JPH11242308A - 多層画像形成要素 - Google Patents
多層画像形成要素Info
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- JPH11242308A JPH11242308A JP10357414A JP35741498A JPH11242308A JP H11242308 A JPH11242308 A JP H11242308A JP 10357414 A JP10357414 A JP 10357414A JP 35741498 A JP35741498 A JP 35741498A JP H11242308 A JPH11242308 A JP H11242308A
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- conductive
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- B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
- B41M5/426—Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by inorganic compounds, e.g. metals, metal salts, metal complexes
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
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- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/38—Dispersants; Agents facilitating spreading
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 静電気を効率よく消散させ、各種材料に対し
て摩擦電荷を最少にすることができる等の優れた導電性
オーバーコート層を提供することである。 【解決手段】 支持体;1層以上の、支持体上に重ね合
された画像形成層;並びに20〜80の容量%でフィル
ム形成性バインダー中に分散されたコロイド状電気的導
電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与する第一電荷制
御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制御剤を含み、か
つ支持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電
性最外オーバーコート層、を含んでなる多層画像形成要
素。
て摩擦電荷を最少にすることができる等の優れた導電性
オーバーコート層を提供することである。 【解決手段】 支持体;1層以上の、支持体上に重ね合
された画像形成層;並びに20〜80の容量%でフィル
ム形成性バインダー中に分散されたコロイド状電気的導
電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与する第一電荷制
御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制御剤を含み、か
つ支持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電
性最外オーバーコート層、を含んでなる多層画像形成要
素。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に支持体材
料、高分子下塗り層、1層以上の画像形成層及び1層以
上の電気的導電層を含む画像形成要素に関する。更に詳
細には、本発明は、コロイド状の電子的導電性金属含有
粒子、正荷電性を付与する第一電荷制御剤及び負荷電性
を付与する第二電荷制御剤並びに高分子フィルム形成性
バインダーを含む、前記画像形成層の上に位置する電気
的導電性面保護(オーバーコート)層を含んでなる改良
画像形成要素に関する。
料、高分子下塗り層、1層以上の画像形成層及び1層以
上の電気的導電層を含む画像形成要素に関する。更に詳
細には、本発明は、コロイド状の電子的導電性金属含有
粒子、正荷電性を付与する第一電荷制御剤及び負荷電性
を付与する第二電荷制御剤並びに高分子フィルム形成性
バインダーを含む、前記画像形成層の上に位置する電気
的導電性面保護(オーバーコート)層を含んでなる改良
画像形成要素に関する。
【0002】
【従来の技術】写真フィルム及び写真紙の製造及び使用
の際の静電荷の発生及び放電に伴う課題は写真業界にお
いて認識されて久しい。フィルム及び写真紙の表面上に
静電荷が蓄積すると、乳剤層中に不規則な静電マーク又
はカブリパターンが発生することがある。静電荷の存在
は、支持体移送を困難なものとし、そして塵が吸引され
てカブリ、減感及び乳剤塗布の際の他の物理的欠陥の原
因となることもある。増感乳剤層の塗布の際又は塗布後
に蓄積された電荷が放電すると不規則なカブリパターン
又は“静電マーク”が乳剤層中に発生することもある。
静電気に関連する課題の深刻さは、新乳剤の感度増加、
塗布機スピードの増加及び後塗布乾燥効率の高揚により
大幅に悪化した。塗布処理の際静電荷が発生するのは、
巻き取り及び巻き返し操作の際、塗布機中を移動する
際、そしてスリッティング及びスプーリングのような仕
上げ操作の際、ウェブが摩擦により荷電されやすいこと
が主な原因である。静電荷は、写真フィルムの仕上り製
品を使用する際にも発生することがある。自動カメラで
は、特に相対湿度が低い環境でのフィルムカセット中へ
のフィルムの巻き入れ及び巻き取りが、静電荷及び静電
マークを生じさせることがある。同様に、高速自動フィ
ルム処理装置が静電荷を生じさせてマーキングとなるこ
とがある。シートフィルムは、自動高速フィルムカセッ
トローダー(例えば、X線、グラフィックアートフィル
ム)中で使用する際、特に静電荷を帯びやすい。
の際の静電荷の発生及び放電に伴う課題は写真業界にお
いて認識されて久しい。フィルム及び写真紙の表面上に
静電荷が蓄積すると、乳剤層中に不規則な静電マーク又
はカブリパターンが発生することがある。静電荷の存在
は、支持体移送を困難なものとし、そして塵が吸引され
てカブリ、減感及び乳剤塗布の際の他の物理的欠陥の原
因となることもある。増感乳剤層の塗布の際又は塗布後
に蓄積された電荷が放電すると不規則なカブリパターン
又は“静電マーク”が乳剤層中に発生することもある。
静電気に関連する課題の深刻さは、新乳剤の感度増加、
塗布機スピードの増加及び後塗布乾燥効率の高揚により
大幅に悪化した。塗布処理の際静電荷が発生するのは、
巻き取り及び巻き返し操作の際、塗布機中を移動する
際、そしてスリッティング及びスプーリングのような仕
上げ操作の際、ウェブが摩擦により荷電されやすいこと
が主な原因である。静電荷は、写真フィルムの仕上り製
品を使用する際にも発生することがある。自動カメラで
は、特に相対湿度が低い環境でのフィルムカセット中へ
のフィルムの巻き入れ及び巻き取りが、静電荷及び静電
マークを生じさせることがある。同様に、高速自動フィ
ルム処理装置が静電荷を生じさせてマーキングとなるこ
とがある。シートフィルムは、自動高速フィルムカセッ
トローダー(例えば、X線、グラフィックアートフィル
ム)中で使用する際、特に静電荷を帯びやすい。
【0003】蓄積された静電荷は、1層以上の電気的導
電性“帯電防止層”をフィルム構造全般に含ませること
により、効果的に消散させることができることが広く知
られかつ認められている。帯電防止層は、下塗り層とし
てフィルム支持体の一方の面又は両面に、又は増感乳剤
層とは反対側の面上に施すことができる。あるいは、帯
電防止層は、乳剤層上に(すなわち、オーバーコートと
して)又はフィルム支持体の乳剤層とは反対の面上(す
なわち、バックコートとして)もしくは両面上のいずれ
かに最外塗布層として施すことができる。ある用途で
は、帯電防止機能を乳剤層又は中間層としてのペロイド
層中に含めることができる。広範囲の電気的導電性材料
を帯電防止層に含めて、広範囲の表面導電性を生じさせ
ることができる。写真用途に用いられる伝統的な帯電防
止層の多くは主にイオン性導電性を示す材料を用いる。
簡単な無機塩、界面活性剤のアルカリ金属塩、アルカリ
金属イオン安定化コロイド状金属酸化物ゾル、アルカリ
金属塩を含有するイオン性導電性高分子又は高分子電解
質等を含む帯電防止層が従来技術において教示されてい
る。このようなイオン性導電体の電気的導電性は、典型
的に周囲環境の温度及び相対湿度に大きく依存する。相
対湿度及び温度が低いと、電荷担持イオンの拡散移動性
が大幅に減じ、バルク導電率が実質的に減少する。相対
湿度が高いと、露光された帯電防止バックコーティング
が水を吸収し、膨潤しそして軟化することがある。ロー
ルフィルムの場合は特に、このために層間の接着性が失
われ、同時にバックコーティングの部分がフィルムの乳
剤面に物理的に移動する(すなわちブロッキング)結果
になることがある。またこのような帯電防止層に典型的
に用いられる、無機塩、高分子電解質及び低分子量表面
活性剤の多くは水溶性であり、フィルム処理の際浸み出
して、その結果帯電防止機能が失われることがある。
電性“帯電防止層”をフィルム構造全般に含ませること
により、効果的に消散させることができることが広く知
られかつ認められている。帯電防止層は、下塗り層とし
てフィルム支持体の一方の面又は両面に、又は増感乳剤
層とは反対側の面上に施すことができる。あるいは、帯
電防止層は、乳剤層上に(すなわち、オーバーコートと
して)又はフィルム支持体の乳剤層とは反対の面上(す
なわち、バックコートとして)もしくは両面上のいずれ
かに最外塗布層として施すことができる。ある用途で
は、帯電防止機能を乳剤層又は中間層としてのペロイド
層中に含めることができる。広範囲の電気的導電性材料
を帯電防止層に含めて、広範囲の表面導電性を生じさせ
ることができる。写真用途に用いられる伝統的な帯電防
止層の多くは主にイオン性導電性を示す材料を用いる。
簡単な無機塩、界面活性剤のアルカリ金属塩、アルカリ
金属イオン安定化コロイド状金属酸化物ゾル、アルカリ
金属塩を含有するイオン性導電性高分子又は高分子電解
質等を含む帯電防止層が従来技術において教示されてい
る。このようなイオン性導電体の電気的導電性は、典型
的に周囲環境の温度及び相対湿度に大きく依存する。相
対湿度及び温度が低いと、電荷担持イオンの拡散移動性
が大幅に減じ、バルク導電率が実質的に減少する。相対
湿度が高いと、露光された帯電防止バックコーティング
が水を吸収し、膨潤しそして軟化することがある。ロー
ルフィルムの場合は特に、このために層間の接着性が失
われ、同時にバックコーティングの部分がフィルムの乳
剤面に物理的に移動する(すなわちブロッキング)結果
になることがある。またこのような帯電防止層に典型的
に用いられる、無機塩、高分子電解質及び低分子量表面
活性剤の多くは水溶性であり、フィルム処理の際浸み出
して、その結果帯電防止機能が失われることがある。
【0004】蓄積した静電荷を消失するために、感光性
写真材料表面の電気的導電性を高めるため、従来技術に
より提案された多数の方法の1つは、乳剤層を覆う最外
(表面)保護層に広範囲の各種界面活性剤又は塗布助剤
の少くとも1つを取り込むことである。例えば、米国特
許第3,082,123号;第3,201,251号;
第3,519,561号;及び第3,625,695
号;ドイツ特許第1,552,408号及び第1,59
7,472号等に記載されているタイプのアニオン性、
カチオン性及びベタインベースの界面活性剤をはじめと
する広範囲のイオンタイプの界面活性剤が、帯電防止剤
として評価されている。帯電防止剤としてポリオキシエ
チレン基を少くとも1個有する非イオン性界面活性剤の
使用は、米国特許第4,649,102号及び第4,8
91,307号;英国特許第861,134号;ドイツ
特許第1,422,809号及び第1,422,818
号等に開示されている。さらに、ポリオキシエチレン基
を少くとも2個有する非イオン性界面活性剤を含有する
表面保護層は、米国特許第4,510,233号に開示
されている。性能を向上させるために、ポリオキシエチ
レン基を少くとも1個有するアニオン性界面活性剤を、
ポリオキシエチレン基を少くとも1個有する非イオン性
界面活性剤と組合せて、表面層に包含させることは米国
特許第4,649,102号に開示されている。ポリオ
キシエチレン基を少くとも1個有する非イオン性界面活
性剤又はポリオキシエチレン基を少くとも1個有する非
イオン性及びアニオン性界面活性剤の組合せ物のいずれ
かを含有する表面層中に、ポリオキシエチレン基を有す
るフッ素含有イオン性界面活性剤を包含することによ
り、帯電防止性能をさらに向上させることが米国特許第
4,510,233号及び第4,649,102号に開
示されている。加えて、色素ステインが生じることなく
処理の前後の両時点で良好な帯電防止特性を得るため
に、各々ポリオキシエチレン基を少くとも1個有する特
定のカチオン性界面活性剤及びアニオン性界面活性剤で
あって親水性コロイド状バインダーと水溶性又は分散性
複合体を形成するものの組合せを含有する表面層又はバ
ッキング層の配備がヨーロッパ特許出願第650,08
8号及び英国特許第2,299,680号に開示されて
いる。
写真材料表面の電気的導電性を高めるため、従来技術に
より提案された多数の方法の1つは、乳剤層を覆う最外
(表面)保護層に広範囲の各種界面活性剤又は塗布助剤
の少くとも1つを取り込むことである。例えば、米国特
許第3,082,123号;第3,201,251号;
第3,519,561号;及び第3,625,695
号;ドイツ特許第1,552,408号及び第1,59
7,472号等に記載されているタイプのアニオン性、
カチオン性及びベタインベースの界面活性剤をはじめと
する広範囲のイオンタイプの界面活性剤が、帯電防止剤
として評価されている。帯電防止剤としてポリオキシエ
チレン基を少くとも1個有する非イオン性界面活性剤の
使用は、米国特許第4,649,102号及び第4,8
91,307号;英国特許第861,134号;ドイツ
特許第1,422,809号及び第1,422,818
号等に開示されている。さらに、ポリオキシエチレン基
を少くとも2個有する非イオン性界面活性剤を含有する
表面保護層は、米国特許第4,510,233号に開示
されている。性能を向上させるために、ポリオキシエチ
レン基を少くとも1個有するアニオン性界面活性剤を、
ポリオキシエチレン基を少くとも1個有する非イオン性
界面活性剤と組合せて、表面層に包含させることは米国
特許第4,649,102号に開示されている。ポリオ
キシエチレン基を少くとも1個有する非イオン性界面活
性剤又はポリオキシエチレン基を少くとも1個有する非
イオン性及びアニオン性界面活性剤の組合せ物のいずれ
かを含有する表面層中に、ポリオキシエチレン基を有す
るフッ素含有イオン性界面活性剤を包含することによ
り、帯電防止性能をさらに向上させることが米国特許第
4,510,233号及び第4,649,102号に開
示されている。加えて、色素ステインが生じることなく
処理の前後の両時点で良好な帯電防止特性を得るため
に、各々ポリオキシエチレン基を少くとも1個有する特
定のカチオン性界面活性剤及びアニオン性界面活性剤で
あって親水性コロイド状バインダーと水溶性又は分散性
複合体を形成するものの組合せを含有する表面層又はバ
ッキング層の配備がヨーロッパ特許出願第650,08
8号及び英国特許第2,299,680号に開示されて
いる。
【0005】ポリオキシエチレン基を有する非イオン性
又はアニオン性界面活性剤のいずれかを含有する表面層
はそれらの帯電防止特性についての特異性を示すことが
多いので、良好な性能は特定の支持体及び写真乳剤層に
対しては得られるが、それらが他のものと共に用いられ
ると性能が劣ることになる。米国特許第3,589,9
06号;第3,666,478号;第3,754,92
4号;第3,775,236号;及び第3,850,6
42号;英国特許第1,293,189号;第1,25
9,398号;第1,330,356号及び第1,52
4,631号に記載のタイプのフッ素含有イオン性界面
活性剤を含有する表面層は一般に各種材料と接触させる
と負荷電摩擦帯電を示す。このようなフッ素含有イオン
性界面活性剤は、長時間貯蔵、特に高相対湿度での貯蔵
後、摩擦荷電特性が変動する。しかしながら、これらの
特定材料に対して正に荷電する他の界面活性剤を表面層
に包含させることにより、特定材料からの摩擦荷電を低
減することが可能である。表面層の摩擦帯電特性が、そ
の表面層が接触した特定材料に依存する度合いは、米国
特許第4,175,969号に開示されているタイプの
フッ素含有非イオン性界面活性剤を大量に添加すること
により幾分低下させることができる。しかしながら、前
記フッ素含有界面活性剤を大量に使用すると乳剤感度が
低下し、ブロッキングの傾向が増加し、そして処理中の
色素ステインが増加する結果となる。したがって、画像
形成要素が接触することになるこれらの材料のすべてに
対して、その画像形成要素の他の必須の性能特性を大き
く損うことなく、摩擦荷電のレベルを最少にすることは
極めて困難である。
又はアニオン性界面活性剤のいずれかを含有する表面層
はそれらの帯電防止特性についての特異性を示すことが
多いので、良好な性能は特定の支持体及び写真乳剤層に
対しては得られるが、それらが他のものと共に用いられ
ると性能が劣ることになる。米国特許第3,589,9
06号;第3,666,478号;第3,754,92
4号;第3,775,236号;及び第3,850,6
42号;英国特許第1,293,189号;第1,25
9,398号;第1,330,356号及び第1,52
4,631号に記載のタイプのフッ素含有イオン性界面
活性剤を含有する表面層は一般に各種材料と接触させる
と負荷電摩擦帯電を示す。このようなフッ素含有イオン
性界面活性剤は、長時間貯蔵、特に高相対湿度での貯蔵
後、摩擦荷電特性が変動する。しかしながら、これらの
特定材料に対して正に荷電する他の界面活性剤を表面層
に包含させることにより、特定材料からの摩擦荷電を低
減することが可能である。表面層の摩擦帯電特性が、そ
の表面層が接触した特定材料に依存する度合いは、米国
特許第4,175,969号に開示されているタイプの
フッ素含有非イオン性界面活性剤を大量に添加すること
により幾分低下させることができる。しかしながら、前
記フッ素含有界面活性剤を大量に使用すると乳剤感度が
低下し、ブロッキングの傾向が増加し、そして処理中の
色素ステインが増加する結果となる。したがって、画像
形成要素が接触することになるこれらの材料のすべてに
対して、その画像形成要素の他の必須の性能特性を大き
く損うことなく、摩擦荷電のレベルを最少にすることは
極めて困難である。
【0006】摩擦荷電を低減し、処理中の色素ステイン
を防止し、貯蔵中帯電防止特性を維持し、そして感光性
乳剤のセンシトメトリー特性を保持するために、少くと
も1種のフッ素含有非イオン性界面活性剤及び少くとも
1種のフッ素含有イオン性界面活性剤、並びにフッ素非
含有非イオン性界面活性剤を含む、3種の界面活性剤の
組合せを、表面層又はバッキング層に添加することが米
国特許第4,891,307号に開示されている。類似
しない材料(例えば、ゴム及びナイロン)に対する前記
の界面活性剤の組合せを含む表面層又はバッキング層の
摩擦荷電レベルは、増感乳剤の静電マークがほとんど又
は全く発生しない程度であると論じている。米国特許第
3,062,700号及び第3,245,833号に記
載のタイプのコロイド状金属酸化物粒子のような別の帯
電防止剤を、前記の界面活性剤の組合せを含有する表面
層に添加することもまた米国特許第4,891,307
号に開示されている。
を防止し、貯蔵中帯電防止特性を維持し、そして感光性
乳剤のセンシトメトリー特性を保持するために、少くと
も1種のフッ素含有非イオン性界面活性剤及び少くとも
1種のフッ素含有イオン性界面活性剤、並びにフッ素非
含有非イオン性界面活性剤を含む、3種の界面活性剤の
組合せを、表面層又はバッキング層に添加することが米
国特許第4,891,307号に開示されている。類似
しない材料(例えば、ゴム及びナイロン)に対する前記
の界面活性剤の組合せを含む表面層又はバッキング層の
摩擦荷電レベルは、増感乳剤の静電マークがほとんど又
は全く発生しない程度であると論じている。米国特許第
3,062,700号及び第3,245,833号に記
載のタイプのコロイド状金属酸化物粒子のような別の帯
電防止剤を、前記の界面活性剤の組合せを含有する表面
層に添加することもまた米国特許第4,891,307
号に開示されている。
【0007】グラフィックアート及び医療用X線フィル
ムのために、溶解性帯電防止剤(例えば、Tergitol 15-
S-7 )、脂肪族スルホネートタイプの界面活性剤(例え
ば、Hostapur SAS-93 )、マット剤(例えば、シリカ、
チタニア、亜鉛酸化物、高分子ビーズ)及び摩擦低減剤
(例えば、Slip-Ayd SL-530 )を含有する、硬化ゼラチ
ン含有導電性表面層が米国特許第5,368,894号
に教示されている。さらに、導電性表面層がその下側の
増感乳剤層と共に施されている、前記の多層写真要素の
製造方法もまた米国特許第5,368,894号に特許
請求されている。コロイド状金属酸化物粒子層により囲
まれている高分子コア粒子からなる複合マット剤、並び
に場合により導電性金属酸化物粒子及び非イオン性、ア
ニオン性又はカチオン性界面活性剤を含む表面保護層が
米国特許第5,288,598号に開示されている。
ムのために、溶解性帯電防止剤(例えば、Tergitol 15-
S-7 )、脂肪族スルホネートタイプの界面活性剤(例え
ば、Hostapur SAS-93 )、マット剤(例えば、シリカ、
チタニア、亜鉛酸化物、高分子ビーズ)及び摩擦低減剤
(例えば、Slip-Ayd SL-530 )を含有する、硬化ゼラチ
ン含有導電性表面層が米国特許第5,368,894号
に教示されている。さらに、導電性表面層がその下側の
増感乳剤層と共に施されている、前記の多層写真要素の
製造方法もまた米国特許第5,368,894号に特許
請求されている。コロイド状金属酸化物粒子層により囲
まれている高分子コア粒子からなる複合マット剤、並び
に場合により導電性金属酸化物粒子及び非イオン性、ア
ニオン性又はカチオン性界面活性剤を含む表面保護層が
米国特許第5,288,598号に開示されている。
【0008】イオン導電体ではなく電子導電体を含む帯
電防止層もまた従来技術には広く記載されている。この
ような層の電気的導電率は主にイオンの移動性よりむし
ろ電子の移動性に依存するので、導電率は相対湿度には
依存せず、周囲温度にも僅かしか影響されないことが認
められている。共役導電性高分子、導電性炭素粒子、結
晶性半導体粒子、非結晶性半導体小繊維、及び連続半導
体薄フィルム又は網状構造を含む帯電防止層が当該技術
分野において周知である。既に記載した各種タイプの電
子導電体の中で、電子導電性金属含有粒子、例えば、半
導体金属酸化物粒子が特に有効である。適切な供与体ヘ
テロ原子でドーピングされた又は酸素欠損を含む結晶性
金属酸化物の微粒子は、高分子フィルム形成バインダー
と共に分散させた場合、広範囲の各種画像形成用途に有
用な、光学的に透明で、湿度に影響されない帯電防止層
を調製するのに十分な程導電性であり、このことは米国
特許第4,275,103号;第4,416,963
号;第4,495,276号;第4,394,441
号;第4,418,141号;第4,431,764
号;第4,495,276号;第4,571,361
号;第4,999,276号;第5,122,445
号;第5,294,525号;第5,368,995
号;第5,382,494号;第5,459,021号
に記載されている。特許請求された適切な導電性金属酸
化物としては、酸化亜鉛、チタニア、酸化スズ、アルミ
ナ、酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、アチンモン酸
インジウム、シリカ、マグネシア、ジルコニア、酸化バ
リウム、三酸化モリブデン、三酸化タングステン及び五
酸化バナジウムが挙げられる。これらの中で、画像形成
要素用の導電性層に最も広く用いられる半導体金属酸化
物は、結晶性アンチモンドーピング化酸化スズ、特に米
国特許第4,394,441号に開示されているような
0.1〜10原子%Sb(Sbx Sn1-x O2 用)の好
ましいアンチモンドーピング剤レベルのものである。
電防止層もまた従来技術には広く記載されている。この
ような層の電気的導電率は主にイオンの移動性よりむし
ろ電子の移動性に依存するので、導電率は相対湿度には
依存せず、周囲温度にも僅かしか影響されないことが認
められている。共役導電性高分子、導電性炭素粒子、結
晶性半導体粒子、非結晶性半導体小繊維、及び連続半導
体薄フィルム又は網状構造を含む帯電防止層が当該技術
分野において周知である。既に記載した各種タイプの電
子導電体の中で、電子導電性金属含有粒子、例えば、半
導体金属酸化物粒子が特に有効である。適切な供与体ヘ
テロ原子でドーピングされた又は酸素欠損を含む結晶性
金属酸化物の微粒子は、高分子フィルム形成バインダー
と共に分散させた場合、広範囲の各種画像形成用途に有
用な、光学的に透明で、湿度に影響されない帯電防止層
を調製するのに十分な程導電性であり、このことは米国
特許第4,275,103号;第4,416,963
号;第4,495,276号;第4,394,441
号;第4,418,141号;第4,431,764
号;第4,495,276号;第4,571,361
号;第4,999,276号;第5,122,445
号;第5,294,525号;第5,368,995
号;第5,382,494号;第5,459,021号
に記載されている。特許請求された適切な導電性金属酸
化物としては、酸化亜鉛、チタニア、酸化スズ、アルミ
ナ、酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、アチンモン酸
インジウム、シリカ、マグネシア、ジルコニア、酸化バ
リウム、三酸化モリブデン、三酸化タングステン及び五
酸化バナジウムが挙げられる。これらの中で、画像形成
要素用の導電性層に最も広く用いられる半導体金属酸化
物は、結晶性アンチモンドーピング化酸化スズ、特に米
国特許第4,394,441号に開示されているような
0.1〜10原子%Sb(Sbx Sn1-x O2 用)の好
ましいアンチモンドーピング剤レベルのものである。
【0009】白黒写真要素の増感ハロゲン化銀乳剤層を
覆う電子導電性保護オーバーコートであって、両者共粒
状導電性金属酸化物粒子とゼラチンを含有するが金属酸
化物粒子対ゼラチンの重量比が異る少くとも2層を含む
ものが特開昭63−063035号に教示されている。
前記保護層の最外層は、最も内部の導電性層のものよ
り、低い金属酸化物粒子対ゼラチン重量比(例えば、
2:1対4:1)で存在する、実質的により低い全乾燥
塗布量の導電性金属酸化物(例えば、0.75g/m2
対2.5g/m2 )を含有する。
覆う電子導電性保護オーバーコートであって、両者共粒
状導電性金属酸化物粒子とゼラチンを含有するが金属酸
化物粒子対ゼラチンの重量比が異る少くとも2層を含む
ものが特開昭63−063035号に教示されている。
前記保護層の最外層は、最も内部の導電性層のものよ
り、低い金属酸化物粒子対ゼラチン重量比(例えば、
2:1対4:1)で存在する、実質的により低い全乾燥
塗布量の導電性金属酸化物(例えば、0.75g/m2
対2.5g/m2 )を含有する。
【0010】電子導電性アンチモンドーピング化スズ酸
化物粒状粒子を少くとも1種のフッ素含有界面活性剤と
組合せて、表面層、オーバーコート層又はバッキング層
に使用することは、米国特許第4,495,276号;
第4,999,276号;第5,122,445号;第
5,238,801号;第5,254,448号及び第
5,378,577号並びに特開平(A)7−020,
610号及び(B)91−024,656号にも広く開
示されている。フッ素含有界面活性剤は、電子導電性ス
ズ酸化物粒子と同一層に配置して帯電防止性能を向上さ
せるのが好ましい。フッ素含有界面活性剤を少くとも1
種、少くとも1個のポリオキシエチレン基を有する非イ
オン性界面活性剤、及び場合により電子導電性金属酸化
物粒状粒子又は導電性高分子もしくは導電性ラテックス
の一方又は両者を含む表面保護層又はバッキング層が米
国特許第5,582,959号に開示されている。前記
の電子導電性金属酸化物粒子を、下塗り層、バッキング
層、中間層又はハレーション防止層に添加することは特
に好ましい実施態様に開示されている。さらに少くとも
1個のポリオキシエチレンを有する非イオン性界面活性
剤及びフッ素含有界面活性剤を各々単独で又は組合せて
添加することは別の特定の好ましい実施態様に開示され
ている。しかしながら、表面保護層中に電子導電性金属
酸化物粒子を添加することは実施例にも教示されていな
いし特許請求もされていない。
化物粒状粒子を少くとも1種のフッ素含有界面活性剤と
組合せて、表面層、オーバーコート層又はバッキング層
に使用することは、米国特許第4,495,276号;
第4,999,276号;第5,122,445号;第
5,238,801号;第5,254,448号及び第
5,378,577号並びに特開平(A)7−020,
610号及び(B)91−024,656号にも広く開
示されている。フッ素含有界面活性剤は、電子導電性ス
ズ酸化物粒子と同一層に配置して帯電防止性能を向上さ
せるのが好ましい。フッ素含有界面活性剤を少くとも1
種、少くとも1個のポリオキシエチレン基を有する非イ
オン性界面活性剤、及び場合により電子導電性金属酸化
物粒状粒子又は導電性高分子もしくは導電性ラテックス
の一方又は両者を含む表面保護層又はバッキング層が米
国特許第5,582,959号に開示されている。前記
の電子導電性金属酸化物粒子を、下塗り層、バッキング
層、中間層又はハレーション防止層に添加することは特
に好ましい実施態様に開示されている。さらに少くとも
1個のポリオキシエチレンを有する非イオン性界面活性
剤及びフッ素含有界面活性剤を各々単独で又は組合せて
添加することは別の特定の好ましい実施態様に開示され
ている。しかしながら、表面保護層中に電子導電性金属
酸化物粒子を添加することは実施例にも教示されていな
いし特許請求もされていない。
【0011】同様に、増感ハロゲン化銀乳剤層を覆い、
オルガノポリシロキサン及び少くとも1個のポリオキシ
エチレン基を有する非イオン性界面活性剤を含有し、場
合により1種以上のフッ素含有界面活性剤又はポリマー
と組合せて又は置換えた最外層並びに電子導電性金属酸
化物粒子を含有するバッキング層を含むハロゲン化銀写
真材料が、米国特許第5,137,802号に開示され
ている。このバッキング層は、乳剤層を覆う前記の最外
層とは反対の支持体面上に位置する。オルガノポリシロ
キサン、ポリオキシエチレン基を有する非イオン性界面
活性剤及び/又はフッ素含有界面剤もしくは高分子を前
記の最外層に添加することが、優れた帯電防止性能を付
与し、同時に貯蔵による劣化度を最少にし、しかも静電
マークの発生を無視しうるものとして開示されている。
オルガノポリシロキサン及び少くとも1個のポリオキシ
エチレン基を有する非イオン性界面活性剤を含有し、場
合により1種以上のフッ素含有界面活性剤又はポリマー
と組合せて又は置換えた最外層並びに電子導電性金属酸
化物粒子を含有するバッキング層を含むハロゲン化銀写
真材料が、米国特許第5,137,802号に開示され
ている。このバッキング層は、乳剤層を覆う前記の最外
層とは反対の支持体面上に位置する。オルガノポリシロ
キサン、ポリオキシエチレン基を有する非イオン性界面
活性剤及び/又はフッ素含有界面剤もしくは高分子を前
記の最外層に添加することが、優れた帯電防止性能を付
与し、同時に貯蔵による劣化度を最少にし、しかも静電
マークの発生を無視しうるものとして開示されている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、イオン
性界面活性剤又はイオン性及び非イオン性界面活性剤の
組合せを含有する電気的導電性オーバーコート層につい
ての、そして画像形成要素に有用な電気的導電性金属酸
化物粒子を含有する帯電防止層についての従来技術は、
広範囲の各種のオーバーコート層組成物を開示してい
る。しかしながら、蓄積した静電荷を効率よく消散させ
るばかりでなく、画像形成要素が接触することになる広
範囲の各種材料に対する摩擦電荷を最少にする導電性オ
ーバーコートが当該技術分野において今尚必要とされて
いる。優れた帯電防止性能が得られることに加えて、導
電性オーバーコート層は高度に透明であり、湿度変化の
影響に対する抵抗性を有し、下側層に強力に接着し、適
度のマッシュネス(mushiness)を示し、フェロタイピ
ングもしくはブロッキングを示さず、センシオメトリー
に悪影響を与えず、現像速度を妨害せず、塵ほこりを示
さず、しかもなお妥当なコストで製造可能でなければな
らない。本発明の目的は、従来技術のオーバーコート層
と比べて、画像形成要素、特にハロゲン化銀写真フィル
ム要素の多様なニーズに、より効果的に合致する、改良
された電気導電性、非荷電性オーバーコート層を提供す
ることである。
性界面活性剤又はイオン性及び非イオン性界面活性剤の
組合せを含有する電気的導電性オーバーコート層につい
ての、そして画像形成要素に有用な電気的導電性金属酸
化物粒子を含有する帯電防止層についての従来技術は、
広範囲の各種のオーバーコート層組成物を開示してい
る。しかしながら、蓄積した静電荷を効率よく消散させ
るばかりでなく、画像形成要素が接触することになる広
範囲の各種材料に対する摩擦電荷を最少にする導電性オ
ーバーコートが当該技術分野において今尚必要とされて
いる。優れた帯電防止性能が得られることに加えて、導
電性オーバーコート層は高度に透明であり、湿度変化の
影響に対する抵抗性を有し、下側層に強力に接着し、適
度のマッシュネス(mushiness)を示し、フェロタイピ
ングもしくはブロッキングを示さず、センシオメトリー
に悪影響を与えず、現像速度を妨害せず、塵ほこりを示
さず、しかもなお妥当なコストで製造可能でなければな
らない。本発明の目的は、従来技術のオーバーコート層
と比べて、画像形成要素、特にハロゲン化銀写真フィル
ム要素の多様なニーズに、より効果的に合致する、改良
された電気導電性、非荷電性オーバーコート層を提供す
ることである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体;1層
以上の、支持体上に重ね合された画像形成層;並びに支
持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電性最
外オーバーコート層、を含んでなる多層画像形成要素に
関する。透明な電気的導電性非荷電性最外オーバーコー
ト層は、コロイド状電気的導電性金属含有粒状粒子であ
って、導電性金属含有粒子が20〜80の容量%でフィ
ルム形成性バインダー中に分散したもの、正荷電性を付
与する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷
制御剤を含む。
以上の、支持体上に重ね合された画像形成層;並びに支
持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電性最
外オーバーコート層、を含んでなる多層画像形成要素に
関する。透明な電気的導電性非荷電性最外オーバーコー
ト層は、コロイド状電気的導電性金属含有粒状粒子であ
って、導電性金属含有粒子が20〜80の容量%でフィ
ルム形成性バインダー中に分散したもの、正荷電性を付
与する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷
制御剤を含む。
【0014】本発明並びに他の利点及びその可能性をよ
り良く理解するために、以下の記載を以下の図面と関連
づけて参考にすることができる。
り良く理解するために、以下の記載を以下の図面と関連
づけて参考にすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明は、フィルム形成性バイン
ダー中に分散したコロイド状の電子的導電性金属含有粒
状粒子、並びに負電荷特性を付与する第一電荷制御剤及
び正電荷特性を付与する第二電荷制御剤を含有する電気
的導電性オーバーコート層を含む改良画像形成要素に関
する。本発明の電気的導電性オーバーコート層の製造方
法には、少X線微結晶サイズを有する選ばれた金属含有
粒状粒子の平均粒径を、安定な水性コロイド状分散体を
得るためにアトリーションミル又は他の適切な方法によ
り減少させることが含まれる。このコロイド状分散体
を、正電荷特性を付与する第一電荷制御剤、負電荷特性
を付与する第二電荷制御剤、高分子フィルム形成性バイ
ンダー、場合により増量剤又は粘度改質剤及び他の添加
剤と合せる。得られた画像形成要素は、従来の画像形成
要素と比較して、層間粘着、マッシュネス(mashness)
に悪影響を与えることなく、静電荷特性が向上する。
ダー中に分散したコロイド状の電子的導電性金属含有粒
状粒子、並びに負電荷特性を付与する第一電荷制御剤及
び正電荷特性を付与する第二電荷制御剤を含有する電気
的導電性オーバーコート層を含む改良画像形成要素に関
する。本発明の電気的導電性オーバーコート層の製造方
法には、少X線微結晶サイズを有する選ばれた金属含有
粒状粒子の平均粒径を、安定な水性コロイド状分散体を
得るためにアトリーションミル又は他の適切な方法によ
り減少させることが含まれる。このコロイド状分散体
を、正電荷特性を付与する第一電荷制御剤、負電荷特性
を付与する第二電荷制御剤、高分子フィルム形成性バイ
ンダー、場合により増量剤又は粘度改質剤及び他の添加
剤と合せる。得られた画像形成要素は、従来の画像形成
要素と比較して、層間粘着、マッシュネス(mashness)
に悪影響を与えることなく、静電荷特性が向上する。
【0016】本発明の透明な電気的導電性非荷電性オー
バーコート層は、蓄積された静電荷の影響、例えば、塵
吸引、製造中の物理的欠陥、移送中の不規則な動き及び
摩擦荷電により生じる不規則な“カブリ”パターン並び
に蓄積静電荷の放電により生じる静電マークからハロゲ
ン化銀増感乳剤層を保護するように作用する。本発明の
電気的導電性非荷電性オーバーコート層は、蓄積静電荷
を効率よく消失させるための電気的導電性金属含有粒子
及び摩擦電荷レベルを最少にするための電荷制御を少く
とも1種又はそれらの組合せの両者を含む。本発明の電
気的導電性金属含有粒子は、100Å未満のX線微結晶
サイズを有する前記粒子の平均一次粒径をアトリーショ
ン粉砕又は他の適切な方法により減少させて約0.02
μm未満であるがX線微結晶サイズ未満ではない平均等
価円直径を有する粒子を得ることにより調製できる。最
少の摩擦電荷は、負荷電性を付与する第一電荷制御剤及
び正荷電性を付与する第二電荷制御剤を、低濃度でしか
も所望の相対比率で含む電荷制御剤の組合せにより得ら
れる。本発明の電気的導電性非荷電性オーバーコート層
は、界面活性剤のみを含有する従来の導電性層と比較し
て、優れた帯電防止特性を付与する。これは従来層の導
電性を高めるために界面活性剤濃度を高くする必要があ
り、このことはまた摩擦電荷レベルをも高めることがあ
るからである。さらに本発明の電気的導電性オーバーコ
ート層は、電荷制御剤なしで電気的導電性金属酸化物粒
子を含有する従来の導電性層と比較して優れた帯電防止
性を付与する。
バーコート層は、蓄積された静電荷の影響、例えば、塵
吸引、製造中の物理的欠陥、移送中の不規則な動き及び
摩擦荷電により生じる不規則な“カブリ”パターン並び
に蓄積静電荷の放電により生じる静電マークからハロゲ
ン化銀増感乳剤層を保護するように作用する。本発明の
電気的導電性非荷電性オーバーコート層は、蓄積静電荷
を効率よく消失させるための電気的導電性金属含有粒子
及び摩擦電荷レベルを最少にするための電荷制御を少く
とも1種又はそれらの組合せの両者を含む。本発明の電
気的導電性金属含有粒子は、100Å未満のX線微結晶
サイズを有する前記粒子の平均一次粒径をアトリーショ
ン粉砕又は他の適切な方法により減少させて約0.02
μm未満であるがX線微結晶サイズ未満ではない平均等
価円直径を有する粒子を得ることにより調製できる。最
少の摩擦電荷は、負荷電性を付与する第一電荷制御剤及
び正荷電性を付与する第二電荷制御剤を、低濃度でしか
も所望の相対比率で含む電荷制御剤の組合せにより得ら
れる。本発明の電気的導電性非荷電性オーバーコート層
は、界面活性剤のみを含有する従来の導電性層と比較し
て、優れた帯電防止特性を付与する。これは従来層の導
電性を高めるために界面活性剤濃度を高くする必要があ
り、このことはまた摩擦電荷レベルをも高めることがあ
るからである。さらに本発明の電気的導電性オーバーコ
ート層は、電荷制御剤なしで電気的導電性金属酸化物粒
子を含有する従来の導電性層と比較して優れた帯電防止
性を付与する。
【0017】本発明の電気的導電性オーバーコート層に
特に有用な一群の電気的導電性金属含有粒状粒子は、半
導体金属酸化物粒状粒子である。有用な電気的導電性金
属含有粒状粒子の他の例としては、選ばれた金属の炭化
物、窒化物、珪酸化物及びホウ化物が挙げられる。適切
な半導体金属酸化物の例としては、亜鉛酸化物、チタニ
ア、スズ酸化物、アルミナ、インジウムセスキ酸化物、
アンチモン酸亜鉛、アンチモン酸インジウム、シリカ、
マグネシア、ジルコニア、バリウム酸化物、三酸化モリ
ブデン、三酸化タングステン、及び五酸化バナジウムが
挙げられる。適切な半導体金属酸化物粒子は、1×10
5 オーム・cm未満、好ましくは1×10 3 オーム・cm未
満、さらに好ましくは1×102 オーム・cm未満の比抵
抗率(体積)を示すものである。このような半導体金属
酸化物は典型的に供与体ヘテロ原子でドーピングされて
いるか、又は酸素原子欠損を示す。金属酸化物粒状粒子
を特徴づけるのに用いられる別の物性は、平均X線微結
晶サイズである。X線微結晶サイズの概念は、米国特許
第5,484,694号及びそこに引用されている参考
文献に記載されている。10nm未満の微結晶サイズを示
す半導体アンチモン−ドーピング化スズ酸化物粒状粒子
を含む透明な導電性層は、画像形成要素に特に有用であ
ると米国特許第5,484,694号に教示されてい
る。同様に、1〜20nm、好ましくは1〜5nm、さらに
好ましくは1〜3.5nmの範囲の平均X線微結晶サイズ
を有する導電性粒状金属酸化物粒子を含有する帯電防止
層を含む写真要素が米国特許第5,459,021号に
おいて特許請求されている。小さい微結晶サイズの金属
酸化物粒子を使用する利点が米国特許第5,484,6
94号及び第5,459,021号に開示されており、
そして電気性能を損うことなく極少サイズまで粉砕可能
なこと、低重量被覆量で特定レベルの導電性が得られる
こと、並びにこのような粒子を含む導電性層の光学濃
度、脆性及びクラッキングを低減できることが挙げられ
ている。
特に有用な一群の電気的導電性金属含有粒状粒子は、半
導体金属酸化物粒状粒子である。有用な電気的導電性金
属含有粒状粒子の他の例としては、選ばれた金属の炭化
物、窒化物、珪酸化物及びホウ化物が挙げられる。適切
な半導体金属酸化物の例としては、亜鉛酸化物、チタニ
ア、スズ酸化物、アルミナ、インジウムセスキ酸化物、
アンチモン酸亜鉛、アンチモン酸インジウム、シリカ、
マグネシア、ジルコニア、バリウム酸化物、三酸化モリ
ブデン、三酸化タングステン、及び五酸化バナジウムが
挙げられる。適切な半導体金属酸化物粒子は、1×10
5 オーム・cm未満、好ましくは1×10 3 オーム・cm未
満、さらに好ましくは1×102 オーム・cm未満の比抵
抗率(体積)を示すものである。このような半導体金属
酸化物は典型的に供与体ヘテロ原子でドーピングされて
いるか、又は酸素原子欠損を示す。金属酸化物粒状粒子
を特徴づけるのに用いられる別の物性は、平均X線微結
晶サイズである。X線微結晶サイズの概念は、米国特許
第5,484,694号及びそこに引用されている参考
文献に記載されている。10nm未満の微結晶サイズを示
す半導体アンチモン−ドーピング化スズ酸化物粒状粒子
を含む透明な導電性層は、画像形成要素に特に有用であ
ると米国特許第5,484,694号に教示されてい
る。同様に、1〜20nm、好ましくは1〜5nm、さらに
好ましくは1〜3.5nmの範囲の平均X線微結晶サイズ
を有する導電性粒状金属酸化物粒子を含有する帯電防止
層を含む写真要素が米国特許第5,459,021号に
おいて特許請求されている。小さい微結晶サイズの金属
酸化物粒子を使用する利点が米国特許第5,484,6
94号及び第5,459,021号に開示されており、
そして電気性能を損うことなく極少サイズまで粉砕可能
なこと、低重量被覆量で特定レベルの導電性が得られる
こと、並びにこのような粒子を含む導電性層の光学濃
度、脆性及びクラッキングを低減できることが挙げられ
ている。
【0018】写真画像形成要素用の電気的導電性層に最
も広く用いられている半導体金属酸化物はアンチモンを
ドーピングしたスズ酸化物である。各種の半導体、結晶
性、アンチモン−ドーピング化スズ酸化物粉末が各種の
製造会社から市販されている(例えば、Keeling & Walk
er Ltd., Ishihara Sangyo Kaisha Ltd., Dupont Perfo
rmance Chemicals, Mitsubishi Metals, Nissan Chemic
al Industries Ltd.等)。本発明のアンチモン−ドーピ
ング化スズ酸化物粒子のアンチモン−ドーピング剤レベ
ルは約20原子%Sb未満である。これらの市販の電子
的導電性スズ酸化物粉末は、伝統的なセラミック、ハイ
ブリッドセラミック、ゾル−ゲル、共沈澱、噴霧熱分
解、水蒸気作用による沈澱処理、並びに他の不特定処理
により製造することができる。伝統的セラミック法で
は、スズ酸化物の微粉砕粉末とアンチモン酸化物を十分
に混合し、高温(>700℃)で各種時間熱処理し、そ
の後再粉砕して微粉末にする。このセラミック法の変形
法(英国特許第2,025,915号参照)では非溶解
性スズ含有前駆体粉末を、水溶液から沈澱させ、溶解性
アンチモン化合物溶液で処理し、そのスラリーを乾燥
し、次いでセラミック法と同様に得られた粉末を熱処理
することにより製造する。この方法では、粒子塊中にさ
らに均一にアンチモンドーピング剤を分布させることが
できると言われている。各種の他の化学共沈澱法、例え
ば、典型的なセラミック法に用いられるものより低い熱
処理温度での工程を用いることにより、さらに均一にド
ーピング化された粒子を製造することが可能である。あ
る共沈澱法では、別個の熱処理工程(例えば、水蒸気作
用による沈澱)をすべて排除する。このような粉末は、
また各種の他の化学沈澱法、例えば、典型的なセラミッ
ク法に用いられるより低い熱処理温度での工程を用いる
ことにより製造することもできる。
も広く用いられている半導体金属酸化物はアンチモンを
ドーピングしたスズ酸化物である。各種の半導体、結晶
性、アンチモン−ドーピング化スズ酸化物粉末が各種の
製造会社から市販されている(例えば、Keeling & Walk
er Ltd., Ishihara Sangyo Kaisha Ltd., Dupont Perfo
rmance Chemicals, Mitsubishi Metals, Nissan Chemic
al Industries Ltd.等)。本発明のアンチモン−ドーピ
ング化スズ酸化物粒子のアンチモン−ドーピング剤レベ
ルは約20原子%Sb未満である。これらの市販の電子
的導電性スズ酸化物粉末は、伝統的なセラミック、ハイ
ブリッドセラミック、ゾル−ゲル、共沈澱、噴霧熱分
解、水蒸気作用による沈澱処理、並びに他の不特定処理
により製造することができる。伝統的セラミック法で
は、スズ酸化物の微粉砕粉末とアンチモン酸化物を十分
に混合し、高温(>700℃)で各種時間熱処理し、そ
の後再粉砕して微粉末にする。このセラミック法の変形
法(英国特許第2,025,915号参照)では非溶解
性スズ含有前駆体粉末を、水溶液から沈澱させ、溶解性
アンチモン化合物溶液で処理し、そのスラリーを乾燥
し、次いでセラミック法と同様に得られた粉末を熱処理
することにより製造する。この方法では、粒子塊中にさ
らに均一にアンチモンドーピング剤を分布させることが
できると言われている。各種の他の化学共沈澱法、例え
ば、典型的なセラミック法に用いられるものより低い熱
処理温度での工程を用いることにより、さらに均一にド
ーピング化された粒子を製造することが可能である。あ
る共沈澱法では、別個の熱処理工程(例えば、水蒸気作
用による沈澱)をすべて排除する。このような粉末は、
また各種の他の化学沈澱法、例えば、典型的なセラミッ
ク法に用いられるより低い熱処理温度での工程を用いる
ことにより製造することもできる。
【0019】本発明に用いるためのアンチモンドーピン
グ化スズ酸化物粒子は、極少の一次粒径、典型的に0.
01μm未満の粒径を有する。粒径が小さいと、導電性
塗膜の光学透明度を低下させる光散乱が最少になる。粒
径、粒子が包含されている媒体の屈折率に対するその粒
子の屈折率の比、入射光の波長及び粒子の光散乱効率間
の関係は、Mie の散乱理論(G.Mie, Ann.Physik., 25,
377 (1908)) に記載されている。このことが写真用途と
関連するので検討されている(T.H.James, "The Theory
of the Photographic Process" 、第4版、Rochester:
EKC, 1977参照)。典型的なゼラチンベースのバインダ
ー系を用いる薄層に塗布されるSb−ドーピング化−ス
ズ酸化物粒子の場合、波長550nmでの光散乱を約10
%未満に限定するためには約100nm未満の平均粒径を
有する粉末を使用することが必要である。より短波長の
光、例えば昼光に対して非感光性のグラフィックアート
フィルムの露光に用いられる紫外線については、サイズ
が約0.08μm未満の粒子が好ましい。導電性薄層の
透明度を確実にすることに加えて、平均粒径が小さいこ
とは、多数の電気的導電路を与えるような多数の相互連
結鎖又は網目構造を形成するために必要である。適切な
アンチモン−ドーピング化スズ酸化物コロイド状分散体
は極少の平均集塊サイズを示す。好ましい市販のSb−
ドーピング化−スズ酸化物バルク粉末の場合、平均粒径
(典型的に0.5〜0.9μm)は、各種のアトリーシ
ョン粉砕法、例えば、顔料分散及びペイント製造の技術
分野で周知の小媒体粉砕により実質的に低減させなけれ
ばならない。しかしながら、市販のSb−ドーピング化
スズ酸化物粉末のすべてが、光学的透明性と多数の導電
路の形成の両者を保証し、しかも尚導電性薄塗膜を形成
するのに十分な粒子の特定導電率を保持するのに要する
程度までサイズの低減を可能にするのに十分な程化学的
に均一ではない。好ましいSb−ドーピング化スズ酸化
物については約0.01μm未満の平均一次粒径(TE
M顕微鏡により測定)を有するならば、極薄(すなわ
ち、<0.05μm)の導電性層を塗布することが可能
となる。このような層は、他の好ましくないSb−ドー
ピング化スズ酸化物のより大きい粒径(例えば、>0.
05μm)の粒子を含有するはるかに厚い層に匹敵する
導電率を示すことができる。
グ化スズ酸化物粒子は、極少の一次粒径、典型的に0.
01μm未満の粒径を有する。粒径が小さいと、導電性
塗膜の光学透明度を低下させる光散乱が最少になる。粒
径、粒子が包含されている媒体の屈折率に対するその粒
子の屈折率の比、入射光の波長及び粒子の光散乱効率間
の関係は、Mie の散乱理論(G.Mie, Ann.Physik., 25,
377 (1908)) に記載されている。このことが写真用途と
関連するので検討されている(T.H.James, "The Theory
of the Photographic Process" 、第4版、Rochester:
EKC, 1977参照)。典型的なゼラチンベースのバインダ
ー系を用いる薄層に塗布されるSb−ドーピング化−ス
ズ酸化物粒子の場合、波長550nmでの光散乱を約10
%未満に限定するためには約100nm未満の平均粒径を
有する粉末を使用することが必要である。より短波長の
光、例えば昼光に対して非感光性のグラフィックアート
フィルムの露光に用いられる紫外線については、サイズ
が約0.08μm未満の粒子が好ましい。導電性薄層の
透明度を確実にすることに加えて、平均粒径が小さいこ
とは、多数の電気的導電路を与えるような多数の相互連
結鎖又は網目構造を形成するために必要である。適切な
アンチモン−ドーピング化スズ酸化物コロイド状分散体
は極少の平均集塊サイズを示す。好ましい市販のSb−
ドーピング化−スズ酸化物バルク粉末の場合、平均粒径
(典型的に0.5〜0.9μm)は、各種のアトリーシ
ョン粉砕法、例えば、顔料分散及びペイント製造の技術
分野で周知の小媒体粉砕により実質的に低減させなけれ
ばならない。しかしながら、市販のSb−ドーピング化
スズ酸化物粉末のすべてが、光学的透明性と多数の導電
路の形成の両者を保証し、しかも尚導電性薄塗膜を形成
するのに十分な粒子の特定導電率を保持するのに要する
程度までサイズの低減を可能にするのに十分な程化学的
に均一ではない。好ましいSb−ドーピング化スズ酸化
物については約0.01μm未満の平均一次粒径(TE
M顕微鏡により測定)を有するならば、極薄(すなわ
ち、<0.05μm)の導電性層を塗布することが可能
となる。このような層は、他の好ましくないSb−ドー
ピング化スズ酸化物のより大きい粒径(例えば、>0.
05μm)の粒子を含有するはるかに厚い層に匹敵する
導電率を示すことができる。
【0020】適切なSb−ドーピング化スズ酸化物の具
体例は、特開平4−079104号に記載され、Ishiha
ra Techno Corporation 製の商標名“SN−100D”
の下で市販されている電子導電性スズ酸化物粉末であ
る。スズ酸化物粉末としては、約5〜10重量%のアン
チモンでドーピングした単一相の結晶性スズ酸化物の粒
状粒子が挙げられる。このアンチモン−ドーピング化ス
ズ酸化物粉末の比抵抗率(体積)は、米国特許第5,2
36,737号に記載のものに類似のDC2−プローブ
試験セルを用いて充填粉末として測定した場合約1〜1
0オーム・cmである。このSb−ドーピング化−スズ酸
化物粉末の一次粒子の平均等価円直径は、透過電子顕微
鏡写真の画像解析により測定すると略0.01〜0.0
15μmである。このSb−ドーピング化−スズ酸化物
のX線粉末回折分析により、この酸化物が単一相であ
り、かつ結晶性が高いことが確認された。米国特許第
5,484,694号に記載の方法で測定したX線微結
晶サイズの典型的平均値は、供給されたままの乾燥粉末
について約35〜45Åである。
体例は、特開平4−079104号に記載され、Ishiha
ra Techno Corporation 製の商標名“SN−100D”
の下で市販されている電子導電性スズ酸化物粉末であ
る。スズ酸化物粉末としては、約5〜10重量%のアン
チモンでドーピングした単一相の結晶性スズ酸化物の粒
状粒子が挙げられる。このアンチモン−ドーピング化ス
ズ酸化物粉末の比抵抗率(体積)は、米国特許第5,2
36,737号に記載のものに類似のDC2−プローブ
試験セルを用いて充填粉末として測定した場合約1〜1
0オーム・cmである。このSb−ドーピング化−スズ酸
化物粉末の一次粒子の平均等価円直径は、透過電子顕微
鏡写真の画像解析により測定すると略0.01〜0.0
15μmである。このSb−ドーピング化−スズ酸化物
のX線粉末回折分析により、この酸化物が単一相であ
り、かつ結晶性が高いことが確認された。米国特許第
5,484,694号に記載の方法で測定したX線微結
晶サイズの典型的平均値は、供給されたままの乾燥粉末
について約35〜45Åである。
【0021】本発明による金属含有粒状粒子の一次粒径
は小さいので、従来技術のより大きい粒径を用いた場合
に可能な導電率と比較して、適切なレベルの表面導電率
を得るのに塗布導電層に用いる導電性粒子の容積比率を
より低くすることが可能となる。このため、高分子バイ
ンダーの容積比率を効果的に高めて、オーバーコート層
の各種のバインダー関連特性、例えば、下側層への接着
性、オーバーコート層の結合性、及び場合により用いら
れるマット粒子の保持性(塵汚染が低くなる)が改良さ
れる。金属含有粒子の容積比率は、好ましくはオーバー
コート層の容積の約20〜80%の範囲である。本発明
のオーバーコート層に約20容積%よりかなり低い比率
の導電性金属含有粒状性粒子を用いると、有用レベルの
表面電気導電性は得られないのであろう。オーバーコー
ト層中の金属含有粒子量は、適切な導電性粒子の密度が
広く変動するので、重量%よりむしろ体積%で定義され
る。前記のアンチモン−ドーピング化スズ酸化物粒子の
場合は、前記の値は、スズ酸化物:バインダーの重量比
が約3:2〜24:1のものに相当する。導電性粒子:
バインダーの最適比は、粒径、バインダーのタイプ、及
び特定の画像形成要素の導電率についての要件に依り変
動する。
は小さいので、従来技術のより大きい粒径を用いた場合
に可能な導電率と比較して、適切なレベルの表面導電率
を得るのに塗布導電層に用いる導電性粒子の容積比率を
より低くすることが可能となる。このため、高分子バイ
ンダーの容積比率を効果的に高めて、オーバーコート層
の各種のバインダー関連特性、例えば、下側層への接着
性、オーバーコート層の結合性、及び場合により用いら
れるマット粒子の保持性(塵汚染が低くなる)が改良さ
れる。金属含有粒子の容積比率は、好ましくはオーバー
コート層の容積の約20〜80%の範囲である。本発明
のオーバーコート層に約20容積%よりかなり低い比率
の導電性金属含有粒状性粒子を用いると、有用レベルの
表面電気導電性は得られないのであろう。オーバーコー
ト層中の金属含有粒子量は、適切な導電性粒子の密度が
広く変動するので、重量%よりむしろ体積%で定義され
る。前記のアンチモン−ドーピング化スズ酸化物粒子の
場合は、前記の値は、スズ酸化物:バインダーの重量比
が約3:2〜24:1のものに相当する。導電性粒子:
バインダーの最適比は、粒径、バインダーのタイプ、及
び特定の画像形成要素の導電率についての要件に依り変
動する。
【0022】オーバーコート層中の導電性金属含有粒状
性粒子と共に使用する電荷制御剤の特定組合せの選択
は、本発明方法にとって極めて重要である。電荷制御剤
と金属含有粒子の組合せは、露光及び処理装置をはじめ
とする典型的な取扱い条件及び移送条件下で、摩擦荷電
を最少レベル(好ましくはゼロ)にし、そして静電荷の
消散効率を最大にするように最適化しなければならな
い。典型的に、適切な濃度の、負荷電性をオーバーコー
ト表面に付与する第一電荷制御剤を、正荷電性をオーバ
ーコート表面に付与する第二電荷制御剤と組合せて用い
る。
性粒子と共に使用する電荷制御剤の特定組合せの選択
は、本発明方法にとって極めて重要である。電荷制御剤
と金属含有粒子の組合せは、露光及び処理装置をはじめ
とする典型的な取扱い条件及び移送条件下で、摩擦荷電
を最少レベル(好ましくはゼロ)にし、そして静電荷の
消散効率を最大にするように最適化しなければならな
い。典型的に、適切な濃度の、負荷電性をオーバーコー
ト表面に付与する第一電荷制御剤を、正荷電性をオーバ
ーコート表面に付与する第二電荷制御剤と組合せて用い
る。
【0023】本発明の導電性オーバーコートに有用な、
電荷制御剤/塗布助剤の組合せは、以下の2群の化合
物、群(i)及び群(ii)の各々の少くとも1つを含
む: (i)式(1)及び(2)により表される正荷電性アニ
オン性化合物:式(1)は以下の化合物である:
電荷制御剤/塗布助剤の組合せは、以下の2群の化合
物、群(i)及び群(ii)の各々の少くとも1つを含
む: (i)式(1)及び(2)により表される正荷電性アニ
オン性化合物:式(1)は以下の化合物である:
【0024】
【化1】
【0025】(式中、Rは、アルキルもしくはアルケニ
ル基(好ましくは炭素数10〜18のアルキル基もしく
は炭素数14〜18のアルケニル基)又はアルキルアリ
ール基(好ましくは炭素数12〜18のアルキルアリー
ル基、例えば、C8 H17−(C 6 H4 )−もしくはC9
H19−(C6 H4 )−)を表し;Aは、共有単結合又は
−O−もしくは−(OCH2 CH2 )m −On −を表
し、ここでmは1〜4の整数であり、nは0もしくは1
であり;そしてMは、アルカリ金属カチオン、例えば、
ナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム基、又はア
ルキル置換アンモニウム基を表す)、式(2)は以下の
スルホスクシネート化合物である:
ル基(好ましくは炭素数10〜18のアルキル基もしく
は炭素数14〜18のアルケニル基)又はアルキルアリ
ール基(好ましくは炭素数12〜18のアルキルアリー
ル基、例えば、C8 H17−(C 6 H4 )−もしくはC9
H19−(C6 H4 )−)を表し;Aは、共有単結合又は
−O−もしくは−(OCH2 CH2 )m −On −を表
し、ここでmは1〜4の整数であり、nは0もしくは1
であり;そしてMは、アルカリ金属カチオン、例えば、
ナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム基、又はア
ルキル置換アンモニウム基を表す)、式(2)は以下の
スルホスクシネート化合物である:
【0026】
【化2】
【0027】(式中、R2 及びR3 は同一又は異なるア
ルキル又はアルキル−アリール基を表し、好ましくは炭
素数6〜10のアルキル基、及び炭素数7〜10のアル
キル−アリール基であり;Mは式(1)において先に定
義したカチオンである)。 (ii)フルオロアルキル又はフルオロアルケニル基及び
親水性基を有する負荷電性フッ素含有アニオン性又は非
イオン性化合物であって、以下の式(3),(4),
(5)又は(6)により表される化合物:
ルキル又はアルキル−アリール基を表し、好ましくは炭
素数6〜10のアルキル基、及び炭素数7〜10のアル
キル−アリール基であり;Mは式(1)において先に定
義したカチオンである)。 (ii)フルオロアルキル又はフルオロアルケニル基及び
親水性基を有する負荷電性フッ素含有アニオン性又は非
イオン性化合物であって、以下の式(3),(4),
(5)又は(6)により表される化合物:
【0028】
【化3】
【0029】(式中、Rf は、炭素数6〜12の過フッ
素化アルキル又はアルケニル基を表し;R4 は、メチル
もしくはエチル基又は水素原子を表し;nは0又は1の
値を有し;aはnがゼロならば0,1,2又は3の値を
有し、nが1ならば1,2又は3の値を有し;そしてB
はアニオン性親水性基、例えば、−SO3 M,−OSO
3 M又は−CO2 M(ここでMは式(1)において先に
定義したカチオンである)、又は非イオン性親水性基、
例えば、−O(CH2 CH2 O)y −Dを表し、ここで
yは4〜16であり、Dは−H又は−CH3 である)、
式(4)は以下の化合物である:
素化アルキル又はアルケニル基を表し;R4 は、メチル
もしくはエチル基又は水素原子を表し;nは0又は1の
値を有し;aはnがゼロならば0,1,2又は3の値を
有し、nが1ならば1,2又は3の値を有し;そしてB
はアニオン性親水性基、例えば、−SO3 M,−OSO
3 M又は−CO2 M(ここでMは式(1)において先に
定義したカチオンである)、又は非イオン性親水性基、
例えば、−O(CH2 CH2 O)y −Dを表し、ここで
yは4〜16であり、Dは−H又は−CH3 である)、
式(4)は以下の化合物である:
【0030】
【化4】
【0031】(式中、R’f 及びR''f は、同一又は異
なる、4〜10個の炭素原子及び少くとも7個のフッ素
原子(末端炭素原子上の3個のフッ素原子を含む)を有
するフッ素化アルキル基を表し;Mは、式(I)につい
て先に定義したカチオンである)、式(5)は以下の化
合物である:
なる、4〜10個の炭素原子及び少くとも7個のフッ素
原子(末端炭素原子上の3個のフッ素原子を含む)を有
するフッ素化アルキル基を表し;Mは、式(I)につい
て先に定義したカチオンである)、式(5)は以下の化
合物である:
【0032】
【化5】
【0033】(式中、R''' f は炭素数6,8及び10
の過フッ素化アルキル基の混合物を表し、そしてXは−
CONH(CH2)3 N(CH3)2 である)、式(6)は
以下の化合物である:
の過フッ素化アルキル基の混合物を表し、そしてXは−
CONH(CH2)3 N(CH3)2 である)、式(6)は
以下の化合物である:
【0034】
【化6】
【0035】(式中、Rf は式(3)において定義した
通りであり、そしてYは適切な非イオン性親水性基、例
えば、−(CH2 CH2 O)b −(ここでbは6〜20
である)、又は−(CH2 CH(OH)CH2 O)
d (ここでdは6〜16である)であり、Dは−H又は
−CH3 である)。本発明方法により製造される導電性
オーバーコート層に有用な高分子フィルム形成性バイン
ダーとしては、水溶性親水性ポリマー、例えば、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、マレイン酸無水物コポリマー;セ
ルロース誘導体、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテー
トブチレート、ジアセチルセルロースまたはトリアセチ
ルセルロース;合成親水性ポリマー、例えば、ポリビニ
ルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、アクリル
酸コポリマー、ポリアクリルアミド、それらの誘導体お
よび部分加水分解生成物、ビニルポリマーおよびコポリ
マー、例えば、ポリビニルアセテートおよびポリアクリ
レート酸エステル;前記ポリマーの誘導体;および他の
合成樹脂が挙げられる。他の適切なバインダーとして
は、付加タイプポリマーおよびインターポリマーであっ
て、エチレン系不飽和モノマー、例えば、アクリル酸を
含むアクリレート、メタクリル酸を含むメタクリレー
ト、アクリルアミドおよびメタクリルアミド、イタコン
酸並びにその半エステルおよびジエステル、置換スチレ
ンを含むスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリロ
ニトリル、ビニルアセテート、ビニルエーテル、ハロゲ
ン化ビニルおよびハロゲン化ビニリデン、オレフィンの
水性乳剤、並びにポリウレタンまたはポリエステルイオ
ノマーの水性分散体が挙げられる。ゼラチン及びゼラチ
ン誘導体が好ましいバインダーである。
通りであり、そしてYは適切な非イオン性親水性基、例
えば、−(CH2 CH2 O)b −(ここでbは6〜20
である)、又は−(CH2 CH(OH)CH2 O)
d (ここでdは6〜16である)であり、Dは−H又は
−CH3 である)。本発明方法により製造される導電性
オーバーコート層に有用な高分子フィルム形成性バイン
ダーとしては、水溶性親水性ポリマー、例えば、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、マレイン酸無水物コポリマー;セ
ルロース誘導体、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテー
トブチレート、ジアセチルセルロースまたはトリアセチ
ルセルロース;合成親水性ポリマー、例えば、ポリビニ
ルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、アクリル
酸コポリマー、ポリアクリルアミド、それらの誘導体お
よび部分加水分解生成物、ビニルポリマーおよびコポリ
マー、例えば、ポリビニルアセテートおよびポリアクリ
レート酸エステル;前記ポリマーの誘導体;および他の
合成樹脂が挙げられる。他の適切なバインダーとして
は、付加タイプポリマーおよびインターポリマーであっ
て、エチレン系不飽和モノマー、例えば、アクリル酸を
含むアクリレート、メタクリル酸を含むメタクリレー
ト、アクリルアミドおよびメタクリルアミド、イタコン
酸並びにその半エステルおよびジエステル、置換スチレ
ンを含むスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリロ
ニトリル、ビニルアセテート、ビニルエーテル、ハロゲ
ン化ビニルおよびハロゲン化ビニリデン、オレフィンの
水性乳剤、並びにポリウレタンまたはポリエステルイオ
ノマーの水性分散体が挙げられる。ゼラチン及びゼラチ
ン誘導体が好ましいバインダーである。
【0036】本発明の方法による導電性金属含有粒子の
分散体を調製するのに有用な溶剤としては、水;アルコ
ール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール;ケトン、例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン;エステ
ル、例えば、メチルアセテート及びエチルアセテート;
グリコールエーテル、例えば、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ;並びにそれらの混合物が挙げられる。好
ましい溶剤としては、水、アルコール及びアセトンが挙
げられる。
分散体を調製するのに有用な溶剤としては、水;アルコ
ール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール;ケトン、例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン;エステ
ル、例えば、メチルアセテート及びエチルアセテート;
グリコールエーテル、例えば、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ;並びにそれらの混合物が挙げられる。好
ましい溶剤としては、水、アルコール及びアセトンが挙
げられる。
【0037】バインダー及び溶剤に加えて、写真技術分
野において周知の他の成分もまた本発明の導電性オーバ
ーコート中に含めることができる。他の添加剤、例え
ば、高分子マットビーズ、寸法安定性を向上させるため
の高分子ラテックス、増量剤又は粘性改質剤、硬化剤又
は架橋剤、溶解性及び/又は固体状粒子色素、カブリ防
止剤、滑剤、並びに各種の他の慣用添加物を、多層画像
形成要素のいずれかの又はすべての層に、場合により存
在させることができる。電荷制御剤、高分子バインダー
及び添加物の好ましい組合せと共に配合する導電性、金
属含有、粒状粒子のコロイド状分散体を、各種支持体上
に塗布した画像形成要素に施すことができる。典型的な
写真フィルム支持体としては、硝酸セルロース、酢酸セ
ルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、ポリ(ビニルアセタール)、ポリ(カーボネー
ト)、ポリ(スチレン)、ポリ(エチレンテレフタレー
ト)、ポリ(エチレンナフタレート)、ポリ(エチレン
テレフタレート)もしくはポリ(エチレンナフタレー
ト)であって、フィルム支持体の調製に用いられるイソ
フタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸の一部
をその中に包含せしめたもの;他のグリコール、例え
ば、シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオ
ール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール
が用いられているポリエステル;米国特許第5,13
8,024号(引用することにより本明細書に包含す
る)に記載されているイオノマー、例えば、5−ソディ
オスルホ−1,3−イソフタル酸等のイオンを含有する
モノマーの形態の二酸の一部を用いて調製したポリエス
テルイオノマー等;前記ポリマーの配合物又は積層物が
挙げられる。支持体は用途次第で透明又は半透明のいず
れであってもよい。透明フィルム支持体は、無色であっ
ても又は色素もしくは顔料を添加することにより着色さ
せることもできる。フィルム支持体は、コロナ放電、グ
ロー放電、UV露光、フレーム処理、電子線処理を含む
各種方法(本願と同一譲渡人に譲渡された同時係属の米
国特許出願番号08/662,188号(1996年6
月12日出願)に記載)、又はジクロロ−及びトリクロ
ロ−酢酸、フェノール誘導体、例えば、レゾルシノール
及びp−クロロ−m−クレゾールを含む接着促進剤での
処理、溶剤洗浄により表面処理することができ、又は接
着促進性プライマー又は結合層であって、高分子、例え
ば、塩化ビニリデン含有コポリマー、ブタジエンベース
コポリマー、グリシジルアクリレートもしくはメタクリ
レート含有コポリマー、マレイン酸無水物含有コポリマ
ー、縮合ポリマー、例えば、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリカーボネート、それらの混合物
及び配合物等を含有するものでオーバーコートすること
ができる。他の適切な半透明又は反射性の支持体は、
紙、高分子塗布紙、例えば、ポリエチレン−、ポリプロ
ピレン−及びエチレン−ブチレンコポリマー塗布紙又は
積層紙、合成紙、顔料含有ポリエステル等である。これ
らの支持体材料の中で、三酢酸セルロース、ポリ(エチ
レンテレフタレート)及び2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸又はそれらの誘導体から製造するポリ(エチレンナ
フタレート)が好ましい。支持体の厚さは特に限定的で
はない。50μm〜254μm(2〜10ミル)の厚さ
が本発明の写真要素にとって適切である。
野において周知の他の成分もまた本発明の導電性オーバ
ーコート中に含めることができる。他の添加剤、例え
ば、高分子マットビーズ、寸法安定性を向上させるため
の高分子ラテックス、増量剤又は粘性改質剤、硬化剤又
は架橋剤、溶解性及び/又は固体状粒子色素、カブリ防
止剤、滑剤、並びに各種の他の慣用添加物を、多層画像
形成要素のいずれかの又はすべての層に、場合により存
在させることができる。電荷制御剤、高分子バインダー
及び添加物の好ましい組合せと共に配合する導電性、金
属含有、粒状粒子のコロイド状分散体を、各種支持体上
に塗布した画像形成要素に施すことができる。典型的な
写真フィルム支持体としては、硝酸セルロース、酢酸セ
ルロース、酢酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、ポリ(ビニルアセタール)、ポリ(カーボネー
ト)、ポリ(スチレン)、ポリ(エチレンテレフタレー
ト)、ポリ(エチレンナフタレート)、ポリ(エチレン
テレフタレート)もしくはポリ(エチレンナフタレー
ト)であって、フィルム支持体の調製に用いられるイソ
フタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸の一部
をその中に包含せしめたもの;他のグリコール、例え
ば、シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオ
ール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール
が用いられているポリエステル;米国特許第5,13
8,024号(引用することにより本明細書に包含す
る)に記載されているイオノマー、例えば、5−ソディ
オスルホ−1,3−イソフタル酸等のイオンを含有する
モノマーの形態の二酸の一部を用いて調製したポリエス
テルイオノマー等;前記ポリマーの配合物又は積層物が
挙げられる。支持体は用途次第で透明又は半透明のいず
れであってもよい。透明フィルム支持体は、無色であっ
ても又は色素もしくは顔料を添加することにより着色さ
せることもできる。フィルム支持体は、コロナ放電、グ
ロー放電、UV露光、フレーム処理、電子線処理を含む
各種方法(本願と同一譲渡人に譲渡された同時係属の米
国特許出願番号08/662,188号(1996年6
月12日出願)に記載)、又はジクロロ−及びトリクロ
ロ−酢酸、フェノール誘導体、例えば、レゾルシノール
及びp−クロロ−m−クレゾールを含む接着促進剤での
処理、溶剤洗浄により表面処理することができ、又は接
着促進性プライマー又は結合層であって、高分子、例え
ば、塩化ビニリデン含有コポリマー、ブタジエンベース
コポリマー、グリシジルアクリレートもしくはメタクリ
レート含有コポリマー、マレイン酸無水物含有コポリマ
ー、縮合ポリマー、例えば、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリカーボネート、それらの混合物
及び配合物等を含有するものでオーバーコートすること
ができる。他の適切な半透明又は反射性の支持体は、
紙、高分子塗布紙、例えば、ポリエチレン−、ポリプロ
ピレン−及びエチレン−ブチレンコポリマー塗布紙又は
積層紙、合成紙、顔料含有ポリエステル等である。これ
らの支持体材料の中で、三酢酸セルロース、ポリ(エチ
レンテレフタレート)及び2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸又はそれらの誘導体から製造するポリ(エチレンナ
フタレート)が好ましい。支持体の厚さは特に限定的で
はない。50μm〜254μm(2〜10ミル)の厚さ
が本発明の写真要素にとって適切である。
【0038】導電性金属含有粒状粒子の水性分散体は、
適切レベルの場合により添加する分散助剤、コロイド状
安定剤又は高分子補助バインダーの存在下で、顔料分散
及びペイント製造の技術分野で周知の各種の機械的撹
拌、混合、均質化又は配合法のいずれかにより調製する
ことができる。あるいは、適切な導電性金属含有粒子の
安定なコロイド状分散体は、市販されており、例えば、
公称30wt%固形分を有する電子導電性アンチモン−ド
ーピング化スズ酸化物粒子の安定分散体は“SN−10
0D”の商標名の下、Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. か
ら入手可能である。コロイド状導電性金属含有粒状粒子
並びに電荷制御剤、高分子バインダー及び添加物の好ま
しい組合を含む配合分散体を、前記のフィルム又は紙支
持体に各種の周知塗布方法により施すことができる。手
作業塗布技法にはコーティングロッドもしくはナイフ又
はドクターブレートの使用を含む。機械塗布法には、エ
アドクター塗布、リバースロールコーティング、グラビ
アコーティング、カーテンコーティング、ビーズコーテ
ィング、スライドホッパーコーティング、押出しコーテ
ィング、スピンコーティング等、並びに当該技術分野で
周知の他のコーティング法が含まれる。
適切レベルの場合により添加する分散助剤、コロイド状
安定剤又は高分子補助バインダーの存在下で、顔料分散
及びペイント製造の技術分野で周知の各種の機械的撹
拌、混合、均質化又は配合法のいずれかにより調製する
ことができる。あるいは、適切な導電性金属含有粒子の
安定なコロイド状分散体は、市販されており、例えば、
公称30wt%固形分を有する電子導電性アンチモン−ド
ーピング化スズ酸化物粒子の安定分散体は“SN−10
0D”の商標名の下、Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. か
ら入手可能である。コロイド状導電性金属含有粒状粒子
並びに電荷制御剤、高分子バインダー及び添加物の好ま
しい組合を含む配合分散体を、前記のフィルム又は紙支
持体に各種の周知塗布方法により施すことができる。手
作業塗布技法にはコーティングロッドもしくはナイフ又
はドクターブレートの使用を含む。機械塗布法には、エ
アドクター塗布、リバースロールコーティング、グラビ
アコーティング、カーテンコーティング、ビーズコーテ
ィング、スライドホッパーコーティング、押出しコーテ
ィング、スピンコーティング等、並びに当該技術分野で
周知の他のコーティング法が含まれる。
【0039】本発明の電気的導電性オーバーコート層
は、画像形成要素の特定タイプの特定要件に依り、任意
の適切な塗布量で支持体に施すことができる。例えば、
ハロゲン化銀写真フィルムについては、導電性オーバー
コート層中の好ましいアンチモン−ドーピング化スズ酸
化物の乾燥塗布重量は、好ましくは約0.01〜約2g
/m2 の範囲である。さらに好ましい乾燥塗布量は約
0.02〜0.5g/m2の範囲である。本発明の導電
性オーバーコート層は典型的に、1×1010オーム/平
方未満、好ましくは1×109 オーム/平方未満、さら
に好ましくは1×108 オーム/平方未満の表面抵抗率
(20%RH、20℃)を示す。
は、画像形成要素の特定タイプの特定要件に依り、任意
の適切な塗布量で支持体に施すことができる。例えば、
ハロゲン化銀写真フィルムについては、導電性オーバー
コート層中の好ましいアンチモン−ドーピング化スズ酸
化物の乾燥塗布重量は、好ましくは約0.01〜約2g
/m2 の範囲である。さらに好ましい乾燥塗布量は約
0.02〜0.5g/m2の範囲である。本発明の導電
性オーバーコート層は典型的に、1×1010オーム/平
方未満、好ましくは1×109 オーム/平方未満、さら
に好ましくは1×108 オーム/平方未満の表面抵抗率
(20%RH、20℃)を示す。
【0040】本発明の画像形成要素は、それらが意図さ
れている特定の用途に依り多くの各種タイプのものであ
ることができる。このような画像形成要素としては、例
えば、写真画像形成要素、サーモグラフィ画像形成要
素、電子サーモグラフィ画像形成要素、フォトサーモグ
ラフィ画像形成要素、誘電記録画像形成要素、色素マイ
グレーション画像形成要素、レーザー色素アブレーショ
ン画像形成要素、感熱色素転写画像形成要素、静電写真
画像形成要素及び電子写真画像形成要素が挙げられる。
これらの広範囲の画像形成要素の組成及び機能に関する
詳細は、本願と同一の譲渡人に譲渡された同時係属の米
国特許出願第08/746,618号及び第08/74
7,480号(両者共1996年11月12日出願)
(引用することにより本明細書中に包含する)に記載さ
れている。適切な感光性画像形成層は、カラー画像又は
白黒画像が得られるものである。このような感光性層
は、ハロゲン化銀、例えば、塩化銀、臭化銀、臭ヨウ化
銀、塩臭化銀等を含有する画像形成層であることができ
る。ネガ及び反転のハロゲン化銀要素が意図されてい
る。反転フィルムのためには、米国特許第5,236,
817号の特に実施例16及び21に記載の乳剤層が特
に適している。公知のハロゲン化銀乳剤層、例えば、Re
search Disclosure , Vol.176, Item 17643 (1978年12
月) 、Research Disclosure , Vol.225, Item 22534
(1983年1月) 、Research Disclosure , Item 36544
(1994年9月) 、Research Disclosure , Item 37038
(1995年2月) 及びResearch Disclosure , Item 38957
(1996年9月) 並びにそれらに引用されている参考文献
に記載されているもののいずれも、本発明の写真要素を
製造するのに有用である。
れている特定の用途に依り多くの各種タイプのものであ
ることができる。このような画像形成要素としては、例
えば、写真画像形成要素、サーモグラフィ画像形成要
素、電子サーモグラフィ画像形成要素、フォトサーモグ
ラフィ画像形成要素、誘電記録画像形成要素、色素マイ
グレーション画像形成要素、レーザー色素アブレーショ
ン画像形成要素、感熱色素転写画像形成要素、静電写真
画像形成要素及び電子写真画像形成要素が挙げられる。
これらの広範囲の画像形成要素の組成及び機能に関する
詳細は、本願と同一の譲渡人に譲渡された同時係属の米
国特許出願第08/746,618号及び第08/74
7,480号(両者共1996年11月12日出願)
(引用することにより本明細書中に包含する)に記載さ
れている。適切な感光性画像形成層は、カラー画像又は
白黒画像が得られるものである。このような感光性層
は、ハロゲン化銀、例えば、塩化銀、臭化銀、臭ヨウ化
銀、塩臭化銀等を含有する画像形成層であることができ
る。ネガ及び反転のハロゲン化銀要素が意図されてい
る。反転フィルムのためには、米国特許第5,236,
817号の特に実施例16及び21に記載の乳剤層が特
に適している。公知のハロゲン化銀乳剤層、例えば、Re
search Disclosure , Vol.176, Item 17643 (1978年12
月) 、Research Disclosure , Vol.225, Item 22534
(1983年1月) 、Research Disclosure , Item 36544
(1994年9月) 、Research Disclosure , Item 37038
(1995年2月) 及びResearch Disclosure , Item 38957
(1996年9月) 並びにそれらに引用されている参考文献
に記載されているもののいずれも、本発明の写真要素を
製造するのに有用である。
【0041】特に好ましい態様において、本発明の電気
的導電性オーバーコート層を含む画像形成要素は、その
構造及び組成が大幅に異なっていてよい写真要素であ
る。例えば、前記の写真要素では、これらの要素に含ま
れている支持体のタイプ、画像形成層の数及び組成、並
びに補助層の数及びタイプに関し、大幅に変動させるこ
とができる。特に、写真要素は、フィルム、映画フィル
ム、X線フィルム、グラフィックアートフィルム、紙プ
リント又はマイクロフィッシュであることもできる。本
発明の導電性オーバーコート層を、Research Disclosur
e , Item 36230(1994年6月) に記載されているような
少フォーマットフィルムに使用することもまた特に意図
されている。写真要素は、ネガ−ポジ処理又は反転処理
に使用するように適合させた、単純な白黒もしくは単色
要素又は多層及び/もしくは多色要素であることができ
る。一般に写真要素は、ゼラチンの水溶液中のハロゲン
化銀結晶分散体を含む層を1層以上及び場合により下塗
り層を1層以上フィルム支持体の一面上に塗布すること
により製造する。塗布処理は、連続作動塗布機を用いて
実施することができ、単一層又は複数層を支持体に施
す。多色要素については、米国特許第2,761,79
1号及び第3,508,947号に記載されているよう
に、複合フィルム支持体上に層を同時に塗布することが
できる。さらに別の有用な塗布操作及び乾燥操作は、Re
search Disclosure , Vol.176, Item 17643 (1978年12
月) に記載されている。
的導電性オーバーコート層を含む画像形成要素は、その
構造及び組成が大幅に異なっていてよい写真要素であ
る。例えば、前記の写真要素では、これらの要素に含ま
れている支持体のタイプ、画像形成層の数及び組成、並
びに補助層の数及びタイプに関し、大幅に変動させるこ
とができる。特に、写真要素は、フィルム、映画フィル
ム、X線フィルム、グラフィックアートフィルム、紙プ
リント又はマイクロフィッシュであることもできる。本
発明の導電性オーバーコート層を、Research Disclosur
e , Item 36230(1994年6月) に記載されているような
少フォーマットフィルムに使用することもまた特に意図
されている。写真要素は、ネガ−ポジ処理又は反転処理
に使用するように適合させた、単純な白黒もしくは単色
要素又は多層及び/もしくは多色要素であることができ
る。一般に写真要素は、ゼラチンの水溶液中のハロゲン
化銀結晶分散体を含む層を1層以上及び場合により下塗
り層を1層以上フィルム支持体の一面上に塗布すること
により製造する。塗布処理は、連続作動塗布機を用いて
実施することができ、単一層又は複数層を支持体に施
す。多色要素については、米国特許第2,761,79
1号及び第3,508,947号に記載されているよう
に、複合フィルム支持体上に層を同時に塗布することが
できる。さらに別の有用な塗布操作及び乾燥操作は、Re
search Disclosure , Vol.176, Item 17643 (1978年12
月) に記載されている。
【0042】本発明の導電性オーバーコート層は、特定
用途の要件に依り、任意の各種配置で多層写真要素中に
包含させることができる。導電性オーバーコート層は、
増感乳剤層上に直接、乳剤層とは反対の支持体の面上
に、並びに支持体の両面上に施すことができる。導電性
の、金属含有粒状性粒子を含有する導電性オーバーコー
ト層を増感乳剤層上に施す場合、バリヤー層又は接着性
促進層のような中間層を、そのオーバーコート層と増感
乳剤層間に施す必要はない(それらの層は場合により存
在することはできるが)。あるいは、導電性オーバーコ
ート層を、多成分カール制御層(すなわち、ペロイド)
の一部として増感乳剤層とは反対側の支持体の面上に施
すことができる。直接又は間接X線用途用の写真要素の
場合は、導電性オーバーコート層は、フィルム支持体の
いずれかの面又は両面上に施すことができる。写真要素
の1タイプにおいては、導電性オーバーコート層は支持
体の一面上にのみ存在し、そして増感乳剤がフィルム支
持体の両面上に塗布される。別のタイプの写真要素は、
支持体の一面上にのみ増感乳剤を、そしてゼラチン含有
ペロイド層を支持体の反対面上に含む。本発明の導電性
オーバーコート層は、増感乳剤層を覆うように、あるい
はペロイドもしくは両者を覆うように施すことができ
る。
用途の要件に依り、任意の各種配置で多層写真要素中に
包含させることができる。導電性オーバーコート層は、
増感乳剤層上に直接、乳剤層とは反対の支持体の面上
に、並びに支持体の両面上に施すことができる。導電性
の、金属含有粒状性粒子を含有する導電性オーバーコー
ト層を増感乳剤層上に施す場合、バリヤー層又は接着性
促進層のような中間層を、そのオーバーコート層と増感
乳剤層間に施す必要はない(それらの層は場合により存
在することはできるが)。あるいは、導電性オーバーコ
ート層を、多成分カール制御層(すなわち、ペロイド)
の一部として増感乳剤層とは反対側の支持体の面上に施
すことができる。直接又は間接X線用途用の写真要素の
場合は、導電性オーバーコート層は、フィルム支持体の
いずれかの面又は両面上に施すことができる。写真要素
の1タイプにおいては、導電性オーバーコート層は支持
体の一面上にのみ存在し、そして増感乳剤がフィルム支
持体の両面上に塗布される。別のタイプの写真要素は、
支持体の一面上にのみ増感乳剤を、そしてゼラチン含有
ペロイド層を支持体の反対面上に含む。本発明の導電性
オーバーコート層は、増感乳剤層を覆うように、あるい
はペロイドもしくは両者を覆うように施すことができ
る。
【0043】本発明の導電性オーバーコート層はまた、
支持体画像形成層及び高分子バインダーに分散した磁性
粒子を含有する透明磁気記録層を含んでなる画像形成要
素中に包含させることもできる。このような画像形成要
素は周知であり、例えば、米国特許第3,782,94
7号;第4,279,945号;第4,302,523
号;第4,990,276号;第5,147,768
号;第5,215,874号;第5,217,804
号;第5,227,283号;第5,229,259
号;第5,252,441号;第5,254,449
号;第5,294,525号;第5,335,589
号;第5,336,589号;第5,382,494
号;第5,395,743号;第5,397,826
号;第5,413,900号;第5,427,900
号;第5,432,050号;第5,457,012
号;第5,459,021号;第5,491,051
号;第5,498,512号;第5,514,528号
等、並びにResearch Disclosure , Item No.34390 (19
92年11月)及びそれらに引用されている参考文献に記載
されている。このような要素は、慣用の画像形成方法に
より画像を記録し、同時に磁気記録技術分野において用
いられる技法と同様の技法によりさらに別の情報を透明
磁気層中に記録しかつその磁性層から読取ることができ
るので、特に有利である。透明磁気記録層は、フィルム
形成性高分子バインダー、磁性粒子、及び加工性又は性
能を向上させるために場合により用いられる他の添加
物、例えば、分散剤、塗布助剤、フッ素化界面活性剤、
架橋剤もしくは硬化剤、触媒、電荷制御剤、滑剤、研磨
粒子、充填剤粒子、可塑剤等を含む。磁性粒子として
は、強磁性酸化物、他の金属を含む複合酸化物、保護酸
化物塗膜を有する金属合金粒子、フェライト、六角形フ
ェライト等が挙げられ、それらは広範囲の各種の形状、
サイズ及びアスペクト比を示すことができる。磁性粒子
はまた各種の金属ドーピング剤を含むことができ、そし
て米国特許第5,217,804号及び第5,252,
444号に記載されているように、場合により微粒状の
無機材料又は高分子材料のシェルでオーバーコーティン
グして光散乱を低下させることができる。本発明の電気
的導電性オーバーコートと組合せて用いられる透明磁気
記録層中に用いるための好ましい強磁性粒子は、比表面
積(BET)が30m2 /gより高いコバルト表面処理
γ−Fe2 O3 もしくは磁鉄鉱である。本発明の透明な
導電性オーバーコート層は、乳剤層を覆うように施すこ
とができる。
支持体画像形成層及び高分子バインダーに分散した磁性
粒子を含有する透明磁気記録層を含んでなる画像形成要
素中に包含させることもできる。このような画像形成要
素は周知であり、例えば、米国特許第3,782,94
7号;第4,279,945号;第4,302,523
号;第4,990,276号;第5,147,768
号;第5,215,874号;第5,217,804
号;第5,227,283号;第5,229,259
号;第5,252,441号;第5,254,449
号;第5,294,525号;第5,335,589
号;第5,336,589号;第5,382,494
号;第5,395,743号;第5,397,826
号;第5,413,900号;第5,427,900
号;第5,432,050号;第5,457,012
号;第5,459,021号;第5,491,051
号;第5,498,512号;第5,514,528号
等、並びにResearch Disclosure , Item No.34390 (19
92年11月)及びそれらに引用されている参考文献に記載
されている。このような要素は、慣用の画像形成方法に
より画像を記録し、同時に磁気記録技術分野において用
いられる技法と同様の技法によりさらに別の情報を透明
磁気層中に記録しかつその磁性層から読取ることができ
るので、特に有利である。透明磁気記録層は、フィルム
形成性高分子バインダー、磁性粒子、及び加工性又は性
能を向上させるために場合により用いられる他の添加
物、例えば、分散剤、塗布助剤、フッ素化界面活性剤、
架橋剤もしくは硬化剤、触媒、電荷制御剤、滑剤、研磨
粒子、充填剤粒子、可塑剤等を含む。磁性粒子として
は、強磁性酸化物、他の金属を含む複合酸化物、保護酸
化物塗膜を有する金属合金粒子、フェライト、六角形フ
ェライト等が挙げられ、それらは広範囲の各種の形状、
サイズ及びアスペクト比を示すことができる。磁性粒子
はまた各種の金属ドーピング剤を含むことができ、そし
て米国特許第5,217,804号及び第5,252,
444号に記載されているように、場合により微粒状の
無機材料又は高分子材料のシェルでオーバーコーティン
グして光散乱を低下させることができる。本発明の電気
的導電性オーバーコートと組合せて用いられる透明磁気
記録層中に用いるための好ましい強磁性粒子は、比表面
積(BET)が30m2 /gより高いコバルト表面処理
γ−Fe2 O3 もしくは磁鉄鉱である。本発明の透明な
導電性オーバーコート層は、乳剤層を覆うように施すこ
とができる。
【0044】他の特定の画像形成用途、例えばカラーネ
ガフィルム、カラー反転フィルム、白黒フィルム、カラ
ー紙及び白黒紙、電子写真媒体、誘電記録媒体、感熱処
理性画像形成要素、感熱色素転写記録媒体、レーザーア
ブレーション媒体、及び他の画像形成用途に有用な、本
発明の導電性オーバーコート層を包含する画像形成要素
は、写真及び他の画像形成の技術分野の当業者に容易に
明らかである。
ガフィルム、カラー反転フィルム、白黒フィルム、カラ
ー紙及び白黒紙、電子写真媒体、誘電記録媒体、感熱処
理性画像形成要素、感熱色素転写記録媒体、レーザーア
ブレーション媒体、及び他の画像形成用途に有用な、本
発明の導電性オーバーコート層を包含する画像形成要素
は、写真及び他の画像形成の技術分野の当業者に容易に
明らかである。
【0045】本発明方法を以下の詳細な実施例により具
体的に説明する。しかしながら、本発明の範囲はこれら
の具体例により限定されない。
体的に説明する。しかしながら、本発明の範囲はこれら
の具体例により限定されない。
【0046】
【実施例】例1 0.47%石灰処理オセインゼラチン/水並びに正荷電
性ナトリウム−ビス(2−エチルヘキシル)スルホスク
シネート(Cytec Ind.)電荷制御剤/塗布助剤(A)及
び負荷電性過フルオロオクチルスルホネートテトラエチ
ルアンモニウム塩(Bayer AG)電荷制御剤/塗布助剤
(B)の組合せを含む各種添加物を含む塗布混合物を調
製した。他の添加物としては、0.011%クロムみょ
うばん硬化剤、0.42%ビス−ビニルスルホニルメチ
ルエーテル(BVSME)及び0.0023%ポリメチ
ルメタクリレートマット粒子(1〜2μm直径)が含ま
れる。電荷制御剤/塗布助剤(A)の濃度は0.42g
/kg混合物であり、電荷制御剤/塗布助剤(B)の濃度
は0.042g/kg混合物であった。
性ナトリウム−ビス(2−エチルヘキシル)スルホスク
シネート(Cytec Ind.)電荷制御剤/塗布助剤(A)及
び負荷電性過フルオロオクチルスルホネートテトラエチ
ルアンモニウム塩(Bayer AG)電荷制御剤/塗布助剤
(B)の組合せを含む各種添加物を含む塗布混合物を調
製した。他の添加物としては、0.011%クロムみょ
うばん硬化剤、0.42%ビス−ビニルスルホニルメチ
ルエーテル(BVSME)及び0.0023%ポリメチ
ルメタクリレートマット粒子(1〜2μm直径)が含ま
れる。電荷制御剤/塗布助剤(A)の濃度は0.42g
/kg混合物であり、電荷制御剤/塗布助剤(B)の濃度
は0.042g/kg混合物であった。
【0047】塩化ビニリデン/アクリロニトリル/イタ
コン酸ターポリマーのプライマー層11;ゼラチン下塗
り層12;増感TMAT/RAハロゲン化銀乳剤(East
manKodak Company )層13;及び全ゼラチン中間層1
4を予め塗布した、178μm(7ミル)厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム支持体の移動ウェブの両
面に、塗布ホッパーを用いて前記塗布混合物を施して、
図1に示したX線フィルム構造とした。予め塗布した層
に施したオーバーコート塗布溶液の湿潤塗布量は2.0
mL/フィート2 であった。オーバーコート層は図1では
15として示されている。
コン酸ターポリマーのプライマー層11;ゼラチン下塗
り層12;増感TMAT/RAハロゲン化銀乳剤(East
manKodak Company )層13;及び全ゼラチン中間層1
4を予め塗布した、178μm(7ミル)厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム支持体の移動ウェブの両
面に、塗布ホッパーを用いて前記塗布混合物を施して、
図1に示したX線フィルム構造とした。予め塗布した層
に施したオーバーコート塗布溶液の湿潤塗布量は2.0
mL/フィート2 であった。オーバーコート層は図1では
15として示されている。
【0048】導電性オーバーコートの表面電気抵抗率
(SER)は、米国特許第2,801,191号(引用
することにより本明細書に包含する)に記載されている
ように、20%RH、20℃で24時間コンディショニ
ングした後、2プローブ平行電極法を用いて測定した。
絶縁性ポリウレタン又は導電性EPDM(エチレンプロ
ピレンジエンモノマー)と接触させその後引離した後の
フィルム上に存在する正味の表面電荷密度(Q)を20
%RH、20℃で測定した。SER, Qpoly及びQepdm につ
いて得た値を表1に示す。所定のオーバーコート層配合
物についての帯電防止性能は、Qpoly-Qepdm 電荷空間中
の電荷位置により表すが(図2)、“0,0”位が最も
好ましく、これらは露光及び処理装置での試験により実
証することができる。例2〜9 電荷制御剤/塗布助剤(A)及び(B)の濃度を表1に
列挙したように変動させた以外は、例1を同時に塗布組
成物を調製しそして特性を調べた。電荷制御剤密度によ
る影響を表す正味の電荷密度値の範囲を図2に示す。図
2中の点に添付の数字は、表1に示した例の番号に対応
する。
(SER)は、米国特許第2,801,191号(引用
することにより本明細書に包含する)に記載されている
ように、20%RH、20℃で24時間コンディショニ
ングした後、2プローブ平行電極法を用いて測定した。
絶縁性ポリウレタン又は導電性EPDM(エチレンプロ
ピレンジエンモノマー)と接触させその後引離した後の
フィルム上に存在する正味の表面電荷密度(Q)を20
%RH、20℃で測定した。SER, Qpoly及びQepdm につ
いて得た値を表1に示す。所定のオーバーコート層配合
物についての帯電防止性能は、Qpoly-Qepdm 電荷空間中
の電荷位置により表すが(図2)、“0,0”位が最も
好ましく、これらは露光及び処理装置での試験により実
証することができる。例2〜9 電荷制御剤/塗布助剤(A)及び(B)の濃度を表1に
列挙したように変動させた以外は、例1を同時に塗布組
成物を調製しそして特性を調べた。電荷制御剤密度によ
る影響を表す正味の電荷密度値の範囲を図2に示す。図
2中の点に添付の数字は、表1に示した例の番号に対応
する。
【0049】
【表1】
【0050】例11 コロイド状電子的導電性SN−100D Sb−ドーピ
ング化スズ酸化物粒状粒子(Ishihara Sangyo Kaisha L
td. )を、0.47%石灰処理オセインゼラチン(85
/15のSnO2 対ゼラチンの重量比:SnO2 約45
%の容量比)及び各種添加物と共に含む塗布混合物を調
製した。他の添加物としては、0.011%クロムみょ
うばん硬化剤、0.42% BVSME硬化剤及び0.
0023%ポリメチルメタクリレートマット粒子(1〜
2μm直径)が含まれる。電荷制御剤/塗布助剤(A)
の濃度は0.10g/kg混合物であた、電荷制御剤/塗
布助剤(B)の濃度は0.010g/kg混合物であっ
た。オーバーコート層は、例1と同様に調製し、そして
それらの特性を調べた。例12〜17 SN−100Dスズ酸化物分散体及びゼラチンの濃度を
表2に示すように変動させた以外は例11と同様に塗布
混合物を調製した。オーバーコート層は例1と同様に調
製し、そしてそれらの特性を調べた。電荷制御剤/塗布
助剤(A)の濃度は0.10g/kg混合物であり、電荷
制御剤/塗布助剤(B)の濃度は0.010g/kg混合
物であった。これらの濃度は、図2に示すように最低の
荷電値を有するので選択した。SER, Qpoly及びQepdm に
ついて得た値を表2に示す。オーバーコート層配合物1
1〜17についての帯電防止性能を、Qpoly-Qepdm 電荷
空間中のそれらの相対位置により表すが(図3)、0,
0位が最も望ましい。
ング化スズ酸化物粒状粒子(Ishihara Sangyo Kaisha L
td. )を、0.47%石灰処理オセインゼラチン(85
/15のSnO2 対ゼラチンの重量比:SnO2 約45
%の容量比)及び各種添加物と共に含む塗布混合物を調
製した。他の添加物としては、0.011%クロムみょ
うばん硬化剤、0.42% BVSME硬化剤及び0.
0023%ポリメチルメタクリレートマット粒子(1〜
2μm直径)が含まれる。電荷制御剤/塗布助剤(A)
の濃度は0.10g/kg混合物であた、電荷制御剤/塗
布助剤(B)の濃度は0.010g/kg混合物であっ
た。オーバーコート層は、例1と同様に調製し、そして
それらの特性を調べた。例12〜17 SN−100Dスズ酸化物分散体及びゼラチンの濃度を
表2に示すように変動させた以外は例11と同様に塗布
混合物を調製した。オーバーコート層は例1と同様に調
製し、そしてそれらの特性を調べた。電荷制御剤/塗布
助剤(A)の濃度は0.10g/kg混合物であり、電荷
制御剤/塗布助剤(B)の濃度は0.010g/kg混合
物であった。これらの濃度は、図2に示すように最低の
荷電値を有するので選択した。SER, Qpoly及びQepdm に
ついて得た値を表2に示す。オーバーコート層配合物1
1〜17についての帯電防止性能を、Qpoly-Qepdm 電荷
空間中のそれらの相対位置により表すが(図3)、0,
0位が最も望ましい。
【0051】
【表2】
【0052】スズ酸化物塗布量の及ぼす影響を表す電荷
密度値(すなわち導電率)の範囲を図3に示す。図中の
点に添付の数字は、表2の実施例の番号に対応する。図
3に示すように、電荷制御剤と電気的導電性金属含有粒
子の最適組合せを含む電気的導電性オーバーコートを用
いると、強力な帯電防止保護性能が得られかつ露光及び
処理用の装置に用いられる各種のローラー材料に対する
摩擦電荷が最少になる。
密度値(すなわち導電率)の範囲を図3に示す。図中の
点に添付の数字は、表2の実施例の番号に対応する。図
3に示すように、電荷制御剤と電気的導電性金属含有粒
子の最適組合せを含む電気的導電性オーバーコートを用
いると、強力な帯電防止保護性能が得られかつ露光及び
処理用の装置に用いられる各種のローラー材料に対する
摩擦電荷が最少になる。
【0053】例11〜17と同様のスズ酸化物含有オー
バーコートが、X線フィルムセンシトメトリー応答に与
える影響を、通常の試験操作により評価したが、X線フ
ィルムのセンシトメトリー上の好ましくない応答は認め
られなかった。したがって、本発明によればX線フィル
ムのセンシトメトリーに対して全く影響を与えないオー
バーコートが得られる。好ましい実施態様 態様1 支持体;1層以上の、支持体上に重ね合された
画像形成層;並びに導電性金属含有粒子が20〜80の
容量%でフィルム形成性バインダー中に分散されたコロ
イド状電気的導電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与
する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制
御剤を含み、かつ支持体上に重ね合された、透明な電気
的導電性非荷電性最外オーバーコート層、を含んでなる
多層画像形成要素。態様2 前記の電気的導電性金属含有粒状粒子が、半導
体金属酸化物、供与体ヘテロ原子−ドーピング化金属酸
化物、酸素欠損を含む金属酸化物、導電性金属炭化物、
導電性金属窒化物、導電性金属珪酸化物及び導電性金属
ホウ化物からなる群より選ばれる態様1記載の多層画像
形成要素。態様3 前記の電気的導電性金属含有粒状粒子が、スズ
酸化物、インジウムセスキ酸化物、亜鉛酸化物、チタン
酸化物、アンチモン酸亜鉛、アンチモン酸インジウム、
三酸化モリブデン、三酸化タングステン、五酸化バナジ
ウム、アンチモン−ドーピング化スズ酸化物、スズ−ド
ーピング化インジウムセスキ酸化物、アルミニウム−ド
ーピング化亜鉛酸化物及びニオブ−ドーピング化チタン
酸化物からなる群より選ばれる態様1記載の多層画像形
成要素。態様4 前記の金属含有粒状粒子が、103 オーム・cm
以下の充填粉末比抵抗率を示す態様1記載の多層画像形
成要素。態様5 前記の金属含有粒状粒子の断面直径が0.1μ
m未満である態様1記載の多層画像形成要素。態様6 前記の透明な電気的導電性非荷電性オーバーコ
ート層の金属含有粒状粒子の乾燥重量塗布量が0.01
〜2g/m2 の範囲である態様1記載の多層画像形成要
素。態様7 前記の透明な電気的導電性非荷電性オーバーコ
ート層が、1×1012オーム/平方未満の表面電気抵抗
率を有する態様1記載の多層画像形成要素。態様8 前記の第一電荷制御剤が、以下に定義する
(i)から選ばれる態様1記載の多層画像形成要素: (i)式(1)及び(2)により表される正荷電性アニ
オン性化合物:
バーコートが、X線フィルムセンシトメトリー応答に与
える影響を、通常の試験操作により評価したが、X線フ
ィルムのセンシトメトリー上の好ましくない応答は認め
られなかった。したがって、本発明によればX線フィル
ムのセンシトメトリーに対して全く影響を与えないオー
バーコートが得られる。好ましい実施態様 態様1 支持体;1層以上の、支持体上に重ね合された
画像形成層;並びに導電性金属含有粒子が20〜80の
容量%でフィルム形成性バインダー中に分散されたコロ
イド状電気的導電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与
する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制
御剤を含み、かつ支持体上に重ね合された、透明な電気
的導電性非荷電性最外オーバーコート層、を含んでなる
多層画像形成要素。態様2 前記の電気的導電性金属含有粒状粒子が、半導
体金属酸化物、供与体ヘテロ原子−ドーピング化金属酸
化物、酸素欠損を含む金属酸化物、導電性金属炭化物、
導電性金属窒化物、導電性金属珪酸化物及び導電性金属
ホウ化物からなる群より選ばれる態様1記載の多層画像
形成要素。態様3 前記の電気的導電性金属含有粒状粒子が、スズ
酸化物、インジウムセスキ酸化物、亜鉛酸化物、チタン
酸化物、アンチモン酸亜鉛、アンチモン酸インジウム、
三酸化モリブデン、三酸化タングステン、五酸化バナジ
ウム、アンチモン−ドーピング化スズ酸化物、スズ−ド
ーピング化インジウムセスキ酸化物、アルミニウム−ド
ーピング化亜鉛酸化物及びニオブ−ドーピング化チタン
酸化物からなる群より選ばれる態様1記載の多層画像形
成要素。態様4 前記の金属含有粒状粒子が、103 オーム・cm
以下の充填粉末比抵抗率を示す態様1記載の多層画像形
成要素。態様5 前記の金属含有粒状粒子の断面直径が0.1μ
m未満である態様1記載の多層画像形成要素。態様6 前記の透明な電気的導電性非荷電性オーバーコ
ート層の金属含有粒状粒子の乾燥重量塗布量が0.01
〜2g/m2 の範囲である態様1記載の多層画像形成要
素。態様7 前記の透明な電気的導電性非荷電性オーバーコ
ート層が、1×1012オーム/平方未満の表面電気抵抗
率を有する態様1記載の多層画像形成要素。態様8 前記の第一電荷制御剤が、以下に定義する
(i)から選ばれる態様1記載の多層画像形成要素: (i)式(1)及び(2)により表される正荷電性アニ
オン性化合物:
【0054】
【化7】
【0055】(式中、Rは、アルキルもしくはアルケニ
ル基(好ましくは炭素数10〜18のアルキル基もしく
は炭素数14〜18のアルケニル基)又はアルキルアリ
ール基(好ましくは炭素数12〜18のアルキルアリー
ル基、例えば、C8 H17−(C 6 H4 )−もしくはC9
H19−(C6 H4 )−)を表し;Aは、共有単結合又は
−O−もしくは−(OCH2 CH2 )m −On −を表
し、ここでmは1〜4の整数であり、nはゼロもしくは
1であり;そしてMは、アルカリ金属カチオン、例え
ば、ナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム基、又
はアルキル置換アンモニウム基を表す)、
ル基(好ましくは炭素数10〜18のアルキル基もしく
は炭素数14〜18のアルケニル基)又はアルキルアリ
ール基(好ましくは炭素数12〜18のアルキルアリー
ル基、例えば、C8 H17−(C 6 H4 )−もしくはC9
H19−(C6 H4 )−)を表し;Aは、共有単結合又は
−O−もしくは−(OCH2 CH2 )m −On −を表
し、ここでmは1〜4の整数であり、nはゼロもしくは
1であり;そしてMは、アルカリ金属カチオン、例え
ば、ナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム基、又
はアルキル置換アンモニウム基を表す)、
【0056】
【化8】
【0057】(式中、R2 及びR3 は同一又は異なるア
ルキル又はアルキル−アリール基を表し、好ましくは炭
素数6〜10のアルキル基、及び炭素数7〜10のアル
キル−アリール基であり;Mは式(1)において先に定
義したカチオンである)。態様9 前記の第二電荷制御剤が以下に定義する(ii)
から選ばれる、態様1記載の多層画像形成要素: (ii)フルオロアルキル又はフルオロアルケニル基及び
親水性基を有する負荷電性フッ素含有アニオン性又は非
イオン性化合物であって、以下の式(3),(4),
(5)又は(6)により表される化合物:
ルキル又はアルキル−アリール基を表し、好ましくは炭
素数6〜10のアルキル基、及び炭素数7〜10のアル
キル−アリール基であり;Mは式(1)において先に定
義したカチオンである)。態様9 前記の第二電荷制御剤が以下に定義する(ii)
から選ばれる、態様1記載の多層画像形成要素: (ii)フルオロアルキル又はフルオロアルケニル基及び
親水性基を有する負荷電性フッ素含有アニオン性又は非
イオン性化合物であって、以下の式(3),(4),
(5)又は(6)により表される化合物:
【0058】
【化9】
【0059】(式中、Rf は、炭素数6〜12の過フッ
素化アルキル又はアルケニル基を表し;R4 は、メチル
もしくはエチル基又は水素原子を表し;nは0又は1の
値を有し;aはnがゼロならば0,1,2又は3の値を
有し、nが1ならば1,2又は3の値を有し;そしてB
はアニオン性親水性基、例えば、−SO3 M,−OSO
3 M又は−CO2 M(ここでMはアルカリ金属カチオ
ン、例えば、ナトリウム、カリウム、もしくはアンモニ
ウム基、又はアルキル置換アンモニウム基)、又は非イ
オン性親水性基、例えば、−O(CH2 CH2 O)y −
D(ここでyは4〜16であり、Dは−H又は−CH3
である)を表す)、
素化アルキル又はアルケニル基を表し;R4 は、メチル
もしくはエチル基又は水素原子を表し;nは0又は1の
値を有し;aはnがゼロならば0,1,2又は3の値を
有し、nが1ならば1,2又は3の値を有し;そしてB
はアニオン性親水性基、例えば、−SO3 M,−OSO
3 M又は−CO2 M(ここでMはアルカリ金属カチオ
ン、例えば、ナトリウム、カリウム、もしくはアンモニ
ウム基、又はアルキル置換アンモニウム基)、又は非イ
オン性親水性基、例えば、−O(CH2 CH2 O)y −
D(ここでyは4〜16であり、Dは−H又は−CH3
である)を表す)、
【0060】
【化10】
【0061】(式中、R’f 及びR''f は、同一又は異
なる、4〜10個の炭素原子及び少くとも7個のフッ素
原子(末端炭素原子上の3個のフッ素原子を含む)を有
するフッ素化アルキル基を表し;Mは、先に定義したカ
チオンである)、
なる、4〜10個の炭素原子及び少くとも7個のフッ素
原子(末端炭素原子上の3個のフッ素原子を含む)を有
するフッ素化アルキル基を表し;Mは、先に定義したカ
チオンである)、
【0062】
【化11】
【0063】(式中、R''' f は炭素数6,8及び10
の過フッ素化アルキル基の混合物を表し、そしてXは−
CONH(CH2)3 N(CH3)2 である)、
の過フッ素化アルキル基の混合物を表し、そしてXは−
CONH(CH2)3 N(CH3)2 である)、
【0064】
【化12】
【0065】(式中、Rf は式(3)において定義した
通りであり、そしてYは適切な非イオン性親水性基、例
えば、−(CH2 CH2 O)b −(ここでbは6〜20
である)、又は−(CH2 CH(OH)CH2 O)
d (ここでdは6〜16である)であり、Dは−H又は
−CH3 である)。態様10 前記のフィルム形成性バインダーが、水溶性
親水性高分子、セルロース誘導体又は水分散性水不溶性
高分子を含む態様1記載の多層画像形成要素。態様11 前記の支持体が、ポリ(エチレンテレフタレ
ート)フィルム、ポリ(エチレンナフタレート)フィル
ム、セルロースアセテートフィルム又は紙を含む態様1
記載の多層画像形成要素。態様12 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が1
層以上の画像形成層の上に直接位置する態様1記載の多
層画像形成要素。態様13 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が、
1層以上の画像形成層の上の中間層の上に直接位置する
態様1記載の多層画像形成要素。態様14 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が、
1層以上の画像形成層と反対の支持体面上に重ね合され
ている態様1記載の多層画像形成要素。態様15 支持体;前記支持体の第一面又は第二面上に
重ね合されたハロゲン化銀乳剤層;並びに20〜80の
容量%でフィルム形成性バインダー中に分散されたコロ
イド状電気的導電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与
する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制
御剤を含み、かつ支持体上に重ね合された、透明な電気
的導電性非荷電性最外オーバーコート層、を含んでなる
写真フィルム。態様16 支持体;前記支持体の第一面上に重ね合され
た画像形成層;並びに20〜80の容量%でフィルム形
成性バインダー中に分散されたコロイド状電気的導電性
金属含有粒状粒子、正荷電性を付与する第一電荷制御剤
及び負荷電性を付与する第二電荷制御剤を含み、かつ支
持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電性最
外オーバーコート層、を含んでなる感熱処理性画像形成
要素。
通りであり、そしてYは適切な非イオン性親水性基、例
えば、−(CH2 CH2 O)b −(ここでbは6〜20
である)、又は−(CH2 CH(OH)CH2 O)
d (ここでdは6〜16である)であり、Dは−H又は
−CH3 である)。態様10 前記のフィルム形成性バインダーが、水溶性
親水性高分子、セルロース誘導体又は水分散性水不溶性
高分子を含む態様1記載の多層画像形成要素。態様11 前記の支持体が、ポリ(エチレンテレフタレ
ート)フィルム、ポリ(エチレンナフタレート)フィル
ム、セルロースアセテートフィルム又は紙を含む態様1
記載の多層画像形成要素。態様12 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が1
層以上の画像形成層の上に直接位置する態様1記載の多
層画像形成要素。態様13 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が、
1層以上の画像形成層の上の中間層の上に直接位置する
態様1記載の多層画像形成要素。態様14 前記の導電性非荷電性オーバーコート層が、
1層以上の画像形成層と反対の支持体面上に重ね合され
ている態様1記載の多層画像形成要素。態様15 支持体;前記支持体の第一面又は第二面上に
重ね合されたハロゲン化銀乳剤層;並びに20〜80の
容量%でフィルム形成性バインダー中に分散されたコロ
イド状電気的導電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与
する第一電荷制御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制
御剤を含み、かつ支持体上に重ね合された、透明な電気
的導電性非荷電性最外オーバーコート層、を含んでなる
写真フィルム。態様16 支持体;前記支持体の第一面上に重ね合され
た画像形成層;並びに20〜80の容量%でフィルム形
成性バインダー中に分散されたコロイド状電気的導電性
金属含有粒状粒子、正荷電性を付与する第一電荷制御剤
及び負荷電性を付与する第二電荷制御剤を含み、かつ支
持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電性最
外オーバーコート層、を含んでなる感熱処理性画像形成
要素。
【0066】本発明を、その好ましい実施態様を特に参
照して詳細に述べてきたが、本発明の精神及び範囲内で
変更及び修正が可能であることが理解されるであろう。
照して詳細に述べてきたが、本発明の精神及び範囲内で
変更及び修正が可能であることが理解されるであろう。
【図1】本発明のオーバーコートを用いるX線フィルム
構造を示したものである。
構造を示したものである。
【図2】各種のオーバーコート層について、導電性ゴム
を用いた場合の正味の電荷密度を絶縁性ポリウレタンを
用いた場合の正味の電荷密度に対して示したものであ
る。
を用いた場合の正味の電荷密度を絶縁性ポリウレタンを
用いた場合の正味の電荷密度に対して示したものであ
る。
【図3】各種のオーバーコート層について、導電性ゴム
を用いた場合の正味の電荷密度を、絶縁性ポリウレタン
を用いた場合の正味の電荷密度に対して示したものであ
る。
を用いた場合の正味の電荷密度を、絶縁性ポリウレタン
を用いた場合の正味の電荷密度に対して示したものであ
る。
10…支持体 11…下塗り層 12…ゼラチン下塗り層 13…増感TMAT G/RAハロゲン化銀乳剤層 14…全ゼラチン中間層 15…オーバーコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ポール アルバート クリスチャン アメリカ合衆国,ニューヨーク 14534, ピッツフォード,カルキンス ロード 1441 (72)発明者 ロジャー ジェームス オワーズ イギリス国,エルユー7 8エスエフ,レ イトン バザード,グローブ ロード 19
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体;1層以上の、支持体上に重ね合
された画像形成層;並びに20〜80の容量%でフィル
ム形成性バインダー中に分散されたコロイド状電気的導
電性金属含有粒状粒子、正荷電性を付与する第一電荷制
御剤及び負荷電性を付与する第二電荷制御剤を含み、か
つ支持体上に重ね合された、透明な電気的導電性非荷電
性最外オーバーコート層、を含んでなる多層画像形成要
素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/991493 | 1997-12-16 | ||
US08/991,493 US5888712A (en) | 1997-12-16 | 1997-12-16 | Electrically-conductive overcoat for photographic elements |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11242308A true JPH11242308A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=25537271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10357414A Pending JPH11242308A (ja) | 1997-12-16 | 1998-12-16 | 多層画像形成要素 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5888712A (ja) |
EP (1) | EP0924562A1 (ja) |
JP (1) | JPH11242308A (ja) |
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---|---|---|---|---|
JPWO2008013148A1 (ja) * | 2006-07-25 | 2009-12-17 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 基体の保護方法 |
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---|---|---|---|---|
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US7351300B2 (en) * | 2001-08-22 | 2008-04-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Peeling method and method of manufacturing semiconductor device |
EP1296182A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-26 | Eastman Kodak Company | Fluorinated surfactants in overcoat compositions and elements containing same |
US20030148232A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-08-07 | Orem Michael W. | Fluorinated surfactants in overcoat compositions and elements containing same |
US20040009440A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-01-15 | Alice Moon | Coating composition for photographic materials |
GB0223835D0 (en) | 2002-10-12 | 2002-11-20 | Eastman Kodak Co | Method of making a material |
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WO2014129519A1 (en) | 2013-02-20 | 2014-08-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Peeling method, semiconductor device, and peeling apparatus |
WO2015087192A1 (en) | 2013-12-12 | 2015-06-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Peeling method and peeling apparatus |
US10531555B1 (en) * | 2016-03-22 | 2020-01-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Tungsten oxide thermal shield |
CN107488408B (zh) * | 2017-07-17 | 2019-05-14 | 金华市博浪科技有限公司 | 一种用于蓝片上的抗静电胶黏剂及其制备方法 |
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