JPH11240653A - Slit base material take-up device - Google Patents

Slit base material take-up device

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Publication number
JPH11240653A
JPH11240653A JP5906498A JP5906498A JPH11240653A JP H11240653 A JPH11240653 A JP H11240653A JP 5906498 A JP5906498 A JP 5906498A JP 5906498 A JP5906498 A JP 5906498A JP H11240653 A JPH11240653 A JP H11240653A
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JP
Japan
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base material
slit
lead frame
winding
spool
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5906498A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Kotani
圭一 小谷
Kenji Nakamura
賢二 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP5906498A priority Critical patent/JPH11240653A/en
Publication of JPH11240653A publication Critical patent/JPH11240653A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2301/00Handling processes for sheets or webs
    • B65H2301/50Auxiliary process performed during handling process
    • B65H2301/51Modifying a characteristic of handled material
    • B65H2301/513Modifying electric properties
    • B65H2301/5133Removing electrostatic charge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Winding Of Webs (AREA)
  • Controlling Rewinding, Feeding, Winding, Or Abnormalities Of Webs (AREA)
  • Winding, Rewinding, Material Storage Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a take-up device that takes up multilines of lead frame strips that are slit from a lead-frame base material paged in multilines and subjected to terminal formation by photo-etching, stably or without deteriorating their quality. SOLUTION: A slit base material take-up device comprises a plurality of spools 32 fitted on a driveshaft 31, a power source 41 for rotating the driveshaft 31, a plurality of guide rollers 33 located on the upstream side of the spools 32 to guide multilines of a base material 2 slit toward the spools 32, and feed rollers 20 located on the upstream side of the guide rollers 33 to deliver the slit base material multilines 2. Between the guide rollers 33 and feed rollers 20, a sag space 34 is defined where the base material 2 is allowed to sag down by its deadweight, in which space 34 pairs of detectors 42a, 42b and 43a, 43b are placed to detect any sag of the base material 2. The multilines of the slit base material 2 are wound about the spools 32 through control of the rotational frequency of the power source 41 for driving the spools 32 on the basis of sag detection signals from the detectors 42a, 42b, 43a and 43b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームの
製造装置に関するものであり、特に、多列に面付けされ
た長尺のリードフレーム基材をスリット加工装置でスリ
ットした後、スリットされた多列のリードフレーム基材
を巻き取る巻取装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a lead frame, and more particularly, to a method for slitting a long lead frame base material arranged in multiple rows by a slit processing apparatus and then slitting the lead frame base. The present invention relates to a winding device for winding a lead frame base material in a row.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路(IC)の製造技
術が格段に進歩し、大容量で多機能の超高集積ICが、
大量生産されるようになった。この超高集積ICに用い
られるリードフレームは、集積回路の多端子化にともな
って微細化しており、そのため、金属薄板の精密加工技
術として好適なフォトエッチング技術によって製造され
る場合が多い。
2. Description of the Related Art In recent years, the manufacturing technology of semiconductor integrated circuits (ICs) has advanced remarkably, and large-capacity, multifunctional ultra-high-integration ICs have been developed.
Mass production has begun. The lead frame used in this ultra-highly integrated IC has been miniaturized as the number of terminals of the integrated circuit has increased, and therefore, it is often manufactured by a photo-etching technique suitable as a precision processing technique for a thin metal plate.

【0003】この種のリードフレームを製造する場合
は、従来、500×500mm程度のシート状の銅合金
または鉄合金の金属薄板に、フォトレジストを塗布し、
写真製版法で多面に面付けされた端子パターンを形成し
た後、それをエッチングし、さらに端子先端に貴金属を
メッキして製作していた。シート状で製作されたリード
フレーム基材は、一般に、図1に示すように、短冊状に
切断加工した後、半導体集積回路の組立工程であるボン
ディング装置に供給される。
[0003] When manufacturing this type of lead frame, conventionally, a photoresist is applied to a sheet-like thin metal sheet of a copper alloy or an iron alloy of about 500 x 500 mm,
After forming a multi-sided terminal pattern by a photoengraving method, the terminal pattern is etched, and the terminal end is plated with a noble metal. The lead frame base material manufactured in a sheet shape is generally cut into a strip shape as shown in FIG. 1, and then supplied to a bonding apparatus which is an assembly process of a semiconductor integrated circuit.

【0004】しかしながら、リードフレームをシート状
の金属薄板を用いて製造するときは、金属薄板のハンド
リングや、金属薄板に加工する端子パターンや、前記端
子パターンによってエッチング加工された端子に、メッ
キパターンを位置合わせするのが容易ではなく、リード
フレーム製造工程の自動化や高速化を図るうえで、問題
となっていた。そこで、リードフレーム用基材として、
長尺の帯状巻取金属薄板を使用し、リードフレームを連
続して多列に面付けすることで、リードフレーム製造工
程の自動化や省力化を図る試みがなされている。
However, when a lead frame is manufactured using a sheet-shaped metal sheet, a plating pattern is applied to the handling of the metal sheet, the terminal pattern processed into the metal sheet, and the terminal etched by the terminal pattern. Positioning is not easy, and it has been a problem in automating and speeding up the lead frame manufacturing process. Therefore, as a lead frame base material,
Attempts have been made to use a long strip-shaped rolled-up metal sheet and to continuously and in multiple rows of lead frames to automate the lead frame manufacturing process and save labor.

【0005】その場合、写真製版法で多列に面付けされ
て、フォトエッチング技術により端子加工を施した長尺
のリードフレーム基材を、単列のリードフレーム条に分
離加工する必要があり、例えば、回転刃を用いてリード
フレーム基材をスリットする方法がある。しかし、リー
ドフレームの幅寸法やスリット位置を所定の精度内にお
さめるためには、回転刃の位置をリードフレーム条の面
付け位置に正確に合わせる必要があるが、基材に面付け
されるリードフレームの端子パターンは、基材の幅方向
にその位置がずれることがあり、また、エッチング加工
された広幅の金属薄板は、歪んだり曲がったりするた
め、回転刃の位置決めが困難である。
In such a case, it is necessary to separate and process a long lead frame base material which is imposed in multiple rows by a photoengraving method and subjected to terminal processing by a photo etching technique into a single row of lead frame strips. For example, there is a method of slitting a lead frame base material using a rotary blade. However, in order to keep the width dimension and slit position of the lead frame within the predetermined accuracy, it is necessary to accurately adjust the position of the rotary blade to the imposition position of the lead frame strip. The position of the terminal pattern of the frame may be shifted in the width direction of the base material, and the etching of the wide metal sheet is distorted or bent, so that it is difficult to position the rotary blade.

【0006】そこで、リードフレームの端子を形成する
ためのフォトエッチング工程において、リードフレーム
の条と条との境界に、ハーフエッチング加工による溝を
施すことにした。そして、条と条とを交互に異なる方向
へ牽引することによって、ハーフエッチング加工による
溝を引き裂き、よって単列のリードフレーム条に分離す
ることにより、回転刃を用いる場合と比較して、正確な
位置決めなしでも精度良く単列に分離加工することがで
きるようになった。また、回転刃を用いないので刃の磨
耗を考慮する必要がなく、常に安定してリードフレーム
基材を分離加工することができるようになった。
Therefore, in the photo-etching step for forming the terminals of the lead frame, grooves are formed by half-etching at the boundaries between the leads of the lead frame. Then, by alternately pulling the strips in different directions, the grooves formed by the half-etching process are torn, thereby separating into single-row leadframe strips, which is more accurate than in the case of using a rotary blade. It is now possible to perform single-row separation processing with high accuracy without positioning. Further, since the rotary blade is not used, it is not necessary to consider the wear of the blade, and the lead frame base material can always be stably separated.

【0007】さらに、リードフレーム条とリードフレー
ム条との間に、基材の長手方向に一定間隔で横架し、前
記リードフレーム条との境界に、基材の長手方向と並行
なハーフエッチング加工による溝を形成した横架部を設
け、前記リードフレーム条と横架部との境界に形成され
た溝を引き裂いて、リードフレーム条とリードフレーム
条との間に横架された横架部を、基材から分離すること
によって、単列のリードフレーム条を得る方法が提案さ
れた。
Further, a half-etching process is carried out between the lead frame strips at a predetermined interval in the longitudinal direction of the base material at a constant interval in the longitudinal direction of the base material, and at the boundary with the lead frame strip, in parallel with the longitudinal direction of the base material. A horizontal portion having a groove formed therein is provided, and a groove formed at a boundary between the lead frame strip and the horizontal section is torn, thereby forming a horizontal section between the lead frame strip and the lead frame strip. There has been proposed a method of obtaining a single-row lead frame strip by separating the lead frame strip from a substrate.

【0008】また、リードフレーム条とリードフレーム
条との間に、基材の長手方向に一定間隔で横架された横
架部を、連結条を介して相互に連結し、該連結条をリー
ドフレーム条とは異なる方向へ牽引することによって、
リードフレーム条と横架部との境界に形成された溝を引
き裂き、単列に分離された多列のリードフレーム条を得
る方法も提案されている。
[0008] Further, between the lead frame strips, a horizontal portion which is bridged at regular intervals in the longitudinal direction of the base material is connected to each other via a connecting strip, and the connecting strip is connected to the lead. By pulling in a different direction from the frame strip,
A method has also been proposed in which a groove formed at the boundary between the lead frame strip and the horizontal portion is torn to obtain a multi-row lead frame strip separated into single rows.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】長尺の帯状巻取金属薄
板を用いて多列に面付けし、フォトエッチング技術によ
り端子加工を施したリードフレーム基材は、上述した種
々の方法で、単列のリードフレーム条にスリットされた
後、多列に配列されたスプールまたはリールに、列単位
で一括して巻き取られる。このとき巻き取られる各リー
ドフレーム条には、極微細な寸法の端子が多数形成され
ており、僅かの外力でその端子形状が容易に変形されや
すくなっている。そのため、スリットされたリードフレ
ーム基材を、スプール等に巻き取るときは、その巻取方
法や巻取装置の構成が重要な課題となる。
The lead frame base material, which is provided in multiple rows using long strip-shaped rolled-up metal sheets and subjected to terminal processing by the photo-etching technique, can be simply formed by the above-described various methods. After being slit into the lead frame strips in a row, they are collectively wound up in spools or reels arranged in multiple rows in row units. At this time, a large number of extremely fine terminals are formed on each of the lead frame strips to be wound, and the terminal shape is easily deformed by a slight external force. Therefore, when winding the slit lead frame base material on a spool or the like, the winding method and the configuration of the winding device are important issues.

【0010】例えば、外力に弱い基材を巻き取るとき
は、基材に対し余分な張力が作用しないように巻き取る
ことが重要である。また、巻取中の基材が巻取装置を構
成する部材と擦れたり、基材同士が擦れて、基材に擦り
傷や変形を生じないように巻取装置の構成を配慮しなけ
ればならない。さらに、巻取装置の安定した動作や、装
置の操作性も重要な要素となる。
For example, when winding a substrate which is weak against external force, it is important to wind the substrate so that no extra tension acts on the substrate. In addition, it is necessary to consider the configuration of the winding device so that the substrate being wound does not rub against the members constituting the winding device, or the substrates rub against each other to cause abrasion or deformation of the substrate. Further, stable operation of the winding device and operability of the device are also important factors.

【0011】すなわち、本発明の目的は、リードフレー
ム製造工程の自動化や省力化を図るため、長尺の帯状巻
取金属薄板を用いて製造されるリードフレームの製造工
程において、多列に面付けされて、フォトエッチングに
より端子加工を施したリードフレーム基材を、単列のリ
ードフレーム条にスリットした後、前記スリットされた
多列のリードフレーム条を、品質を損なうことなく安定
して巻き取るためのスリット基材の巻取装置を提供する
ことである。
That is, an object of the present invention is to provide a multi-row imposition in a manufacturing process of a lead frame manufactured by using a long strip-shaped rolled metal sheet in order to automate the manufacturing process of the lead frame and save labor. Then, after slitting the lead frame base material that has been subjected to the terminal processing by photoetching into a single row of lead frame strips, the multi-rowed lead frame strips are wound up stably without deteriorating the quality. To provide a slit substrate winding device for the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のスリット基材の
巻取装置は、請求項1に示す発明によれば、一本の駆動
軸に着脱可能に挿通された複数のスプールと、前記駆動
軸を回転駆動する動力源と、前記複数のスプールの上流
に配置され、スリットされた多列の基材を各スプールへ
向けて案内する回転自在な複数のガイドローラと、前記
複数のガイドローラの上流に配置され、スリットされた
多列の基材を挟持して搬送する搬送ローラとで構成さ
れ、前記複数のガイドローラと搬送ローラとの間に、ス
リットされた多列の基材が自重によって垂れ下がること
が可能な弛み空間が設けられ、前記弛み空間には、基材
の弛み量を検知する検知器を備えている巻取装置であ
り、前記検知器の基材弛み量検知信号によって、スプー
ルを回転駆動する動力源の回転数を制御しながら、スリ
ットされた多列の基材を、一括してスプールに巻き取る
ように構成されている。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for winding a slit base material, comprising: a plurality of spools removably inserted into one drive shaft; A power source that rotationally drives a shaft, a plurality of rotatable guide rollers that are arranged upstream of the plurality of spools, and guide the multi-row slit substrates toward each spool, and a plurality of the guide rollers. It is arranged upstream, and comprises a transport roller for nipping and transporting the multi-row slit base material, and between the plurality of guide rollers and the transport roller, the multi-row slit substrate is self-weighted. A take-up device provided with a slack space that can hang down, and the slack space includes a detector that detects a slack amount of the base material. Power to rotate the While controlling the rotational speed, the substrate slit has been multi-row, are configured to wind the spool collectively.

【0013】本発明のスリット基材の巻取装置は、請求
項2に示す発明によれば、スリットされた多列の基材を
巻き取るスプールは、基材のスリット間隔よりも広い間
隔で一列に配列されている。
According to the second aspect of the present invention, the spool for winding a multi-row slit substrate is arranged in a line at a wider interval than the slit interval of the substrate. Are arranged.

【0014】本発明のスリット基材の巻取装置は、請求
項3に示す発明によれば、前記複数のガイドローラの周
面が、それぞれ凹面形状である。
According to a third aspect of the present invention, the peripheral surface of each of the plurality of guide rollers has a concave shape.

【0015】本発明のスリット基材の巻取装置は、請求
項4に示す発明によれば、前記弛み空間に備えられた基
材の弛み量を検知する検知器は、基材の弛みの最小量を
検知する第1の検知器と、基材の弛みの最大量を検知す
る第2の検知器とで構成されている。
According to a fourth aspect of the present invention, the detector for detecting the amount of slack of the base material provided in the slack space has a minimum length of slack of the base material. It comprises a first detector for detecting the amount and a second detector for detecting the maximum amount of slack of the substrate.

【0016】本発明のスリット基材の巻取装置は、請求
項5に示す発明によれば、スリットされた多列の基材を
巻き取るスプールへ向けて、合紙を供給する合紙供給機
構を備えている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an interleaf paper supply mechanism for supplying interleaf paper to a spool for winding a multi-row slit substrate. It has.

【0017】本発明のスリット基材の巻取装置は、請求
項6に示す発明によれば、スリットされた基材の進行方
向と直交する方向に移動可能な架台上に、請求項1〜請
求項5に記載の巻取装置を、前記架台の移動方向へ直列
に2組備えている。
According to the invention as set forth in claim 6, the apparatus for winding a slit base material of the present invention is provided on a frame movable in a direction orthogonal to the direction of travel of the slit base material. Item 2 includes two sets of the winding devices in series in the moving direction of the gantry.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、実施例の
図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図1は、リ
ードフレームの一例を示す平面図である。また、図2
は、リードフレーム製造工程の一例を示す工程図であ
る。さらに、図3は、リードフレーム基材の加工例を示
す平面図である。図4は、図3に示したリードフレーム
基材の拡大断面斜視図である。さらにまた、図5は、リ
ードフレーム基材を多列にスリットする加工装置の一例
を示す側面透視図である。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view showing an example of a lead frame. FIG.
FIG. 3 is a process diagram showing an example of a lead frame manufacturing process. FIG. 3 is a plan view showing an example of processing a lead frame base material. FIG. 4 is an enlarged sectional perspective view of the lead frame base material shown in FIG. FIG. 5 is a side perspective view showing an example of a processing apparatus for slitting a lead frame base material in multiple rows.

【0019】(リードフレームの製造工程)先ず始め
に、半導体集積回路(IC)用リードフレームについて
説明する。リードフレームは、図1に示すように、IC
を載置するダイマウントaと、該ダイマウントaにボン
ディングされたICの多数の端子パッドに金属線をボン
ディングし、外部に配線するための複数のインナリード
bと、該インナリードbと接続され、プリント基板の配
線端子と接続するための複数のアウタリードcと、IC
組立中に、前記ダイマウントaやインナリードb、アウ
タリードcを、一定の位置に配列して固定するための枠
部(図示せず)などで構成されている。
(Manufacturing Process of Lead Frame) First, a lead frame for a semiconductor integrated circuit (IC) will be described. The lead frame is, as shown in FIG.
A plurality of inner leads b for bonding metal wires to a large number of terminal pads of the IC bonded to the die mount a, and connecting the inner leads b to the outside, and connected to the inner leads b. A plurality of outer leads c for connecting to wiring terminals of a printed circuit board, and an IC
A frame (not shown) for arranging and fixing the die mount a, the inner lead b, and the outer lead c at predetermined positions during assembly is provided.

【0020】前記リードフレームは、鉄や鉄合金、また
は銅や銅合金などの金属薄板、もしくは帯条材を基材と
し、先ず、この基材にフォトエッチング処理を施して、
不要部分を除去し、ダイマウント、インナリード、アウ
タリードなどの端子を形成する。次に、端子の先端が露
出するようにマスクをかけ、メッキ処理により金、銀、
またはパラジウムなどの貴金属の皮膜を端子の先端に施
してリードフレームとする。このリードフレームは、通
常、図1に示すように、複数個のリードフレーム素子1
−1〜1−5が直列に配列された短冊状に形成される。
The lead frame is made of a thin metal plate such as iron or iron alloy, or copper or copper alloy, or a strip material, and firstly, the base material is subjected to a photo-etching process.
Unnecessary parts are removed to form terminals such as die mounts, inner leads, and outer leads. Next, a mask is applied so that the end of the terminal is exposed, and gold, silver,
Alternatively, a lead metal film such as palladium is applied to the end of the terminal to form a lead frame. This lead frame usually has a plurality of lead frame elements 1 as shown in FIG.
-1 to 1-5 are formed in a strip shape arranged in series.

【0021】次に、帯状巻取基材を用いるリードフレー
ムついて、より具体的に製造工程の一例を説明する。リ
ードフレームの製造は、先ず、基材にフォトエッチング
処理を施して、ダイマウントa、インナリードb、アウ
タリードcなどの端子を形成する。フォトエッチング処
理は、図2に示すように、先ず、基材を洗浄、乾燥(ス
テップS10)した後、フォトレジストを塗布、乾燥
(ステップS11)する。次に、基材の表裏両面に、リ
ードフレームを構成するダイマウント、インナリード、
アウタリードなどの端子パターンを形成した露光マスク
を密着し、紫外線を照射して端子パターンを焼き付ける
(ステップS12)。その後、フォトレジストを現像、
乾燥(ステップS13)し、基材上に、端子パターンの
レジスト膜を形成する。
Next, an example of the manufacturing process of the lead frame using the band-shaped winding base material will be described more specifically. In manufacturing a lead frame, first, a photo-etching process is performed on a base material to form terminals such as a die mount a, an inner lead b, and an outer lead c. In the photo-etching process, as shown in FIG. 2, first, the base material is washed and dried (step S10), and then a photoresist is applied and dried (step S11). Next, on both sides of the base material, die mount, inner lead,
An exposure mask on which a terminal pattern such as an outer lead is formed is brought into close contact with the mask, and the terminal pattern is printed by irradiating ultraviolet rays (step S12). After that, develop the photoresist,
After drying (step S13), a resist film having a terminal pattern is formed on the base material.

【0022】次に、端子パターンのレジスト膜を形成し
た基材に、両面からエッチング液を噴射して端子パター
ン以外の不要部を溶解する(ステップS14)。次い
で、前記レジスト膜を、溶剤で剥離処理した後、ダイマ
ウント、インナリード、アウタリードなどの端子を形成
した基材を洗浄する(ステップS15)。
Next, an unnecessary part other than the terminal pattern is dissolved by spraying an etching solution from both sides onto the base material on which the resist film of the terminal pattern is formed (Step S14). Next, after the resist film is stripped with a solvent, the base material on which terminals such as die mounts, inner leads, and outer leads are formed is washed (step S15).

【0023】この段階におけるリードフレーム基材の状
態を図3に示す。長尺の帯状金属薄板基材を用いたリー
ドフレームの製造では、図1に示したような、複数個の
リードフレーム素子1−1〜1−5で形成される短冊状
のリードフレーム1の端子パターンを、基材の幅方向に
多列面付けし、それを一定周期で基材の長手方向に繰り
返し露光焼付けして、連接された多列のリードフレーム
条からなるリードフレーム基材2を構成する。
FIG. 3 shows the state of the lead frame base material at this stage. In the manufacture of a lead frame using a long strip-shaped metal sheet substrate, terminals of a strip-shaped lead frame 1 formed by a plurality of lead frame elements 1-1 to 1-5 as shown in FIG. The pattern is imposed in multiple rows in the width direction of the base material, and it is repeatedly exposed and baked in the longitudinal direction of the base material at a constant period to form a lead frame base material 2 composed of connected multi-row lead frame strips. I do.

【0024】図3において、2はリードフレーム基材を
示し、2−1、2−2、2−3はリードフレーム基材の
幅方向に多列(図では3列)に形成されたリードフレー
ム条を示す。各リードフレーム条2−1〜3は、それぞ
れ、連接部3を介して、単位リードフレームが基材の長
手方向に多数連接されて形成される。さらに、各リード
フレーム条2−1〜3は、横架部4を介して基材の幅方
向にそれぞれ連接されてリードフレーム基材2を構成す
る。なお、前記横架部4は、リードフレーム条を構成す
る単位リードフレームとは直接連接せず、図3に示すよ
うに、単位リードフレーム間に形成された連接部3と連
接するのが望ましい。また、リードフレーム基材2の両
側端には、リードフレーム条2−1、またはリードフレ
ーム条2−3の連接部3に連結されて余白条2a、2b
が形成されている。さらに、各リードフレーム条2−
1、2−2、2−3を横架して連接する横架部4は、そ
れぞれ連結条4a、または4bを介して基材の長手方向
に連結されている。
In FIG. 3, reference numeral 2 denotes a lead frame base material, and 2-1 to 2-2 represent lead frames formed in multiple rows (three rows in the figure) in the width direction of the lead frame base material. Indicates the article. Each of the lead frame strips 2-1 to 3 is formed by connecting a large number of unit lead frames in the longitudinal direction of the base material via the connecting portion 3. Further, each of the lead frame strips 2-1 to 3 is connected to each other in the width direction of the base material via the horizontal frame 4 to form the lead frame base material 2. It is preferable that the horizontal portion 4 is not directly connected to the unit lead frame constituting the lead frame strip, but is connected to the connecting portion 3 formed between the unit lead frames as shown in FIG. Also, on both side ends of the lead frame base material 2, the connecting strips 3 of the lead frame strip 2-1 or the lead frame strip 2-3 are connected to the margin strips 2a, 2b.
Are formed. Furthermore, each lead frame strip 2-
1, 2, 2-2, and 2-3 are connected in the longitudinal direction of the base material via connecting strips 4a or 4b, respectively.

【0025】前記リードフレーム条2−1〜3、および
余白条2a、2bを横架して連接する横架部4の詳細な
加工例を図4に示す。図において、2−1、2−2はリ
ードフレーム条であり、2aは基材の側端に形成された
余白条を示す。図に示すように、リードフレーム条2−
1〜3は、連結条4aまたは4bによって、基材2の長
手方向に連結された横架部4を介して、連接部3を横架
して連接されている。また、リードフレーム条2−1と
余白条2aとは、直接リードフレーム条の連接部3にて
連結されている。この余白条2aと連接部3との境界、
およびリードフレーム条同士を連接する横架部4と、リ
ードフレーム条の連接部3との境界には、図に示すよう
に、ハーフエッチング加工による溝5が形成されてい
る。この溝5は、リードフレーム基材2を取り扱ううえ
で支障のない程度に、可能な限り、この溝を引き裂くの
に必要な剪断応力が小さくなるように形成される。
FIG. 4 shows a detailed working example of the horizontal section 4 which connects the lead frame strips 2-1 to 2-3 and the blank strips 2a and 2b. In the drawing, 2-1 and 2-2 are lead frame strips, and 2a is a blank strip formed on a side end of the base material. As shown in FIG.
1 to 3 are connected to each other by connecting the connecting portion 3 via the connecting portion 4a or 4b and the connecting portion 3 via the connecting portion 4 connected in the longitudinal direction of the base material 2. Further, the lead frame strip 2-1 and the blank strip 2a are directly connected by the connecting portion 3 of the lead frame strip. The boundary between the margin strip 2a and the connecting portion 3,
A groove 5 formed by half-etching is formed at the boundary between the horizontal portion 4 connecting the lead frame strips and the connecting portion 3 of the lead frame strip, as shown in the figure. The groove 5 is formed such that the shear stress required to tear the groove is as small as possible without any trouble in handling the lead frame base material 2.

【0026】なお、前記連接部3、横架部4、および余
白条2a、2bは、リードフレームの製造工程におい
て、リードフレーム基材2を機械搬送するときに基材に
加わる応力が、直接単位リードフレームに加わることな
く、単位リードフレームを構成する極めて細い端子を保
護するために設けてある。そして、この連接部3、横架
部4、および余白条2a、2bは、最終的には取り除か
れて、図1に示した単位リードフレーム1の形状に整形
される。
In the lead frame manufacturing process, the stress applied to the base material 2 during the mechanical transfer of the base material in the manufacturing process of the lead frame is a direct unit. It is provided to protect the extremely thin terminals constituting the unit lead frame without adding to the lead frame. Then, the connecting portion 3, the horizontal portion 4, and the marginal strips 2a and 2b are finally removed, and are shaped into the unit lead frame 1 shown in FIG.

【0027】次に、リードフレーム基材2は、図2に示
すステップS16において、多列のリードフレーム条
を、それぞれ単列のリードフレーム条2−1、2−2、
2−3に分離する。これは、ステップS17〜S19で
示される後工程のメッキ処理工程が、単列処理になって
いるからである。なぜなら、リードフレーム基材へのメ
ッキ処理は、ICを載置するダイマウントと、前記IC
の端子パッドとリードフレームを結線するための、極細
金属線をボンディングするインナリードの先端部のみに
限られている。つまり、載置するICの品種に対応し
た、多様なリードフレームに適合するメッキ処理装置
は、通常、各種形状や寸法の端子パターンに対応するた
めに、単列のリードフレーム条を処理するよう構成され
ているからである。
Next, in step S16 shown in FIG. 2, the lead frame base material 2 replaces the multi-row lead frame strips with the single-row lead frame strips 2-1 and 2-2, respectively.
Separate into 2-3. This is because the subsequent plating process shown in steps S17 to S19 is a single-row process. This is because the plating process on the lead frame base material is performed by a die mount on which an IC is
Is limited to only the tip of the inner lead for bonding the ultrafine metal wire for connecting the terminal pad to the lead frame. In other words, a plating apparatus suitable for a variety of lead frames corresponding to the type of IC to be mounted is usually configured to process a single row of lead frame strips in order to correspond to terminal patterns of various shapes and dimensions. Because it is.

【0028】前記リードフレーム基材へのメッキ処理
は、図2に示すように、ステップS17の洗浄、乾燥処
理、ステップS18のメッキ処理、およびステップS1
9の洗浄、乾燥処理で構成される。なお、ステップS1
8のメッキ処理は、従来から各種の方法で行われてい
る。例えば、メッキの必要な部分に穴を開けたメッキ型
を、リードフレーム基材のメッキ処理面に当接し、前記
メッキ型の穴にメッキ液を噴射して基材のリードフレー
ムの所要部に部分的にメッキする方法がある。また、端
子を形成したリードフレーム基材にフォトレジストを塗
布、または転写した後、メッキパターンを写真製版法で
露光、焼き付けし、現像処理のうえ基材の露出部分にメ
ッキを施す方法もある。
As shown in FIG. 2, the plating process on the lead frame base material includes a washing and drying process in step S17, a plating process in step S18, and a plating process in step S1.
9 cleaning and drying processes. Step S1
The plating process of No. 8 has been conventionally performed by various methods. For example, a plating die having a hole in a required portion of plating is brought into contact with a plating-processed surface of a lead frame base material, and a plating solution is sprayed into the hole of the plating die to form a portion on a required portion of the lead frame of the substrate. There is a method of plating. There is also a method in which a photoresist is applied or transferred to a lead frame base material on which terminals are formed, and then a plating pattern is exposed and baked by a photoengraving method, followed by development and plating on an exposed portion of the base material.

【0029】前記、ステップS17〜S19において、
単列のリードフレーム条にメッキ処理を施したら、ステ
ップS20において、断裁処理を行い、不要な連接部3
を断ち落とし、図1に示した短冊状の単位リードフレー
ムに加工してリードフレームが完成する。
In steps S17 to S19,
After the plating process is performed on the single row of lead frame strips, in step S20, a cutting process is performed to remove unnecessary connection portions 3.
Are cut off and processed into the strip-shaped unit lead frame shown in FIG. 1 to complete the lead frame.

【0030】(基材のスリット加工)次に、上述した一
連のリードフレーム製造工程において、多列に連接され
たリードフレーム条を単列のリードフレーム条に切断分
離するステップS16について、より詳しく説明する。
図3に示すような、多列のリードフレーム条2−1、2
−2、2−3、および連接部3、横架部4、余白条2
a、2bとで構成されたリードフレーム基材2を、単列
のリードフレーム条に分離するため、あらかじめ前工程
のフォトエッチング処理S10〜S15において、リー
ドフレーム基材2の横架部4と各リードフレーム条との
境界に、ハーフエッチング加工により溝を形成する。こ
のハーフエッチング加工は、先ず、ステップS12にお
いて、リードフレームの端子パターンを、基材の両面に
塗布したフォトレジストに紫外線露光して焼き付けると
き、一方の露光マスクには、エッチングで形成する溝パ
ターンを形成し、他方の露光マスクには、溝パターンを
設けない露光マスクを用いる。
(Slit processing of base material) Next, in the above-described series of lead frame manufacturing steps, step S16 of cutting and separating a multi-row connected lead frame strip into a single row lead frame strip will be described in more detail. I do.
As shown in FIG. 3, multi-row lead frame strips 2-1 and 2
-2, 2-3, connecting part 3, horizontal part 4, margin 2
a, 2b, in order to separate the lead frame base material 2 into a single row of lead frame strips, in advance in the photo-etching process S10 to S15 in the previous process, the horizontal portion 4 of the lead frame base material 2 and each A groove is formed at the boundary with the lead frame by half etching. In this half-etching process, first, in step S12, when the terminal pattern of the lead frame is exposed to ultraviolet light and baked on a photoresist applied to both surfaces of the base material, a groove pattern to be formed by etching is formed on one of the exposure masks. An exposure mask which is formed and has no groove pattern is used as the other exposure mask.

【0031】次に、溝パターンのある露光マスクと、溝
パターンのない露光マスクを基材の両面に密着して紫外
線を照射し、端子パターンを焼き付ける。次いでステッ
プS13において前記パターンを現像し、さらに、ステ
ップS14にてエッチング処理を行う。すると、図4の
拡大断面斜視図で示すように、リードフレーム条2−
1、2−2、2−3や余白条2a、2bと、それらを連
接する横架部4との境界に、ハーフエッチング加工によ
る溝5が形成される。図4に示す加工例では、この溝5
は、リードフレーム条2−1、2−2、2−3を構成す
る連接部3と横架部4との境界の微小区間、および、リ
ードフレーム基材2の両側端に形成される余白条2a、
2bと連接部3との境界の微小区間に設けられる。
Next, an exposure mask having a groove pattern and an exposure mask having no groove pattern are brought into close contact with both surfaces of the substrate, and are irradiated with ultraviolet rays to print the terminal pattern. Next, in step S13, the pattern is developed, and in step S14, an etching process is performed. Then, as shown in the enlarged sectional perspective view of FIG.
A groove 5 is formed by a half-etching process at a boundary between 1, 2, 2-3 and marginal strips 2a and 2b and a horizontal portion 4 connecting them. In the processing example shown in FIG.
Are fine sections at the boundary between the connecting portion 3 and the transverse portion 4 constituting the lead frame strips 2-1, 2-2, and 2-3, and blank strips formed on both side edges of the lead frame base material 2. 2a,
It is provided in a minute section at the boundary between 2b and the connecting portion 3.

【0032】前記溝5は、リードフレーム基材2の他の
部分よりも肉厚が薄く、僅かな力で容易に引き裂くこと
ができる。例えば、リードフレーム基材2が銅で、その
厚さが0.1mmのとき、溝の深さが0.05mm以
上、すなわち、溝部の残厚が0.05mm以下であれ
ば、溝を引き裂くのに必要な力は2N(ニュートン)以
下となる。したがって、この溝5を引き裂くことによっ
て、余白条2a、2bや横架部4をリードフレーム基材
から分離し、よって、多列に連接されたリードフレーム
条を、容易に単列の条に分離加工することができる。
The groove 5 is thinner than other portions of the lead frame base material 2 and can be easily torn with a small force. For example, when the lead frame base material 2 is copper and the thickness is 0.1 mm, if the depth of the groove is 0.05 mm or more, that is, if the remaining thickness of the groove is 0.05 mm or less, the groove is torn. Is less than 2N (Newton). Therefore, by tearing the groove 5, the margin strips 2a and 2b and the horizontal part 4 are separated from the lead frame base material, and thus, the lead frame strips connected in multiple rows can be easily separated into single row strips. Can be processed.

【0033】次に、前記図3および図4に示したリード
フレーム基材2を、単列のリードフレーム条に分離する
ためのスリット加工装置について説明する。図5は、リ
ードフレーム基材のスリット加工装置の一例を示す側面
透視図である。図において、10はスリット加工装置を
示し、加工装置10の入り口側には、上記に詳述したリ
ードフレーム基材2を、一定の速度で搬送するための基
材ニップローラ11と、前記基材ニップローラ11を一
定回転数で駆動する送り出し駆動源21が設けてある。
この送り出し駆動源は21は、例えば、減速ギヤ付のシ
ンクロナスモータが用いられる。一方、スリット加工装
置10の出口側には、単列の条に分離加工されたリード
フレーム条2−1、2−2、2−3を牽引するための牽
引ニップローラ12aが設けられ、一定の張力を付与し
ながらリードフレーム条を牽引するための牽引駆動源2
2aに接続されている。この牽引駆動源22aには、例
えば、トルクモータが用いられる。
Next, a slit processing apparatus for separating the lead frame base material 2 shown in FIGS. 3 and 4 into a single row of lead frame strips will be described. FIG. 5 is a side perspective view showing an example of a lead frame base material slit processing apparatus. In the figure, reference numeral 10 denotes a slit processing device, and at the entrance side of the processing device 10, a substrate nip roller 11 for transporting the above-described lead frame substrate 2 at a constant speed, and the substrate nip roller A delivery drive source 21 for driving the motor 11 at a constant rotation speed is provided.
As the delivery drive source 21, for example, a synchronous motor with a reduction gear is used. On the other hand, on the outlet side of the slit processing device 10, a pulling nip roller 12a for pulling the lead frame strips 2-1 2-2, 2-3 separated into single rows is provided, and a constant tension is provided. Drive source 2 for pulling the lead frame strip while applying force
2a. As the traction drive source 22a, for example, a torque motor is used.

【0034】また、スリット加工装置10には、加工装
置10の入り口側に設けられた基材ニップローラ11
と、出口側に設けられた牽引ニップローラ12aとのほ
ぼ中間部に、前記基材ニップローラ11から送り出され
るリードフレーム基材2を、多列のリードフレーム条
と、余白条、および前記リードフレーム条間に形成され
ていた基材の長手方向に連結された横架部の条とに分離
するための、条分離ガイドローラ18と、前記条分離ガ
イドローラ18にて分離された余白条を牽引する牽引ニ
ップローラ12bと、前記条分離ガイドローラ18にて
分離された横架部の条を牽引するための牽引ニップロー
ラ12cとが配設されている。
The slit processing apparatus 10 has a substrate nip roller 11 provided on the entrance side of the processing apparatus 10.
And a lead frame substrate 2 sent out from the substrate nip roller 11 at a substantially intermediate portion between the pulling nip roller 12a provided on the outlet side and a multi-row lead frame strip, a blank strip, and a space between the lead frame strip. A strip separation guide roller 18 for separating into a strip of a transverse portion connected in the longitudinal direction of the base material formed on the base member, and a traction pulling the blank strip separated by the strip separation guide roller 18 A nip roller 12b and a pulling nip roller 12c for pulling the strip of the horizontal portion separated by the strip separation guide roller 18 are provided.

【0035】前記牽引ニップローラ12b、12cは、
リードフレーム基材2から分離された余白条2a、2
b、および連結された横架部の条4a、4bを、それぞ
れ一定の張力を付与しながら牽引するための牽引駆動源
22b、22cに接続されている。この牽引駆動源22
b、22cには、例えば、トルクモータが用いられる。
なお、前記条分離ガイドローラ18の上流には、基材ニ
ップローラ11から送り出されるリードフレーム基材2
を、条分離ガイドローラ18へ向けて案内する基材ガイ
ドローラ15が設けられている。また、リードフレーム
基材2から分離された余白条2a、2b、および連結さ
れた横架部の条4a、4bを、それぞれ牽引する牽引ニ
ップローラ12b、12cと、前記条分離ガイドローラ
18との中間部に、分離された余白条2a、2bや連結
された横架部の条4a、4bを、牽引ニップローラ12
bや12cへ向けて案内する、条ガイドローラ19が設
けられている。
The pulling nip rollers 12b and 12c are
Blank strips 2a, 2 separated from the lead frame base material 2
b, and the connected ridges 4a, 4b of the transverse portion are connected to traction drive sources 22b, 22c for traction while applying a constant tension, respectively. This traction drive source 22
For b and 22c, for example, a torque motor is used.
In addition, upstream of the strip separation guide roller 18, the lead frame base material 2 sent out from the base material nip roller 11 is provided.
Is provided on the base material guide roller 15 for guiding the sheet toward the strip separation guide roller 18. In addition, intermediate between the strip nip rollers 12b and 12c and the strip separation guide roller 18 for pulling the blank strips 2a and 2b separated from the lead frame base material 2 and the connected strips 4a and 4b, respectively. The separated blank strips 2a and 2b and the connected strips 4a and 4b are connected to the pulling nip roller
A strip guide roller 19 is provided for guiding toward b and 12c.

【0036】上記スリット加工装置では、上述した条分
離ガイドローラ18、および多列のリードフレーム条を
牽引する牽引ニップローラ12b、余白条を牽引する牽
引ニップローラ12b、連結された横架部の条を牽引す
る牽引ニップローラ12cなどがリードフレーム基材2
のスリット加工機構を構成している。すなわち、基材ニ
ップローラ11によってスリット加工装置10へ供給さ
れるリードフレーム基材2は、基材ガイドローラ15を
経て、2つの回転ローラで構成された条分離ガイドロー
ラ18へ導かれる。2つの回転ローラで構成された条分
離ガイドローラ18の出口では、図3および図4に示し
たリードフレーム条2−1、2−2、2−3が、牽引ニ
ップローラ12aへ向けて斜め上方に牽引される。一
方、リードフレーム基材2の両側端に形成された余白条
2a、2bと、前記リードフレーム条2−1と2−2、
および2−2と2−3のそれぞれ条間に、連結条4a、
4bを介して連接されていた横架部4の条とが、それぞ
れ牽引ニップローラ12b、および12cへ向けて下方
に牽引される。
In the slitting apparatus, the strip separating guide roller 18, the pulling nip roller 12b for pulling the multi-row lead frame strip, the pulling nip roller 12b for pulling the blank strip, and the connected strips are pulled. The traction nip roller 12c and the like
Of the slit processing mechanism. That is, the lead frame substrate 2 supplied to the slitting device 10 by the substrate nip roller 11 is guided through the substrate guide roller 15 to the strip separation guide roller 18 composed of two rotating rollers. At the outlet of the strip separation guide roller 18 composed of two rotating rollers, the lead frame strips 2-1 2-2, 2-3 shown in FIGS. 3 and 4 are inclined obliquely upward toward the traction nip roller 12a. Towed. On the other hand, margin strips 2a and 2b formed on both side edges of the lead frame base 2 and the lead frame strips 2-1 and 2-2,
And connecting strips 4a, 2-2 and 2-3, respectively.
The strips of the horizontal portion 4 connected via the 4b are pulled downward toward the pulling nip rollers 12b and 12c, respectively.

【0037】このとき、2つの回転ローラで構成された
条分離ガイドローラ18に挿通されたリードフレーム基
材2の両側端に形成された余白条2aおよび2bが、リ
ードフレーム条2−1〜3が牽引される方向とは異なる
方向へ牽引されることによって、基材2の長手方向に一
定間隔で形成された連接部3と、余白条2a、2bとの
境界に形成されたハーフエッチング加工による溝5が引
き裂かれて、余白条2aおよび2bが、リードフレーム
基材2から分離される。同様に、リードフレーム条2−
1〜3の条間に形成された横架部4を基材の長手方向に
連結する連結条4aおよび4bが、リードフレーム条2
−1〜3の牽引される方向とは異なる方向に牽引される
ため、基材2の長手方向に一定間隔で形成された連接部
3と、リードフレーム条間の横架部4との境界に形成さ
れたハーフエッチング加工による溝5が引き裂かれて、
連結された横架部の条が、リードフレーム基材2から分
離される。
At this time, the margin strips 2a and 2b formed on both side ends of the lead frame base material 2 inserted through the strip separation guide roller 18 constituted by two rotating rollers are connected to the lead frame strips 2-1 to 3-1. Is drawn in a direction different from the direction in which the base material 2 is pulled, so that the connecting portions 3 formed at regular intervals in the longitudinal direction of the base material 2 and the half-etching process formed at the boundaries between the margins 2a and 2b. The groove 5 is torn, and the blank strips 2a and 2b are separated from the lead frame substrate 2. Similarly, lead frame strip 2-
The connecting strips 4a and 4b for connecting the horizontal portions 4 formed between the strips 1 to 3 in the longitudinal direction of the base member are formed by the lead frame strip 2
-1 to 3 are pulled in a direction different from the direction in which the base material 2 is pulled, so that the connecting portion 3 formed at regular intervals in the longitudinal direction of the base material 2 and the horizontal portion 4 between the lead frame strips The groove 5 formed by the half-etching process is torn,
The connected strips are separated from the lead frame base material 2.

【0038】上述の如くリードフレーム基材から分離さ
れた余白条2a、2b、および連結された横架部の条4
a、4bは、条ガイドローラ19を経て、それぞれ牽引
ニップローラ12b、12cによって加工装置10の外
部へ排出される。一方、余白条2a、2b、および連結
された横架部の条4a、4bが分離され、単列の条にス
リット加工されたリードフレーム条2−1、2−2、2
−3は、牽引ニップローラ12aによって加工装置10
の外部に引き出され、図示しないリードフレーム基材の
巻取装置に設けられた巻取スプールまたは巻取リールに
それぞれ巻き取られる。
The blank strips 2a and 2b separated from the lead frame base material as described above, and the linked strip 4
a and 4b are discharged to the outside of the processing apparatus 10 by the pulling nip rollers 12b and 12c through the strip guide roller 19, respectively. On the other hand, the margin strips 2a, 2b and the connected horizontal strips 4a, 4b are separated, and the lead frame strips 2-1, 2-2, 2-2 are slit into a single row.
-3 is the processing device 10 by the traction nip roller 12a.
And wound up on a take-up spool or a take-up reel provided in a lead frame base material take-up device (not shown).

【0039】(巻取装置の構成)次に、前記スリット加
工装置にて、単列にスリットされ、多列のリードフレー
ム条に加工されて排出されるリードフレーム基材の、巻
取装置について、実施例の図面を参照しながら詳細に説
明する。なお、図6は、巻取装置の主要部を示す外観斜
視図である。また、図7は、巻取装置の構成例を示すブ
ロック図である。さらに、図8は、図6、図7に示した
巻取装置における基材の流れを示す平面図である。
(Structure of Winding Apparatus) Next, the winding apparatus of the lead frame base material which is slit into a single row and processed into a multi-row lead frame strip and discharged by the slit processing apparatus will be described. This will be described in detail with reference to the drawings of the embodiment. FIG. 6 is an external perspective view showing a main part of the winding device. FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration example of a winding device. Further, FIG. 8 is a plan view showing the flow of the base material in the winding device shown in FIGS.

【0040】先ず、スリット基材の巻取装置について、
その構成について説明する。図6において、30は巻取
装置である。20は、前述したスリット加工装置から排
出されるリードフレーム基材の搬送ローラである。前記
搬送ローラ20は、スリット加工されたリードフレーム
基材2を挟持して搬送する2つのローラで構成され、一
方は硬質プラスチック、他方が硬質ゴムでその表面が覆
われ、図示しない駆動源によって回転駆動されている。
なお、この搬送ローラ20はスリット加工装置から排出
されるスリット基材に印加される張力が一定になるよう
に、トルクモータ等によって駆動され、従って、搬送ロ
ーラ20による基材搬送速度は一定ではなく、例えば、
0〜3m/分の間で変化する。
First, regarding the slit substrate winding device,
The configuration will be described. In FIG. 6, reference numeral 30 denotes a winding device. Reference numeral 20 denotes a transport roller for the lead frame base material discharged from the above-described slit processing device. The transport roller 20 is composed of two rollers that sandwich and transport the lead frame base material 2 that has been slit, one of which is covered with hard plastic, the other is covered with hard rubber, and is rotated by a drive source (not shown). Being driven.
The transport roller 20 is driven by a torque motor or the like so that the tension applied to the slit base material discharged from the slit processing device is constant. Therefore, the base material transport speed by the transport roller 20 is not constant. For example,
It varies between 0 and 3 m / min.

【0041】本実施例の巻取装置30では、前記搬送ロ
ーラ20によって搬送される多列のスリット基材2を、
図示しない動力源によって回転駆動される駆動軸31に
挿通された、多列の巻取スプール32にそれぞれ列単位
に巻き取る。なお、前記巻取スプール32の上流には、
多列にスリットされた基材を、それぞれ巻取スプール3
2へ向けて案内するガイドローラ33が設けられてい
る。前記ガイドローラ33は、特に動力を用いず、前記
巻取スプール32によって巻き取られるスリット基材2
との、走行摩擦によって容易に回転するようにベアリン
グ等を介して、図示しない固定軸に軸承されている。
In the winding device 30 of this embodiment, the multi-row slit base material 2 conveyed by the conveying roller 20 is
Winding is performed in units of rows on a multi-row winding spool 32 that is inserted into a drive shaft 31 that is rotated and driven by a power source (not shown). In addition, upstream of the winding spool 32,
Each of the multi-slit substrates is wound on a take-up spool 3
A guide roller 33 that guides toward 2 is provided. The guide roller 33 is provided with the slit base material 2 wound by the winding spool 32 without using any power.
Are supported by a fixed shaft (not shown) via a bearing or the like so as to be easily rotated by running friction.

【0042】このガイドローラ33と前述した搬送ロー
ラ20との間には、多列にスリットされたリードフレー
ム基材2が、その自重によって垂れ下がることのできる
弛み空間34が設けられている。この弛み空間34は、
例えば、ガイドローラ33と前述した搬送ローラ20と
の距離が50〜100cmのとき、リードフレーム基材
の垂れ下がり量を100〜150cm程度得られる空間
が望ましい。
A slack space 34 is provided between the guide roller 33 and the conveying roller 20 so that the lead frame base material 2 slit in multiple rows can hang down by its own weight. This loose space 34
For example, when the distance between the guide roller 33 and the above-described transport roller 20 is 50 to 100 cm, a space in which the amount of sagging of the lead frame base material is about 100 to 150 cm is desirable.

【0043】次に、上記した搬送ローラ20およびガイ
ドローラ33、巻取スプール32の構成についてより詳
しく説明する。図8は、巻取装置を上面から観察したと
きの各ローラ等の配列を示す平面図である。図に示すよ
うに、スリット加工装置で多列にスリットされた基材2
は、搬送ローラ20に到達するまで、基材2の進行方向
と平行に間隔tにて搬送される。一方、スリットされた
基材を巻き取る多列の巻取スプール32、および前記巻
取スプール32の上流に配設されたガイドローラ33
は、その配列間隔Tが、前記前記搬送ローラ20の入り
口におけるスリット基材2の配列間隔tよりも拡くなっ
ている。
Next, the configurations of the transport roller 20, the guide roller 33, and the take-up spool 32 will be described in more detail. FIG. 8 is a plan view showing the arrangement of the rollers and the like when the winding device is observed from above. As shown in the figure, a base material 2 slit in multiple rows by a slit processing device
Is transported at an interval t in parallel with the traveling direction of the substrate 2 until it reaches the transport roller 20. On the other hand, a multi-row winding spool 32 for winding the slit base material, and a guide roller 33 disposed upstream of the winding spool 32
Has an arrangement interval T larger than an arrangement interval t of the slit base materials 2 at the entrance of the transport roller 20.

【0044】その理由は、第1に、巻き取ったスリット
基材の端面が他の物体に不用意に触れて基材が傷ついた
り、変形することがないように、個々の巻取スプール3
2の両側端に保護用の円盤状カバーを設ける必要がある
こと。第2に、巻取スプールにスリット基材を巻取中
に、前記円盤状カバーとスリット基材が接触しないよう
に、巻取スプールの幅をスリット基材の幅に対して十分
な余裕をもたせる必要があること。そのため、例えば、
スリット基材の幅(≦間隔t)が50mmのとき、巻取
スプール32の円盤状カバーと、スリット基材の幅との
余裕を少なくとも20mm以上確保するため、巻取スプ
ールの配列間隔Tを75mm以上とするのが望ましい。
The first reason is that the individual take-up spools 3 are arranged so that the end face of the wound slit base material does not inadvertently touch other objects to damage or deform the base material.
2. It is necessary to provide protective disk-shaped covers on both side edges of 2. Second, the winding spool has a sufficient width with respect to the width of the slit base so that the disc-shaped cover does not come into contact with the slit base during winding of the slit base on the winding spool. What you need. So, for example,
When the width of the slit base material (≦ interval t) is 50 mm, the arrangement interval T of the take-up spool is set to 75 mm in order to secure a margin of at least 20 mm between the disk-shaped cover of the take-up spool 32 and the width of the slit base material. It is desirable to make the above.

【0045】一方、スリット基材2を巻取スプール32
へ向けて案内する各ガイドローラ33は、弛み空間34
にて捩じれながらその間隔が拡げられた多列のスリット
基材の捩じれを解消しつつ、巻取スプール32の巻取幅
の中心へ向けて、スリット基材2をそれぞれスムースに
案内する機能を有する。さらに、このガイドローラ33
は、その周面をそれぞれ凹面形状に形成してあり、スリ
ット基材2がこのガイドローラ33の周面を走行する
際、その端部のみがガイドローラ33と接触する構造に
なっている。従って、極微細な寸法の端子が多数形成さ
れており、僅かの外力でその端子形状が容易に変形され
やすくなっているリードフレーム基材などが、前記ガイ
ドローラ33の周面を走行しても、基材表面に擦り傷を
生じたり、端子が変形することはない。
On the other hand, the slit substrate 2 is wound on the take-up spool 32.
Each guide roller 33 for guiding toward the
Has a function of smoothly guiding the slit base material 2 toward the center of the winding width of the winding spool 32 while eliminating the twist of the multi-row slit base material whose spacing is widened while being twisted at . Further, the guide roller 33
Are formed such that their peripheral surfaces are each formed in a concave shape, and when the slit base material 2 travels along the peripheral surface of the guide roller 33, only the end thereof comes into contact with the guide roller 33. Therefore, even if a large number of terminals having extremely fine dimensions are formed, and the terminal shape is easily deformed by a slight external force, the lead frame base material or the like runs on the peripheral surface of the guide roller 33. There is no abrasion on the substrate surface and no deformation of the terminals.

【0046】次に、本実施例の巻取装置について、その
制御機構の構成について説明する。図7は、巻取装置の
制御機構を示すブロック図である。図6において示した
多列の巻取スプール32を回転駆動する駆動軸31に
は、図7に示すように、ゴムベルトなどの伝導手段を介
してモータなどの動力源41が連結されている。一方、
前述したスリット基材2の弛み空間34には、自重で垂
れ下がったスリット基材の弛み量を検知する2組の検知
器42a−42b、および43a−43bが設けてあ
る。
Next, the configuration of the control mechanism of the winding device of the present embodiment will be described. FIG. 7 is a block diagram illustrating a control mechanism of the winding device. As shown in FIG. 7, a power source 41 such as a motor is connected to the drive shaft 31 that rotationally drives the multi-row take-up spool 32 shown in FIG. on the other hand,
Two sets of detectors 42a-42b and 43a-43b for detecting the amount of slack of the slit base material hanging down by its own weight are provided in the slack space 34 of the slit base material 2 described above.

【0047】前記検知器は、例えば、光電式のセンサが
用いられ、図7に示すように投光器42a、43aから
の光線を、それぞれ受光器42b、43bで受光するよ
うに配列されている。ここで、投光器42aと受光器4
2bで構成される第1の検出器は、弛み空間34におい
て垂れ下がったスリット基材の最小の弛み量を検知し、
投光器43aと受光器43bで構成される第2の検出器
は、弛み空間34において垂れ下がったスリット基材の
最大の弛み量を検知する。前記第1の検知器と第2の検
知器とで検出された基材弛み量検知信号は、制御装置4
4に印加され、動力源41の回転数を制御する。
As the detector, for example, a photoelectric sensor is used, and as shown in FIG. 7, the detectors are arranged so that light beams from the light emitters 42a and 43a are received by the light receivers 42b and 43b, respectively. Here, the light emitter 42a and the light receiver 4
2b detects the minimum slack amount of the slit base material hanging down in the slack space 34,
The second detector composed of the light projector 43a and the light receiver 43b detects the maximum slack amount of the slit base material hanging down in the slack space 34. The substrate slack amount detection signal detected by the first detector and the second detector is transmitted to the controller 4
4 to control the rotation speed of the power source 41.

【0048】(巻取装置の作用動作)次に、多列にスリ
ットされた基材2を巻取スプール32に巻き取るとき
の、上記巻取装置30各部の動作について説明する。多
列にスリットされた基材2は、図6〜図8に示すよう
に、先ず、搬送ローラ20に挟持されて、間隔tにて弛
み空間34へ向けて送り出される。弛み空間34に送り
出されたスリット基材2は、その自重で垂れ下がり、搬
送ローラ20とガイドローラ33との間でループを形成
する。この弛み空間34に垂れ下がってループを形成し
たスリット基材2には、スリット基材自体の自重以外の
力は作用せず、基材に形成された端子形状に変形を生じ
るような過大な力が、スリット基材に作用することはな
い。すなわち、この状態では、駆動軸31を回転駆動す
る動力源41に動力が印加されておらず、巻取スプール
32によってスリット基材が巻き取られることはない。
(Operation of Winding Apparatus) Next, the operation of each section of the winding apparatus 30 when winding the base material 2 slit in multiple rows on the winding spool 32 will be described. As shown in FIGS. 6 to 8, the base material 2 slit in multiple rows is first sandwiched between the transport rollers 20 and sent out to the slack space 34 at an interval t. The slit base material 2 sent to the slack space 34 hangs down by its own weight, and forms a loop between the transport roller 20 and the guide roller 33. A force other than the own weight of the slit base material itself does not act on the slit base material 2 that has formed a loop hanging down from the slack space 34, and an excessive force that causes deformation of the terminal formed on the base material is applied. Does not act on the slit base material. That is, in this state, no power is applied to the power source 41 that rotationally drives the drive shaft 31, and the slit base material is not taken up by the take-up spool 32.

【0049】次に、弛み空間34におけるスリット基材
のループが、図7に実線で示すように、第1の検出器4
2a−42bを遮ると、制御装置44が動力源41を低
速で起動し、駆動軸31を介して、巻取スプール32が
スリット基材の巻き取りを開始する。このときの、スリ
ット基材の巻取速度は、前記搬送ローラ20の平均の基
材搬送速度よりも低速である。この状態で、搬送ローラ
20がスリット基材を弛み空間34へ送り出すと、弛み
空間34におけるスリット基材2のループが次第に大き
くなる。そして、図7に破線で示すように、第2の検出
器43a−43bを遮ると、制御装置44が動力源41
の回転数を増大し、巻取スプールによるスリット基材の
巻取速度を増速する。このときの巻取速度は、前記搬送
ローラ20の平均の基材搬送速度よりも高速である。
Next, as shown by the solid line in FIG. 7, the loop of the slit base material in the slack space 34 is formed by the first detector 4.
When 2a-42b is blocked, the control device 44 starts the power source 41 at a low speed, and the winding spool 32 starts winding the slit base material via the drive shaft 31. At this time, the winding speed of the slit base material is lower than the average base material transfer speed of the transfer roller 20. In this state, when the transport roller 20 sends the slit base material to the slack space 34, the loop of the slit base material 2 in the slack space 34 gradually increases. Then, as shown by a broken line in FIG. 7, when the second detectors 43a-43b are shut off, the control device 44
And the speed of winding the slit base material by the winding spool is increased. The winding speed at this time is higher than the average base material transport speed of the transport roller 20.

【0050】前記状態を継続すると、弛み空間34にお
けるスリット基材のループが小さくなり、第2の検出器
43a−43bによるループの検出が解消され、制御装
置44が動力源41の回転数を減少し、再び低速巻取状
態になる。このように本実施例の巻取装置における定常
運転状態では、前記第2の検出器43a−43bによる
ループの検出状態によって、巻取スプール32による巻
取速度を低速と高速とに切り換えながら、スリット基材
を巻き取る。一方、搬送ローラ20は、前工程のスリッ
ト加工装置におけるリードフレーム基材のスリット加工
速度や、さらに前工程のフォトエッチング装置における
基材加工速度に対応して、基材の搬送速度を変化してお
り、場合によっては、搬送速度が極端に低下する場合も
ある。
When the above state is continued, the loop of the slit base material in the slack space 34 becomes small, the detection of the loop by the second detectors 43a-43b is canceled, and the control device 44 reduces the rotation speed of the power source 41. Then, a low-speed winding state is established again. As described above, in the steady operation state of the winding device of this embodiment, the slit speed is switched between the low speed and the high speed by the winding spool 32 depending on the detection state of the loop by the second detector 43a-43b. Wind up the substrate. On the other hand, the conveying roller 20 changes the conveying speed of the base material in accordance with the slit processing speed of the lead frame base material in the slit processing device in the previous process and the base material processing speed in the photo etching device in the previous process. In some cases, the transport speed may be extremely reduced.

【0051】例えば、搬送ローラ20によるスリット基
材の搬送速度が、巻取スプール32の低速巻取速度より
も低下した場合は、弛み空間34におけるスリット基材
のループが小さくなり、第1の検出器42a−42bに
よるループ検出が解消される。その場合、制御装置44
は、動力源41の駆動を止め巻取スプール32によるス
リット基材の巻取を中断する。この状態で、搬送ローラ
20によりスリット基材2が、弛み空間34に送り出さ
れ、再び、第1の検出器42a−42bによってループ
が検出されると、制御装置44は、動力源41の駆動を
開始し、巻取スプール32によるスリット基材の巻取を
再開する。
For example, when the transport speed of the slit base material by the transport roller 20 is lower than the low take-up speed of the take-up spool 32, the loop of the slit base material in the slack space 34 becomes small, and the first detection is performed. The loop detection by the devices 42a-42b is eliminated. In that case, the control device 44
Stops the driving of the power source 41 and interrupts the winding of the slit base material by the winding spool 32. In this state, when the slit base material 2 is sent out to the slack space 34 by the transport roller 20 and a loop is detected again by the first detectors 42a to 42b, the control device 44 drives the power source 41. Then, the winding of the slit base material by the winding spool 32 is restarted.

【0052】以上説明したように、本実施例の巻取装置
では、搬送ローラ20によるスリット基材2の送り出し
速度が大幅に変化しても、弛み空間34に設けられた2
組の検知器が、弛み空間34に形成されるスリット基材
の弛み量を検知し、巻取スプールによる巻取速度を複数
段階に調節するので、巻き取られるスリット基材に過度
な張力が発生することなく、安定した巻取作用が行われ
る。なお、前記2組の検知器は、弛み空間34に形成さ
れるスリット基材のループを、それぞれヒステリシスを
もって検知するのが望ましく、例えば、各検知器の光電
センサを、適当な間隔をもって、それぞれ上下に2個づ
つ設け、前記2個の光電センサの出力信号を組み合わせ
て、大きなヒステリシスをもった弛み量検知信号を生成
するように構成してもよい。
As described above, in the winding device of the present embodiment, even if the feeding speed of the slit base material 2 by the transport roller 20 is greatly changed, the winding device provided in the slack space 34 is not required.
The set of detectors detects the slack amount of the slit base material formed in the slack space 34 and adjusts the winding speed by the winding spool in a plurality of stages, so that excessive tension is generated in the slit base material to be wound. A stable winding operation is performed without performing. It is desirable that the two sets of detectors detect the loop of the slit base material formed in the slack space 34 with hysteresis. For example, the photoelectric sensors of the respective detectors may be vertically moved at appropriate intervals. May be provided two by two, and the output signals of the two photoelectric sensors may be combined to generate a slack amount detection signal having a large hysteresis.

【0053】(他の実施例)次に、本発明の巻取装置の
他の実施例について説明する。図9は、巻取装置の他の
実施例を示す側面図である。極微細な寸法の端子が多数
形成されており、僅かの外力でその端子形状が容易に変
形されやすくなっているリードフレーム基材を、巻取ス
プールに巻き取るときは、基材同士が擦れて、表面に傷
をつけたり、端子形状が変形されないことも重要であ
る。そこで本実施例の巻取装置では、図9に例示するよ
うに、スリットされた基材を巻取スプール32に巻き取
るとき、前記巻取スプール32の近傍に配設された合紙
供給機構35から、合紙36を供給して、巻き取られる
スリット基材の間に合紙36を挟み込むように構成し
た。この合紙供給機構35は各巻取スプール32に対応
してそれぞれ設けられ、供給される合紙36は、例え
ば、スリット基材の幅が50mmであれば、それより幅
広い60mm程度の幅が適切である。
Next, another embodiment of the winding device of the present invention will be described. FIG. 9 is a side view showing another embodiment of the winding device. When winding a lead frame substrate on which a large number of ultra-fine terminals are formed and the terminal shape is easily deformed by a slight external force onto the take-up spool, the substrates are rubbed against each other. It is also important that the surface is not damaged and the terminal shape is not deformed. Therefore, in the winding device of the present embodiment, as illustrated in FIG. 9, when the slit base material is wound on the winding spool 32, a slip sheet supply mechanism 35 disposed near the winding spool 32. Then, the interleaf paper 36 was supplied, and the interleaf paper 36 was sandwiched between the slit base materials to be wound. This interleaf paper supply mechanism 35 is provided corresponding to each of the take-up spools 32. For example, if the width of the slit base material is 50 mm, the width of the interleaf paper 36 supplied is appropriately wider than about 60 mm. is there.

【0054】また、図10は、巻取装置の他の構成例を
示す平面図である。図において、37は、多列にスリッ
トされた基材を巻き取る2組の巻取スプール群32a、
32bを、それぞれ駆動軸31a、31bを介して載置
するための架台である。また、前記架台37のほぼ中央
部から軸受け38が延設されており、前記軸受け38の
両側に、巻取スプール群32a、32bに対向して2組
のガイドローラ群33a、33bが回転可能に軸承され
ている。この2組のガイドローラ群33a、33bと2
組の巻取スプール群32a、32bとを載置した架台3
7は、その底面に設けられた図示しない車輪を介して、
2本のレール39上に載置され、多列にスリットされた
基材2の進行方向と直交する方向に移動することができ
る。
FIG. 10 is a plan view showing another example of the structure of the winding device. In the figure, reference numeral 37 denotes two sets of take-up spool groups 32a for taking up a base material slit in multiple rows.
32b is a mount for mounting the drive shaft 32b via the drive shafts 31a and 31b, respectively. A bearing 38 extends from substantially the center of the gantry 37. Two guide roller groups 33a, 33b are rotatable on both sides of the bearing 38 in opposition to the take-up spool groups 32a, 32b. It is bearing. The two guide roller groups 33a, 33b and 2
A mount 3 on which a set of take-up spool groups 32a and 32b are placed
7 is provided via wheels (not shown) provided on the bottom surface thereof.
It is placed on two rails 39 and can move in a direction perpendicular to the traveling direction of the base material 2 slit in multiple rows.

【0055】上記構成の巻取装置において、巻取スプー
ル群32aとガイドローラ群33aとが、第1の巻取機
構を構成し、巻取スプール群32bとガイドローラ群3
3bとが、第2の巻取機構を構成し、前記2組の巻取機
構は、架台37上において、前記架台の移動方向へ直列
に併設されている。一方、図10において、10はリー
ドフレーム基材を多列にスリットするスリット加工装置
であり、その後端部には、多列にスリットされた基材2
を弛み空間34へ向けて送り出す搬送ローラ20が設け
られている。
In the winding device having the above-described configuration, the winding spool group 32a and the guide roller group 33a constitute a first winding mechanism, and the winding spool group 32b and the guide roller group 3
3b constitutes a second winding mechanism, and the two sets of winding mechanisms are provided on the gantry 37 in series in the moving direction of the gantry. On the other hand, in FIG. 10, reference numeral 10 denotes a slit processing apparatus for slitting a lead frame base material in multiple rows, and a rear end portion of the base material 2 slit in multiple rows.
The conveyance roller 20 which feeds the paper toward the slack space 34 is provided.

【0056】この巻取装置を用いて多列にスリットされ
た基材を巻取スプールに巻き取る場合は、先ず、巻取ス
プール群32aとガイドローラ群33aとで構成された
第1の巻取機構が、スリット加工装置10の後端に位置
するように、架台37を移動し、図10に実線で示す位
置に固定する。この状態で、第1の巻取機構の巻取スプ
ール群32aに多列にスリットされた基材を巻き取る。
第1の巻取機構によるスリット基材の巻取を終了した
ら、巻取スプール群32bとガイドローラ群33bとで
構成された第2の巻取機構が、スリット加工装置10の
後端に位置するように、架台37を移動し、図10に想
像線で示す位置に固定する。次いで、第2の巻取機構の
巻取スプール群32bに多列にスリットされた基材の巻
き取り開始する。
When winding up the base material slit in multiple rows on the take-up spool using this take-up device, first, the first take-up spool 32a and guide roller group 33a The gantry 37 is moved so that the mechanism is located at the rear end of the slit processing apparatus 10, and is fixed at the position indicated by the solid line in FIG. In this state, the base material slit in multiple rows is wound around the winding spool group 32a of the first winding mechanism.
When the winding of the slit base material by the first winding mechanism is completed, the second winding mechanism including the winding spool group 32b and the guide roller group 33b is located at the rear end of the slit processing device 10. As described above, the gantry 37 is moved and fixed at the position indicated by the imaginary line in FIG. Next, the winding of the base material slit in multiple rows by the winding spool group 32b of the second winding mechanism is started.

【0057】前記第2の巻取機構によるスリット基材の
巻取中に、第1の巻取機構の巻取スプール群32aを駆
動軸31aから離脱し、既に巻き取られたスリット基材
を、巻取スプール単位で次工程の基材加工装置に順次装
填する。さらに、あらかじめ準備された空の巻取スプー
ルを駆動軸31aに装着し、次の巻取スプール交換作業
に備える。このように、本実施例に示した2組の巻取機
構を備えた巻取装置を用いれば、一方の巻取機構でスリ
ット基材を巻取中に、他方の巻取機構の巻取スプール交
換作業を行うことができるので、前工程におけるリード
フレーム基材の加工装置を停止することなく、スリット
基材の巻取作業を継続でき、基材加工の品質の安定性を
図れるとともに、生産性を向上することができる。
During the winding of the slit base material by the second winding mechanism, the winding spool group 32a of the first winding mechanism is separated from the drive shaft 31a, and the already wound slit base material is removed. It is sequentially loaded into the substrate processing device of the next process in units of a take-up spool. Further, an empty take-up spool prepared in advance is mounted on the drive shaft 31a to prepare for the next take-up spool replacement operation. As described above, by using the winding device having the two sets of winding mechanisms shown in the present embodiment, the winding spool of the other winding mechanism is used while the slit base material is being wound by one winding mechanism. Since the replacement work can be performed, the winding work of the slit base material can be continued without stopping the processing equipment of the lead frame base material in the previous process. Can be improved.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明の巻
取装置は、請求項1に示したように、スリットされた多
列の基材を列単位でスプールに巻き取る巻取装置であっ
て、一本の駆動軸に着脱可能に挿通された複数のスプー
ルと、前記駆動軸を回転駆動する動力源と、前記複数の
スプールの上流に配置され、スリットされた多列の基材
を各スプールへ向けて案内する回転自在な複数のガイド
ローラと、前記複数のガイドローラの上流に配置され、
スリットされた多列の基材を挟持して搬送する搬送ロー
ラとで構成され、前記複数のガイドローラと搬送ローラ
との間に、スリットされた多列の基材が自重によって垂
れ下がることが可能な弛み空間が設けられ、前記弛み空
間には、基材の弛み量を検知する検知器を備えており、
前記検知器の基材弛み量検知信号によって、スプールを
回転駆動する動力源の回転数を制御しながら、スリット
された多列の基材を、一括してスプールに巻き取るの
で、無用の張力を付与することなく、スリットされた多
列の基材をそれぞれスムースにスプールに巻き取ること
ができ、また、巻取機構の構成がシンプルなので、製作
コストが安く、操作性が良好で、信頼性や耐久性の優れ
た巻取装置を構成することができる。
As described above in detail, the winding device of the present invention is a winding device for winding slit multi-row base materials onto a spool in row units. A plurality of spools removably inserted into one drive shaft, a power source for rotating and driving the drive shaft, and a plurality of slit rows of base materials arranged upstream of the plurality of spools. A plurality of rotatable guide rollers for guiding toward each spool, and disposed upstream of the plurality of guide rollers,
It is configured with a transport roller that sandwiches and transports the slit multi-row base material, and between the plurality of guide rollers and the transport roller, the slit multi-row base material can hang down by its own weight. A slack space is provided, and the slack space includes a detector for detecting a slack amount of the base material,
While controlling the number of rotations of the power source for rotating the spool by the base material slack amount detection signal of the detector, the slits of the multi-row base material are collectively wound on the spool, so that unnecessary tension is applied. Without applying, multiple rows of slit substrates can be smoothly wound on spools.Since the structure of the winding mechanism is simple, production cost is low, operability is good, reliability and A winding device having excellent durability can be configured.

【0059】本発明の巻取装置は、請求項2に示すよう
に、スリットされた多列の基材を巻き取るスプールは、
基材のスリット間隔よりも広い間隔で、一列に配列され
ているので、スプールの幅方向の寸法的な制約が少な
く、従って、スリットされた基材の幅に対して余裕をも
った寸法のスプールを用いて、スムースに基材を巻き取
ることができる。また、前記スプールは一列に配列され
ているので、スプールを回転駆動する駆動機構の構成が
簡素になり、巻取装置の製作コストを抑えることができ
るとともに、装置の動作の信頼性が高くなる。
According to the winding device of the present invention, the spool for winding the slit multi-row substrate is provided as follows.
Since the spools are arranged in a line at intervals wider than the slit interval of the base material, there are few dimensional restrictions in the width direction of the spool, and therefore, a spool having a size with a margin for the width of the slit base material. Can be used to smoothly wind the substrate. Further, since the spools are arranged in a line, the configuration of the drive mechanism for rotating the spool is simplified, so that the manufacturing cost of the winding device can be reduced and the reliability of the operation of the device increases.

【0060】本発明の巻取装置は、請求項3に示すよう
に、前記複数のガイドローラの周面が、それぞれ凹面形
状であるので、スリットされた基材の端部を支えて基材
を搬送でき、基材の表面に擦り傷などを発生することが
なく、良好な品質や歩留りを確保できる。また、スリッ
トされた基材の搬送方向を、基材のスリット間隔よりも
広い間隔で、一列に配列されたスプールの巻取方向へ向
けて、スムーズに変位させることができる。
In the winding device of the present invention, since the peripheral surfaces of the plurality of guide rollers are respectively concave, the substrate is supported by supporting the end of the slit substrate. Good quality and yield can be ensured without causing abrasion on the surface of the base material. Further, the transport direction of the slit base material can be smoothly displaced at a wider interval than the slit interval of the base material toward the winding direction of the spools arranged in a line.

【0061】本発明の巻取装置は、請求項4に示すよう
に、前記弛み空間に備えられた基材の弛み量を検知する
検知器は、基材の弛みの最小量を検知する第1の検知器
と、基材の弛みの最大量を検知する第2の検知器とで構
成されているので、基材の弛み量に応じてスプールを回
転駆動する動力源の回転数を多段階で制御することがで
き、スリット加工装置などの前工程の装置の基材搬送速
度が広範に変化しても、巻取装置の基材巻取速度をスム
ースに追従させることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the winding device, the detector for detecting the amount of slack of the base material provided in the slack space is configured to detect the minimum amount of slack of the base material. And the second detector that detects the maximum amount of slack in the base material, so that the number of rotations of the power source that rotates the spool in accordance with the amount of slack in the base material can be increased in multiple stages. It is possible to smoothly control the winding speed of the base material of the winding device even when the base material conveying speed of the device in the previous process such as the slit processing device is changed widely.

【0062】本発明の巻取装置は、請求項5に示すよう
に、スリットされた多列の基材を巻き取るスプールへ向
けて、合紙を供給する合紙供給機構を備えているので、
スリットされた基材に合紙を重ね合わせてスプールに巻
き取ることができ、巻取中に基材同士が直接擦れること
がなく、巻き取られた基材の表面に擦り傷を生じること
がなく、基材の品質を損なうことがない。
Since the winding device of the present invention is provided with an interleaf paper supply mechanism for supplying interleaf paper to a spool for winding a multi-row of slit substrates,
The interleaving paper can be superimposed on the slit base material and wound on a spool, and the base materials do not directly rub during winding, without causing scratches on the surface of the wound base material, There is no loss of substrate quality.

【0063】本発明の巻取装置は、請求項6に示すよう
に、スリットされた基材の進行方向と直交する方向に移
動可能な架台上に、請求項1〜請求項5に記載の巻取装
置を、前記架台の移動方向へ直列に2組備えているの
で、前記架台を移動することによって、スリットした基
材を巻き取るスプールを、短時間にかつスムースに交換
することができ、基材のスリット加工装置など前工程の
装置を停止させることなく、2組の巻取装置のスプール
を交互に使用して、スリットされた多列の基材をスムー
スに巻き取ることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, the winding device according to the first aspect of the present invention is provided on a platform movable in a direction orthogonal to the direction of travel of the slit substrate. Since two sets of the take-up devices are provided in series in the moving direction of the gantry, the spool for winding the slit substrate can be smoothly and quickly exchanged by moving the gantry. The slits of the multi-rowed base material can be smoothly wound by using the spools of the two winding devices alternately without stopping the apparatus in the previous process such as the slitting apparatus for the material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 リードフレームの一例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of a lead frame.

【図2】 リードフレームの製造工程の一例を示すフロ
ー図である。
FIG. 2 is a flowchart showing an example of a lead frame manufacturing process.

【図3】 リードフレーム基材の加工例を示す平面図で
ある。
FIG. 3 is a plan view showing a processing example of a lead frame base material.

【図4】 図3に示したリードフレーム基材の拡大断面
斜視図である。
4 is an enlarged sectional perspective view of the lead frame base material shown in FIG.

【図5】 スリット加工装置の一例を示す側面図であ
る。
FIG. 5 is a side view showing an example of a slit processing device.

【図6】 巻取装置の主要部を示す外観斜視図である。FIG. 6 is an external perspective view showing a main part of the winding device.

【図7】 巻取装置の構成例を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration example of a winding device.

【図8】 巻取装置の基材の流れを示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the flow of the base material of the winding device.

【図9】 巻取装置の他の実施例を示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing another embodiment of the winding device.

【図10】 巻取装置の他の構成例を示す平面図であ
る。
FIG. 10 is a plan view showing another example of the configuration of the winding device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 リードフレーム基材 10 スリット加工装置 20 搬送ローラ 30 巻取装置 31、31a、31b 駆動軸 32、32a、32b 巻取スプール 33、33a、33b ガイドローラ 34 弛み空間 35 合紙供給機構 36 合紙 37 移動架台 38 軸受け 39 レール 41 動力源 42a、42b 第1検知器 43a、43b 第2検知器 44 制御装置 2 Lead frame base material 10 Slit processing device 20 Conveyance roller 30 Winding device 31, 31a, 31b Drive shaft 32, 32a, 32b Winding spool 33, 33a, 33b Guide roller 34 Slack space 35 Interleaf paper supply mechanism 36 Interleaf paper 37 Moving frame 38 Bearing 39 Rail 41 Power source 42a, 42b First detector 43a, 43b Second detector 44 Controller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // H01L 23/50 H01L 23/50 Z ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI // H01L 23/50 H01L 23/50 Z

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スリットされた多列の基材を列単位でス
プールに巻き取る巻取装置であって、一本の駆動軸に着
脱可能に挿通された複数のスプールと、前記駆動軸を回
転駆動する動力源と、前記複数のスプールの上流に配置
され、スリットされた多列の基材を各スプールへ向けて
列単位で案内する回転自在な複数のガイドローラと、前
記複数のガイドローラの上流に配置され、スリットされ
た多列の基材を挟持して搬送する搬送ローラとで構成さ
れ、前記複数のガイドローラと搬送ローラとの間に、ス
リットされた多列の基材が自重によって垂れ下がること
が可能な弛み空間が設けられ、前記弛み空間には、基材
の弛み量を検知する検知器を備えており、前記検知器の
基材弛み量検知信号によって、スプールを回転駆動する
動力源の回転数を制御しながら、スリットされた多列の
基材を、一括してスプールに巻き取ることを特徴とする
巻取装置。
1. A winding device for winding a multi-row slit base material on a spool in a row unit, comprising: a plurality of spools removably inserted into one drive shaft; A power source for driving, a plurality of rotatable guide rollers disposed upstream of the plurality of spools, and guiding a plurality of slit rows of substrates toward the respective spools in rows, and a plurality of rotatable guide rollers. It is arranged upstream, and comprises a transport roller for nipping and transporting the multi-row slit base material, and between the plurality of guide rollers and the transport roller, the multi-row slit substrate is self-weighted. A slack space that can hang down is provided, and the slack space includes a detector that detects a slack amount of the base material, and a power for rotating the spool by a base material slack amount detection signal of the detector. Controls source speed A winding device, wherein a plurality of slit rows of base material are wound together on a spool while controlling.
【請求項2】 スリットされた多列の基材を巻き取るス
プールは、基材のスリット間隔よりも広い間隔で、一列
に配列されていることを特徴とする請求項1に記載の巻
取装置。
2. The winding device according to claim 1, wherein the spools for winding the multi-row slit base material are arranged in a line at intervals wider than the slit interval of the base material. .
【請求項3】 前記複数のガイドローラの周面が、それ
ぞれ凹面形状であることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の巻取装置。
3. The winding device according to claim 1, wherein each of the plurality of guide rollers has a concave surface.
【請求項4】 前記弛み空間に備えられた基材の弛み量
を検知する検知器は、基材の弛みの最小量を検知する第
1の検知器と、基材の弛みの最大量を検知する第2の検
知器とで構成されていることを特徴とする請求項1〜3
のいずれかに記載の巻取装置。
4. A detector for detecting the amount of slack of the substrate provided in the slack space, wherein the first detector detects a minimum amount of slack of the substrate and a detector for detecting a maximum amount of slack of the substrate. And a second detector that performs the operation.
The winding device according to any one of the above.
【請求項5】 スリットされた多列の基材を巻き取るス
プールへ向けて、合紙を供給する合紙供給機構を備えた
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の巻取
装置。
5. The winding according to claim 1, further comprising an interleaving paper supply mechanism for supplying interleaving paper to a spool for winding the multi-row slit base material. Taking device.
【請求項6】 スリットされた基材の進行方向と直交す
る方向に移動可能な架台上に、請求項1〜請求項5に記
載の巻取装置を、前記架台の移動方向へ直列に2組備え
ていることを特徴とする巻取装置。
6. A set of winding devices according to claim 1, which is movable in a direction perpendicular to the direction of travel of the slit substrate, and two sets of the winding device according to claim 1 connected in series in the moving direction of the platform. A winding device, comprising:
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