JPH11248907A - Metal mold for molding microoptical element - Google Patents

Metal mold for molding microoptical element

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JPH11248907A
JPH11248907A JP10049574A JP4957498A JPH11248907A JP H11248907 A JPH11248907 A JP H11248907A JP 10049574 A JP10049574 A JP 10049574A JP 4957498 A JP4957498 A JP 4957498A JP H11248907 A JPH11248907 A JP H11248907A
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JP
Japan
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cavity surface
indentation
molding
optical element
mold
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JP10049574A
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Japanese (ja)
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Masaaki Yamazaki
正明 山崎
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the metal mold which has no wrinkle formed nearby an indentation for an element by specifying the Vickers hardness of a cavity surface. SOLUTION: Many element identations 3b are formed on the cavity surface 3a of a metal mold body 3 by indentation machining. The indentation machining is carried out by pressing an indenter made of, for example, diamond against the cavity surface 3a with specific pressure. The cavity surface 3a is formed by forming an electroless nickel plating layer 5 on the metal mold base material 4. The Vickers hardness of this electroless plating layer 5 is >=500 Hv. The thickness W of the plating layer 5 is about three times as large as the indentation depth H of the indenter. A nonferrous material such as aluminum alloy and copper alloy is used for a metal mold base material 4. The surface of the plating layer 5 is polished into the cavity surface 3a in a mirror surface state.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロ光学素子
を成形するためのマイクロ光学素子成形用金型に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micro-optical element molding die for molding a micro-optical element.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、マイクロ光学素子として、例え
ば、凸レンズ,凹レンズ,プリズム等が知られている。
また、このようなマイクロ光学素子を多数配列してなる
マイクロ光学素子アレイを製造する方法として、キャビ
ティ面にマイクロ光学素子アレイの反転形状を形成した
金型を用いて、射出成形,圧縮成形,注型成形等により
樹脂を成形する方法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a micro optical element, for example, a convex lens, a concave lens, a prism and the like are known.
In addition, as a method of manufacturing a micro-optical element array in which a large number of such micro-optical elements are arranged, injection molding, compression molding, and injection molding are performed by using a mold having an inverted shape of the micro-optical element array formed on a cavity surface. A method of molding a resin by molding or the like is known.

【0003】一方、金型のキャビティ面にマイクロ光学
素子の反転形状を形成する方法として、切削加工,圧痕
加工等が知られている。そして、上述したマイクロ光学
素子アレイでは、キャビティ面に多数の光学素子の反転
形状を形成する必要があるため、加工が容易な圧痕加工
が多用されている。
On the other hand, as a method of forming an inverted shape of a micro optical element on a cavity surface of a mold, cutting, indentation, and the like are known. In the above-mentioned micro optical element array, it is necessary to form inverted shapes of a large number of optical elements on the cavity surface.

【0004】このような圧痕加工は、図6に示すよう
に、金型本体1のキャビティ面1aに、例えば、ダイヤ
モンドからなる圧子2を所定の圧力で押圧し、キャビテ
ィ面1aに、マイクロ光学素子の反転形状である素子用
圧痕1bを形成することにより行われる。
As shown in FIG. 6, such an indentation process presses, for example, an indenter 2 made of diamond on a cavity surface 1a of a mold body 1 at a predetermined pressure, and applies a micro-optical element to the cavity surface 1a. This is performed by forming an element impression 1b having an inverted shape of the above.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
このような圧痕加工により、キャビティ面1aに素子用
圧痕1bを形成すると、図7に示すように、素子用圧痕
1bの近傍に皺1cが発生するという問題があった。
However, conventionally,
When the element indentation 1b is formed on the cavity surface 1a by such indentation processing, there is a problem that wrinkles 1c are generated near the element indentation 1b as shown in FIG.

【0006】本発明者は、かかる従来の問題を解消すべ
く鋭意研究を行った結果、このように素子用圧痕1bの
近傍に皺1cが発生するのは、圧子2をキャビティ面1
aに押圧すると、図8に示すように、圧子2を押圧した
部分の材料の一部が横へ塑性流動し、素子用圧痕1bの
近傍において突出し、この突出部1dにより皺1cが形
成されることを見出した。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies in order to solve such a conventional problem. As a result, wrinkles 1c are generated near the element indentations 1b.
When pressed to a, a part of the material of the portion where the indenter 2 is pressed plastically flows laterally and protrudes in the vicinity of the element indentation 1b as shown in FIG. 8, and a wrinkle 1c is formed by the protrusion 1d. I found that.

【0007】そして、このような圧痕加工により素子用
圧痕1bの近傍に発生する突出部1dの大きさが、キャ
ビティ面1aの硬度が高くなるほど小さくなることを見
出した。本発明は、かかる知見に基づいてなされたもの
で、素子用圧痕の近傍に皺の発生のないマイクロ光学素
子成形用金型を提供することを目的とする。
It has been found that the size of the protrusion 1d generated near the element indentation 1b due to such indentation processing decreases as the hardness of the cavity surface 1a increases. The present invention has been made based on such knowledge, and an object of the present invention is to provide a mold for molding a micro optical element in which wrinkles are not generated in the vicinity of an element indentation.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1のマイクロ光学
素子成形用金型は、金型本体のキャビティ面に、マイク
ロ光学素子を成形するための多数の素子用圧痕を形成し
てなるマイクロ光学素子成形用金型において、前記キャ
ビティ面の表面のビッカース硬度を、500Hv以上の
硬度にしてなることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a mold for forming a micro optical element, wherein a plurality of element indentations for forming a micro optical element are formed on a cavity surface of a mold body. In the device molding die, the surface of the cavity surface may have a Vickers hardness of 500 Hv or more.

【0009】請求項2のマイクロ光学素子成形用金型
は、請求項1記載のマイクロ光学素子成形用金型におい
て、前記キャビティ面の表面のビッカース硬度を、85
0Hv以下の硬度にしてなることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a mold for molding a micro optical element according to the first aspect, wherein the cavity surface has a Vickers hardness of 85.
It is characterized by having a hardness of 0 Hv or less.

【0010】(作用)請求項1のマイクロ光学素子成形
用金型では、キャビティ面の表面のビッカース硬度が、
500Hv以上の硬度にされ、これにより、圧子のキャ
ビティ面への押圧時に、圧子を押圧した部分の材料の一
部が横へ塑性流動することが抑制され、素子用圧痕の近
傍に突出部が形成されることがなくなる。
(Function) In the mold for molding a micro optical element of the first aspect, the surface of the cavity surface has a Vickers hardness of:
When the indenter is pressed against the cavity surface, a part of the material of the portion pressed against the indenter is suppressed from laterally plastically flowing when the indenter is pressed against the cavity surface, and a protruding portion is formed near the indentation for the element. Will not be done.

【0011】請求項2のマイクロ光学素子成形用金型で
は、キャビティ面の表面のビッカース硬度が、850H
v以下の硬度にされ、圧痕加工による圧子の摩耗が防止
される。
According to the second aspect of the present invention, the surface of the cavity surface has a Vickers hardness of 850H.
v or less, and wear of the indenter due to indentation is prevented.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1および図2は、本発明のマイクロ光学
素子成形用金型の第1の実施形態を示すもので、この金
型は、マイクロ光学素子を多数配列してなるマイクロ光
学素子アレイを、樹脂の射出成形により成形するために
使用される。この金型では、金型本体3のキャビティ面
3aに、圧痕加工により多数の素子用圧痕3bが形成さ
れている。
FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of a mold for molding a micro-optical element according to the present invention. This mold comprises a micro-optical element array formed by arranging a large number of micro-optical elements. Used for injection molding of resin. In this mold, a large number of element impressions 3b are formed on the cavity surface 3a of the mold body 3 by indentation processing.

【0014】この素子用圧痕3bの形状は、マイクロ光
学素子の反転形状とされている。この実施形態では、金
型本体3のキャビティ面3aは、金型母材4に、無電解
ニッケルメッキ層5を形成することにより形成されてい
る。この無電解ニッケルメッキ層5のビッカース硬度
は、例えば、500Hvとされている。
The shape of the element impressions 3b is an inverted shape of the micro optical element. In this embodiment, the cavity surface 3 a of the mold body 3 is formed by forming an electroless nickel plating layer 5 on a mold base material 4. The Vickers hardness of the electroless nickel plating layer 5 is, for example, 500 Hv.

【0015】このマイクロ光学素子成形用金型は、例え
ば、以下述べるようにして製造される。先ず、金型母材
4の表面に所定の無電解ニッケルメッキを施すことによ
り、無電解ニッケルメッキ層5が形成される。この無電
解ニッケルメッキ層5の肉厚Wは、後述する圧子の押し
込み深さHの3倍程度の寸法とされる。
The mold for forming a micro optical element is manufactured, for example, as described below. First, a predetermined electroless nickel plating is applied to the surface of the mold base material 4 to form an electroless nickel plating layer 5. The thickness W of the electroless nickel plating layer 5 is about three times the indentation depth H of the indenter described later.

【0016】なお、この実施形態では、金型母材4に
は、アルミ合金や銅合金等の非鉄金属材が使用される。
また、無電解ニッケルメッキ層5の表面が、例えば、研
磨加工され、鏡面状のキャビティ面3aとされる。次
に、この実施形態では、図3に示す圧痕加工により、無
電解ニッケルメッキ層5に素子用圧痕3bが形成され
る。
In this embodiment, a non-ferrous metal material such as an aluminum alloy or a copper alloy is used for the mold base material 4.
The surface of the electroless nickel plating layer 5 is polished, for example, to be a mirror-like cavity surface 3a. Next, in this embodiment, the element indentations 3b are formed on the electroless nickel plating layer 5 by the indentation processing shown in FIG.

【0017】この圧痕加工は、キャビティ面3aに、例
えば、ダイヤモンドからなる圧子6を所定の圧力で押圧
することにより形成される。以上のように構成されたマ
イクロ光学素子成形用金型では、キャビティ面3aの表
面のビッカース硬度を、500Hv以上の硬度にしたの
で、圧子6のキャビティ面3aへの押圧時に、圧子6を
押圧した部分の材料の一部が横へ塑性流動することが抑
制され、素子用圧痕3bの近傍に突出部が形成されるこ
とがなくなり、この結果、素子用圧痕3bの近傍に皺の
発生のないマイクロ光学素子成形用金型を容易,確実に
提供することができる。
This indentation is formed by pressing an indenter 6 made of, for example, diamond on the cavity surface 3a with a predetermined pressure. In the micro-optical element molding die configured as described above, since the Vickers hardness of the surface of the cavity surface 3a was set to a hardness of 500 Hv or more, the indenter 6 was pressed when the indenter 6 was pressed against the cavity surface 3a. Part of the material of the portion is prevented from plastically flowing laterally, and no protruding portion is formed in the vicinity of the indentation 3b for the element. As a result, there is no micro wrinkle near the indentation 3b for the element. An optical element molding die can be easily and reliably provided.

【0018】すなわち、従来のマイクロ光学素子成形用
金型では、圧痕加工において、圧子6の寿命を長く保つ
ために、通常、銅合金やマルテンサイト系ステンレス鋼
が使われており、例えば、マルテンサイト系ステンレス
鋼の場合には、ビッカース硬度で300〜400Hv程
度であり、このような硬度では、図4に示すように、圧
子6を押圧した部分の材料の一部が横へ塑性流動し、キ
ャビティ面Aに形成される素子用圧痕Bの近傍に突出部
Cが形成されていた。
That is, in the conventional mold for forming a micro optical element, a copper alloy or a martensitic stainless steel is usually used in order to maintain a long life of the indenter 6 in indentation processing. In the case of a series stainless steel, the Vickers hardness is about 300 to 400 Hv, and at such hardness, as shown in FIG. The protruding portion C was formed near the element indentation B formed on the surface A.

【0019】しかしながら、上述したマイクロ光学素子
成形用金型では、キャビティ面3aの表面のビッカース
硬度を、500Hv以上の硬度にしたので、圧子6のキ
ャビティ面3aへの押圧時に、圧子6を押圧した部分の
材料の一部が横へ塑性流動することが抑制され、素子用
圧痕3bの近傍に突出部が形成されることが略完全にな
くなった。
However, in the above-described mold for molding a micro optical element, the Vickers hardness of the surface of the cavity surface 3a is set to a hardness of 500 Hv or more. Part of the material of the portion is prevented from plastically flowing laterally, and the formation of the protruding portion in the vicinity of the element impressions 3b is almost completely eliminated.

【0020】なお、図4において、キャビティ面Aのビ
ッカース硬度を、340Hvから450Hvにすると、
突出部がCからC1へと小さくなり、550Hvでは、
略完全になくなっているのがわかる。また、上述したマ
イクロ光学素子成形用金型では、キャビティ面3aの表
面のビッカース硬度を、850Hv以下の硬度にしたの
で、圧痕加工による圧子6の摩耗を防止することがで
き、精度の高いマイクロ光学素子を形成することができ
る。
In FIG. 4, when the Vickers hardness of the cavity surface A is changed from 340 Hv to 450 Hv,
The protrusion becomes smaller from C to C1, and at 550Hv,
You can see that it is almost completely gone. In the above-described mold for molding a micro optical element, the Vickers hardness of the surface of the cavity surface 3a is set to a hardness of 850 Hv or less. An element can be formed.

【0021】すなわち、例えば、一眼レフカメラのピン
ト合わせに用いられる焦点板のマット面には、例えば、
25mm×35mmの範囲に、球R30μmのマイクロ
レンズが約220万個配置されている。そして、このよ
うな焦点板成形用金型のキャビティを製作する際には、
ビッカース硬度で850Hvを越える金型母材に、先端
球R30μmのダイヤモンドの圧子を用いて圧痕加工を
行うと、約220万個の素子用圧痕の加工終了時には、
ダイヤモンドの圧子の先端球Rが摩耗により、例えば、
R23μm〜R28μmになり均一なマイクロレンズア
レイを製造することが困難になる。
That is, for example, on a mat surface of a reticle used for focusing of a single-lens reflex camera, for example,
Approximately 2.2 million microlenses with a sphere R of 30 μm are arranged in a range of 25 mm × 35 mm. And when manufacturing such a cavity of the reticle molding die,
When an indentation process is performed on a mold base material having a Vickers hardness exceeding 850 Hv using a diamond indenter having a tip ball R of 30 μm, about 2.2 million device indentations are completed at the end of processing.
The tip ball R of the diamond indenter is worn, for example,
R23 μm to R28 μm, making it difficult to manufacture a uniform microlens array.

【0022】しかしながら、上述したマイクロ光学素子
成形用金型では、キャビティ面3aの表面のビッカース
硬度を、850Hv以下の硬度にしたので、圧痕加工に
よる圧子6の摩耗を防止することができ、精度の高いマ
イクロレンズアレイを形成することができる。図5は、
本発明のマイクロ光学素子成形用金型の第2の実施形態
を示しており、この実施形態では、金型本体7の材質
が、マルテンサイト系ステンレス鋼とされ、熱処理によ
る焼き入れにより、母材硬度が、ビッカース硬度で56
0Hvとされている。
However, in the above-described mold for forming a micro-optical element, the Vickers hardness of the surface of the cavity surface 3a is set to a hardness of 850 Hv or less. A high microlens array can be formed. FIG.
7 shows a second embodiment of a mold for molding a micro optical element of the present invention. In this embodiment, the material of the mold body 7 is martensitic stainless steel, and the base material is hardened by heat treatment. Hardness is 56 in Vickers hardness
0Hv.

【0023】そして、母材表面を研磨加工することによ
り鏡面状のキャビティ面7aが形成されている。このキ
ャビティ面7aには、圧痕加工により、素子用圧痕7b
が形成されている。なお、この実施形態では、圧痕加工
において、先端が、R100μmの球面形状のダイヤモ
ンドの圧子が使用され、この加工により凸レンズの反転
形状を有する素子用圧痕7bが形成された。
The mirror-finished cavity surface 7a is formed by polishing the surface of the base material. The cavity surface 7a is formed with an element indentation 7b by indentation processing.
Are formed. In this embodiment, in the indentation processing, a spherical diamond indenter having a tip of R100 μm was used, and the element indentation 7b having the inverted shape of the convex lens was formed by this processing.

【0024】この実施形態においても、第1の実施形態
と同様の効果を得ることができる。なお、上述した実施
形態では、圧子6にダイヤモンドを使用した例について
述べたが、本発明は、これに限定されるものではなく、
例えば、超硬合金,セラミック等からなる圧子を用いる
ことができる。
In this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained. In the above-described embodiment, an example in which diamond is used for the indenter 6 has been described, but the present invention is not limited to this.
For example, an indenter made of a cemented carbide, ceramic or the like can be used.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたように、請求項1のマイクロ
光学素子成形用金型では、キャビティ面の表面のビッカ
ース硬度を、500Hv以上の硬度にしたので、圧子の
キャビティ面への押圧時に、圧子を押圧した部分の材料
の一部が横へ塑性流動することが抑制され、素子用圧痕
の近傍に突出部が形成されることがなくなり、この結
果、素子用圧痕の近傍に皺の発生のないマイクロ光学素
子成形用金型を容易,確実に提供することができる。
As described above, in the mold for molding a micro-optical element according to the first aspect, the Vickers hardness of the surface of the cavity surface is set to a hardness of 500 Hv or more. A part of the material of the portion where the indenter is pressed is suppressed from plastically flowing laterally, and a protrusion is not formed near the element indentation. As a result, wrinkles are generated near the element indentation. It is possible to easily and reliably provide a mold for molding a micro optical element.

【0026】請求項2のマイクロ光学素子成形用金型で
は、キャビティ面の表面のビッカース硬度を、850H
v以下の硬度にしたので、圧痕加工による圧子の摩耗を
防止することができ、精度の高いマイクロ光学素子を形
成することができる。
According to the second aspect of the present invention, the Vickers hardness of the cavity surface is 850H.
Since the hardness is not more than v, wear of the indenter due to indentation processing can be prevented, and a highly accurate micro optical element can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のマイクロ光学素子成形用金型の第1の
実施形態の素子用圧痕部を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an element indentation portion of a first embodiment of a micro-optical element molding die according to the present invention.

【図2】図1の素子用圧痕が多数形成される金型を示す
正面図である。
FIG. 2 is a front view showing a mold on which a large number of element indentations of FIG. 1 are formed.

【図3】図1のマイクロ光学素子成形用金型に素子用圧
痕を形成している状態を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which an indentation for an element is formed in the mold for molding a micro optical element in FIG. 1;

【図4】キャビティ面の硬度と素子用圧痕の近傍に形成
される突出部の大きさとの関係を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a relationship between hardness of a cavity surface and a size of a protrusion formed near an element impression.

【図5】本発明のマイクロ光学素子成形用金型の第2の
実施形態を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a second embodiment of a micro-optical element molding die according to the present invention.

【図6】従来のマイクロ光学素子成形用金型に素子用圧
痕を形成している状態を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a state in which an indentation for an element is formed in a conventional mold for molding a micro optical element.

【図7】従来のマイクロ光学素子成形用金型の素子用圧
痕の近傍に形成される皺を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view showing wrinkles formed in the vicinity of an element impression in a conventional micro-optical element molding die.

【図8】従来のマイクロ光学素子成形用金型の素子用圧
痕の近傍に形成される突出部を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing a protruding portion formed in the vicinity of an element indentation of a conventional mold for molding a micro optical element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3,7 金型本体 3a,7a キャビティ面 3b,7b 素子用圧痕 6 圧子 3,7 Mold main body 3a, 7a Cavity surface 3b, 7b Device indentation 6 Indenter

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金型本体のキャビティ面に、マイクロ光
学素子を成形するための多数の素子用圧痕を形成してな
るマイクロ光学素子成形用金型において、 前記キャビティ面の表面のビッカース硬度を、500H
v以上の硬度にしてなることを特徴とするマイクロ光学
素子成形用金型。
1. A micro-optical element molding die in which a large number of element indentations for molding a micro-optical element are formed on a cavity surface of a mold main body, wherein the Vickers hardness of the surface of the cavity surface is 500H
A mold for molding a micro optical element, which has a hardness of not less than v.
【請求項2】 請求項1記載のマイクロ光学素子成形用
金型において、 前記キャビティ面の表面のビッカース硬度を、850H
v以下の硬度にしてなることを特徴とするマイクロ光学
素子成形用金型。
2. The mold for molding a micro optical element according to claim 1, wherein the surface of the cavity surface has a Vickers hardness of 850H.
A mold for molding a micro optical element, which has a hardness of not more than v.
JP10049574A 1998-03-02 1998-03-02 Metal mold for molding microoptical element Pending JPH11248907A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002326230A (en) * 2001-05-07 2002-11-12 Ricoh Co Ltd Method and apparatus for manufacturing mold, and mold and molding
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