on the optical paths of the beams 21 and 22 having passed through the collimator lenses 2a and 2b. A beam splitter 5 for aligning the optical axes of the beams 21 and 22 emitted from 1a and 1b is provided. Optical path correction means 4a and 4b are provided corresponding to the prisms 3a and 3b, respectively, for rotating the prisms 3a and 3b to adjust the pitch of the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction to a predetermined interval. ing.
【0005】さらに、ビームスプリッタ5から感光ドラ
ム18に至るビーム21,22の光路上には、ビームス
プリッタ5から出射されたビーム21,22を副走査方
向に集光させるシリンドリカルレンズ6、シリンドリカ
ルレンズ6の集光点近傍に偏向面25を持ち2つのビー
ム21,22を同時に偏向する偏向器7、偏向器7によ
って偏向されたビーム21,22を感光ドラム18の被
走査面18aに集光して走査する走査レンズ系8、ビー
ム21,22を被走査面18aに導くミラー19が順次
配置されている。Further, on the optical path of the beams 21 and 22 from the beam splitter 5 to the photosensitive drum 18, a cylindrical lens 6 and a cylindrical lens 6 for condensing the beams 21 and 22 emitted from the beam splitter 5 in the sub-scanning direction. A deflector 7 having a deflecting surface 25 in the vicinity of the light condensing point and deflecting the two beams 21 and 22 at the same time. The beams 21 and 22 deflected by the deflector 7 are condensed on the surface 18a to be scanned of the photosensitive drum 18. A scanning lens system 8 for scanning and a mirror 19 for guiding the beams 21 and 22 to the surface to be scanned 18a are sequentially arranged.
【0006】ビームスプリッタ5から偏向面25とは別
の方向に出射されるビーム21,22の光路上の偏向面
25と光学的に等価な位置には、各ビーム21,22の
副走査方向のピッチ間隔を検出するセンサ部10が配置
されている。このセンサ部10は、第1の光源1aから
のビーム21を合わせるための2分割センサ11と、第
2の光源1bからのビーム22を合わせるための2分割
センサ12とで構成されており、各ビーム21,22は
それぞれ対応する2分割センサの境界、つまり2分割セ
ンサ11の受光面13と受光面14との間、および2分
割センサ12の受光面15と受光面16との間に照射さ
れるようにプリズム3a,3bによって位置合わせがさ
れる。なお、2分割センサ11,12は、被走査面18
aで所定のピッチになる量だけ相互に副走査方向にずれ
て固定されている。At positions optically equivalent to the deflecting surface 25 on the optical path of the beams 21 and 22 emitted from the beam splitter 5 in a direction different from the deflecting surface 25, the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction are arranged. A sensor unit 10 for detecting a pitch interval is provided. The sensor unit 10 includes a two-divided sensor 11 for matching the beam 21 from the first light source 1a and a two-divided sensor 12 for matching the beam 22 from the second light source 1b. The beams 21 and 22 are respectively applied to the boundaries between the corresponding two-split sensors, that is, between the light receiving surfaces 13 and 14 of the two-split sensor 11 and between the light receiving surfaces 15 and 16 of the two-split sensor 12. Thus, the alignment is performed by the prisms 3a and 3b. Note that the two-divided sensors 11 and 12 are
In FIG. 2, the pixels are fixed to each other in the sub-scanning direction by an amount corresponding to a predetermined pitch.
【0007】偏向器7によって走査されたビーム21,
22の主走査方向の同期をとるために、同期検出器9が
配置されている。そして、この同期検出器9によって、
所定時間のタイミングをもって画像データに対応したビ
ーム21,22の照射が各光源1a,1bの駆動回路2
3,24によって行われる。また、センサ部10からの
信号を基にプリズム3aを回動させ、各ビーム21,2
2の副走査方向のビームピッチを制御する制御回路17
が設けられている。そして、感光ドラム18以外の部材
は、ハウジング20内に収容されている。The beam 21 scanned by the deflector 7
In order to synchronize the main scanning direction 22, a synchronization detector 9 is provided. And, by this synchronization detector 9,
Irradiation of the beams 21 and 22 corresponding to the image data at the timing of a predetermined time is performed by the driving circuit 2 of each of the light sources 1a and 1b.
3, 24. Further, the prism 3a is rotated based on a signal from the sensor unit 10, and the beams 21 and
2 a control circuit 17 for controlling the beam pitch in the sub-scanning direction
Is provided. Members other than the photosensitive drum 18 are accommodated in the housing 20.
【0008】以上のように構成されたビーム走査装置に
ついて、以下、その動作について説明する。The operation of the beam scanning device having the above-described configuration will be described below.
【0009】マルチビームのビーム走査装置では、同時
に走査する2つのビーム21,22の副走査方向の間隔
を数十μmに保つことが大きな課題であり、当該走査装
置にはそれを達成する手段が盛り込まれている。これ
は、2つのビーム21,22を光学系の組み立て時に所
定のビームピッチとなるように合せたとしても、経時変
化や装置取り付け後のユニットの変形や歪み等でビーム
ピッチのずれを生じやすいので、組み立て後にビームピ
ッチを補正する必要があるからである。In a multi-beam beam scanning apparatus, it is a major problem to keep the interval between two beams 21 and 22 scanning simultaneously in the sub-scanning direction at several tens of μm, and the scanning apparatus has a means for achieving this. It is included. This is because even if the two beams 21 and 22 are adjusted so as to have a predetermined beam pitch at the time of assembling the optical system, the beam pitch is easily shifted due to a change with time, deformation or distortion of the unit after the device is mounted. This is because it is necessary to correct the beam pitch after assembly.
【0010】図6における第1の光源1aおよび第2の
光源1bからそれぞれ発光されたビーム21,22は、
コリメータレンズ2a,2bによって平行ビームに調整
される。次に、各ビーム21,22はプリズム3a,3
bによって光路が変更され、副走査方向のピッチが所定
の間隔に合わせられる。The beams 21 and 22 emitted from the first light source 1a and the second light source 1b in FIG.
The beam is adjusted to a parallel beam by the collimator lenses 2a and 2b. Next, the beams 21 and 22 are converted into prisms 3a and 3
The optical path is changed by b, and the pitch in the sub-scanning direction is adjusted to a predetermined interval.
【0011】プリズム3a,3bを透過したそれぞれの
ビーム21,22は、ビームスプリッタ5によって光軸
が合わされ、シリンドリカルレンズ6で副走査方向に集
光される。このように集光されるのは、偏向器7の有す
る偏向面25が各面によって僅かな傾き(以下、「面倒
れ」という。)を有するため、偏向面25と被走査面1
8aとに光学的な共役関係を持たせ、面倒れの影響を緩
和するためである。そして、偏向面25と被走査面18
aが副走査方向に共役関係であるため、偏向面25での
2つのビームピッチは走査レンズ系8の副走査方向の倍
率で被走査面18aに投影される。したがって、偏向面
25での2つのビームピッチを制御することで、被走査
面18aでのビームピッチを補正することができる。The beams 21 and 22 transmitted through the prisms 3a and 3b have their optical axes aligned by a beam splitter 5, and are condensed by a cylindrical lens 6 in the sub-scanning direction. The light is condensed in this manner because the deflecting surface 25 of the deflector 7 has a slight inclination depending on each surface (hereinafter, referred to as “surface tilt”).
This is for imparting an optical conjugate relationship with 8a to mitigate the effects of surface tilt. Then, the deflection surface 25 and the scanned surface 18
Since a has a conjugate relationship in the sub-scanning direction, the two beam pitches on the deflection surface 25 are projected onto the surface to be scanned 18a at the magnification of the scanning lens system 8 in the sub-scanning direction. Therefore, by controlling the two beam pitches on the deflection surface 25, the beam pitch on the scanned surface 18a can be corrected.
【0012】ここで、ビーム21,22の副走査方向の
位置合わせについて説明する。前述のように、各ビーム
21,22の副走査位置を検出するセンサ部10が、ビ
ームスプリッタ5から偏向面25方向とは別の方向に出
射されるビーム21,22の光路上の偏向面25と光学
的に等価な位置に設けられている。また、センサ部10
は2分割センサ11と2分割センサ12とで構成され、
各ビーム21,22はそれぞれ対応する2分割センサの
境界に位置合せがされる。さらに、2分割センサ11と
2分割センサ12は副走査方向にずれて固定されてい
る。Here, the positioning of the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction will be described. As described above, the sensor unit 10 that detects the sub-scanning position of each of the beams 21 and 22 is provided on the deflecting surface 25 on the optical path of the beams 21 and 22 emitted from the beam splitter 5 in a direction different from the direction of the deflecting surface 25. It is provided at a position optically equivalent to. The sensor unit 10
Is composed of a two-divided sensor 11 and a two-divided sensor 12,
Each of the beams 21 and 22 is aligned with the boundary of the corresponding two-part sensor. Further, the two-split sensor 11 and the two-split sensor 12 are fixed to be shifted in the sub-scanning direction.
【0013】このようなセンサ部10を用いて第1の光
源1aからのビーム21を2分割センサ11に位置合せ
するには、まず、駆動回路23により第1の光源1aの
みを駆動して、2分割センサ11にビーム21を照射す
る。このとき、受光面13の光量に対する出力と受光面
14の光量に対する出力とが同レベルになるように制御
回路17の信号によりプリズム3aを回動させ、第1の
光源1aのビーム21の光路を副走査方向に変更する。In order to align the beam 21 from the first light source 1a with the two-divided sensor 11 using such a sensor section 10, first, only the first light source 1a is driven by the drive circuit 23, The beam 21 is applied to the two-divided sensor 11. At this time, the prism 3a is rotated by the signal of the control circuit 17 so that the output for the light amount of the light receiving surface 13 and the output for the light amount of the light receiving surface 14 are at the same level, and the optical path of the beam 21 of the first light source 1a is changed. Change to the sub scanning direction.
【0014】ここで、2分割センサを用いてビーム位置
を合せる際におけるビーム位置と受光面出力との関係を
図7に示す。FIG. 7 shows the relationship between the beam position and the output of the light receiving surface when the beam position is adjusted using the two-split sensor.
【0015】図7(a)に示すように、ビーム21が受
光面13側にある場合は、受光面13からの出力レベル
は受光面14に比べて高くなり、受光面13からみた受
光面14との出力差はプラスの値となって表れる。反対
に、図7(c)に示すように、ビーム21が受光面14
側にある場合は、受光面14の出力レベルは受光面13
に比べて高くなり、受光面13からみた受光面14との
出力差はマイナスの値となって表れる。したがって、受
光面13,14の出力レベル差から現在のビーム位置と
ビーム移動方向が判断できるので、制御回路17によっ
て光路補正手段4aを制御しながらプリズム3aを回動
させる。As shown in FIG. 7A, when the beam 21 is on the light receiving surface 13, the output level from the light receiving surface 13 is higher than that on the light receiving surface 14, and the light receiving surface 14 is viewed from the light receiving surface 13. And the output difference is a positive value. On the contrary, as shown in FIG.
Side, the output level of the light receiving surface 14 is
And the output difference from the light receiving surface 14 as viewed from the light receiving surface 13 appears as a negative value. Therefore, the current beam position and beam moving direction can be determined from the difference in output level between the light receiving surfaces 13 and 14, and the prism 3a is rotated while the control circuit 17 controls the optical path correcting means 4a.
【0016】プリズム3aによる光路の変更は、副走査
方向にプリズム3aの角度を振ることで偏向面25での
ビーム21の副走査方向の位置を変化させることによ
る。そして、図7(b)に示すように、受光面13と受
光面14の出力レベルが同じになった時点でプリズム3
aの回動を停止する。このとき、ビーム21の中心は受
光面13,14の境界に合わされる。以上のようにプリ
ズム3aを回動して第1の光源1aからのビーム位置を
所定の位置に補正する。The change of the optical path by the prism 3a is performed by changing the position of the beam 21 on the deflection surface 25 in the sub-scanning direction by changing the angle of the prism 3a in the sub-scanning direction. Then, as shown in FIG. 7B, when the output levels of the light receiving surface 13 and the light receiving surface 14 become the same, the prism 3
The rotation of a is stopped. At this time, the center of the beam 21 is aligned with the boundary between the light receiving surfaces 13 and 14. As described above, the position of the beam from the first light source 1a is corrected to a predetermined position by rotating the prism 3a.
【0017】第2の光源1bからのビーム22も、第1
の光源1aのビーム21の光路補正と同様な動作を行っ
て2分割センサ12の受光面15,16の境界に合わせ
る。The beam 22 from the second light source 1b is also
The same operation as in the optical path correction of the beam 21 of the light source 1a is performed to match the boundary between the light receiving surfaces 15 and 16 of the two-divided sensor 12.
【0018】受光面13,14を有する2分割センサ1
1と受光面15,16を有する2分割センサ12は、所
定量(被走査面18aでのピッチ量)だけ副走査方向に
ずれた状態にあるので、この調整によって被走査面18
aを走査する2つのビーム21,22は適正な間隔とな
る(図8参照)。Two-split sensor 1 having light receiving surfaces 13 and 14
1 and the two-divided sensor 12 having the light receiving surfaces 15 and 16 are displaced in the sub-scanning direction by a predetermined amount (the pitch amount on the surface to be scanned 18a).
The two beams 21 and 22 for scanning a have an appropriate interval (see FIG. 8).
【0019】このような各ビーム21,22のビームピ
ッチを合せるための光路補正は、ビーム21,22が被
走査面18aを実走査する前に行われる。例えば、この
ビーム走査装置をレーザプリンタの書き込みに用いた場
合には、印字開始信号が入力され、偏向器7の回転が安
定する時間内に行われる。Such an optical path correction for adjusting the beam pitch of each of the beams 21 and 22 is performed before the beams 21 and 22 actually scan the scanned surface 18a. For example, when this beam scanning device is used for writing in a laser printer, a printing start signal is input, and the printing is performed within a time period in which the rotation of the deflector 7 is stabilized.
【0020】2つのビーム21,22の光路補正が終了
してビームピッチが所定の間隔になったならば、被走査
面18aへ画像データに対応したビーム照射が行われ
る。なお、前述のように、印字開始信号が入力されて偏
向器7の駆動が安定し、他の画像形成に関するユニット
(OPCユニット、現像器、定着器等)の条件が整った
後、このような被走査面18aへのビーム照射が始ま
る。When the optical path correction of the two beams 21 and 22 is completed and the beam pitch becomes a predetermined interval, the beam irradiation corresponding to the image data is performed on the scanned surface 18a. As described above, after the printing start signal is input, the driving of the deflector 7 is stabilized, and after the conditions of other units related to image formation (OPC unit, developing unit, fixing unit, etc.) are set, such a condition is satisfied. Beam irradiation on the scanned surface 18a starts.
【0021】偏向器7によって走査される2つのビーム
21,22は、画像領域を走査する手前の位置に設けら
れた同期検出器9によって主走査方向の同期がとられ、
所定時間のタイミングをもって画像データに対応した光
照射が各光源1a,1bの駆動回路23,24によって
行われる。被走査面18aは副走査方向に移動するた
め、被走査面18a上には2つのビーム21,22での
光照射による二次元の画像が形成される。そして、ビー
ムピッチが適正な間隔になっているため、図9(a)に
示すように、均一な画像が得られる。なお、比較例とし
て、ビームピッチがズレている場合の画像を図9(b)
に示す。The two beams 21 and 22 scanned by the deflector 7 are synchronized in the main scanning direction by a synchronization detector 9 provided at a position before scanning the image area.
Light irradiation corresponding to the image data is performed by the drive circuits 23 and 24 of the light sources 1a and 1b at a predetermined time. Since the scanned surface 18a moves in the sub-scanning direction, a two-dimensional image is formed on the scanned surface 18a by light irradiation with the two beams 21 and 22. Since the beam pitch is at an appropriate interval, a uniform image can be obtained as shown in FIG. As a comparative example, an image when the beam pitch is shifted is shown in FIG.
Shown in
【0022】以上のように、マルチビームの走査光学系
によれば、2つのビーム21,22により被走査面18
a上に画像を形成しているので、1つのビーム走査に比
べて高速あるいは高解像度のビーム走査を行うことがで
きる。As described above, according to the multi-beam scanning optical system, the surface 18 to be scanned is
Since an image is formed on a, high-speed or high-resolution beam scanning can be performed as compared with one beam scanning.
【0023】[0023]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の構成では、2つのビームピッチを調整する
ために、それぞれのビーム21,22の光路中に光路補
正手段4a,4bを設ける必要があるので、装置がコス
トアップする。However, in the conventional configuration as described above, it is necessary to provide optical path correction means 4a and 4b in the optical paths of the beams 21 and 22 in order to adjust the two beam pitches. As a result, the cost of the apparatus increases.
【0024】また、光路補正手段4a,4bの取り付け
スペースが必要になるため、光学系のレイアウト設計の
自由度が制限される。Further, since a space for mounting the optical path correcting means 4a and 4b is required, the degree of freedom in designing the layout of the optical system is limited.
【0025】さらに、2つのビームピッチを調整するた
めに多くのセンサが必要になるので、この点でも装置が
コストアップする。Further, since a large number of sensors are required to adjust the two beam pitches, the cost of the apparatus also increases in this respect.
【0026】そこで、本発明は、2つのビームの副走査
方向のビームピッチ補正を単一の光路補正手段で単一の
センサを用いて行うことのできるビーム走査装置を提供
することを目的とする。Accordingly, it is an object of the present invention to provide a beam scanning device capable of performing beam pitch correction of two beams in the sub-scanning direction with a single optical path correcting means using a single sensor. .
【0027】[0027]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明のビーム走査装置は、ビームを照射する2つ
の光源と、光源を独立に駆動してビームを照射する2つ
の駆動回路と、光源から照射されたそれぞれのビームに
対応して設置され、これらのビームを平行光にする2つ
のコリメータレンズと、コリメータレンズから出射した
それぞれのビームに対応して設置され、これらのビーム
を副走査方向に集光する2つのシリンドリカルレンズ
と、何れか一方のシリンドリカルレンズを副走査方向に
移動させて当該シリンドリカルレンズを通過する側のビ
ームの光路を補正する光路補正手段と、シリンドリカル
レンズから出射した2つのビームの光軸を一致させるビ
ームスプリッタと、ビームスプリッタから出射した2つ
のビームのシリンドリカルレンズの集光点近傍に偏向面
を有し、これらのビームを偏向する偏向器と、偏向器で
偏向された2つのビームを被走査面で走査させる走査レ
ンズ系と、2つのビームの主走査方向の同期を検出する
同期検出器と、ビームスプリッタから偏向面とは異なる
方向に出射された2つのビームの光路上に設けられ、こ
れらのビームの出力レベルを検出するセンサ部と、ビー
ムスプリッタとセンサ部との間で偏向面と光学的に等価
な位置に設置され、ビームスプリッタからセンサ部に向
かう2つのビームを遮光するナイフエッジと、光路補正
手段により光路補正されない側のビームの出力レベルに
基づいて適正なビームピッチでの他方のビームの閾値を
求め、求められた閾値にこの他方のビームの出力レベル
がなるように光路補正手段を介してシリンドリカルレン
ズを移動させる制御手段とを備えたものである。In order to solve this problem, a beam scanning apparatus according to the present invention comprises two light sources for irradiating a beam, and two driving circuits for independently driving the light sources to irradiate the beam. Are installed corresponding to the respective beams emitted from the light source, are provided with two collimator lenses for converting these beams into parallel light, and are installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lens. Two cylindrical lenses that converge in the scanning direction, an optical path correcting unit that moves one of the cylindrical lenses in the sub-scanning direction to correct the optical path of the beam passing through the cylindrical lens, and light emitted from the cylindrical lens. A beam splitter that matches the optical axes of two beams, and a cylinder of two beams emitted from the beam splitter A deflector having a deflecting surface near the focal point of the cull lens and deflecting these beams, a scanning lens system for scanning the two beams deflected by the deflector on the surface to be scanned, and main scanning of the two beams A synchronization detector that detects synchronization of directions, a sensor unit that is provided on an optical path of two beams emitted from the beam splitter in directions different from the deflection surface, and detects output levels of these beams, and a beam splitter. A knife edge that is installed at a position optically equivalent to the deflecting surface between the sensor unit and shields two beams from the beam splitter toward the sensor unit, and the output level of the beam that is not optical path corrected by the optical path correction unit. A threshold value of the other beam at an appropriate beam pitch is obtained based on the calculated value, and the threshold value is set via the optical path correcting means so that the output level of the other beam becomes equal to the obtained threshold value. It is obtained by a control means for moving the command helical lens.
【0028】これにより、2つのビームの副走査方向の
ビームピッチ補正を単一の光路補正手段で単一のセンサ
を用いて行うことが可能になる。This makes it possible to correct the beam pitch of the two beams in the sub-scanning direction with a single optical path correcting means using a single sensor.
【0029】[0029]
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、ビームを照射する2つの光源と、光源を独立に駆動
してビームを照射する2つの駆動回路と、光源から照射
されたそれぞれのビームに対応して設置され、これらの
ビームを平行光にする2つのコリメータレンズと、コリ
メータレンズから出射したそれぞれのビームに対応して
設置され、これらのビームを副走査方向に集光する2つ
のシリンドリカルレンズと、何れか一方のシリンドリカ
ルレンズを副走査方向に移動させて当該シリンドリカル
レンズを通過する側のビームの光路を補正する光路補正
手段と、シリンドリカルレンズから出射した2つのビー
ムの光軸を一致させるビームスプリッタと、ビームスプ
リッタから出射した2つのビームのシリンドリカルレン
ズの集光点近傍に偏向面を有し、これらのビームを偏向
する偏向器と、偏向器で偏向された2つのビームを被走
査面で走査させる走査レンズ系と、2つのビームの主走
査方向の同期を検出する同期検出器と、ビームスプリッ
タから偏向面とは異なる方向に出射された2つのビーム
の光路上に設けられ、これらのビームの出力レベルを検
出するセンサ部と、ビームスプリッタとセンサ部との間
で偏向面と光学的に等価な位置に設置され、ビームスプ
リッタからセンサ部に向かう2つのビームを遮光するナ
イフエッジと、光路補正手段により光路補正されない側
のビームの出力レベルに基づいて適正なビームピッチで
の他方のビームの閾値を求め、求められた閾値にこの他
方のビームの出力レベルがなるように光路補正手段を介
してシリンドリカルレンズを移動させる制御手段とを備
えたビーム走査装置であり、一方のビームのみを光路補
正手段で副走査方向に移動可能としておき、副走査方向
に移動できないビームの出力レベルをセンサ部で検出し
て、この出力レベルから求められた適正なビームピッチ
での閾値に副走査方向に移動可能なビームの光路を補正
して出力レベルを調整しているので、2つのビームの副
走査方向のビームピッチ補正を単一の光路補正手段で単
一のセンサを用いて行うことが可能になるという作用を
有する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to the first aspect of the present invention, two light sources for irradiating a beam, two driving circuits for independently driving the light sources to irradiate a beam, and a light source for irradiating a beam are provided. Two collimator lenses are installed corresponding to the respective beams and collimate these beams, and are installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lenses, and collect these beams in the sub-scanning direction. Two cylindrical lenses, an optical path correcting means for moving one of the cylindrical lenses in the sub-scanning direction to correct the optical path of a beam passing through the cylindrical lens, and an optical axis of the two beams emitted from the cylindrical lens And a beam splitter for matching the two beams emitted from the beam splitter near the focal point of the cylindrical lens. A deflector for deflecting these beams, a scanning lens system for scanning the two beams deflected by the deflector on the surface to be scanned, and a synchronous detection for detecting the synchronization of the two beams in the main scanning direction A beam splitter, a sensor section provided on an optical path of two beams emitted in directions different from the deflection surface from the beam splitter, and detecting an output level of these beams; and a deflection surface between the beam splitter and the sensor section. And a knife edge for blocking two beams from the beam splitter toward the sensor unit, and a beam pitch at an appropriate beam pitch based on the output level of the beam that is not optical path corrected by the optical path correction unit. The threshold value of the other beam is obtained, and the cylindrical lens is moved via the optical path correction means so that the output level of the other beam becomes equal to the obtained threshold value. A beam scanning device provided with a control unit, wherein only one of the beams is movable in the sub-scanning direction by an optical path correcting unit, and an output level of the beam that cannot be moved in the sub-scanning direction is detected by a sensor unit. Since the output level is adjusted by correcting the optical path of the beam movable in the sub-scanning direction to the threshold at the appropriate beam pitch determined from the level, the beam pitch correction of the two beams in the sub-scanning direction can be performed in a single unit. This has the effect that the optical path correction means can be performed using a single sensor.
【0030】本発明の請求項2に記載の発明は、請求項
1記載の発明において、制御手段は、複数のビームピッ
チに対応して設定された複数の閾値の中から、選択され
たビームピッチに対応した閾値に他方のビームの出力レ
ベルがなるように光路補正手段を介してシリンドリカル
レンズを移動させるビーム走査装置であり、センサを新
たに追加したり新規センサを作製することなく、閾値の
選択だけでビームピッチを任意の距離に設定することが
可能になるという作用を有する。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the control means selects a beam pitch selected from a plurality of thresholds set corresponding to the plurality of beam pitches. This is a beam scanning device that moves a cylindrical lens via an optical path correction unit so that the output level of the other beam becomes the threshold value corresponding to the threshold value, and the selection of the threshold value without adding a new sensor or manufacturing a new sensor. This has the effect that the beam pitch can be set to an arbitrary distance by just using this.
【0031】本発明の請求項3に記載の発明は、ビーム
を照射する2つの光源と、光源を独立に駆動してビーム
を照射する2つの駆動回路と、光源から照射されたそれ
ぞれのビームに対応して設置され、これらのビームを平
行光にする2つのコリメータレンズと、コリメータレン
ズから出射したそれぞれのビームに対応して設置され、
これらのビームを副走査方向に集光する2つのシリンド
リカルレンズと、何れか一方のシリンドリカルレンズを
副走査方向に移動させて当該シリンドリカルレンズを通
過する側のビームの光路を補正する光路補正手段と、シ
リンドリカルレンズから出射した2つのビームの光軸を
一致させるビームスプリッタと、ビームスプリッタから
出射した2つのビームのシリンドリカルレンズの集光点
近傍に偏向面を有し、これらのビームを偏向する偏向器
と、偏向器で偏向された2つのビームを被走査面で走査
させる走査レンズ系と、2つのビームの主走査方向の同
期を検出する同期検出器と、偏向面と光学的に等価な位
置においてビームの副走査方向に対して傾斜して設置さ
れ、ビームスプリッタから偏向面とは異なる方向に出射
された2つのビームの出力レベルを検出するライン状の
位置センサと、光路補正手段を介してシリンドリカルレ
ンズを移動させ、光路補正手段により光路補正されない
側のビームとの間が適正なビームピッチになるように他
方のビームの光路を補正する制御手段とを備えたビーム
走査装置であり、副走査方向に移動できないビームの絶
対位置を高分解能で検出し、この検出位置に対して他方
のビーム位置を副走査方向に移動してビームピッチを調
整しているので、2つのビームの副走査方向のビームピ
ッチ補正を単一の光路補正手段で単一のセンサを用いて
行うことが可能になるという作用を有する。According to a third aspect of the present invention, there are provided two light sources for irradiating a beam, two driving circuits for independently driving the light sources to irradiate the beam, and Two collimator lenses that are installed correspondingly to make these beams parallel, and are installed corresponding to each beam emitted from the collimator lens,
Two cylindrical lenses for condensing these beams in the sub-scanning direction, and optical path correction means for moving one of the cylindrical lenses in the sub-scanning direction and correcting the optical path of the beam passing through the cylindrical lens, A beam splitter for matching the optical axes of the two beams emitted from the cylindrical lens, a deflector having a deflection surface near the converging point of the cylindrical lens for the two beams emitted from the beam splitter, and deflecting these beams; A scanning lens system that scans the two beams deflected by the deflector on the surface to be scanned, a synchronization detector that detects synchronization of the two beams in the main scanning direction, and a beam at a position optically equivalent to the deflection surface. Two beams emitted from the beam splitter in a direction different from the deflecting surface. A linear position sensor that detects the output level of the other beam and the cylindrical lens are moved via the optical path correction means, and the other beam is adjusted so that an appropriate beam pitch is set between the beam on the side not optical path corrected by the optical path correction means. Control means for correcting the optical path of the beam, detects the absolute position of the beam that cannot be moved in the sub-scanning direction with high resolution, and moves the other beam position in the sub-scanning direction with respect to this detected position. Since the beam pitch is adjusted in such a manner, the beam pitch of the two beams in the sub-scanning direction can be corrected by a single optical path correction unit using a single sensor.
【0032】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図5を用いて説明する。なお、これらの図面におい
て同一の部材には同一の符号を付しており、また、重複
した説明は省略されている。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. In these drawings, the same members are denoted by the same reference numerals, and duplicate description is omitted.
【0033】図1は本発明の一実施の形態であるビーム
走査装置を示す説明図、図2は図1のビーム走査装置に
おける光路補正手段の構成を示す平面図、図3はナイフ
エッジとビームの位置によるセンサ出力レベルの一例を
示す説明図、図4は複数の閾値とそれに対応するビーム
位置を示す説明図、図5は本発明の一実施の形態におけ
る位置センサの取り付け状態を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a beam scanning device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing the structure of an optical path correcting means in the beam scanning device shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a sensor output level depending on the position of the sensor, FIG. 4 is an explanatory diagram showing a plurality of threshold values and corresponding beam positions, and FIG. 5 is an explanatory diagram showing an attached state of a position sensor according to an embodiment of the present invention. It is.
【0034】図1に示すように、本実施の形態における
走査装置には、第1の光源1aを駆動してビーム21を
照射させる駆動回路23、および第2の光源1bを駆動
してビーム22を照射させる駆動回路24がそれぞれ設
けられている。そして、第1の光源1aからのビーム2
1と第2の光源1bからのビーム22が照射されること
により、一様に帯電された感光ドラム18の被走査面1
8aに静電潜像が形成される。第1の光源1aに対応し
てコリメータレンズ2aが、また第2の光源1bに対応
してコリメータレンズ2bがそれぞれ配置されており、
各光源1a,1bからのビーム21,22はこれらのコ
リメータレンズ2a,2bにより平行光にされる。As shown in FIG. 1, the scanning device according to the present embodiment includes a driving circuit 23 for driving the first light source 1a to irradiate the beam 21, and a driving circuit 23 for driving the second light source 1b. Are provided, respectively. Then, the beam 2 from the first light source 1a
Irradiated with the beam 22 from the first and second light sources 1b, the scanned surface 1 of the uniformly charged photosensitive drum 18
An electrostatic latent image is formed on 8a. A collimator lens 2a is arranged corresponding to the first light source 1a, and a collimator lens 2b is arranged corresponding to the second light source 1b.
The beams 21 and 22 from the respective light sources 1a and 1b are collimated by the collimator lenses 2a and 2b.
【0035】コリメータレンズ2a,2bを経たビーム
21,22の光路上には、ビーム21,22を副走査方
向に集光させるシリンドリカルレンズ6、それぞれの光
源1a,1bから出射されたビーム21,22の光軸を
合わせるビームスプリッタ5が設置されている。また、
シリンドリカルレンズ6bに対応して、このシリンドリ
カルレンズ6bを副走査方向に移動させて第2の光源1
bから出射されたビーム22の副走査方向の補正を行う
光路補正手段33が設けられている。On the optical path of the beams 21 and 22 having passed through the collimator lenses 2a and 2b, a cylindrical lens 6 for condensing the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction, and the beams 21 and 22 emitted from the respective light sources 1a and 1b. Is provided. Also,
The second light source 1 is moved by moving the cylindrical lens 6b in the sub-scanning direction in accordance with the cylindrical lens 6b.
An optical path correction unit 33 that corrects the beam 22 emitted from b in the sub-scanning direction is provided.
【0036】さらに、ビームスプリッタ5から感光ドラ
ム18に至るビーム21,22の光路上には、偏向面2
5を持って2つのビーム21,22を同時に偏向する偏
向器7、偏向器7によって偏向されたビーム21,22
を感光ドラム18の被走査面18aに集光して走査する
走査レンズ系8、ビーム21,22を被走査面18aに
導くミラー19が順次配置されている。Further, on the optical path of the beams 21 and 22 from the beam splitter 5 to the photosensitive drum 18, a deflection surface 2 is provided.
5 that deflects the two beams 21 and 22 at the same time, and the beams 21 and 22 deflected by the deflector 7
A scanning lens system 8 for condensing the light on a scanned surface 18a of the photosensitive drum 18 and scanning the same, and a mirror 19 for guiding the beams 21 and 22 to the scanned surface 18a are sequentially arranged.
【0037】ビームスプリッタ5から偏向面25とは別
の方向に出射されるビーム21,22の光路上には、各
ビーム21,22の副走査方向のピッチ間隔を検出する
センサ部10が配置されている。このセンサ部10は、
ビーム21,22の位置を検出するフォトセンサ31に
より構成されている。ビームスプリッタ5とセンサ部1
0との間で偏向面25と光学的に等価な位置には、ビー
ムスプリッタ5からセンサ部10に向かう所定位置のビ
ーム21,22を遮光するナイフエッジ32が配置され
ている。On the optical path of the beams 21 and 22 emitted from the beam splitter 5 in a direction different from that of the deflection surface 25, a sensor unit 10 for detecting a pitch interval between the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction is arranged. ing. This sensor unit 10
It comprises a photo sensor 31 for detecting the positions of the beams 21 and 22. Beam splitter 5 and sensor unit 1
At a position optically equivalent to the deflection surface 25 between 0 and 0, a knife edge 32 that shields the beams 21 and 22 at predetermined positions from the beam splitter 5 toward the sensor unit 10 is disposed.
【0038】偏向器7によって走査されたビーム21,
22の主走査方向の同期をとるために、同期検出器9が
配置されている。そして、この同期検出器9によって、
所定時間のタイミングをもって画像データに対応したビ
ーム21,22の照射が行われる。また、センサ部10
からの信号を基に光路補正手段33を駆動してビーム2
2の副走査方向の制御を行う光路補正手段制御回路(制
御手段)34が設けられている。そして、感光ドラム1
8以外の部材は、ハウジング20内に収容されている。The beam 21 scanned by the deflector 7
In order to synchronize the main scanning direction 22, a synchronization detector 9 is provided. And, by this synchronization detector 9,
Irradiation of the beams 21 and 22 corresponding to the image data is performed at a timing of a predetermined time. The sensor unit 10
The optical path correction means 33 is driven based on the signal from
An optical path correction means control circuit (control means) 34 for controlling the sub-scanning direction is provided. And the photosensitive drum 1
The members other than 8 are accommodated in the housing 20.
【0039】図2に示すように、シリンドリカルレンズ
6bを副走査方向に移動させてビーム22の副走査方向
の補正を行う光路補正手段33は、シリンドリカルレン
ズ6bが固定されたレンズホルダ56を有している。こ
のレンズホルダ56にはベース52に掛け渡されて副走
査方向に延びるシャフト55およびガイドシャフト58
が貫通している。そして、レンズホルダ56はシャフト
55およびガイドシャフト58に摺動自在に装着されて
いる。As shown in FIG. 2, the optical path correction means 33 for correcting the beam 22 in the sub-scanning direction by moving the cylindrical lens 6b in the sub-scanning direction has a lens holder 56 to which the cylindrical lens 6b is fixed. ing. A shaft 55 and a guide shaft 58, which extend over the base 52 and extend in the sub-scanning direction,
Is penetrating. The lens holder 56 is slidably mounted on the shaft 55 and the guide shaft 58.
【0040】シャフト55はベース52に回転自在に取
り付けられている。また、シャフト55には所定の長さ
にわたってネジ部59が形成されており、このネジ部5
9がレンズホルダ56のシャフト貫通位置に形成された
ネジ部と嵌合している。The shaft 55 is rotatably attached to the base 52. A screw portion 59 is formed on the shaft 55 over a predetermined length.
9 is fitted with a screw portion formed at a position where the lens holder 56 passes through the shaft.
【0041】ベース52にはステッピングモータ51、
このステッピングモータ51の軸に取り付けられたウオ
ームギア53、ウオームギア53と噛み合うウオームホ
イール54が設けられており、ウオームホイール54は
シャフト55と噛み合っている。したがって、ステッピ
ングモータ51が回転すると、ウオームホイール54に
よってシャフト55が回転することになる。すると、こ
のシャフト55の回転によって、シリンドリカルレンズ
6bを保持しているレンズホルダ56がガイドシャフト
58に沿って副走査方向に移動する。The base 52 has a stepping motor 51,
A worm gear 53 attached to the shaft of the stepping motor 51 and a worm wheel 54 meshing with the worm gear 53 are provided, and the worm wheel 54 meshes with a shaft 55. Therefore, when the stepping motor 51 rotates, the shaft 55 is rotated by the worm wheel 54. Then, by the rotation of the shaft 55, the lens holder 56 holding the cylindrical lens 6b moves in the sub-scanning direction along the guide shaft 58.
【0042】以上のように構成されたビーム走査装置に
ついて、以下、その動作について説明する。The operation of the beam scanning device configured as described above will be described below.
【0043】第1の光源1aおよび第2の光源1bから
それぞれ発光されたビーム21,22は、コリメータレ
ンズ2a,2bによって平行ビームに調整される。次
に、ビーム21,22はシリンドリカルレンズ6a,6
bによって副走査方向に集光される。なお、このときビ
ーム22は光路補正手段33により副走査方向のピッチ
が調整されるが、詳しい内容は後述する。The beams 21 and 22 emitted from the first light source 1a and the second light source 1b, respectively, are adjusted to parallel beams by the collimator lenses 2a and 2b. Next, the beams 21 and 22 are transmitted to the cylindrical lenses 6a and 6
The light is focused in the sub-scanning direction by b. At this time, the pitch of the beam 22 in the sub-scanning direction is adjusted by the optical path correction unit 33, and the details will be described later.
【0044】シリンドリカルレンズ6a,6bを透過し
た各ビーム21,22は、ビームスプリッタ5によって
光軸が合わされた後、同期検出器9によって主走査方向
の同期がとられる。これにより、所定時間のタイミング
をもって画像データに対応した光照射が各光源1a,1
bの駆動回路23,24によって行われ、被走査面18
a上にビーム21,22による二次元の画像が形成され
る。After the beams 21 and 22 transmitted through the cylindrical lenses 6a and 6b have their optical axes aligned by the beam splitter 5, they are synchronized by the synchronization detector 9 in the main scanning direction. Thus, the light irradiation corresponding to the image data is performed at the timing of the predetermined time by each of the light sources 1a and 1a.
b is performed by the drive circuits 23 and 24 of the scanning surface 18.
A two-dimensional image is formed on beam a by beams 21 and 22.
【0045】次に、ビーム21,22の副走査方向への
ピッチ合わせについて説明をする。2つのビーム21,
22のピッチは、偏向面25でビーム21,22のピッ
チを適正な間隔に調整することで合わせられる。そし
て、副走査方向のビーム22の光路の変更は、偏向面の
面倒れ補整を行うシリンドリカルレンズ6bを光路補正
手段3により副走査方向に移動させることで行われる。Next, the pitch adjustment of the beams 21 and 22 in the sub-scanning direction will be described. Two beams 21,
The pitch of 22 is adjusted by adjusting the pitch of the beams 21 and 22 on the deflection surface 25 to an appropriate interval. The optical path of the beam 22 in the sub-scanning direction is changed by moving the cylindrical lens 6b for compensating the surface tilt of the deflecting surface in the sub-scanning direction by the optical path correcting means 3.
【0046】先ず最初に、基準となる光路補正をしない
固定されたビーム21の位置を検知する。すなわち、第
1の光源1aの駆動回路23により第1の光源1aのビ
ーム21を発光させると、このビーム21はコリメータ
レンズ2a、シリンドリカルレンズ6a、ビームスプリ
ッタ5を透過し、偏向面25に向かう成分とセンサ部1
0へ向かう成分とに分離される。偏向面25に向かうビ
ーム21は被走査面18aに光照射として用いられ、セ
ンサ部10に向かうビーム21は各光源1a,1bから
のビーム位置を検出するためにフォトセンサ31に導か
れる。フォトセンサ31とビームスプリッタ5との間に
は、ビーム合せの基準となるナイフエッジ32が設けら
れている。そして、第1の光源1aからのビーム21の
一部あるいは全部がナイフエッジ32によって遮られる
と、フォトセンサ31に到達する光量はその遮光量によ
って変化する。First, the position of the fixed beam 21 which is not subjected to optical path correction as a reference is detected. That is, when the beam 21 of the first light source 1a is emitted by the drive circuit 23 of the first light source 1a, the beam 21 passes through the collimator lens 2a, the cylindrical lens 6a, and the beam splitter 5, and is directed toward the deflection surface 25. And sensor part 1
It is separated into a component going to zero. The beam 21 directed to the deflecting surface 25 is used for irradiating the scanned surface 18a with light, and the beam 21 directed to the sensor unit 10 is guided to the photosensor 31 in order to detect the beam position from each of the light sources 1a and 1b. A knife edge 32 is provided between the photosensor 31 and the beam splitter 5 as a reference for beam alignment. When part or all of the beam 21 from the first light source 1a is blocked by the knife edge 32, the amount of light reaching the photo sensor 31 changes depending on the amount of light blocking.
【0047】ここで、図3に示すように、ビーム21の
全体がナイフエッジ32によって遮光されているビーム
位置(a)ではセンサ出力は低い。また、ビーム21の
中心がナイフエッジ32の端部にかかって半分程度遮光
されているビーム位置(b)では、最大出力の約半分程
度のセンサ出力になる。そして、ビーム21がナイフエ
ッジ32に遮光されていないビーム位置(c)では、セ
ンサ出力は最大を示す。このように、ナイフエッジ32
の近傍にビーム21の中心が近づくとセンサ出力は急激
に変化する。よって、ナイフエッジ32の近傍では、ナ
イフエッジ32とビーム21との関係を高い精度で検出
することができる。したがって、ナイフエッジ32とビ
ーム21との位置関係による光量が前もってバックデー
タとして得られれば、そのデータからビーム21の位置
を検出することができることになる。このようにして、
フォトセンサ31のセンサ出力から、第1の光源1aよ
り照射された固定のビーム21のナイフエッジ32に対
するビーム位置が得られる。Here, as shown in FIG. 3, the sensor output is low at the beam position (a) where the entire beam 21 is shielded by the knife edge 32. Further, at a beam position (b) where the center of the beam 21 is shielded about half of the edge of the knife edge 32, the sensor output is about half of the maximum output. At the beam position (c) where the beam 21 is not shielded by the knife edge 32, the sensor output indicates the maximum. Thus, the knife edge 32
When the center of the beam 21 approaches the vicinity, the sensor output sharply changes. Therefore, in the vicinity of the knife edge 32, the relationship between the knife edge 32 and the beam 21 can be detected with high accuracy. Therefore, if the light amount based on the positional relationship between the knife edge 32 and the beam 21 is obtained in advance as the back data, the position of the beam 21 can be detected from the data. In this way,
From the sensor output of the photo sensor 31, the beam position of the fixed beam 21 emitted from the first light source 1a with respect to the knife edge 32 is obtained.
【0048】この得られたビーム21のビーム位置から
第2の光源1bのビーム22のナイフエッジ32に対す
る位置、つまり適正なビームピッチが算出されるので、
そのビーム22の位置における光量(閾値)が決定され
る。なお、この処理は位置に関するバックデータを基に
ソフト的に行ってもよく、ハード的に行ってもよい。但
し、本発明はナイフエッジ32に遮光されたビーム2
1,22のフォトセンサ31における光量でビーム位置
を判断するようにしているため、ビームピッチを合せる
ビーム出力パワーは一定にしておかなけれはらない。From the obtained beam position of the beam 21, the position of the beam 22 of the second light source 1b with respect to the knife edge 32, that is, an appropriate beam pitch is calculated.
The light quantity (threshold) at the position of the beam 22 is determined. This processing may be performed by software based on the back data relating to the position, or may be performed by hardware. However, in the present invention, the beam 2 shielded by the knife edge 32 is used.
Since the beam position is determined based on the amount of light in the photosensors 31 and 22, the beam output power for adjusting the beam pitch must be kept constant.
【0049】次に、光路を補整するビーム22のセンサ
部10での閾値が決定されたならば、第1の光源1aか
らのビーム発光を停止させ、第2の光源1bからのビー
ム22を発光させる。第2の光源1bからのビーム22
は、第1の光源1aのビーム21の位置から決定された
閾値になるように、光路補正手段制御回路34からの信
号に従って光路補正手段33によってシリンドリカルレ
ンズ6bを副走査方向に移動させてビーム位置を調整す
る。Next, when the threshold value of the beam 22 for correcting the optical path in the sensor unit 10 is determined, the emission of the beam from the first light source 1a is stopped, and the emission of the beam 22 from the second light source 1b is performed. Let it. Beam 22 from second light source 1b
Is obtained by moving the cylindrical lens 6b in the sub-scanning direction by the optical path correcting means 33 in accordance with a signal from the optical path correcting means control circuit 34 so that the beam position becomes the threshold determined from the position of the beam 21 of the first light source 1a. To adjust.
【0050】ここで、光路補正手段33はステッピング
モータ51の1ステップでビーム22の副走査方向の移
動量が約1μm程度になるように減速している。そし
て、ステッピングモータ51は光路補正手段制御回路3
4からの信号により駆動される。また、光路補正手段3
3は光路補正の刻み量が細かくなるようにステッピング
モータ51の減速比が大きくなっており、さらに、低ト
ルク駆動できるウオームギア53とウオームホイール5
4との組合せが採用されている。これにより、ステッピ
ングモータ51が回転すると、ウオームホイール54に
よってシャフト55が回転する。すると、シャフト55
とネジにて嵌合してシリンドリカルレンズ6bを保持し
ているレンズホルダ56は、ガイドシャフト58に沿っ
て副走査方向に移動する。シリンドリカルレンズ6bに
入射する平行光はシリンドリカルレンズ6bの副走査方
向に対する光軸にビームを集光するため、シリンドリカ
ルレンズ6bを副走査方向に移動させるとその動きに伴
ってビーム22の位置が副走査方向に移動する。そし
て、偏向面25と被走査面18aとは副走査方向に関し
て光学的に共役関係になっているため、偏向面25での
ビームピッチを所定の間隔に合わせると被走査面18a
でのビームピッチが合わせられることになる。例えば、
副走査方向の倍率が−0.5倍、ステッピングモータ5
1のステップ角が18a度、減速比が1/25、ネジ部
59とレンズホルダ56側のネジのピッチを0.5mm
とすると、ステッピング51での1ステップで被走査面
18a上でのビーム移動の刻み量ΔPは、 ΔP=|0.5/(25×20)×(−0.5)|=
0.5μm となる。Here, the optical path correcting means 33 decelerates the beam 22 in the sub-scanning direction in one step by the stepping motor 51 so that the moving amount in the sub-scanning direction becomes about 1 μm. The stepping motor 51 is connected to the optical path correction means control circuit 3.
4 is driven by the signal from. Also, the optical path correction means 3
Reference numeral 3 denotes a worm gear 53 and a worm wheel 5 which have a large reduction ratio of the stepping motor 51 so that the step size of the optical path correction becomes small.
4 is employed. Thus, when the stepping motor 51 rotates, the worm wheel 54 rotates the shaft 55. Then, the shaft 55
The lens holder 56 which holds the cylindrical lens 6b by fitting with the screw moves in the sub-scanning direction along the guide shaft 58. The parallel light incident on the cylindrical lens 6b focuses the beam on the optical axis in the sub-scanning direction of the cylindrical lens 6b. Therefore, when the cylindrical lens 6b is moved in the sub-scanning direction, the position of the beam 22 is moved along the sub-scanning direction. Move in the direction. Since the deflecting surface 25 and the scanned surface 18a are optically conjugate with each other in the sub-scanning direction, if the beam pitch on the deflecting surface 25 is adjusted to a predetermined interval, the scanned surface 18a
The beam pitch at is adjusted. For example,
The magnification in the sub-scanning direction is -0.5, and the stepping motor 5
The step angle of 1 is 18a degrees, the reduction ratio is 1/25, and the pitch between the screw portion 59 and the screw on the lens holder 56 side is 0.5 mm.
Then, in one step in the stepping 51, the step amount ΔP of the beam movement on the scanned surface 18a is ΔP = | 0.5 / (25 × 20) × (−0.5) | =
0.5 μm.
【0051】次に光路補正手段33におけるビームの補
正制御について説明する。補正制御の一例として、光路
補正を行うビームの設定された閾値よりセンサ出力が高
い場合をHレベル、低い場合をLレベルとする二値制御
がある。Next, the beam correction control in the optical path correction means 33 will be described. As an example of the correction control, there is binary control in which the H level is set when the sensor output is higher than a set threshold value of the beam for which the optical path correction is performed, and the L level is set when the sensor output is lower than the set threshold value.
【0052】ビームの補正制御では、光路補正手段33
を制御しながらビーム22をセンサ出力レベルの変る方
向に向けて移動させる。そして、センサ出力レベルが変
化した時点でビーム22の移動を停止する。In the beam correction control, the optical path correction means 33
, The beam 22 is moved in the direction in which the sensor output level changes. Then, when the sensor output level changes, the movement of the beam 22 is stopped.
【0053】ここで、センサ部10、光路補正手段制御
回路34の発振防止のためのヒステリシス、光路補正手
段33のギア、ネジ部のあそび等により、Hレベルから
Lレベルに変わる点で位置合わせを行ったときとLレベ
ルからHレベルに変わる点で位置合わせを行った時とで
は位置的な差を生じる。このような場合には、常にレベ
ルの変わる方向を固定することで位置的な差をなくすこ
とができる。例えば、位置合わせを行うときには、必ず
HレベルからLレベルへのレベル変化する時点で行うよ
うにする。センサ出力がHレベルである場合はそのまま
Lレベルに変わる点で位置を決定し、センサ出力がLレ
ベルの場合は、一度Hレベルの位置までビーム22を移
動させた後、HレベルからLレベルに変化する点でビー
ム移動の停止を行う。このような制御をすると、常に安
定したビーム22の補正を行うことができる。Here, the alignment is performed at a point where the level changes from the H level to the L level due to hysteresis for preventing oscillation of the sensor unit 10 and the optical path correction means control circuit 34, the gear of the optical path correction means 33, and the play of the screw part. There is a positional difference between when the alignment is performed and when the alignment is performed at the point where the level changes from the L level to the H level. In such a case, it is possible to eliminate the positional difference by always fixing the direction in which the level changes. For example, when performing the alignment, it is always performed at the time when the level changes from the H level to the L level. If the sensor output is at the H level, the position is determined at the point where the sensor output changes to the L level. If the sensor output is at the L level, the beam 22 is once moved to the H level position, and then the beam 22 is changed from the H level to the L level. The beam movement is stopped at the changing point. With such control, stable correction of the beam 22 can be always performed.
【0054】ビーム22の補正が終了した時点でステッ
ピングモータ51の通電を切る。これは、ステッピング
モータ51を常に通電しておくと、ステッピングモータ
51からの発熱が生じて光学系内部のレンズ系や部品等
が熱的なダメージを受け、光学性能が劣化する恐れがあ
るからである。なお、本実施の形態のようにウオームギ
ア53とウオームホイール54を用いた構成にすれば、
ウオームギア53を有するステッピングモータ51は回
転しにくくなるので、ステッピングモータ51を常にプ
ルアップの状態にしておかなくてもビーム22の光路精
度への影響は小さい。そして、このようにすることで、
ビーム22の位置を精度よく制御することができる。When the correction of the beam 22 is completed, the power supply to the stepping motor 51 is stopped. This is because if the stepping motor 51 is always energized, heat is generated from the stepping motor 51, and the lens system and components inside the optical system may be thermally damaged and the optical performance may be degraded. is there. If the worm gear 53 and the worm wheel 54 are used as in this embodiment,
Since the stepping motor 51 having the worm gear 53 is hard to rotate, the influence on the optical path accuracy of the beam 22 is small even if the stepping motor 51 is not always pulled up. And by doing this,
The position of the beam 22 can be controlled accurately.
【0055】次に、ビームピッチの設定について説明す
る。ビーム走査装置で副走査方向の解像度を300DP
Iと600DPIに切り替えを行う場合、2つのビーム
21,22のピッチを切り替える必要がある。Next, the setting of the beam pitch will be described. 300DP resolution in sub-scanning direction with beam scanning device
When switching between I and 600 DPI, it is necessary to switch the pitch of the two beams 21 and 22.
【0056】そして、ビームピッチが300DPI固定
のビーム走査装置では、これを600DPIとして用い
る場合、1つのビームを用いて被走査面18aの移動速
度を300DPIときの1/4の速度に落とすか、ある
いはビームの1走査当たりの速度を4倍(偏向器の偏向
速度)にせざるを得ない。したがって、2つのビームの
うちの1つのビームしか用いることができず、マルチビ
ーム光学系のメリットを生かすことができない。In a beam scanning device having a fixed beam pitch of 300 DPI, when the beam scanning device is used at 600 DPI, one beam is used to reduce the moving speed of the scanned surface 18 a to 1 / of the speed at 300 DPI, or The speed per scan of the beam must be quadrupled (deflection speed of the deflector). Therefore, only one of the two beams can be used, and the advantage of the multi-beam optical system cannot be utilized.
【0057】これに対し、本ビーム走査装置では、30
0DPIと600DPIのビームピッチが選択可能にな
っており、2つのビームを用いて被走査面18aの移動
速度を1/2に落とすか、あるいはビームの1走査当た
りの速度を2倍をすることで常に2つのビームでの走査
が行え、マルチビーム走査光学系のメリットを生かすこ
とができるようになっている。そして、ビームピッチの
切り替えは、光路補正を行うビーム22の閾値を複数持
たせ、その中から所定のピッチに対応する閾値を選択す
ることで行われるようになっている。On the other hand, in the present beam scanning device, 30
A beam pitch of 0 DPI or 600 DPI can be selected, and by using two beams, the moving speed of the surface 18a to be scanned is reduced to half, or the speed of the beam per scanning is doubled. Scanning can always be performed with two beams, and the advantages of the multi-beam scanning optical system can be utilized. The switching of the beam pitch is performed by providing a plurality of threshold values of the beam 22 for performing the optical path correction and selecting a threshold value corresponding to a predetermined pitch from the threshold values.
【0058】ここで、図4に示すように、光路補正され
ないビーム21のセンサ出力がL0となっている。した
がって、光路補正されないビーム21の位置はPos0
となる。Here, as shown in FIG. 4, the sensor output of the beam 21 whose optical path is not corrected is L0. Therefore, the position of the beam 21 whose optical path is not corrected is Pos0.
Becomes
【0059】ここで、ビーム22の位置を300DPI
にするには、Pos0からP1離れたPos1に合せれ
ばよい。ビーム位置とセンサ出力との関係は前もってバ
ックデータと蓄えられているため、Pos1での閾値に
相当するセンサ出力はL1となる。よって、ビーム22
は光路補正手段33により閾値Aに合わせられる。同様
に、600DPIを選択した場合には、光路補正されな
いビーム21に対して光路補正を行うビーム22はセン
サ出力L2の閾値Bが用いられ、Pos2の位置に補正
される。このようにビームピッチに対応した閾値を設定
しておけば、所望のビームピッチに対応した閾値を選択
するだけでビームピッチを自由に切り替えることができ
る。Here, the position of the beam 22 is set to 300 DPI.
In order to make it equal to Pos1, which is P1 away from Pos0. Since the relationship between the beam position and the sensor output is stored in advance as back data, the sensor output corresponding to the threshold value at Pos1 is L1. Therefore, beam 22
Is adjusted to the threshold value A by the optical path correcting means 33. Similarly, when 600 DPI is selected, the beam 22 that performs optical path correction on the beam 21 that has not undergone optical path correction is corrected to the position Pos2 using the threshold value B of the sensor output L2. By setting the threshold value corresponding to the beam pitch in this way, the beam pitch can be freely switched simply by selecting the threshold value corresponding to the desired beam pitch.
【0060】そして、単に閾値の選択でビームピッチの
切り替えが可能になるので、センサを新たに追加した
り、新規センサを作製する必要がない。また、センサ部
10でのビームを主走査方向に長くし、追加したセンサ
にビームが照射するように細工する必要もない。Since the beam pitch can be switched simply by selecting the threshold value, it is not necessary to add a new sensor or manufacture a new sensor. In addition, it is not necessary to lengthen the beam in the sensor unit 10 in the main scanning direction and to make a work so that the beam is irradiated to the added sensor.
【0061】ここで、ナイフエッジ32を用いることな
く、センサ部10にライン状のCCDあるいはPSD等
の位置センサを副走査方向に対し傾けて取り付けること
で、各ビームの絶対位置を直接読み取るようにしてもよ
い。Here, without using the knife edge 32, a linear position sensor such as a CCD or PSD is attached to the sensor unit 10 at an angle to the sub-scanning direction so that the absolute position of each beam can be directly read. You may.
【0062】ナイフエッジ32を用いた場合では、2つ
のビーム21,22の位置はナイフエッジ32との相対
距離で検出される。これに対し、位置センサを取り付け
れば、2つのビーム位置を直接検出することでビームピ
ッチを補正することが可能になる。なお、汎用のCCD
やPSDの位置検出に関係する1画素の大きさあるいは
精度は約10μmであり、ビームピッチ間隔の検出に対
してそのまま用いたのでは位置検出精度が粗い。そこ
で、ライン状の位置センサを副走査方向に対して傾け設
置すれば、疑似的に副走査方向の1画素の大きさが小さ
くなって精度が上がる。When the knife edge 32 is used, the positions of the two beams 21 and 22 are detected based on the relative distance from the knife edge 32. On the other hand, if a position sensor is attached, the beam pitch can be corrected by directly detecting two beam positions. A general-purpose CCD
The size or accuracy of one pixel related to the position detection of the PSD or PSD is about 10 μm, and the position detection accuracy is rough if used as it is for the detection of the beam pitch interval. Therefore, if the line-shaped position sensor is installed obliquely with respect to the sub-scanning direction, the size of one pixel in the sub-scanning direction is reduced in a pseudo manner, thereby increasing the accuracy.
【0063】図5に示すように、ライン状の位置センサ
61は、複数の画素62が一列に配置された構造となっ
ている。なお、位置センサ61でのビーム63の形状
は、偏向面の面倒れ補正するために、副走査方向のみに
絞られた横長の線状となっている。As shown in FIG. 5, the linear position sensor 61 has a structure in which a plurality of pixels 62 are arranged in a line. The shape of the beam 63 at the position sensor 61 is a horizontally long linear shape narrowed only in the sub-scanning direction in order to correct the tilt of the deflection surface.
【0064】図5(a)に示すように、ライン状の位置
センサ61を副走査方向にそのまま設置すると、副走査
方向のビーム径を100μmとした場合、位置センサ6
1では約10の画素62でビーム63が受光される。す
ると、ビーム63の位置をこの10の画素62の信号か
ら判断しなければならない。一方、図5(b)に示すよ
うに、ライン状の位置センサ61を副走査方向に対して
たとえば30度傾けて設置した場合、位置センサ61の
約20の画素62でビーム63を受光することになり、
ビーム63の位置を検出する精度を上げることができ
る。なお、位置センサ61でのビーム63は主走査方向
には2〜5mm程度の長さがあるので、位置センサ61
を大きく傾けてもピッチ合わせの範囲でビーム63を受
光することができる。As shown in FIG. 5A, when the line-shaped position sensor 61 is installed in the sub-scanning direction as it is, when the beam diameter in the sub-scanning direction is 100 μm, the position sensor 6
In 1, the beam 63 is received by about ten pixels 62. Then, the position of the beam 63 must be determined from the signals of the ten pixels 62. On the other hand, as shown in FIG. 5B, when the line-shaped position sensor 61 is installed at an angle of, for example, 30 degrees with respect to the sub-scanning direction, about 20 pixels 62 of the position sensor 61 receive the beam 63. become,
The accuracy of detecting the position of the beam 63 can be improved. The beam 63 from the position sensor 61 has a length of about 2 to 5 mm in the main scanning direction.
Can be received in the range of the pitch adjustment even if the angle is greatly inclined.
【0065】このようにすれば、2つのビームのピッチ
合わせは、光路補正しないビームの絶対位置を位置セン
サ61により検知し、光路補正されるビームが所定の絶
対位置に来るように光路補正手段33を用いて補正を行
うことができる。なお、この場合でも、複数のビームピ
ッチから選択した所望のビームピッチに合せるようにす
ることもできる。With this arrangement, the pitch adjustment of the two beams is performed by detecting the absolute position of the beam whose optical path is not to be corrected by the position sensor 61 and adjusting the optical path correcting means 33 so that the beam whose optical path is to be corrected comes to the predetermined absolute position. Can be used for correction. In this case, it is also possible to match the desired beam pitch selected from a plurality of beam pitches.
【0066】[0066]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、一方の
ビームのみを光路補正手段で副走査方向に移動可能とし
ておき、副走査方向に移動できないビームの出力レベル
をセンサ部で検出して、この出力レベルから求められた
適正なビームピッチでの閾値に副走査方向に移動可能な
ビームの光路を補正して出力レベルを調整しているの
で、2つのビームの副走査方向のビームピッチ補正を単
一の光路補正手段で単一のセンサを用いて行うことが可
能になるという有効な効果が得られる。As described above, according to the present invention, only one beam is made movable in the sub-scanning direction by the optical path correcting means, and the output level of the beam that cannot be moved in the sub-scanning direction is detected by the sensor unit. Since the output level is adjusted by correcting the optical path of the beam movable in the sub-scanning direction to the threshold at the appropriate beam pitch determined from this output level, the beam pitch of the two beams in the sub-scanning direction is adjusted. There is an effective effect that the correction can be performed by a single optical path correction unit using a single sensor.
【0067】また、本発明によれば、センサを新たに追
加したり新規センサを作製することなく、閾値の選択だ
けでビームピッチを任意の距離に設定することが可能に
なるという有効な効果が得られる。Further, according to the present invention, there is an effective effect that the beam pitch can be set to an arbitrary distance only by selecting the threshold without adding a new sensor or manufacturing a new sensor. can get.
【0068】さらに、本発明によれば、副走査方向に移
動できないビームの絶対位置を高分解能で検出し、この
検出位置に対して他方のビーム位置を副走査方向に移動
してビームピッチを調整しているので、2つのビームの
副走査方向のビームピッチ補正を単一の光路補正手段で
単一のセンサを用いて行うことが可能になるという有効
な効果が得られる。Further, according to the present invention, the absolute position of a beam that cannot be moved in the sub-scanning direction is detected with high resolution, and the other beam position is moved in the sub-scanning direction with respect to this detected position to adjust the beam pitch. Therefore, an effective effect is obtained that the beam pitch correction of the two beams in the sub-scanning direction can be performed by a single optical path correction unit using a single sensor.
【0069】このような発明によれば、光路補正手段や
センサの設置数を削減することができるので、低コスト
で光学系のコンパクト化を図ることのできるビーム走査
装置を得ることが可能になるという有効な効果が得られ
る。According to the present invention, the number of optical path correction means and sensors can be reduced, so that it is possible to obtain a beam scanning device capable of reducing the size of the optical system at low cost. That is, an effective effect is obtained.
【図1】本発明の一実施の形態であるビーム走査装置を
示す説明図FIG. 1 is an explanatory diagram showing a beam scanning device according to an embodiment of the present invention;
【図2】図1のビーム走査装置における光路補正手段の
構成を示す平面図FIG. 2 is a plan view showing a configuration of an optical path correcting unit in the beam scanning device of FIG.
【図3】ナイフエッジとビームの位置によるセンサ出力
レベルの一例を示す説明図FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a sensor output level according to a knife edge and a beam position.
【図4】複数の閾値とそれに対応するビーム位置を示す
説明図FIG. 4 is an explanatory diagram showing a plurality of thresholds and beam positions corresponding thereto.
【図5】本発明の一実施の形態における位置センサの取
り付け状態を示す説明図FIG. 5 is an explanatory view showing an attached state of the position sensor according to the embodiment of the present invention;
【図6】従来のビーム走査装置を示す説明図FIG. 6 is an explanatory view showing a conventional beam scanning device.
【図7】2分割センサを用いてビーム位置を合せる際に
おけるビーム位置と受光面出力との関係を示す説明図FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship between a beam position and a light receiving surface output when a beam position is adjusted using a two-division sensor.
【図8】2つのビームのビームピッチを示す説明図FIG. 8 is an explanatory diagram showing a beam pitch of two beams.
【図9】(a)はビームピッチが適正な間隔である場合
の印字画像を、(b)はビームピッチがズレている場合
の印字画像をそれぞれ示す説明図9A is an explanatory diagram showing a printed image when the beam pitch is at an appropriate interval, and FIG. 9B is an explanatory diagram showing a printed image when the beam pitch is shifted.
1a 光源(第1の光源) 1b 光源(第2の光源) 2a,2b コリメータレンズ 5 ビームスプリッタ 6a,6b シリンドリカルレンズ 7 偏向器 8 走査レンズ系 9 同期検出器 10 センサ部 21 ビーム 22 ビーム 23,24 駆動回路 25 偏向面 32 ナイフエッジ 33 光路補正手段 34 光路補正手段制御回路(制御手段) 61 位置センサ 63 ビーム 1a Light source (first light source) 1b Light source (second light source) 2a, 2b Collimator lens 5 Beam splitter 6a, 6b Cylindrical lens 7 Deflector 8 Scanning lens system 9 Synchronous detector 10 Sensor unit 21 Beam 22 Beam 23, 24 Drive circuit 25 Deflection surface 32 Knife edge 33 Optical path correction means 34 Optical path correction means control circuit (control means) 61 Position sensor 63 Beam
Claims (3)
回路と、 前記光源から照射されたそれぞれのビームに対応して設
置され、これらのビームを平行光にする2つのコリメー
タレンズと、 前記コリメータレンズから出射したそれぞれのビームに
対応して設置され、これらのビームを副走査方向に集光
する2つのシリンドリカルレンズと、 何れか一方の前記シリンドリカルレンズを副走査方向に
移動させて当該シリンドリカルレンズを通過する側のビ
ームの光路を補正する光路補正手段と、 前記シリンドリカルレンズから出射した2つのビームの
光軸を一致させるビームスプリッタと、 前記ビームスプリッタから出射した2つのビームの前記
シリンドリカルレンズの集光点近傍に偏向面を有し、こ
れらのビームを偏向する偏向器と、 前記偏向器で偏向された2つのビームを被走査面で走査
させる走査レンズ系と、 2つのビームの主走査方向の同期を検出する同期検出器
と、 前記ビームスプリッタから前記偏向面とは異なる方向に
出射された2つのビームの光路上に設けられ、これらの
ビームの出力レベルを検出するセンサ部と、 前記ビームスプリッタと前記センサ部との間で前記偏向
面と光学的に等価な位置に設置され、前記ビームスプリ
ッタから前記センサ部に向かう2つのビームを遮光する
ナイフエッジと、 前記光路補正手段により光路補正されない側のビームの
出力レベルに基づいて適正なビームピッチでの他方のビ
ームの閾値を求め、求められた閾値にこの他方のビーム
の出力レベルがなるように前記光路補正手段を介して前
記シリンドリカルレンズを移動させる制御手段とを備え
たことを特徴とするビーム走査装置。1. Two light sources for irradiating a beam, two driving circuits for independently driving the light source to irradiate a beam, and installed in correspondence with each of the beams emitted from the light source. Two collimator lenses for collimating beams, two cylindrical lenses installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lens, and condensing these beams in the sub-scanning direction; Optical path correction means for moving the cylindrical lens in the sub-scanning direction to correct the optical path of the beam passing through the cylindrical lens; a beam splitter for matching the optical axes of the two beams emitted from the cylindrical lens; A deflecting surface is provided near the converging point of the cylindrical lens of the two beams emitted from the splitter. A deflector that deflects these beams, a scanning lens system that scans the two beams deflected by the deflector on a surface to be scanned, a synchronization detector that detects synchronization of the two beams in the main scanning direction, A sensor unit that is provided on an optical path of two beams emitted from the beam splitter in directions different from the deflection surface, and detects an output level of these beams; and a sensor unit between the beam splitter and the sensor unit. Appropriate based on a knife edge that is installed at a position optically equivalent to the deflecting surface and blocks two beams from the beam splitter toward the sensor unit, and an output level of a beam that is not optical path corrected by the optical path correction unit. A threshold value of the other beam at a proper beam pitch is obtained, and the output level of the other beam is set to the determined threshold value via the optical path correcting means so that the output level of the other beam becomes equal to the threshold value. And a control means for moving the cylindrical lens.
応して設定された複数の閾値の中から、選択されたビー
ムピッチに対応した閾値に前記他方のビームの出力レベ
ルがなるように前記光路補正手段を介して前記シリンド
リカルレンズを移動させることを特徴とする請求項1記
載のビーム走査装置。2. The control device according to claim 1, wherein the control unit controls the output level of the other beam so that the output level of the other beam is equal to a threshold value corresponding to the selected beam pitch from a plurality of threshold values set corresponding to the plurality of beam pitches. 2. The beam scanning device according to claim 1, wherein the cylindrical lens is moved via an optical path correcting unit.
回路と、 前記光源から照射されたそれぞれのビームに対応して設
置され、これらのビームを平行光にする2つのコリメー
タレンズと、 前記コリメータレンズから出射したそれぞれのビームに
対応して設置され、これらのビームを副走査方向に集光
する2つのシリンドリカルレンズと、 何れか一方の前記シリンドリカルレンズを副走査方向に
移動させて当該シリンドリカルレンズを通過する側のビ
ームの光路を補正する光路補正手段と、 前記シリンドリカルレンズから出射した2つのビームの
光軸を一致させるビームスプリッタと、 前記ビームスプリッタから出射した2つのビームの前記
シリンドリカルレンズの集光点近傍に偏向面を有し、こ
れらのビームを偏向する偏向器と、 前記偏向器で偏向された2つのビームを被走査面で走査
させる走査レンズ系と、 2つのビームの主走査方向の同期を検出する同期検出器
と、 前記偏向面と光学的に等価な位置においてビームの副走
査方向に対して傾斜して設置され、前記ビームスプリッ
タから前記偏向面とは異なる方向に出射された2つのビ
ームの出力レベルを検出するライン状の位置センサと、 前記光路補正手段を介して前記シリンドリカルレンズを
移動させ、前記光路補正手段により光路補正されない側
のビームとの間が適正なビームピッチになるように他方
のビームの光路を補正する制御手段とを備えたことを特
徴とするビーム走査装置。3. Two light sources for irradiating a beam, two driving circuits for independently driving the light source to irradiate a beam, and installed in correspondence with each of the beams emitted from the light source. Two collimator lenses for collimating beams, two cylindrical lenses installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lens, and condensing these beams in the sub-scanning direction; Optical path correction means for moving the cylindrical lens in the sub-scanning direction to correct the optical path of the beam passing through the cylindrical lens; a beam splitter for matching the optical axes of two beams emitted from the cylindrical lens; A deflecting surface is provided near the converging point of the cylindrical lens of the two beams emitted from the splitter. A deflector that deflects these beams, a scanning lens system that scans the two beams deflected by the deflector on a surface to be scanned, a synchronization detector that detects synchronization of the two beams in the main scanning direction, A line that is installed at a position optically equivalent to the deflecting surface and is inclined with respect to the sub-scanning direction of the beam, and that detects an output level of two beams emitted from the beam splitter in a direction different from the deflecting surface. Shape sensor, and moving the cylindrical lens via the optical path correcting means, and correcting the optical path of the other beam so that the appropriate beam pitch is formed between the beam on which the optical path correcting means does not correct the optical path. A beam scanning device comprising:
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8085798A JPH11277793A (en) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | Beam scanner |
US09/276,766 US6163333A (en) | 1998-03-27 | 1999-03-26 | Multi-beam scanning optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8085798A JPH11277793A (en) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | Beam scanner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11277793A true JPH11277793A (en) | 1999-10-12 |
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ID=13730023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP8085798A Withdrawn JPH11277793A (en) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | Beam scanner |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11277793A (en) |
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1998
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