JPH112708A - レーザ用ミラーおよびその製造方法 - Google Patents
レーザ用ミラーおよびその製造方法Info
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- JPH112708A JPH112708A JP9169485A JP16948597A JPH112708A JP H112708 A JPH112708 A JP H112708A JP 9169485 A JP9169485 A JP 9169485A JP 16948597 A JP16948597 A JP 16948597A JP H112708 A JPH112708 A JP H112708A
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- metal film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ用ミラーの耐久性等を向上させる。
【解決手段】 アルミニウムや銀の金属からなる基板１
に所定の層数を有する高反射率誘電体多層膜２を積層し
て、高帯域、高反射率、高耐光力のレーザ用ミラーを得
る。基板１にアルミニウムや銀の単結晶を用いること
で、結晶粒界による光の散乱や吸収を回避し、光学特性
や耐久性を向上させる。
に所定の層数を有する高反射率誘電体多層膜２を積層し
て、高帯域、高反射率、高耐光力のレーザ用ミラーを得
る。基板１にアルミニウムや銀の単結晶を用いること
で、結晶粒界による光の散乱や吸収を回避し、光学特性
や耐久性を向上させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＹＡＧレーザ、Ｃ
Ｏ2 レーザ、エキシマレーザ等の高出力レーザの光に対
して、高帯域、高反射率、高耐光力等のすぐれた特性を
示すレーザ用ミラーおよびその製造方法に関するもので
ある。
Ｏ2 レーザ、エキシマレーザ等の高出力レーザの光に対
して、高帯域、高反射率、高耐光力等のすぐれた特性を
示すレーザ用ミラーおよびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来から、特にＹＡＧレーザ、ＣＯ2 レ
ーザ、エキシマレーザ等の高出力の光に用いる反射鏡と
して、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）等の高反射率
を有する金属膜と高反射率誘電体多層膜を組み合わせた
レーザ用ミラーが知られている。アルミニウム、銀等の
金属膜は、抵抗加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパ
ッタリング法等の公知の真空成膜法等によって基板上に
成膜される。
ーザ、エキシマレーザ等の高出力の光に用いる反射鏡と
して、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）等の高反射率
を有する金属膜と高反射率誘電体多層膜を組み合わせた
レーザ用ミラーが知られている。アルミニウム、銀等の
金属膜は、抵抗加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパ
ッタリング法等の公知の真空成膜法等によって基板上に
成膜される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように真空成膜法等によって成
膜された金属膜は、多結晶体であって、その結晶粒の大
きさはサブミクロンから数ミクロンの大きさである。こ
れをレーザ光のような単位面積当たりのエネルギーの高
い光で使用していると、アルミニウム、銀等の金属の再
結晶化等によって当初の光学特性とは異なったものに変
化してしまうという未解決の課題があった。すなわち、
アルミニウム、銀等の金属膜の結晶粒の大きさがかなり
小さいために、結晶粒界においてレーザ光が散乱を起こ
してレーザ光の性能を悪化させ、また、結晶粒界におけ
る光の吸収がアルミニウム、銀等の金属膜の再結晶化を
招き、レーザ用ミラーとしての必要特性を劣化させる。
の技術によれば、前述のように真空成膜法等によって成
膜された金属膜は、多結晶体であって、その結晶粒の大
きさはサブミクロンから数ミクロンの大きさである。こ
れをレーザ光のような単位面積当たりのエネルギーの高
い光で使用していると、アルミニウム、銀等の金属の再
結晶化等によって当初の光学特性とは異なったものに変
化してしまうという未解決の課題があった。すなわち、
アルミニウム、銀等の金属膜の結晶粒の大きさがかなり
小さいために、結晶粒界においてレーザ光が散乱を起こ
してレーザ光の性能を悪化させ、また、結晶粒界におけ
る光の吸収がアルミニウム、銀等の金属膜の再結晶化を
招き、レーザ用ミラーとしての必要特性を劣化させる。
【０００４】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、高反射率や高耐光力
等のすぐれた特性を有し、しかも、光の散乱が少なくて
耐久性も充分であるレーザ用ミラーおよびその製造方法
を提供することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、高反射率や高耐光力
等のすぐれた特性を有し、しかも、光の散乱が少なくて
耐久性も充分であるレーザ用ミラーおよびその製造方法
を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のレーザ用ミラーは、高反射率を有する金属
基板と、該金属基板に積層された高反射率誘電体多層膜
を有し、前記金属基板が単結晶の金属であることを特徴
とする。
めに本発明のレーザ用ミラーは、高反射率を有する金属
基板と、該金属基板に積層された高反射率誘電体多層膜
を有し、前記金属基板が単結晶の金属であることを特徴
とする。
【０００６】高反射率を有する金属膜と、該金属膜に積
層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電体多
層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基板を
有し、前記金属膜が単結晶の金属であることを特徴とす
るレーザ用ミラーでもよい。
層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電体多
層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基板を
有し、前記金属膜が単結晶の金属であることを特徴とす
るレーザ用ミラーでもよい。
【０００７】また高反射率を有する金属膜と、該金属膜
に積層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電
体多層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基
板を有し、前記金属膜が、結晶粒径０．１ｍｍ以上の多
結晶の金属であることを特徴とするレーザ用ミラーでも
よい。
に積層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電
体多層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基
板を有し、前記金属膜が、結晶粒径０．１ｍｍ以上の多
結晶の金属であることを特徴とするレーザ用ミラーでも
よい。
【０００８】本発明のレーザ用ミラーの製造方法は、高
反射率を有する金属膜を基板に成膜する工程と、成膜さ
れた金属膜に保護膜を被着させる工程と、保護膜を被着
させた金属膜を所定の温度条件にて熱処理する工程と、
熱処理した金属膜に高反射率誘電体多層膜を積層する工
程を有することを特徴とする。
反射率を有する金属膜を基板に成膜する工程と、成膜さ
れた金属膜に保護膜を被着させる工程と、保護膜を被着
させた金属膜を所定の温度条件にて熱処理する工程と、
熱処理した金属膜に高反射率誘電体多層膜を積層する工
程を有することを特徴とする。
【０００９】また、高反射率を有する金属膜を基板に成
膜する工程と、成膜された金属膜に高反射率誘電体多層
膜を積層する工程と、高反射率誘電体多層膜を積層した
金属膜を所定の温度条件にて熱処理する工程を有するも
のでもよい。
膜する工程と、成膜された金属膜に高反射率誘電体多層
膜を積層する工程と、高反射率誘電体多層膜を積層した
金属膜を所定の温度条件にて熱処理する工程を有するも
のでもよい。
【００１０】
【作用】高反射率を有する金属基板または金属膜と高反
射率誘電体多層膜を組み合わせることで、高反射率、高
帯域等のすぐれた特性を有し、しかも、必要層数が少な
くて製造コストの低いレーザ用ミラーを実現できるが、
金属基板または金属膜が結晶粒径の小さい多結晶の金属
であれば、結晶粒界における散乱や吸収のために光学特
性や耐久性が低下する。そこで、金属基板や金属膜を結
晶粒界のない単結晶あるいは結晶粒径が大きくて結晶粒
界の少ない多結晶の金属にすることで、前述の散乱や吸
収によトラブルを回避する。
射率誘電体多層膜を組み合わせることで、高反射率、高
帯域等のすぐれた特性を有し、しかも、必要層数が少な
くて製造コストの低いレーザ用ミラーを実現できるが、
金属基板または金属膜が結晶粒径の小さい多結晶の金属
であれば、結晶粒界における散乱や吸収のために光学特
性や耐久性が低下する。そこで、金属基板や金属膜を結
晶粒界のない単結晶あるいは結晶粒径が大きくて結晶粒
界の少ない多結晶の金属にすることで、前述の散乱や吸
収によトラブルを回避する。
【００１１】単結晶の金属基板は、公知の融液から育成
された単結晶金属から切り出すことによって製作され
る。
された単結晶金属から切り出すことによって製作され
る。
【００１２】基板に金属膜を成膜し、その上に高反射率
誘電体多層膜を積層する場合は、公知の真空成膜法によ
って多結晶の金属膜を基板に被着させ、熱処理によって
単結晶または結晶粒径の大きい多結晶に再結晶化する。
誘電体多層膜を積層する場合は、公知の真空成膜法によ
って多結晶の金属膜を基板に被着させ、熱処理によって
単結晶または結晶粒径の大きい多結晶に再結晶化する。
【００１３】金属膜に高反射率誘電体多層膜を積層する
前に金属膜を熱処理するときは、金属膜の上にこれと反
応しない保護膜を設ける。
前に金属膜を熱処理するときは、金属膜の上にこれと反
応しない保護膜を設ける。
【００１４】あるいは、金属膜に高反射率誘電体多層膜
を積層したうえで、金属膜の再結晶化のための熱処理を
行なってもよい。この場合は、高反射率誘電体多層膜が
保護膜の役目をする。
を積層したうえで、金属膜の再結晶化のための熱処理を
行なってもよい。この場合は、高反射率誘電体多層膜が
保護膜の役目をする。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１６】（第１の実施の形態）図１は第１の実施の
形態によるレーザ用ミラーＥ1 を示すもので、これは、
アルミニウムや銀等の高反射率の金属の単結晶からなる
金属基板である基板１と、その表面に積層された高反射
率誘電体多層膜２によって構成される。基板１が高反射
率の金属であるから、これに積層された高反射率誘電体
多層膜２の必要層数は、ガラス、金属酸化物やシリコン
の半導体等の基板に積層された場合に比べて大幅に低減
される。すなわち、少ない層数で充分に高帯域、高反射
率および高耐光力であるレーザ用ミラーを得ることがで
きる。
形態によるレーザ用ミラーＥ1 を示すもので、これは、
アルミニウムや銀等の高反射率の金属の単結晶からなる
金属基板である基板１と、その表面に積層された高反射
率誘電体多層膜２によって構成される。基板１が高反射
率の金属であるから、これに積層された高反射率誘電体
多層膜２の必要層数は、ガラス、金属酸化物やシリコン
の半導体等の基板に積層された場合に比べて大幅に低減
される。すなわち、少ない層数で充分に高帯域、高反射
率および高耐光力であるレーザ用ミラーを得ることがで
きる。
【００１７】アルミニウムや銀等の単結晶は、公知のブ
リッジマン法、ゾーンメルト法等による融液から育成さ
れる。基板１そのものが単結晶の金属であるから、反射
鏡全体の加工性、耐光性、熱伝導性等にすぐれており、
しかも、結晶粒界による光の吸収や、光の散乱を低く押
さえることができる。このようにして、耐久性を向上さ
せ、長時間使用しても反射率等が変化することのない高
品質のレーザ用ミラーを実現できる。
リッジマン法、ゾーンメルト法等による融液から育成さ
れる。基板１そのものが単結晶の金属であるから、反射
鏡全体の加工性、耐光性、熱伝導性等にすぐれており、
しかも、結晶粒界による光の吸収や、光の散乱を低く押
さえることができる。このようにして、耐久性を向上さ
せ、長時間使用しても反射率等が変化することのない高
品質のレーザ用ミラーを実現できる。
【００１８】特に、上記の方法で育成されたアルミニウ
ムや銀の単結晶は面心立方晶であるから、結晶の（１１
１）面の加工性が良好で、光学特性もすぐれている。従
って、（１１１）面に沿って加工するのが望ましい。
ムや銀の単結晶は面心立方晶であるから、結晶の（１１
１）面の加工性が良好で、光学特性もすぐれている。従
って、（１１１）面に沿って加工するのが望ましい。
【００１９】高反射率誘電体多層膜としては、例えば、
ＳｉＯ2 膜とＴｉＯ2 膜を交互に、所定数ずつ積層した
もの等（特開昭６４−７６７８８号公報参照）や、Ｍｇ
Ｆ2膜とＳｃ2 Ｏ3 膜を交互に所定数ずつ積層したもの
等（特開昭６３−２０８８０１号公報参照）を用いる。
ＳｉＯ2 膜とＴｉＯ2 膜を交互に、所定数ずつ積層した
もの等（特開昭６４−７６７８８号公報参照）や、Ｍｇ
Ｆ2膜とＳｃ2 Ｏ3 膜を交互に所定数ずつ積層したもの
等（特開昭６３−２０８８０１号公報参照）を用いる。
【００２０】このように、金属基板として、加工性、熱
伝導性等が良好で、高耐光力である単結晶のアルミニウ
ムや銀等を用いることで、高帯域、高反射率、高耐光力
等のすぐれた特性を有し、これらの特性が長時間変化す
ることなく、しかも、安価であるレーザ用ミラーを実現
できる。
伝導性等が良好で、高耐光力である単結晶のアルミニウ
ムや銀等を用いることで、高帯域、高反射率、高耐光力
等のすぐれた特性を有し、これらの特性が長時間変化す
ることなく、しかも、安価であるレーザ用ミラーを実現
できる。
【００２１】（実施例１）超精密に研磨されたアルミニ
ウム（Ａ１）の単結晶の表面に、高反射率誘電体多層膜
を形成して、図１の膜構成のレーザ用ミラーを製作し、
これに、レーザ光を３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８回照射
したところ反射率は全く変化しなかった。
ウム（Ａ１）の単結晶の表面に、高反射率誘電体多層膜
を形成して、図１の膜構成のレーザ用ミラーを製作し、
これに、レーザ光を３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８回照射
したところ反射率は全く変化しなかった。
【００２２】（実施例２）実施例１のアルミニウムの単
結晶の替わりに銀の単結晶を使用したところ、同様の耐
久性を示した。
結晶の替わりに銀の単結晶を使用したところ、同様の耐
久性を示した。
【００２３】（第２の実施の形態）図２は第２の実施の
形態によるレーザ用ミラーＥ2 を示す。これは、熱伝導
性の良好な酸化物、金属あるいはシリコン半導体等を材
料とする基板１０の表面に熱酸化膜等を介して、単結晶
または粒径の大きい多結晶のアルミニウム、銀等からな
る金属膜１１を積層し、その上に、酸化シリコン等の保
護膜１３を介して必要層数の高反射率誘電体多層膜１２
を積層したものである。金属膜１１が多結晶の金属であ
る場合は、結晶粒径を０．１ｍｍ以上とする。
形態によるレーザ用ミラーＥ2 を示す。これは、熱伝導
性の良好な酸化物、金属あるいはシリコン半導体等を材
料とする基板１０の表面に熱酸化膜等を介して、単結晶
または粒径の大きい多結晶のアルミニウム、銀等からな
る金属膜１１を積層し、その上に、酸化シリコン等の保
護膜１３を介して必要層数の高反射率誘電体多層膜１２
を積層したものである。金属膜１１が多結晶の金属であ
る場合は、結晶粒径を０．１ｍｍ以上とする。
【００２４】金属膜１１は、まず、真空蒸着等の公知の
成膜方法で多結晶の金属膜を成膜し、その上に保護膜１
３を設けて所定の熱処理を行なうことで、多結晶の金属
膜を単結晶あるいは結晶粒径が０．１ｍｍ以上の多結晶
の金属に再結晶させたものである。
成膜方法で多結晶の金属膜を成膜し、その上に保護膜１
３を設けて所定の熱処理を行なうことで、多結晶の金属
膜を単結晶あるいは結晶粒径が０．１ｍｍ以上の多結晶
の金属に再結晶させたものである。
【００２５】金属膜１１を成膜後に保護膜１３を積層す
ることなく、直接、高反射率誘電体多層膜１２を成膜
し、該高反射率誘電体多層膜１２を保護膜として、金属
膜１１を再結晶させるための熱処理を行なってもよい。
ることなく、直接、高反射率誘電体多層膜１２を成膜
し、該高反射率誘電体多層膜１２を保護膜として、金属
膜１１を再結晶させるための熱処理を行なってもよい。
【００２６】あるいは、金属膜１１を成膜後に保護膜１
３を積層することなく、そのままで不活性気流中で金属
膜１１の再結晶化の熱処理を行なってもよい。
３を積層することなく、そのままで不活性気流中で金属
膜１１の再結晶化の熱処理を行なってもよい。
【００２７】基板１０の材料としては、熱伝導性の良好
な単結晶酸化アルミニウム、単結晶酸化マグネシウム、
単結晶アルミニウム−マグネシウムスピネル等が好適で
あり、これらの酸化物以外では、炭化珪素等の炭化物、
タングステン、モリブデン、およびこれらの合金等やシ
リコン半導体等が用いられる。
な単結晶酸化アルミニウム、単結晶酸化マグネシウム、
単結晶アルミニウム−マグネシウムスピネル等が好適で
あり、これらの酸化物以外では、炭化珪素等の炭化物、
タングステン、モリブデン、およびこれらの合金等やシ
リコン半導体等が用いられる。
【００２８】また、保護膜１３の材料としては、アルミ
ニウムや銀等の高反射率金属と反応を起こさない酸化
物、窒化物あるいは弗化物等が用いられる。
ニウムや銀等の高反射率金属と反応を起こさない酸化
物、窒化物あるいは弗化物等が用いられる。
【００２９】高反射率誘電体多層膜１２の膜構成につい
ては、第１の実施の形態と同様である。
ては、第１の実施の形態と同様である。
【００３０】基板にアルミニウムや銀の高反射率金属膜
を公知の真空蒸着等によって成膜し、これを、単結晶あ
るいは結晶粒径の大きい多結晶の膜に再結晶させること
で、結晶粒界による光の散乱や吸収を大幅に低減する。
このようにして光学特性の劣化を防ぎ、耐久性にすぐれ
た高品質で安価なレーザ用ミラーを実現できる。
を公知の真空蒸着等によって成膜し、これを、単結晶あ
るいは結晶粒径の大きい多結晶の膜に再結晶させること
で、結晶粒界による光の散乱や吸収を大幅に低減する。
このようにして光学特性の劣化を防ぎ、耐久性にすぐれ
た高品質で安価なレーザ用ミラーを実現できる。
【００３１】（実施例３）シリコン単結晶の基板の表面
に熱酸化膜を５００ｎｍの厚さで形成する。この上にア
ルミニウムの真空蒸着膜を３００ｎｍの厚さで成膜し、
さらに酸化シリコンの保護膜をｎｄ＝λ／４（λ＝２４
９ｎｍ）の厚さで蒸着した。これを窒素雰囲気中で６５
０℃から温度勾配５０℃／ｃｍのところを速度０．１ｍ
ｍ／分で４００℃まで通過させた。室温においてＸ線回
折を行なったところ、アルミニウムは単結晶になってい
た。さらにこの上にＴｉＯ2 とＳｉＯ2 からなる高反射
率誘電体多層膜を形成した。得られたレーザ用ミラー
は、３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８回のＫｒＦエキシマレ
ーザの照射を行なっても反射率はなんら変化しなかっ
た。
に熱酸化膜を５００ｎｍの厚さで形成する。この上にア
ルミニウムの真空蒸着膜を３００ｎｍの厚さで成膜し、
さらに酸化シリコンの保護膜をｎｄ＝λ／４（λ＝２４
９ｎｍ）の厚さで蒸着した。これを窒素雰囲気中で６５
０℃から温度勾配５０℃／ｃｍのところを速度０．１ｍ
ｍ／分で４００℃まで通過させた。室温においてＸ線回
折を行なったところ、アルミニウムは単結晶になってい
た。さらにこの上にＴｉＯ2 とＳｉＯ2 からなる高反射
率誘電体多層膜を形成した。得られたレーザ用ミラー
は、３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８回のＫｒＦエキシマレ
ーザの照射を行なっても反射率はなんら変化しなかっ
た。
【００３２】（実施例４）実施例３のアルミニウムの替
わりに銀を用いて、膜厚、膜構成を同じにして窒素雰囲
気中で１０００℃から温度勾配７０℃／ｃｍのところを
速度０．１ｍｍ／分にて７００℃まで通過させた。この
ような処理を行なった銀の膜は単結晶になっていた。得
られたレーザ用ミラーは、３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８
回のＫｒＦエキシマレーザ光の照射を行なっても反射率
の変化は観察されなかった。
わりに銀を用いて、膜厚、膜構成を同じにして窒素雰囲
気中で１０００℃から温度勾配７０℃／ｃｍのところを
速度０．１ｍｍ／分にて７００℃まで通過させた。この
ような処理を行なった銀の膜は単結晶になっていた。得
られたレーザ用ミラーは、３０ｍＪ／ｃｍ2 で１０Ｅ８
回のＫｒＦエキシマレーザ光の照射を行なっても反射率
の変化は観察されなかった。
【００３３】（実施例５）実施例３と同じ膜材料、膜構
成にして、７００℃より温度勾配５０℃／ｃｍのところ
を速度２ｍｍ／分にて４００℃まで通過させた。このよ
うな処理によりアルミニウムは結晶粒径０．５ｍｍの大
きさの多結晶にすることができた。得られたレーザ用ミ
ラーの耐久性は単結晶膜アルミニウムを用いた場合と遜
色がなかった。
成にして、７００℃より温度勾配５０℃／ｃｍのところ
を速度２ｍｍ／分にて４００℃まで通過させた。このよ
うな処理によりアルミニウムは結晶粒径０．５ｍｍの大
きさの多結晶にすることができた。得られたレーザ用ミ
ラーの耐久性は単結晶膜アルミニウムを用いた場合と遜
色がなかった。
【００３４】（実施例６）実施例４と同じ膜材料、膜構
成にして、１０００℃より温度勾配５０℃／ｃｍのとこ
ろを速度２ｍｍ／分にて７００℃まで通過させた。この
ような処理により銀は結晶粒径０．６ｍｍの大きさの多
結晶体にすることができた。得られたレーザ用ミラーの
耐久性は単結晶の銀を用いた場合と遜色がなかった。
成にして、１０００℃より温度勾配５０℃／ｃｍのとこ
ろを速度２ｍｍ／分にて７００℃まで通過させた。この
ような処理により銀は結晶粒径０．６ｍｍの大きさの多
結晶体にすることができた。得られたレーザ用ミラーの
耐久性は単結晶の銀を用いた場合と遜色がなかった。
【００３５】以上の実施例においてはシリコン単結晶の
基板を使用したが、酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、アルミニウム−マグネシウムスピネル単結晶の基板
を使用しても耐久性は全く変わらなかった。
基板を使用したが、酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、アルミニウム−マグネシウムスピネル単結晶の基板
を使用しても耐久性は全く変わらなかった。
【００３６】なお、上記の実施例においては、アルミニ
ウムおよび銀の熱処理を融点以上の温度で行なっている
が、この熱処理においては、アルミニウムおよび銀は融
けている必要はなく、再結晶が起こる温度以上であれば
同様の効果が得られることが判明している。
ウムおよび銀の熱処理を融点以上の温度で行なっている
が、この熱処理においては、アルミニウムおよび銀は融
けている必要はなく、再結晶が起こる温度以上であれば
同様の効果が得られることが判明している。
【００３７】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００３８】高反射率や高耐光力等のすぐれた特性を有
し、しかも、光の散乱が少なくて耐久性も充分であるレ
ーザ用ミラーを実現できる。
し、しかも、光の散乱が少なくて耐久性も充分であるレ
ーザ用ミラーを実現できる。
【図１】第１の実施の形態によるレーザ用ミラーの膜構
成を示すものである。
成を示すものである。
【図２】第２の実施の形態によるレーザ用ミラーの膜構
成を示すものである。
成を示すものである。
１，１０ 基板 ２，１２ 高反射率誘電体多層膜 １１ 金属膜 １３ 保護膜
フロントページの続き (72)発明者 鈴木 康之 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 枇榔 竜二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 金沢 秀宏 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 高反射率を有する金属基板と、該金属基
板に積層された高反射率誘電体多層膜を有し、前記金属
基板が単結晶の金属であることを特徴とするレーザ用ミ
ラー。 - 【請求項２】 金属基板が、単結晶のアルミニウムまた
は単結晶の銀であることを特徴とする請求項１記載のレ
ーザ用ミラー。 - 【請求項３】 高反射率を有する金属膜と、該金属膜に
積層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電体
多層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基板
を有し、前記金属膜が単結晶の金属であることを特徴と
するレーザ用ミラー。 - 【請求項４】 金属膜が、単結晶のアルミニウムまたは
銀であることを特徴とする請求項３記載のレーザ用ミラ
ー。 - 【請求項５】 高反射率を有する金属膜と、該金属膜に
積層された高反射率誘電体多層膜と、該高反射率誘電体
多層膜および前記金属膜からなる積層体を支持する基板
を有し、前記金属膜が、結晶粒径０．１ｍｍ以上の多結
晶の金属であることを特徴とするレーザ用ミラー。 - 【請求項６】 金属膜が、結晶粒径０．１ｍｍ以上の多
結晶のアルミニウムまたは銀であることを特徴とする請
求項５記載のレーザ用ミラー。 - 【請求項７】 金属膜と高反射率誘電体多層膜の間に、
前記金属膜と反応しない保護膜が介在していることを特
徴とする請求項３ないし６いずれか１項記載のレーザ用
ミラー。 - 【請求項８】 高反射率を有する金属膜を基板に成膜す
る工程と、成膜された金属膜に保護膜を被着させる工程
と、保護膜を被着させた金属膜を所定の温度条件にて熱
処理する工程と、熱処理した金属膜に高反射率誘電体多
層膜を積層する工程を有するレーザ用ミラーの製造方
法。 - 【請求項９】 高反射率を有する金属膜を基板に成膜す
る工程と、成膜された金属膜に高反射率誘電体多層膜を
積層する工程と、高反射率誘電体多層膜を積層した金属
膜を所定の温度条件にて熱処理する工程を有するレーザ
用ミラーの製造方法。 - 【請求項１０】 金属膜が、アルミニウムまたは銀の膜
であることを特徴とする請求項８または９記載のレーザ
用ミラーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9169485A JPH112708A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | レーザ用ミラーおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9169485A JPH112708A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | レーザ用ミラーおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH112708A true JPH112708A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15887415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9169485A Pending JPH112708A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | レーザ用ミラーおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH112708A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4652189A (en) * | 1983-04-28 | 1987-03-24 | Mizoguchi Iron Works & Co., Ltd. | Cutting tool holder with oil holes |
| JP2002198600A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Miyachi Technos Corp | レーザ出力モニタ |
| JP2005258028A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Nec Viewtechnology Ltd | 光学部品及び投写型表示装置 |
| JP2007291529A (ja) * | 2001-03-13 | 2007-11-08 | Kiyousera Opt Kk | 金属膜被覆部材およびその製造方法 |
| US10444493B2 (en) | 2014-08-01 | 2019-10-15 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, manufacturing method for electro-optical device, and electronic apparatus |
-
1997
- 1997-06-11 JP JP9169485A patent/JPH112708A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4652189A (en) * | 1983-04-28 | 1987-03-24 | Mizoguchi Iron Works & Co., Ltd. | Cutting tool holder with oil holes |
| JP2002198600A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Miyachi Technos Corp | レーザ出力モニタ |
| JP2007291529A (ja) * | 2001-03-13 | 2007-11-08 | Kiyousera Opt Kk | 金属膜被覆部材およびその製造方法 |
| JP2005258028A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Nec Viewtechnology Ltd | 光学部品及び投写型表示装置 |
| US10444493B2 (en) | 2014-08-01 | 2019-10-15 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device, manufacturing method for electro-optical device, and electronic apparatus |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |