JPH11271561A - Method for joining optical fiber array and optical waveguide chip - Google Patents

Method for joining optical fiber array and optical waveguide chip

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JPH11271561A
JPH11271561A JP7904498A JP7904498A JPH11271561A JP H11271561 A JPH11271561 A JP H11271561A JP 7904498 A JP7904498 A JP 7904498A JP 7904498 A JP7904498 A JP 7904498A JP H11271561 A JPH11271561 A JP H11271561A
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JP
Japan
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optical waveguide
waveguide chip
optical
optical fiber
irradiation
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JP7904498A
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Japanese (ja)
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Tetsuya Ejiri
哲也 江尻
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NGK Insulators Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical waveguide chip which can shorten the time of irradiation with ultraviolet rays when joined and has small deterioration in a joining loss and small deterioration in a reliability test at a high temperature and high humidity. SOLUTION: In this joining method, the optical axes of an optical waveguide chip 14 and a 1st array 16 are aligned with each other (<=0.2 μm optical axis deviation) and the width L of a gap between the both is set to about 8 μm. The gap is filled with a resin for adhesion and the gap is irradiated in the two top and bottom directions with ultraviolet rays under irradiation conditions of 150 mW/cm<2> irradiation intensity and a 9,000 mJ/cm<2> irradiation quantity by using ultraviolet-ray irradiating devices 40a and 40b. The difference between the irradiation quantities from the two directions is set to <=6000 mJ/cm<2> .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバが配設
された光ファイバアレイと光導波路チップとを接着用樹
脂を用いて接合する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for joining an optical fiber array provided with optical fibers to an optical waveguide chip using an adhesive resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】光導波路チップと光ファイバとを接続す
るために光ファイバアレイが一般的に用いられている。
この光導波路チップには、GaAs系、InP系の半導
体導波路チップ、Si上に酸化膜を形成したり、ガラス
基板を用いる誘電体(ガラス)導波路チップ、LiNb
3 やLiTaO3 結晶で構成した強誘電体結晶導波路
チップ等、多数の種類があり、光導波路チップ上にはT
i等の金属が拡散された光導波路が形成される。これら
光導波路チップに対して、例えば、光ファイバジャイロ
等のセンサ・計測関係、高速変調器等の光ファイバ通信
関係、A/D変換器等の光情報処理関係、ダイオードア
レイ等の光源・光変換関係での多岐にわたる用途が検討
されている。
2. Description of the Related Art An optical fiber array is generally used to connect an optical waveguide chip and an optical fiber.
This optical waveguide chip includes a GaAs-based or InP-based semiconductor waveguide chip, an oxide film formed on Si, a dielectric (glass) waveguide chip using a glass substrate, LiNb.
There are many types such as a ferroelectric crystal waveguide chip composed of O 3 or LiTaO 3 crystal.
An optical waveguide in which a metal such as i is diffused is formed. For these optical waveguide chips, for example, sensor / measurement relations such as optical fiber gyros, optical fiber communication relations such as high-speed modulators, optical information processing relations such as A / D converters, and light source / light conversion such as diode arrays A wide variety of uses in relationships are being considered.

【0003】例えば、前記のような光ファイバジャイロ
を製造する場合、長尺の光ファイバを円筒の物体に巻き
付けて作成したファイバコイルから導出された光ファイ
バの2本の端部と位相変調器が組み込まれた光導波路チ
ップとを、光軸の偏波面を一定の方向に保持して接続す
るために、偏波面保存光ファイバアレイが用いられてい
る。
For example, when manufacturing an optical fiber gyro as described above, two ends of an optical fiber derived from a fiber coil formed by winding a long optical fiber around a cylindrical object and a phase modulator are used. A polarization-maintaining optical fiber array is used to connect the built-in optical waveguide chip while maintaining the polarization plane of the optical axis in a fixed direction.

【0004】前記偏波面保存光ファイバアレイは、例え
ば、2枚の基板からなり、そのうちの1枚には溝部が形
成され、該溝部に光ファイバを偏波面を一定の方向に保
持するように埋設した後2枚の基板を重ね合わせ、該溝
部と光ファイバとの隙間にエポキシ等の紫外線硬化型接
着用樹脂を充填して接着用樹脂層を形成した後、紫外線
を照射して接着用樹脂を硬化し、光ファイバをアレイの
溝部に固定することによって形成される。
The polarization-maintaining optical fiber array includes, for example, two substrates, one of which has a groove formed therein, and an optical fiber embedded in the groove to hold the polarization plane in a predetermined direction. After that, the two substrates are overlapped, and a gap between the groove and the optical fiber is filled with an ultraviolet-curable adhesive resin such as epoxy to form an adhesive resin layer. It is formed by curing and fixing the optical fibers in the grooves of the array.

【0005】この光ファイバが配設された光ファイバア
レイの基板と光導波路が配設された光導波路チップの基
板とは熱膨張率が異なるため、両者を接合した完成品を
使用する際の温度サイクルによって生じる熱膨張によっ
て光軸がずれるという問題がある。
Since the substrate of the optical fiber array on which the optical fibers are disposed and the substrate of the optical waveguide chip on which the optical waveguides are disposed have different coefficients of thermal expansion, the temperature at the time of using a finished product in which the two are joined is used. There is a problem that the optical axis shifts due to thermal expansion caused by the cycle.

【0006】その対策として、該光ファイバアレイと光
導波路チップとを接合する際に、両者の接合面に所定の
幅の間隙を設けることが行われている。
As a countermeasure, when joining the optical fiber array and the optical waveguide chip, a gap having a predetermined width is provided on the joining surface of the two.

【0007】具体的には、まず、光ファイバアレイと光
導波路チップの研磨された接合面をその側面から顕微鏡
を用いて観察しながら、位置決め治具を用いて一旦両者
を間隙がなくなるように押しつけて接合面の平行度を確
保する(以下、平面出しという)。次いで、前記位置決
め治具を用いて両者を離間して所定の幅の間隙を確保す
る。その後、図12に示すように、光ファイバアレイ2
と光導波路チップ4との接合面2a、4aの間隙に紫外
線硬化型接着用樹脂6を充填し、紫外線照射装置8を用
いて紫外線を照射することにより該接着用樹脂6を硬化
して、光ファイバアレイ2と光導波路チップ4との接合
が完了する。
Specifically, first, while observing the polished joint surface of the optical fiber array and the optical waveguide chip from the side thereof using a microscope, the two are once pressed using a positioning jig so as to eliminate the gap. To secure the parallelism of the joining surface (hereinafter, referred to as “planarization”). Next, the two are separated from each other by using the positioning jig to secure a gap having a predetermined width. Thereafter, as shown in FIG.
The gap between the bonding surfaces 2a and 4a of the optical waveguide chip 4 and the optical waveguide chip 4 is filled with an ultraviolet-curing adhesive resin 6, and the adhesive resin 6 is cured by irradiating ultraviolet rays using an ultraviolet irradiating device 8, thereby curing the light. The bonding between the fiber array 2 and the optical waveguide chip 4 is completed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな光ファイバアレイと光導波路チップとの接合方法に
よっても、種々の原因に起因して光ファイバアレイと光
導波路チップとの接合面において光軸にずれを生じ、そ
の結果、結合損失が増大するという問題は解決されてい
ない。
However, according to such a bonding method of the optical fiber array and the optical waveguide chip, the optical axis at the bonding surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip is also caused due to various causes. The problem that the displacement occurs and the coupling loss increases as a result has not been solved.

【0009】その原因の1つとして、前記間隙に充填し
た接着用樹脂層を紫外線を照射して硬化させる際に、該
接着用樹脂層の収縮量にばらつきを生じ、その結果、光
ファイバアレイと光導波路チップとの接合面の平行度に
狂いが発生して光軸のずれを引き起こすことが知られて
いる。
One of the causes is that when the bonding resin layer filled in the gap is cured by irradiating ultraviolet rays, the amount of shrinkage of the bonding resin layer varies, and as a result, the optical fiber array and the It is known that the degree of parallelism of the bonding surface with the optical waveguide chip is deviated, causing a shift of the optical axis.

【0010】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、完成品を使用する際の光ファイバアレイ
と光導波路チップの接合面における光軸の狂いを大幅に
軽減することができ、光伝搬特性に優れる光ファイバア
レイと光導波路チップの接合方法を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of such a problem, and it is possible to greatly reduce a deviation of an optical axis at a joint surface between an optical fiber array and an optical waveguide chip when a finished product is used. It is another object of the present invention to provide a method for joining an optical fiber array and an optical waveguide chip having excellent light propagation characteristics.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明に係る光ファイバ
アレイと光導波路チップの接合方法は、両者の光軸を合
わせて接合する方法において、前記光ファイバアレイと
光導波路チップとの接合面に所定の幅の間隙を設け、該
間隙に接着用樹脂を充填し、紫外線を照射することによ
って該樹脂を硬化して該光ファイバアレイと光導波路チ
ップとを接合するに際し、少なくとも対向する方向を含
む2以上の方向から紫外線を照射し、前記2以上の方向
から照射する紫外線の照射量の差を600mJ/cm2
以下とすることを特徴とする。ここで、紫外線の照射量
(mJ/cm2 )は、以下の式で表される単位面積当た
りの照射エネルギ(単位mJ/cm2 )をいう。
According to the present invention, there is provided a method for joining an optical fiber array and an optical waveguide chip, comprising the steps of: A gap having a predetermined width is provided, the gap is filled with an adhesive resin, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to join the optical fiber array and the optical waveguide chip, at least including a facing direction. Irradiation of ultraviolet rays from two or more directions, and a difference in irradiation amount of the ultraviolet rays irradiated from the two or more directions is 600 mJ / cm 2.
It is characterized as follows. Here, the irradiation amount of ultraviolet rays (mJ / cm 2 ) means irradiation energy per unit area (unit mJ / cm 2 ) represented by the following equation.

【0012】単位面積当たりの照射エネルギ(単位mJ
/cm2 )=単位面積当たりの照射強度(mW/c
2 )×照射時間(sec) これにより、間隙に充填された接着用樹脂層の各部にお
いて硬化、収縮が均一に行われることから、光ファイバ
アレイと光導波路チップの接合面における平行度を維
持、確保することができ、結合損失の劣化や高温高湿下
での信頼性試験における劣化の少ない光導波路チップを
得ることができる。また、各方向からの紫外線の照射強
度を大きくして、紫外線の照射時間を短縮することがで
きる。この場合、前記2以上の方向から照射する紫外線
の照射強度の差を10mW/cm2以下とすると一層好
適である。ここで紫外線の照射強度(mW/cm2 )と
は、前記した単位面積当たりの照射強度(mW/c
2 )をいう。
Irradiation energy per unit area (unit: mJ
/ Cm 2 ) = irradiation intensity per unit area (mW / c)
m 2 ) × irradiation time (sec) By this, curing and shrinkage are uniformly performed in each part of the adhesive resin layer filled in the gap, so that the parallelism at the joint surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip is maintained. Thus, it is possible to obtain an optical waveguide chip with less deterioration of coupling loss and less deterioration in a reliability test under high temperature and high humidity. Further, the irradiation intensity of the ultraviolet light from each direction can be increased, and the irradiation time of the ultraviolet light can be shortened. In this case, it is more preferable that the difference between the irradiation intensities of the ultraviolet rays irradiated from the two or more directions is 10 mW / cm 2 or less. Here, the irradiation intensity of ultraviolet rays (mW / cm 2 ) refers to the irradiation intensity per unit area (mW / c).
m 2 ).

【0013】また、本発明に係る光ファイバアレイと光
導波路チップの接合方法において、前記光ファイバアレ
イと光導波路チップとの接合面における光軸のずれを
0.2μm以下に設定するとともに前記間隙の幅を6〜
10μmの範囲内に設定した後、該間隙に前記接着用樹
脂を充填することにより、前記した本発明の効果を一層
発揮することができる。
Further, in the method for bonding an optical fiber array and an optical waveguide chip according to the present invention, a deviation of an optical axis at a bonding surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip is set to 0.2 μm or less and the gap of the gap is set to 0.2 μm or less. 6 ~
After the thickness is set within the range of 10 μm, the above-described effect of the present invention can be further exhibited by filling the gap with the adhesive resin.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ファイバア
レイと光導波路チップの接合方法として、例えば、光導
波路チップと光ファイバとを偏波面を一定の方向に保持
して接続するための偏波面保存光ファイバアレイに適用
した実施の形態例を、図1〜図9を参照しながら以下説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for joining an optical fiber array and an optical waveguide chip according to the present invention, for example, a polarization method for connecting an optical waveguide chip and an optical fiber while maintaining the polarization plane in a fixed direction. An embodiment applied to a wavefront preserving optical fiber array will be described below with reference to FIGS.

【0015】本実施の形態における光ファイバアレイ
は、図1に示すように、光ファイバ10、12と光導波
路チップ14とが接合方向を規制するように固着される
第1および第2のアレイ16、18から構成される。
As shown in FIG. 1, the optical fiber array according to the present embodiment has first and second arrays 16 in which optical fibers 10, 12 and optical waveguide chip 14 are fixed so as to regulate the joining direction. , 18.

【0016】ここで、光導波路チップ14は、例えば、
LiNbO3 基板20に所定形状の光導波路(例えば、
Y字光導波路)22が形成されるとともに、金属電極2
4と偏光子26とが配設されている。
Here, the optical waveguide chip 14 is, for example,
An optical waveguide having a predetermined shape (for example, a LiNbO 3 substrate 20)
A Y-shaped optical waveguide 22 is formed and the metal electrode 2
4 and a polarizer 26 are provided.

【0017】図2に示すように、光ファイバ10の2つ
の端部(例えば、光ファイバジャイロのファイバコイル
に接続される始端部10aと終端部10b)は、光導波
路チップ14との接合方向を規制する第1のアレイ16
に固着され、また、図3に示すように、光ファイバ12
の1つの端部(例えば、光源に接続される光ファイバ1
2の端部12a)は、光導波路チップ14との接合方向
を規制する第2のアレイ18に固着され、これら第1及
び第2のアレイ16、18を通じて上記各光ファイバ1
0、12のそれぞれの端部10a、10b及び12aが
光導波路チップ14と光学的に結合されるようになって
いる。
As shown in FIG. 2, the two ends of the optical fiber 10 (for example, the start end 10a and the end 10b connected to the fiber coil of the optical fiber gyro) are connected to the optical waveguide chip 14 in the joining direction. First array 16 to regulate
And the optical fiber 12 as shown in FIG.
At one end (eg, an optical fiber 1 connected to a light source).
The second end 12a) is fixed to a second array 18 that regulates the bonding direction with the optical waveguide chip 14, and the optical fibers 1 are passed through the first and second arrays 16 and 18.
The ends 10a, 10b and 12a of the optical waveguide chips 14 and 10 are optically coupled to the optical waveguide chip 14.

【0018】具体的には、第1のアレイ16は、図2に
示すように、一主面に一方の端面へ向けて延びる2本の
V字状の溝30a、30bと他方の端面に向けて延びる
幅広の座繰り部(接着用の逃げ溝)32が連続して形成
された基板16Aと、該基板16Aの各溝30a、30
b、32を塞ぐための蓋基板16Bとで構成されてい
る。上記2本のV字状の溝30a、30bは、その間隔
が図1に示す光導波路22における2本の分岐路の光軸
に合致する間隔と同じとされている。
More specifically, as shown in FIG. 2, the first array 16 has two V-shaped grooves 30a, 30b extending on one main surface toward one end surface and facing the other end surface. 16A on which a wide counterbore portion (escape groove for adhesion) 32 extending continuously is formed, and each groove 30a, 30 of the substrate 16A is formed.
b and 32 for closing the lid substrate. The interval between the two V-shaped grooves 30a and 30b is the same as the interval that matches the optical axis of the two branch paths in the optical waveguide 22 shown in FIG.

【0019】そして、第1のアレイ16を組み立てる場
合は、まず、図2に示すように、上記基板16AのV字
状の溝30a、30bに光ファイバ10の2本の端部1
0a及び10bを這わせた後、光ファイバ10の偏波保
存面を光導波路22を伝搬する光の偏波面の方向に合わ
せる。その後、上方から蓋基板16Bを被せて室温硬化
型接着用樹脂をV字状の溝30a、30bと光ファイバ
10との隙間に充填し、室温で放置してして両者を接着
・固定し、上記第1のアレイ16の端面中、光ファイバ
10の自由端側端面16aを研磨することによって光フ
ァイバ10への第1のアレイ16の固着作業が終了する
こととなる。
When assembling the first array 16, first, as shown in FIG. 2, the two ends 1 of the optical fiber 10 are inserted into the V-shaped grooves 30a and 30b of the substrate 16A.
After crawling 0a and 10b, the polarization preserving surface of the optical fiber 10 is adjusted to the direction of the polarization plane of the light propagating through the optical waveguide 22. Thereafter, the lid substrate 16B is covered from above, and the room temperature curing type adhesive resin is filled in the gap between the V-shaped grooves 30a and 30b and the optical fiber 10, and the two are left at room temperature to bond and fix them. By polishing the free end side end face 16a of the optical fiber 10 in the end face of the first array 16, the fixing work of the first array 16 to the optical fiber 10 is completed.

【0020】第2のアレイ18は、図3に示すように、
一主面に一方の端面へ向けて延びる1本のV字状の溝3
4と他方の端面に向かって延びる幅広の座繰り部(接着
用の逃げ溝)36が連続して形成された基板18Aと、
該基板18Aの各溝34、36を塞ぐための蓋基板18
Bとで構成されている。
The second array 18, as shown in FIG.
One V-shaped groove 3 extending on one principal surface toward one end surface
4 and a substrate 18A in which a wide counterbore (an escape groove for bonding) 36 extending toward the other end surface is continuously formed;
Lid substrate 18 for closing each groove 34, 36 of substrate 18A
B.

【0021】そして、この第2のアレイ18を組み立て
る場合は、まず、上記基板18AのV字状の溝34に光
ファイバ12の1本の端部12aを這わせた後、光ファ
イバ12の偏波保存面を光導波路22を伝搬する光の偏
波面の方向に合わせる。その後、その上方から蓋基板1
8Bを被せて接着用樹脂にて接着し、第2のアレイ18
の端面中、光ファイバ12の自由端側端面18aを研磨
することによって光ファイバ12への第2のアレイ18
の固着作業が終了する。
When assembling the second array 18, first, one end 12a of the optical fiber 12 is laid in the V-shaped groove 34 of the substrate 18A, and then the polarization of the optical fiber 12 is adjusted. The wave preserving surface is aligned with the direction of the plane of polarization of light propagating through the optical waveguide 22. Then, from above, the lid substrate 1
8B, and adhered with an adhesive resin.
By polishing the free end face 18a of the optical fiber 12 in the end face of the optical fiber 12, the second array 18
Is completed.

【0022】一方、光導波路チップ14は、以下のよう
にして作製する。まず、例えば3inchウェーハ(例
えば、LiNbO3 基板)の一主面(機能面)に、例え
ば真空蒸着等によって所定形状の光導波路22を形成す
ると同時に、該光導波路22上に偏光子26及び金属電
極24を形成して1枚のウェーハ上に多数の光ICパタ
ーンを形成する(図示せず)。次いで、数個の光ICパ
ターンを1組として、ウェーハから組単位に光ICパタ
ーンを例えばダイヤモンドカッターを有するダイシング
装置を用いて切り出した後、各組の端面、特に上記第1
及び第2のアレイ16、18が接合される面を研磨処理
する。その後各組から各々光ICパターンを同じくダイ
シング装置を用いて切断して多数の光導波路チップに分
離した後、個々に分離された1つの光導波路チップ14
が得られる(図1参照)。
On the other hand, the optical waveguide chip 14 is manufactured as follows. First, for example, an optical waveguide 22 having a predetermined shape is formed on one main surface (functional surface) of, for example, a 3- inch wafer (for example, a LiNbO 3 substrate) by, for example, vacuum evaporation, and a polarizer 26 and a metal electrode are formed on the optical waveguide 22. 24 are formed to form a number of optical IC patterns on one wafer (not shown). Next, the optical IC patterns are cut out from the wafer in sets by using, for example, a dicing apparatus having a diamond cutter.
And polishing the surface to which the second arrays 16 and 18 are bonded. Thereafter, each of the optical IC patterns is cut from each group by using the same dicing device to separate the optical IC patterns into a number of optical waveguide chips.
Is obtained (see FIG. 1).

【0023】そして、1つの光導波路チップ14に対し
て、すでに光ファイバ10、12が固着された第1及び
第2のアレイ16、18がそれぞれ接合される。光導波
路チップ14の両端面のうち、偏光子26近傍の端面に
第2のアレイ18が、金属電極24近傍の端面に第1の
アレイ16が光軸を合わせてそれぞれ接合される。この
とき、光出力が最も強くなるように光軸調整がとられな
がら接着用樹脂による接着が行われる。
Then, the first and second arrays 16 and 18 to which the optical fibers 10 and 12 are already fixed are bonded to one optical waveguide chip 14, respectively. Of the two end faces of the optical waveguide chip 14, the second array 18 is joined to the end face near the polarizer 26, and the first array 16 is joined to the end face near the metal electrode 24 with their optical axes aligned. At this time, the bonding with the bonding resin is performed while the optical axis is adjusted so that the light output becomes the strongest.

【0024】具体的には、まず、光導波路22を通じて
伝搬される光源からの光を光検出器(図示せず)にて計
測しながら第1のアレイ16に固着された光ファイバ1
0の偏波保存面が光導波路22の偏波方向と一致するよ
うに、図1中、XYZの直交3軸方向と光ファイバ10
の2芯(始端部10aと終端部10b)の回転方向につ
いての光軸調整を行う。これと並行して、光導波路22
の他の端面側に光検出器を配置し(図示せず)、該光導
波路22の2本の分岐路を通じて出力される光源からの
光を上記光検出器にて計測しながら第2のアレイ18に
固着された光ファイバ12の偏波保存面が光導波路22
の偏波方向と一致するように、図1中、XYZの直交3
軸方向についての光軸調整を行う。それぞれの光軸調整
が終了した段階でこれら第1のアレイ16と光導波路チ
ップ14および第2のアレイ18と光導波路チップ14
の接着用樹脂による接合が、同時に行われる。
Specifically, first, the optical fiber 1 fixed to the first array 16 is measured while measuring the light from the light source propagated through the optical waveguide 22 with a photodetector (not shown).
In FIG. 1, the three orthogonal XYZ directions and the optical fiber 10 in FIG.
The optical axis is adjusted with respect to the rotation direction of the two cores (start end 10a and end 10b). In parallel with this, the optical waveguide 22
A photodetector is arranged on the other end surface side (not shown) of the second array while measuring the light from the light source output through the two branch paths of the optical waveguide 22 with the photodetector. The polarization preserving surface of the optical fiber 12 fixed to the
In FIG. 1, XYZ orthogonal 3
The optical axis is adjusted in the axial direction. When the respective optical axis adjustments are completed, the first array 16 and the optical waveguide chip 14 and the second array 18 and the optical waveguide chip 14
Are simultaneously performed with the bonding resin.

【0025】光軸調整および接着作業は、4〜8倍の光
学倍率をもつCCDカメラが接続された位置決め治具を
用いて行われる。
The optical axis adjustment and the bonding operation are performed using a positioning jig to which a CCD camera having an optical magnification of 4 to 8 times is connected.

【0026】まず、位置決め治具を用いて光導波路チッ
プ14の2本の分岐路を有する側の端面と第1のアレイ
16の端面中、光ファイバ10の自由端側端面16a
(図2参照)の平行出しを約±0.1degの範囲内で
行い、間隙を生じないように密着させる。これによっ
て、接合面の平面出しが行われる。次いで、前記CCD
カメラを用いて接合面の間隙を観察しながら位置決め治
具を用いて第1のアレイ16と光導波路チップ14とを
離間して所定の幅の間隙を確保する。この段階で前記し
た光導波路チップ14と第1のアレイ16との光軸調整
を行う。これと並行して、同様の方法により、第2のア
レイ18と光導波路チップ14の接合面の平面出し、間
隙調整、光軸調整を行う。その後、光導波路チップ14
とアレイ16および第2のアレイ18と光導波路チップ
14のそれぞれの接合面の間隙に紫外線硬化型接着用樹
脂を充填し、引き続き、XY軸を微調整する。間隙が所
定の幅に保持されていることを確認した後、紫外線を照
射して接着用樹脂を硬化して接合作業が完了する。
First, a free end face 16a of the optical fiber 10 in the end face of the optical waveguide chip 14 having two branch paths and the end face of the first array 16 using a positioning jig.
The parallel alignment (see FIG. 2) is performed within a range of about ± 0.1 deg, and they are brought into close contact with each other without any gap. Thereby, the joining surface is flattened. Next, the CCD
The first array 16 and the optical waveguide chip 14 are separated from each other by using a positioning jig while observing the gap between the joining surfaces using a camera, and a gap having a predetermined width is secured. At this stage, the optical axis of the optical waveguide chip 14 and the first array 16 is adjusted. In parallel with this, the same method is used to make the joint surface between the second array 18 and the optical waveguide chip 14 flat, adjust the gap, and adjust the optical axis. Thereafter, the optical waveguide chip 14
The gap between the bonding surfaces of the optical waveguide chip 14 and the array 16 and the second array 18 and the optical waveguide chip 14 is filled with an ultraviolet-curing adhesive resin, and then the XY axes are finely adjusted. After confirming that the gap is maintained at a predetermined width, the bonding resin is cured by irradiating ultraviolet rays to complete the joining operation.

【0027】上記した作業のうち接着用樹脂による接合
工程を、第1のアレイ16と光導波路チップ14との接
合工程を例にとって、さらに詳細に説明する。
The bonding step using the adhesive resin in the above operation will be described in more detail by taking the bonding step between the first array 16 and the optical waveguide chip 14 as an example.

【0028】図4に示すように、第1のアレイ16の2
枚の基板16A、16Bのうち、基板16Aには、V字
状の溝30bが形成され、当該溝30bに光ファイバ1
0が配設されており、光ファイバ10の下端部とV字状
の溝30bの下端部とは離間し、その間に室温硬化型接
着用樹脂層31が介在している。該基板16Aの端面1
6aの高さ(図4中、上下方向)は約3mmであり、配
設される光ファイバ10の直径はコア部で約80μmで
ありこれを被覆するクラッド部を含めると約200μm
である。
As shown in FIG. 4, two of the first arrays 16
Of the substrates 16A and 16B, a V-shaped groove 30b is formed in the substrate 16A, and the optical fiber 1 is inserted into the groove 30b.
The lower end of the optical fiber 10 and the lower end of the V-shaped groove 30b are separated from each other, and the room-temperature-curable adhesive resin layer 31 is interposed therebetween. End face 1 of the substrate 16A
The height of the optical fiber 6a (vertical direction in FIG. 4) is about 3 mm, the diameter of the optical fiber 10 provided is about 80 μm at the core, and about 200 μm including the clad covering the core.
It is.

【0029】一方、光導波路チップ14は、光導波路2
2を伝搬する光の偏波面の方向の端面14aの高さ(図
4中、上下方向)が約1mmであり、Tiの拡散により
光導波路チップ14表層に形成される光導波路22の高
さ(図4中、上下方向)は数μmである。なお、光導波
路チップ14の幅(図4中、紙面垂直方向)は約2mm
であり、光導波路22の幅(図4中、紙面垂直方向)は
数μmである。光導波路チップ14と第1のアレイ16
とは光導波路22の断面中心線と光ファイバ10の断面
中心線が同軸、すなわち、光軸のずれが0.2μm以下
となるように、図4中、上下方向および紙面垂直方向に
位置決めされている。本実施の形態では、仮に真の間隙
の幅Wのばらつきが±2μm程度生じたとしても光軸の
ずれは±0.1度程度の許容範囲内に収まることから結
合損失の増加の問題を生じることがなく、また、温度特
性の劣化や光導波路チップ14および第1のアレイ16
の作製上の寸法のばらつきを考慮すると、真の間隙の幅
Wを約8μmに設定することが望ましい。
On the other hand, the optical waveguide chip 14 is
The height (vertical direction in FIG. 4) of the end face 14a in the direction of the polarization plane of the light propagating through 2 is about 1 mm, and the height of the optical waveguide 22 formed on the surface layer of the optical waveguide chip 14 by diffusion of Ti ( The vertical direction in FIG. 4 is several μm. The width of the optical waveguide chip 14 (in the direction perpendicular to the paper of FIG. 4) is about 2 mm.
The width of the optical waveguide 22 (in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 4) is several μm. Optical waveguide chip 14 and first array 16
4 means that the cross-sectional center line of the optical waveguide 22 and the cross-sectional center line of the optical fiber 10 are coaxial, that is, positioned in the vertical direction and the paper vertical direction in FIG. 4 so that the deviation of the optical axis is 0.2 μm or less. I have. In the present embodiment, even if the variation in the width W of the true gap occurs about ± 2 μm, the deviation of the optical axis falls within the allowable range of about ± 0.1 degrees, so that a problem of an increase in coupling loss occurs. Without deteriorating the temperature characteristics and the optical waveguide chip 14 and the first array 16
In consideration of the dimensional variation in the fabrication of the device, it is desirable to set the width W of the true gap to about 8 μm.

【0030】前記間隙に、紫外線硬化型接着用樹脂層3
8として製品使用時の耐湿性の確保と熱膨張の抑制に配
慮したピグテイル用樹脂(ダイキン工業社製 商品名
「UV−3000」)を充填する。次いで、図4中、上
下方向の2箇所より、高圧水銀ランプ(300〜400
nm)を光源とする紫外線照射装置40a、40bを用
いて紫外線を照射する。このときの紫外線照射条件は、
各紫外線照射装置40a、40bとも、紫外線の照射強
度を150mW/cm2 に設定して60秒間照射する。
このとき、照射量は9000mJ/cm2 である。な
お、3以上の方向から紫外線を照射するときは、第1の
アレイ16と光導波路チップ14の接合面を中心におい
て、それぞれ均等に分割した角度(例えば、3方向から
のときは、120度の角度)から行うことが好ましい。
In the gap, an ultraviolet-curing adhesive resin layer 3
No. 8 is filled with a pigtail resin (trade name “UV-3000” manufactured by Daikin Industries, Ltd.) in consideration of ensuring moisture resistance when using the product and suppressing thermal expansion. Next, in FIG. 4, a high-pressure mercury lamp (300 to 400
nm) as the light source using ultraviolet irradiation devices 40a and 40b. The UV irradiation conditions at this time are as follows:
In each of the ultraviolet irradiation devices 40a and 40b, irradiation is performed for 60 seconds with the irradiation intensity of the ultraviolet light set to 150 mW / cm 2 .
At this time, the irradiation amount is 9000 mJ / cm 2 . Note that when irradiating ultraviolet rays from three or more directions, angles divided equally around the joint surface between the first array 16 and the optical waveguide chip 14 (for example, 120 degrees when viewed from three directions) Angle).

【0031】上記紫外線照射条件は、以下の検討結果に
基づいて設定したものである。
The ultraviolet irradiation conditions are set based on the following examination results.

【0032】まず、図5、図6に1方向および対向する
2方向からそれぞれ紫外線を照射したときの結合損失の
劣化のばらつきを示す。図5は、従来の方法として、1
方向から照射出力50mWで180秒間照射した29個
のサンプルについて、結合損失の劣化レベルごとの出現
頻度(個数)を示したものである。一方、図6は、本実
施の形態に係る方法として、対向する2方向からそれぞ
れ照射出力150mWで60秒間照射した約400個の
サンプルについて、図5の場合と同様に、結合損失の劣
化レベルごとの出現頻度(個数)を示したものである。
First, FIGS. 5 and 6 show variations in deterioration of coupling loss when ultraviolet rays are irradiated from one direction and two opposite directions. FIG. 5 shows 1
It shows the appearance frequency (number) of each of the coupling loss deterioration levels for 29 samples irradiated for 180 seconds at an irradiation output of 50 mW from the direction. On the other hand, FIG. 6 shows, as a method according to the present embodiment, about 400 samples irradiated for 60 seconds at an irradiation power of 150 mW from two opposite directions, respectively, as in FIG. Shows the appearance frequency (number) of.

【0033】結合損失の劣化は、1方向から紫外線を照
射した場合の中央値が0.6dBであるのに対して、対
向する2方向から紫外線を照射した場合の中央値が0d
Bであり、対向する2方向から紫外線を照射することに
より結合損失の劣化が大幅に改善されることがわかっ
た。
The deterioration of the coupling loss is such that the median value when irradiating ultraviolet rays from one direction is 0.6 dB, while the median value when irradiating ultraviolet rays from two opposing directions is 0 dB.
B, and it was found that the deterioration of the coupling loss was significantly improved by irradiating ultraviolet rays from two opposing directions.

【0034】図7に、対向する2方向からの紫外線の照
射量を変えて照射したときの2方向からの紫外線の照射
量の差と結合損失の劣化との関係を示す。具体的には、
照射時間をそれぞれ60秒に固定し、照射出力を一方は
50mWに固定し他方は0mWから漸次増加する方法で
行った。結合損失の劣化は、紫外線の照射量の差が0m
J/cm2 のときの結合損失の劣化0.08dBを頂点
としてほぼ2次曲線的に増加する傾向を示した。実用上
許容できる結合損失の劣化の上限は約0.1dBであ
り、したがって、異なる方向からの紫外線の照射量の差
を600mJ/cm2 以下とすることが望ましいことが
わかった。また、紫外線の照射強度の差が10mW/c
2 超えると結合損失の劣化が0.1dBを超えること
から、紫外線の照射強度の差は10mW/cm2 以下と
することが望ましいこともわかった(図8参照)。
FIG. 7 shows the relationship between the difference between the irradiation amounts of the ultraviolet rays from the two directions and the deterioration of the coupling loss when the irradiation is performed while changing the irradiation amounts of the ultraviolet rays from the two opposite directions. In particular,
The irradiation time was fixed at 60 seconds, and the irradiation power was fixed at 50 mW on one side and gradually increased from 0 mW on the other side. Deterioration of the coupling loss is caused by the difference in the irradiation amount of ultraviolet rays being 0 m.
There was a tendency to increase almost in a quadratic curve with the peak of the deterioration of the coupling loss at J / cm 2 being 0.08 dB. The practically allowable upper limit of the deterioration of the coupling loss is about 0.1 dB, and therefore, it has been found that it is desirable that the difference between the irradiation amounts of ultraviolet rays from different directions be 600 mJ / cm 2 or less. Further, the difference in the irradiation intensity of the ultraviolet rays is 10 mW / c.
If m 2 is exceeded, the deterioration of the coupling loss exceeds 0.1 dB, so it was also found that the difference in the irradiation intensity of ultraviolet rays was desirably 10 mW / cm 2 or less (see FIG. 8).

【0035】図9に、対向する2方向からの紫外線の照
射量を変えて照射したときの結合損失の劣化と温度特性
試験中の損失の増減最大値との関係を示し、図10に、
該結合損失の劣化と温度特性試験中の分岐比の変動との
関係を示す。このデータには紫外線の照射量の差が60
0mJ/cm2 を超えるものも含んでおり、図9および
図10中、結合損失の劣化が0dBおよびその近傍、
0.15dBのものは紫外線の照射量の差が600mJ
/cm2 以下の条件で照射したものであり、結合損失の
劣化が0.55dB、1.22dBのものは紫外線の照
射量の差が600mJ/cm2 を超える条件で照射した
ものである。ここで、温度特性試験は、図11に示すよ
うに、85℃と−40℃との間の一定の温度変化パター
ンを8時間サイクルで3サイクル繰り返し、試験中もリ
アルタイムで導波路の損失の増減と導波路の分岐比の変
動をみたものである。本実施の形態に係る光導波路チッ
プは、導波路の損失の増減の最大値が0.7dB以下、
導波路の分岐比の変動が3%以下となって、良好である
ことがわかった。
FIG. 9 shows the relationship between the deterioration of the coupling loss and the maximum value of the loss during the temperature characteristic test when the irradiation amount of the ultraviolet light from the two opposite directions is changed, and FIG.
The relationship between the deterioration of the coupling loss and the variation of the branching ratio during the temperature characteristic test will be described. This data shows that the difference in UV irradiation dose is 60
0 mJ / cm 2 and also contain in excess of that in FIG. 9 and FIG. 10, deterioration 0dB and near the coupling loss,
In the case of 0.15 dB, the difference in the irradiation amount of ultraviolet rays is 600 mJ.
/ Cm 2 or less, and those having a deterioration of the coupling loss of 0.55 dB and 1.22 dB are irradiated under the condition that the difference in the irradiation amount of the ultraviolet rays exceeds 600 mJ / cm 2 . Here, in the temperature characteristic test, as shown in FIG. 11, a constant temperature change pattern between 85 ° C. and −40 ° C. is repeated three times in an 8-hour cycle, and the loss of the waveguide is increased or decreased in real time even during the test. And the variation of the branching ratio of the waveguide. In the optical waveguide chip according to the present embodiment, the maximum value of the increase or decrease of the waveguide loss is 0.7 dB or less,
The variation in the branching ratio of the waveguide was 3% or less, which proved to be good.

【0036】これにより、本実施の形態に係る方法によ
り接合された光導波路チップ14および光ファイバアレ
イ16、18が完成する。
Thus, the optical waveguide chip 14 and the optical fiber arrays 16 and 18 joined by the method according to the present embodiment are completed.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光フ
ァイバアレイと光導波路チップの接合方法では、両者の
光軸を合わせて接合する方法において、前記光ファイバ
アレイと光導波路チップとの接合面に所定の幅の間隙を
設け、該間隙に接着用樹脂を充填し、紫外線を照射する
ことによって該樹脂を硬化して該光ファイバアレイと光
導波路チップとを接合するに際し、少なくとも対向する
方向を含む2以上の方向から紫外線を照射し、前記2以
上の方向から照射する紫外線の照射量の差を600mJ
/cm2 以下とする。
As described above, in the method for joining an optical fiber array and an optical waveguide chip according to the present invention, the method for joining the optical fiber array and the optical waveguide chip in alignment with the optical axes of the two includes: A gap having a predetermined width is provided on the surface, and the gap is filled with an adhesive resin, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to join the optical fiber array and the optical waveguide chip, at least in a facing direction. Irradiation from two or more directions including ultraviolet rays, and the difference of the irradiation amount of the ultraviolet rays irradiated from the two or more directions is 600 mJ.
/ Cm 2 or less.

【0038】このことから、光ファイバアレイと光導波
路チップの接合面における平行度を維持、確保すること
ができ、結合損失の劣化や温度特性試験における劣化の
少ない光導波路チップを得ることができるという効果が
得られる。また、2以上の各方向からの紫外線の照射強
度を大きくして、紫外線の照射時間を短縮することがで
きる。この場合、2以上の各方向から照射する紫外線の
照射強度の差を10mW/cm2 以下とすることによ
り、本発明の効果を一層発揮することができる。
From this, it is possible to maintain and secure the parallelism at the joint surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip, and to obtain an optical waveguide chip with less deterioration in coupling loss and temperature characteristic test. The effect is obtained. In addition, the irradiation intensity of ultraviolet rays from two or more directions can be increased, and the irradiation time of ultraviolet rays can be shortened. In this case, the effect of the present invention can be further exhibited by setting the difference between the irradiation intensities of the ultraviolet rays irradiated from two or more directions to 10 mW / cm 2 or less.

【0039】また、前記光ファイバアレイと光導波路チ
ップとの接合面における光軸のずれを0.2μm以下に
設定するとともに前記間隙の幅を6〜10μmの範囲内
に設定した後、該間隙に前記接着用樹脂を充填すること
により、前記した本発明の効果を一層発揮することがで
きる。
Further, the displacement of the optical axis at the joint surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip is set to 0.2 μm or less, and the width of the gap is set within a range of 6 to 10 μm. The effect of the present invention described above can be further exhibited by filling the adhesive resin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施の形態に係る光ファイバアレイにより接
続された光ファイバと光導波路チップの斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of an optical fiber and an optical waveguide chip connected by an optical fiber array according to the present embodiment.

【図2】前記光ファイバアレイに端部が分岐した光ファ
イバが固着された状態を示す分解斜視説明図である。
FIG. 2 is an exploded perspective view showing a state where an optical fiber whose end is branched is fixed to the optical fiber array.

【図3】前記光ファイバアレイに端部が1本である光フ
ァイバが固着された状態を示す分解斜視説明図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing a state where an optical fiber having one end is fixed to the optical fiber array.

【図4】本実施の形態に係る光ファイバアレイと光導波
路チップとの接合部の部分拡大断面図である。
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of a joint between the optical fiber array and the optical waveguide chip according to the present embodiment.

【図5】1方向から紫外線を照射する従来の接合方法を
用いて接合した光ファイバアレイと光導波路チップの結
合損失の劣化のばらつきの出現頻度を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the frequency of occurrence of variation in deterioration of coupling loss between an optical fiber array and an optical waveguide chip joined by using a conventional joining method of irradiating ultraviolet rays from one direction.

【図6】対向する2方向から所定の条件で紫外線を照射
する本実施の形態に係る接合方法を用いて接合した光フ
ァイバアレイと光導波路チップの結合損失の劣化のばら
つきの出現頻度を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the frequency of occurrence of variation in deterioration of coupling loss between an optical fiber array and an optical waveguide chip joined using the joining method according to the present embodiment in which ultraviolet light is irradiated under predetermined conditions from two opposite directions. It is.

【図7】対向する2方向からの紫外線の照射量を変えて
照射したときの照射量の差と結合損失の劣化との関係を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between a difference in irradiation amount and a deterioration in coupling loss when irradiation is performed while changing irradiation amounts of ultraviolet rays from two opposing directions.

【図8】対向する2方向からの紫外線の照射量を変えて
照射したときの照射強度の差と結合損失の劣化との関係
を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a difference in irradiation intensity and a deterioration in coupling loss when irradiation is performed while changing the irradiation amount of ultraviolet rays from two opposite directions.

【図9】対向する2方向からの紫外線の照射量を変えて
照射したときの結合損失の劣化と高温環境下の劣化試験
評価における導波路の損失の増減最大値との関係を示す
図である。
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between deterioration of coupling loss when irradiation is performed while changing the irradiation amount of ultraviolet rays from two opposing directions and a maximum value of increase and decrease of loss of a waveguide in a deterioration test evaluation under a high temperature environment. .

【図10】対向する2方向からの紫外線の照射量を変え
て照射したときの結合損失の劣化と高温環境下の劣化試
験評価における導波路の分岐比の変動との関係を示す図
である。
FIG. 10 is a graph showing the relationship between the deterioration of coupling loss when irradiation is performed while changing the irradiation amount of ultraviolet light from two opposing directions, and the change in the branching ratio of the waveguide in the deterioration test evaluation under a high temperature environment.

【図11】温度特性試験における1サイクルの温度変化
パターンを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a temperature change pattern in one cycle in a temperature characteristic test.

【図12】接合面に対して1方向から紫外線を照射する
従来の接合方法を説明するための図である。
FIG. 12 is a view for explaining a conventional bonding method of irradiating a bonding surface with ultraviolet light from one direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、12…光ファイバ 14…光導波路チッ
プ 14a、16a…端面 16、18…アレイ 20…LiNbO3 基板 22…光導波路 24…金属電極 26…偏光子 30a、30b、34…溝 32、36…座繰り
部 38…接着用樹脂層 40a、40b…紫
外線照射装置 L…間隙の幅
10 and 12 ... optical fiber 14 ... optical waveguide chip 14a, 16a ... end surface 16, 18 ... the array 20 ... LiNbO 3 substrate 22 ... optical waveguide 24 ... metal electrodes 26 ... polarizer 30a, 30b, 34 ... grooves 32, 36 ... seat Rolling portion 38: Adhesive resin layer 40a, 40b: UV irradiation device L: Width of gap

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光ファイバアレイと光導波路チップとを光
軸を合わせて接合する方法において、 前記光ファイバアレイと光導波路チップとの接合面に所
定の幅の間隙を設け、該間隙に接着用樹脂を充填し、紫
外線を照射することによって該接着用樹脂を硬化して該
光ファイバアレイと光導波路チップとを接合するに際
し、 少なくとも対向する方向を含む2以上の方向から紫外線
を照射し、 前記2以上の方向から照射する紫外線の照射量の差を6
00mJ/cm2 以下とすることを特徴とする光ファイ
バアレイと光導波路チップの接合方法。
1. A method of joining an optical fiber array and an optical waveguide chip with an optical axis aligned, wherein a gap having a predetermined width is provided on a joining surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip, and the gap is used for bonding. When the resin is filled and the bonding resin is cured by irradiating ultraviolet rays to join the optical fiber array and the optical waveguide chip, ultraviolet rays are irradiated from at least two directions including at least opposing directions. The difference between the irradiation amounts of the ultraviolet rays irradiated from two or more directions is 6
A method for joining an optical fiber array and an optical waveguide chip, wherein the method is not more than 00 mJ / cm 2 .
【請求項2】請求項1記載の光ファイバアレイと光導波
路チップの接合方法において、 前記2以上の方向から照射する紫外線の照射強度の差を
10mW/cm2 以下とすることを特徴とする光ファイ
バアレイと光導波路チップの接合方法。
2. The method of joining an optical fiber array and an optical waveguide chip according to claim 1, wherein the difference in irradiation intensity between the ultraviolet rays irradiated from the two or more directions is 10 mW / cm 2 or less. A method for joining a fiber array and an optical waveguide chip.
【請求項3】請求項1または2記載の光ファイバアレイ
と光導波路チップの接合方法において、 前記光ファイバアレイと光導波路チップとの接合面にお
ける光軸のずれを0.2μm以下に設定するとともに前
記間隙の幅を6〜10μmの範囲内に設定した後、該間
隙に前記接着用樹脂を充填することを特徴とする光ファ
イバアレイと光導波路チップの接合方法。
3. The method for bonding an optical fiber array and an optical waveguide chip according to claim 1 or 2, wherein a deviation of an optical axis at a bonding surface between the optical fiber array and the optical waveguide chip is set to 0.2 μm or less. A method for bonding an optical fiber array and an optical waveguide chip, wherein the gap is filled with the adhesive resin after setting the width of the gap within a range of 6 to 10 μm.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010286734A (en) * 2009-06-12 2010-12-24 Sumitomo Bakelite Co Ltd Composite optical waveguide
US20220385373A1 (en) * 2021-05-28 2022-12-01 Fujitsu Limited Wavelength converter, optical communication apparatus, and optical waveguide substrate

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