JP2000304917A - Optical parts, its production and projector device - Google Patents
Optical parts, its production and projector deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光学部品及びその製
造方法並びにプロジェクタ装置に関し、例えば投射型液
晶プロジェクタ装置に適用して好適である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical component, a method of manufacturing the same, and a projector, and is suitably applied to, for example, a projection type liquid crystal projector.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、プロジェクタ装置においては、光
源から発射された光ビームをダイクロイックミラ等を用
いて赤色光、緑色光及び青色光に分光すると共に、これ
らをそれぞれカラー映像信号に基づいて空間変調し、か
くして得られたカラー映像信号に基づくカラー映像の赤
色成分光、緑色成分光及び青色成分光をクロスプリズム
等を用いて合成した後、これを投射レンズ等を介してス
クリーンに投影することにより合成されたカラー映像の
赤色成分光、緑色成分光及び青色成分光に基づく映像を
拡大して写し出すようになされている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a projector apparatus, a light beam emitted from a light source is separated into red light, green light and blue light using a dichroic mirror or the like, and these are spatially modulated based on a color video signal. Then, after synthesizing the red component light, the green component light, and the blue component light of the color image based on the color image signal thus obtained by using a cross prism or the like, by projecting this onto a screen via a projection lens or the like, An image based on the red component light, the green component light, and the blue component light of the combined color image is enlarged and projected.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のプ
ロジェクタ装置においては、上述のような光学部品が耐
熱性に劣る高分子材料からなるため、冷却ファン等を用
いて装置内部の空気を循環させてこれら光学部品を冷却
していた。In this type of projector, since the above-mentioned optical components are made of a polymer material having poor heat resistance, the air inside the device is circulated using a cooling fan or the like. These optical components were cooled.
【０００４】しかしながらこのようなプロジェクタ装置
では、このプロジェクタ装置を長期間使用した場合、空
気中に存在する微小な塵や埃等が当該プロジェクタ装置
の光学部品の表面に付着するおそれがあり、この塵や埃
が光学部品表面に付着した場合、当該塵や埃が光学部品
表面で光を散乱させると共に、当該光学部品表面での光
の透過率を低下させる問題があった。However, in such a projector device, when the projector device is used for a long period of time, there is a possibility that minute dust or dirt existing in the air may adhere to the surface of the optical component of the projector device. When dust or dust adheres to the surface of an optical component, there is a problem that the dust or dust scatters light on the surface of the optical component and reduces the transmittance of light on the surface of the optical component.
【０００５】これによりこのプロジェクタ装置では、光
源から発射される光ビームの利用効率が低下し、スクリ
ーン上に写し出される画像を暗くするため、当該画像の
画質が低下するおそれがあった。As a result, in this projector device, the utilization efficiency of the light beam emitted from the light source is reduced, and the image displayed on the screen is darkened, so that the image quality of the image may be reduced.
【０００６】このため従来のプロジェクタ装置では、冷
却ファンに目の細かいフィルタ等を設け、これを用いて
空気をろ過しながらプロジェクタ装置内を循環させる方
法が考えられたものの、この方法では、フィルタの目が
細かくなることに伴い、循環させる空気の流量が低下し
冷却性能が低下する問題があり、空気中の塵や埃の除去
方法としては不十分であった。For this reason, in a conventional projector device, a method has been considered in which a cooling fan is provided with a fine filter or the like, and air is circulated in the projector device while filtering air using the filter. As the eyes become finer, there is a problem that the flow rate of the circulating air decreases and the cooling performance decreases, and this is insufficient as a method for removing dust and dirt from the air.
【０００７】この問題を解決するための一つの手法とし
て、光学部品に設けられる反射防止膜上に撥水性材料で
なる防汚性膜を形成するようにして、プロジェクタ装置
内を循環させる空気中の塵や埃が光学部品に付着するの
を防止する方法が特開平7-16840 号公報等に開示されて
いる。As one method for solving this problem, an antifouling film made of a water-repellent material is formed on an antireflection film provided on an optical component so that the air in the air circulating in the projector apparatus can be used. A method for preventing dust and dirt from adhering to optical components is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-16840.
【０００８】因みにこのような空気中の塵や埃が光学部
品の表面に付着する原因としては、空気中の塵や埃と、
光学部品との分子間力により付着する場合と、この塵や
埃と、光学部品との静電気により付着する場合とが考え
られる。[0008] Incidentally, as a cause of such dust and dust in the air adhering to the surface of the optical component, dust and dust in the air, and
It is conceivable that the particles adhere to the optical component due to intermolecular force, or that the particles adhere to the dust due to static electricity between the optical component.
【０００９】従って光学部品に塵や埃が付着する原因が
分子間力による場合、当該塵や埃自体の表面エネルギに
対して、光学部品表面の表面エネルギを相対的に小さく
することができれば、この塵や埃が光学部品の表面に付
着するのを未然に防止し得ると考えられ、この場合光学
部品表面の表面エネルギは、この光学部品表面に撥水性
又は親水性の処理を施すことにより実現できると考えら
れている。Therefore, when dust or dust adheres to an optical component due to an intermolecular force, if the surface energy of the surface of the optical component can be made relatively smaller than the surface energy of the dust or dust itself. It is thought that dust and dirt can be prevented from adhering to the surface of the optical component, and in this case, the surface energy of the optical component surface can be realized by performing a water-repellent or hydrophilic treatment on the optical component surface. It is believed that.
【００１０】一方光学部品に塵や埃が付着する原因が静
電気による場合、特に光学部品側に蓄積される静電気を
効果的に除去すれば良いと考えられ、この場合光学部品
表面に所定の導電性処理を施すことにより実現できると
考えられている。[0010] On the other hand, if the dust adheres to the optical component due to static electricity, it is considered effective to remove the static electricity accumulated particularly on the optical component side. It is thought that this can be realized by performing processing.
【００１１】ところが特開平7-16840 号公報等に開示さ
れているような方法によると、防汚性膜は、光学部品に
設けられた反射防止膜上に新たに形成されており、その
厚みを例えば 100〔nm〕以上にすると反射防止膜に不要
干渉を起こして光学特性に影響を生じさせる問題がある
ため、厚みが 100〔nm〕以下になるように形成しなけれ
ばならない問題があった。However, according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-16840, an antifouling film is newly formed on an antireflection film provided on an optical component, and its thickness is reduced. For example, if the thickness is more than 100 [nm], there is a problem that an unnecessary interference occurs in the antireflection film and the optical characteristics are affected. Therefore, there is a problem that the thickness must be formed to be 100 [nm] or less.
【００１２】しかしながら、この防汚性膜をその厚みが
100〔nm〕以下になるように形成した場合、上述のよう
な反射防止膜の光学特性に影響を生じさせる問題はない
ものの、光学部品表面の空気中の塵や埃に対する防汚性
及びその耐久性が未だ不十分な問題があった。However, this antifouling film has a thickness
When formed so as to have a thickness of 100 nm or less, although there is no problem of affecting the optical characteristics of the antireflection film as described above, the antifouling property of the optical component surface against dust and dirt in the air and its durability. There was still a problem of poor performance.
【００１３】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、防汚性を格段的に向上し、かつその耐久性を格段的
に向上し得る光学部品及びその製造方法並びにプロジェ
クタ装置を提案しようとするものである。The present invention has been made in view of the above points, and proposes an optical component, a method of manufacturing the same, and a projector apparatus which can significantly improve the antifouling property and the durability thereof. What you want to do.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、光学部品において、基体の一面及
び又は他面上に、高屈折率材料からなる高屈折率層及び
低屈折率材料からなる低屈折率層を順次積層するように
して形成された所望する光を選択的に透過又は反射させ
る光学多層膜と、光学多層膜の最表層となる高屈折率層
又は低屈折率層を形成する高屈折率材料又は低屈折率材
料に防汚性材料を添加してなる防汚性層とを設けるよう
にした。According to the present invention, there is provided an optical component comprising a high refractive index layer and a low refractive index material made of a high refractive index material on one surface and / or the other surface of a base. Forming an optical multilayer film for selectively transmitting or reflecting desired light formed by sequentially laminating low refractive index layers, and forming a high refractive index layer or a low refractive index layer as the outermost layer of the optical multilayer film. An antifouling layer formed by adding an antifouling material to a high refractive index material or a low refractive index material described above.
【００１５】この結果この光学部品では、防汚性層が空
気中の塵や埃自体の表面エネルギに対して光学部品の表
面エネルギを相対的に小さくすることができるため、空
気中の塵や埃が光学部品の表面に付着するのを未然に防
止することができる。As a result, in this optical component, the surface energy of the optical component can be made relatively smaller than the surface energy of the dust or dust in the air by the antifouling layer. Can be prevented from adhering to the surface of the optical component.
【００１６】また本発明においては、光学部品の製造方
法において、基体の一面及び又は他面上に高屈折率材料
からなる高屈折率層又は低屈折率材料からなる低屈折率
層を順次交互に積層し、形成した光学多層膜の最表層と
なる高屈折率層又は低屈折率層の高屈折率材料又は低屈
折率材料に防汚性材料を添加して防汚性層を形成するよ
うにした。According to the present invention, in the method for manufacturing an optical component, a high refractive index layer made of a high refractive index material or a low refractive index layer made of a low refractive index material is alternately formed on one surface and / or the other surface of the substrate. Laminated, so as to form an antifouling layer by adding an antifouling material to a high refractive index material or a low refractive index material of a high refractive index layer or a low refractive index layer to be the outermost layer of the formed optical multilayer film. did.
【００１７】この結果この光学部品の製造方法では、防
汚性層が空気中の塵や埃自体の表面エネルギに対して光
学部品の表面エネルギを相対的に小さくすることができ
るため、空気中の塵や埃が光学部品の表面に付着するの
を未然に防止することができる。As a result, in this method of manufacturing an optical component, the surface energy of the optical component can be made relatively smaller than the surface energy of the dust and dust itself in the air by the antifouling layer. Dust and dust can be prevented from adhering to the surface of the optical component.
【００１８】さらに本発明においては、プロジェクタ装
置において、基体の一面及び又は他面上に、高屈折率材
料からなる高屈折率層及び低屈折率材料からなる低屈折
率層を順次積層するようにして形成された所望する光を
選択的に透過又は反射させる光学多層膜と、光学多層膜
の最表層となる高屈折率層又は低屈折率層を形成する高
屈折率材料又は低屈折率材料に防汚性材料を添加してな
る防汚性層とを有する光学部品を設けるようにした。Further, in the present invention, in the projector device, a high refractive index layer made of a high refractive index material and a low refractive index layer made of a low refractive index material are sequentially laminated on one surface and / or the other surface of the base. Optical multilayer film for selectively transmitting or reflecting desired light formed by the above method, and a high refractive index material or a low refractive index material forming a high refractive index layer or a low refractive index layer to be the outermost layer of the optical multilayer film. An optical component having an antifouling layer to which an antifouling material is added is provided.
【００１９】この結果このプロジェクタ装置では、防汚
性層が空気中の塵や埃自体の表面エネルギに対して光学
部品の表面エネルギを相対的に小さくすることができる
ため、空気中の塵や埃が光学部品の表面に付着するのを
未然に防止することができる。As a result, in this projector device, the antifouling layer can make the surface energy of the optical component relatively smaller than the surface energy of the dust or dust itself in the air. Can be prevented from adhering to the surface of the optical component.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施の形態を詳述する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００２１】（１）本実施の形態による投射型液晶プロ
ジェクタ装置の構成 図１において、１は全体として本実施の形態による投射
型液晶プロジェクタ装置を示し、メタルハライドランプ
やハロゲンランプ等の光源２から発射された光ビームＬ
１を紫外赤外線カットフィルタ３に照射する。(1) Configuration of Projection Type Liquid Crystal Projector Device According to the Present Embodiment In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a projection type liquid crystal projector device as a whole according to the present embodiment, which emits light from a light source 2 such as a metal halide lamp or a halogen lamp. Light beam L
1 is applied to the ultraviolet / infrared cut filter 3.
【００２２】紫外赤外線カットフィルタ３は、照射され
る光ビームＬ１を透過させることにより、当該光ビーム
Ｌ１に含まれる紫外線及び赤外線を取り除いた後、これ
を１組のマルチレンズアレイ４及び第１の凸レンズ５を
介して光学フィルタであるダイクロイックミラ６に射出
する。The ultraviolet-infrared cut filter 3 removes ultraviolet rays and infrared rays contained in the light beam L1 by transmitting the light beam L1 to be irradiated, and then removes the ultraviolet light and the infrared light contained in the light beam L1 into a set of the multi-lens array 4 and the first The light is emitted through a convex lens 5 to a dichroic mirror 6 which is an optical filter.
【００２３】ダイクロイックミラ６は、入射される光ビ
ームＬ１を赤色光Ｌ２Ｒ、緑色光Ｌ２Ｇ及び青色光Ｌ２
Ｂに分光し、これらをそれぞれ対応する全反射ミラ７Ａ
〜７Ｄにより偏向し、対応する第２の凸レンズ８Ａ〜８
Ｃを介して各色に対応する液晶パネル９Ａ〜９Ｃに照射
する。The dichroic mirror 6 converts the incident light beam L1 into red light L2R, green light L2G and blue light L2.
B, and these are respectively reflected by corresponding total reflection mirrors 7A.
To 7D, and the corresponding second convex lenses 8A to 8D
Irradiate the liquid crystal panels 9A to 9C corresponding to each color via C.
【００２４】各液晶パネル９Ａ〜９Ｃは、それぞれ対応
して照射される赤色光Ｌ２Ｒ、緑色光Ｌ２Ｇ及び青色光
Ｌ２Ｂをそれぞれ透過させることにより、各液晶パネル
９Ａ〜９Ｃ上に表示される映像に基づいて空間変調し、
かくして得られた各液晶パネル９Ａ〜９Ｃ上の映像に基
づくカラー映像の赤色成分光Ｌ３Ｒ、緑色成分光Ｌ３Ｇ
及び青色成分光Ｌ３Ｂをそれぞれクロスプリズム１０に
射出する。Each of the liquid crystal panels 9A to 9C transmits the correspondingly irradiated red light L2R, green light L2G and blue light L2B, respectively, based on the images displayed on the liquid crystal panels 9A to 9C. Spatially modulated
The red component light L3R and the green component light L3G of the color image based on the images on the liquid crystal panels 9A to 9C thus obtained.
And the blue component light L3B are emitted to the cross prism 10, respectively.
【００２５】クロスプリズム１０は、入射される赤色成
分光Ｌ３Ｒ、緑色成分光Ｌ３Ｇ及び青色成分光Ｌ３Ｂを
合成し、これをカラー映像光Ｌ４として投射レンズ１１
を介してスクリーン１２に投影する。The cross prism 10 combines the incident red component light L3R, green component light L3G and blue component light L3B, and uses this as color image light L4 to project the projection lens 11
Is projected on the screen 12 via the.
【００２６】このようにしてこの投射型液晶プロジェク
タ装置１では、光源２から発射された光ビームＬ１を分
光して得られる赤色光Ｌ２Ｒ、緑色光Ｌ２Ｇ及び青色光
Ｌ２Ｂに基づいて液晶パネル９Ａ〜９Ｃ上の映像をスク
リーン１２上に拡大して写し出すようになされている。As described above, in the projection type liquid crystal projector 1, the liquid crystal panels 9A to 9C are based on the red light L2R, green light L2G and blue light L2B obtained by dispersing the light beam L1 emitted from the light source 2. The above image is enlarged and projected on the screen 12.
【００２７】（２）投射型液晶プロジェクタ装置１に用
いられる光学部品の構成 ここでこの投射型液晶プロジェクタ装置１の場合、紫外
赤外線カットフィルタ３及びダイクロイックミラ６の裏
面と、マルチレンズアレイ４、第１の凸レンズ５、クロ
スプリズム１０及び投射レンズ１１の表面とには、それ
ぞれ所定光を選択的に透過又は反射する光学多層膜であ
る第１及び第２の光学フィルタ２５、２４が設けられて
いる。(2) Configuration of Optical Components Used in Projection Type Liquid Crystal Projector 1 In the case of this projection type liquid crystal projector 1, the back surface of the ultraviolet / infrared cut filter 3 and the dichroic mirror 6, the multi-lens array 4, On the surfaces of the one convex lens 5, the cross prism 10, and the projection lens 11, first and second optical filters 25 and 24, which are optical multilayer films that selectively transmit or reflect predetermined light, are provided. .
【００２８】例えばダイクロイックミラ６では図２に示
すように、透明樹脂材料からなる透明基体２０の一面２
０Ａ上に高屈折率材料からなる高屈折率層２１と、低屈
折率材料からなる低屈折率層２２とがそれぞれ真空蒸着
法や、スパッタリング法等によるドライ成膜法等の手法
を用いて順次所定数積層されることにより第１の光学フ
ィルタ２５が形成されている。For example, in the dichroic mirror 6, as shown in FIG. 2, one surface 2 of a transparent substrate 20 made of a transparent resin material is used.
A high-refractive-index layer 21 made of a high-refractive-index material and a low-refractive-index layer 22 made of a low-refractive-index material are sequentially formed on 0A by using a method such as a vacuum deposition method or a dry film forming method by a sputtering method. The first optical filter 25 is formed by laminating a predetermined number.
【００２９】このときこの第１の光学フィルタ２５の最
表層に例えば低屈折率層２２が積層される場合、この最
表層は、当該低屈折率層２２の材料である低屈折率材料
にフッ素系や、シリコーン系樹脂又は炭化水素系ポリマ
等の撥水性材料等が添加されることにより防汚処理が施
された防汚性層２３として積層される。At this time, when, for example, the low refractive index layer 22 is laminated on the outermost layer of the first optical filter 25, the outermost layer is formed of a fluorine-based material as the material of the low refractive index layer 22. Alternatively, a water-repellent material such as a silicone-based resin or a hydrocarbon-based polymer or the like is added to form the antifouling layer 23 that has been subjected to the antifouling treatment.
【００３０】またこのダイクロイックミラ６の透明基体
２０の他面２０Ｂ上には同じく高屈折率層２１と、低屈
折率層２２とが真空蒸着法や、スパッタリング法等によ
るドライ成膜法等の手法を用いて順次所定数積層される
ことにより第２の光学フィルタである反射防止膜２４が
形成されている。A high refractive index layer 21 and a low refractive index layer 22 are also formed on the other surface 20B of the transparent substrate 20 of the dichroic mirror 6 by a vacuum deposition method, a dry film forming method such as a sputtering method, or the like. The anti-reflection film 24 serving as the second optical filter is formed by sequentially laminating a predetermined number of layers by using.
【００３１】そしてこの反射防止膜２４の最表層に例え
ば高屈折率層２１が積層される場合、この最表層は、当
該高屈折率層２１の材料である高屈折率材料にフッ素系
材料や、シリコーン系樹脂又は炭化水素系ポリマ等の撥
水性材料等が添加されることにより第１の光学フィルタ
２５と同様の防汚処理が施された防汚性層２３として積
層される。When, for example, a high refractive index layer 21 is laminated on the outermost layer of the antireflection film 24, the outermost layer is made of a material such as a fluorine-based material or a high refractive index material. By adding a water-repellent material such as a silicone-based resin or a hydrocarbon-based polymer or the like, the film is laminated as an antifouling layer 23 that has been subjected to the same antifouling treatment as the first optical filter 25.
【００３２】これによりダイクロイックミラ６では、第
１の光学フィルタ２５及び反射防止膜２４の最表層の防
汚性層２３が空気中の塵や埃自体の表面エネルギに対し
てダイクロイックミラ６の透明基体２０の表面エネルギ
を相対的に小さくすることができるため、この空気中の
塵や埃がダイクロイックミラ６の表面に付着するのを未
然に防止し得るようになされている。As a result, in the dichroic mirror 6, the first optical filter 25 and the antifouling layer 23 on the outermost surface of the antireflection film 24 are provided on the transparent substrate of the dichroic mirror 6 with respect to the surface energy of dust and dust itself in the air. The surface energy of the dichroic mirror 6 can be prevented beforehand because the surface energy of the surface 20 can be relatively reduced.
【００３３】これと共に、ダイクロイックミラ６では、
第１の光学フィルタ２５及び反射防止膜２４の高屈折率
層２１及び低屈折率層２２によって光源２から発射され
る光ビームＬ１を順次乱反射させながら選択的に透過又
は反射させることにより、光ビームＬ１を不要反射させ
ることなく、効率的にスクリーン１２上に集め得るよう
になされている。At the same time, in the dichroic mirror 6,
The light beam L1 emitted from the light source 2 is selectively transmitted or reflected by the first optical filter 25 and the high refractive index layer 21 and the low refractive index layer 22 of the antireflection film 24 while sequentially and irregularly reflecting the light beam. L1 can be efficiently collected on the screen 12 without unnecessary reflection.
【００３４】因みにこのような防汚性層２３は、投射型
液晶プロジェクタ装置１に用いられる紫外赤外線カット
フィルタ３、マルチレンズアレイ４、第１の凸レンズ
５、クロスプリズム１０及び投射レンズ１１の各透明基
体（図示せず）に形成される第１の光学フィルタ（図示
せず）及び反射防止膜（図示せず）の最表層として形成
されていると共に、これら第１の光学フィルタ及び反射
防止膜の層数は、これらが形成される光学部品の光学特
性によって異なり、その層数によって所望する光を選択
的に反射又は透過し得るようになされている。Incidentally, such an antifouling layer 23 is formed of the ultraviolet-infrared cut filter 3, the multi-lens array 4, the first convex lens 5, the cross prism 10, and the transparent lens of the projection lens 11 used in the projection type liquid crystal projector 1. It is formed as the outermost layer of a first optical filter (not shown) and an anti-reflection film (not shown) formed on a base (not shown). The number of layers differs depending on the optical characteristics of the optical component on which they are formed, and the number of layers is such that desired light can be selectively reflected or transmitted.
【００３５】（３）ダイクロイックミラ６の製造手順 ここで実際上この防汚性層２３は、図３（Ａ）〜図４
（Ｂ）に示す以下の手順により製造することができる。(3) Manufacturing procedure of the dichroic mirror 6 Here, this antifouling layer 23 is actually formed by the steps shown in FIGS.
It can be manufactured by the following procedure shown in (B).
【００３６】まず図３（Ａ）に示すように、フロートガ
ラスや、ポリメタクリレート（ＰＭＭＡ）又はポリカー
ボネート（ＰＣ）等の透明樹脂材料からなる透明基体２
０の表面をイソプロピルアルコール又は、エタノール等
により十分に脱脂し乾燥させた後、これを例えば図示し
ない真空蒸着機又は、スパッタリング装置内にセットす
る。First, as shown in FIG. 3A, a transparent substrate 2 made of a transparent resin material such as float glass, polymethacrylate (PMMA) or polycarbonate (PC).
After the surface of No. 0 is sufficiently degreased and dried with isopropyl alcohol or ethanol or the like, it is set in, for example, a vacuum evaporator or a sputtering device (not shown).
【００３７】続いてこの状態で真空蒸着機を真空排気
し、所定の真空度まで排気が完了した後、図３（Ｂ）に
示すように、透明基体２０の他面２０Ｂ上にTiO2や、Ta
2O5 又はNb2O5 等の屈折率が2.4 以下の高屈折率材料及
びSiO2や、ZrO2又はMgF2等の屈折率が1.3 以上の低屈折
率材料を順次 300〔℃〕程度の温度で真空蒸着すること
により高屈折率層２１及び低屈折率層２２をそれぞれ30
〔nm〕〜 150〔nm〕程度の厚みで５層程度積層し、反射
防止膜２４を形成する。Subsequently, in this state, the vacuum evaporator is evacuated to a predetermined degree of vacuum, and then, as shown in FIG. 3 (B), TiO 2 or the like is deposited on the other surface 20 B of the transparent substrate 20. Ta
A high refractive index material such as 2 O 5 or Nb 2 O 5 having a refractive index of 2.4 or less and a low refractive index material having a refractive index of 1.3 or more such as SiO 2 or ZrO 2 or MgF 2 are sequentially reduced to about 300 ° C. The high-refractive-index layer 21 and the low-refractive-index layer 22 are each 30
About five layers are laminated with a thickness of about [nm] to 150 [nm] to form the antireflection film 24.
【００３８】このときこの最表層（５層目）の高屈折率
層２１を積層する際、フッ素系材料や、シリコーン系樹
脂又は炭化水素系ポリマ等の撥水性材料等を添加させて
300〔℃〕程度の温度で真空蒸着することにより最表層
が防汚性層２３でなる反射防止膜２４が形成される。At this time, when the outermost (fifth) high refractive index layer 21 is laminated, a water repellent material such as a fluorine-based material or a silicone-based resin or a hydrocarbon-based polymer is added.
By performing vacuum deposition at a temperature of about 300 ° C., an antireflection film 24 whose outermost layer is an antifouling layer 23 is formed.
【００３９】次に図４（Ａ）に示すように、この反射防
止膜２４が積層形成された透明基体２０の一面２０Ａ上
に上述のような高屈折率材料及び低屈折率材料を順次 3
00〔℃〕程度の温度で真空蒸着することにより高屈折率
層２１及び低屈折率層２２をそれぞれ30〔nm〕〜 150
〔nm〕程度の厚みで20層程度積層し、第１の光学フィル
タ２５を形成する。Next, as shown in FIG. 4A, the high refractive index material and the low refractive index material as described above are sequentially placed on one surface 20A of the transparent substrate 20 on which the antireflection film 24 is formed.
The high-refractive-index layer 21 and the low-refractive-index layer 22 are each formed by vacuum deposition at a temperature of about
A first optical filter 25 is formed by laminating about 20 layers with a thickness of about [nm].
【００４０】このときこの最表層（20層目）の低屈折率
層２２を積層する際、フッ素系材料や、シリコーン系樹
脂又は炭化水素系ポリマ等の撥水性材料等を添加させて
300〔℃〕程度の温度で真空蒸着することにより最表層
が防汚性層２３でなる第１の光学フィルタ２５が形成さ
れ、これによりダイクロイックミラ６が製造される。At this time, when laminating the low refractive index layer 22 as the outermost layer (20th layer), a water repellent material such as a fluorine-based material or a silicone-based resin or a hydrocarbon-based polymer is added.
The first optical filter 25 whose outermost layer is formed of the antifouling layer 23 is formed by vacuum deposition at a temperature of about 300 ° C., whereby the dichroic mirror 6 is manufactured.
【００４１】（４）本実施の動作及び効果 以上の構成において、この投射型液晶プロジェクタ装置
１では、これに用いるダイクロイックミラ６の第１の光
学フィルタ２５及び反射防止膜２４の最表層にそれぞれ
撥水性材料を添加して、これを防汚性層２３として積層
形成する。(4) Operation and Effect of the Present Embodiment In the above configuration, in the projection type liquid crystal projector 1, the outermost layers of the first optical filter 25 and the antireflection film 24 of the dichroic mirror 6 used in the projector 1 are repelled. An aqueous material is added, and this is laminated and formed as the antifouling layer 23.
【００４２】従ってこの投射型液晶プロジェクタ装置１
では、ダイクロイックミラ６の防汚性層２３が空気中の
塵や埃自体の表面エネルギに対してダイクロイックミラ
６の透明基体２０の表面エネルギを相対的に小さくする
ことができるため、この空気中の塵や埃がダイクロイッ
クミラ６の表面に付着するのを未然に防止することがで
きる。Therefore, the projection type liquid crystal projector 1
In this case, the antifouling layer 23 of the dichroic mirror 6 can make the surface energy of the transparent base 20 of the dichroic mirror 6 relatively smaller than the surface energy of the dust or dust itself in the air. Dust and dirt can be prevented from adhering to the surface of the dichroic mirror 6.
【００４３】実際上紫外赤外線カットフィルタ３、マル
チレンズアレイ４、第１の凸レンズ５、ダイクロイック
ミラ６及びクロスプリズム１０を各光学フィルタの最表
層をフッ素樹脂含有のSiO2を用いた膜厚89〔nm〕、屈折
率が 1.42 でなる撥水性の防汚性層（図示せず）で積層
形成するようにして製造し、これらを用いた投射型液晶
プロジェクタ装置１（図１）を1000時間程度連続駆動さ
せた後、40インチサイズのスクリーン１２上に写し出さ
れる画像の明るさを照度計（図示せず）等を用いて測定
した。In practice, the outermost layer of each optical filter is made of a fluororesin-containing SiO 2 film having a film thickness of 89 [[UV / IR cut filter 3, multi-lens array 4, first convex lens 5, dichroic mirror 6, and cross prism 10]. nm] and a water-repellent antifouling layer (not shown) having a refractive index of 1.42, and a projection type liquid crystal projector 1 (FIG. 1) using these is continuously manufactured for about 1000 hours. After driving, the brightness of the image projected on the 40-inch screen 12 was measured using an illuminometer (not shown) or the like.
【００４４】そしてこの測定結果を第１の測定結果とし
て、従来の光学部品を用いた投射型液晶プロジェクタ装
置（図示せず）を同様に連続駆動させた後にスクリーン
１２上に写し出される画像の明るさを同様に測定した第
２の測定結果と比較し、第２の測定結果が 345〔lx〕で
あるのに対して第１の測定結果が 382〔lx〕となり、第
１の測定結果の方が明るいため、上述のように製造され
た防汚性層では、その耐久性を向上し得ることが判明し
た。Using this measurement result as a first measurement result, the brightness of an image projected on the screen 12 after continuously driving a projection type liquid crystal projector device (not shown) using a conventional optical component in the same manner. Is compared with the second measurement result measured in the same manner, the second measurement result is 345 [lx], the first measurement result is 382 [lx], and the first measurement result is It has been found that the durability of the antifouling layer produced as described above can be improved because of its lightness.
【００４５】以上の構成によれば、この投射型液晶プロ
ジェクタ装置１では、これに用いるダイクロイックミラ
６の第１の光学フィルタ２５及び反射防止膜２４の最表
層に撥水性材料を添加し、これを防汚性層２３として積
層形成するようにしたことにより、この防汚性層２３が
空気中の塵や埃自体の表面エネルギに対してダイクロイ
ックミラ６の透明基体２０の表面エネルギを相対的に小
さくすることができるため、空気中の塵や埃がダイクロ
イックミラ６の表面に付着するのを未然に防止すること
ができ、かくして防汚性を格段的に向上し、かつその耐
久性を格段的に向上し得る投射型投射型液晶プロジェク
タ装置１を実現することができる。According to the above configuration, in the projection type liquid crystal projector 1, a water-repellent material is added to the first optical filter 25 of the dichroic mirror 6 and the outermost layer of the antireflection film 24, and this is used. Since the antifouling layer 23 is formed by lamination, the surface energy of the transparent substrate 20 of the dichroic mirror 6 is relatively small with respect to the surface energy of dust in the air and the dust itself. Therefore, it is possible to prevent dust and dirt in the air from adhering to the surface of the dichroic mirror 6, thereby significantly improving the antifouling property and significantly improving the durability. The projection type liquid crystal projector device 1 that can be improved can be realized.
【００４６】（５）他の実施の形態 なお上述の実施の形態においては、防汚性層２３を投射
型液晶プロジェクタ装置１の光学部品であるダイクロイ
ックミラ６に形成するようにした場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、要は光学部品において光が
入出射する部分に形成される光学フィルタの最表層であ
れば、この他例えば図５に示すような第１の凸レンズ５
の光学フィルタ３１の最表層や、図６に示すようなクロ
スプリズム１０の光学フィルタ４１の最表層又、投射型
液晶プロジェクタ装置１の上述のような光学部品の全て
の光学フィルタの最表層に適用することができる。(5) Other Embodiments In the above embodiment, the case where the antifouling layer 23 is formed on the dichroic mirror 6 which is an optical component of the projection type liquid crystal projector 1 has been described. However, the present invention is not limited to this. In other words, the first convex lens 5 as shown in FIG.
6 and the outermost layer of the optical filter 41 of the cross prism 10 as shown in FIG. 6 or the outermost layer of all the optical filters of the above-mentioned optical components of the projection type liquid crystal projector 1. can do.
【００４７】また上述の実施の形態においては、ダイク
ロイックミラ６を透明基体２０の一面２０Ａ上に高屈折
率層２１と、低屈折率層２２とを順次積層すると共に、
この透明基体２０の他面２０Ｂ上に高屈折率層２１と低
屈折率層２２とを順次積層してなる反射防止膜２４を積
層形成するようにした場合について述べたが、本発明は
これに限らず、例えば図７（Ａ）に示すように、透明基
体２０の一面２０Ａ上に低屈折率層２２と、高屈折率層
２１とを順次積層するようにしても良く、又図７（Ｂ）
に示すように、ダイクロイックミラ６の透明基体２０の
他面２０Ｂ上に低屈折率層２２と、高屈折率層２１とを
順次積層するようにしても良く、さらにこの反射防止膜
２４を形成しないようにしても良い。In the above-described embodiment, the dichroic mirror 6 is formed by sequentially laminating the high refractive index layer 21 and the low refractive index layer 22 on one surface 20 A of the transparent substrate 20.
The case where the antireflection film 24 is formed by sequentially laminating the high refractive index layer 21 and the low refractive index layer 22 on the other surface 20B of the transparent substrate 20 has been described. The present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 7A, a low-refractive-index layer 22 and a high-refractive-index layer 21 may be sequentially laminated on one surface 20A of a transparent base 20, or as shown in FIG. )
As shown in FIG. 5, a low refractive index layer 22 and a high refractive index layer 21 may be sequentially laminated on the other surface 20B of the transparent substrate 20 of the dichroic mirror 6, and the antireflection film 24 is not formed. You may do it.
【００４８】さらに上述の実施の形態においては、ダイ
クロイックミラ６の透明基体の材料としてフロートガラ
スや、ポリメタクリレート（ＰＭＭＡ）又はポリカーボ
ネート（ＰＣ）等の透明樹脂材料を用いるようにした場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は可視
光線領域において透明であれば透明基体２０の材料とし
ては、この他種々の材料を用いることができる。Further, in the above-described embodiment, a case has been described where a transparent resin material such as float glass or polymethacrylate (PMMA) or polycarbonate (PC) is used as the material of the transparent substrate of the dichroic mirror 6. However, the present invention is not limited to this. In other words, as long as it is transparent in the visible light region, various other materials can be used as the material of the transparent substrate 20.
【００４９】さらに上述の実施の形態においては、ダイ
クロイックミラ６の防汚性層２３の材料として撥水性材
料を用いるようにした場合について述べたが、本発明は
これに限らず、要は光学部品の表面に空気中の塵や埃が
付着するのを防止するものであれば防汚性層２３の材料
としては、この他例えばグラフトポリマ又は光触媒性酸
化チタン等の親水性材料や、ITO （In2O3 及びSnO2の固
溶体）又は AZO（Alを含有する ZnO）等の透明性導電体
材料等を用いる場合においても適用することができる。Further, in the above-described embodiment, a case has been described in which a water-repellent material is used as the material of the antifouling layer 23 of the dichroic mirror 6. However, the present invention is not limited to this, and it is essentially an optical component. The material of the antifouling layer 23 may be any other material such as a graft polymer or a photocatalytic titanium oxide, or a hydrophilic material such as ITO (In The present invention can also be applied to the case where a transparent conductive material such as a solid solution of 2 O 3 and SnO 2 ) or AZO (ZnO containing Al) is used.
【００５０】さらに上述の実施の形態においては、赤外
線カットフィルタ３、マルチレンズアレイ４、第１の凸
レンズ５、ダイクロイックミラ６及びクロスプリズム１
０の各光学フィルタの最表層をフッ素樹脂含有のSiO2を
用いた膜厚が89〔nm〕、屈折率が 1.42 でなる撥水性の
防汚性層で形成し、これらを用いた投射型液晶プロジェ
クタ装置１を1000時間程度連続駆動させた後、40インチ
サイズのスクリーン１２上に写し出される画像の明るさ
を照度計を用いて測定した第１の測定結果を従来の投射
型液晶プロジェクタ装置について同様に測定した第２の
測定結果と比較して、防汚性層の耐久性の向上について
判断するようにした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、例えば赤外線カットフィルタ３、マルチレ
ンズアレイ４、第１の凸レンズ５、ダイクロイックミラ
６及びクロスプリズム１０の各光学フィルタの最表層を
シリコーン系樹脂含有のTiO2を用いた膜厚が75〔nm〕、
屈折率が 2.25 でなる撥水性の防汚性層で形成し、上述
と同様に測定するようにした場合においても測定結果が
390〔lx〕となるため、上述と同様の効果を得ることが
できる。Further, in the above embodiment, the infrared cut filter 3, the multi-lens array 4, the first convex lens 5, the dichroic mirror 6, and the cross prism 1
The outermost layer of each optical filter of No. 0 is formed of a water-repellent antifouling layer having a thickness of 89 [nm] using a fluororesin-containing SiO 2 and a refractive index of 1.42, and a projection type liquid crystal using these layers. After continuously driving the projector device 1 for about 1000 hours, the first measurement result obtained by measuring the brightness of the image projected on the 40-inch screen 12 using an illuminometer is the same as that of the conventional projection type liquid crystal projector device. Although the case where the improvement of the durability of the antifouling layer is determined in comparison with the second measurement result described above has been described, the present invention is not limited to this. For example, the infrared cut filter 3, the multi-lens The outermost layer of each optical filter of the array 4, the first convex lens 5, the dichroic mirror 6, and the cross prism 10 has a thickness of 75 nm using TiO 2 containing a silicone resin,
Even when the measurement is performed in the same manner as described above, when the measurement is performed using the water-repellent antifouling layer having a refractive index of 2.25,
Since it is 390 [lx], the same effect as described above can be obtained.
【００５１】さらにこのとき例えば赤外線カットフィル
タ３、マルチレンズアレイ４、第１の凸レンズ５、ダイ
クロイックミラ６及びクロスプリズム１０の各光学フィ
ルタの最表層を光触媒性酸化チタン含有のSiO2を用いた
膜厚が 113〔nm〕、屈折率が1.75 でなる親水性の防汚
性層（図示せず）で形成し、上述と同様に測定するよう
にした場合においても測定結果が 395〔lx〕となるた
め、上述と同様の効果を得ることができる。Further, at this time, for example, the outermost layer of each of the optical filters of the infrared cut filter 3, the multi-lens array 4, the first convex lens 5, the dichroic mirror 6, and the cross prism 10 is a film made of SiO 2 containing photocatalytic titanium oxide. The measurement result is 395 [lx] even when formed with a hydrophilic antifouling layer (not shown) having a thickness of 113 [nm] and a refractive index of 1.75, and performing measurement in the same manner as described above. Therefore, the same effect as described above can be obtained.
【００５２】さらにこのとき例えば赤外線カットフィル
タ３、マルチレンズアレイ４、第１の凸レンズ５、ダイ
クロイックミラ６及びクロスプリズム１０の各光学フィ
ルタの最表層をITO （In2O3 及びSnO2の固溶体）を用い
た膜厚が 105〔nm〕、屈折率が 2.05 でなる導電性の防
汚性層（図示せず）で形成し、上述と同様に測定するよ
うにした場合においても測定結果が 370〔lx〕となるた
め、同様の効果を得ることができる。Further, at this time, for example, the outermost layers of the optical filters of the infrared cut filter 3, the multi-lens array 4, the first convex lens 5, the dichroic mirror 6, and the cross prism 10 are made of ITO (a solid solution of In 2 O 3 and SnO 2 ). When a film was formed of a conductive antifouling layer (not shown) having a film thickness of 105 [nm] and a refractive index of 2.05, and the measurement was performed in the same manner as described above, the measurement result was 370 [ lx], the same effect can be obtained.
【００５３】さらに上述の実施の形態においては、ダイ
クロイックミラ６の第１の光学フィルタ２５及び反射防
止膜２４を真空蒸着法や、スパッタリング法等のドライ
成膜法を用いて反射防止膜２４から形成するようにした
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は光
学フィルタの精度に応じて成膜する手法であれば、第１
の光学フィルタ２５及び反射防止膜２４の形成方法とし
ては、この他例えばスプレ法や、ディップ法又は流塗り
法等のウェット成膜法等の手法を用いる場合においても
適用することができると共に、第１の光学フィルタ２５
から形成する場合や、第１の光学フィルタ２５及び反射
防止膜２４を同時に形成する場合においても適用するこ
とができる。Further, in the above-described embodiment, the first optical filter 25 and the antireflection film 24 of the dichroic mirror 6 are formed from the antireflection film 24 using a vacuum deposition method or a dry film formation method such as a sputtering method. However, the present invention is not limited to this case. In short, the first method may be any method that forms a film in accordance with the accuracy of an optical filter.
The method for forming the optical filter 25 and the antireflection film 24 can be applied to the case where a method such as a spray method, a dipping method, a wet film forming method such as a flow coating method, or the like is used. 1 optical filter 25
And the case where the first optical filter 25 and the antireflection film 24 are formed at the same time.
【００５４】さらに上述の実施の形態においては、本発
明のプロジェクタ装置として投射型液晶プロジェクタ装
置１に適用するようにした場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、プロジェクタ装置としては、この他
種々のものを適用することができる。Further, in the above-described embodiment, a case has been described in which the projection type liquid crystal projector device 1 is applied as the projector device of the present invention. However, the present invention is not limited to this, and the projector device is not limited thereto. Other various things can be applied.
【００５５】さらに上述の実施の形態においては、本発
明の光学部品として紫外赤外線カットフィルタ３、マル
チレンズアレイ４、第１の凸レンズ５、ダイクロイック
ミラ６、クロスプリズム１０及び投射レンズ１１に適用
するようにした場合について述べたが、本発明はこれに
限らず、光学部品としては、この他種々のものを適用す
ることができる。Further, in the above-described embodiment, the present invention is applied to the ultraviolet / infrared cut filter 3, the multi-lens array 4, the first convex lens 5, the dichroic mirror 6, the cross prism 10, and the projection lens 11 as the optical components of the present invention. However, the present invention is not limited to this, and various other optical components can be applied.
【００５６】[0056]
【発明の効果】上述のように本発明によれば、光学部品
において、基体の一面及び又は他面上に、高屈折率材料
からなる高屈折率層及び低屈折率材料からなる低屈折率
層を順次積層するようにして形成された所望する光を選
択的に透過又は反射させる光学多層膜と、光学多層膜の
最表層となる高屈折率層又は低屈折率層を形成する高屈
折率材料又は低屈折率材料に防汚性材料を添加してなる
防汚性層とを設けるようにしたことにより、防汚性層が
空気中の塵や埃自体の表面エネルギに対して光学部品の
表面エネルギを相対的に小さくすることができるため、
空気中の塵や埃が光学部品の表面に付着するのを未然に
防止することができ、かくして防汚性を格段的に向上
し、かつその耐久性を格段的に向上し得る光学部品を実
現することができる。As described above, according to the present invention, in an optical component, a high refractive index layer made of a high refractive index material and a low refractive index layer made of a low refractive index material are formed on one surface and / or the other surface of a substrate. And a high-refractive-index material for forming a high-refractive-index layer or a low-refractive-index layer serving as the outermost layer of the optical multilayer film for selectively transmitting or reflecting desired light formed by sequentially stacking Alternatively, by providing an antifouling layer formed by adding an antifouling material to a low-refractive index material, the antifouling layer can prevent the surface energy of dust in the air or the surface energy of the dust itself from being exposed to the surface energy of dust. Because the energy can be relatively small,
Prevents dust and dirt in the air from adhering to the surface of optical components, thus realizing optical components that can significantly improve antifouling properties and durability. can do.
【００５７】また本発明によれば、光学部品の製造方法
において、基体の一面及び又は他面上に高屈折率材料か
らなる高屈折率層又は低屈折率材料からなる低屈折率層
を順次交互に積層し、形成した光学多層膜の最表層とな
る高屈折率層又は低屈折率層の高屈折率材料又は低屈折
率材料に防汚性材料を添加して防汚性層を形成するよう
にしたことにより、防汚性層が空気中の塵や埃自体の表
面エネルギに対して光学部品の表面エネルギを相対的に
小さくすることができるため、空気中の塵や埃が光学部
品の表面に付着するのを未然に防止することができ、か
くして防汚性を格段的に向上し、かつその耐久性を格段
的に向上し得る光学部品の製造方法を実現することがで
きる。According to the present invention, in the method of manufacturing an optical component, a high refractive index layer made of a high refractive index material or a low refractive index layer made of a low refractive index material is sequentially alternately formed on one surface and / or the other surface of the base. To form an antifouling layer by adding an antifouling material to a high refractive index material or a low refractive index material of a high refractive index layer or a low refractive index layer to be the outermost layer of the formed optical multilayer film. In this case, the antifouling layer can reduce the surface energy of the optical component relative to the surface energy of the dust and dust in the air. Thus, it is possible to realize a method of manufacturing an optical component capable of significantly improving the antifouling property and the durability of the optical component.
【００５８】さらに本発明によれば、プロジェクタ装置
において、基体の一面及び又は他面上に、高屈折率材料
からなる高屈折率層及び低屈折率材料からなる低屈折率
層を順次積層するようにして形成された所望する光を選
択的に透過又は反射させる光学多層膜と、光学多層膜の
最表層となる高屈折率層又は低屈折率層を形成する高屈
折率材料又は低屈折率材料に防汚性材料を添加してなる
防汚性層とを有する光学部品を設けるようにしたことに
より、防汚性層が空気中の塵や埃自体の表面エネルギに
対して光学部品の表面エネルギを相対的に小さくするこ
とができるため、空気中の塵や埃が光学部品の表面に付
着するのを未然に防止することができ、かくして防汚性
を格段的に向上し、かつその耐久性を格段的に向上し得
るプロジェクタ装置の製造方法を実現することができ
る。Further, according to the present invention, in the projector device, a high refractive index layer made of a high refractive index material and a low refractive index layer made of a low refractive index material are sequentially laminated on one surface and / or the other surface of the base. An optical multilayer film for selectively transmitting or reflecting desired light formed as described above, and a high refractive index material or a low refractive index material for forming a high refractive index layer or a low refractive index layer to be the outermost layer of the optical multilayer film By providing an optical component having an antifouling layer formed by adding an antifouling material to the optical component, the antifouling layer can be used to reduce the surface energy of the optical component with respect to the surface energy of dust or dust itself in the air. Can be relatively reduced, so that dust and dirt in the air can be prevented from adhering to the surface of the optical component, thus significantly improving the antifouling property and its durability. Projector that can dramatically improve It is possible to realize a method of manufacturing.
【図１】本実施の形態による投射型液晶プロジェクタ装
置の構成を示す部分的断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a configuration of a projection type liquid crystal projector according to an embodiment.
【図２】ダイクロイックミラの構成を示す断面図であ
る。FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a dichroic mirror.
【図３】ダイクロイックミラの製造手順を示す断面図で
ある。FIG. 3 is a sectional view showing a procedure for manufacturing a dichroic mirror.
【図４】ダイクロイックミラの製造手順を示す断面図で
ある。FIG. 4 is a sectional view showing a procedure for manufacturing a dichroic mirror.
【図５】凸レンズの構成を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a convex lens.
【図６】クロスプリズムの構成を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a cross prism.
【図７】他の実施の形態によるダイクロイックミラの構
成を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing a configuration of a dichroic mirror according to another embodiment.
１……投射型液晶プロジェクタ装置、２……光源、３…
…紫外赤外線カットフィルタ、４……マルチレンズアレ
イ、５、８Ａ〜８Ｃ……凸レンズ、６……ダイクロイッ
クミラ、７Ａ〜７Ｄ……全反射ミラ、９Ａ〜９Ｃ……液
晶パネル、１０……クロスプリズム、１１……投射レン
ズ、１２……スクリーン、２０、３０、４０……透明基
体、２０Ａ……一面、２０Ｂ……他面、２１……高屈折
率層、２２……低屈折率層、２３……防汚性層、２４…
…反射防止膜、２５……光学フィルタ。1. Projection type liquid crystal projector device 2. Light source 3.
... UV / IR cut filter, 4... Multi-lens array, 5, 8A to 8C... Convex lens, 6... Dichroic mirror, 7A to 7D... Total reflection mirror, 9A to 9C. , 11 ... Projection lens, 12 ... Screen, 20, 30, 40 ... Transparent substrate, 20A ... One surface, 20B ... Other surface, 21 ... High refractive index layer, 22 ... Low refractive index layer, 23 .... Antifouling layer, 24 ...
... Anti-reflection film, 25 ... Optical filter.
フロントページの続き (72)発明者 小野 裕之 東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー 株式会社内 (72)発明者 高塚 央 東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA13 GA23 GA24 GA28 GA33 GA60 GA61 2H079 AA02 BA01 BA02 CA22 DA03 EA13 EA28 KA15 2H088 EA12 HA13 2K009 AA02 AA15 BB02 BB14 BB24 CC03 CC26 CC42 DD03 DD12 EE03 EE05 FF02 Continuation of the front page (72) Inventor Hiroyuki Ono 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Hiroshi Takatsuka 6-35-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F term (reference) 2H048 GA04 GA13 GA23 GA24 GA28 GA33 GA60 GA61 2H079 AA02 BA01 BA02 CA22 DA03 EA13 EA28 KA15 2H088 EA12 HA13 2K009 AA02 AA15 BB02 BB14 BB24 CC03 CC26 CC42 DD03 DD12 EE03 EE05 FF02
Claims (21)
料からなる高屈折率層及び低屈折率材料からなる低屈折
率層を順次積層するようにして形成された所望する光を
選択的に透過又は反射させる光学多層膜と、 上記光学多層膜の最表層となる上記高屈折率層又は上記
低屈折率層を形成する上記高屈折率材料又は上記低屈折
率材料に防汚性材料を添加してなる防汚性層とを具える
ことを特徴とする光学部品。A desired light formed by sequentially laminating a high refractive index layer made of a high refractive index material and a low refractive index layer made of a low refractive index material on one surface and / or another surface of a substrate. An optical multilayer film to selectively transmit or reflect, and an antifouling property to the high refractive index material or the low refractive index material forming the high refractive index layer or the low refractive index layer as the outermost layer of the optical multilayer film. An optical component comprising an antifouling layer to which a material is added.
は、 厚みが30〔nm〕〜 150〔nm〕でなることを特徴とする請
求項１に記載の光学部品。2. The optical component according to claim 1, wherein said high refractive index layer, low refractive index layer and antifouling layer have a thickness of 30 [nm] to 150 [nm].
なることを特徴とする請求項１に記載の光学部品。3. The optical component according to claim 1, wherein the antifouling layer has substantially the same refractive index as the high refractive index layer or the low refractive index layer.
かでなることを特徴とする請求項１に記載の光学部品。4. The optical component according to claim 1, wherein the antifouling material is made of one of a water repellent material, a hydrophilic material, and a conductive material.
ことを特徴とする請求項４に記載の光学部品。5. The optical component according to claim 4, wherein said water-repellent material is made of a fluorine-based material.
らなることを特徴とする請求項４に記載の光学部品。6. The optical component according to claim 4, wherein said hydrophilic material is made of photocatalytic titanium oxide.
ることを特徴とする請求項４に記載の光学部品。7. The optical component according to claim 4, wherein said conductive material is made of a transparent conductive material.
からなる高屈折率層又は低屈折率材料からなる低屈折率
層を順次交互に積層し、光学多層膜を形成する第１の工
程と、 上記光学多層膜の最表層となる上記高屈折率層又は上記
低屈折率層の上記高屈折率材料又は上記低屈折率材料に
防汚性材料を添加して防汚性層を形成する第２の工程と
を具えることを特徴とする光学部品の製造方法。8. A first method in which a high refractive index layer made of a high refractive index material or a low refractive index layer made of a low refractive index material is sequentially and alternately laminated on one surface and / or the other surface of a base to form an optical multilayer film. Step, the anti-fouling layer by adding an anti-fouling material to the high refractive index material or the low refractive index material of the high refractive index layer or the low refractive index layer to be the outermost layer of the optical multilayer film And a second step of forming the optical component.
m〕〜 150〔nm〕の厚みで形成することを特徴とする請
求項８に記載の光学部品の製造方法。9. In the first step, the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the antifouling layer
9. The method for manufacturing an optical component according to claim 8, wherein the optical component is formed with a thickness of [m] to 150 [nm].
ぼ同じ屈折率で形成することを特徴とする請求項８に記
載の光学部品。10. The optical component according to claim 8, wherein in the second step, the antifouling layer is formed with substantially the same refractive index as the high refractive index layer or the low refractive index layer. .
性材料のうちのいずれかを用いることを特徴とする請求
項８に記載の光学部品の製造方法。11. The optical component according to claim 8, wherein in the second step, any one of a water repellent material, a hydrophilic material, and a conductive material is used as the antifouling material. Production method.
ることを特徴とする請求項１１に記載の光学部品の製造
方法。12. The method according to claim 11, wherein the water-repellent material is made of a fluorine-based material.
からなることを特徴とする請求項１１に記載の光学部品
の製造方法。13. The method according to claim 11, wherein said hydrophilic material is made of photocatalytic titanium oxide.
なることを特徴とする請求項１１に記載の光学部品の製
造方法。14. The method according to claim 11, wherein the conductive material is made of a transparent conductive material.
材料からなる高屈折率層及び低屈折率材料からなる低屈
折率層を順次積層するようにして形成された所望する光
を選択的に透過又は反射させる光学多層膜と、 上記光学多層膜の最表層となる上記高屈折率層又は上記
低屈折率層を形成する上記高屈折率材料又は上記低屈折
率材料に防汚性材料を添加してなる防汚性層とを有する
光学部品を具えることを特徴とするプロジェクタ装置。15. A desired light formed by sequentially laminating a high refractive index layer made of a high refractive index material and a low refractive index layer made of a low refractive index material on one surface and / or the other surface of the base. An optical multilayer film to selectively transmit or reflect, and an antifouling property to the high refractive index material or the low refractive index material forming the high refractive index layer or the low refractive index layer as the outermost layer of the optical multilayer film. A projector device comprising an optical component having an antifouling layer to which a material is added.
汚性層は、 厚みが40〔nm〕〜 150〔nm〕でなることを特徴とする請
求項１５に記載のプロジェクタ装置。16. The projector according to claim 15, wherein the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the antifouling layer have a thickness of 40 nm to 150 nm.
なることを特徴とする請求項１５に記載のプロジェクタ
装置。17. The projector according to claim 15, wherein the antifouling layer has substantially the same refractive index as the high refractive index layer or the low refractive index layer.
かでなることを特徴とする請求項１５に記載のプロジェ
クタ装置。18. The projector according to claim 15, wherein the antifouling material is made of any one of a water repellent material, a hydrophilic material, and a conductive material.
ることを特徴とする請求項１８に記載のプロジェクタ装
置。19. The projector according to claim 18, wherein the water-repellent material is made of a fluorine-based material.
からなることを特徴とする請求項１８に記載のプロジェ
クタ装置。20. The projector according to claim 18, wherein said hydrophilic material is made of photocatalytic titanium oxide.
なることを特徴とする請求項１８に記載のプロジェクタ
装置。21. The projector according to claim 18, wherein said conductive material is made of a transparent conductive material.
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|---|---|---|---|
| JP11112442A JP2000304917A (en) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Optical parts, its production and projector device |
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| JP11112442A JP2000304917A (en) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Optical parts, its production and projector device |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1999
- 1999-04-20 JP JP11112442A patent/JP2000304917A/en active Pending
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