JPH11240985A - フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性とアンチブロッキング性のバランスに
優れ、ヒートシート性などのフィルムに要求される性能
が大幅に改良されたフィルムの提供。 【解決手段】 下記の成分Ａ〜Ｃを含有する樹脂組成物
から製造されたフィルムであって、その表面粗さが±２
００ｎｍ以上のピークが５個／ｍｍ^２以上、且つ±５０
ｎｍ以上のピークが１６５個／ｍｍ^２以下であことを特
徴としたフィルム。 成分Ａ：特定の性状を有するエチレンと炭素数４以上の
α−オレフィンとの共重合体１００重量部 成分Ｂ：Ｓｉ等の金属酸化物 ０.０１〜１重量部 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモノ又はビスアミド化
合物 ０．０１〜１重量部

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、加工性が良好で、
高透明でしかも透明性とアンチブロッキング性のバラン
スに優れ、ヒートシール性、耐熱性などのフィルム性能
が従来品より格段に良好なフィルムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】透明性の良好なフィルムなどの押出成形
体材料としては、従来からポリプロピレンが知られてい
る。このポリプロピレンからなるフィルムは、剛性など
も優れることから各種包装材料として広く知られてい
が、その製造において空冷インフレーション成形といっ
た汎用的加工法に適していないことや、衝撃強度、耐寒
性、低温ヒートシート性等が劣るなどの欠点を有してい
るのでその用途分野は限定されてきた。従って、汎用的
フィルム分野ではこれらの欠点を補う樹脂である高圧法
低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）が広く用いられるよう
になっていた。しかしながら、このＬＤＰＥは上記の欠
点を補うには有効であるが、上記ポリプロピレンと比較
して透明性が劣るという欠点を有していた。

【０００３】一方、チーグラー触媒を用いて、例えば特
公昭５６−１８１３２号公報などに記載された方法で製
造されるエチレンとα−オレフィンとの共重合体、いわ
ゆる線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）は、上記の
樹脂より衝撃強度、ヒートシール性、ホットタック性、
耐熱性、耐寒性などに優れた樹脂である。また透明性は
公知のとおりＴダイ成形法、水冷インフレーション成形
法および特殊なエアリングを用いた空冷インフレーショ
ン成形法などの特殊な加工法によって良好となることが
知られている。しかし、透明性の良いフィルムを造る
と、フィルム表面が平滑になり、また、ＬＬＤＰＥ中の
低結晶成分がブリードアウトしてくるため、アンチブロ
ッキング性を大幅に低下させてしまい、実用上の使用が
困難となる。この改良のために、シリカやタルクなどの
アンチブロッキング剤やスリップ剤を添加する方法が良
く知られている。しかし、これら従来の方法では、ヒー
トシール性を低下させたり、極限として、使用している
樹脂の透明性以上の透明性は得られず、エチレン系共重
合体で、シール性、ブロッキング性、加工性を低下させ
ることなく、ポリプロピレンや塩化ビニル並の透明性を
得ることは困難であった。

【０００４】近年、特開昭58-19309号公報等に記載され
ている新規な触媒を使用することによって、従来よりも
組成分布の狭いＬＬＤＰＥが得られるようになり、この
ＬＬＤＰＥの透明性は非常に良好であることがわかっ
た。この新規なＬＬＤＰＥは含有される低結晶成分が少
ないため、従来のチーグラー系触媒等を使用して得られ
るＬＬＤＰＥに比較して、そのブリードアウトによるブ
ロッキングは起こりにくくなるが、極めて表面が平滑に
なるので、従来のチーグラー系触媒等を使用して得られ
るＬＬＤＰＥとは異なった手法で、透明性とアンチブロ
ッキング性のバランスを図る必要が出てきた。また、一
般にＬＬＤＰＥは通常、触媒として金属を含有する化合
物を使用しており、また触媒中に塩素を含有することが
多いので、ＬＤＰＥと比較して熱安定性が悪い。そこで
これらの含有成分による樹脂へのｐＨ変化や熱劣化を抑
制するために中和剤や酸化防止剤を添加する必要があ
り、従来、フェノール系とリン系の酸化防止剤を併用す
ることによって成形時・成形後の黄色変化防止や熱劣化
による架橋防止が図られてきた。しかし、上記新規触媒
によって得られるＬＬＤＰＥは、従来のチーグラー系触
媒等とは触媒中の含有成分が異なるため、それに応じて
酸化防止剤の配合についても最適なものを見い出すこと
が必要となった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、熱安
定性、加工性が良好で、成形体の経時の黄変が少なく、
透明性とアンチブロッキング性のバランスに優れ、かつ
透明性とヒートシート性が大幅に改良されたフィルムを
提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、シール
性、透明性といった優れた性能を保ちながら加工性、ブ
ロッキング性を改良し、バランスの良い材料を得るため
の手段を鋭意検討した結果、特定のＬＬＤＰＥと、特定
の無機又は有機化合物を添加することにより、本発明の
目的が達成されることを見いだし、本発明を完成した。

【０００７】即ち、本発明は、下記の成分Ａ〜Ｃを含有
する樹脂組成物から製造されたフィルムであって、その
表面粗さが±２００ｎｍ以上のピークが５個／ｍｍ^２以
上、且つ±５０ｎｍ以上のピークが１６５個／ｍｍ^２以
下であことを特徴としりフィルムを提供するものであ
る。 成分Ａ：以下の〜の性状を有するエチレンと炭素数
４〜４０のα−オレフィンとの共重合体 １００重量部 メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜１０ｇ／
１０分 密度が０．８８〜０．９３５ｇ／cm^３ 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によって得られる溶
出曲線のピークが１以上存在し、主ピークの温度が３０
〜１００℃であり、該主ピークの高さをＨとし、該主ピ
ークの１／２高さにおける幅をＷとしたときのＨ／Ｗが
１以上であり、該ピークの溶出温度以外の温度において
溶出するものが実質的に該溶出曲線に存在することがあ
る 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）による５０℃に於け
る溶出量（Ｙ：成分Ａ全量に対する重量％）が以下の条
件を満たすものである 1) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３未満である
とき、 Ｙ（％）≦−４５００Ｄ＋４１０５（ただし、Ｙ≦１０
０） 2) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３以上である
とき、 Ｙ（％）≦１０ 成分Ｂ：Ｓｉ，Ａｌ，Ｎａ，Ｍｇ，ＣａおよびＢａから
なる群より選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物から
構成される 無機化合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモノ又はビスアミド化
合物 ０．０１〜１重量部

【０００８】

【化７】

【０００９】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立し
て、水酸基、炭素数１以上の炭化水素基、もしくは水
素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素から構
成される置換基を示す］

【００１０】

【化８】

【００１１】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立し
て、水素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素
から構成される置換基を示す］

【００１２】

【化９】

【００１３】［式中、Ｒ^１は水素原子、金属原子または
炭素数１〜２２の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜６の低級アルキルを示す］

【００１４】また、本発明は、下記の成分Ａ〜Ｄを含有
する樹脂組成物から製造されたフィルムであって、その
表面粗さが±２００ｎｍ以上のピークが５個／ｍｍ^２以
上、且つ±５０ｎｍ以上のピークが１６５個／ｍｍ^２以
下であことを特徴としりフィルムを提供するものであ
る。 成分Ａ：以下の〜の性状を有するエチレンと炭素数
４〜４０のα−オレフィンとの共重合体（成分Ａ１）５
０〜９９重量％および以下の（ａ）〜（ｄ）の性状を有
する該エチレンと炭素数４以上のα−オレフィンとの共
重合体以外のエチレン系共重合体（成分Ａ２）１〜５０
重量％からなる重合体組成物 １００重量部 メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜１０ｇ／
１０分 密度が０．８８〜０．９３５ｇ／cm^３ 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によって得られる溶
出曲線のピークが１以上存在し、主ピークの温度が３０
〜１００℃であり、該主ピークの高さをＨとし、該主ピ
ークの１／２高さにおける幅をＷとしたときのＨ／Ｗが
１以上であり、該ピークの溶出温度以外の温度において
溶出するものが実質的に該溶出曲線に存在することがあ
る 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）による５０℃に於け
る溶出量（Ｙ：成分Ａ全量に対する重量％）が以下の条
件を満たすものである 1) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３未満である
とき、 Ｙ（％）≦−４５００Ｄ＋４１０５（ただし、Ｙ≦１０
０） 2) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３以上である
とき、 Ｙ（％）≦１０ (a) メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜２０ｇ／
１０分 (b) 密度が０．８８〜０．９３ｇ／cm^３ (c) メルトテンション（Ｍelt Ｔension：ＭＴ）が１．
０ｇ以上 (d) メモリーエフェクト（Ｍemory Ｅffect：ＭＥ）が
１．３以上 成分Ｂ：Ｓｉ，Ａｌ，Ｎａ，Ｍｇ，ＣａおよびＢａから
なる群より選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物から
構成される 無機化合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモノ又はビスアミド化
合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｄ：下記一般式（Ｉ）で示される化合物と、下記一
般式（II）又は一般式（II’）で示される化合物との併
用物 ０．０１〜１重量部

【００１５】

【化１０】

【００１６】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立し
て、水酸基、炭素数１以上の炭化水素基、もしくは水
素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素から構
成される置換基を示す］

【００１７】

【化１１】

【００１８】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立し
て、水素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素
から構成される置換基を示す］

【００１９】

【化１２】

【００２０】［式中、Ｒ^１は水素原子、金属原子または
炭素数１〜２２の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜６の低級アルキルを示す］

【００２１】

【発明の具体的な説明】[1] 構成成分 (1) 成分Ａ （i) 成分Ａ１：エチレン・α−オレフィン共重合体 (ａ) 性状 本発明の樹脂組成物を構成するエチレン・α−オレフィ
ン共重合体は、以下の物性を示すことが重要である。 メルトフローレート（ＭＦＲ） 本発明で使用されるエチレン・α−オレフィン共重合体
のＪＩＳ−Ｋ７２１０によるＭＦＲは、０．１〜１０ｇ
／１０分、好ましくは０．７〜７ｇ／１０分、特に好ま
しくは１．５〜５ｇ／１０分である。ＭＦＲが高すぎる
と成膜が不安定となり好ましくない。ＭＦＲが低すぎる
と樹脂圧力が高くなり、成形性が劣るので好ましくな
い。

【００２２】 密度 該エチレン・α−オレフィン共重合体の密度は、０.８
８〜０.９３５ｇ／cm^３、好ましくは０．８８５〜０．
９２５ｇ／cm^３、特に好ましくは０．８９〜０．９１５
ｇ／cm^３、最も好ましくは０．８９〜０．９０５g／cm
^３である。密度が高すぎるとヒートシート性が不良とな
り好ましくない。密度が低すぎるとフィルムにベタつき
が生じ好ましくない。

【００２３】 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によっ
て得られる溶出曲線のピーク 該エチレン・α−オレフィン共重合体は、温度上昇溶離
分別（ＴＲＥＦ）によって得られる溶出曲線のピークが
１つ以上、好ましくは１つ存在し、主ピークの温度が３
０〜１００℃、好ましくは３５〜８５℃、特に好ましく
は４０〜７０℃の範囲にあり、該主ピークの高さをＨと
し、該主ピークの１／２高さにおける幅をＷとしたとき
のＨ／Ｗが１以上、好ましくは１〜２０、特に好ましく
は１〜１５、最も好ましくは１〜１０であり、該ピーク
の溶出温度以外の温度において溶出するものが実質的に
該溶出曲線に存在することがある。Ｈ／Ｗの値が小さす
ぎると、ベタつき成分が多くなり、フィルム外観、性能
が劣ることとなり、好ましくない。

【００２４】温度上昇溶離分別による５０℃に於ける溶
出量 前記エチレン・α−オレフィン共重合体の温度上昇溶離
分別（ＴＲＥＦ）による５０℃に於ける溶出量（Ｙ：成
分Ａ１全量に対する重量％）が以下の条件を満たすもの
であるのが望ましい。 1) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３未満である
とき、 Ｙ（％）≦−４５００Ｄ＋４１０５（ただし、Ｙ≦１０
０）、好ましくは Ｙ（％）≦−４６５０Ｄ＋４２３８（ただし、Ｙ≦１０
０） 2) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３以上である
とき、 Ｙ（％）≦１０、好ましくは Ｙ（％）≦７ ５０℃における溶出量が上記範囲を超えると、ベタつき
成分が多くなり、フィルム外観、性能に悪影響を及ぼす
ので、好ましくない。

【００２５】温度上昇溶離分別による溶出曲線の測定 温度上昇溶離分別（Temperature Rising Elution Fract
ionation：ＴＲＥＦ）による測定は、「Ｊournal of Ａ
pplied Ｐolymer Ｓcience. Ｖol.26, 4217-4231(198
1)」および「高分子討論会予稿集 2P1C09（1985年）」
に記載されている原理に基づき、以下のようにして行わ
れる。まず、測定の対象とするポリマーを溶媒中で完全
に融解する。その後、冷却して不活性坦体表面に薄いポ
リマー層を形成させる。かかるポリマー層は結晶しやす
いものが内側（不活性担体表面に近い側）に、結晶しに
くいものが外側に形成されてなるものである。次に、温
度を連続又は段階的に上昇させると、低温度段階では対
象のポリマー組成中の非晶部分すなわちポリマーの持つ
短鎖分岐の分岐度の多いものから溶出し、温度が上昇す
るとともに徐々に分岐度の少ないものが溶出し、最終的
に分岐のない直鎖状の部分が溶出し測定は終了するので
ある。かかる各温度での溶出成分の濃度を検出し、その
溶出量と溶出温度によって描かれるグラフによってポリ
マーの組成分布を見ることができるものである。

【００２６】 Ｑ値 このエチレン・α−オレフィン共重合体は、サイズ排除
クロマトグラフィー(Size Exclusion Chromatography :
SEC) によって求められるＱ値（重量平均分子量／数平
均分子量）は、４以下、好ましくは３以下、特に好まし
くは２．５以下の物性を示すものが好ましい。該Ｑ値が
上記範囲を超えると成形体の外観が悪化してくる傾向が
ある。

【００２７】(b) エチレン・α−オレフィン共重合体
の製造方法 該エチレン・α−オレフィン共重合体の製造法は、特開
昭５８−１９３０９号、同５９−９５２９２号、同６０
−３５００５号、同６０−３５００６号、同６０−３５
００７号、同６０−３５００８号、同６０−３５００９
号、同６１−１３０３１４号、特開平３−１６３０８８
号の各公報、ヨーロッパ特許出願公開第４２０４３６号
明細書、米国特許第５０５５４３８号明細書および国際
公開公報ＷＯ９１／０４２５７号明細書などに記載され
ている方法、すなわち、メタロセン触媒、特にメタロセ
ン・アルモキサン触媒、または、例えば、国際公開公報
ＷＯ９２／０１７２３号などに開示されているようなメ
タロセン化合物と以下に述べるメタロセン化合物と反応
して安定なアニオンとなる化合物からなる触媒を使用し
て、主成分のエチレンと従成分のα−オレフィンとを共
重合する方法である。

【００２８】上述のメタロセン化合物と反応して安定な
アニオンとなる化合物とは、カチオンとアニオンのイオ
ン対から形成されるイオン性化合物あるいは親電子性化
合物であり、メタロセン化合物と反応して安定なイオン
となって重合活性種を形成するものである。このうち、
イオン性化合物は下記一般式（III）で表される。 ［Ｑ］^ｍ＋［Ｙ］^ｍ− （ｍは１以上の整数） （III） Ｑはイオン性化合物のカチオン成分であり、カルボニウ
ムカチオン、トロピリウムカチオン、アンモニウムカチ
オン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオン、
ホスホニウムカチオン等が挙げられ、さらには、それ自
身が還元され易い金属の陽イオンや有機金属の陽イオン
なども挙げられる。

【００２９】これらのカチオンは特表平１−５０１９５
０号公報などに開示されているようなプロトンを与える
ことができるカチオンだけでなく、プロトンを与えない
カチオンでも良い。これらのカチオンの具体例として
は、トリフェニルカルボニウム、ジフェニルカルボニウ
ム、シクロヘプタトリエニウム、インデニウム、トリエ
チルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリブ
チルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム、ジ
プロピルアンモニウム、ジシクロヘキシルアンモニウ
ム、トリフェニルホスホニウム、トリメチルホスホニウ
ム、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウム、トリ（メ
チルフェニル）ホスホニウム、トリフェニルスルホニウ
ム、トリフェニルオキソニウム、トリエチルオキソニウ
ム、ピリリウム、また、銀イオン、金イオン、白金イオ
ン、パラジウムイオン、水銀イオン、フェロセニウムイ
オンなどが挙げられる。

【００３０】また、Ｙはイオン性化合物のアニオン成分
であり、メタロセン化合物と反応して安定なアニオンと
なる成分であって、有機ホウ素化合物アニオン、有機ア
ルミニウム化合物アニオン、有機ガリウム化合物アニオ
ン、有機リン化合物アニオン、有機ヒ素化合物アニオ
ン、有機アンチモン化合物アニオンなどが挙げられ、具
体的にはテトラフェニルホウ素、テトラキス（３，４，
５−トリフルオロフェニル）ホウ素、テトラキス（３，
５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル）ホウ素、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、テトラフェ
ニルアルミニウム、テトラキス（３，４，５−トリフル
オロフェニル）アルミニウム、テトラキス（３，５−ジ
（トリフルオロメチル）フェニル）アルミニウム、テト
ラキス（３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）アルミニ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アルミニ
ウム、テトラフェニルガリウム、テトラキス（３，４，
５−トリフルオロフェニル）ガリウム、テトラキス
（３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル）ガリウ
ム、テトラキス（３，５−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）
ガリウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ガリ
ウム、テトラフェニルリン、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）リン、テトラフェニルヒ素、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ヒ素、テトラフェニルアン
チモン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）アンチ
モン、デカボレート、ウンデカボレート、カルバドデカ
ボレート、デカクロロデカボレート等が挙げられる。ま
た、親電子性化合物としては、ルイス酸化合物として知
られるもののうち、メタロセン化合物と反応して安定な
アニオンとなって重合活性種を形成する物であり、種々
のハロゲン化金属化合物や固体酸として知られている金
属酸化物などが挙げられる。具体的には、ハロゲン化マ
グネシウムやルイス酸性無機酸化物などが例示される。

【００３１】α−オレフィン ここでα−オレフィンとしては、炭素数４〜４０のα−
オレフィン、例えば、１−ブテン、１−ペンテン、１−
ヘキセン、１−オクテン、１−ヘプテン、４−メチルペ
ンテン−１、４−メチルヘキセン−１、４，４−ジメチ
ルペンテン−１、オクタデセン等が挙げられる。これら
の中で好ましくは炭素数４〜１８、特に好ましくは炭素
数４〜１２、最も好ましくは炭素数６〜１０の１種また
は２種以上のα−オレフィン２〜６０重量％、好ましく
は５〜５０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％
を、エチレン４０〜９８重量％、好ましくは５０〜９５
重量％、特に好ましくは７０〜９０重量％と共重合させ
るのが好ましい。

【００３２】共重合 重合方法としては、気相法、スラリー法、溶液法、高圧
イオン重合法等を挙げることができる。これらの中では
溶液法、高圧イオン重合法が好ましく、本発明の効果が
大きく発揮される点で高圧イオン重合法がことさら好ま
しい。なお、この高圧イオン重合とは、特開昭５６−１
８６０７号、特開昭５８−２２５１０６号各公報に記載
されている、圧力が２００kg／cm^２以上、好ましくは３
００〜２０００kg／cm^２、温度が１２５℃以上、好まし
くは１３０〜２５０℃、特に好ましくは１５０〜２００
℃の反応条件下にて行われるエチレン系重合体の連続的
製造法のことである。

【００３３】（ii) 成分Ａ２：エチレン系重合体 (a) 性状 本発明の押出成形体用樹脂組成物を構成するエチレン系
重合体は、上記成分Ａ１以外のエチレン系重合体であ
り、以下の物性を示すことが重要である。 メルトフローレート（ＭＦＲ） 該エチレン系重合体は、ＪＩＳ−Ｋ７２１０によるＭＦ
Ｒが、０．１〜２０ｇ／１０分、好ましくは０．５〜１
０ｇ／１０分、特に好ましくは１．０〜５．０ｇ／１０
分の物性を示すものである。該ＭＦＲが上記範囲より大
であると、成形性が悪化しフィルム成膜が不安定となり
好ましくない。該ＭＦＲが上記範囲より小さすぎると、
押出性や成形体の外観が不良となり好ましくない。

【００３４】 密度 該エチレン系重合体は、ＪＩＳ−Ｋ７１１２による密度
が、０．８８〜０．９３ｇ／cm^３、好ましくは０．８９
〜０．９２７ｇ／cm^３、特に好ましくは０．９０〜０．
９２５ｇ／cm^３、最も好ましくは０．９１９〜０．９２
３g/cm^３である。該密度が上記範囲より大であると、透
明性が悪化し、また低温ヒートシール性が不良となる。
また、密度が上記範囲より小さすぎると製品にブリード
アウトが起こり、フィルム表面にベタつきが多くなる。

【００３５】 メルトテンション（Ｍelt Ｔension：
ＭＴ：破断時溶融張力） 該エチレン系重合体のＭＴは、１．０ｇ以上、好ましく
は１．５ｇ以上、特に好ましくは２. ５ｇ以上、最も好
ましくは５ｇ以上である。ＭＴが上記数値よりも小さい
と成形性が不安定となり好ましくない。

【００３６】 メモリーエフェクト（Ｍemory Ｅffec
t：ＭＥ：復元効果） 該エチレン系重合体のＭＥ（３ｇ）は、１．３以上、好
ましくは１．６以上、特に好ましくは２．０以上、最も
好ましくは２．３以上であるのが望ましい。ＭＥが小さ
いと成形性が不安定となり好ましくない。

【００３７】 Ｑ値 該エチレン系重合体は、サイズ排除クロマトグラフィー
(Size ExclusionChromatography: SEC ）によって求め
られるＱ値（重量平均分子量／数平均分子量）が２〜３
０、好ましくは３〜２５、特に好ましくは５〜２０であ
るのが望ましい。Ｑ値が上記範囲より大きいと成形体の
外観が悪化してくる傾向にあるので好ましくない。Ｑ値
が上記範囲より小さいと成形性が不安定となる傾向があ
る。

【００３８】 ＭＥ／ＭＴが以下の関係を有すること ＭＥ≧０．０５×ＭＴ＋１．３、好ましくはＭＥ≧０．
０５×ＭＴ＋１．５上記した関係を満足させることは、
成形時における加工性改良効果の点で意義がある。

【００３９】(b) エチレン系重合体の具体例 前記エチレン系重合体としては、ポリエチレン、成分Ａ
以外のエチレン・α−オレフィン共重合体、エチレン・
酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共
重合体、エチレン・α−オレフィン・ジエン共重合体
等、エチレンを基本モノマーとして重合されたものの中
から、上記の性状を有するものを適宜選択することがで
きる。中でも好ましいものは、高圧法低密度ポリエチレ
ン、特に重合時における反応温度が２２０℃以上、反応
圧力が１７００kg／cm^２以下でオートクレーブ法で製造
された高圧ラジカル重合法低密度ポリエチレンを使用す
ることが好ましい。

【００４０】(3) 成分Ｂ：Ｓｉ，Ａｌ，Ｎａ，Ｍｇ，
ＣａおよびＢａからなる群から選ばれる少なくとも１種
の元素の酸化物から構成される無機化合物 成分Ｂとして用いられる無機化合物は、Ｓｉ，Ａｌ，Ｎ
ａ、Ｍｇ，ＣａおよびＢａの元素の酸化物、例えばＳｉ
Ｏ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｎａ_２Ｏ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＢａＯ
等から主として構成される無機化合物である。該化合物
は下記一般式（IV）で表すことができる。 ［ｘ（Ｍｅ^ｂ＋）_ｃ Ｏ_ｄ］_ａ・ｙＳｉＯ_２ ・ｚＨ_２Ｏ （IV） ［式中、ｘ，ｙおよびｚは０以上の実数を示し（但し、
ｘ，ｙ及びｚが共に０であることはない）、ａ，ｂ，ｃ
またはｄは１以上の整数を示し、ＭｅはＡｌ，Ｎａ，Ｍ
ｇ，ＣａまたはＢａの元素を示す（なお、ａが２以上の
ときＭｅは異種の元素を示す）。］

【００４１】具体的には、ゼオライト、合成シリカ、天
然シリカ、タルク、二酸化ケイ素、非晶性アルミノシリ
ケート等が挙げられ、これらの１種または２種以上を用
いることができる。これらの中では、好ましくはゼオラ
イト、タルク、非晶性アルミノシリケートであり、特に
好ましくはタルク、非晶性アルミノシリケートであり、
タルクと非晶性アルミノシリケートの併用が殊更好まし
い。特に、タルクと非晶性アルミノシリケートとの配合
比が１０／９０〜５０／５０が良い。成分Ｂは、平均粒
径が１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下、特に好まし
くは３μｍ以下１μｍ以上である。平均粒径が大きい
と、フィルムの透明性阻害が大きくなるので好ましくな
い。粒径が小さすぎると２次凝集などを起こし、フィル
ム外観を低下させるので好ましくない。また、形状は方
形状、板状又は線状よりも、丸型状が好ましい。

【００４２】成分Ｂは、含水率２０％以下、好ましくは
１０％以下、特に好ましくは５％以下である。含水率が
多すぎると成形時に発泡が起こり、成形が困難になり、
またフィルムの色相が悪くなるので好ましくない。成分
Ｂの屈折率は、好ましくは１．３〜２．２、特に好まし
くは１．３５〜１．８、最も好ましくは１．４〜１．６
である。

【００４３】(4) 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモ
ノ又はビスアミド化合物 本発明の直鎖状のモノカルボン酸のモノ又はビスアミド
化合物は１種又は２種以上を混合して用いてよい。本発
明で使用される直鎖状のモノカルボン酸のモノ又はビス
アミド化合物は、具体的には、直鎖に二重結合を持たな
い直鎖状のモノカルボン酸のモノアミド化合物として
は、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸アミド、
ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、オキシステア
リン酸アミド等が挙げられ、直鎖に二重結合を持つ直鎖
状のモノカルボン酸のモノアミド化合物としては、オレ
イン酸アミド、エルシン酸アミド、リノール酸アミド、
リシノール酸アミド等を挙げることができる。直鎖状の
モノカルボン酸のビスアミド化合物としては、エチレン
ビスステアリン酸アミド、メチレンビスステアリン酸ア
ミド、メチレンビスステアロベヘンアミド、エチレンビ
スオレイン酸アミド、メチレンビスオレイン酸アミド等
が挙げられる。上記具体例の中では、直鎖に二重結合を
持たない直鎖状のモノカルボン酸のモノアミド化合物と
しては、ベヘニン酸アミド、ステアリン酸アミドが好ま
しく、直鎖に二重結合を持つ直鎖状のモノカルボン酸の
モノアミド化合物としては、オレイン酸アミド、エルシ
ン酸アミドが好ましく、直鎖状のモノカルボン酸のビス
アミド化合物としては、エチレンビスオレイン酸アミド
が好ましい。更には、これら直鎖に二重結合を持たない
直鎖状のモノカルボン酸のモノアミド化合物及び／又は
直鎖状のモノカルボン酸のビスアミド化合物と、直鎖に
二重結合を持つ直鎖状のモノカルボン酸のモノアミド化
合物とを、２０：８０〜８０：２０、好ましくは２５：
７５〜４０：６０の重量割合で混合して用いることが好
ましい。

【００４４】(5) 成分Ｄ：本発明の樹脂組成物に使用
される成分Ｄは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物
と、下記一般式（II）または一般式（II’）で表される
化合物の併用物である。

【００４５】

【化１３】

【００４６】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立し
て、水酸基、炭素数１以上の炭化水素基、もしくは水
素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素から構
成される有機残基を示す］

【００４７】

【化１４】

【００４８】［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立し
て、水素、酸素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素
から構成される有機残基を示す］

【００４９】

【化１５】

【００５０】［式中、Ｒ^１は水素原子、金属原子または
炭素数１〜２２の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^２
は炭素数１〜６の低級アルキルを示す］

【００５１】（i）上記一般式（Ｉ）で表される化合物
の具体例としては、例えば、オクタデシル３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート］、１，３，５−トリメチル−２，４，６−ト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、１，３，５−トリス−［エチレン−３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］−ｓ−トリアジン−２，４，６−（１
Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、１，１，３−トリス（２−
メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェノールブ
タン、４，４’−メチレン−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェノール）、ヘキサメチレングリコール−ビス
［β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ノール）プロピオネート］、６−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）２，４−ビス−オク
チル−チオ−１，３，５−トリアゾール、２，２’−チ
オ［ジエチル−ビス−３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェノール）プロピオネート］、２，２’
−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ノニルフェノ
ール）、２，６−ビス−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ
−ブチル−５−メチルベンゾイル）−４−メチルフェノ
ール、トリス［β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオニル−オキシエチル］イソ
シアヌレート等を挙げることができ、これらを単独でも
しくは混合して用いることができる。これらの中でも、
分子中にアルキル基を有し、融点が４０℃以上の化合物
が好ましい。

【００５２】（ii）上記一般式（II）で表される化合物
の具体例としては、例えば、トリフェニルホスファイ
ト、ジフェニルホスファイト、ジデシルホスファイト、
トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、
トリドデシルホスファイト、トリオクタデシルホスファ
イト、トリノニルフェニルホスファイト、トリドデシル
トリチオホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、４，４’−ブチリデンビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリデシル）ホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト等の他、炭素数１
２〜１５のアルキル基を有する４，４’−イソプロピリ
デンジフェニルテトラアルキルジホスファイト等、ま
た、例えば、テトラキス（２，４−ジアルキルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト等を挙げ
ることができる。なお、ここで、アルキル基は炭素数１
〜３０のものである。これらの中でも特に、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホナイトが好ましい。

【００５３】（iii）上記一般式（II’）で表される化
合物の具体例としては、例えば、４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−ｔ−ブチル−ベンジルホスホン酸、ｏ−エチル
−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジ
ル）ホスホン酸、ｏ−（２−エチルヘキシル）−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）ホスホ
ン酸、ｏ−エチル−（４−ヒドロキシ−３，５−ｔ−ブ
チルベンジル）ホスホン酸のカルシウム塩等を挙げるこ
とができる。これらの一般式（Ｉ）で表される化合物
と、一般式（II）又は（II’）で表される化合物の重量
比率は、２０：８０〜８０：２０、好ましくは３０：７
０〜７０：３０、特に好ましくは４０：６０〜６０：４
０である。

【００５４】〔２〕樹脂組成物の物性 本発明の樹脂組成物のＭＦＲは、０．５〜１０ｇ／１０
分、好ましくは１〜８ｇ／１０分、特に好ましくは２〜
５ｇ／１０分であり、密度は０．８８〜０．９３ｇ／cm
^３、好ましくは０．８９〜０．９２ｇ／cm^３、特に好ま
しくは０．８９５〜０．９１ｇ／cm^３、最も好ましくは
０．９０〜０．９１ｇ／cm^３である。ＭＥは１．０〜
２．０、好ましくは１．１〜１．８、特に好ましくは
１．２〜１．６である。ＭＴ（引取速度５０ｍ／分時の
応力）は、０．５〜１０ｇ、好ましくは１〜８ｇ、特に
好ましくは１．５〜６ｇである。

【００５５】〔３〕上記各成分の配合割合 本発明の樹脂組成物において、成分Ａとして、エチレン
と炭素数４以上のα−オレフィンとの共重合体（成分Ａ
１）と該共重合体以外のエチレン系共重合体（成分Ａ
２）を用いる場合の両成分の割合は、成分Ａ１：成分Ａ
２＝５０：５０〜９９：１重量％、好ましくは６０：４
０〜９５：５重量％、特に好ましくは成分Ａ１：成分Ａ
２＝７０：３０〜９０：１０重量％である。成分Ａ２を
配合するとにより、成形性が安定し、また押出性も向上
するなど加工性を良好なものとする。成分Ｂを配合する
ときの割合は、成分Ａ（成分Ａ１とＡ２の合計）１００
重量部に対して、０．０１〜１重量部、好ましくは０．
１〜０．８重量部、特に好ましくは０．３〜０．７重量
部である。成分Ｂの配合量が少なすぎると、フィルムが
ブロッキングしやすくなり好ましくない。成分Ｂの配合
量が多すぎると、透明性を阻害するので好ましくない。

【００５６】成分Ｃを配合するときの割合は、成分Ａ
（成分Ａ１とＡ２の合計）１００重量部に対して、０．
０１〜１重量部、好ましくは０．０３〜０．５重量部、
特に好ましくは０．０５〜０．２重量部である。成分Ｃ
の配合量が少なすぎると、フィルムの滑り性が劣ること
となり好ましくない。成分Ｃの配合量が多すぎると、フ
ィルム表面にブリードアウトする成分が多くなり、ヒー
トシール性などを阻害するので好ましくない。成分Ｄの
配合割合は、成分Ａ（成分Ａ１とＡ２の合計）１００重
量部に対して、０．０１〜１重量部、好ましくは０．０
３〜０．５重量部、特に好ましくは０．０５〜０．２重
量部である。成分Ｄの配合量が少なすぎると、樹脂の熱
劣化が起こり、成形時の押出が困難となるので好ましく
ない。成分Ｄの配合量が多すぎると、黄変の原因になっ
たり、またブリードアウトを起こし、ヒートシール性を
阻害したりするので好ましくない。

【００５７】〔４〕押出成形体の物性 本発明の樹脂組成物を以下の成形条件にてフィルム成形
したとき、該フィルムのコロナ処理面の表面粗さを以下
の測定条件で測定したとき、±２００nm以上のピークが
単位面積（ｍｍ^２）当たり５個以上、好ましくは７個以
上、特に好ましくは９個以上検出され、±５０nm以上の
ピークが１６５個以下、好ましくは１４０個以下、特に
好ましくは１２０個以下であることが好ましい。

【００５８】（成形条件） 成形機 ：プラコー社製３５mmφＴダイ成形機 成形温度：２５０℃ 引取速度：１２．５ｍ／分 ロール温度：４０℃ フィルム厚み：４０μｍ コロナ処理：４５dyne

【００５９】（測定方法）フィルム表面を 小坂林研究
所製三次元表面粗さ計（ＥＴ−３０ＨＫ）を用いて、カ
ットオフ値（λｃ）０．２５ｍｍで、長さ２ｍｍにわた
って測定し、４μｍピッチで５００点に分割し、各点の
高さを三次元粗さ解析装置（ＳＰＡ−１１）に取り込ん
だ。これと同様の操作を１０μｍ間隔で５０回、即ち、
幅方向０．５ｍｍにわたって行い、解析装置に表面粗さ
曲線として取り込んだ。解析操作は次のようにして行っ
た。この粗さ曲線の平均線に平行で±５０ｎｍだけ離れ
たレベルに２本のピークカウントレベルを設け、この下
側のピークカウントレベルと曲線が交差する２点間にお
いて、上側のピークカウントレベルと曲線が交差する点
が１回以上存在するとき、１山としてカウントし、単位
面積（ｍｍ^２）当たりに換算したものを山数（Ｐｃ）と
して表した。この解析操作を±５０ｎｍと±２００ｎｍ
について行った。

【００６０】［５］組成物の調製、その成形、加工 本
発明の樹脂組成物は通常の方法で製造される。例えば成
分Ａと成分Ｂを押出機、ブラベンダープラストグラフ、
バンバリーミキサー、ニーダーブレンダーなどを用いて
溶融、混練し通常用いられる方法でペレット状とするの
が普通である。このペレットを用いてフィルムを製造す
ることができる。フィルムの製造方法は、空冷インフレ
ーション成形、空冷２段冷却インフレーション成形、Ｔ
−ダイフィルム成形、水冷インフレーション成形などで
包装用材料に好適なフィルムを得ることができる。本発
明の樹脂組成物には、一般的に用いられている補助添加
成分、例えば、光安定剤、紫外線吸収剤、中和剤、防曇
剤、着色剤などを配合しても良い。

【００６１】

【実施例】以下に本発明の実施例を記載し、本発明を具
体的に説明する。実施例および比較例に用いられる測定
方法は次の通りである。 (1) ＭＦＲ：ＪＩＳ Ｋ７２１０に準拠（１９０℃，
２．１６ｋｇ荷重） (2) 密度：ＪＩＳ Ｋ７１１２に準拠 (3) メルトテンション（ＭＴ）：東洋精機製キャピロ
グラフ１−Ｂを使用し、試験温度１９０℃、押出速度１
cm／分、押し出された溶融樹脂を引き取る際の引取速度
を徐々に速くして樹脂フィラメントが破断したときの応
力を測定した。 (4) メモリーエフェクト（Ｍemory Ｅffect ：ＭＥ）
ＪＩＳ Ｋ７２１０で使用されメルトインデクサーを使
用し、測定条件を、シリンダー温度２４０℃、定速押出
量３ｇ／分に設定して行った。装置にサンプルを充填
し、ピストンのみを乗せ、６分後に規定の押出速度をか
ける。次に、エチルアルコールをいれたメスシリンダー
をオリフィス直下に置き、真っ直ぐな押出物を採取す
る。採取した押出物の直径（Ｄ）をマイクロメーターで
測定し、ダイスのオリフィス径をＤ_０ とし、次式によ
りＭＥを求める。 ＭＥ＝Ｄ／Ｄ_０

【００６２】(5) Ｑ値：サイズ排除クロマトグラフィ
ー(Size Exclusion Chromatography : SEC) を用いて、
以下に示す測定条件下で測定し、重量平均分子量／数平
均分子量よりＱ値を求めた。なお、単分散ポリスチレン
でユニバーサルな検量線を作成し、直鎖のポリエチレン
の分子量として計算した。 機種：Ｗaters Ｍodel １５０Ｃ ＧＰＣ 溶媒：ｏ−ジクロロベンゼン 流速：１mｌ／分 温度：１４０℃ 測定濃度：２mg／ml 注入量：２００μｌ カラム：昭和電工社製 ＡＤ８０Ｍ／Ｓ ３本

【００６３】(6) 溶出曲線の測定 本発明における温度上昇溶離分別（Temperature Rising
ElutionFractionation：ＴＲＥＦ）による溶出曲線の
ピークは、一度高温にてポリマーを完全に溶解させた後
に冷却し、不活性担体表面に薄いポリマー層を生成さ
せ、次いで、温度を連続又は段階的に昇温して、溶出し
た成分を回収し、その濃度を連続的に検出して、その溶
出量と溶出温度によって描かれるグラフ（溶出曲線）の
ピークで、ポリマーの組成分布を測定するものである。

【００６４】該溶出曲線の測定は、以下のようにして行
った。測定装置としてクロス分別装置（三菱油化（株）
製 ＣＦＣ Ｔ１５０Ａ）を使用し、付属の操作マニュ
アルの測定法に従って行った。このクロス分別装置は、
試料を溶解温度の差を利用して分別する温度上昇溶離分
別（ＴＲＥＦ）機構と、分別された区分を更に分子サイ
ズで分別するサイズ排除クロマトグラフ（Size Exclusi
on Chromatography ：ＳＥＣ）をオンラインで接続した
装置である。

【００６５】まず、測定すべきサンプル（共重合体）を
溶媒（ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、濃度が４ｍｇ／
ｍｌとなるように、１４０℃で溶解し、これを測定装置
内のサンプルループ内に注入する。以下の測定は設定条
件に従って自動的に行われる。サンプルループ内に保持
された試料溶液は、溶解温度の差を利用して分別するＴ
ＲＥＦカラム（不活性担体であるガラスビーズが充填さ
れた内径４ｍｍ、長さ１５０ｍｍの装置付属のステンレ
ス製カラム）に０．４ｍｌ注入される。次に、該サンプ
ルを１℃／分の速度で１４０℃から０℃の温度まで冷却
し、上記不活性担体にコーティングさせる。このとき、
高結晶性成分（結晶しやすいもの）から低結晶性成分
（結晶しにくいもの）の順で不活性担体表面にポリマー
層が形成される。ＴＲＥＦカラムが０℃で更に３０分間
保持された後、０℃の温度で溶解している成分２ｍｌ
が、１ｍｌ／分の流速でＴＲＥＦカラムからＳＥＣカラ
ム（昭和電工社製 ＡＤ８０Ｍ／Ｓ ３本）へ注入され
る。ＳＥＣで分子サイズでの分別が行われている間に、
ＴＲＥＦカラムでは次の溶出温度（５℃）に昇温され、
その温度に約３０分間保持される。ＳＥＣでの各溶出区
分の測定は３９分間隔で行われた。溶出温度は以下の温
度で段階的に昇温される。０，５，１０，１５，２０，
２５，３０，３５，４０，４５，４９，５２，５５，５
８，６１，６４，６７，７０，７３，７６，７９、８
２，８５，８８、９１，９４，９７，１００，１０２，
１２０，１４０℃

【００６６】該ＳＥＣカラムで分子サイズによって分別
された溶液は、装置付属の赤外分光光度計でポリマーの
濃度に比例する吸光度が測定され（波長３．４２μ，メ
チレンの伸縮振動で検出）、各溶出温度区分のクロマト
グラムが得られる。内蔵のデータ処理ソフトを用い、上
記測定で得られた各溶出温度区分のクロマトグラムのベ
ースラインを引き、演算処理される。各クロマトグラム
の面積が積分され、積分溶出曲線が計算される。また、
この積分溶出曲線を温度で微分して、微分溶出曲線が計
算される。計算結果の作図はプリンターに出力される。
出力された微分溶出曲線の作図は、横軸に溶出温度を１
００℃当たり８９．３ｍｍ、縦軸に微分量（全積分溶出
量を１．０に規格し、１℃の変化量を微分量とした）
０．１当たり７６．５ｍｍで行った。次に、この微分溶
出曲線のピーク高さ（ｍｍ）を１／２高さの幅（ｍｍ）
で除した値をＨ／Ｗとした。ＴＲＥＦを以下の条件にて
測定を行った。測定に当たり、各溶出温度（℃）に於け
る溶出物の重量分率を積分し積分溶出量を求める。横軸
に溶出温度、縦軸に積分溶出量をプロットし、積分溶出
曲線を作成する。この積分溶出曲線を温度で微分し、微
分溶出量を求める。次に横軸に溶出温度、縦軸に微分溶
出量をプロットし、微分溶出曲線を作成する。この微分
溶出曲線のピーク高さＨ（mm）を１／２高さにおける幅
Ｗで除した値をＨ／Ｗとする。

【００６７】この微分溶出曲線の作図は、横軸を溶出温
度１００℃当たり８９．３mm、縦軸を微分量０．１当た
り７６．５mmで行った。 機種： 三菱油化社製 ＣＦＣＴ１５０Ａ 溶媒： ｏ−ジクロロベンゼン 流速： １m1／分 測定濃度： ４mg／ml 注入量： ０．４ml カラム： 昭和電工社製 ＡＤ８０Ｍ／Ｓ ３本 冷却速度： １℃／分

【００６８】 (7) ヘイズ（ＨＡＺＥ）：ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠 (8) 引張強伸度：ＪＩＳ Ｋ６７８１に準拠 (9) ＤＤＩ（ダートドロップインパクト）：ＪＩＳ
Ｚ１７０７に準拠 (10) ３００ｇ荷重ヒートシール温度：東洋精機製熱盤
式ヒートシーラーにて、８０℃から５℃間隔でシール圧
力: ２kg／cm^２、シール時間：１秒でヒートシールし、
引張試験機にてヒートシール強度を測定する。このヒー
トシール強度が３００ｇ得られる温度を３００ｇ荷重ヒ
ートシール温度とする。 (11) 静摩擦係数：ＡＳＴＭ Ｄ１８９４に準拠 (12) ブロッキング 200mm ×300mm の試験片２枚を接触面が20mm×50mmとな
るように重ね合わせて１組とし、ガラス板／薄紙／１組
の試験片／薄紙／ガラス板の順で重ね合わせた。次い
で、これをギヤーオーブンに入れ、上下に１５kgの荷重
をかけた（温度４５℃、２４時間）。次いで、ギヤーオ
ーブンから取り出した１組の試験片を引張試験機で速度
500mm/分で剪断剥離し、そのときの最大荷重（ｇ）を読
み取る。 (13) △ＭＦＲ：温度２５０℃で単軸押出機で造粒する
前後の樹脂組成物のＭＦＲを測定し（ＪＩＳ Ｋ７２１
０準拠．）、その差を△ＭＦＲとする。 (14) 色相：ＪＩＳ Ｋ７１０３に準拠。

【００６９】実施例１エチレン・α−オレフィン共重合体（成分Ａ１）の製造 触媒の調製は、特開昭６１−１３０３１４号公報に記載
された方法で実施した。すなわち、錯体エチレンビス
（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニ
ウムジクロライド２．０ミリモルに、東洋ストウファー
社製メチルアルモキサンを上記錯体に対し１０００モル
倍加え、トルエンで１０リットルに希釈して触媒溶液を
調製し、以下の方法で重合を行った。内容積１．５リッ
トル撹拌式オートクレーブ型連続反応器に、エチレンと
１−ヘキセンとの混合物を１−ヘキセンの組成が８０重
量％となるように供給し、反応器内の圧力を１１００kg
／cm^２に保ち、１５０℃の温度で反応を行った。反応終
了後、ＭＦＲが３．３ｇ／１０分、密度が０．９０４ｇ
／cm^３、Ｑ値が２、ＴＲＥＦ溶出曲線のピークが１つで
あり、ピーク温度が６１℃であり、該ピークの１／２高
さのＨ／Ｗが４であり、５０℃に於ける溶出量が１２重
量％であるエチレン・１−ヘキセン共重合体（１−ヘキ
セン含量１５重量％）を得た。

【００７０】エチレン系重合体（成分Ａ２）の製造 エチレンを、反応温度２６０℃、反応圧力１５００kg／
cm^２で、オートクレーブ法で重合した。反応終了後、Ｍ
ＦＲが３．８ｇ／１０分、密度が０．９２ｇ/cm^３、Ｍ
Ｔが９．８ｇ、ＭＥが２．５、Ｑ値が１２の高圧法低密
度ポリエチレンを得た。

【００７１】成分Ｂ B1: 非晶性アルミノシリケート（水沢化学社製「AMT3
0」） B2: タルク（日本ミストロン社製「ミストロン850J」） B3: 非晶性カルシウム・アルミノシリケ―ト ( 水沢化
学社製「JC30」)

【００７２】成分Ｃ C1: エルシン酸アミド（日本精化社製「N22」） C2: ベヘニン酸アミド（日本精化社製） C3: エチレンビスオレイン酸アミド（日本油脂社製「ア
ルフロ-AD-281」)

【００７３】成分Ｄ D1: オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート( 日本チバガイギ
―社製「IRGANOX 1076」) D2: テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト( サンド社製
「Sandstab PEPQ」) D3: トリス( ２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト（日本チバガイギ―社製「PHOSPHITE 168」）

【００７４】各成分のブレンド、成形及び成形体の評価 表１に記載した成分Ａ〜Ｄを各々、常法に従って混合
し、樹脂組成物とした後、これを用いて以下の条件にて
Ｔダイフィルム成形を行い、このフィルムについて評価
を行った。評価結果を表１に示す。 （成形条件）機種：プラコー社製 ３５mmφＴダイ成形機 成形温度：２５０℃ 引取速度：１２. ５ｍ／分 ロール温度：４０℃ フィルム厚み：４０μｍ コロナ処理：４５dyne

【００７５】実施例２〜８及び１０および比較例３〜４ 成分Ａ１及び成分Ａ２、成分Ｂ、成分Ｃ、成分Ｄとして
表１に示す物性のものを用いた以外は実施例１と同様に
成形し、評価した。評価の結果は表１および表２に示す
通りである。

【００７６】比較例１〜２ 成分Ａ１として、チーグラー系触媒を用いて製造した、
各種の線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を使用し
た以外は実施例１と同様に成形し、評価した。その結果
を表２に示す。

【００７７】

【表１】

【００７８】

【表２】

【００７９】

【表３】

【００８０】

【表４】

【００８１】

【表５】

【００８２】

【発明の効果】本発明のフィルムは、透明性とアンチブ
ロッキング性のバランスに優れ、ヒートシール性、スリ
ップ性などのフィルムに要求される性能が大幅に改良さ
れるので、ドライラミネート原反、ファッションバッ
グ、ストレッチフィルム繊維包装等の高透明あるいは低
温ヒートシール性の要求される分野の各種包装用フィル
ム材料、高級フィルム材料として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/5399 Ｃ０８Ｋ 5/5399

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の成分Ａ〜Ｃを含有する樹脂組成物
   から製造されたフィルムであって、その表面粗さが±２
   ００ｎｍ以上のピークが５個／ｍｍ^２以上、且つ±５０
   ｎｍ以上のピークが１６５個／ｍｍ^２以下であことを特
   徴としりフィルム。 成分Ａ：以下の〜の性状を有するエチレンと炭素数
   ４〜４０のα−オレフィンとの共重合体 １００重量部 メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜１０ｇ／
   １０分 密度が０．８８〜０．９３５ｇ／cm^３ 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によって得られる溶
   出曲線のピークが１以上存在し、主ピークの温度が３０
   〜１００℃であり、該主ピークの高さをＨとし、該主ピ
   ークの１／２高さにおける幅をＷとしたときのＨ／Ｗが
   １以上であり、該ピークの溶出温度以外の温度において
   溶出するものが実質的に該溶出曲線に存在することがあ
   る 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）による５０℃に於け
   る溶出量（Ｙ：成分Ａ全量に対する重量％）が以下の条
   件を満たすものである 1) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３未満である
   とき、 Ｙ（％）≦−４５００Ｄ＋４１０５（ただし、Ｙ≦１０
   ０） 2) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３以上である
   とき、 Ｙ（％）≦１０ 成分Ｂ：Ｓｉ，Ａｌ，Ｎａ，Ｍｇ，ＣａおよびＢａから
   なる群より選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物から
   構成される無機化合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモノ又はビスアミド化
   合物 ０．０１〜１重量部 【化１】 ［式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立して、水酸基、炭
   素数１以上の炭化水素基、もしくは水素、酸素、炭素、
   窒素、リン及び／又は硫黄元素から構成される置換基を
   示す］ 【化２】 ［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素、酸
   素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素から構成され
   る置換基を示す］ 【化３】 ［式中、Ｒ^１は水素原子、金属原子または炭素数１〜２
   ２の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜
   ６の低級アルキルを示す］
2. 【請求項２】 前記樹脂組成物がさらに下記Ｄ成分を含
   有する請求項１記載のフィルム。
3. 【請求項３】 下記の成分Ａ〜Ｄを含有する請求項１記
   載のフィルム。 成分Ａ：以下の〜の性状を有するエチレンと炭素数
   ４〜４０のα−オレフィンとの共重合体（成分Ａ１）５
   ０〜９９重量％および以下の（ａ）〜（ｄ）の性状を有
   する該エチレンと炭素数４以上のα−オレフィンとの共
   重合体以外のエチレン系共重合体（成分Ａ２）１〜５０
   重量％からなる重合体組成物 １００重量部 メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜１０ｇ／
   １０分 密度が０．８８〜０．９３５ｇ／cm^３ 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によって得られる溶
   出曲線のピークが１以上存在し、主ピークの温度が３０
   〜１００℃であり、該主ピークの高さをＨとし、該主ピ
   ークの１／２高さにおける幅をＷとしたときのＨ／Ｗが
   １以上であり、該ピークの溶出温度以外の温度において
   溶出するものが実質的に該溶出曲線に存在することがあ
   る 温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）による５０℃に於け
   る溶出量（Ｙ：成分Ａ全量に対する重量％）が以下の条
   件を満たすものである 1) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３未満である
   とき、 Ｙ（％）≦−４５００Ｄ＋４１０５（ただし、Ｙ≦１０
   ０） 2) 成分Ａの密度（Ｄ）が０．９１ｇ／cm^３以上である
   とき、 Ｙ（％）≦１０ (a) メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜２０ｇ／
   １０分 (b) 密度が０．８８〜０．９３ｇ／cm３ (c) メルトテンション（Ｍelt Ｔension：ＭＴ）が１．
   ０ｇ以上 (d) メモリーエフェクト（Ｍemory Ｅffect：ＭＥ）が
   １．３以上 成分Ｂ：Ｓｉ，Ａｌ，Ｎａ，Ｍｇ，ＣａおよびＢａから
   なる群より選ばれる少なくとも１種の元素の酸化物から
   構成される無機化合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｃ：直鎖状モノカルボン酸のモノ又はビスアミド化
   合物 ０．０１〜１重量部 成分Ｄ：下記一般式（I）で示される化合物と、下記一
   般式（II）又は一般式（II’）で示される化合物との併
   用物 ０．０１〜１重量部 【化４】 ［式中、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立して、水酸基、炭
   素数１以上の炭化水素基、もしくは水素、酸素、炭素、
   窒素、リン及び／又は硫黄元素から構成される置換基を
   示す］ 【化５】 ［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立して、水素、酸
   素、炭素、窒素、リン及び／又は硫黄元素から構成され
   る置換基を示す］ 【化６】 ［式中、Ｒ^１は水素原子、金属原子または炭素数１〜２
   ２の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜
   ６の低級アルキルを示す］