JPH1123838A - Dichroic filter and lighting optical system - Google Patents
Dichroic filter and lighting optical systemInfo
- Publication number
- JPH1123838A JPH1123838A JP9187762A JP18776297A JPH1123838A JP H1123838 A JPH1123838 A JP H1123838A JP 9187762 A JP9187762 A JP 9187762A JP 18776297 A JP18776297 A JP 18776297A JP H1123838 A JPH1123838 A JP H1123838A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical system
- dichroic filter
- dichroic
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 58
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 5
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 38
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ti+4].[Fe+3].[Fe+3] JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 superoxide ion Chemical class 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/207—Filters comprising semiconducting materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に付着した汚
れを分解する機能を有するダイクロイックフィルタおよ
びこの機能を有する光学部材を備えた照明光学系に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dichroic filter having a function of decomposing dirt attached to a surface and an illumination optical system having an optical member having this function.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、液晶パネルに光束を透過させ
てこの光束に液晶パネルに表示された画像情報を担持せ
しめ、この画像情報を担持した光束をスクリーンに投射
させる液晶ビデオプロジェクタのような照明光学系が知
られている。このような照明光学系においては、光源
と、光源から発せられた光束をBGRの三原色に分解す
るためのダイクロイックフィルタ、分解された各成分の
光束に対応する画像が表示される液晶パネル、液晶パネ
ルを透過した各成分の光束を合成して射出するための投
射光学系、および光束を所望とする方向に反射させるた
めの反射ミラーなどの光学部材とを備えている。2. Description of the Related Art Conventionally, an illuminant such as a liquid crystal video projector which transmits a light beam through a liquid crystal panel, carries the image information displayed on the liquid crystal panel, and projects the light beam carrying the image information onto a screen. Optical systems are known. In such an illumination optical system, a light source, a dichroic filter for separating a light beam emitted from the light source into three primary colors of BGR, a liquid crystal panel on which an image corresponding to the separated light beam of each component is displayed, and a liquid crystal panel A projection optical system for synthesizing and emitting the light beams of the respective components transmitted through the optical system, and an optical member such as a reflection mirror for reflecting the light beams in a desired direction.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような液晶ビデオ
プロジェクタのような照明光学系においては、その使用
中において光源から発せられる熱により、光学系内にお
いて空気の対流が生じる。そしてこの対流により、光学
系内に外気が侵入した結果、上述したダイクロイックフ
ィルタや液晶パネルなどの光学部材の表面が外気中に含
まれる有機物等により汚れてしまい、照明光学系の光学
性能に悪影響を及ぼすおそれがある。特に結露が生じる
ような温度環境にある場合は、汚れが光学部材に固着し
てしまう。この場合、光学部材の汚れを拭き取ることが
考えられるが、液晶ビデオプロジェクタのような照明光
学系は照明装置内に組み込まれた状態にあるため、光学
部材を外部に露呈させて拭き取ることは非常に困難であ
る。また仮に拭き取ることができたとしても拭き取りの
手間がかかり、拭き取りの際に光学部材に傷が付いてし
まうおそれもある。In an illumination optical system such as a liquid crystal video projector, heat generated from a light source during use causes convection of air in the optical system. As a result of this convection, outside air enters the optical system, and as a result, the surfaces of the above-described optical members such as the dichroic filter and the liquid crystal panel are contaminated by organic substances and the like contained in the outside air, which adversely affects the optical performance of the illumination optical system. May cause. In particular, in a temperature environment where dew condensation occurs, dirt adheres to the optical member. In this case, it is conceivable to wipe off dirt on the optical member. However, since the illumination optical system such as a liquid crystal video projector is incorporated in the illumination device, it is very difficult to expose the optical member to the outside and wipe it off. Have difficulty. Even if it can be wiped, it takes time and effort to wipe it, and the optical member may be damaged during the wiping.
【0004】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、表面の汚れの拭き取りの手間を省くことができる
ダイクロイックフィルタおよびこのようなダイクロイッ
クフィルタなどの光学部材を有する照明光学系を提供す
ることを目的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a dichroic filter capable of eliminating the trouble of wiping the surface of dirt, and an illumination optical system having an optical member such as the dichroic filter. It is intended for.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明によるダイクロイ
ックフィルタは、透明基材と、該透明基材の表面に形成
されたダイクロイック層と、該ダイクロイック層の表面
および/または前記透明基材の裏面に形成された半導体
光触媒層とを有することを特徴とするものである。A dichroic filter according to the present invention comprises a transparent substrate, a dichroic layer formed on a surface of the transparent substrate, and a dichroic layer formed on a surface of the dichroic layer and / or a back surface of the transparent substrate. And a semiconductor photocatalyst layer formed.
【0006】また、本発明による照明光学系は、光源
と、該光源から発せられた光束を光軸方向に反射または
透過させる光学部材とを有する照明光学系において、前
記光学部材の表面に半導体光触媒層が形成されているこ
とを特徴とするものである。Further, an illumination optical system according to the present invention is an illumination optical system having a light source and an optical member for reflecting or transmitting a light beam emitted from the light source in an optical axis direction, wherein a semiconductor photocatalyst is provided on the surface of the optical member. It is characterized in that a layer is formed.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
形態について説明する。図1は本発明の実施形態による
ダイクロイックフィルタの構成を示す断面図である。図
1に示すように本発明の実施形態によるダイクロイック
フィルタ1は、透明基材2の表面に形成されたダイクロ
イック層3と、ダイクロイック層3の表面に形成された
半導体光触媒層4とからなるものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a dichroic filter according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a dichroic filter 1 according to an embodiment of the present invention includes a dichroic layer 3 formed on the surface of a transparent substrate 2 and a semiconductor photocatalyst layer 4 formed on the surface of the dichroic layer 3. is there.
【0008】透明基材2としては、例えば、透明ガラス
板、透明プラスチック板あるいは透明プラスチックフィ
ルムなどを用いることができる。ダイクロイック層3
は、例えば、酸化シリコンと酸化チタンとを交互に積層
させて形成され、例えば波長500nm程度以上の光の
みを透過させ、それ以下の波長の光を反射する光学特性
を有するものである。As the transparent substrate 2, for example, a transparent glass plate, a transparent plastic plate or a transparent plastic film can be used. Dichroic layer 3
Is formed by alternately stacking silicon oxide and titanium oxide, for example, and has an optical characteristic of transmitting only light having a wavelength of about 500 nm or more and reflecting light of a wavelength less than that.
【0009】半導体光触媒層4としては、従来より半導
体光触媒として既知のものであれば特に限定されず、具
体的には酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸
化鉄、酸化錫、チタン酸ストロンチウム、酸化ビスマ
ス、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化チタンと酸化
シリコンとの混合物、酸化チタンと酸化錫との混合物、
硫化カドミウム、ガリウム燐、チタン酸鉄などの半導体
が挙げられる。好ましい半導体光触媒としては、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タングステンを挙げるこ
とができる。The semiconductor photocatalyst layer 4 is not particularly limited as long as it is conventionally known as a semiconductor photocatalyst. Specifically, titanium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, iron oxide, tin oxide, strontium titanate, oxide Bismuth, zirconium oxide, niobium oxide, a mixture of titanium oxide and silicon oxide, a mixture of titanium oxide and tin oxide,
Semiconductors such as cadmium sulfide, gallium phosphide, and iron titanate can be used. Preferred semiconductor photocatalysts include titanium oxide, zinc oxide, iron oxide, and tungsten oxide.
【0010】半導体光触媒層4の被着方法としては、例
えばスパッタリング、CVD、真空蒸着、塗着、スプレ
ーコーティング、溶射などを挙げることができる。ま
た、膜厚としてはダイクロイックフィルタ1の光学特性
に影響を与えない程度のものとすることが必要であり、
数nm程度が望ましい。The method for applying the semiconductor photocatalyst layer 4 includes, for example, sputtering, CVD, vacuum deposition, coating, spray coating, thermal spraying, and the like. Further, it is necessary that the film thickness is such that the optical characteristics of the dichroic filter 1 are not affected.
About several nm is desirable.
【0011】また、本実施形態においては、半導体光触
媒の光触媒作用の活性化のため、さらに金属および/ま
たは金属酸化物を添加させてもよい。具体的には、白
金、パラジウム、ロジウム、ニッケル、金、銅などの金
属、あるいは酸化ルテニウム、酸化ニッケルなどの金属
酸化物が挙げられる。In this embodiment, a metal and / or a metal oxide may be further added for activating the photocatalysis of the semiconductor photocatalyst. Specific examples include metals such as platinum, palladium, rhodium, nickel, gold, and copper, and metal oxides such as ruthenium oxide and nickel oxide.
【0012】このような半導体光触媒層4において光触
媒作用を機能せしめるためには、半導体光触媒のバンド
ギャップ以上のエネルギを有する光が必要となる。例え
ば、半導体光触媒として酸化チタンを用いる場合、波長
400nm以下の紫外光が必要となる。このような、紫
外光を含む光を発する光源としては白色蛍光灯などのほ
か、キセノンランプ、高圧水銀ランプ(紫外光のみを発
生する)などを挙げることができる。In order for such a semiconductor photocatalyst layer 4 to function as a photocatalyst, light having energy greater than the band gap of the semiconductor photocatalyst is required. For example, when using titanium oxide as a semiconductor photocatalyst, ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less is required. Examples of such a light source that emits light including ultraviolet light include a white fluorescent lamp, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp (which generates only ultraviolet light), and the like.
【0013】そして、本実施形態における半導体光触媒
層4は、半導体がバンドギャップ以上のエネルギを有す
る光を吸収することにより、価電子帯に生じた正孔の酸
化力により有機物からなる汚れを分解する、いわゆる自
浄作用を有するものである。すなわち、半導体光触媒層
4に紫外光を含む光が所定時間照射されることにより、
ヒドロキシラジカル(OH)やスーパーオキサイドイオ
ン(O2 -)などの活性酸素が生成される。活性酸素は通
常の酸素とは異なり励起状態にあるため非常に反応性に
富み、例えばヒドロキシラジカルは温度でいうと360
00Kという非常に大きな酸化力を有するものである。
また、活性酸素は寿命が長く一旦生成されると半導体光
触媒層4上を拡散するものである。したがって、ダイク
ロイックフィルタ1の表面に付着した有機物等の汚れ
は、半導体光触媒層4に紫外光を含む光が照射されるこ
とにより発生する活性酸素により燃焼されて水と二酸化
炭素に分解される。The semiconductor photocatalyst layer 4 in this embodiment decomposes organic dirt by the oxidizing power of holes generated in the valence band by absorbing light having energy greater than the band gap of the semiconductor. It has a so-called self-cleaning action. That is, by irradiating the semiconductor photocatalyst layer 4 with light including ultraviolet light for a predetermined time,
Active oxygen such as hydroxy radical (OH) and superoxide ion (O 2 − ) is generated. Active oxygen is very reactive because it is in an excited state unlike ordinary oxygen. For example, hydroxyl radical is 360
It has a very large oxidizing power of 00K.
The active oxygen has a long life and once diffused on the semiconductor photocatalyst layer 4 once generated. Therefore, dirt such as organic substances attached to the surface of the dichroic filter 1 is burned by active oxygen generated when the semiconductor photocatalyst layer 4 is irradiated with light including ultraviolet light, and is decomposed into water and carbon dioxide.
【0014】このように、本実施形態によるダイクロイ
ックフィルタ1は、上述したような紫外光を含む光を所
定時間照射することにより、半導体光触媒層4の自浄作
用により汚れが分解されるため、ダイクロイックフィル
タ1を使用した光学系の光源から発せられる光に紫外光
を含むものを使用することにより、何ら拭き取りを行う
ことなく、単に通常通り使用するのみで汚れの付着を防
止することができる。As described above, the dichroic filter 1 according to the present embodiment irradiates the light including the above-described ultraviolet light for a predetermined period of time, so that the dirt is decomposed by the self-cleaning action of the semiconductor photocatalyst layer 4. The use of the light emitted from the light source of the optical system using 1 including ultraviolet light makes it possible to prevent the adhesion of dirt by simply using the light normally without wiping.
【0015】なお、上記ダイクロイックフィルタ1はダ
イクロイック層の表面に半導体光触媒層4を設けている
が、この表面とともに透明基材2の裏面にも半導体光触
媒層を設けることにより、ダイクロイックフィルタ1の
表面のみでなく透明基材2の裏面にも汚れが付着するこ
とを防止することができるため、より好ましいものであ
る。Although the dichroic filter 1 has the semiconductor photocatalyst layer 4 provided on the surface of the dichroic layer, by providing the semiconductor photocatalyst layer on the back surface of the transparent substrate 2 together with this surface, only the surface of the dichroic filter 1 is provided. This is more preferable because it is possible to prevent dirt from adhering to the back surface of the transparent substrate 2 instead.
【0016】次いで、本発明の照明光学系の実施形態に
ついて説明する。図2は、本実施形態による照明光学系
を用いた液晶ビデオプロジェクタ用投射光学系の構成を
示す図である。図2に示すように、本実施形態の液晶ビ
デオプロジェクタ用投射光学系は、キセノンランプや高
圧水銀ランプのように紫外光を含む光束を射出する光源
11と、光源11の後段に設けられ光源11から発せら
れた光束L0を反射するコールドミラー12と、コール
ドミラー12により反射された光束L1に画像情報を担
持せしめてスクリーンに投射するための投射部13とか
らなる。Next, an embodiment of the illumination optical system of the present invention will be described. FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a projection optical system for a liquid crystal video projector using the illumination optical system according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, a projection optical system for a liquid crystal video projector according to the present embodiment includes a light source 11 that emits a light beam containing ultraviolet light, such as a xenon lamp or a high-pressure mercury lamp, and a light source 11 provided after the light source 11. A cold mirror 12 that reflects a light beam L0 emitted from the camera, and a projection unit 13 that carries image information on the light beam L1 reflected by the cold mirror 12 and projects the image information on a screen.
【0017】コールドミラー12は、光源11から発せ
られる光束L0のうち可視光を反射し、赤外光を透過す
るように構成してなるものである。The cold mirror 12 is configured to reflect visible light and transmit infrared light in the light beam L0 emitted from the light source 11.
【0018】投射部13は、コールドミラー12により
反射された光束L1をG成分LGおよびBR成分LB、
LRに分離するためのG/BR分離用ダイクロイックフ
ィルタ21と、ダイクロイックフィルタ21により分離
されたBR成分LB、LRを、B成分LBおよびR成分
LRに分離するためのB/R分離用ダイクロイックフィ
ルタ22と、B成分用の画像が表示される液晶パネル2
3Bと、G成分用の画像が表示される液晶パネル23G
と、R成分用の画像が表示される液晶パネル23Rと、
G/BR分離用ダイクロイックフィルタ21により分離
されたG成分LGを液晶パネル23Gに向けて反射する
ためのアルミミラー(全反射ミラー)24と、液晶パネ
ル23Gを透過したG成分および液晶パネル23Rを透
過したR成分を合成するためのGR合成用ダイクロイッ
クフィルタ25と、ダイクロイックフィルタ25により
合成されたGR成分および液晶パネル23Bを透過した
B成分を合成するためのBGR合成用ダイクロイックフ
ィルタ26と、液晶パネル23Bを透過したB成分をB
GR合成用ダイクロイックフィルタ26に向けて反射す
るためのアルミミラー27(全反射ミラー)と、BGR
合成用ダイクロイックフィルタ26により合成された光
束L2をスクリーン上に結像させるための投射レンズ2
8とからなる。The projection unit 13 converts the light beam L1 reflected by the cold mirror 12 into a G component LG and a BR component LB,
G / BR separating dichroic filter 21 for separating into LR, and B / R separating dichroic filter 22 for separating BR components LB and LR separated by dichroic filter 21 into B component LB and R component LR. And liquid crystal panel 2 on which an image for B component is displayed
3B and a liquid crystal panel 23G on which a G component image is displayed
A liquid crystal panel 23R on which an image for an R component is displayed;
An aluminum mirror (total reflection mirror) 24 for reflecting the G component LG separated by the G / BR separation dichroic filter 21 toward the liquid crystal panel 23G, and transmitting the G component transmitted through the liquid crystal panel 23G and the liquid crystal panel 23R. A dichroic filter for GR synthesis for synthesizing the obtained R component, a dichroic filter for BGR synthesis for synthesizing the GR component synthesized by the dichroic filter 25 and the B component transmitted through the liquid crystal panel 23B, and a liquid crystal panel 23B. B component transmitted through
An aluminum mirror 27 (total reflection mirror) for reflecting light toward the GR combining dichroic filter 26, and a BGR
Projection lens 2 for imaging light beam L2 synthesized by dichroic filter 26 for synthesis on a screen
8
【0019】本実施形態においては、この液晶ビデオプ
ロジェクタ用投射光学系を構成する、G/BR分離用ダ
イクロイックフィルタ21、B/R分離用ダイクロイッ
クフィルタ22、GR合成用ダイクロイックフィルタ2
5およびBGR合成用ダイクロイックフィルタ26の表
面に、上述した半導体光触媒層が形成されてなるもので
ある。In the present embodiment, a dichroic filter 21 for G / BR separation, a dichroic filter 22 for B / R separation, and a dichroic filter 2 for GR synthesis constituting the projection optical system for the liquid crystal video projector.
The semiconductor photocatalyst layer described above is formed on the surface of the dichroic filter for BGR 5 and BGR synthesis.
【0020】次いで、本実施形態の動作について説明す
る。光源11から発せられた光束L0は、コールドミラ
ー12により投射部13に向けて反射される。コールド
ミラー12により反射された光束L1は、G/BR分離
用ダイクロイックフィルタ21により、G成分LGおよ
びBR成分LB、LRに分離され、分離されたG成分L
Gはアルミミラー24により反射されて液晶パネル23
Gに照射される。液晶パネル23Gには、不図示の表示
手段によりG成分に対応する画像が表示されており、光
束のG成分LGは液晶パネル23Gを透過することによ
り、G成分に対応した画像情報を担持したものとなる。Next, the operation of this embodiment will be described. The light beam L <b> 0 emitted from the light source 11 is reflected by the cold mirror 12 toward the projection unit 13. The light beam L1 reflected by the cold mirror 12 is separated by a G / BR separation dichroic filter 21 into a G component LG and BR components LB and LR, and the separated G component L
G is reflected by the aluminum mirror 24 and the liquid crystal panel 23
G is irradiated. An image corresponding to the G component is displayed on the liquid crystal panel 23G by display means (not shown), and the G component LG of the light beam carries image information corresponding to the G component by transmitting through the liquid crystal panel 23G. Becomes
【0021】一方、G/BR分離用ダイクロイックフィ
ルタ21により分離されたBR成分LB、LRは、B/
R分離用ダイクロイックフィルタ22によりB成分LB
およびR成分LRに分離され、分離されたB成分LBは
液晶パネル23Bに照射される。液晶パネル23Bには
液晶パネル23Gと同様にB成分に対応する画像が表示
されており、光束のB成分LBは液晶パネル23Bを透
過することにより、B成分に対応した画像情報を担持し
たものとなる。On the other hand, the BR components LB and LR separated by the dichroic filter 21 for G / BR separation are
B component LB by dichroic filter 22 for R separation
And the R component LR, and the separated B component LB is irradiated to the liquid crystal panel 23B. An image corresponding to the B component is displayed on the liquid crystal panel 23B in the same manner as the liquid crystal panel 23G, and the B component LB of the light flux transmits image data corresponding to the B component by transmitting through the liquid crystal panel 23B. Become.
【0022】また、B/R分離用ダイクロイックフィル
タ22により分離されたR成分LRは液晶パネル23R
に照射される。液晶パネル23Rには液晶パネル23
B、23Gと同様にR成分に対応する画像が表示されて
おり、光束のR成分LRは液晶パネル23Rを透過する
ことにより、R成分に対応した画像情報を担持したもの
となる。The R component LR separated by the B / R separating dichroic filter 22 is applied to the liquid crystal panel 23R.
Is irradiated. The liquid crystal panel 23R includes the liquid crystal panel 23
An image corresponding to the R component is displayed similarly to B and 23G, and the R component LR of the light beam carries image information corresponding to the R component by transmitting through the liquid crystal panel 23R.
【0023】このように、液晶パネル23B、23G、
23Rに表示された画像情報を担持したB成分LB、G
成分LGおよびR成分LRのうち、G成分LGおよびR
成分LRは、GR合成用ダイクロイックフィルタ25に
より合成されるとともに、BGR合成用ダイクロイック
フィルタ26に照射される。一方、B成分LBはアルミ
ミラー27により反射されてBGR合成用ダイクロイッ
クフィルタ26に照射される。そして、BGR合成用ダ
イクロイックフィルタ26においてB成分LB、G成分
LGおよびR成分LRが合成され、カラー画像情報を担
持した光束L2とされる。カラー画像情報を担持した光
束L2は投射レンズ28を透過して不図示のスクリーン
上に結像され、これにより、スクリーンには液晶パネル
23B、23G、23Rに表示された画像が合成された
カラー画像が表示されることとなる。As described above, the liquid crystal panels 23B, 23G,
B component LB, G carrying image information displayed on 23R
Of the component LG and the R component LR, the G component LG and R
The component LR is synthesized by the GR synthesizing dichroic filter 25 and is also radiated to the BGR synthesizing dichroic filter 26. On the other hand, the B component LB is reflected by the aluminum mirror 27 and irradiated to the BGR synthesizing dichroic filter 26. Then, the B component LB, the G component LG, and the R component LR are synthesized in the BGR synthesizing dichroic filter 26 to form a light beam L2 carrying color image information. The light beam L2 carrying the color image information is transmitted through the projection lens 28 to form an image on a screen (not shown), whereby the color image obtained by combining the images displayed on the liquid crystal panels 23B, 23G, and 23R is displayed on the screen. Will be displayed.
【0024】このような液晶ビデオプロジェクタ用投射
光学系においては、光源11から発せられる熱により光
学系内部の空気が対流し、光学系内に外気が侵入し、こ
の外気中に含まれる有機物等によりダイクロイックフィ
ルタ21、22、25、26が汚れてしまう。この場
合、汚れを拭き取ればよいが、このような投射光学系は
照明装置内部に設けられていることから、ダイクロイッ
クフィルタ21、22、23、24を露出させて汚れを
拭き取ることは困難であり、また汚れを拭き取ることが
できたとしても、拭き取りの際にフィルタ表面に傷が付
いてしまうおそれがある。In such a projection optical system for a liquid crystal video projector, heat generated from the light source 11 causes air inside the optical system to convect, and outside air enters the optical system. The dichroic filters 21, 22, 25, 26 become dirty. In this case, it is only necessary to wipe off the dirt. However, since such a projection optical system is provided inside the illumination device, it is difficult to expose the dichroic filters 21, 22, 23, and 24 to wipe off the dirt. Further, even if the dirt can be wiped off, the filter surface may be damaged during the wiping.
【0025】本実施形態の投射光学系においては、ダイ
クロイックフィルタ21、22、25、26の表面に半
導体光触媒層が形成され、かつ光源11をキセノンラン
プや高圧水銀ランプなどの紫外光を含む光束を射出する
ものとしたため、本実施形態の光学系を使用するのみ
で、ダイクロイックフィルタ21、22、25、26の
表面に付着した汚れは半導体光触媒層の自浄作用により
分解される。したがって、汚れの拭き取りを行うことな
く汚れを除去することができメインテナンスが容易とな
り、またダイクロイックフィルタ21、22、25、2
6の表面に傷を付けることも防止できる。In the projection optical system of this embodiment, a semiconductor photocatalyst layer is formed on the surface of the dichroic filters 21, 22, 25 and 26, and the light source 11 emits a light beam containing ultraviolet light such as a xenon lamp or a high-pressure mercury lamp. Since the light is emitted, dirt adhering to the surfaces of the dichroic filters 21, 22, 25, and 26 is decomposed by the self-cleaning action of the semiconductor photocatalyst layer only by using the optical system of the present embodiment. Therefore, the dirt can be removed without wiping the dirt, maintenance is facilitated, and the dichroic filters 21, 22, 25, and 2 are removed.
6 can also be prevented from being scratched.
【0026】なお、上記実施形態においては、液晶ビデ
オプロジェクタ用投射光学系を構成するダイクロイック
フィルタ21、22、25、26に半導体光触媒層を設
けているが、光源11、コールドミラー12、液晶パネ
ル23B、23G、23Rの表面およびアルミミラー2
4、27あるいは投射レンズ28に半導体光触媒層を形
成してもよい。In the above embodiment, the dichroic filters 21, 22, 25, and 26 constituting the projection optical system for the liquid crystal video projector are provided with the semiconductor photocatalyst layer. However, the light source 11, the cold mirror 12, and the liquid crystal panel 23B , 23G, 23R surface and aluminum mirror 2
The semiconductor photocatalyst layer may be formed on the projection lens 27 or the projection lens 28.
【0027】また、上記実施形態においては、本発明の
照明光学系を液晶ビデオプロジェクタ用投射光学系に適
用しているが、これに限定されるものではなく、照明光
学系であればいかなるものにも適用することができるも
のである。In the above embodiment, the illumination optical system of the present invention is applied to a projection optical system for a liquid crystal video projector. However, the present invention is not limited to this, and any illumination optical system may be used. Is also applicable.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
るダイクロイックフィルタによれば、ダイクロイック層
の表面および/または透明基材の裏面に半導体光触媒層
を設けたため、この半導体光触媒層の自浄作用により拭
き取りなどを行うことなく表面の汚れを除去することが
できる。As described above in detail, according to the dichroic filter according to the present invention, the semiconductor photocatalyst layer is provided on the surface of the dichroic layer and / or on the back surface of the transparent base material. Dirt on the surface can be removed without wiping or the like.
【0029】また、本発明による照明光学系において
は、光学部材の表面に半導体光触媒層を設けたため、単
に光源から発せられる光束を照射するのみで、光学部材
の表面に付着した汚れを除去することができる。したが
って、汚れの拭き取りを行う必要がなくなり、これによ
りメインテナンスが容易となり、かつ拭き取りによって
光学部材に傷が付いてしまうことを防止することができ
る。Further, in the illumination optical system according to the present invention, since the semiconductor photocatalyst layer is provided on the surface of the optical member, it is possible to remove dirt adhering to the surface of the optical member only by irradiating a light beam emitted from a light source. Can be. Therefore, it is not necessary to wipe off dirt, thereby facilitating maintenance and preventing the optical member from being damaged by the wiping.
【図1】本発明の実施形態によるダイクロイックフィル
タの構成を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a dichroic filter according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の照明光学系の実施形態である液晶ビデ
オプロジェクタ用投射光学系の構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a projection optical system for a liquid crystal video projector, which is an embodiment of the illumination optical system of the present invention.
1 ダイクロイックフィルタ 2 透明基材 3 ダイクロイック層 4 半導体光触媒層 11 光源 12 コールドミラー 13 投射部 21、22、25、26 ダイクロイックフィルタ 23B、23G、23R 液晶パネル 24、27 アルミミラー 28 投射レンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dichroic filter 2 Transparent base material 3 Dichroic layer 4 Semiconductor photocatalyst layer 11 Light source 12 Cold mirror 13 Projection part 21, 22, 25, 26 Dichroic filter 23B, 23G, 23R Liquid crystal panel 24, 27 Aluminum mirror 28 Projection lens
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04N 5/74 H04N 5/74 A 9/31 9/31 C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H04N 5/74 H04N 5/74 A 9/31 9/31 C
Claims (2)
の裏面に形成された半導体光触媒層とを有することを特
徴とするダイクロイックフィルタ。A transparent substrate, a dichroic layer formed on a surface of the transparent substrate, and a semiconductor photocatalyst layer formed on a surface of the dichroic layer and / or a back surface of the transparent substrate. Features a dichroic filter.
させる光学部材とを有する照明光学系において、 前記光学部材の表面に半導体光触媒層が形成されている
ことを特徴とする照明光学系。2. An illumination optical system comprising: a light source; and an optical member for reflecting or transmitting a light beam emitted from the light source in an optical axis direction, wherein a semiconductor photocatalyst layer is formed on a surface of the optical member. Characteristic illumination optical system.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9187762A JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
DE19826509A DE19826509A1 (en) | 1997-06-27 | 1998-06-15 | Dichroitic filter for optical illumination system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9187762A JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1123838A true JPH1123838A (en) | 1999-01-29 |
Family
ID=16211768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9187762A Withdrawn JPH1123838A (en) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | Dichroic filter and lighting optical system |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1123838A (en) |
DE (1) | DE19826509A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6623129B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-09-23 | Seiko Epson Corporation | Optical component and projector using the same |
US7029374B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-04-18 | Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. | Method for cleaning semiconductor wafers |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP9187762A patent/JPH1123838A/en not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-06-15 DE DE19826509A patent/DE19826509A1/en not_active Ceased
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6623129B2 (en) | 2001-03-27 | 2003-09-23 | Seiko Epson Corporation | Optical component and projector using the same |
US7029374B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-04-18 | Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. | Method for cleaning semiconductor wafers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19826509A1 (en) | 1999-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6623129B2 (en) | Optical component and projector using the same | |
EP3514622B1 (en) | Illumination system and projection apparatus | |
EP2574982B1 (en) | Phosphor device, illumination apparatus and projector apparatus | |
JPH1050111A (en) | Pollution-proof lighting system for tunnel | |
JPH09224793A (en) | Dim-free basin mirror | |
TWI411866B (en) | Color wheel and projector | |
JP2004191767A (en) | Projection type video display unit | |
JPS61121002A (en) | Light shielding plate | |
US5497207A (en) | Overhead projector | |
JPH1123838A (en) | Dichroic filter and lighting optical system | |
JPH1184350A (en) | Liquid crystal display device | |
CN103091955B (en) | Illuminator and projection arrangement | |
JP3073691B2 (en) | Road or tunnel lighting | |
JPH11327050A (en) | Display device | |
JPH08220305A (en) | Reflection preventive filter | |
JP2000304917A (en) | Optical parts, its production and projector device | |
JPH1068998A (en) | Optical box and projection television receiver | |
JP2002245818A (en) | Cover for lighting fixture and lighting fixture | |
JP2007310223A (en) | Optical device | |
JPH09189441A (en) | Range hood with self-cleaning function | |
KR100667016B1 (en) | Structure of air-filtering for projection TV | |
JPH09921A (en) | Highly light transparent oxide photocatalyst element | |
JPH097542A (en) | Photocatalyst light source protective material | |
JP2002122938A (en) | Projector device | |
JP2547241Y2 (en) | LCD projector |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040907 |