JPH11246590A - Production of trifluoromethyluracil derivative - Google Patents

Production of trifluoromethyluracil derivative

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JPH11246590A
JPH11246590A JP10044031A JP4403198A JPH11246590A JP H11246590 A JPH11246590 A JP H11246590A JP 10044031 A JP10044031 A JP 10044031A JP 4403198 A JP4403198 A JP 4403198A JP H11246590 A JPH11246590 A JP H11246590A
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JP
Japan
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formula
copper
group
atom
halide
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JP10044031A
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Japanese (ja)
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Tamaki Shimizu
環 清水
Tomoyuki Asai
智之 浅井
Yoshitomi Morisawa
義富 森澤
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently obtain the subject derivative useful as a medicine, etc., as carcinostatic agent, antiviral agent, etc., by reacting a fluorosulfonyldifluoroacetic acid ester with a halogenated uracil in the presence of a copper catalyst in an organic solvent. SOLUTION: A fluorosulfonyldifluoroacetic acid alkyl ester represented by the formula FSO2 CF2 COOR (R is a 1-5C alkyl-) (e.g. methyl fluorosulfonyldifluoroacetate) is reacted with a halogenated uracil derivative represented by formula I (R<1> is a protecting group of nitrogen atom or H; R<2> is a monovalent substituent group having hetero atom; X is halogen) (e.g. 3',5'-di-Oacetyl-5-iodo-2'-deoxyuridine) in the presence of a copper (I)halide [e.g. copper (I) bromide] or metal copper in an organic solvent (e.g. dimethylformamide) to provide the objective trifluoromethyluracil derivative represented by formula II in good reproducibility while suppressing production of a by-product.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬として有用な
トリフルオロメチルウラシル誘導体の製造方法に関す
る。
The present invention relates to a method for producing a trifluoromethyluracil derivative useful as a medicine.

【0002】[0002]

【従来の技術】トリメチルウラシルおよびその誘導体
は、医薬として、特に制癌剤、抗ウイルス剤としての有
用性が期待され、種々のトリフルオロメチルウラシル誘
導体の合成方法が開発されている。
2. Description of the Related Art Trimethyluracil and its derivatives are expected to be useful as pharmaceuticals, particularly as anticancer agents and antiviral agents, and various methods for synthesizing trifluoromethyluracil derivatives have been developed.

【0003】これまでに報告されたトリフルオロメチル
ウラシル誘導体の合成例としては、(1)ヨードウリジ
ン誘導体と、CF3 Brとを金属銅の存在下に反応させ
る方法(特開平2−72190)、(2)ヨードウリジ
ン誘導体と、CF3 Iとを金属銅の存在下に反応させる
方法(Kobayashi,J.Chem.Soc.Perkin Trans.,1,2755-276
1(1980))、(3)ウリジン誘導体にCF3 N(N→O)
SO2 CF3 を反応させて−CF3 基を導入する方法(U
memoto,Bull.Chem.Soc.Japan.,59,447-452(1986)) 、
(4)ウリジン誘導体に、トリフルオロ酢酸−XeF2
を反応させて−CF3 基を導入する方法(Tanabe,J.Org.
Chem.,53,4582-4585(1988)) 、などが提案されている。
Examples of the synthesis of trifluoromethyluracil derivatives reported so far include (1) a method of reacting an iodouridine derivative with CF 3 Br in the presence of metallic copper (JP-A-2-72190); (2) A method of reacting an iodouridine derivative with CF 3 I in the presence of copper metal (Kobayashi, J. Chem. Soc. Perkin Trans., 1,2755-276)
1 (1980)), (3) CF 3 N (N → O)
Method of reacting SO 2 CF 3 to introduce a —CF 3 group (U
memoto, Bull.Chem.Soc.Japan., 59,447-452 (1986)),
(4) trifluoroacetic acid-XeF 2
A method of introducing a group -CF 3 by reacting (Tanabe, J. Org.
Chem., 53, 4582-4585 (1988)).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが従来の合成方
法は、工業的製法としては、反応が簡便でない、原料調
達が困難である、副生成物が生成し収率が低い、などの
問題があった。
However, the conventional synthesis method has the following problems as an industrial production method: the reaction is not easy, the raw material is difficult to procure, and the yield of by-products is low. Was.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題を
解決するためになされたものであり、下式1で表される
化合物と下式2で表されるハロゲン化ウラシル誘導体を
ハロゲン化銅(I)または金属銅の存在下に有機溶媒中
で反応させることを特徴とする下式3で表されるトリフ
ルオロメチルウラシル誘導体の製造方法を提供する。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 R:炭素数1〜5のアルキル基。 R1 :窒素原子の保護基または水素原子。 R2 :ヘテロ原子を有する1価置換基。 X:ハロゲン原子。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and comprises a method of converting a compound represented by the following formula 1 and a uracil halide derivative represented by the following formula 2 into a halogenated compound. Provided is a method for producing a trifluoromethyluracil derivative represented by the following formula 3, wherein the reaction is carried out in an organic solvent in the presence of copper (I) or metallic copper. However, the symbols in the formula have the following meanings. R: an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R 1 : a protecting group for a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 2 : a monovalent substituent having a hetero atom. X: halogen atom.

【0006】[0006]

【化3】 Embedded image

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】式1で表される化合物において、
Rは炭素数1〜5のアルキル基を示し、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、n−ペンチル基、およびsec−ブチル基が好まし
く、特にメチル基が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the compound represented by the formula 1,
R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and a sec-butyl group, particularly preferably a methyl group. .

【0008】本発明に用いるハロゲン化ウラシル誘導体
は式2で表される。式中、R1 は窒素原子の保護基また
は水素原子を示し、窒素原子の保護基の具体例として、
アセチル基、n−プロピオニル基、ピバロイル基、ベン
ゾイル基、p−フェニルベンゾイル基、ベンジル基、p
−メトキシベンジル基、トリチル基、4,4' −ジメト
キシトリチル基、メトキシエトキシメチル基、アリール
オキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ま
たはt−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。
The uracil halide derivative used in the present invention is represented by Formula 2. In the formula, R 1 represents a protecting group for a nitrogen atom or a hydrogen atom, and specific examples of the protecting group for a nitrogen atom include:
Acetyl, n-propionyl, pivaloyl, benzoyl, p-phenylbenzoyl, benzyl, p
-Methoxybenzyl group, trityl group, 4,4'-dimethoxytrityl group, methoxyethoxymethyl group, aryloxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group and the like.

【0009】R2 はヘテロ原子を有する1価置換基を示
し、下式4で表される5単糖誘導体残基が好ましい。た
だし、式中の記号は以下の意味を示す。 R3 、R4 、R5 :それぞれ同一であっても異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、または−OR6
(ここでR6 は、水酸基の保護基、水素原子、またはハ
ロゲン原子を示す。)。また、式4中に−OR6 が2個
以上存在する場合、それらは同一であっても異なってい
てもよく、2個のR6 が共同して環を形成していてもよ
い。
R 2 represents a monovalent substituent having a hetero atom, and is preferably a pentasaccharide derivative residue represented by the following formula 4. However, the symbols in the formula have the following meanings. R 3 , R 4 , R 5 : may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or —OR 6
(Here, R 6 represents a protecting group for a hydroxyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom.) Further, when two or more —OR 6 are present in Formula 4, they may be the same or different, and two R 6 may form a ring together.

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】R6 が水酸基の保護基である場合、R6
具体例としては、アセチル基、n−プロピオニル基、ピ
バロイル基、ベンゾイル基、およびp−フェニルベンゾ
イル基等のアシル基、ベンジル基、p−メトキシベンジ
ル基、トリチル基、4,4’−ジメトキシトリチル基、
メトキシエトキシメチル基、アリールオキシカルボニル
基、テトラヒドロフラニル基、メチル基、t−ブチル
基、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、またはジフェニルメチ
ルシリル基等が挙げられ、アセチル基が好ましい。ま
た、R3 、R4 、R5がハロゲン原子である場合には、
フッ素原子が好ましい。
When R 6 is a protecting group for a hydroxyl group, specific examples of R 6 include acyl groups such as acetyl group, n-propionyl group, pivaloyl group, benzoyl group, and p-phenylbenzoyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, trityl group, 4,4′-dimethoxytrityl group,
Examples include a methoxyethoxymethyl group, an aryloxycarbonyl group, a tetrahydrofuranyl group, a methyl group, a t-butyl group, a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a diphenylmethylsilyl group. preferable. When R 3 , R 4 and R 5 are halogen atoms,
A fluorine atom is preferred.

【0012】R3 、R4 、R5 としては、水素原子また
はR6 がアセチル基である場合の−OR6 が好ましい。
Xは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が好まし
く、特にヨウ素原子が好ましい。
R 3 , R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom or —OR 6 when R 6 is an acetyl group.
X is preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, particularly preferably an iodine atom.

【0013】式2で表されるハロゲン化ウラシル誘導体
としては、下式2aで表される化合物が好ましい。ただ
し、式2a中のX、R3 、R4 およびR5 は、上記と同
じ意味を示す。式2aの具体例としては、表1中の化合
物が挙げられる。
As the uracil halide derivative represented by the formula 2, a compound represented by the following formula 2a is preferable. However, X, R 3 , R 4 and R 5 in the formula 2a have the same meaning as described above. Specific examples of Formula 2a include the compounds in Table 1.

【0014】[0014]

【化5】 Embedded image

【0015】ハロゲン化銅(I)としては、臭化銅
(I)またはヨウ化銅(I)が好ましい。本発明に用い
る臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)、または金属銅は、純
度95〜99.9999%のものを使用するのが好まし
い。ハロゲン化銅(I)または金属銅は、反応前に精製
をして、純度を向上させてもよい。ハロゲン化銅(I)
または金属銅は、式2で表されるハロゲン化ウラシル誘
導体に対して、0.0001〜100倍重量を用いるの
が好ましく、特に0.001〜10倍重量を用いるのが
好ましい。
The copper (I) halide is preferably copper (I) bromide or copper (I) iodide. Copper (I) bromide, copper (I) iodide, or metallic copper used in the present invention preferably has a purity of 95 to 99.9999%. Copper (I) halide or metallic copper may be refined before the reaction to improve the purity. Copper halide (I)
Alternatively, metallic copper is preferably used in an amount of 0.0001 to 100 times, more preferably 0.001 to 10 times, the weight of the uracil halide derivative represented by the formula (2).

【0016】本発明においては、式1で表される化合物
と式2で表されるハロゲン化ウラシル誘導体をハロゲン
化銅(I)または金属銅の存在下に反応させる。式1で
表される化合物は、式2で表されるハロゲン化ウラシル
誘導体に対して、0.1〜50倍モル用いるのが好まし
く、特に1〜10倍モル用いるのが好ましい。
In the present invention, the compound represented by the formula 1 and the uracil halide derivative represented by the formula 2 are reacted in the presence of copper (I) halide or metallic copper. The compound represented by the formula 1 is preferably used in a molar amount of 0.1 to 50 times, more preferably 1 to 10 times the molar amount of the uracil halide derivative represented by the formula 2.

【0017】反応は有機溶媒中で行う。有機溶媒として
は非プロトン性極性溶媒が好ましく、特に収率の点か
ら、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、1−メ
チル−2−ピロリジノン(NMP)、ジメチルスルホキ
シド(DMSO)、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、またはヘキサメチルホスホリックトリアミド(HM
PA)等が好ましい。有機溶媒の量は、式2で表される
ハロゲン化ウラシル誘導体に対して、0.1〜1000
倍重量が好ましく、特に1〜200倍重量が好ましい。
The reaction is performed in an organic solvent. As the organic solvent, an aprotic polar solvent is preferable. Particularly, from the viewpoint of yield, N, N-dimethylformamide (DMF), 1,3
-Dimethyl-2-imidazolidinone (DMI), 1-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), dimethylsulfoxide (DMSO), sulfolane, dimethylacetamide, or hexamethylphosphoric triamide (HM
PA) and the like are preferred. The amount of the organic solvent is 0.1 to 1000 with respect to the uracil halide derivative represented by the formula 2.
Double weight is preferable, and 1 to 200 times weight is particularly preferable.

【0018】本発明における反応では、式2におけるハ
ロゲン原子(X)が、トリフルオロメチル化される。ト
リフルオロメチル化反応は、常圧で実施可能である。反
応温度は、0℃〜溶媒還流程度の温度を採用するのが好
ましく、特に20℃〜溶媒還流の温度が好ましい。反応
時間は、0.1〜100時間が好ましく、特に0.5〜
50時間が好ましい。また、反応は、アルゴンや窒素等
の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
In the reaction of the present invention, the halogen atom (X) in the formula 2 is trifluoromethylated. The trifluoromethylation reaction can be performed at normal pressure. The reaction temperature is preferably from 0 ° C to about the solvent reflux, and particularly preferably from 20 ° C to the solvent reflux. The reaction time is preferably 0.1 to 100 hours, particularly 0.5 to 100 hours.
50 hours is preferred. The reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen.

【0019】本発明の製造方法では、式3で表されるト
リフルオロメチルウラシル誘導体が生成する。式3中
に、窒素原子の保護基、または水酸基の保護基が存在す
る場合には、必要に応じて脱保護反応を行ってもよい。
脱保護反応の方法および条件は、通常の有機合成法で採
用される方法および条件が採用できる。また、式3で表
されるトリフルオロメチルウラシル誘導体を高純度のも
のとしたい場合には、精製を行ってもよい。精製方法と
しては、蒸留法、クロマトグラフ法、またはこれらの組
み合わせによる方法等が挙げられる。
In the production method of the present invention, a trifluoromethyluracil derivative represented by the formula 3 is produced. When a protecting group for a nitrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group is present in Formula 3, a deprotection reaction may be performed as necessary.
As the method and conditions of the deprotection reaction, the methods and conditions employed in ordinary organic synthesis methods can be employed. Further, when the trifluoromethyluracil derivative represented by the formula 3 is desired to have high purity, purification may be performed. Examples of the purification method include a distillation method, a chromatographic method, and a method based on a combination thereof.

【0020】本発明により製造される式3で表されるト
リフルオロメチルウラシル誘導体は、制癌剤、または抗
ウイルス剤などの医薬として用いられうる。式3で表さ
れるトリフルオロメチルウラシル誘導体としては、下式
3aで表される化合物が好ましい。ただし、式3a中の
3 、R4 、およびR5 は、上記と同じ意味を示す。
The trifluoromethyluracil derivative represented by the formula 3 produced by the present invention can be used as a drug such as an anticancer drug or an antiviral drug. As the trifluoromethyluracil derivative represented by the formula 3, a compound represented by the following formula 3a is preferable. However, R 3 , R 4 and R 5 in the formula 3a have the same meaning as described above.

【0021】[0021]

【化6】 Embedded image

【0022】式2aおよび式3aの具体例としては、表
1中の化合物が挙げられる。ただし、表1中のXの欄
は、化合物2aのみに関する。また、表1中のPhはフ
ェニル基を示す。
Specific examples of the formulas 2a and 3a include the compounds shown in Table 1. However, the column of X in Table 1 relates only to the compound 2a. Ph in Table 1 represents a phenyl group.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】[0024]

【実施例】[例1] 3’,5’−ジ−O−アセチル−5−トリフルオロメチ
ル−2’−デオキシウリジン(式3aにおけるR1 が水
素原子であり、R3 およびR4 が−OCOCH3 であ
り、R5 が水素原子である化合物)の合成例 200mlの四つ口フラスコに、3’,5’−ジ−O−
アセチル−5−ヨ−ド−2’−デオキシウリジン(式2
aにおけるXがヨウ素原子であり、R1 が水素原子であ
り、R3 およびR4 が−OCOCH3 であり、R5 が水
素原子である化合物)9.50g(21.7mmo
l)、ヨウ化銅(I)0.99g(5.2mmol)、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸メチル9.59g
(49.9mmol)および溶媒としてDMFを70m
l入れ、窒素ガス雰囲気下に100℃で3時間撹拌し
た。反応終了後、反応液をろ過し、ろ液を氷水に注いだ
後、エーテルと酢酸エチルを加えて抽出を行い、有機層
を水洗、乾燥した。
EXAMPLES Example 1 3 ′, 5′-Di-O-acetyl-5-trifluoromethyl-2′-deoxyuridine (wherein R 1 in the formula 3a is a hydrogen atom, and R 3 and R 4 are — Example of Synthesis of OCOCH 3 and R 5 is a Hydrogen Atom) In a 200 ml four-necked flask, 3 ′, 5′-di-O—
Acetyl-5-iodo-2'-deoxyuridine (formula 2
9.50 g (21.7 mmol) of a compound in which X in a is an iodine atom, R 1 is a hydrogen atom, R 3 and R 4 are —OCOCH 3 , and R 5 is a hydrogen atom.
l), copper (I) iodide 0.99 g (5.2 mmol),
9.59 g of methyl fluorosulfonyldifluoroacetate
(49.9 mmol) and 70 m of DMF as a solvent
and stirred at 100 ° C. for 3 hours under a nitrogen gas atmosphere. After completion of the reaction, the reaction solution was filtered, and the filtrate was poured into ice water. Ether and ethyl acetate were added for extraction, and the organic layer was washed with water and dried.

【0025】最後に、カラムクロマトグラフィにより精
製を行い(担体:シリカゲル、溶離液(容積比)はエタ
ノール/クロロホルム=1/30)、3’,5’−ジ−
O−アセチル−5−トリフルオロメチル−2’−デオキ
シウリジンを4.21g(収率51%)得た。得られた
化合物のスペクトルデータを以下に示す。1 H-NMR(CDCl3,TMS)δ(ppm):2.05(s,3H),2.10(s,3H),2.3
0-2.60(m,2H),4.20-4.50(m,3H),5.10-5.35(m,1H),6.10-
6.40(dd,1H,J=8Hz),8.00(1H,s),9.30(brs,1H).19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-67.0 . MS m/e:380(M+) .
Finally, purification is carried out by column chromatography (carrier: silica gel, eluent (volume ratio) is ethanol / chloroform = 1/30), 3 ', 5'-di-
4.21 g (yield 51%) of O-acetyl-5-trifluoromethyl-2'-deoxyuridine was obtained. The spectral data of the obtained compound are shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) δ (ppm): 2.05 (s, 3H), 2.10 (s, 3H), 2.3
0-2.60 (m, 2H), 4.20-4.50 (m, 3H), 5.10-5.35 (m, 1H), 6.10-
6.40 (dd, 1H, J = 8Hz), 8.00 (1H, s), 9.30 (brs, 1H). 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) δ (ppm): -67.0. MS m / e: 380 (M + ).

【0026】[例2] 3’,5’−ジ−O−アセチル−5−トリフルオロメチ
ル−2’−デオキシウリジン(式3aにおけるR1 が水
素原子であり、R3 およびR4 が−OCOCH3 であ
り、R5 が水素原子である化合物)の合成例 ヨウ化銅(I)を金属銅に変更した以外は、例1と同様
に反応を行い、3’,5’−ジ−O−アセチル−5−ト
リフルオロメチル−2’−デオキシウリジンを4.35
g(収率53%)得た。
Example 2 3 ', 5'-di-O-acetyl-5-trifluoromethyl-2'-deoxyuridine (R 1 in the formula 3a is a hydrogen atom, and R 3 and R 4 are -OCOCH 3 and a compound in which R 5 is a hydrogen atom) 3 ′, 5′-di-O- was reacted in the same manner as in Example 1 except that copper (I) iodide was changed to metallic copper. Acetyl-5-trifluoromethyl-2′-deoxyuridine was converted to 4.35.
g (yield 53%).

【0027】[例3] 2’,3’,5’−トリ−O−アセチル−5−トリフル
オロメチル−ウリジン(式3aにおけるR1 が水素原子
であり、R3 、R4 およびR5 が−OCOCH3 である
化合物)の合成例 例1において3’,5’−ジ−O−アセチル−5−ヨー
ド−2’−デオキシウリジンの代わりに2’,3’,
5’−トリ−O−アセチル−5−ヨードウリジンを用
い、同様の反応で2’,3’,5’−トリ−O−アセチ
ル−5−トリフルオロメチル−ウリジンを得た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-68.0 .
Example 3 2 ′, 3 ′, 5′-Tri-O-acetyl-5-trifluoromethyl-uridine (wherein R 1 in the formula 3a is a hydrogen atom, and R 3 , R 4 and R 5 are Example of synthesis of compound which is —OCOCH 3 ) In Example 1, 2 ′, 3 ′, instead of 3 ′, 5′-di-O-acetyl-5-iodo-2′-deoxyuridine
Using 5'-tri-O-acetyl-5-iodouridine, 2 ', 3', 5'-tri-O-acetyl-5-trifluoromethyl-uridine was obtained in the same reaction. 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) δ (ppm): −68.0.

【0028】[例4] 5’−O−アセチル−2’,3’−ジデオキシ−5−ト
リフルオロメチル−ウリジン(式3aにおけるR1 が水
素原子であり、R3 が−OCOCH3 であり、R4 およ
びR5 が水素原子である化合物)の合成例 例1において3’,5’−ジ−O−アセチル−5−ヨー
ド−2’−デオキシウリジンの代わりに5’−O−アセ
チル−2’,3’−ジデオキシ−5−ヨードウリジンを
用い、同様の反応で5’−O−アセチル−2’,3’−
ジデオキシ−5−トリフルオロメチル−ウリジンを得
た。19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)δ(ppm):-66.3 .
Example 4 5'-O-acetyl-2 ', 3'-dideoxy-5-trifluoromethyl-uridine (R 1 in the formula 3a is a hydrogen atom, R 3 is -OCOCH 3 , Synthesis Example of R 4 and R 5 are hydrogen atoms) In Example 1, 5′-O-acetyl-2 is used instead of 3 ′, 5′-di-O-acetyl-5-iodo-2′-deoxyuridine. Using ', 3'-dideoxy-5-iodouridine, 5'-O-acetyl-2', 3'-
Dideoxy-5-trifluoromethyl-uridine was obtained. 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) δ (ppm): -66.3.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、入手容易な
原料および試薬を用いて、特別な反応操作や条件を採用
することなく、目的とするトリフルオロメチルウラシル
誘導体を合成できる。本発明の方法は、大容量の方法と
して採用しうる方法であり、反応の再現性もよく、副生
成物の生成も抑制されることから、工業的製造方法とし
て有用な方法である。
According to the production method of the present invention, a target trifluoromethyluracil derivative can be synthesized using readily available raw materials and reagents without employing special reaction procedures and conditions. The method of the present invention is a method that can be adopted as a large-capacity method, has good reproducibility of the reaction, and suppresses the generation of by-products. Therefore, the method is useful as an industrial production method.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下式1で表される化合物と下式2で表され
るハロゲン化ウラシル誘導体をハロゲン化銅(I)また
は金属銅の存在下に有機溶媒中で反応させることを特徴
とする下式3で表されるトリフルオロメチルウラシル誘
導体の製造方法。 【化1】 ただし、式中の記号は以下の意味を示す。 R:炭素数1〜5のアルキル基。 R1 :窒素原子の保護基または水素原子。 R2 :ヘテロ原子を有する1価置換基。 X:ハロゲン原子。
1. A compound represented by the following formula 1 and a uracil halide derivative represented by the following formula 2 are reacted in an organic solvent in the presence of copper (I) halide or metallic copper. A method for producing a trifluoromethyluracil derivative represented by the following formula 3. Embedded image However, the symbols in the formula have the following meanings. R: an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. R 1 : a protecting group for a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 2 : a monovalent substituent having a hetero atom. X: halogen atom.
【請求項2】ハロゲン化銅(I)が、臭化銅(I)また
はヨウ化銅(I)である請求項1記載の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the copper (I) halide is copper (I) bromide or copper (I) iodide.
【請求項3】有機溶媒が非プロトン性極性溶媒である請
求項1または2記載の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is an aprotic polar solvent.
【請求項4】Rがメチル基である請求項1、2、または
3記載の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein R is a methyl group.
【請求項5】R2 が下式4で表される5単糖誘導体残基
である請求項1、2、3、または4記載の製造方法。 【化2】 ただし、式中の記号は以下の意味を示す。R3 、R4
5 :それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、または−OR6 (ここでR6
は、水酸基の保護基、水素原子、またはハロゲン原子を
示す。)。また、式4中に−OR6 が2個以上存在する
場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、2
個のR6 が共同して環を形成していてもよい。
5. The method according to claim 1, wherein R 2 is a pentasaccharide derivative residue represented by the following formula 4: Embedded image However, the symbols in the formula have the following meanings. R 3 , R 4 ,
R 5 : may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or —OR 6 (here, R 6
Represents a protecting group for a hydroxyl group, a hydrogen atom, or a halogen atom. ). When two or more —OR 6 are present in Formula 4, they may be the same or different, and
R 6 's may together form a ring.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2007055170A1 (en) 2005-11-09 2007-05-18 Tosoh Corporation Nucleic acid base having perfluoroalkyl group and method for producing the same
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