JP2000249946A - Multibeam scanner - Google Patents

Multibeam scanner

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Publication number
JP2000249946A
JP2000249946A JP5411199A JP5411199A JP2000249946A JP 2000249946 A JP2000249946 A JP 2000249946A JP 5411199 A JP5411199 A JP 5411199A JP 5411199 A JP5411199 A JP 5411199A JP 2000249946 A JP2000249946 A JP 2000249946A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical path
beams
knife edge
scanning
scanning direction
Prior art date
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Pending
Application number
JP5411199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Kamioka
誠 上岡
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5411199A priority Critical patent/JP2000249946A/en
Publication of JP2000249946A publication Critical patent/JP2000249946A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily adjust beam pitch. SOLUTION: This device is provided with cylindrical lenses 3a and 3b condensing beams 18 and 19 in a sub-scanning direction, an optical path correction means 14 correcting the optical path of the beam 19, a beam splitter 4 aligning the optical axes of the beams 18 and 19, a deflector 5 deflecting the beams 18 and 19, a sensor part 11 detecting the output levels of the beams 18 and 19, a knife edge 13 installed in the optical paths of the beams 18 and 19 between the splitter B and the sensor part 11 so as to shield the beams 18 and 19 advancing to the sensor part 11 from the splitter 4, a knife edge adjustment means 22 moving the edge 13 in the sub-scanning direction and an optical path correction driving means 15 controlling the actions of the correction means 14 and the adjustment means 22 based on the output of the sensor part 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数本のビームを
走査することで画像を形成する電子写真装置等のマルチ
ビーム走査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-beam scanning apparatus such as an electrophotographic apparatus for forming an image by scanning a plurality of beams.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、ビーム走査光学系は電子写真
プロセスおける画像書き込みとして用いられ、コンピュ
ータやファクシミリの出力装置であるレーザビームプリ
ンタ、レーザファクシミリ等に搭載されている。最近で
は高速、高解像度をさらに上げるために、複数のビーム
を走査するマルチビーム走査装置への要求が高まりつつ
ある。
2. Description of the Related Art Conventionally, a beam scanning optical system has been used for image writing in an electrophotographic process, and is mounted on a computer, a laser beam printer or a laser facsimile which is an output device of a facsimile. Recently, a demand for a multi-beam scanning device that scans a plurality of beams has been increasing in order to further increase the speed and the resolution.

【0003】以下に、マルチビームを走査する従来のマ
ルチビーム走査装置について説明する。ここで、図5は
従来のマルチビーム走査装置を示す概略図である。
Hereinafter, a conventional multi-beam scanning apparatus that scans a multi-beam will be described. Here, FIG. 5 is a schematic view showing a conventional multi-beam scanning device.

【0004】図5に示すように、第1の光源1aを駆動
してビーム18を照射させる駆動手段20、および第2
の光源1bを駆動してビーム19を照射させる駆動手段
21がそれぞれ設けられている。そして、第1の光源1
aからのビーム18と第2の光源1bからのビーム19
が照射されることにより、一様に帯電された感光ドラム
10の被走査面10aに静電潜像が形成される。
As shown in FIG. 5, a driving means 20 for driving a first light source 1a to irradiate a beam 18, and a second
A driving means 21 for driving the light source 1b to emit the beam 19 is provided. And the first light source 1
a from the light source a and the beam 19 from the second light source 1b
Is applied, an electrostatic latent image is formed on the scanned surface 10 a of the photosensitive drum 10 that is uniformly charged.

【0005】第1の光源1aに対応してコリメータレン
ズ2aが、また第2の光源1bに対応してコリメータレ
ンズ2bがそれぞれ配置されており、各光源1a,1b
からのビーム18,19はこれらのコリメータレンズ2
a,2bにより平行光にされる。
A collimator lens 2a is arranged corresponding to the first light source 1a, and a collimator lens 2b is arranged corresponding to the second light source 1b.
Beams 18 and 19 from these collimator lenses 2
The light is made parallel by a and 2b.

【0006】コリメータレンズ2a,2bを経たビーム
18,19の光路上には、各光源1a,1bからのビー
ム18,19を副走査方向に集光させるシリンドリカル
レンズ3a,3b、それぞれの光源1a,1bから出射
されたビーム18,19の光軸を合わせるビームスプリ
ッタ4が設置されている。また、シリンドリカルレンズ
3a,3bにそれぞれ対応して、各シリンドリカルレン
ズ3a,3bを回動させてビーム18,19の副走査方
向のピッチを所定の間隔に調整するための光路補正手段
14a,14bが設けられている。この光路補正手段1
4a,14bは光路補正駆動手段15により駆動され
る。
On the optical paths of the beams 18 and 19 passing through the collimator lenses 2a and 2b, cylindrical lenses 3a and 3b for condensing the beams 18 and 19 from the light sources 1a and 1b in the sub-scanning direction, and the light sources 1a and 3b, respectively. A beam splitter 4 for aligning the optical axes of the beams 18 and 19 emitted from 1b is provided. Also, corresponding to the cylindrical lenses 3a and 3b, optical path correcting means 14a and 14b for rotating the respective cylindrical lenses 3a and 3b to adjust the pitch of the beams 18 and 19 in the sub-scanning direction to a predetermined interval are provided. Is provided. This optical path correction means 1
4a and 14b are driven by the optical path correction driving means 15.

【0007】さらに、ビームスプリッタ4から感光ドラ
ム10に至るビーム18,19の光路上には、偏向面6
を持ち、2つのビーム18,19を同時に偏向する偏向
器5、偏向器5によって偏向されたビーム18,19を
感光ドラム10の被走査面10aに集光して走査する走
査レンズ系7、ビーム18,19を被走査面10aに導
くミラー8が順次配置されている。
Further, a deflection surface 6 is provided on the optical path of the beams 18 and 19 from the beam splitter 4 to the photosensitive drum 10.
A deflector 5 for simultaneously deflecting the two beams 18 and 19, a scanning lens system 7 for condensing the beams 18 and 19 deflected by the deflector 5 onto a surface 10a to be scanned of the photosensitive drum 10, and scanning the beam. Mirrors 8 for guiding the mirrors 18 and 19 to the surface to be scanned 10a are sequentially arranged.

【0008】ビームスプリッタ4から偏向面6とは別の
方向に出射されるビーム18,19の光路上の偏向面6
と光学的に等価な位置には、各ビーム18,19の副走
査方向のピッチ間隔を検出するセンサ部11が配置され
ている。このセンサ部11は、受光面16を有するフォ
トセンサ12を備えている。また、ビームスプリッタ4
とセンサ部11との光路間には、ビーム合わせの基準と
なるナイフエッジ13が配置されている。
The deflection surface 6 on the optical path of the beams 18 and 19 emitted from the beam splitter 4 in a direction different from that of the deflection surface 6
A sensor unit 11 that detects a pitch interval between the beams 18 and 19 in the sub-scanning direction is disposed at a position optically equivalent to the above. The sensor unit 11 includes a photo sensor 12 having a light receiving surface 16. In addition, the beam splitter 4
A knife edge 13 serving as a reference for beam alignment is arranged between the optical paths of the sensor 11 and the sensor unit 11.

【0009】偏向器5によって走査されたビーム18,
19の主走査方向の同期をとるために、同期検出器9が
配置されている。そして、この同期検出器9によって、
所定時間のタイミングをもって画像データに対応したビ
ーム18,19の照射が各光源1a,1bの駆動手段2
0,21によって行われる。
The beam 18, scanned by the deflector 5,
A synchronization detector 9 is arranged to synchronize the main scanning direction 19. And, by this synchronization detector 9,
Irradiation of the beams 18 and 19 corresponding to the image data at the timing of a predetermined time is performed by the driving unit 2 of each of the light sources 1a and 1b.
0,21.

【0010】そして、感光ドラム10以外の部材は、ハ
ウジング17内に収容されている。
[0010] Members other than the photosensitive drum 10 are housed in a housing 17.

【0011】以上のように構成されたマルチビーム走査
装置について、以下、その動作について説明する。
The operation of the multi-beam scanning device configured as described above will be described below.

【0012】先ず、被走査面10aに対するビーム走査
について説明する。
First, beam scanning on the scanned surface 10a will be described.

【0013】図5における第1の光源1aおよび第2の
光源1bからそれぞれ発光されたビーム18,19は、
コリメータレンズ2a,2bによって平行ビームに調整
される。次に、各ビーム18,19はシリンドリカルレ
ンズ3a,3bによって副走査方向に絞り込まれる。
The beams 18 and 19 emitted from the first light source 1a and the second light source 1b in FIG.
The beam is adjusted to a parallel beam by the collimator lenses 2a and 2b. Next, the beams 18 and 19 are narrowed down in the sub-scanning direction by the cylindrical lenses 3a and 3b.

【0014】そして、ビーム18,19はビームスプリ
ッタ4によって光軸が合わせられ、偏向器5で偏向され
る。偏向されたビーム18,19は、走査レンズ系7に
より感光ドラム10に集光され、被走査面10aを走査
する。
The beams 18 and 19 have their optical axes aligned by the beam splitter 4 and deflected by the deflector 5. The deflected beams 18 and 19 are condensed on the photosensitive drum 10 by the scanning lens system 7 and scan the scanned surface 10a.

【0015】被走査面10aを走査するビーム18,1
9は、印字領域の手前に設けられている同期検出器9を
通過することで印字領域における書き出しのタイミング
が取られる。そして、このタイミングを基にして画像デ
ータに対応したビーム照射が被走査面10aに行われ
る。
Beams 18, 1 for scanning the surface 10a to be scanned
9 passes the synchronization detector 9 provided in front of the print area, so that the timing of writing in the print area is set. Then, based on this timing, a beam irradiation corresponding to the image data is performed on the scanned surface 10a.

【0016】このようなマルチビーム走査装置は、同時
に走査する複数のビーム間隔、すなわち副走査方向のピ
ッチ(以下、「ビームピッチ」という。)を精度よく保
つことが重要である。
In such a multi-beam scanning apparatus, it is important to accurately maintain the interval between a plurality of beams scanned simultaneously, that is, the pitch in the sub-scanning direction (hereinafter, referred to as "beam pitch").

【0017】そして、このビームピッチは、走査装置の
組立時に所定の間隔に調整しておき、そのまま長期に渡
り保持することが望ましいが、装置そのものが経時変化
および環境変化を受けるなかで、ビームピッチだけを安
定的に保持することは難しい。そこで、定期的にビーム
ピッチの補正を行うことで、ビームピッチの精度を確保
する技術が提案されている。なお、既に説明した図5の
従来の技術もビームピッチを補正するタイプのマルチビ
ーム走査装置である。
It is desirable that the beam pitch is adjusted to a predetermined interval when assembling the scanning device, and that the beam pitch is maintained for a long period of time. It is difficult to keep only stable. Therefore, a technique has been proposed in which the beam pitch is periodically corrected to ensure the accuracy of the beam pitch. The conventional technique of FIG. 5 which has already been described is also a type of multi-beam scanning apparatus for correcting a beam pitch.

【0018】次に、従来のマルチビーム走査装置におけ
るビームピッチの調整について説明する。
Next, adjustment of the beam pitch in the conventional multi-beam scanning device will be described.

【0019】従来において、ビームピッチは、マルチビ
ーム走査装置を組み立てる際に、被走査面10aに設け
られたビームピッチ調整治具(図示せず)で予め調整さ
れる。そこで、先ず、マルチビーム走査装置組立時のビ
ームピッチの調整について説明する。
Conventionally, the beam pitch is adjusted in advance by a beam pitch adjusting jig (not shown) provided on the scanned surface 10a when assembling the multi-beam scanning device. Therefore, first, adjustment of the beam pitch when assembling the multi-beam scanning device will be described.

【0020】ハウジング17に必要な部品を組み込んだ
状態になった時点で、最初に第1の光源1aの駆動手段
20により第1の光源1aのビーム18を発光させる。
発光されたビーム18はコリメータレンズ2a、シリン
ドリカルレンズ3a、ビームスプリッタ4を順次透過
し、偏向器5の偏向面6に向かうビーム18とセンサ部
11へ向かうビーム18とに分離される。そして、偏向
面6に向かうビーム18は被走査面10aに光照射とし
て用いられ、センサ部11に向かうビーム18はビーム
ピッチ位置を検出するためにフォトセンサ12に導かれ
る。
When the necessary components are incorporated in the housing 17, first, the driving means 20 of the first light source 1a causes the beam 18 of the first light source 1a to emit light.
The emitted beam 18 sequentially passes through the collimator lens 2a, the cylindrical lens 3a, and the beam splitter 4, and is separated into a beam 18 toward the deflection surface 6 of the deflector 5 and a beam 18 toward the sensor unit 11. The beam 18 directed to the deflecting surface 6 is used as light for irradiating the scanned surface 10a, and the beam 18 directed to the sensor unit 11 is guided to the photosensor 12 to detect a beam pitch position.

【0021】フォトセンサ12の前方には、ビーム合わ
せの基準となるナイフエッジ13が偏向面6と光学的に
等価な位置に設けられている。そこで、光路補正駆動手
段15によってシリンドリカルレンズ3aを回動させて
第1の光源1aのビーム18を副走査方向に移動させ
る。
In front of the photosensor 12, a knife edge 13 serving as a reference for beam alignment is provided at a position optically equivalent to the deflection surface 6. Thus, the cylindrical lens 3a is rotated by the optical path correction driving means 15 to move the beam 18 of the first light source 1a in the sub-scanning direction.

【0022】ここで、図6は、シリンドリカルレンズ3
aにより第1の光源1aのビーム18を副走査方向に移
動させた様子を示す説明図である。
Here, FIG. 6 shows the cylindrical lens 3.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which a beam 18 of the first light source 1a is moved in the sub-scanning direction by a.

【0023】図6に示すように、シリンドリカルレンズ
3aに入射する平行光のビーム18はシリンドリカルレ
ンズ3aの光軸に集光される。ここで、シリンドリカル
レンズ3aを副走査方向(図6において、上下方向)に
移動させると、入射したビーム18は移動したシリンド
リカルレンズ3aの光軸に集光するため、偏向面6での
照射位置が変化される。このようにして、第1の光源1
aからのビーム18および第2の光源1bからのビーム
19を、それぞれ副走査方向について所定位置まで移動
させる。
As shown in FIG. 6, a parallel light beam 18 incident on the cylindrical lens 3a is focused on the optical axis of the cylindrical lens 3a. Here, when the cylindrical lens 3a is moved in the sub-scanning direction (vertical direction in FIG. 6), the incident beam 18 is focused on the optical axis of the moved cylindrical lens 3a, so that the irradiation position on the deflection surface 6 is changed. Be changed. Thus, the first light source 1
The beam 18 from a and the beam 19 from the second light source 1b are respectively moved to predetermined positions in the sub-scanning direction.

【0024】一方、センサ部11へ向かうビーム18
は、ナイフエッジ13によって遮られる。このため、ナ
イフエッジ13の後方にあるセンサ部11のフォトセン
サ12に到達するビーム18の光量が変化し、フォトセ
ンサ12からの出力レベルが変化する。
On the other hand, the beam 18 traveling to the sensor 11
Is blocked by the knife edge 13. Therefore, the light amount of the beam 18 reaching the photosensor 12 of the sensor unit 11 behind the knife edge 13 changes, and the output level from the photosensor 12 changes.

【0025】ここで、図7は、光路補正手段14a,1
4bにより光路補正されたビーム18,19の副走査方
向の位置とナイフエッジ13との位置関係によるセンサ
出力を示す説明図である。
FIG. 7 shows the optical path correcting means 14a, 1
FIG. 7 is an explanatory diagram showing sensor outputs based on the positional relationship between the positions of beams 18 and 19 in the sub-scanning direction, the optical paths of which are corrected by 4b, and the knife edge 13.

【0026】前述のようにナイフエッジ13とビーム1
8との位置関係によってフォトセンサ12の出力レベル
が変わるので、この出力レベルからナイフエッジ13と
ビーム18の副走査位置を知ることができる。
As described above, the knife edge 13 and the beam 1
Since the output level of the photosensor 12 changes depending on the positional relationship with the position 8, the sub-scanning positions of the knife edge 13 and the beam 18 can be known from this output level.

【0027】すなわち、ビーム18を移動させ、フォト
センサ12の出力レベルVaでビーム18の位置を決定
する。そして、この値を固定値にする。但し、ビーム1
9の所定値Vbの値を考慮する必要はある。なお、出力
レベルVaは任意の出力レベルでよい。これにより、当
該出力レベルVaでのナイフエッジ13とビーム18と
の相対位置が決まる。以上によって、ビーム18につい
ての位置の調整は完了する。
That is, the beam 18 is moved, and the position of the beam 18 is determined based on the output level Va of the photosensor 12. Then, this value is set to a fixed value. However, beam 1
It is necessary to consider the value of 9 predetermined value Vb. The output level Va may be any output level. Thus, the relative position between the knife edge 13 and the beam 18 at the output level Va is determined. Thus, the adjustment of the position of the beam 18 is completed.

【0028】次に、ビーム19の位置調整についても同
様な調整を行う。但し、第2の光源1bのビーム位置に
対応する出力レベルVbの決定は、ビーム19とビーム
18とのビームピッチが所定の間隔Lになったビーム位
置でのフォトセンサ12からの出力レベルVLに設定す
る。すなわち、前述したビームピッチ調整治具で決定し
たビーム18の位置を検出しておき、その位置からビー
ム19が間隔Lになるまで移動させたときの出力レベル
がVLであるとき、出力レベルVbは出力レベルVLの
値と等しくなる。したがって、出力レベルVbは調整で
得られる出力レベルVLに対応できるように、可変ボリ
ューム等の部品を用いて合わせられるようになってい
る。
Next, the position of the beam 19 is adjusted in the same manner. However, the output level Vb corresponding to the beam position of the second light source 1b is determined based on the output level VL from the photosensor 12 at the beam position where the beam pitch between the beam 19 and the beam 18 is at a predetermined interval L. Set. That is, when the position of the beam 18 determined by the above-described beam pitch adjusting jig is detected, and the output level when the beam 19 is moved from the position to the interval L is VL, the output level Vb becomes It becomes equal to the value of the output level VL. Therefore, the output level Vb can be adjusted using components such as a variable volume so as to correspond to the output level VL obtained by the adjustment.

【0029】被走査面10aでのビームピッチを直接み
て偏向面6でのビーム間隔が調整されるが、光学的には
次のような関係がある。ここで、図8は、副走査方向の
偏向面6と被走査面10aとの光学関係を示す説明図で
ある。
The beam interval on the deflecting surface 6 is adjusted by directly observing the beam pitch on the surface 10a to be scanned, and optically has the following relationship. Here, FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an optical relationship between the deflection surface 6 in the sub-scanning direction and the scanned surface 10a.

【0030】図示するように、被走査面10aでのビー
ムピッチBP2は偏向面6でのビームピッチBP1に走
査レンズ系7の副走査方向の倍率Mを掛けたものとな
る。すなわち、BP2=M×BP1である。
As shown, the beam pitch BP2 on the scanned surface 10a is obtained by multiplying the beam pitch BP1 on the deflection surface 6 by the magnification M of the scanning lens system 7 in the sub-scanning direction. That is, BP2 = M × BP1.

【0031】以上のようにして各ビーム18,19の出
力レベルVa,Vbを決定することで、マルチビーム走
査装置の組立時のビームピッチの調整が行われる。そし
て、このように調整されたマルチビーム走査装置が印字
装置に組み込まれる。その後、定期的にビーム18を出
力レベルVaに、ビーム19を出力レベルVbに調整す
ることで、ビームピッチは間隔Lに保持されて常に高い
印字品質を保つことができる。
By determining the output levels Va and Vb of the beams 18 and 19 as described above, the beam pitch is adjusted at the time of assembling the multi-beam scanning device. Then, the multi-beam scanning device adjusted in this way is incorporated in the printing device. Thereafter, by periodically adjusting the beam 18 to the output level Va and the beam 19 to the output level Vb, the beam pitch is maintained at the interval L, and high print quality can be always maintained.

【0032】このように組立時にビームピッチを調整
し、定期的にその補正を行うことで、経時変化および環
境変化に対しても安定したビームピッチが確保されるマ
ルチビーム走査装置が得られる。
As described above, by adjusting the beam pitch at the time of assembling and performing the correction periodically, a multi-beam scanning apparatus that can secure a stable beam pitch even with aging and environmental changes can be obtained.

【0033】[0033]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の技術では、各ビームの副走査方向の位置を
決定する基準がナイフエッジであるため、ナイフエッジ
の取り付け位置によっては、移動された第1の光源のビ
ーム位置が各マルチビーム走査装置間でばらつく。する
と、厚さの薄い偏向器の偏向面からビームが外れてしま
うことも起こり得る。
However, in the prior art as described above, since the criterion for determining the position of each beam in the sub-scanning direction is the knife edge, the beam is moved depending on the mounting position of the knife edge. The beam position of the first light source varies among the multi-beam scanning devices. Then, the beam may deviate from the deflection surface of the thin deflector.

【0034】また、第1の光源および第2の光源から照
射される各ビームの光路を調整しなければならないの
で、組立性および作業性が悪く、大量生産ができない。
In addition, since the optical paths of the beams emitted from the first light source and the second light source must be adjusted, the assemblability and workability are poor, and mass production cannot be performed.

【0035】そこで、本発明は、ビームピッチを容易に
調整することのできるマルチビーム走査装置を提供する
ことを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a multi-beam scanning device capable of easily adjusting a beam pitch.

【0036】また、本発明は、量産性の向上を図ること
のできるマルチビーム走査装置を提供することを目的と
する。
It is another object of the present invention to provide a multi-beam scanning device capable of improving mass productivity.

【0037】[0037]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明のマルチビーム走査装置は、ビームを照射す
る2つの光源と、光源を独立に駆動してビームを照射す
る2つの駆動手段と、光源から照射されたそれぞれのビ
ームに対応して設置され、これらのビームを平行光にす
る2つのコリメータレンズと、コリメータレンズから出
射したそれぞれのビームに対応して設置され、これらの
ビームを副走査方向に集光する2つのシリンドリカルレ
ンズと、何れか一方のシリンドリカルレンズを副走査方
向に移動させて当該シリンドリカルレンズを通過する側
のビームの光路を補正する光路補正手段と、シリンドリ
カルレンズから出射した2つのビームの光軸を一致させ
るビームスプリッタと、ビームスプリッタから出射した
2つのビームを偏向面で偏向する偏向器と、偏向器で偏
向された2つのビームを被走査面で走査させる走査レン
ズ系と、2つのビームの主走査方向の同期を検出する同
期検出器と、ビームスプリッタから偏向面とは異なる方
向に出射された2つのビームの光路上であって偏向面と
光学的に等価な位置に設けられ、これらのビームの出力
レベルを検出するセンサ部と、ビームスプリッタとセン
サ部との光路間に設置され、ビームスプリッタからセン
サ部に向かう2つのビームを遮光するナイフエッジと、
ナイフエッジを副走査方向に移動させるナイフエッジ調
整手段と、センサ部の出力により光路補正手段とナイフ
エッジ調整手段とを動作制御する光路補正駆動手段とを
有し、光路補正手段で光路補正されない側のビームに基
づいてナイフエッジの位置を決定し、次に、光路補正手
段により光路補正される側のビームを副走査方向に移動
させてビームピッチを調整するものである。
To solve this problem, a multi-beam scanning apparatus according to the present invention comprises two light sources for irradiating a beam and two driving means for independently driving the light sources to irradiate the beam. And two collimator lenses that are installed in correspondence with the respective beams emitted from the light source and convert these beams into parallel light, and are installed in correspondence with the respective beams emitted from the collimator lenses, and Two cylindrical lenses for converging light in the sub-scanning direction, an optical path correcting means for moving one of the cylindrical lenses in the sub-scanning direction to correct the optical path of the beam passing through the cylindrical lens, and emitting from the cylindrical lens A beam splitter that makes the optical axes of the two beams coincide with each other and a beam splitter that emits two beams emitted from the beam splitter. A deflector that deflects the beam, a scanning lens system that scans the two beams deflected by the deflector on the surface to be scanned, a synchronization detector that detects synchronization of the two beams in the main scanning direction, and a deflection from the beam splitter. A sensor unit that is provided on an optical path of two beams emitted in directions different from the surface and is optically equivalent to the deflection surface, and that detects an output level of these beams; a beam splitter and a sensor unit; A knife edge installed between the optical paths of the two to block two beams from the beam splitter toward the sensor unit;
A knife edge adjusting unit that moves the knife edge in the sub-scanning direction; and an optical path correction driving unit that controls the operation of the optical path correcting unit and the knife edge adjusting unit based on the output of the sensor unit. Then, the position of the knife edge is determined based on this beam, and then the beam on the side whose optical path is corrected by the optical path correcting means is moved in the sub-scanning direction to adjust the beam pitch.

【0038】これにより、一方のビームの光路が固定さ
れ、このビーム位置を基準にナイフエッジの位置および
他方のビーム位置が順次決定されるので、固定されてい
ないビームについての調整を行えばよく、ビームピッチ
を容易に調整することが可能になる。
As a result, the optical path of one beam is fixed, and the position of the knife edge and the position of the other beam are sequentially determined based on this beam position. The beam pitch can be easily adjusted.

【0039】また、一方のビームの光路が固定されてい
ることから、固定側ビームに関連した部品については単
一ビームの走査装置と同じ要領で組み立てることができ
るので、組み立てが容易で作業性がよく、量産性の向上
を図ることが可能になる。
Also, since the optical path of one beam is fixed, parts related to the fixed beam can be assembled in the same manner as a single beam scanning device, so that assembly is easy and workability is improved. It is possible to improve the mass productivity.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、ビームを照射する2つの光源と、光源を独立に駆動
してビームを照射する2つの駆動手段と、光源から照射
されたそれぞれのビームに対応して設置され、これらの
ビームを平行光にする2つのコリメータレンズと、コリ
メータレンズから出射したそれぞれのビームに対応して
設置され、これらのビームを副走査方向に集光する2つ
のシリンドリカルレンズと、何れか一方のシリンドリカ
ルレンズを副走査方向に移動させて当該シリンドリカル
レンズを通過する側のビームの光路を補正する光路補正
手段と、シリンドリカルレンズから出射した2つのビー
ムの光軸を一致させるビームスプリッタと、ビームスプ
リッタから出射した2つのビームを偏向面で偏向する偏
向器と、偏向器で偏向された2つのビームを被走査面で
走査させる走査レンズ系と、2つのビームの主走査方向
の同期を検出する同期検出器と、ビームスプリッタから
偏向面とは異なる方向に出射された2つのビームの光路
上であって偏向面と光学的に等価な位置に設けられ、こ
れらのビームの出力レベルを検出するセンサ部と、ビー
ムスプリッタとセンサ部との光路間に設置され、ビーム
スプリッタからセンサ部に向かう2つのビームを遮光す
るナイフエッジと、ナイフエッジを副走査方向に移動さ
せるナイフエッジ調整手段と、センサ部の出力により光
路補正手段とナイフエッジ調整手段とを動作制御する光
路補正駆動手段とを有し、光路補正手段で光路補正され
ない側のビームに基づいてナイフエッジの位置を決定
し、次に、光路補正手段により光路補正される側のビー
ムを副走査方向に移動させてビームピッチを調整するマ
ルチビーム走査装置であり、ビームピッチを容易に調整
することが可能になるという作用を有する。また、量産
性の向上を図ることが可能になるという作用を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to the first aspect of the present invention, there are provided two light sources for irradiating a beam, two driving means for independently driving the light sources to irradiate a beam, and a light source for irradiating a beam. Two collimator lenses are installed corresponding to the respective beams and collimate these beams, and are installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lenses, and collect these beams in the sub-scanning direction. Two cylindrical lenses, an optical path correcting means for moving one of the cylindrical lenses in the sub-scanning direction to correct an optical path of a beam passing through the cylindrical lens, and an optical axis of the two beams emitted from the cylindrical lens A beam splitter for matching the two beams, a deflector for deflecting two beams emitted from the beam splitter on a deflecting surface, and a deflector for deflecting the two beams. A scanning lens system for scanning the two beams on the surface to be scanned, a synchronous detector for detecting the synchronization of the two beams in the main scanning direction, and two beams emitted from the beam splitter in directions different from the deflection surface A sensor unit that is provided at a position optically equivalent to the deflecting surface on the optical path and detects the output level of these beams, and is installed between the optical paths of the beam splitter and the sensor unit. A knife edge for blocking the two beams directed toward the scanner, a knife edge adjusting means for moving the knife edge in the sub-scanning direction, an optical path correction driving means for controlling the operation of the optical path correcting means and the knife edge adjusting means based on the output of the sensor unit, The position of the knife edge is determined based on the beam on the side not subjected to the optical path correction by the optical path correction unit, and then the optical path correction unit performs the optical path correction. Which is moved to the side of the beam in the sub-scanning direction is a multi-beam scanning device for adjusting the beam pitch, it has the effect that it is possible to adjust the beam pitch easily. Further, there is an effect that it is possible to improve mass productivity.

【0041】本発明の請求項2に記載の発明は、請求項
1記載の発明において、光路補正手段により光路補正さ
れる側のビームのセンサ部からの出力レベルが複数設定
され、何れかの出力レベルになるように当該ビームを調
整するマルチビーム走査装置であり、副走査方向の解像
度を切り替えて高速印字を行うことが可能になるという
作用を有する。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, a plurality of output levels from the sensor unit of the beam whose optical path is to be corrected by the optical path correcting means are set, and one of the output levels is set. This is a multi-beam scanning device that adjusts the beam to a level, and has the effect of enabling high-speed printing by switching the resolution in the sub-scanning direction.

【0042】本発明の請求項3に記載の発明は、請求項
1または2記載の発明において、センサ部とビームスプ
リッタとの光路間には、ビームをセンサ部に集光する集
光レンズが設られているマルチビーム走査装置であり、
ビームの方向精度を緩和でき、組立性が向上するという
作用を有する。また、フォトセンサの選択範囲が広くな
ってコストダウンを図ることができるという作用を有す
る。さらに、センサ出力レベルのS/N比が向上すると
いう作用を有する。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, a condenser lens for condensing a beam on the sensor section is provided between the optical path of the sensor section and the beam splitter. Is a multi-beam scanning device,
This has the effect of reducing the beam direction accuracy and improving the assemblability. Further, there is an effect that the selection range of the photosensor is widened and the cost can be reduced. Further, there is an effect that the S / N ratio of the sensor output level is improved.

【0043】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図4を用いて説明する。なお、これらの図面におい
て同一の部材には同一の符号を付しており、また、重複
した説明は省略されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. In these drawings, the same members are denoted by the same reference numerals, and duplicate description is omitted.

【0044】図1は本発明の一実施の形態であるマルチ
ビーム走査装置を示す概略図、図2はビームピッチの調
整を示す説明図、図3はビームピッチを複数持たせた場
合を示す説明図、図4は集光レンズを挿入した場合と挿
入しない場合とにおける光路の変動を示す説明図であ
る。
FIG. 1 is a schematic view showing a multi-beam scanning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view showing adjustment of a beam pitch, and FIG. 3 is an explanatory view showing a case where a plurality of beam pitches are provided. FIG. 4 and FIG. 4 are explanatory diagrams showing the fluctuation of the optical path when the condenser lens is inserted and when it is not inserted.

【0045】図1に示すように、第1の光源1aを駆動
してビーム18を照射させる駆動手段20、および第2
の光源1bを駆動してビーム19を照射させる駆動手段
21がそれぞれ設けられている。そして、第1の光源1
aからのビーム18と第2の光源1bからのビーム19
が照射されることにより、一様に帯電された感光ドラム
10の被走査面10aに静電潜像が形成される。
As shown in FIG. 1, a driving means 20 for driving a first light source 1a to irradiate a beam 18,
A driving means 21 for driving the light source 1b to emit the beam 19 is provided. And the first light source 1
a from the light source a and the beam 19 from the second light source 1b
Is applied, an electrostatic latent image is formed on the scanned surface 10 a of the photosensitive drum 10 that is uniformly charged.

【0046】第1の光源1aに対応してコリメータレン
ズ2aが、また第2の光源1bに対応してコリメータレ
ンズ2bがそれぞれ配置されており、各光源1a,1b
からのビーム18,19はこれらのコリメータレンズ2
a,2bにより平行光にされる。
A collimator lens 2a is arranged corresponding to the first light source 1a, and a collimator lens 2b is arranged corresponding to the second light source 1b.
Beams 18 and 19 from these collimator lenses 2
The light is made parallel by a and 2b.

【0047】コリメータレンズ2a,2bを経たビーム
18,19の光路上には、各光源1a,1bからのビー
ム18,19を副走査方向に集光させるシリンドリカル
レンズ3a,3b、それぞれの光源1a,1bから出射
されたビーム18,19の光軸を合わせるビームスプリ
ッタ4が設置されている。また、シリンドリカルレンズ
3bに対応して、シリンドリカルレンズ3bを回動させ
て第2の光源1bから照射されたビーム19の副走査方
向のピッチを所定の間隔に調整するための光路補正手段
14が設けられている。
On the optical paths of the beams 18 and 19 having passed through the collimator lenses 2a and 2b, cylindrical lenses 3a and 3b for condensing the beams 18 and 19 from the respective light sources 1a and 1b in the sub-scanning direction, and the respective light sources 1a and 3b. A beam splitter 4 for aligning the optical axes of the beams 18 and 19 emitted from 1b is provided. In addition, an optical path correcting means 14 is provided corresponding to the cylindrical lens 3b for rotating the cylindrical lens 3b to adjust the pitch of the beam 19 emitted from the second light source 1b in the sub-scanning direction to a predetermined interval. Have been.

【0048】さらに、ビームスプリッタ4から感光ドラ
ム10に至るビーム18,19の光路上には、偏向面6
を持ち、2つのビーム18,19を同時に偏向する偏向
器5、偏向器5によって偏向されたビーム18,19を
感光ドラム10の被走査面10aに集光して走査する走
査レンズ系7、ビーム18,19を被走査面10aに導
くミラー8が順次配置されている。
Further, on the optical path of the beams 18 and 19 from the beam splitter 4 to the photosensitive drum 10, a deflecting surface 6 is provided.
A deflector 5 for simultaneously deflecting the two beams 18 and 19, a scanning lens system 7 for condensing the beams 18 and 19 deflected by the deflector 5 onto a surface 10a to be scanned of the photosensitive drum 10, and scanning the beam. Mirrors 8 for guiding the mirrors 18 and 19 to the surface to be scanned 10a are sequentially arranged.

【0049】ビームスプリッタ4から偏向面6とは別の
方向に出射されるビーム18,19の光路上の偏向面6
と光学的に等価な位置には、各ビーム18,19の副走
査方向のピッチ間隔を検出するセンサ部11が配置され
ている。このセンサ部11は、受光面16を有するフォ
トセンサ12を備えている。また、ビームスプリッタ4
とセンサ部11との光路間には、ビーム合わせの基準と
なるナイフエッジ13が配置されている。
The deflection surface 6 on the optical path of the beams 18 and 19 emitted from the beam splitter 4 in a direction different from that of the deflection surface 6
A sensor unit 11 that detects a pitch interval between the beams 18 and 19 in the sub-scanning direction is disposed at a position optically equivalent to the above. The sensor unit 11 includes a photo sensor 12 having a light receiving surface 16. In addition, the beam splitter 4
A knife edge 13 serving as a reference for beam alignment is arranged between the optical paths of the sensor 11 and the sensor unit 11.

【0050】ナイフエッジ13に対応して、このナイフ
エッジ13を副走査方向に移動させてその位置調整を行
うナイフエッジ調整手段22が設けられている。そし
て、前述した光路補正手段14とこのナイフエッジ調整
手段22は光路補正駆動手段15により駆動される。
Corresponding to the knife edge 13, a knife edge adjusting means 22 for moving the knife edge 13 in the sub-scanning direction and adjusting the position thereof is provided. The optical path correcting means 14 and the knife edge adjusting means 22 are driven by the optical path correcting driving means 15.

【0051】また、ビームスプリッタ4とフォトセンサ
12との光路間には、フォトセンサ12の受光面16に
ビーム18,19を集光する集光レンズ23が配置され
ている。
A condensing lens 23 for condensing beams 18 and 19 on the light receiving surface 16 of the photosensor 12 is disposed between the optical path between the beam splitter 4 and the photosensor 12.

【0052】偏向器5によって走査されたビーム18,
19の主走査方向の同期をとるために、同期検出器9が
配置されている。そして、この同期検出器9によって、
所定時間のタイミングをもって画像データに対応したビ
ーム18,19の照射が各光源1a,1bの駆動手段2
0,21によって行われる。
The beam 18 scanned by the deflector 5
A synchronization detector 9 is arranged to synchronize the main scanning direction 19. And, by this synchronization detector 9,
Irradiation of the beams 18 and 19 corresponding to the image data at the timing of a predetermined time is performed by the driving unit 2 of each of the light sources 1a and 1b.
0,21.

【0053】そして、感光ドラム10以外の部材は、ハ
ウジング17内に収容されている。
Members other than the photosensitive drum 10 are housed in a housing 17.

【0054】以上のように構成されたマルチビーム走査
装置におけるビーム走査について説明する。
The beam scanning in the multi-beam scanning device configured as described above will be described.

【0055】第1の光源1aおよび第2の光源1bから
それぞれ発光されたビーム18,19は、コリメータレ
ンズ2a,2bによって平行ビームに調整され、シリン
ドリカルレンズ3a,3bによって副走査方向に絞り込
まれる。そして、ビームスプリッタ4によって光軸が合
わせられ、偏向器5で偏向される。偏向されたビーム1
8,19は、走査レンズ系7により感光ドラム10に集
光され、被走査面10aを走査する。
The beams 18 and 19 emitted from the first light source 1a and the second light source 1b, respectively, are adjusted to parallel beams by the collimator lenses 2a and 2b, and are narrowed down in the sub-scanning direction by the cylindrical lenses 3a and 3b. Then, the optical axes are aligned by the beam splitter 4 and deflected by the deflector 5. Deflected beam 1
Numerals 8 and 19 are condensed on the photosensitive drum 10 by the scanning lens system 7 and scan the scanned surface 10a.

【0056】被走査面10aを走査するビーム18,1
9は、印字領域の手前に設けられている同期検出器9を
通過することで印字領域における書き出しのタイミング
が取られる。そして、このタイミングを基にして画像デ
ータに対応したビーム照射が被走査面10aに行われ
る。
The beams 18, 1 for scanning the surface 10a to be scanned
9 passes the synchronization detector 9 provided in front of the print area, so that the timing of writing in the print area is set. Then, based on this timing, a beam irradiation corresponding to the image data is performed on the scanned surface 10a.

【0057】ここで、被走査面10aは副走査方向(ビ
ーム走査方向に対して直角方向)に移動するため、被走
査面10a上に二次元の画像が書き込まれることにな
る。このようなビーム走査については単一のビーム1
8,19で走査する1ビーム走査装置と同じであるが、
マルチビーム走査装置では1度に複数のビーム18,1
9が走査されるため、画像形成速度の高速化および画質
の高解像度化を図ることができる。
Since the scanned surface 10a moves in the sub-scanning direction (perpendicular to the beam scanning direction), a two-dimensional image is written on the scanned surface 10a. For such beam scanning, a single beam 1
Same as 1-beam scanning device scanning at 8 and 19, but
In a multi-beam scanning device, a plurality of beams 18, 1
Since 9 is scanned, the image forming speed can be increased and the image quality can be increased.

【0058】次に、ビームピッチの調整について説明す
る。
Next, adjustment of the beam pitch will be described.

【0059】ビームピッチの調整は、ハウジング17に
必要部品が組み込まれた後に行われる。
The adjustment of the beam pitch is performed after necessary components are assembled in the housing 17.

【0060】第1の光源1aからのビーム18は光路が
固定されており、したがって、このビーム18が基準ビ
ームとなる。そのため、第2の光源1bから照射される
ビーム19に関係しない部品の組立ては単一ビーム走査
装置と同様な要領となって組立性が向上する。
The beam 18 from the first light source 1a has a fixed optical path, and therefore, this beam 18 becomes a reference beam. Therefore, assembling of parts not related to the beam 19 emitted from the second light source 1b is performed in a manner similar to that of the single beam scanning device, and assemblability is improved.

【0061】ビームピッチの調整は、まず、基準のビー
ム18(第2の光源1bから照射されるビーム19の方
の光路が固定されている場合には、ビーム19)を発光
させる。これにより、ビーム18の一部は、ビーム位置
を検出するセンサ部11へと導かれる。
For adjusting the beam pitch, first, the reference beam 18 (the beam 19 when the optical path of the beam 19 emitted from the second light source 1b is fixed) is emitted. Thereby, a part of the beam 18 is guided to the sensor unit 11 that detects the beam position.

【0062】このようにビーム18が導かれたならば、
ナイフエッジ調整手段22によってナイフエッジ13を
副走査方向に移動させる。すると、ナイフエッジ13の
移動に伴って、ビームスプリッタ4からセンサ部11へ
向かうビーム18がナイフエッジ13で遮られてフォト
センサ12からの出力レベルが変化し、所定の出力レベ
ルVnで停止する。そこで、ビーム19の出力レベルを
考慮した出力レベルVnを固定値とする。
When the beam 18 is guided as described above,
The knife edge 13 is moved in the sub-scanning direction by the knife edge adjusting means 22. Then, along with the movement of the knife edge 13, the beam 18 traveling from the beam splitter 4 to the sensor unit 11 is blocked by the knife edge 13, the output level from the photo sensor 12 changes, and stops at the predetermined output level Vn. Therefore, the output level Vn in consideration of the output level of the beam 19 is set to a fixed value.

【0063】以上の動作にて、ナイフエッジ13の位置
が決定される。なお、このときの被走査面10aでのビ
ーム18の位置をビームピッチ位置調整治具(図示せ
ず)で検出しておく。
With the above operation, the position of the knife edge 13 is determined. At this time, the position of the beam 18 on the scanned surface 10a is detected by a beam pitch position adjusting jig (not shown).

【0064】次に、第1の光源1aからの発光を停止
し、第2の光源1bからビーム19を発光させる。そし
て、光路補正手段14によってシリンドリカルレンズ3
bを副走査方向に移動させ、ビームピッチ位置調整治具
でのビーム19の位置をモニタしながら所定のビームピ
ッチになった位置で光路補正手段14を停止する。この
ときのセンサ出力値にビーム19の所定レベルVbを調
整する。
Next, the light emission from the first light source 1a is stopped, and the beam 19 is emitted from the second light source 1b. Then, the optical path correcting means 14 causes the cylindrical lens 3
b is moved in the sub-scanning direction, and while monitoring the position of the beam 19 with the beam pitch position adjusting jig, the optical path correcting means 14 is stopped at a position where a predetermined beam pitch is obtained. The predetermined level Vb of the beam 19 is adjusted to the sensor output value at this time.

【0065】このように、ナイフエッジ13の停止位置
に対応した所定レベルVn、ビーム19に対応した所定
レベルVbをマルチビーム走査装置の組み立て時に設定
することにより、印字装置に搭載した際は、常にこのレ
ベルになるように制御される。
As described above, the predetermined level Vn corresponding to the stop position of the knife edge 13 and the predetermined level Vb corresponding to the beam 19 are set at the time of assembling the multi-beam scanning apparatus, so that when the multi-beam scanning apparatus is mounted, it is always mounted on the printing apparatus. It is controlled to be at this level.

【0066】次に、ビームピッチの調整について説明す
る。
Next, adjustment of the beam pitch will be described.

【0067】第1の光源1aのビーム18とナイフエッ
ジ13との間隔はx、第2の光源1bのビーム19とナ
イフエッジ13との間隔はyであり、ビーム18とビー
ム19との間隔はx+yとなる。そして、このx+yが
ビームピッチとなる(例えば、600dpiの解像度で
42μm)。
The distance between the beam 18 of the first light source 1a and the knife edge 13 is x, the distance between the beam 19 of the second light source 1b and the knife edge 13 is y, and the distance between the beam 18 and the beam 19 is x + y. This x + y is the beam pitch (for example, 42 μm at a resolution of 600 dpi).

【0068】前述のように、従来はナイフエッジ13を
基準に各ビーム18,19を移動させてビームピッチを
合わせていた。これに対し、本発明においては、ビーム
18の位置を基準としてナイフエッジ13の位置を決定
し、その後、このナイフエッジ13に対してビーム19
の位置を決定するものである。
As described above, conventionally, the beams 18 and 19 are moved based on the knife edge 13 to adjust the beam pitch. On the other hand, in the present invention, the position of the knife edge 13 is determined based on the position of the beam 18, and thereafter, the beam 19 is
Is determined.

【0069】このように調整されたマルチビーム走査装
置は印字装置に搭載され、印字の開始毎あるいは定期毎
にビームピッチが調整される。定期的なビームピッチの
制御は、ビーム18に対するフォトセンサ12の出力レ
ベルがVaになるようにナイフエッジ調整手段22によ
ってナイフエッジ13の位置を合わせる。そして、この
ように合わされたナイフエッジ13の位置に対してビー
ム19でのフォトセンサ12の出力レベルがVbとなる
点まで、光路補正手段14によってビーム19の位置を
合わせる。なお、ビームピッチの調整時間は偏向器5が
所定速度になる数秒内で行われるため、ファースト印字
速度が遅れることはない。
The multi-beam scanning device thus adjusted is mounted on a printing device, and the beam pitch is adjusted each time printing is started or periodically. The periodic control of the beam pitch adjusts the position of the knife edge 13 by the knife edge adjusting means 22 so that the output level of the photo sensor 12 with respect to the beam 18 becomes Va. Then, the position of the beam 19 is adjusted by the optical path correcting means 14 until the output level of the photosensor 12 at the beam 19 becomes Vb with respect to the position of the knife edge 13 thus adjusted. Since the beam pitch is adjusted within a few seconds when the deflector 5 reaches a predetermined speed, the first printing speed is not delayed.

【0070】このように、本実施の形態によれば、一方
のビームの光路が固定され、このビーム位置を基準にナ
イフエッジ13の位置および他方のビーム位置が順次決
定されるので、固定されていないビームについての調整
を行えばよく、ビームピッチを容易に調整することが可
能になる。
As described above, according to the present embodiment, the optical path of one beam is fixed, and the position of knife edge 13 and the position of the other beam are sequentially determined based on this beam position. It is only necessary to adjust the missing beam, and the beam pitch can be easily adjusted.

【0071】また、一方のビームの光路が固定されてい
ることから、固定側ビームに関連した部品については単
一ビームの走査装置と同じ要領で組み立てることができ
るので、組み立てが容易で作業性がよく、量産性を向上
させることが可能になる。
Also, since the optical path of one beam is fixed, parts related to the fixed beam can be assembled in the same manner as a single beam scanning device, so that assembly is easy and workability is improved. It is possible to improve mass productivity.

【0072】そして、以上の構成によって、装置の経時
変化および環境変化にかかわらず、ビームピッチが安定
して保たれる。
With the above configuration, the beam pitch can be stably maintained regardless of the aging of the apparatus and the environmental change.

【0073】ここで、第2の光源1bのビーム位置を決
定するレベルを複数持たせることにより、ビームピッチ
を任意の間隔に設定することができる。
Here, by providing a plurality of levels for determining the beam position of the second light source 1b, the beam pitch can be set to an arbitrary interval.

【0074】ここで、図3はビームピッチを複数持たせ
た場合を示している。
FIG. 3 shows a case where a plurality of beam pitches are provided.

【0075】図3において、ビーム19をビーム18か
らの距離L1、L2、L3に設けたときのセンサ出力レ
ベルをV1、V2、V3とすると、ビーム19を停止さ
せる出力レベルVbをV1、V2、V3の何れかに選択
することで、ビームピッチを任意の値に切り替えられ
る。
In FIG. 3, when the sensor output levels when the beam 19 is provided at distances L1, L2, and L3 from the beam 18 are V1, V2, and V3, the output levels Vb for stopping the beam 19 are V1, V2, and V3. By selecting any one of V3, the beam pitch can be switched to an arbitrary value.

【0076】このようにビームピッチを切り替え可能と
すれば、副走査方向の解像度を切り替えたい場合に有利
である。例えば600DPIのみのビームピッチを有す
るマルチビーム走査装置では、解像度を1200DPI
に変更したい場合、ビームピッチが600DPIの間隔
であるために1ビームによる走査で対応するしかなく、
従来の印字速度を1/4に落とすことになる。これに対
し、本マルチビーム走査装置の場合、600DPIを1
200DPIに切り替える場合、ビームピッチを切り替
えれば2ビーム走査が可能になり、従来の印字速度1/
2で出力できるメリットがある。
If the beam pitch can be switched in this way, it is advantageous when it is desired to switch the resolution in the sub-scanning direction. For example, in a multi-beam scanning device having a beam pitch of only 600 DPI, the resolution is set to 1200 DPI.
When it is desired to change the scanning to one beam, the beam pitch is 600 DPI.
The conventional printing speed is reduced to 1/4. On the other hand, in the case of the present multi-beam scanning device, 600 DPI is set to 1
When switching to 200 DPI, two-beam scanning becomes possible by switching the beam pitch.
There is a merit that can be output with 2.

【0077】さらに、ビームスプリッタ4とフォトセン
サ12との間に集光レンズ23を設けてフォトセンサ1
2の受光面16にビームを集光することで、フォトセン
サ12への光路精度を緩和でき、組立性を向上させるこ
とができる。
Further, a condenser lens 23 is provided between the beam splitter 4 and the photo sensor 12 so that the photo sensor 1
By condensing the beam on the second light receiving surface 16, the accuracy of the optical path to the photo sensor 12 can be reduced, and the assemblability can be improved.

【0078】すなわち、図4(a)に示すように、集光
レンズ23を挿入すると、フォトセンサ12へビームを
導く作用が働くため、フォトセンサ12への光路のばら
つきがあってもフォトセンサ12に安定してビームを導
くことができ、ビームの方向精度を緩和でき、組立性を
向上できる。また、受光面積の狭いフォトセンサ12も
使用できるため、汎用フォトセンサの選択範囲が広くな
ってコストメリットが生じる。さらに、ビーム光量の殆
どがフォトセンサ12に入射されるため、センサ出力レ
ベルのS/N比を向上することができる。
That is, as shown in FIG. 4A, when the condenser lens 23 is inserted, the function of guiding the beam to the photosensor 12 works, so that even if the optical path to the photosensor 12 varies, The beam can be guided in a stable manner, the directional accuracy of the beam can be reduced, and the assemblability can be improved. In addition, since a photosensor 12 having a small light receiving area can be used, the selection range of a general-purpose photosensor is widened, and there is a cost advantage. Furthermore, since most of the light beam amount is incident on the photosensor 12, the S / N ratio of the sensor output level can be improved.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、一方の
ビームの光路が固定され、このビーム位置を基準にナイ
フエッジの位置および他方のビーム位置が順次決定され
るので、固定されていないビームについての調整を行え
ばよく、ビームピッチを容易に調整することが可能にな
るという有効な効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the optical path of one beam is fixed, and the position of the knife edge and the position of the other beam are sequentially determined based on this beam position. It is only necessary to adjust a beam that does not exist, and an effective effect that the beam pitch can be easily adjusted can be obtained.

【0080】また、本発明によれば、一方のビームの光
路が固定されていることから、固定側ビームに関連した
部品については単一ビームの走査装置と同じ要領で組み
立てることができるので、組み立てが容易で作業性がよ
く、量産性の向上を図ることが可能になるという有効な
効果が得られる。
Further, according to the present invention, since the optical path of one beam is fixed, parts related to the fixed beam can be assembled in the same manner as a single-beam scanning device. However, there is an advantageous effect that the workability is good, the workability is good, and the mass productivity can be improved.

【0081】光路補正手段により光路補正される側のビ
ームの出力レベルを複数設定することにより、副走査方
向の解像度を切り替えて高速印字を行うことが可能にな
るという有効な効果が得られる。
By setting a plurality of output levels of the beam whose optical path is to be corrected by the optical path correcting means, it is possible to obtain an effective effect that high-speed printing can be performed by switching the resolution in the sub-scanning direction.

【0082】センサ部とビームスプリッタとの光路間に
集光レンズを設けることにより、集光レンズによりフォ
トセンサに安定してビームを導くことができるので、ビ
ームの方向精度を緩和でき、組立性が向上するという有
効な効果が得られる。
By providing a condensing lens between the optical path of the sensor section and the beam splitter, the beam can be stably guided to the photosensor by the condensing lens, so that the directional accuracy of the beam can be relaxed and the assembling property can be reduced. An effective effect of improving is obtained.

【0083】また、集光レンズを設けることにより、受
光面積の狭いフォトセンサも使用できるため、フォトセ
ンサの選択範囲が広くなってコストダウンを図ることが
できるという有効な効果が得られる。
Further, by providing the condenser lens, a photosensor having a small light receiving area can be used, so that an effective effect that the selection range of the photosensor can be widened and the cost can be reduced can be obtained.

【0084】さらに、集光レンズを設けることにより、
ビーム光量の殆どがフォトセンサに入射されるので、セ
ンサ出力レベルのS/N比が向上するという有効な効果
が得られる。
Further, by providing a condenser lens,
Since most of the beam light quantity is incident on the photo sensor, an effective effect of improving the S / N ratio of the sensor output level can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態であるマルチビーム走査
装置を示す概略図
FIG. 1 is a schematic diagram showing a multi-beam scanning device according to an embodiment of the present invention.

【図2】ビームピッチの調整を示す説明図FIG. 2 is an explanatory diagram showing adjustment of a beam pitch.

【図3】ビームピッチを複数持たせた場合を示す説明図FIG. 3 is an explanatory diagram showing a case where a plurality of beam pitches are provided.

【図4】集光レンズを挿入した場合と挿入しない場合と
における光路の変動を示す説明図
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a change in an optical path when a condenser lens is inserted and when it is not inserted.

【図5】従来のマルチビーム走査装置を示す概略図FIG. 5 is a schematic diagram showing a conventional multi-beam scanning device.

【図6】シリンドリカルレンズにより第1の光源のビー
ムを副走査方向に移動させた様子を示す説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state where a beam of a first light source is moved in a sub-scanning direction by a cylindrical lens.

【図7】光路補正手段により光路補正されたビームの副
走査方向の位置とナイフエッジとの位置関係によるセン
サ出力を示す説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a sensor output based on a positional relationship between a position in a sub-scanning direction of a beam whose optical path has been corrected by an optical path correcting unit and a knife edge.

【図8】副走査方向の偏向面と被走査面との光学関係を
示す説明図
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an optical relationship between a deflection surface in a sub-scanning direction and a surface to be scanned.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 第1の光源 1b 第2の光源 2a,2b コリメータレンズ 3a,3b シリンドリカルレンズ 4 ビームスプリッタ 5 偏向器 6 偏向面 7 走査レンズ系 9 同期検出器 10a 被走査面 11 センサ部 13 ナイフエッジ 14 光路補正手段 15 光路補正駆動手段 20,21 駆動手段 22 ナイフエッジ調整手段 23 集光レンズ 1a First light source 1b Second light source 2a, 2b Collimator lens 3a, 3b Cylindrical lens 4 Beam splitter 5 Deflector 6 Deflection surface 7 Scanning lens system 9 Synchronous detector 10a Scanned surface 11 Sensor unit 13 Knife edge 14 Optical path correction Means 15 Optical path correction driving means 20, 21 Driving means 22 Knife edge adjusting means 23 Condensing lens

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ビームを照射する2つの光源と、 前記光源を独立に駆動してビームを照射する2つの駆動
手段と、 前記光源から照射されたそれぞれのビームに対応して設
置され、これらのビームを平行光にする2つのコリメー
タレンズと、 前記コリメータレンズから出射したそれぞれのビームに
対応して設置され、これらのビームを副走査方向に集光
する2つのシリンドリカルレンズと、 何れか一方の前記シリンドリカルレンズを副走査方向に
移動させて当該シリンドリカルレンズを通過する側のビ
ームの光路を補正する光路補正手段と、 前記シリンドリカルレンズから出射した2つのビームの
光軸を一致させるビームスプリッタと、 前記ビームスプリッタから出射した2つのビームを偏向
面で偏向する偏向器と、 前記偏向器で偏向された2つのビームを被走査面で走査
させる走査レンズ系と、 2つのビームの主走査方向の同期を検出する同期検出器
と、 前記ビームスプリッタから前記偏向面とは異なる方向に
出射された2つのビームの光路上であって前記偏向面と
光学的に等価な位置に設けられ、これらのビームの出力
レベルを検出するセンサ部と、 前記ビームスプリッタと前記センサ部との光路間に設置
され、前記ビームスプリッタから前記センサ部に向かう
2つのビームを遮光するナイフエッジと、 前記ナイフエッジを副走査方向に移動させるナイフエッ
ジ調整手段と、 前記センサ部の出力により前記光路補正手段と前記ナイ
フエッジ調整手段とを動作制御する光路補正駆動手段と
を有し、 前記光路補正手段で光路補正されない側のビームに基づ
いて前記ナイフエッジの位置を決定し、次に、前記光路
補正手段により光路補正される側のビームを副走査方向
に移動させてビームピッチを調整することを特徴とする
マルチビーム走査装置。
1. Two light sources for irradiating a beam, two driving means for independently driving the light source to irradiate a beam, and installed in correspondence with each of the beams emitted from the light source. Two collimator lenses for collimating the beams, two cylindrical lenses installed corresponding to the respective beams emitted from the collimator lenses, and condensing these beams in the sub-scanning direction; Optical path correction means for moving the cylindrical lens in the sub-scanning direction to correct the optical path of the beam passing through the cylindrical lens; a beam splitter for matching the optical axes of the two beams emitted from the cylindrical lens; A deflector for deflecting two beams emitted from the splitter on a deflecting surface; A scanning lens system for scanning two beams on the surface to be scanned, a synchronization detector for detecting synchronization of the two beams in the main scanning direction, and two beams emitted from the beam splitter in directions different from the deflection surface A sensor unit provided on the optical path and optically equivalent to the deflecting surface, for detecting the output level of these beams, and installed between the optical paths of the beam splitter and the sensor unit; A knife edge that shields two beams from the splitter toward the sensor unit, a knife edge adjustment unit that moves the knife edge in the sub-scanning direction, an optical path correction unit and the knife edge adjustment unit that are output from the sensor unit. Optical path correction driving means for controlling the operation of the knife edge based on the beam on the side of which optical path correction is not performed by the optical path correction means. Position is determined, then the multi-beam scanning apparatus according to claim moving the side of the beam optical path compensation in the sub-scanning direction by adjusting the beam pitch by the optical path correction means.
【請求項2】前記光路補正手段により光路補正される側
のビームの前記センサ部からの出力レベルが複数設定さ
れ、何れかの出力レベルになるように当該ビームを調整
することを特徴とする請求項1記載のマルチビーム走査
装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein a plurality of output levels from the sensor section of a beam whose optical path is corrected by the optical path correcting means are set, and the beam is adjusted so as to be any one of the output levels. Item 2. The multi-beam scanning device according to Item 1.
【請求項3】前記センサ部と前記ビームスプリッタとの
光路間には、ビームをセンサ部に集光する集光レンズが
設られていることを特徴とする請求項1または2記載の
マルチビーム走査装置。
3. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein a condensing lens for condensing a beam on the sensor unit is provided between an optical path between the sensor unit and the beam splitter. apparatus.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002228959A (en) * 2001-02-05 2002-08-14 Nec Eng Ltd Multi-beam synthesizing scanning recorded

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