JPH11242173A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザビームを走査する露光装置において、画
像濃度の低下を防止する。 【解決手段】この発明の露光装置２１は、半導体レーザ
素子１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄがオ
フ時に、駆動（予備駆動）電流の大きさをしきい値また
はその近傍の大きさとすることで、レーザオン時のレー
ザ出力の立ち上がり特性を向上し、画像濃度が不所望に
低下することを防止する。このとき、レーザ素子は、レ
ーザ出力を放射するが、その出力は、ハーフミラー１２
０，１２１および１２２により減衰されるので、非画像
部にかぶりが生じることもない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば複数ドラ
ム方式カラー複写機またはカラープリンタ装置、多色カ
ラー複写機または多色カラープリンタ装置、あるいは単
色の高速デジタル複写機または高速プリンタ装置等に使
用され、２以上の光ビームを一括して露光する露光装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、複数の感光体ドラムを含む画像
形成ユニットを用いたカラープリンタ装置またはカラー
複写装置あるいは単色の画像データを同時に複数ライン
分露光する高速プリンタ装置などの画像形成装置では、
色分解された色成分または複数ライン分並列に処理され
た複数の画像データに対応する複数の光ビームを同時に
露光する露光装置が利用されている。

【０００３】この種の露光装置は、色分解された色成分
毎の画像データあるいは複数ライン分並列に処理された
所定数の光ビームを放射する２以上の半導体レーザ素
子、各半導体レーザ素子を放射された光ビームの断面ビ
ーム径を各光ビーム毎に所定の大きさおよび形状に絞り
込む第１のレンズ群、第１のレンズ群により所定の形状
および大きさに絞り込まれた光ビーム群を、各光ビーム
により画像データに対応する画像が形成される記録媒体
が搬送される方向と直交する方向に連続的に反射するこ
とで偏向する偏向装置、偏向装置により偏向された光ビ
ームを記録媒体の所定の位置に結像させる第２のレンズ
群等からなる。

【０００４】上述した露光装置は、適用される画像形成
装置に合わせ、各画像データに対応する複数の露光装置
を用いる例と、複数の光ビームを１つの露光装置で一括
して露光する露光装置を用いる例とに分類されている。

【０００５】なお、上述した露光装置において、同一色
の画像データを並列に露光することは、画像データが並
列に露光される数がＮであるならば、単一の光ビームを
用いる露光装置に比較してＮ倍の画像形成速度の画像形
成が可能な高速プリンタ装置を提供をできることにな
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述した露光装置にお
いては、光源として、近赤外半導体レーザ素子を使用し
たものが多く、レーザの制御もしきい値以下で行われて
いる。しかしながら、例えば、発光波長λがλ＝６８０
ｎｍ程度のレーザ素子を用いる場合、レーザオン時の発
光波形の立ち上がりが鈍り、画像濃度が薄くなる問題が
ある。

【０００７】また、同一色の画像データを並列に露光す
ることは、画像データが並列に露光される数がＮである
ならば、単一の光ビームを用いる露光装置に比較してＮ
倍の画像形成速度を達成できるが、Ｎ本の光ビーム相互
の記録媒体が搬送される方向の間隔を所定の範囲内に設
定することは、調整コストを増大させることになる。こ
の発明の目的は、複数の光ビームを用いて画像データを
並列に露光することにより、高速度の画像露光が可能な
露光装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、上述した問
題点に基づきなされたもので、所定の駆動電流が供給さ
れることで光を発光する光源と、この光源からの光を第
１の方向へ偏向する偏向手段と、この偏向手段により偏
向された前記光を所定像面に結像する結像手段と、前記
の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記光源が発
光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大きさに
維持する駆動電源装置と、を有することを特徴とする露
光装置を提供するものである。

【０００９】また、この発明は、所定の駆動電流が供給
されることで光を発光する光源と、この光源からの光を
第１の方向へ偏向する偏向手段と、この偏向手段により
偏向された前記光を所定像面に結像する結像手段と、前
記の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記光源が
発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大きさ
に維持する駆動電源装置と、前記光源と前記偏向手段と
の間に配置され、前記光源から放射された光の光量の一
部を減衰させる減衰手段と、を有することを特徴とする
露光装置を提供するものである。

【００１０】さらに、この発明は、所定の駆動電流が供
給されることで光を発光する複数の光源と、この複数の
光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向する偏向手
段と、この偏向手段により偏向された前記それぞれの光
を所定の像面に結像する結像手段と、前記のそれぞれの
光源の非発光時の駆動電流の大きさを前記それぞれの光
源が発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大
きさに維持する駆動電源装置と、前記それぞれの光源と
前記偏向手段との間に配置され、前記それぞれの光源か
ら放射された光の光量が前記偏向手段上で等しい光量と
なるようそれぞれの光を減衰させる減衰手段と、を有す
ることを特徴とする露光装置を提供するものである。

【００１１】またさらに、この発明は、所定の駆動電流
が供給されることで光を発光する光源と、この光源から
の光を第１の方向へ偏向する偏向手段と、この偏向手段
により偏向された前記光を所定像面に結像する結像手段
と、前記の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記
光源が発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した
大きさに維持する駆動電源装置と、前記光源と前記偏向
手段との間に配置され、前記光源から放射された光の光
量の一部を反射または透過により減衰させる減衰手段
と、この減衰手段により透過または反射された光が前記
偏向手段に入射することを阻止する阻止手段と、を有す
ることを特徴とする露光装置を提供するものである。

【００１２】さらにまた、この発明は、所定の駆動電流
が供給されることで光を発光する複数の光源と、この複
数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向する偏
向手段と、この偏向手段により偏向された前記それぞれ
の光を所定の像面に結像する結像手段と、この結像手段
を通過された光の一部を受光して電気信号に変換する光
検出手段と、前記それぞれの光源と前記偏向手段との間
に配置され、前記光源から前記偏向手段に向かう光のそ
れぞれが前記偏向手段に入射する位置を変化させる光路
変更手段と、前記光検出手段の検出結果に基づいて、前
記光路変更手段を駆動する光路変更手段制御手段と、を
有することを特徴とする露光装置を提供するものであ
る。

【００１３】またさらに、この発明は、所定の駆動電流
が供給されることで光を発光する複数の光源と、この複
数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向する偏
向手段と、この偏向手段により偏向された前記それぞれ
の光を所定の像面に結像する結像手段と、この結像手段
を通過された光の一部を受光して電気信号に変換する光
検出手段と、前記光源と前記偏向手段との間に配置さ
れ、前記光源から放射された光の光量の一部を反射また
は透過により減衰させる減衰手段と、この減衰手段によ
り透過または反射された光が前記偏向手段に入射するこ
とを阻止する阻止手段と、前記それぞれの光源と前記偏
向手段との間に配置され、前記光源から前記偏向手段に
向かう光のそれぞれが前記偏向手段に入射する位置を変
化させる光路変更手段と、前記光検出手段の検出結果に
基づいて、前記光路変更手段を駆動する光路変更手段制
御手段と、を有することを特徴とする露光装置を提供す
るものである。

【００１４】さらにまた、この発明は、所定の駆動電流
が供給されることで光を発光する複数の光源と、この複
数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向する偏
向手段と、この偏向手段により偏向された前記それぞれ
の光を所定の像面に結像する結像手段と、この結像手段
を通過された光の一部を受光して電気信号に変換する光
検出手段と、前記光源と前記偏向手段との間に配置さ
れ、前記それぞれの光源から放射された光の光量の一部
を反射させまたは透過し、前記それぞれの光源から放射
された光の光量が前記偏向手段上で等しい光量となるよ
う、前記それぞれの光を減衰させる減衰させる減衰手段
と、この減衰手段により透過または反射された光が前記
偏向手段に入射することを阻止する阻止手段と、前記そ
れぞれの光源と前記偏向手段との間に配置され、前記光
源から前記偏向手段に向かう光のそれぞれが前記偏向手
段に入射する位置を変化させる光路変更手段と、前記光
検出手段の検出結果に基づいて、前記光路変更手段を駆
動する光路変更手段制御手段と、を有することを特徴と
する露光装置を提供するものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態を詳細に説明する。図１は、この発明の実施
の形態であるマルチビーム露光装置を有する画像形成装
置としてのデジタル複写機を示すものである。

【００１６】図１に示されるように、デジタル複写装置
１は、例えば画像読みとり手段としての１０と画像形成
手段としてのプリンタ部２０を有している。スキャナ部
１０は、矢印の方向に移動可能に形成された第１キャリ
ッジ１１、第１キャリッジ１１に従動して移動される第
２キャリッジ１２、第２キャリッジ１２からの光に所定
の結像特性を与える光学レンズ１３、光学レンズ１３に
より所定の結像特性が与えられた光を光電変換して電気
信号を出力する光電変換素子１４、原稿Ｏを保持する原
稿台１５、原稿台１５に原稿Ｏを押しつける原稿固定カ
バー１６等を有している。

【００１７】第１キャリッジ１１には、原稿Ｏを照明す
る光源１７、光源１７が放射する光で照明されて原稿Ｏ
から反射された反射光を、第２キャリッジ１２に向けて
反射するミラー１８Ａが設けられている。

【００１８】第２キャリッジ１２には、第１キャリッジ
１１のミラー１８Ａから伝達された光を９０゜折り曲げ
るミラー１８Ｂ、ミラー１８Ｂで折り曲げられた光をさ
らに９０゜折り曲げるミラー１８Ｃを有している。

【００１９】原稿台１５に載置された原稿Ｏは、光源１
７によって照明され、画像の有無に対応する光の明暗が
分布する反射光を反射する。この原稿Ｏの反射光は、原
稿Ｏの画像情報として、ミラー１８Ａ，１８Ｂおよび１
８Ｃを経由して、光学レンズ１３に入射される。

【００２０】光学レンズ１３に案内された原稿Ｏからの
反射光は、光学レンズ１３により、光電変換素子（ＣＣ
Ｄセンサ）１４の受光面に集光される。以下、図示しな
いキャリッジ駆動用モータの駆動により第１キャリッジ
１１と第２キャリッジ１２が相対速度２対１で原稿台１
５に沿って移動されることで、原稿Ｏの画像情報すなわ
ち原稿Ｏからの反射光がミラー１８Ａが延出される方向
に沿った所定の幅で切り出されるとともにミラー１８Ａ
が延出される方向と直交する方向に順次取り出され、原
稿Ｏの全ての画像情報がＣＣＤセンサ１４に案内され
る。

【００２１】以上のようにして、原稿台１５上に載置さ
れた原稿Ｏの画像は、ＣＣＤセンサ１４により、ミラー
１８Ａが延出されている第１の方向に沿った１ラインご
とに図示しない画像処理部において画像の濃淡を示す例
えば８ビットのデジタル画像信号に変換される。

【００２２】プリンタ部２０は、図２ないし図９を用い
て後段に説明するマルチビーム露光装置２１および被画
像形成媒体である記録用紙Ｐ上に画像形成が可能な電子
写真方式の画像形成部２２を有している。

【００２３】画像形成部２２は、マルチビーム露光装置
２１から光ビームが照射されることで画像データすなわ
ち原稿Ｏの画像に対応する静電潜像が形成されるドラム
状の感光体（以下、感光体ドラムと示す）２３、感光体
ドラム２３の表面に所定極性の表面電位を与える帯電装
置２４、感光体ドラム２３にマルチビーム露光装置によ
り形成された静電潜像に可視化材としてのトナーを選択
的に供給して現像する現像装置２５、現像装置２５によ
り感光体ドラム２３の外周に形成されたトナー像に所定
の電界を与えて記録用紙Ｐに転写する転写装置２６、転
写装置でトナー像が転写された記録用紙Ｐおよび記録用
紙Ｐと感光体ドラム２３との間のトナーを、感光体ドラ
ム２３との静電吸着から解放して（感光体ドラム２３か
ら）分離する分離装置２７および感光体ドラム２３の外
周に残った転写残りトナーを除去し感光体ドラム２３の
電位分布を帯電装置２４により表面電位が供給される以
前の状態に戻すクリーニング装置２８等を有している。
なお、帯電装置２４、現像装置２５、転写装置２６、分
離装置２７およびクリーニング装置２８は、感光体ドラ
ム２３が回転される矢印方向に沿って、順に配列されて
いる。また、マルチビーム露光装置２１からの露光ビー
ム（光ビーム）は、帯電装置２４と現像装置２５と間の
感光体ドラム２３上の所定位置Ｘに照射される。

【００２４】スキャナ部１０で原稿Ｏから読み取られた
画像信号は、図示しない画像処理部において、例えば輪
郭補正あるいは中間調表示のための階調処理等の処理に
より印字信号に変換され、さらにマルチビーム露光装置
２１の以下に説明する半導体レーザ素子から放射される
レーザビームの光強度を、帯電装置２４により所定の表
面電位が与えられている感光体ドラム２３の外周に静電
潜像を記録可能な強度と静電潜像を記録しない強度との
いづれかに変化させるためのレーザ変調信号に変換され
る。

【００２５】マルチビーム露光装置２１の以下に示すそ
れぞれの半導本レーザ素子は、上述したレーザ変調信号
に従って強度変調され、所定の画像データに対応して感
光体ドラム２３の所定位置に静電潜像を記録するよう、
発光する。この半導本レーザ素子からの光は、マルチビ
ーム露光装置２１内の以下に説明する偏向装置によりス
キャナ部１０の読み取りラインと同一の方向である第１
の方向に偏向されて、感光体ドラム２３の外周上の所定
位置Ｘに、照射される。

【００２６】以下、感光体ドラム２３が所定速度で矢印
方向に回転されることで、スキャナ部１０の第１キャリ
ッジ１１および第２キャリッジ１２が原稿台７に沿って
移動されると同様に、偏向装置により順次偏向される半
導体レーザ素子からのレーザビームが１ライン毎に、感
光体ドラム２３上の外周に所定間隔で露光される。

【００２７】このようにして、感光体ドラム２３の外周
上に、画像信号に応じた静電潜像が形成される。感光体
ドラム２３の外周に形成ざれた静電潜像は、現像装置２
５からのトナーにより現像され、感光体ドラム２３の回
転により転写装置２６と対向する位置に搬送され、用紙
カセット２９から、給紙ローラ３０および分離ローラ３
１により１枚取り出され、アライニングローラ３２でタ
イミングが整合されて供給される記録用紙Ｐ上に、転写
装置２６からの電界によって転写される。

【００２８】トナー像が転写された記録用紙Ｐは、分離
装置２７によりトナーとともに分離され、搬送装置３３
により定着装置３４に案内される。定着装置３４に案内
された記録用紙Ｐは、定着装置３４からの熱と圧力によ
りトナー（トナー像）が定着されたのち、排紙ローラ３
５によりトレイ３６に排出される。

【００２９】一方、転写装置２６によりトナー像（トナ
ー）を記録用紙Ｐに転写させた後の感光体ドラム２３
は、引き続く回転の結果、クリーニング装置２８と対向
され、外周に残っている転写残りトナー（残留トナー）
が除去されて、さらに帯電装置２４により表面電位が供
給される以前の状態に初期状態に戻され、次の画像形成
が可能となる。

【００３０】以上のプロセスが繰り返されることで、連
続した画像形成動作が可能となる。このように、原稿台
１５にセットされた原稿Ｏは、スキャナ部１０で画像情
報が読み取られ、読み取られた画像情報がプリンタ部２
０でトナー像に変換されて記録用紙Ｐに出力されること
で、複写される。

【００３１】図２は、図１に示したデジタル複写装置に
利用されるマルチビーム露光装置を示す概略平面図であ
る。図２に示されるように、マルチビーム露光装置２１
は、ハウジング１５０の所定位置に固定された第１ない
し第４の４つの光源１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃおよ
び１０１Ｄを有している。

【００３２】第１ないし第４の光源１０１Ａ，１０１
Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄは、それぞれ所定の波長の
レーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤを放射する半
導体レーザ素子である。それぞれの半導体レーザ素子１
０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄから放射さ
れたレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤは、偏向
前光学系１０２（１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃおよび
１０２Ｄ）を通過され、偏向装置１２３に案内される。

【００３３】なお、偏向前光学系１０２は、レーザビー
ムＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤのそれぞれに個別に設け
られる部分と、４本のレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣお
よびＬＤのいづれかまたは全てに共通して設けられる部
分があるため、個別に設けられる部分については、添え
字Ａ，Ｂ，ＣおよびＤを付加して、説明する。

【００３４】偏向前光学系１０２（１０２Ａ，１０２
Ｂ，１０２Ｃ，１０２Ｄ）は、レーザ素子１０１Ａ，１
０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄから放射されたレーザ
ビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤの断面ビームスポッ
ト形状を所定の形状に整えるもので、それぞれ、レーザ
素子１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄから
放射された発散性のレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよ
びＬＤに所定の収束性を与える有限焦点レンズ１０３
Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃおよび１０３Ｄ、有限焦点レン
ズ１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃおよび１０３Ｄを通過
されて所定の収束性が与えられたレーザビームＬＡ，Ｌ
Ｂ，ＬＣおよびＬＤの断面ビーム形状を所定の形状に整
える絞り１０４Ａ，１０４Ｂ，１０４Ｃおよび１０４
Ｄ、絞り１０４Ａ，１０４Ｂ，１０４Ｃおよび１０４Ｄ
により断面ビーム形状が所定の形状に整えられたレーザ
ビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤを偏向装置１２３に
向けて折り曲げるとともに感光体ドラム２３上で他のレ
ーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤとの副走査方向
間隔が所定の間隔となるよう偏向装置１２３に向かうレ
ーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤの第１の方向の
位置を変化して反射する光路変更機構としてのガルバノ
ミラー１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃおよび１０５Ｄを
有している。なお、各偏向前光学系１０２（Ａ，Ｂ，Ｃ
およびＤ）において、有限焦点レンズ１０３（Ａ，Ｂ，
ＣおよびＤ）、絞り１０４（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）およ
び半導体レーザ素子１０１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）は、
図３を用いて以下に説明するように、発光ユニット１１
０（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）として、それぞれが一定の位
置関係となるよう、固定されている。また、発光ユニッ
ト１１０（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）は、ハウジング１５０
の所定の位置に設けられる位置決め部に、ネジ等により
固定される。

【００３５】各レーザ素子１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１
Ｃおよび１０１Ｄは、本実施例においては、発光波長λ
が、λ＝６８０ｎｍのレーザ素子が利用されるが、波長
については、７８０ｎｍより短ければ、このかぎりでは
ない。

【００３６】有限焦点レンズ１０３Ａ，１０３Ｂ，１０
３Ｃおよび１０３Ｄには、例えば、非球面ガラスレンズ
あるいは球面ガラスレンズに図示しないＵＶ（紫外線）
硬化プラスチック非球面レンズを貼り合わせた単レンズ
が利用される。

【００３７】なお、有限焦点レンズ１０３（Ａ，Ｂ，Ｃ
およびＤ）と絞り１０４（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）は、そ
れぞれ、図３に示すように、レンズホルダ（もしくは鏡
筒）１０７（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）に、一体的に保持さ
れている。このとき、レンズ１０３（Ａ，Ｂ，Ｃおよび
Ｄ）は、板ばね１０６（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）により、
レンズホルダ１０７（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）の位置決め
部に向けて押さえられ、焦点調整後、接着等により固定
される。

【００３８】レンズホルダ１０７（Ａ，Ｂ，Ｃおよび
Ｄ）にはまた、例えばアルミダイカストまたはプラスッ
チック（例えばＰＰＳ＝ポリフェニレンサルファド）等
によって製造され、半導体レーザ素子１０１（Ａ，Ｂ，
ＣおよびＤ）が所定の位置に固定されたレーザホルダ１
０８（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）が、レンズホルダ１０７
（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）に対して光軸調整された後、例
えばねじおよび接着により固定される。

【００３９】ガルバノミラー１０５Ａ，１０５Ｂ，１０
５Ｃおよび１０５Ｄは、それぞれ、各レーザビームを反
射する方向を任意の方向に微少量変更可能な光路変更装
置、例えばミラー面回動機構付きミラーである。このガ
ルバノミラー１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃおよび１０
５Ｄは、図４を用いて以下に説明するガルバノミラー駆
動回路により、独立に、ミラーの角度が任意の方向に変
化される。

【００４０】偏向前光学系１０２の偏向装置１２３寄り
の光路上には、ガルバノミラー１０５Ａにより反射され
た第１のレーザ素子１０１ＡからのレーザビームＬＡと
ガルバノミラー１０５Ｂにより反射された第２のレーザ
素子１０１ＢからのレーザビームＬＢを、平面方向から
みた状態では１本で副走査方向には所定の間隔を有する
合成レーザビームＬＡ＋ＬＢにまとめる第１のハーフミ
ラー１２０、この第１のハーフミラー１２０によりまと
められたレーザビームＬＡ＋ＬＢにガルバノミラー１０
５Ｃにより反射された第３のレーザ素子１０１Ｃからの
レーザビームＬＣを、平面方向からみた状態では１本で
副走査方向には所定の間隔を有するレーザビームＬ＝Ｌ
Ａ＋ＬＢ＋ＬＣとなるようさらに合成する第２のハーフ
ミラー１２１、この第２のハーフミラー１２１によりま
とめられたレーザビームＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣに、ガルバノ
ミラー１０５Ｄにより反射された第４のレーザ素子１０
１ＤからのレーザビームＬＤを、平面方向からみた状態
では１本で副走査方向には所定の間隔を有するレーザビ
ームＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣ＋ＬＤとなるようにまとめる第３
のハーフミラー１２２、および第３のハーフミラー１２
２により合成されたレーザビームＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣ＋Ｌ
Ｄに、副走査方向に関してさらに収束性を与えるシリン
ダレンズ１２５が、順に設けられている。

【００４１】シリンダレンズ１２５は、図５に示すよう
に、副走査方向に等しい曲率が与えられたポリメチルメ
タクリル（ＰＭＭＡ）等のプラスチック材料により形成
されたプラスチックシリンダレンズ１２５ＰとＴａＳＦ
２１等のガラス材料により形成されたガラスシリンダレ
ンズ１２５Ｇとが、プラスチックレンズ１２５Ｐの出射
面とガラスレンズ１２５Ｇの入射面との間での接着によ
りまたは図示しない位置決め部材に向かって所定の方向
から押圧されることで一体に形成されたものである。こ
の場合、プラスチックレンズ１２５Ｐをガラスレンズ１
２５Ｇに、一体に成型してもよい。

【００４２】シリンダレンズ１２５は、ハウジング１５
０上に設けられた保持部材１２５Ａの位置決め部に勘合
され、図示しない板ばね等でより、有限焦点レンズ１０
３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃおよび１０３Ｄのそれぞれと
正確な間隔となるよう、固定され、さらに、保持部材１
２５Ａがハウジング１５０に固定されることにより、各
有限焦点レンズ１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃおよび１
０３Ｄのそれぞれと正確な間隔で、固定される。なお、
このような固定構造によれば、保持部材１２５Ａを光軸
方向に移動させることにより、副走査方向のレーザビー
ムの焦点位置を調整可能できる。また、シリンダレンズ
１２５のガラスシリンダレンズ１２５Ｇ，プラスチック
シリンダレンズ１２５Ｐを直接光学ハウジングに固定す
る方法とし、それぞれのレンズを光軸方向に調整可能す
ることも可能である。

【００４３】これにより、以下に説明する偏向後光学系
１３０の２枚の結像レンズ１３０Ａ，１３０Ｂにより結
像されるレーザビームの結像位置が温度の変化による屈
折率の変化に関連して大きく変動することを±０．５ｍ
ｍ程度に抑えることができる。すなわち、偏向前光学系
１０２のシリンダレンズ１２５がガラスレンズで偏向後
光学系１３０がプラスチックレンズである従来の光学系
に比較して偏向後光学系１３０のレンズの温度変化によ
る屈折率の変化に起因して発生する副走査方向の色収差
が補正できる。

【００４４】次に、図２に示した露光装置の制御につい
て説明する。図６は、図２に示した露光装置２１の制御
系一例を説明する概略ブロック図である。

【００４５】図６に示されるように、半導体レーザ素子
１０１Ａないし１０１Ｄは、それぞれ、レーザ駆動回路
７１Ａないし７１Ｄにより、所定のタイミングで画像デ
ータに対応して光強度が変化された画像露光ビーム（レ
ーザビーム）ＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤを、放射す
る。なお、それぞれの半導体レーザ素子１０１Ａないし
１０１Ｄは、偏向装置（ポリゴンミラー）１２３の多面
鏡１２３Ａの回転が所定の回転数に達するまでの間は後
段に詳述する予備駆動電流により、レーザビーム出力を
急峻に立ち上げ可能に制御され、偏向装置１２３の図示
しないミラーモータから回転数の安定を示す、例えばＰ
ＬＬ（Ｐｈｅｓｅ Ｌｏｏｐ Ｌｏｃｋ）信号が出力さ
れると、ＣＰＵ６０の制御によりレーザ駆動回路７１Ａ
ないし７１Ｄのそれぞれに所定の制御コマンドが出力さ
れて付勢され、レーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬ
Ｄを放射する。このレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよ
びＬＤは、感光体ドラム２３に所定の表面電位ＳＰが印
加され、現像装置２５の現像ローラに所定の現像バイア
ス電圧が印加され、ポリゴンミラー１２３の各多面鏡１
２３ａの回転角が感光体ドラム２３の所定位置に各レー
ザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤを偏向（走査）可
能である場合には、感光体ドラム２３に静電潜像を書き
込むことのできる光強度を有している。なお、このレー
ザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤは、予めＮＶＭ
（不揮発性メモリ）６２等の記憶素子に記憶されている
回動量に基づいて反射角が独立に設定されたガルバノミ
ラー１０５Ａないし１０５Ｄのそれぞれにより副走査方
向に関して所定の間隔となるように反射されてハーフミ
ラー１２０，１２１および１２２で順に合成され、偏向
装置１２３の多面鏡１２３Ａにより、一括して主走査方
向に走査される。

【００４６】それぞれのレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣ
およびＬＤはまた、ビーム位置検出器１５１に入射する
ことで、ビーム位置検出器１５１から水平同期信号ＨＳ
ＹＮＣを出力させる。すなわち、ビーム位置検出器１５
１に入射したレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤ
のそれぞれに対応して、ＣＰＵ６０に向けて、ビーム位
置検出回路７４から所定のタイミングでビーム検出信号
が出力され、ＣＰＵ６０により、所定のタイミングで水
平同期信号ＨＳＹＮＣが出力される。

【００４７】次に、各レーザ素子から放射されたレーザ
ビームの特性について、詳細に説明する。第１のレーザ
素子１０１ＡからのレーザビームＬＡは、有限焦点レン
ズ１０３Ａにより所定の収束性が与えられ、絞り１０４
Ａにより断面ビーム形状が所定の形状に整形されてガル
バノミラー１０５Ａにより偏向装置１２３の反射面に対
して第１の方向の所定の位置に向けて反射される。この
レーザビームＬＡは、第１のハーフミラー１２０を通過
される。

【００４８】第２のレーザ素子１０１Ｂからのレーザビ
ームＬＢは、有限焦点レンズ１０３Ｂにより所定の収束
性が与えられ、絞り１０４Ｂにより断面ビーム形状が所
定の形状に整形されて、第１のレーザビームＬＡとの間
の副走査方向距離が所定の距離となるようガルバノミラ
ー１０５Ｂで、偏向装置１２３の反射面に向けて反射さ
れる。なお、レーザビームＬＢは、第１のハーフミラー
１２０で反射されて、第１のレーザビームＬＡと合成さ
れる。

【００４９】第３のレーザ素子１０１Ｃからのレーザビ
ームＬＣは、第２のレーザ素子１０１Ｂからのレーザビ
ームＬＢに対して副走査方向に所定のビーム間隔を提供
可能にレーザ素子１０１Ｃを出射され、有限焦点レンズ
１０３Ｃにより所定の収束性が与えられ、絞り１０４Ｃ
により断面ビーム形状が所定の形状に整えられて、ガル
バノミラー１０５Ｃで反射されて第２のハーフミラー１
２１に案内される。ハーフミラー１２１に案内されたレ
ーザビームＬＣは、ハーフミラー１２１で反射され、第
１のハーフミラー１２０で合成されたレーザビームＬＡ
＋ＬＢに、さらに合成される。

【００５０】第４のレーザ素子１０１Ｄからのレーザビ
ームＬＤは、第３のレーザ素子１０１Ｃからのレーザビ
ームＬＣに対して副走査方向に所定のビーム間隔を提供
可能にレーザ素子１０１Ｄを出射され、有限焦点レンズ
１０３Ｄにより所定の収束性が与えられ、絞り１０４Ｄ
により断面ビーム形状が所定の形状に整えられて、ガル
バノミラー１０５Ｄで反射されて第３のハーフミラー１
２２に案内される。このハーフミラー１２２に案内され
たレーザビームＬＤは、ハーフミラー１２２で反射さ
れ、第２のハーフミラー１２１で合成されたレーザビー
ムＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣに、さらに合成される。

【００５１】このようにして、平面方向からみた状態で
は１本で副走査方向には所定の間隔を有するレーザビー
ムＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣ＋ＬＤが偏向前光学系１０２により
合成され、シリンダレンズ１２５により、副走査方向に
関してのみさらに収束性が与えられて、偏向装置１２３
の反射面に向けて出射される。

【００５２】このようにして、平面方向からみた状態で
は１本で、副走査方向に関してのみ所定の間隔が与えら
れた４本のレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤ
は、偏向装置１２３により、同時に偏向（走査）され、
感光体ドラム２３の所定の位置に結像される。従って、
通常の１ライン露光の露光装置に比較して、偏向装置１
２３の反射面の面数および回転数が同一である場合に、
副走査方向については４倍の速度で画像を記録できる。

【００５３】偏向装置１２３は、例えば８面の平面反射
鏡（反射面）が正多角形に配置された多面鏡本体１２３
Ａと、多面鏡本体１２３Ａを主走査方向（第２の方向）
に、所定の速度で回転させる図示しないモータとを有し
ている。

【００５４】偏向装置１２３と像面すなわち感光体ドラ
ム２３の外周の露光位置Ｘに対応する位置であって設計
上の焦平面との間には、偏向装置１２３の各反射面によ
り所定の方向に偏向（走査）されたレーザビームＬＡ＋
ＬＢ＋ＬＣ＋ＬＤに、所定の光学特性を与える第１およ
び第２の結像レンズ１３０Ａおよび１３０Ｂからなる２
枚組みレンズと、各レーザビームを一括して露光位置Ｘ
に向けて出射する出射ミラー１３１を含む偏向後光学系
１３０、偏向後光学系１３０の第２の結像レンズ１３０
Ｂを出射されたそれぞれのレーザビームＬＡ，ＬＢ，Ｌ
ＣおよびＬＤが、画像が書き込まれる領域より前の所定
の位置に到達したこと（通過タイミング）およびその位
置を検知するためのビーム位置検出器１５１、および偏
向後光学系１３０の第２レンズ１３０Ｂとビーム位置検
出器１５１との間に配置され、第２レンズ１３０Ｂを通
過された４本のレーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬ
Ｄの一部をビーム位置検出器１５１に向かって反射させ
る折り返しミラー１５２、およびマルチビーム露光装置
２１とプリンタ部２０を気密する防塵ガラス１５３等が
配列されている。

【００５５】なお、ビーム位置検出器１５１は、図７を
用いて後段に詳述する受光面が感光体ドラム２３の外周
の位置と光学的に同等距離となる等価像面であって、感
光体ドラム２３の端部近傍に対応する位置に配置されて
いる。

【００５６】次に、ガルバノミラーについて詳細に説明
する。図４は、ガルバノミラーの斜視図である。ミラー
１６０は、微小角度変位可能に、弾性支持体により弾性
的に支持されている。弾性支持体は、ミラー１６０を支
持する支持面とフレームとしてのヨーク１６１との接続
に利用される保持面と支持面および保持面のそれぞれを
連結する２つのねじれ変形部（捩ればね部）を有する板
バネ１６２に接着されている。すなわち、ミラー１６０
は、板ばね１６２の捩ればね部が所定の方向に捩れるこ
とにより、矢印Ｒ方向に回転可能である。なお、ミラー
１６０の反射面すなわち蒸着面は、板バネ１６２により
指示される側と反対側に規定されている。

【００５７】これに対して、ガルバノミラー１０５Ａ，
１０５Ｂ，１０５Ｃおよび１０５Ｄは、それぞれ、副走
査方向と直交し、主走査方向を含む面において主走査方
向の軸線を回転軸として反射面の角度が微小に変更可能
であり、各レーザ素子１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃお
よび１０１Ｄから偏向装置１２３に案内されるレーザビ
ームＬすなわち上述したＬＡ＋ＬＢ＋ＬＣ＋ＬＤ相互間
の副走査方向間隔を、自在に設定できる。すなわち、第
１のレーザ素子１０１Ａから偏向装置１２３に案内され
るレーザビームＬＡの副走査方向位置を第１のガルバノ
ミラー１０５Ａにより設定し、このレーザビームＬＡを
基準として、第２ないし第４のレーザビームＬＢ，ＬＣ
およびＬＤのそれぞれの副走査方向間隔を、第２ないし
第４のガルバノミラー１０５Ｂ，１０Ｃおよび１０５Ｄ
のミラーの角度を調整することにより最適に設定するこ
とができる。

【００５８】詳細には、露光装置２１の解像度すなわち
印字密度が６００ＤＰＩ（ドット・パー・インチ）であ
るから、感光体２３上での１ドットの直径は、４２．３
μｍとなり、第１のレーザビームＬＡと第２のレーザビ
ームＬＢとの像面上の間隔が４２．３μｍ、同様にレー
ザビームＬＡとＬＣとの間の間隔が８４．６μｍ、また
レーザビームＬＡとレーザビームＬＤとの間隔が１２
６．９μｍとなるように、ガルバノミラー１０５Ｂ，１
０５Ｃおよび１０５Ｄのミラーの角度が設定される。

【００５９】各ガルバノミラー１０５Ｂ，１０５Ｃおよ
び１０５Ｄのミラー１６０の角度は、ビーム位置光検出
器（ポジションセンサ）１５１に、レーザビームＬＡ＋
ＬＢ＋ＬＣ＋ＬＤが入射された位置を検出することによ
り、以下に示すように、容易に整合される。

【００６０】ポジションセンサ１５１は、図７に示すよ
うに、副走査方向に、約４２．３μｍの間隔で配置され
た４つの受光領域を有している。なお、それぞれの受光
領域は、副走査方向の中央で２分割されるとともに、主
走査方向に所定の間隔が与えられて、配置されている。

【００６１】レーザビームＬＡがポジションセンサ１５
１上を通過すると、センサ１５１は、図８に示すよう
に、各レーザビームＬＡ，ＬＢ，ＬＣおよびＬＤのビー
ム断面が２分割された領域の中央を通過したか、いづれ
かの領域に偏って通過したかを、検知する。従って、各
レーザビームの断面が各検出領域の中央を通過するよ
う、ガルバノミラー１０５のミラー１６０の角度を設定
すればよい。すなわち、第１のレーザビームＬＡをセン
サ１５１の第１の受光領域の２つの領域のそれぞれで検
出して得られた出力信号の差が「０」となるよう、ガル
バノミラー１０５Ａのミラー１６０の角度を設定し、第
１のレーザビームＬＡを基準として、レーザビームＬＢ
に関し、ガルバノミラー１０５Ｂのミラー１６０Ｂの角
度を、レーザビームＬＣに関し、ガルバノミラー１０５
Ｃのミラー１６０Ｃの角度をおよびレーザビームＬＤに
関し、ガルバノミラー１０５Ｄのミラー１６０Ｄの角度
を、それぞれ、設定すればよい。なお、水平同期信号
は、基準となるレーザビームＬＡを第１の受光領域で受
光したタイミングで出力され、残りのレーザビームＬ
Ｂ，ＬＣおよびＬＤの水平同期信号は、レーザビームＬ
Ａから所定時間経過後に出力される。

【００６２】また、ポジションセンサ１５１に設けられ
る受光領域の個数および副走査方向間隔は、露光装置２
１内に組み込まれる半導体レーザ素子の個数Ｎと、露光
装置２１（画像形成装置１）に要求される解像度に基づ
いて任意に設定されることはいうまでもない。

【００６３】例えば、要求される解像度が４００ＤＰＩ
であるならば、上述した受光領域の副走査方向の間隔
は、６３．５μｍとなる。すなわち、印字密度をＩ、レ
ーザビームの本数（半導体レーザ素子の個数）をＮとす
ると、センサ１５１内に設けられなければならない受光
領域の個数は、Ｎ個、受光領域の間隔は、２５．４／Ｉ
ｍｍとなる。

【００６４】なお、ポジションセンサ１５１は、基板１
５１Ａにより、主走査方向および副走査方向のそれぞれ
に微動可能に配置され、基板１５１Ａの位置を調整する
ことにより、最適な位置に固定できる。

【００６５】次に、ハーフミラー１２０，１２１および
１２２について説明する。ハーフミラー１２０，１２１
および１２２は、基準となる偏向前光学系１０２Ａの光
路ＯＡに、他の３つの光路を通るレーザビームを合成す
るために利用されるもので、偏向前光学系１０２Ａの光
路中（すなわち、光源１０１Ａと偏向装置１２３との
間）に配置される。また、Ｎ個の光源（半導体レーザ素
子）を含む露光装置においては、ハーフミラーの必要数
は、Ｎ−１である。

【００６６】そして、ｍ番目（１ ≦ ｍ ≦ Ｎ−
１）のハーフミラーの透過率をＴ_m ，反射率をＲ_m とし
たときのハーフミラーによる減衰は、基準となる偏向前
光学系（例えば１０２Ａ）のハーフミラーにおいて（Ｔ
で示す）、 Ｔ＝Ｔ₁ ×Ｔ₂ ×Ｔ₃ ×・・・×Ｔ_N-1 …（１） ｍ番目の光源のハーフミラーにおいて（Ｔ_m で示す）、 Ｔ_m ＝Ｒ_m ×Ｔ_m+1 ×Ｔ_m+2 ×・・・×Ｔ_N-1 …（２） （ｍ−Ｎ＝０のとき、以降の項は、なしとする）と表さ
れる。

【００６７】（１）式および（２）式から、 Ｔ＝Ｔ_m …（３） となるように、各ハーフミラーの減衰率および透過率を
選定する。

【００６８】こうすることにより、光源１０１のレーザ
パワー（駆動）制御は、Ｎ個の光源のいずれも同様とす
ることができ、レーザ駆動回路の制御部あるいは制御ソ
フトをＮ個とも共通にできるメリットが生じる。

【００６９】なお、基準光学系１０２Ａは、 Ｔ＝Ｔ₁ ×Ｔ₂ ×Ｔ₃ …（４） 偏向前光学系１０２Ｂは、 Ｔ_B ＝Ｒ₁ ×Ｔ₂ ×Ｔ₃ …（５） 偏向前光学系１０２Ｃは、 Ｔ_C ＝Ｒ₂ ×Ｔ₃ …（６） 偏向前光学系１０１Ｄは、 Ｔ_D ＝Ｒ₃ …（７） であるから、（４）式ないし（７）式より、 Ｔ＝Ｔ_B ＝Ｔ_C ＝Ｔ_D ＝１／４ が必要である。

【００７０】従って、 Ｒ₁ ＝Ｔ₁ 、 Ｒ₂ ＝Ｒ₁ ×Ｔ₂ ＝Ｔ₁ ×Ｔ₂ 、 Ｒ₃ ＝Ｒ₂ ×Ｔ₃ ＝Ｔ₁ ×Ｔ₂ ×Ｔ₃ 、 となる。

【００７１】ここで、図２に示した露光装置において
は、 Ｔ₁ ＝１／２、Ｒ₁ ＝１／２、（ハーフミラー１２０） Ｔ₂ ＝２／３、Ｒ₂ ＝１／３、（ハーフミラー１２１） Ｔ₃ ＝３／４、Ｒ₃ ＝１／４、（ハーフミラー１２２） と設定すると、（４）式ないし（７）式から、 Ｔ＝Ｔ_B ＝Ｔ_C ＝Ｔ_D ＝１／４ が満足され、それぞれのハーフミラー１２０，１２１お
よび１２２による減衰量Ｔは、すべて同じとなる。

【００７２】本実施例では、ハーフミラーの挿入枚数Ｎ
を（３）式のように限定しているが、これに限ることな
く、偏向装置１２３と光源１０１との間に配置される光
学素子が全て反射または透過であっても、偏向装置１２
３の多面鏡１２３Ａ上でいずれかの光源から発せられた
レーザビームパワーが同じ値を取るとき、光源の制御は
同一となる。

【００７３】具体的に説明すると、偏向前光学系１０２
Ｄのレーザ素子１０１Ｄにより放射されたレーザビーム
ＬＤについて説明すると、ハーフミラー１２２により、
出力光量の１／４が反射されて偏向装置１２３に案内さ
れるが、残りの３／４は、ハーフミラー１２２を通過し
てハウジング１５０内に放射される。その光量は、半導
体レーザに出力３０ｍＷのレーザ素子を使用し、２５ｍ
Ｗで発光させたとして、約１８．７５ｍＷ（反射して偏
向装置１２３に向かう光量は６．２５ｍＷ）に達する。

【００７４】同様に、偏向前光学系１０２Ｃのレーザ素
子１０１Ｃにより放射され、ハーフミラー１２１で反射
されて、ハーフミラー１２２へ向かうレーザビームＬＣ
は、ハーフミラー１２２を通過してレーザビームＬＤと
副走査方向に所定の間隔で、偏向装置１２３に案内され
るパワーが６．２５ｍＷで、ハーフミラー１２２で反射
される分が約２．０８ｍＷとなるような、レーザパワー
であり、出力３０ｍＷのレーザ素子を使用し、２５ｍＷ
で発光させたとして、１７．６７ｍＷのレーザビームが
ハーフミラー１２１を通過してハウジング内に放射され
ることになる。

【００７５】また、偏向前光学系１０２Ｂのレーザ素子
１０１Ｂを放射され、ハーフミラー１２０で反射され
て、ハーフミラー１２１へ向かうレーザビームＬＢは、
ハーフミラー１２１を通過すべきレーザパワーとして、
８．３３ｍＷが要求され、反射によりハウジング１５０
内に放射される分のパワーが４．１７ｍＷであるから、
出力３０ｍＷのレーザ素子を使用し、２５ｍＷで発光さ
せたとしてハーフミラー１２０で反射されるレーザパワ
ーは、１２．５ｍＷとなる。このことは、同時に、ハー
フミラー１２０は、レーザ素子１０１Ａからのレーザビ
ームＬＡについても１／２を通過し、１／２を反射させ
るものであることを示している。

【００７６】このことから、ハーフミラー１２０の透過
率Ｔ₁ を、５０％（１／２）、反射率Ｒ₁ を５０％（１
／２）、ハーフミラー１２１の透過率Ｔ₂ を、６６．７
％（２／３）、反射率Ｒ₂ を３３．３％（１／３）、ハ
ーフミラー１２２の透過率Ｔ₃ を、７５％（３／４）、
反射率Ｒ₃ を２５％（１／４）とすることで、それぞれ
のレーザ素子１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０
１Ｄのそれぞれに定格出力が同一の素子を利用可能と
し、結果として、それぞれのレーザ素子を駆動するため
の駆動回路も共通の回路を利用できる。

【００７７】なお、この発明の実施の形態では、ハーフ
ミラーの挿入枚数を（３）式のように定義しているが、
これに限ることなく、偏向装置１２３の反射面に案内さ
れる過程が全てのハーフミラーで反射される場合であっ
ても、偏向装置１２３の反射面におけるレーザビームの
パワーが同一値となるように偏向前光学系を設計するこ
とで、複数の光源（レーザ素子）を同一の制御により駆
動できる。

【００７８】このとき、反射率および透過率を変化した
複数種類のハーフミラー１２０，１２１および１２２を
使用するので、製造工程における何らかの識別方法が必
要となる。

【００７９】このことから、例えば図９に示すように、
各ハーフミラー１２０，１２１および１２２の使用領域
外に、ケガキ線のようなラインをガラスカット時に同時
加工する。なお、例えばケガキ線の位置に所定の規則性
（図９に示すように、例えば副走査方向から見た状態
で、ハーフミラー１２０とその反射面を示すケガキ線１
２０Ａがベース面から最も高い位置となるように、ハー
フミラー１２２とその反射面を示すケガキ線１２２Ａが
ベース面から最も低い位置となるように、従って、ハー
フミラー１２１とその反射面を示すケガキ線１２１Ａ
が、両者の中間に位置する）を与えることにより、ハー
フミラー１２０，１２１および１２２の種類（配列順
序）を、組立状態で、容易に確認できる。また、反射面
と透過面の区別も同一行程により可能となる。

【００８０】一方、ハーフミラー１２０，１２１および
１２２は、上述したように偏向装置１２３の反射面にお
ける各レーザビームの光強度を同一とするため、余分な
レーザビームを、ハウジング１５０内に放射している。
すなわち、偏向装置１２３に向けて案内されなかった分
のレーザビームは、ハウジング内で乱反射する可能性が
ある。

【００８１】このハーフミラー１２２を通過したレーザ
ビームが迷光となって感光体ドラムに案内された場合に
は、画像に悪影響を及ぼすことになる。これを防止する
ために、迷光防止壁１７０、１７１および１７２が設け
られている。

【００８２】この迷光防止壁１７０、１７１および１７
２は、それぞれハウジング１５０と一体に、ハウジング
１５０の法線に対し、３゜以上の角度となるよう形成さ
れる。なお、この迷光防止壁１７０、１７１および１７
２とハウジング１５０の法線とのなす角度は、ハウジン
グ１５０が樹脂により形成される場合に必要となる抜き
勾配に一致されてもよい。

【００８３】次に、各レーザ素子１０１Ａ，１０１Ｂ，
１０１Ｃおよび１０１Ｄの発光制御について説明する。
既に説明したように、各半導体レーザ素子１０１Ａ，１
０１Ｂ，１０１Ｃおよび１０１Ｄは、発光波長λがλ＝
６８０ｎｍのレーザ素子である。

【００８４】このレーザを用いた場合、図６に示したレ
ーザ駆動回路７１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）からのレーザ
オン信号に対し、図１０（Ａ）に示すように、出力レー
ザビームの立ち上がり波形が鈍ってしまう。

【００８５】このため、レーザビームにより形成される
ドット毎の潜像の電位が低くなり、これを現像して得ら
れる画像濃度が不十分となる問題がある。これに対し、
従来から利用されている発光波長λ＝７８０ｎｍの近赤
外レーザ素子の場合、図１０（Ｂ）に示すように、駆動
回路７１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）からのレーザオン信号
に対する出力レーザビームの立ち上がりが早いことが認
められる。

【００８６】このことは、従来から利用されている近赤
外半導体レーザ素子と、この発明の実施の形態に利用す
る半導体レーザ素子のレーザ出力の立ち上がり特性の差
異によるものであることが認められる。すなわち、発光
波長λがλ＝６８０ｎｍであるこの発明の実施の形態に
利用する半導体レーザ素子を従来の発光波長λがλ＝７
８０ｎｍの半導体レーザ素子と同一の駆動タイミングで
駆動することにより、上述した立ち上がり波形が鈍るこ
とが認められる。

【００８７】このため、レーザオフ時の駆動電流すなわ
ち予備電流の大きさをレーザビームの発光が開始される
しきい値あるいはその近傍の大きさとし、レーザオン時
に、そのまま駆動電流を増大する（図１１（Ａ））こと
により、図１１（Ｂ）に示すように、レーザ出力の立ち
上がりが早くなることが確認されている。

【００８８】このように、出力レーザビームの波長λが
λ＝６８０ｎｍの半導体レーザ素子に対して、予備電流
の大きさを、しきい値と同等かその近傍の大きさとする
ことで、画像濃度に影響を与えない潜像を形成可能とな
る。これにより、潜像を現像して得られる画像濃度を、
波長λ＝７８０ｎｍのレーザ素子を用いる場合に比較し
て差異のない濃度とすることができる。

【００８９】しかしながら、レーザオフ時の駆動電流の
大きさをしきい値またはその近傍に高めると、半導体レ
ーザ素子のばらつきあるいは温度の変化によっては、レ
ーザ出力が立ち上がる素子が存在する。

【００９０】レーザオフ時にもかかわらず発光したレー
ザビームは、感光体ドラム２３に、潜像を形成してしま
うことになる。この場合、発光出力が定格値あるいは中
間調画像の濃度に達することは少ないものの、例えば感
光体ドラム２３の非画像部の表面電位が約−６００Ｖで
ある場合に、−５５０Ｖから−５００Ｖに変化されるこ
とにより、非画像部に地肌かぶりが生じる問題がある。

【００９１】この非画像部の地肌かぶりは、感光体ドラ
ム２３の表面に案内されるレーザビームの光強度を所定
値より低減することで容易に減少される。また、レーザ
ビームの光強度を低減する方法としては、例えば感光体
ドラム２３に対して露光装置２１からのレーザビームを
出射するミラー１３１を、反射効率を低減した減反射ミ
ラーとする方法、防塵ガラス１３２に、減反射コーティ
ングを施す方法、偏向後光学系１３０の第１または第２
の結像レンズ１３０Ａまたは１３０Ｂのいづれかまたは
それぞれのレンズ面に、減反射コーティングを施す方
法、光源である半導体レーザ素子１０１（Ａ，Ｂ，Ｃお
よびＤ）と偏向装置１２３との間の任意の位置に、減反
射コートしたミラーもしくはガラスあるいはハーフミラ
ーもしくはＮＤフィルタ等を配置することにより、提供
される。

【００９２】この場合、減反射コートしたミラーあるい
はハーフミラーまたはＮＤフィルタ等を配置する位置に
ついて考察する。上述したように、上記光学素子は、感
光体ドラム２３と光源１０１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）と
の間の任意の位置に配置可能であるが、好ましくは、光
源１０１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）と偏向装置１２３との
間に配置される。すなわち、偏向後光学系１３０の第１
および第２の結像レンズ１３０Ａ，１３０Ｂ，防塵ガラ
ス１３２およびミラー１３１のいづれかに減反射コーテ
ィングを施す場合、偏向装置の反射面の振り角によって
反射率が異なるために、減反射コーティングに、振り角
に応じた減反射率の特性を与える必要が生じる。このこ
とは、減反射コーティングのコストを増大することに他
ならない。特に、レンズに減反射コーティングを施すこ
とは、非常にコストを増大させることから、できる限り
さけることが好ましい。

【００９３】このことから、減反射コーティングもしく
はハーフミラー等は、上述のように、光源１０１（Ａ，
Ｂ，ＣおよびＤ）と偏向装置１２３との間に挿入され
る。なお、この発明の実施の形態においては、既に説明
したように、ハーフミラー１２０，１２１および１２２
が利用されていることから、新たにミラーもしくはガラ
ス等を配置するよりも、各ハーフミラーの透過率と反射
率を最適化することがこのましい。すなわち、シリンダ
レンズや有限焦点レンズに減反射コーティングを施すこ
とは、非常にコストを増大させることから、できる限り
さけるべきである。

【００９４】なお、上述した露光装置２１においては、
ハーフミラー１２０，１２１および１２２により、各レ
ーザ素子１０１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）から放射された
レーザビームの光強度は、５％程度まで減少されている
ことから、特に、専用の光強度減衰ミラー等を配置する
必要はない。

【００９５】すなわち、上述したように、各半導体レー
ザ素子を定格出力の近傍で駆動する（発光させる）ため
に、設けたハーフミラー１２０，１２１および１２２に
より、レーザ素子の予備駆動電流の大きさをしきい値ま
たはその近傍とするレーザ素子の制御によって生じるこ
とのある感光体ドラム２３の非画像部の地肌かぶりは、
都合よく打ち消される。

【００９６】以上説明したように、各光源すなわち第１
ないし第４のレーザ素子１０１Ａないし１０１Ｄを、そ
れぞれ定格に近いレーザパワーを出力するように制御
し、偏向装置１２３までの間で、ハーフミラー等によ
り、偏向装置１２３の反射面に案内される各レーザビー
ムの光強度を所定値に制御することで、迷光となり得る
レーザビームが偏向後光学系２１に入射される程度を減
少させることができる。なお、図２ないし図９に示した
４ビーム露光装置２１の半導体レーザ素子のレーザパワ
ーＷを計算すると、光学系の総合効率ζは、（ハーフミ
ラー１２０，１２１および１２２により１／４に減衰さ
れて）約５％であるので、像面でのパワーをｌ．４ｍＷ
とすると、半導体レーザ素子の出力は、Ｗ＝２８ｍＷと
なる。レーザ素子の定格出力は、３０ｍＷのレーザ素子
であるから、定格電流値に近接した駆動電流で駆動され
ていることが認められる。

【００９７】図１２は、図２に示した露光装置を図１に
示したデジタル複写装置とは異なるカラープリンタ装置
に適用可能とする別の露光装置の一例を示す概略平面図
である。なお、図２に示した構成と同一の構成について
は、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。

【００９８】図１２に示す露光装置２２１は、イエロー
（黄、以下Ｙで示す）、マゼンタ（深紅、以下Ｍで示
す）およびシアン（青紫、以下Ｃで示す）の色分解され
た色成分に対応するレーザビームＬＹ，ＬＭおよびＬＣ
を放射する第１ないし第３の半導体レーザ素子２０１
Ｙ，２０１Ｍおよび２０１Ｃと、黒の補充に利用される
ブラック（黒、以下Ｂで示す）に対応するレーザビーム
ＬＢを放射する第４の半導体レーザ素子２０１Ｂを有し
ている。

【００９９】第１ないし第４の半導体レーザ素子２０１
Ｙ，２０１Ｍ，２０１Ｃおよび２０１Ｂから放射された
それぞれのレーザビームＬＢ，ＬＹ，ＬＭおよびＬＣ
は、それぞれ、対応して設けられる有限焦点レンズ２０
３Ｙ，２０３Ｍ，２０３Ｃおよび２０３Ｂにより所定の
収束性が与えられ、それぞれの有限焦点レンズと組み合
わせられている絞り２０４Ｙ，２０４Ｍ，２０４Ｃ，２
０４Ｂで所定の断面形状が与えられた後、それぞれ、ガ
ルバノミラー２０５Ｙ，２０５Ｍ，２０５Ｃ，２０５Ｂ
により副走査方向に所定の間隔となるよう折り曲げられ
て、偏向装置１２３に案内される。

【０１００】なお、それぞれのレーザビームＬＢ，Ｌ
Ｙ，ＬＭおよびＬＣは、図２に示したと同様に、ハーフ
ミラー１２０，１２１および１２２により、主走査方向
から見た状態で１本に、副走査方向から見た状態で所定
の間隔の４本になるよう、合成される。

【０１０１】すなわち、ガルバノミラー２０５Ｂで反射
されて偏向装置１２３に案内されるレーザビームＬＢ
に、ハーフミラー１２０によりレーザビームＬＹが合成
され、合成されたレーザビームＬＢ＋ＬＹに、ハーフミ
ラー１２１によりレーザビームＬＭが合成され、ハーフ
ミラー１２２により、レーザビームＬＢ＋ＬＹ＋ＬＭ
に、レーザビームＬＣが合成される。なお、ハーフミラ
ー１２０，１２１および１２２の透過および反射の割合
は、図２に示した露光装置と実質的に同一であるから、
詳細な説明は省略する。また、各半導体レーザ素子２０
１Ｙ，２０１Ｍ，２０１Ｃおよび２０１Ｂから放射され
るレーザビームのパワーは、図２を用いて説明したと同
様に、概ね等しく制御される。

【０１０２】レーザビームＬＢ＋ＬＹ＋ＬＭ＋ＬＣは、
以下、偏向装置１２３の多面鏡１２３Ａにより、一括し
て主走査方向に走査される。偏向装置１２３により走査
されたレーザビームＬＢ＋ＬＹ＋ＬＭ＋ＬＣは、第１，
第２の結像レンズ１３０ａ，１３０ｂにより、偏向装置
１２３の多面鏡１２３Ａで反射された位置に比較して副
走査方向の間隔が広げられるとともに、偏向装置１２３
の多面鏡１２３Ａの回転量と結像位置での主走査方向距
離とが比例するよう所定の結像特性が与えられて、図１
３に示すような、４組の画像形成部３５０Ｙ，３５０
Ｍ，３５０Ｃおよび３５０Ｂに対して、ミラー３３３
Ｂ，３３３Ｙ，３３５Ｙ，３３７Ｙ，３３３Ｍ，３３５
Ｍ，３３７Ｍ，３３３Ｃ，３３５Ｃおよび３３７Ｃによ
り案内される。

【０１０３】偏向装置１２３により走査されたレーザビ
ームＬの一部は、折り返しミラー１５でビーム位置検出
器１５１に向けて反射され、ビーム位置検出器１５１に
案内される。

【０１０４】ビーム位置検出器１５１に入射したレーザ
ビームＬＢは、検出器１５１により光電変換され、図６
に示したと同様に構成された図示しない信号処理部（制
御回路）において、所定のタイミング（レーザビームの
検知から画像信号発生までの時間ｔ）経過後に、第１の
レーザビームＬＢを画像信号で変調する画像開始位置の
基準となる水平同期信号ＨＳＹＮＣの出力に利用され
る。

【０１０５】以下、図１３に示したカラー画像形成装置
においては、各画像形成部３５０Ｂ，３５０Ｙ，３５０
Ｍおよび３５０Ｃの感光体ドラム３５８Ｂ，３５８Ｙ，
３５８Ｍおよび３５８Ｃのそれぞれに、図示しない画像
メモリからの画像データに対応して強度変調された第１
ないし第４の記録レーザビームＬＢ，ＬＹ，ＬＭおよび
ＬＣが、上述した露光装置３２１のミラー３３３Ｂ，３
３３Ｙ，３３５Ｙ，３３７Ｙ，３３３Ｍ，３３５Ｍ，３
３７Ｍ，３３３Ｃ，３３５Ｃおよび３３７Ｃを経由し
て、順次照射される。

【０１０６】これにより、それぞれの感光体ドラム３５
８Ｂ，３５８Ｙ，３５８Ｍおよび３５８Ｃに対応して配
置されている帯電装置３６０Ｂ，３６０Ｙ，３６０Ｍお
よび３６０Ｃにより予め所定の表面電位に帯電されてい
る各感光体ドラムに、静電像が形成され、それぞれの感
光体ドラムに対応して配置されている現像装置３６２
Ｂ，３６２Ｙ，３６２Ｍおよび３６２Ｃからトナーが供
給されて、各感光体ドラム上に、あわせて４色のトナー
像が形成される。

【０１０７】各感光体ドラム３５８Ｂ，３５８Ｙ，３５
８Ｍおよび３５８Ｃに形成された４色のトナー像は、カ
セット３７０から給紙ローラ３７２により引き出され、
レジストローラ３７４で、ビーム位置検出器１５１によ
り検知されたそれぞれのレーザビームに基づいて生成さ
れた水平同期信号ＨＳＹＮＣに対してタイミングが整合
されて吸着ローラ３７６により搬送ベルト３５２の所定
の位置にセットされて搬送される用紙Ｐに、各感光体ド
ラムに対して搬送ベルト３５２の反対側から接触される
転写ローラ３６４Ｂ，３６４Ｙ，３６４Ｍおよび３６４
Ｃにより、Ｙトナー像，Ｍトナー像，Ｃトナー像および
Ｂトナー像の順に重ね合わせ出力に利用される。

【０１０８】用紙Ｐに転写された４色のトナー像は、定
着装置３７８により、用紙Ｐに定着される。一方、各感
光体ドラム３５８Ｂ，３５８Ｙ，３５８Ｍおよび３５８
Ｃに残った転写残りトナーは、クリーニング装置３６６
Ｂ，３６６Ｙ，３６６Ｍおよび３６６Ｃにより除去され
る。また、各感光体ドラム３５８Ｂ，３５８Ｙ，３５８
Ｍおよび３５８Ｃに残った残留電荷が消去される。

【０１０９】以下は、図２に示した露光装置の変形例を
示す概略図である。図１４は、光源が２個である２ビー
ム露光装置の一例を示す概略平面図である。

【０１１０】図１４に示されるように、２ビーム露光装
置４２１は、第１の光源としての半導体レーザ素子４０
１Ａおよび第２の光源としての半導体レーザ素子４０１
Ｂを有している。

【０１１１】それぞれの光源４０１（ＡおよびＢ）は、
図３および図５を用いて既に説明したと同様に、発光ユ
ニット４１０（ＡおよびＢ）として、一体に組み立てら
れ、それぞれ、有限焦点レンズ４０３Ａおよび絞り４０
４Ａ，同４０３Ｂおよび４０４Ｂを保持するレンズホル
ダ４０７（ＡおよびＢ）に、レーザホルダ４０８（Ａお
よびＢ）により、固定されている。なお、シリンダレン
ズ１２５以降の光学要素は、ビーム位置検出器４５１が
少なくとも２つの受光領域を有する検出器に置き換えら
れ、迷光防止壁４７０が１個に変更されているのみで、
図２ないし図９を用いて既に説明した４ビーム露光装置
２１に、実質的に準じるものであるから、詳細な説明は
省略する。

【０１１２】それぞれの光源４０１Ａおよび４０１Ｂを
出射されたレーザビームＬＡおよびＬＢは、ガルバノミ
ラー４０５Ａおよび４０５Ｂにより、平面からみた状態
では１本に、副走査方向には所定の間隔となるよう、Ｎ
−１により定義されるハーフミラー４２０に案内され
る。

【０１１３】ハーフミラー４２０は、既に説明したハー
フミラー１２０と同様に機能するもので、ガルバノミラ
ー４０５Ａにより案内された反射された第１の光源４０
１ＡからのレーザビームＬＡの５０％（１／２）を透過
し、５０％（１／２）を反射する。また、ハーフミラー
４２０は、ガルバノミラー４０５Ｂにより反射された第
２の光源４０１ＢからのレーザビームＬＢの５０％（１
／２）を反射し、５０％（１／２）を透過する。これ
は、前述の（１）式ないし（３）式を満たしていること
がわかる。

【０１１４】これにより、図１に示したデジタル複写装
置の感光体ドラム２３に案内された時点でのそれぞれの
レーザビームＬＡおよびＬＢの光強度（レーザパワー）
は、概ね同一となり、各レーザ素子は、同一の駆動回路
による発光制御が可能となる。このとき、それぞれのレ
ーザ素子は、定格出力に近い出力のレーザビームを放射
するよう、駆動されるとともに、しきい値またはその近
傍の大きさの予備駆動電流により待機状態に維持され
る。従って、レーザ駆動回路によりレーザオン信号が出
力された時点で、画像濃度に影響を与えない立ち上がり
特性を示す。なお、図１４に示した２ビーム露光装置４
２１の半導体レーザ素子のレーザパワーＷを計算する
と、光学系の総合効率ζは、（ハーフミラー４２０によ
り１／２に減衰されて）約１０％であるので、像面での
パワーを０．７Ｗとすると、半導体レーザ素子は、Ｗ＝
７ｍＷ発光していることになり、レーザ素子の定格出力
が１０ｍＷである場合、定格出力に近い駆動電流で駆動
されていることがわかる。もし、像面でのパワーが０．
２５ｍＷでよい場合は、レーザ素子の発光パワーは、Ｗ
＝２．５ｍＷとなるため、必要に応じて、ハーフミラー
１２２と偏向器１２３の間に、例えば透過１／３・反射
２／３のハーフミラーあるいは５０％透過のＮＤフィル
タを追加すればよい。

【０１１５】図１５は、光源が１個である露光装置の一
例を示す概略平面図である。図１５に示されるように、
露光装置５２１は、光源としてのレーザ素子５０１を有
している。

【０１１６】光源５０１は、図３および図５を用いて既
に説明したと同様に、発光ユニット５１０として、一体
に組み立てられ、有限焦点レンズ５０３および絞り５０
４を保持するレンズホルダ５０７に、レーザホルダ５０
８により、固定されている。

【０１１７】光源５０１を出射されたレーザビームＬ
は、固定ミラー５０５により、シリンダレンズ１２５の
所定位置に向けて反射される。シリンダレンズ１２５に
入射されたレーザビームＬは、副走査方向に、僅かに収
束されて、偏向装置１２３の各反射面に案内される。

【０１１８】偏向装置１２３により所定速度で偏向（走
査）されたレーザビームＬは、偏向後光学系１３０の第
１および第２の結像レンズ１３０Ａ，１３０Ｂにより感
光体ドラム２３の所定の位置に、偏向装置の反射面の回
転角（振り角）と偏向装置の反射面の回転角が０゜のと
きに感光体ドラム２３にレーザビームが到達する位置と
が比例するよう、偏向装置の反射面の回転角に対応する
収束距離が与えられて、感光体ドラム２３に概ね直線状
に結像される。

【０１１９】第１および第２の結像レンズ１３０Ａ，１
３０Ｂを通過したレーザビームＬの一部は、ミラー１５
２により折り曲げられ、等価像面に位置された光検出器
５５１の受光面に、所定のタイミングで入射される。な
お、感光体ドラム２３に向けてレーザビームＬを出射す
るミラー５３１および防塵ガラス５３２には、レーザビ
ームＬの光強度（レーザパワー）を、合計して、３０な
いし７０％減衰する減反射コーティングおよびフィルタ
加工（例えばＮＤフィルタに準じた透過率が与えられ
る）が施されている。この防塵ガラス５３２およびミラ
ー５３１のフィルタ加工および減反射コーティングによ
り、レーザ素子は、定格出力に近い出力のレーザビーム
を放射するよう、駆動されるとともに、しきい値または
その近傍の大きさの予備駆動電流により待機状態に維持
される。

【０１２０】以上説明したように、レーザオフ時の駆動
電流をしきい値付近まで高めることにより、レーザオン
時の発光波形の鈍りを低減することで、画像濃度が不所
望に低下することを防止できる。

【０１２１】また、ハーフミラー（ガラスをフィルタ
化）もしくはＮＤフィルタを利用することにより、レー
ザオフ時にレーザ素子が発光することで生じるレーザビ
ームにより非画像部にかぶりが生じることを防止でき
る。

【０１２２】さらに、複数のハーフミラーを用い、それ
ぞれのミラーの透過率および反射率を最適化することに
より、全ての光源に同一の半導体レーザ素子を利用可能
となり、しかも制御系すなわちレーザ駆動回路およびレ
ーザ発光回路を同一にできる。

【０１２３】また、ハーフミラーを用いることにより生
じた反射レーザビームは、ハウジングの一部により、画
像領域に案内されることない位置に反射されることか
ら、迷光により、不所望な画像が生じることが防止され
る。

【０１２４】さらに、副走査方向におけるレーザビーム
相互間の間隔は、解像度に応じて設定された間隔で形成
されたレーザビームの本数に対応する数の受光領域を有
するワンチップビーム位置検出器により、基準となるレ
ーザビームとの間の間隔の変動に基づいて、ガルバノミ
ラーのミラー面の角度が変化されることにより、所定の
間隔に、容易に制御される。なお、このとき、基準とな
るレーザビームにより水平同期信号も生成される。

【０１２５】

【発明の効果】以上説明したようにこの発明の露光装置
は、レーザオフ時の駆動電流をしきい値付近まで高める
ことにより、レーザオン時の発光波形の鈍りを低減し
て、画像濃度が不所望に低下することを防止できる。

【０１２６】また、ハーフミラー（ガラスをフィルタ
化）もしくはＮＤフィルタを利用することにより、レー
ザオフ時にレーザ素子が発光することで生じるレーザビ
ームにより非画像部にかぶりが生じることを防止でき
る。

【０１２７】さらに、複数のハーフミラーを用い、それ
ぞれのミラーの透過率および反射率を最適化することに
より、全ての光源に同一の半導体レーザ素子を利用可能
となり、しかも制御系すなわちレーザ駆動回路およびレ
ーザ発光回路を同一にできる。

【０１２８】また、ハーフミラーを用いることにより生
じた反射レーザビームは、ハウジングの一部により、画
像領域に案内されることない位置に反射されることか
ら、迷光により、不所望な画像が生じることが防止され
る。

【０１２９】さらに、副走査方向におけるレーザビーム
相互間の間隔は、解像度に応じて設定された間隔で形成
されたレーザビームの本数に対応する数の受光領域を有
するワンチップビーム位置検出器により、基準となるレ
ーザビームとの間の間隔の変動に基づいて、ガルバノミ
ラーのミラー面の角度が変化されることにより、所定の
間隔に、容易に制御される。なお、このとき、基準とな
るレーザビームにより水平同期信号も生成される。従っ
て、画像濃度が高く、副走査方向の線間隔の均一な高速
度の画像形成装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態としての露光装置が組み
込まれる画像形成装置の一例を示す概略図。

【図２】図１に示した画像形成装置の露光装置の概略平
面図。

【図３】図２に示した露光装置に組み込まれる発光ユニ
ット（レーザ素子）を示す概略図。

【図４】図２に示した露光装置に組み込まれるガルバノ
ミラーの概略を示す概略図。

【図５】図２に示した露光装置の偏向前光学系の一例を
示す概略図。

【図６】図２に示した露光装置の制御系の一例を示す概
略ブロック図。

【図７】図２に示した露光装置に組み込まれるビーム位
置検出器の受光面の一例を示す概略図。

【図８】図７に示したビーム位置検出器の受光面の一受
光領域の例を示す概略図。

【図９】図２に示した露光装置に組み込まれる第１ない
し第３のハーフミラーによる各レーザビームの合成順
と、各ハーフミラーに設けられる識別子の一例を示す概
略図。

【図１０】図２に示した露光装置に組み込まれる半導体
レーザ素子から放射されるレーザビームの立ち上がりの
特性を示す概略図。

【図１１】図２に示した露光装置に組み込まれる半導体
レーザ素子の駆動電流の電流値の大きさと出力レーザ波
形の一例を示す概略図。

【図１２】図２に示した露光装置をカラー画像形成装置
に適用可能とするための別の実施の形態を示す概略図。

【図１３】図１２に示した露光装置が適用されるカラー
画像形成装置の一例を示す概略図。

【図１４】図２に示した露光装置の別の実施の形態を示
す概略図。

【図１５】図２に示した露光装置の別の実施の形態を示
す概略図。

【符号の説明】

１ ・・・デジタル複写装置、 １０ ・・・スキャナ部、 １１ ・・・第１キャリッジ、 １４ ・・・光電変換素子、 ２０ ・・・プリンタ部、 ２１ ・・・露光装置、 ２２ ・・・画像形成部、 ２３ ・・・感光体ドラム、 ３２ ・・・アライニングローラ、 ６０ ・・・ＣＰＵ、 ６１ ・・・クロック発生回路、 ６２ ・・・ＮＶＭ、 ６３ ・・・画像メモリ、 ６４ ・・・画像バス、 ７１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・レーザ駆動回路、 ７３ ・・・ポリゴンモータ駆動回路、 ７４ ・・・ビーム位置検出回路、 ８１ ・・・操作パネル、 １００ ・・・ベース、 １０１（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・半導体レーザ素
子、 １０２ ・・・偏向前光学系、 １０２（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・偏向前光学系、 １０３（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・有限焦点レンズ、 １０４（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・絞り、 １０５（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・ガルバノミラー、 １１０（Ａ，Ｂ，ＣおよびＤ）・・・発光ユニット、 １２０・・・第１のハーフミラー、 １２０Ａ・・・第１のハーフミラーの識別子、 １２１・・・第２のハーフミラー、 １２１Ａ・・・第２のハーフミラーの識別子、 １２２・・・第３のハーフミラー、 １２２Ａ・・・第３のハーフミラーの識別子、 １２３ ・・・偏向装置、 １２５・・・シリンダレンズ、 １３０ ・・・偏向後光学系、 １３０Ａ・・・第１レンズ、 １３０Ｂ・・・第２レンズ、 １３１ ・・・ミラー １３２ ・・・防塵ガラス、 １５０ ・・・ハウジング、 １５１ ・・・ビーム位置検出器、 １５２ ・・・折り返しミラー、 １７０ ・・・第１の迷光防止部材、 １７１ ・・・第２の迷光防止部材、 １７２ ・・・第３の迷光防止部材。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｓ 3/096

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所定の駆動電流が供給されることで光を発
   光する光源と、 この光源からの光を第１の方向へ偏向する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記光を所定像面に結像
   する結像手段と、 前記の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記光源
   が発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大き
   さに維持する駆動電源装置と、を有することを特徴とす
   る露光装置。
2. 【請求項２】所定の駆動電流が供給されることで光を発
   光する光源と、 この光源からの光を第１の方向へ偏向する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記光を所定像面に結像
   する結像手段と、 前記の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記光源
   が発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大き
   さに維持する駆動電源装置と、 前記光源と前記偏向手段との間に配置され、前記光源か
   ら放射された光の光量の一部を減衰させる減衰手段と、
   を有することを特徴とする露光装置。
3. 【請求項３】所定の駆動電流が供給されることで光を発
   光する複数の光源と、 この複数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向
   する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記それぞれの光を所定
   の像面に結像する結像手段と、 前記のそれぞれの光源の非発光時の駆動電流の大きさを
   前記それぞれの光源が発光を開始する発光開始電流の大
   きさに近接した大きさに維持する駆動電源装置と、 前記それぞれの光源と前記偏向手段との間に配置され、
   前記それぞれの光源から放射された光の光量が前記偏向
   手段上で等しい光量となるようそれぞれの光を減衰させ
   る減衰手段と、を有することを特徴とする露光装置。
4. 【請求項４】前記減衰手段は、前記光源の数をＮとする
   とき、Ｎ−１個設けられることを特徴とする請求項３記
   載の露光装置。
5. 【請求項５】前記減衰手段は、反射率の異なるハーフミ
   ラーを含み、Ｎ−１個のそれぞれを識別可能とするため
   の識別子が一体に設けられていることを特徴とする請求
   項４記載の露光装置。
6. 【請求項６】所定の駆動電流が供給されることで光を発
   光する光源と、 この光源からの光を第１の方向へ偏向する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記光を所定像面に結像
   する結像手段と、 前記の光源の非発光時の駆動電流の大きさを、前記光源
   が発光を開始する発光開始電流の大きさに近接した大き
   さに維持する駆動電源装置と、 前記光源と前記偏向手段との間に配置され、前記光源か
   ら放射された光の光量の一部を反射または透過により減
   衰させる減衰手段と、 この減衰手段により透過または反射された光が前記偏向
   手段に入射することを阻止する阻止手段と、を有するこ
   とを特徴とする露光装置。
7. 【請求項７】所定の駆動電流が供給されることで光を発
   光する複数の光源と、 この複数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向
   する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記それぞれの光を所定
   の像面に結像する結像手段と、 この結像手段を通過された光の一部を受光して電気信号
   に変換する光検出手段と、 前記それぞれの光源と前記偏向手段との間に配置され、
   前記光源から前記偏向手段に向かう光のそれぞれが前記
   偏向手段に入射する位置を変化させる光路変更手段と、 前記光検出手段の検出結果に基づいて、前記光路変更手
   段を駆動する光路変更手段制御手段と、を有することを
   特徴とする露光装置。
8. 【請求項８】前記光検出手段は、前記それぞれの光源か
   らの光を受光して、水平同期信号の発生に利用可能な信
   号を出力することを特徴とする請求項７記載の露光装
   置。
9. 【請求項９】前記光検出手段は、前記それぞれの光源か
   らの光を全て受光可能であり、前記光源の数をＮとする
   とき、解像度に基づいて設定される間隔でＮ−１配列さ
   れることを特徴とする請求項８記載の露光装置。
10. 【請求項１０】所定の駆動電流が供給されることで光を
    発光する複数の光源と、 この複数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向
    する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記それぞれの光を所定
    の像面に結像する結像手段と、 この結像手段を通過された光の一部を受光して電気信号
    に変換する光検出手段と、 前記光源と前記偏向手段との間に配置され、前記光源か
    ら放射された光の光量の一部を反射または透過により減
    衰させる減衰手段と、 この減衰手段により透過または反射された光が前記偏向
    手段に入射することを阻止する阻止手段と、 前記それぞれの光源と前記偏向手段との間に配置され、
    前記光源から前記偏向手段に向かう光のそれぞれが前記
    偏向手段に入射する位置を変化させる光路変更手段と、 前記光検出手段の検出結果に基づいて、前記光路変更手
    段を駆動する光路変更手段制御手段と、を有することを
    特徴とする露光装置。
11. 【請求項１１】所定の駆動電流が供給されることで光を
    発光する複数の光源と、 この複数の光源からのそれぞれの光を第１の方向へ偏向
    する偏向手段と、 この偏向手段により偏向された前記それぞれの光を所定
    の像面に結像する結像手段と、 この結像手段を通過された光の一部を受光して電気信号
    に変換する光検出手段と、 前記光源と前記偏向手段との間に配置され、前記それぞ
    れの光源から放射された光の光量の一部を反射させまた
    は透過し、前記それぞれの光源から放射された光の光量
    が前記偏向手段上で等しい光量となるよう、前記それぞ
    れの光を減衰させる減衰させる減衰手段と、 この減衰手段により透過または反射された光が前記偏向
    手段に入射することを阻止する阻止手段と、 前記それぞれの光源と前記偏向手段との間に配置され、
    前記光源から前記偏向手段に向かう光のそれぞれが前記
    偏向手段に入射する位置を変化させる光路変更手段と、 前記光検出手段の検出結果に基づいて、前記光路変更手
    段を駆動する光路変更手段制御手段と、を有することを
    特徴とする露光装置。