JPH11233321A - Resistor element - Google Patents

Resistor element

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JPH11233321A
JPH11233321A JP10030169A JP3016998A JPH11233321A JP H11233321 A JPH11233321 A JP H11233321A JP 10030169 A JP10030169 A JP 10030169A JP 3016998 A JP3016998 A JP 3016998A JP H11233321 A JPH11233321 A JP H11233321A
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JP
Japan
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resistor
trimming
resistor element
insulating substrate
electrodes
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JP10030169A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihisa Kaminaga
善久 神長
Masao Irikura
正男 入倉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication of JPH11233321A publication Critical patent/JPH11233321A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately adjust the resistance characteristic of a resistor element to be incorporated in an electronic tube through trimming. SOLUTION: A resistor element is constituted in such a way that a plurality of electrodes 43a, 43b, 43c, 44, and 45, are formed on an insulating substrate 41, and at the same time, a resistor layer 46 which connects the electrodes 43a, 43b, 43c, 44, and 45 with each other is formed on the substrate 41. In the resistor layer 46, trimming sections 47 for adjusting the splitting ratio are formed. Then the resistance characteristic of the resistor element is adjusted by forming removed sections in the trimming sections 47 with a laser beam. Therefore, the resistance characteristic of the resistor element can be adjusted accurately, without producing dust trimming.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、トリミングによっ
て抵抗特性を調整可能とする抵抗体素子に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a resistor element capable of adjusting a resistance characteristic by trimming.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば、電子管として、カラーテ
レビジョン受像機に用いられるカラーブラウン管におい
て、陽極電圧以外にコンパージェンス電極やフォーカス
電極などに高電圧の供給が必要とされるものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an electron tube, for example, in a color cathode ray tube used for a color television receiver, a high voltage needs to be supplied to a convergence electrode and a focus electrode in addition to an anode voltage.

【0003】このような場合、カラーブラウン管のステ
ム部より高電圧を供給すると、耐電圧の面から不具合が
生じるので、カラーブラウン管内に電子銃とともに分圧
用の抵抗体素子を組み込み、この抵抗体素子によって陽
極電圧を分圧して、それぞれの電極に高電圧を供給する
方式が提案されている。
In such a case, if a high voltage is supplied from the stem portion of the color cathode ray tube, a problem occurs in terms of withstand voltage. Therefore, a resistive element for voltage division is incorporated in the color cathode ray tube together with an electron gun, and the resistive element is A method has been proposed in which the anode voltage is divided to supply a high voltage to each electrode.

【0004】このようなカラーブラウン管に内蔵される
抵抗体素子(電子管内蔵用抵抗器)は、例えば、図8
(a)(b)(c) に示すように構成されている。図8(a) は抵
抗体素子の絶縁被覆層上から透視した状態の平面図、図
8(b) は(a) のA1−A2断面図、図8(c) は一部の拡大断
面図である。
A resistor element (a resistor for a built-in electron tube) incorporated in such a color cathode ray tube is, for example, shown in FIG.
It is configured as shown in (a), (b) and (c). 8A is a plan view of the resistive element viewed from above the insulating coating layer, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line A1-A2 of FIG. 8A, and FIG. It is.

【0005】すなわち、抵抗体素子1は、酸化アルミニ
ウムなどのセラミックス製の絶縁基板2上に、例えば酸
化ルテニウムを含む金属酸化物および珪酸鉛系のガラス
にて構成される電極材料を印刷、乾燥、焼成した複数の
電極3が形成されるとともに、電極3間には、酸化ルテ
ニウムを含む金属酸化物とほう珪酸鉛系のガラスにて構
成される抵抗材料を所定の抵抗値が得られるような形状
で印刷、乾燥、焼成した抵抗体層4が形成されている。
抵抗体層4と同様に分割比調整用のトリミング部5が形
成されている。この抵抗体層4を覆うように絶縁被覆層
6が形成されている。各電極3には引出端子7が接続さ
れている。
That is, the resistor element 1 is formed by printing, drying, and drying an electrode material composed of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead silicate glass on a ceramic insulating substrate 2 such as aluminum oxide. A plurality of fired electrodes 3 are formed, and between the electrodes 3, a resistance material composed of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass is formed in a shape such that a predetermined resistance value can be obtained. To form a resistor layer 4 printed, dried and fired.
Similarly to the resistor layer 4, a trimming portion 5 for adjusting a division ratio is formed. An insulating coating layer 6 is formed so as to cover the resistor layer 4. A lead terminal 7 is connected to each electrode 3.

【0006】このような抵抗体素子1に要求される条件
としては、カラーブラウン管製造工程中の耐圧処理や加
熱工程で安定であること。動作中に発生するジュール熱
による抵抗値変化やガス放出が少ないこと。散乱電子が
当たったとき、二次電子放出源にならないこと。電子銃
の電界部分を乱し、放電や電子の軌道をずらしたりしな
いことなどがあげられる。
[0006] The condition required for such a resistor element 1 is that it be stable in the pressure resistance treatment and the heating step in the color CRT manufacturing process. Resistance change and outgassing due to Joule heat generated during operation are small. Do not become a secondary electron emission source when scattered electrons hit. Disturbing the electric field portion of the electron gun so as not to displace the discharge or the trajectory of the electrons.

【0007】ところで、一般に高電圧が印加される電子
管では、耐電圧特性を良好にするため、その製造工程で
の排気終了後、通常の動作電圧の2〜3倍程度のピーク
電圧をもつ高電圧を印加して、強制放電により、耐電圧
低下の原因となる電子銃の電極のバリや付着物などを除
去する耐電圧処理が行なわれている。この耐電圧処理を
抵抗体素子1の配置されたカラーブラウン管に適用する
と、電子銃が有する金属環による蒸着膜がその下部の抵
抗体素子1の絶縁被覆層6に蒸着され、その蒸着膜に帯
電した電位と、抵抗体層4との電位差で放電がおこり、
抵抗体層4が断線または損傷する。
In general, in an electron tube to which a high voltage is applied, in order to improve the withstand voltage characteristics, a high voltage having a peak voltage of about 2 to 3 times the normal operating voltage after the exhaust in the manufacturing process is completed. Is applied, and a forcible discharge is performed to remove burrs and deposits on the electrodes of the electron gun which cause a decrease in the withstand voltage by forced discharge. When this withstand voltage processing is applied to a color cathode ray tube in which the resistor element 1 is disposed, a deposition film made of a metal ring of the electron gun is deposited on the insulating coating layer 6 of the resistor element 1 thereunder, and the deposited film is charged. Discharge occurs due to the potential difference between the applied potential and the resistor layer 4,
The resistor layer 4 is disconnected or damaged.

【0008】その結果、断線の場合は、電圧分割が不可
能になり、致命的な障害が生じる。また、損傷の場合
は、抵抗体素子1の抵抗値、分割比が変化する。抵抗体
素子1の分割比については、その数値公差が厳しいた
め、生産時点においての分割比公差を確実に規格内に入
れるように調整しなければならない。
As a result, in the case of disconnection, voltage division becomes impossible, causing a fatal failure. In the case of damage, the resistance value and the division ratio of the resistor element 1 change. Since the numerical tolerance of the division ratio of the resistor element 1 is strict, it must be adjusted to ensure that the division ratio tolerance at the time of production falls within the standard.

【0009】そのために、抵抗体素子1には分割比調整
用に各抵抗体層4にトリミング部5が設けられており、
そのトリミング部5をサンドブラスト方式によって削る
ことで分割比を調整している。
For this purpose, the resistor element 1 is provided with a trimming portion 5 in each resistor layer 4 for adjusting the division ratio.
The cutting ratio is adjusted by shaving the trimming portion 5 by a sand blast method.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、分割比調整をサンドブラスト方式で行なうと、
粉塵が発生するため、この粉塵による測定ミスや装置故
障が起こり、安定した分割比調整が行なえず、きびしい
分割比公差の要求を満たすことができない。
However, when the division ratio is adjusted by the sandblast method as in the prior art,
Since dust is generated, a measurement error or equipment failure occurs due to the dust, and stable split ratio adjustment cannot be performed, and a demand for a tight split ratio tolerance cannot be satisfied.

【0011】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、従来のように粉塵が発生することなく、トリミン
グによって抵抗特性を正確に調整できる抵抗体素子を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resistor element capable of precisely adjusting a resistance characteristic by trimming without generating dust as in the related art.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の抵抗体素子は、
絶縁基板と、この絶縁基板上に形成される複数の電極
と、これら電極間に接続されて前記絶縁基板上に形成さ
れ、少なくとも一部にトリミング部を有する抵抗体層
と、前記トリミング部にレーザビーム加工によって形成
される除去部とを具備しているものである。
According to the present invention, there is provided a resistor element comprising:
An insulating substrate, a plurality of electrodes formed on the insulating substrate, a resistor layer connected to the electrodes, formed on the insulating substrate, and having a trimming portion in at least a part thereof, and a laser formed on the trimming portion. And a removing unit formed by beam processing.

【0013】このように、抵抗体層のトリミング部に、
レーザビーム加工により除去部を形成してトリミングす
ることにより、トリミング時に、従来のように粉塵が発
生することなく、抵抗特性を正確に調整可能となる。
Thus, in the trimming portion of the resistor layer,
By forming the removed portion by laser beam processing and performing trimming, it is possible to accurately adjust the resistance characteristics without generating dust as in the related art during trimming.

【0014】さらに、トリミング部は、抵抗体層に対し
て別工程で形成されているものであり、要求される抵抗
特性を容易に得られる。
Further, since the trimming portion is formed in a separate step for the resistor layer, required resistance characteristics can be easily obtained.

【0015】さらに、トリミング部の除去部は、CO2
レーザによってレーザビーム加工されているものであ
り、トリミング部の膜厚がレーザビームの波長より薄く
ても、CO2 レーザによる熱で絶縁基板の一部まで除去
し、トリミング部の抵抗体層を確実にトリミング可能と
なる。
Further, the removal part of the trimming part is made of CO 2
Even if the thickness of the trimming part is thinner than the wavelength of the laser beam, it is removed by heat from the CO 2 laser to a part of the insulating substrate, and the resistor layer of the trimming part is securely formed Can be trimmed.

【0016】さらに、トリミング部の除去部は、梯子状
および格子状の少なくともいずれか一方に形成されてい
るものであり、CO2 レーザなどによって受ける熱影響
を低減可能となる。
Further, the trimming portion removing portion is formed in at least one of a ladder shape and a lattice shape, and can reduce the thermal effect of a CO 2 laser or the like.

【0017】さらに、絶縁基板はセラミックス系の材料
で形成され、抵抗体層およびトリミング部はガラス成分
を含有する抵抗体で形成されており、電子管内蔵用であ
り、抵抗体素子の分割比調整を確実に実施可能となる。
Further, the insulating substrate is formed of a ceramic material, and the resistor layer and the trimming portion are formed of a resistor containing a glass component. It can be implemented reliably.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1ないし図6に第1の実施の形態を示
し、図1は抵抗体素子の絶縁被覆層上から透視した状態
の平面図、図2は図1のB1−B2断面図、図3はトリミン
グ部の拡大平面図、図4は電子銃の側面図、図5は電子
銃の斜視図、図6はカラーブラウン管の断面図である。
FIGS. 1 to 6 show a first embodiment. FIG. 1 is a plan view seen from above an insulating coating layer of a resistor element. FIG. 2 is a sectional view taken along line B1-B2 of FIG. 3 is an enlarged plan view of the trimming portion, FIG. 4 is a side view of the electron gun, FIG. 5 is a perspective view of the electron gun, and FIG. 6 is a sectional view of the color cathode ray tube.

【0020】図6において、カラーブラウン管は、パネ
ル11およびファンネル12にて構成される外囲器(真空容
器)を有し、そのパネル11の内面に、青、緑、赤に発光
する3色蛍光体層にて構成される蛍光体スクリーン13が
形成され、この蛍光体スクリーン13に対向して、その内
側に多数の電子ビーム通過孔の形成されたシャドウマス
ク14が配置されている。一方、ファンネル12のネック部
15a 内に、3電子ビーム16B、16G、16Rを放出する電
子銃17が配置されている。
In FIG. 6, the color cathode ray tube has an envelope (vacuum vessel) composed of a panel 11 and a funnel 12, and has a three-color fluorescent light emitting blue, green and red on the inner surface of the panel 11. A phosphor screen 13 composed of a body layer is formed, and a shadow mask 14 having a large number of electron beam passage holes is arranged inside the phosphor screen 13 so as to face the phosphor screen 13. On the other hand, the funnel 12 neck
An electron gun 17 that emits three electron beams 16B, 16G, and 16R is arranged in 15a.

【0021】そして、この電子銃17から放出される3電
子ビーム16B、16G、16Rをファンネル12の外側に装着
された偏向ヨーク18の発生する磁界により偏向して、蛍
光体スクリーン13を水平、垂直走査することにより、カ
ラー画像を表示する構造に形成されている。
The three electron beams 16B, 16G and 16R emitted from the electron gun 17 are deflected by a magnetic field generated by a deflection yoke 18 mounted on the outside of the funnel 12, so that the phosphor screen 13 is horizontally and vertically. It is formed in a structure for displaying a color image by scanning.

【0022】図4および図5において、ファンネル12の
ネック部15a 内に電子銃17の電子銃構体が配置されてお
り、この電子銃構体には3個のカソードに対し、共通に
第1グリッド電極G1、第2グリッド電極G2、第3グリッ
ド電極G3、第4グリッド電極G4、第5グリッド電極G5、
第6グリッド電極G6、第7グリッド電極G7、第8グリッ
ド電極G8が順次同軸上に配置され、第8グリッド電極G8
の後段には、コンバージェンス電極21が配置されてい
る。
4 and 5, an electron gun structure of an electron gun 17 is disposed in a neck portion 15a of the funnel 12, and the electron gun structure has a first grid electrode common to three cathodes. G1, the second grid electrode G2, the third grid electrode G3, the fourth grid electrode G4, the fifth grid electrode G5,
The sixth grid electrode G6, the seventh grid electrode G7, and the eighth grid electrode G8 are sequentially arranged coaxially, and the eighth grid electrode G8
The convergence electrode 21 is arranged at the subsequent stage.

【0023】各グリッド電極G1〜G8は、相互に所定の位
置関係を椎持して、ビードガラス22によって機械的に保
持されている。また、第3グリッド電極G3と第5グリッ
ド電極G5とは、導線23によって電気的に接続されてお
り、さらにコンバージェンス電極21は、第8グリッド電
極G8と溶接により電気的に接続されている。
The grid electrodes G1 to G8 are mechanically held by a bead glass 22 while maintaining a predetermined positional relationship with each other. Further, the third grid electrode G3 and the fifth grid electrode G5 are electrically connected by a conductive wire 23, and the convergence electrode 21 is electrically connected to the eighth grid electrode G8 by welding.

【0024】このような電子銃構体に対して、抵抗体素
子(電子管内蔵用抵抗器)24が取り付けられており、こ
の抵抗体素子24に設けられた高圧の引出端子25a ,25b
,25c が、第7グリッド電極G7、第6グリッド電極G
6、第5グリッド電極G5とそれぞれ接続されている。ま
た、コンバージェンス電極21への引出端子26がコンバー
ジェンス電極21と接続され、アース側の引出端子27がア
ース電極ピン28に接続されている。
A resistor element (a resistor for incorporating an electron tube) 24 is attached to such an electron gun assembly, and high-voltage extraction terminals 25a and 25b provided on the resistor element 24 are provided.
, 25c are the seventh grid electrode G7 and the sixth grid electrode G
6 and the fifth grid electrode G5. Further, an extraction terminal 26 to the convergence electrode 21 is connected to the convergence electrode 21, and an extraction terminal 27 on the ground side is connected to the ground electrode pin 28.

【0025】一方、ファンネル12のファンネル部15b の
内壁には、ネック部15a の内壁まで伸びるグラファイト
導電膜29が被着されており、ファンネル部15b に設けら
れた高電圧供給ボタン(陽極ボタンで図中では示してい
ない)を通じて陽極電圧が供給される。そして、コンバ
ージェンス電極21には、導電スプリング30が設けられて
おり、導電スプリング30がグラファイト導電膜29と接触
することにより、コンバージェンス電極21、第8グリッ
ド電極G8、および抵抗体素子24の引出端子26に陽極電圧
が供給され、高圧の引出端子25a ,25b ,25c に発生す
る分圧電圧が、第7グリッド電極G7、第6グリツド電極
G6、および第5グリッド電極G5に供給される。
On the other hand, on the inner wall of the funnel portion 15b of the funnel 12, a graphite conductive film 29 extending to the inner wall of the neck portion 15a is adhered. The anode voltage is supplied through a power supply (not shown). The convergence electrode 21 is provided with a conductive spring 30. When the conductive spring 30 contacts the graphite conductive film 29, the convergence electrode 21, the eighth grid electrode G8, and the lead-out terminal 26 of the resistor element 24 are formed. The anode voltage is supplied to the high-voltage output terminals 25a, 25b, and 25c, and the divided voltage is applied to the seventh grid electrode G7 and the sixth grid electrode.
G6 and the fifth grid electrode G5.

【0026】また、ネック部15a 内の電位分布を安定さ
せるため、第3グリッド電極G3の中間部より、ビードガ
ラス22および抵抗体素子24を取り囲むように金属環31が
設けられている。この金属環31を高周波加熱などにより
加熱してネック部15a 内壁に蒸着膜を形成させる。
Further, in order to stabilize the potential distribution in the neck portion 15a, a metal ring 31 is provided so as to surround the bead glass 22 and the resistor element 24 from an intermediate portion of the third grid electrode G3. The metal ring 31 is heated by high frequency heating or the like to form a deposited film on the inner wall of the neck 15a.

【0027】図1ないし図3において、抵抗体素子24
は、例えば酸化アルミニウム(アルミナ)などのセラミ
ックス製の絶縁基板41を有し、この絶縁基板41には複数
の基板貫通孔42が形成されている。
1 to 3, the resistance element 24
Has an insulating substrate 41 made of ceramics such as aluminum oxide (alumina), and a plurality of substrate through holes 42 are formed in the insulating substrate 41.

【0028】絶縁基板41上には、各基板貫通孔42の位置
に対応して、中間部に電極43a ,43b ,43c が形成され
ているとともに、両端部に電極44,45が形成されてい
る。これら電極43,43b ,43c ,44,45は、絶縁基板41
上に、例えば酸化ルテニウムを含む金属酸化物およびほ
う珪酸鉛系のガラスにて構成される電極ペースト材を印
刷、乾操、焼成して形されている。
On the insulating substrate 41, electrodes 43a, 43b, and 43c are formed at an intermediate portion corresponding to the position of each substrate through-hole 42, and electrodes 44 and 45 are formed at both ends. . These electrodes 43, 43b, 43c, 44, 45
An electrode paste material composed of, for example, a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass is printed, dried, and fired.

【0029】さらに、絶縁基板41上には、電極43a ,43
b ,43c ,44,45と接する抵抗体層46が、所定の抵抗値
が得られるように設定されたパターンにて形成されてい
る。同時に、抵抗体層46の各部または一部に所定の分割
比よりはずれた揚合においても調整するための分割比調
整用のトリミング部47が形成されており、抵抗焼成後に
おいても分割比調整ができるようになっている。これら
抵抗体層46およびトリミング部47は、例えば酸化ルテニ
ウムを含む金属酸化物およびほう珪酸鉛系のガラスにて
構成される抵抗ペースト材を印刷、乾燥、焼成し、総抵
抗値が1.0×109 Ωになるように形成されている。
Further, on the insulating substrate 41, the electrodes 43a, 43
The resistor layer 46 in contact with b, 43c, 44, and 45 is formed in a pattern set so as to obtain a predetermined resistance value. At the same time, a trimming portion 47 for adjusting the division ratio is formed on each part or part of the resistor layer 46 for adjusting even when the ratio is deviated from a predetermined division ratio, and the division ratio can be adjusted even after resistance firing. I can do it. The resistor layer 46 and the trimming portion 47 are formed by printing, drying, and firing a resistor paste material composed of, for example, a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass, so that the total resistance value is 1.0 × It is formed to be 10 9 Ω.

【0030】さらに、絶縁基板41上には、抵抗体層46を
覆い、かつ、各電極43a ,43b ,43c ,44,45の部分を
避けて、絶縁被覆層48が形成されている。
Further, an insulating coating layer 48 is formed on the insulating substrate 41 so as to cover the resistor layer 46 and avoid the electrodes 43a, 43b, 43c, 44 and 45.

【0031】さらに、絶縁被膜層48で覆われていない各
電極43a ,43b ,43c ,44,45に対応する金属端子25a
,25b ,25c ,26,27がかしめによって接続固定され
ている。
Further, the metal terminals 25a corresponding to the electrodes 43a, 43b, 43c, 44, and 45 not covered with the insulating coating layer 48.
, 25b, 25c, 26, 27 are fixedly connected by caulking.

【0032】そして、このような抵抗体素子24の分割比
調整について説明する。
The adjustment of the division ratio of the resistor element 24 will be described.

【0033】本実施の形態では、抵抗体層46の各部にト
リミング部47を形成し、そのトリミング部47の一部をレ
ーザビーム加工で除去することにより、トリミング部47
に梯子状のパターンで複数の除去部49を形成し、分割比
を調整する。
In this embodiment, a trimming portion 47 is formed in each portion of the resistor layer 46, and a part of the trimming portion 47 is removed by laser beam processing.
A plurality of removal portions 49 are formed in a ladder-like pattern, and the division ratio is adjusted.

【0034】このように、抵抗体層46のトリミング部47
に、レーザビーム加工により除去部49を形成してトリミ
ングすることにより、トリミング時に、従来のように粉
塵が発生することなく、分割比を正確に調整できる。
As described above, the trimming portion 47 of the resistor layer 46 is formed.
In addition, by forming the removed portion 49 by laser beam processing and performing trimming, it is possible to accurately adjust the division ratio without generating dust as in the related art during trimming.

【0035】また、レーザービーム加工において、一般
的に用いられるYAGレーザ(波長1.06μm)を用
いた場合、トリミング部47の抵抗体層部分の膜厚がレー
ザの波長よりも小さいため、絶縁基板41上に抵抗体がわ
ずかに残り、その部分の抵抗体を除去するには下地の絶
縁基板41を発熱させなければならないが、YAGレーザ
では絶縁基板41に熱が吸収されるため、抵抗体が残って
しまい除去ができない。一方、CO2 レーザ(波長1
0.6μm)ではYAGレーザと同様に波長以下のトリ
ミング部47の抵抗体を除去することはできないが、下地
の絶縁基板41を熱し、絶縁基板41の一部までも除去する
ことが可能で、トリミング部47を確実に除去できる。
When a commonly used YAG laser (wavelength: 1.06 μm) is used in laser beam processing, the thickness of the resistor layer portion of the trimming portion 47 is smaller than the wavelength of the laser. A small amount of the resistor remains on the surface 41, and the underlying insulating substrate 41 must be heated to remove that portion of the resistor. However, the heat is absorbed by the insulating substrate 41 in the case of the YAG laser. It remains and cannot be removed. On the other hand, a CO 2 laser (wavelength 1
In the case of 0.6 μm), similarly to the YAG laser, it is not possible to remove the resistor of the trimming portion 47 having a wavelength equal to or less than the wavelength, but it is possible to heat the base insulating substrate 41 and remove even a part of the insulating substrate 41. The trimming portion 47 can be reliably removed.

【0036】また、このCO2 レーザでのトリミング部
47の除去を行なったところ、トリミング部47の抵抗体の
導電部にCO2 レーザによる高熱が加わるため、除去部
49の形状によっては、安定した分割比調整ができない場
合があった。
Also, a trimming unit using this CO 2 laser
When removal of 47 was performed, high heat was applied by the CO 2 laser to the conductive portion of the resistor in the trimming portion 47.
Depending on the shape of 49, stable division ratio adjustment could not be performed.

【0037】そこで、トリミング部47の除去部49の形状
を梯子状とし、複数の抵抗体素子24について、その抵抗
体素子24の分割比調整、特性評価4項目(加速寿命試
験、電圧特性試験、温度特性試験、高温放置試験)を実
施した。
Therefore, the shape of the removal portion 49 of the trimming portion 47 is formed in a ladder shape, and for the plurality of resistor elements 24, the division ratio of the resistor elements 24 is adjusted and four items of characteristic evaluation (accelerated life test, voltage characteristic test, Temperature characteristic test, high-temperature storage test).

【0038】分割比調整では、比較例(除去部49の形状
が梯子状でない例)の場合に分割調整後のばらつきが
0.7%なのに対して、梯子状の場合に分割比調整後の
ばらつきが0.3%以内となり、きびしい公差規格の
中、全数規格内で良品が得られた。
In the division ratio adjustment, the variation after the division adjustment is 0.7% in the comparative example (an example in which the shape of the removing portion 49 is not a ladder), whereas the variation after the division ratio adjustment is 0.7% in the ladder shape. Was within 0.3%, and good products were obtained within tight tolerance standards and within all specifications.

【0039】特性評価では、比較例の場合にCO2 レー
ザによる発熱で分割比変化が過大で問題となっていた
が、梯子状の場合の評価結果では各評価最小の変化で抑
えられた。すなわち、加速寿命試験は、実動作時の負荷
の2倍になるように印加電圧を40kVに設定し、10
時間に印加する試験で、比較例の1.0%の変化に対
し、梯子状の場合で0.3%の変化となった。電圧特性
試験は、抵抗体素子24に印加する電圧を1kVから30
kVまで変動させ、そのときの分割比変化を確認する試
験で、比較例の1.3%の変化に対し、梯子状の場合で
0.3%となった。温度特性試験は、抵抗体素子24を常
温から300℃までの高温層中で分割比変化を確認する
試験で、比較例の1.8%の変化に対し、梯子状の場合
で0.3%となった。高温放置試験は、400℃の高温
層中に抵抗体素子24を無負荷の状態で10時間放置し、
10時間後の分割比変化を確認する試験で、比較例の
0.8%の変化に対し、梯子状の0.2%となった。
In the evaluation of characteristics, in the comparative example, the change in the division ratio was excessively large due to the heat generated by the CO 2 laser, which was a problem. That is, in the accelerated life test, the applied voltage was set to 40 kV so as to become twice the load in the actual operation,
In the test applied to time, the change was 0.3% in the case of the ladder shape, compared with the change of 1.0% in the comparative example. In the voltage characteristic test, the voltage applied to the resistor element 24 was changed from 1 kV to 30 kV.
In a test in which the change was performed to kV and the change in the split ratio at that time was confirmed, the change was 1.3% in the ladder-like case, compared with the change of 1.3% in the comparative example. The temperature characteristic test is a test for confirming a change in the division ratio of the resistor element 24 in a high-temperature layer from normal temperature to 300 ° C. It became. In the high-temperature storage test, the resistor element 24 was left in a high-temperature layer at 400 ° C. with no load for 10 hours.
In a test for confirming a change in the split ratio after 10 hours, the change was 0.8% in the comparative example, and was 0.2% in a ladder shape.

【0040】したがって、以上の結果から、トリミング
部47の除去部49の形状を梯子状とすることにより、CO
2 レーザによる抵抗体の導電部の熱影響を低減できるこ
とが実証された。
Therefore, based on the above results, by setting the shape of the removing portion 49 of the trimming portion 47 to a ladder shape, CO
2 It was demonstrated that the thermal effect of the conductive part of the resistor by the laser can be reduced.

【0041】なお、本実施の形態では、トリミング部47
の除去部49の形状を梯子状としたが、これら形状に限定
されるものではなく、分割比の要求精度によって、それ
らを任意に選定することが可能である。すなわち、図7
の第2の実施の形態に示すように、格子状に形成して
も、梯子状の場合と同様に、CO2 レーザによって受け
る熱影響を低減できる。
In this embodiment, the trimming section 47
The shapes of the removing portions 49 are ladder-shaped, but are not limited to these shapes, and they can be arbitrarily selected according to the required accuracy of the division ratio. That is, FIG.
As shown in the second embodiment, even in the case of a lattice shape, the thermal effect of the CO 2 laser can be reduced as in the case of the ladder shape.

【0042】また、本実施の形態では、抵抗体層46の印
刷をトリミング部47と同時に行なったが、要求される総
抵抗値の関係から同時印刷が不可能な場合は、シート抵
抗値の異なる抵抗ペーストを分離して印刷を行なって
も、同様に安定した分割比調整を行なえる。
In this embodiment, the resistor layer 46 is printed simultaneously with the trimming section 47. However, if simultaneous printing is impossible due to the required total resistance value, the sheet resistance value differs. Even when printing is performed by separating the resistance paste, a stable division ratio adjustment can be similarly performed.

【0043】また、抵抗体素子24は、カラーブラウン管
に限らず、分圧抵抗器を必要とするその他の電子管にも
適用できる。
The resistor element 24 is not limited to a color cathode ray tube, but can be applied to other electron tubes requiring a voltage dividing resistor.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の抵抗体素子によれば、抵抗体層
のトリミング部に、レーザビーム加工により除去部を形
成してトリミングすることにより、トリミング時に、従
来のように粉塵が発生することなく、抵抗特性を正確に
調整できる。
According to the resistor element of the present invention, by removing and trimming the trimmed portion of the resistor layer by laser beam processing, dust is generated at the time of trimming as in the prior art. And the resistance characteristics can be adjusted accurately.

【0045】さらに、トリミング部を、抵抗体層に対し
て別工程で形成することにより、要求される抵抗特性を
容易に得られる。
Further, by forming the trimming portion in a separate step for the resistor layer, required resistance characteristics can be easily obtained.

【0046】さらに、トリミング部の除去部を、CO2
レーザによってレーザビーム加工することにより、トリ
ミング部の膜厚がレーザビームの波長より薄くても、C
2レーザによる熱で絶縁基板の一部まで除去し、トリ
ミング部の抵抗体層を確実にトリミングできる。
Further, the removal part of the trimming part is made of CO 2
By laser beam processing with a laser, even if the film thickness of the trimming portion is smaller than the wavelength of the laser beam, C
A part of the insulating substrate is removed by heat generated by the O 2 laser, so that the resistor layer at the trimming portion can be surely trimmed.

【0047】さらに、トリミング部の除去部を、梯子状
および格子状の少なくともいずれか一方に形成すること
により、CO2 レーザなどによって受ける熱影響を低減
できる。
Furthermore, by forming the removed portion of the trimming portion in at least one of a ladder shape and a lattice shape, it is possible to reduce the thermal effect of the CO 2 laser or the like.

【0048】また、絶縁基板はセラミックス系の材料で
形成し、抵抗体層およびトリミング部はガラス成分を含
有する抵抗体で形成して、電子管内蔵用に適用すること
により、抵抗体素子の分割比調整を確実に実施できる。
Further, the insulating substrate is formed of a ceramic material, and the resistor layer and the trimming portion are formed of a resistor containing a glass component. Adjustment can be performed reliably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す抵抗体素子の
絶縁被覆層上から透視した状態の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a resistor element according to a first embodiment of the present invention, as seen through from an insulating coating layer.

【図2】同上図1のB1−B2断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line B1-B2 of FIG.

【図3】同上トリミング部の拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of the trimming unit according to the first embodiment;

【図4】同上電子銃の側面図である。FIG. 4 is a side view of the electron gun.

【図5】同上電子銃の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of the electron gun.

【図6】同上カラーブラウン管の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of the color CRT according to the first embodiment;

【図7】本発明の第2の実施の形態を示すトリミング部
の拡大平面図である。
FIG. 7 is an enlarged plan view of a trimming unit according to a second embodiment of the present invention.

【図8】従来の抵抗体素子を示し、(a) は抵抗体素子の
絶縁被覆層上から透視した状態の平面図、(b) は(a) の
A1−A2断面図、(c) は一部の拡大断面図である。
8A and 8B show a conventional resistor element, wherein FIG. 8A is a plan view of the resistor element as seen through from an insulating coating layer, and FIG. 8B is a plan view of FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line A1-A2, and FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

41 絶縁基板 43a ,43b ,43c ,44,45 電極 46 抵抗体層 47 トリミング部 49 除去部 41 Insulating substrate 43a, 43b, 43c, 44, 45 Electrode 46 Resistor layer 47 Trimming section 49 Removal section

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板と、 この絶縁基板上に形成される複数の電極と、 これら電極間に接続されて前記絶縁基板上に形成され、
少なくとも一部にトリミング部を有する抵抗体層と、 前記トリミング部にレーザビーム加工によって形成され
る除去部とを具備していることを特徴とする抵抗体素
子。
An insulating substrate; a plurality of electrodes formed on the insulating substrate; a plurality of electrodes formed on the insulating substrate connected between the electrodes;
A resistor element comprising: a resistor layer having a trimming portion in at least a part thereof; and a removing portion formed by laser beam processing in the trimming portion.
【請求項2】 トリミング部は、抵抗体層に対して別工
程で形成されていることを特徴とする請求項1記載の抵
抗体素子。
2. The resistor element according to claim 1, wherein the trimming portion is formed in a separate step for the resistor layer.
【請求項3】 トリミング部の除去部は、CO2 レーザ
によってレーザビーム加工されていることを特徴とする
請求項1または2記載の抵抗体素子。
3. The resistor element according to claim 1, wherein the trimming portion is removed by laser beam processing using a CO 2 laser.
【請求項4】 トリミング部の除去部は、梯子状および
格子状の少なくともいずれか一方に形成されていること
を特徴とする請求項1ないし3いずれか記載の抵抗体素
子。
4. The resistor element according to claim 1, wherein the trimmed portion is formed in at least one of a ladder shape and a lattice shape.
【請求項5】 絶縁基板はセラミックス系の材料で形成
され、抵抗体層およびトリミング部はガラス成分を含有
する抵抗体で形成されており、電子管内蔵用であること
を特徴とする請求項1ないし4いずれか記載の抵抗体素
子。
5. The electronic substrate according to claim 1, wherein the insulating substrate is formed of a ceramic material, and the resistor layer and the trimming portion are formed of a resistor containing a glass component, and are used for incorporating an electron tube. 4. The resistor element according to any one of 4.
JP10030169A 1998-02-12 1998-02-12 Resistor element Pending JPH11233321A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009152464A (en) * 2007-12-21 2009-07-09 Hitachi Ltd Thick-film resistor

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