JPH11228481A - Bicyclo(3.3.1)nonane derivative and its production - Google Patents

Bicyclo(3.3.1)nonane derivative and its production

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JPH11228481A
JPH11228481A JP10054447A JP5444798A JPH11228481A JP H11228481 A JPH11228481 A JP H11228481A JP 10054447 A JP10054447 A JP 10054447A JP 5444798 A JP5444798 A JP 5444798A JP H11228481 A JPH11228481 A JP H11228481A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simply obtain a new bicyclo[3.3.1] nonane derivative having hydroxymethyl or acyloxymethyl group at the 3 position and having oxo group at the 7 position and useful as a raw material for acrylic resin monomers, etc. SOLUTION: This bicyclo[3.3.1]nonane derivative is represented by formula I (R<1> is H or an acyl; carbon atom constituting bicyclo[3.3.1]nonane ring may have a substituent group), e.g.3-acetoxymethy1-7-oxo-bicyclo[3.3.1]nonane. The derivative is obtained by reacting an adamantane derivative of formula III (R<b> is H, hydroxyl or an acyloxy) with a compound of the formula R<a> -OH and molecular oxygen in the presence of an imide compound of formula II [R<1> and R<2> are each independently H, a halogen, an acyl, an alkyl, an aryl, a cycloalkyl, hydroxyl, an alkoxy, etc.; X is 0 or hydroxyl; (n) is 1, 2 or 3] and hydrochloric acid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なビシクロ
[3.3.1]ノナン誘導体と、その製造法に関する。
この化合物は、レジスト用アクリル系樹脂モノマー等の
原料としての利用が期待される。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel bicyclo [3.3.1] nonane derivative and a method for producing the same.
This compound is expected to be used as a raw material for acrylic resin monomers for resists.

【0002】[0002]

【従来の技術】ヒドロキシル基やヒドロキシメチル基、
又はそれらの前駆体であるオキソ基やアシルオキシメチ
ル基などの置換基を有する非芳香族性多環式炭化水素
は、レジスト用アクリル系樹脂のモノマーである(メ
タ)アクリル酸エステルの原料(アルコール成分)とし
て利用できることから、最近注目されている。しかし、
従来、3位にヒドロキシメチル基又はアシルオキシメチ
ル基を有し、且つ7位にオキソ基を有するビシクロ
[3.3.1]ノナン誘導体は知られていない。なお、
特開平8−38909号公報及び特開平9−32762
6号公報には、本発明と類似の方法、すなわち、アダマ
ンタン誘導体を、特定のイミド化合物の存在下で、分子
状酸素により酸化する方法が開示されている。しかし、
この方法では、前記ビシクロ[3.3.1]ノナン誘導
体は得られていない。
2. Description of the Related Art Hydroxyl and hydroxymethyl groups,
Alternatively, a non-aromatic polycyclic hydrocarbon having a substituent such as an oxo group or an acyloxymethyl group, which is a precursor thereof, is a raw material (alcohol component) of a (meth) acrylate ester which is a monomer of an acrylic resin for a resist. ), Which has recently attracted attention. But,
Conventionally, a bicyclo [3.3.1] nonane derivative having a hydroxymethyl group or an acyloxymethyl group at the 3-position and an oxo group at the 7-position has not been known. In addition,
JP-A-8-38909 and JP-A-9-32762
No. 6 discloses a method similar to the present invention, that is, a method of oxidizing an adamantane derivative with molecular oxygen in the presence of a specific imide compound. But,
According to this method, the bicyclo [3.3.1] nonane derivative has not been obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、3位にヒドロキシメチル基又はアシルオキシメチル
基を有し、且つ7位にオキソ基を有するビシクロ[3.
3.1]ノナン誘導体を提供することにある。また、本
発明の他の目的は、3位にヒドロキシメチル基又はアシ
ルオキシメチル基を有し、且つ7位にオキソ基を有する
ビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の製造法を提供す
ることにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a bicyclo [3. having a hydroxymethyl group or an acyloxymethyl group at the 3-position and an oxo group at the 7-position.
3.1] A nonane derivative is provided. Another object of the present invention is to provide a method for producing a bicyclo [3.3.1] nonane derivative having a hydroxymethyl group or an acyloxymethyl group at the 3-position and an oxo group at the 7-position. is there.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、アダマンタ
ン誘導体の酸化反応について研究を重ねた結果、特定の
反応条件下で、アダマンタン誘導体を分子状酸素により
酸化すると、新規なビシクロ[3.3.1]ノナン誘導
体が得られることを見いだし、本発明を完成した。
As a result of repeated studies on the oxidation reaction of adamantane derivatives, when the adamantane derivative is oxidized with molecular oxygen under specific reaction conditions, a novel bicyclo [3.3] is obtained. .1] Nonane derivatives were obtained, and the present invention was completed.

【0005】すなわち、本発明は、下記式(1)That is, the present invention provides the following formula (1)

【化5】 (式中、Raは水素原子又はアシル基を示し、ビシクロ
[3.3.1]ノナン環を構成する炭素原子は置換基を
有していてもよい)で表されるビシクロ[3.3.1]
ノナン誘導体を提供する。
Embedded image (Wherein Ra represents a hydrogen atom or an acyl group, and the carbon atom constituting the bicyclo [3.3.1] nonane ring may have a substituent). .1]
A nonane derivative is provided.

【0006】本発明は、また、(A)下記式(2)The present invention also provides (A) the following formula (2)

【化6】 (式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R1
びR2は互いに結合して二重結合、または芳香族性又は
非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又はヒ
ドロキシル基を示し、nは1〜3の整数を示す)で表さ
れるイミド化合物、及び(B)強酸の存在下、下記式
(3)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom,
A halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group; R 1 and R 2 are bonded to each other to form a double bond, or A non-aromatic ring may be formed. X represents an oxygen atom or a hydroxyl group, and n represents an integer of 1 to 3), and (B) a strong acid, in the presence of the following formula (3):

【化7】 (式中、Rbは、水素原子、ヒドロキシル基、又はアシ
ルオキシ基を示す。アダマンタン骨格を構成する炭素原
子は、Rbが結合している橋頭炭素原子に隣接する1つ
の炭素原子を除き、置換基を有していてもよい)で表さ
れるアダマンタン誘導体と、下記式(4) Ra−OH (式中、Raは水素原子又はアシル基を示す)で表され
る化合物と、分子状酸素とを反応させて、前記式(1)
で表されるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体を生成
させるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の製造法を
提供する。
Embedded image (In the formula, R b represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an acyloxy group. The carbon atoms constituting the adamantane skeleton are substituted except for one carbon atom adjacent to the bridgehead carbon atom to which R b is bonded. An adamantane derivative represented by the following formula (4): a compound represented by the following formula (4): R a —OH (where R a represents a hydrogen atom or an acyl group); By reacting with oxygen, the above formula (1)
The production method of the bicyclo [3.3.1] nonane derivative which produces | generates the bicyclo [3.3.1] nonane derivative represented by these is provided.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】[ビシクロ[3.3.1]ノナン
誘導体]式(1)で表されるビシクロ[3.3.1]ノ
ナン誘導体において、Raで示されるアシル基には、ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、イソバレリル、ヘキサノイル、パルミ
トイル、アクリロイル、オキサリル、マロニル基などの
飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸アシル基;シクロヘプ
タンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル基などの脂
環式カルボン酸アシル基;ベンゾイル、トルイル、フタ
ロイル、ナフトイル基などの芳香族カルボン酸アシル
基;ニコチノイル、フロイル基などの複素環カルボン酸
アシル基;メタンスルホニル、エタンスルホニル、ベン
ゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル基などのスル
ホン酸アシル基等が含まれる。これらのアシル基は、ハ
ロゲン原子(フッ素、塩素原子など)、アルキル基(メ
チル基などのC1-4アルキル基など)、アルコキシ基
(メトキシ基などのC1-4アルコキシ基など)、アリー
ル基(フェニル、ナフチル基など)、ニトロ基、シアノ
基、ハロアルキル基(トリフルオロメチル基など)など
の置換基を有していてもよい。好ましいアシル基とし
て、脂肪族カルボン酸アシル基、芳香族カルボン酸アシ
ル基などが挙げられる。特に、アセチル基などのC1-5
脂肪族カルボン酸アシル基などが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Bicyclo [3.3.1] nonane derivative] In the bicyclo [3.3.1] nonane derivative represented by the formula (1), the acyl group represented by Ra is formyl. Or saturated or unsaturated aliphatic carboxylic acid acyl groups such as acetyl, propionyl, butyryl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, hexanoyl, palmitoyl, acryloyl, oxalyl, malonyl groups; cycloaliphatic carboxylic acids such as cycloheptanecarbonyl and cyclohexanecarbonyl groups Acyl groups; aromatic carboxylic acyl groups such as benzoyl, toluyl, phthaloyl, and naphthoyl groups; heterocyclic carboxylic acid acyl groups such as nicotinoyl and furoyl groups; sulfones such as methanesulfonyl, ethanesulfonyl, benzenesulfonyl, and p-toluenesulfonyl groups. Acid acyl group Murrell. These acyl groups include a halogen atom (such as a fluorine or chlorine atom), an alkyl group (such as a C 1-4 alkyl group such as a methyl group), an alkoxy group (such as a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group), and an aryl group. It may have a substituent such as a phenyl or naphthyl group, a nitro group, a cyano group, or a haloalkyl group (such as a trifluoromethyl group). Preferred acyl groups include an aliphatic carboxylic acid acyl group and an aromatic carboxylic acid acyl group. Particularly, C 1-5 such as acetyl group
An aliphatic carboxylic acid acyl group is preferred.

【0008】式(1)で表されるビシクロ[3.3.
1]ノナン誘導体において、ビシクロ[3.3.1]ノ
ナン環を構成する炭素原子が有していてもよい置換基と
しては、例えば、ハロゲン原子(塩素、臭素原子な
ど)、アルキル基(メチル基などのC1-4アルキル基な
ど)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(メトキシ基など
のC1-4アルコキシ基など)、アシルオキシ基(例え
ば、前記Raにおけるアシル基として例示したアシル基
に対応するアシルオキシ基など)、ヒドロキシメチル
基、置換又は無置換アミノ基(アミノ、モノ又はジ−C
1-4アルキルアミノ、C1-5脂肪族アシルアミノ、芳香族
アシルアミノ基など)、カルボキシル基、置換オキシカ
ルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
基などのC1-4アルコキシカルボニル基など)、置換又
は無置換カルバモイル基(カルバモイル、モノ又はジ−
1-4アルキルカルバモイル基など)、ニトロ基、アシ
ル基(例えば、前記Raにおけるアシル基として例示し
たアシル基など)、オキソ基などが挙げられる。上記ヒ
ドロキシル基、ヒドロキシメチル基、アミノ基、カルボ
キシル基は慣用の保護基で保護されていてもよい。
The bicyclo [3.3.
1] In the nonane derivative, examples of the substituent that may be possessed by the carbon atom constituting the bicyclo [3.3.1] nonane ring include a halogen atom (eg, chlorine or bromine atom) and an alkyl group (eg, methyl group). C 1-4 alkyl group), such as a hydroxyl group, such as C 1-4 alkoxy group such as alkoxy group (methoxy group), an acyloxy group (e.g., acyloxy corresponding to the exemplified acyl group as the acyl group in R a Group), a hydroxymethyl group, a substituted or unsubstituted amino group (amino, mono- or di-C
1-4 alkylamino, C1-5 aliphatic acylamino, aromatic acylamino group, etc.), carboxyl group, substituted oxycarbonyl group ( C1-4 alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl group, etc.), substituted or unsubstituted Substituted carbamoyl groups (carbamoyl, mono- or di-
C 1-4 alkylcarbamoyl group), nitro group, acyl group (eg, the acyl group exemplified as the acyl group for R a ), and oxo group. The hydroxyl group, hydroxymethyl group, amino group, and carboxyl group may be protected with a conventional protecting group.

【0009】式(1)で表される化合物の代表的な例と
して、3−アセトキシメチル−7−オキソ−ビシクロ
[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−7−オ
キソ−1−メチル−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3
−アセトキシメチル−7−オキソ−5−メチル−ビシク
ロ[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−7−
オキソ−1,5−ジメチル−ビシクロ[3.3.1]ノ
ナン、3−アセトキシメチル−1−ヒドロキシ−7−オ
キソ−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−アセトキシ
メチル−5−ヒドロキシ−7−オキソ−ビシクロ[3.
3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−7−オキソ−
1−メトキシ−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−ア
セトキシメチル−7−オキソ−5−メトキシ−ビシクロ
[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−1−ヒ
ドロキシメチル−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]
ノナン、3−アセトキシメチル−5−ヒドロキシメチル
−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−ア
セトキシメチル−1−アミノ−7−オキソ−ビシクロ
[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−5−ア
ミノ−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3
−アセトキシメチル−7−オキソ−1−(N,N−ジメ
チルアミノ)−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−ア
セトキシメチル−7−オキソ−5−(N,N−ジメチル
アミノ)−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−アセト
キシメチル−1−カルボキシ−7−オキソ−ビシクロ
[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル−5−カ
ルボキシ−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナ
ン、3−アセトキシメチル−7−オキソ−1−メトキシ
カルボニル−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−アセ
トキシメチル−7−オキソ−5−メトキシカルボニル−
ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチル
−7−オキソ−1−ニトロ−ビシクロ[3.3.1]ノ
ナン、3−アセトキシメチル−7−オキソ−5−ニトロ
−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−アセトキシメチ
ル−1−アセチル−7−オキソ−ビシクロ[3.3.
1]ノナン、3−アセトキシメチル−5−アセチル−7
−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−ヒドロ
キシメチル−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナ
ン、3−ヒドロキシメチル−7−オキソ−1−メチル−
ビシクロ[3.3.1]ノナン、3−ヒドロキシメチル
−7−オキソ−5−メチル−ビシクロ[3.3.1]ノ
ナンなどが挙げられる。上記式(1)で表される化合物
は、レジスト用アクリル系樹脂等の機能性高分子のモノ
マー原料などとしての利用が期待される。
As typical examples of the compound represented by the formula (1), 3-acetoxymethyl-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-1-methyl -Bicyclo [3.3.1] nonane, 3
-Acetoxymethyl-7-oxo-5-methyl-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-
Oxo-1,5-dimethyl-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-1-hydroxy-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-5-hydroxy- 7-oxo-bicyclo [3.
3.1] Nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-
1-methoxy-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-5-methoxy-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-1-hydroxymethyl-7-oxo -Bicyclo [3.3.1]
Nonane, 3-acetoxymethyl-5-hydroxymethyl-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-1-amino-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, -Acetoxymethyl-5-amino-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3
-Acetoxymethyl-7-oxo-1- (N, N-dimethylamino) -bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-5- (N, N-dimethylamino) -bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-1-carboxy-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-5-carboxy-7-oxo-bicyclo [3.3 .1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-1-methoxycarbonyl-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-5-methoxycarbonyl-
Bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-1-nitro-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-acetoxymethyl-7-oxo-5-nitro-bicyclo [3. 3.1] Nonane, 3-acetoxymethyl-1-acetyl-7-oxo-bicyclo [3.3.
1] Nonane, 3-acetoxymethyl-5-acetyl-7
-Oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-hydroxymethyl-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane, 3-hydroxymethyl-7-oxo-1-methyl-
Bicyclo [3.3.1] nonane, 3-hydroxymethyl-7-oxo-5-methyl-bicyclo [3.3.1] nonane and the like can be mentioned. The compound represented by the formula (1) is expected to be used as a monomer material of a functional polymer such as an acrylic resin for a resist.

【0010】[ビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の
製造]本発明の製造法で用いる前記式(2)で表される
イミド化合物(A)において、置換基R1及びR2のうち
ハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素が
含まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブ
チル、t−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数1
〜10程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれ
る。好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数1〜
6程度、特に炭素数1〜4程度の低級アルキル基が挙げ
られる。
[Production of Bicyclo [3.3.1] nonane Derivative] In the imide compound (A) represented by the above formula (2) used in the production method of the present invention, halogen among the substituents R 1 and R 2 is used. Atoms include iodine, bromine, chlorine and fluorine. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl,
1 carbon atom such as propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, hexyl, decyl group, etc.
It contains about 10 to about 10 linear or branched alkyl groups. Preferred alkyl groups include, for example, those having 1 to 1 carbon atoms.
A lower alkyl group having about 6, particularly about 1 to 4 carbon atoms is exemplified.

【0011】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、t−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数1〜
10程度、好ましくは炭素数1〜6程度、特に炭素数1
〜4程度の低級アルコキシ基が含まれる。
The aryl group includes phenyl and naphthyl groups, and the cycloalkyl group includes cyclopentyl and
And a cyclohexyl group. The alkoxy group includes
For example, methoxy, ethoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, hexyloxy groups and other C1-C1
About 10 carbon atoms, preferably about 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 carbon atom
About 4 lower alkoxy groups are included.

【0012】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、t−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が1〜10程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいアルコキシカルボニル基にはアル
コキシ部分の炭素数が1〜6程度、特に1〜4程度の低
級アルコキシカルボニル基が含まれる。アシル基として
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロ
イル基などの炭素数1〜6程度のアシル基が例示でき
る。
The alkoxycarbonyl group includes, for example, an alkoxycarbonyl group having about 1 to 10 carbon atoms in the alkoxy moiety such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, hexyloxycarbonyl and the like. included. Preferred alkoxycarbonyl groups include lower alkoxycarbonyl groups having about 1 to 6, particularly about 1 to 4, carbon atoms in the alkoxy moiety. Examples of the acyl group include acyl groups having about 1 to 6 carbon atoms, such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, and pivaloyl groups.

【0013】前記置換基R1及びR2は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式(2)において、R1及び
2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は5〜12員環、特に6〜10員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環(シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど)、非芳香族性橋かけ環(5−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など)、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環(縮合環を含む)が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していていもよい。
The substituents R 1 and R 2 may be the same or different. In the formula (2), R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a double bond or a ring having an aromatic or non-aromatic attribute. The preferred aromatic or non-aromatic ring is a 5- to 12-membered ring, particularly a 6- to 10-membered ring, and may be a heterocyclic ring or a fused heterocyclic ring, but is often a hydrocarbon ring. Such rings include, for example,
Non-aromatic alicyclic ring (cycloalkane ring optionally having a substituent such as cyclohexane ring, cycloalkene ring optionally having a substituent such as cyclohexene ring), non-aromatic bridge A bridged ring (eg, a bridged hydrocarbon ring which may have a substituent such as a 5-norbornene ring),
An aromatic ring (including a condensed ring) which may have a substituent such as a benzene ring and a naphthalene ring is included. The ring is
Often composed of aromatic rings. The ring is an alkyl group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group,
Carboxyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group,
It may have a substituent such as a nitro group, a cyano group, an amino group, and a halogen atom.

【0014】好ましいイミド化合物(A)には、下記式
で表される化合物が含まれる。
Preferred imide compounds (A) include compounds represented by the following formula.

【化8】 (式中、R3〜R6は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。R3〜R6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。
1、R2およびnは前記に同じ) 置換基R3〜R6において、アルキル基には、前記例示の
アルキル基と同様のアルキル基、特に炭素数1〜6程度
のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基には、トリフル
オロメチル基などの炭素数1〜4程度のハロアルキル
基、アルコキシ基には、前記と同様のアルコキシ基、特
に炭素数1〜4程度の低級アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基には、前記と同様のアルコキシカルボニル
基、特にアルコキシ部分の炭素数が1〜4程度の低級ア
ルコキシカルボニル基が含まれる。また、アシル基とし
ては、前記と同様のアシル基、特に炭素数1〜6程度の
アシル基が例示され、ハロゲン原子としては、フッ素、
塩素、臭素原子が例示できる。置換基R3〜R6は、通
常、水素原子、炭素数1〜4程度の低級アルキル基、カ
ルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子である場合が多
い。R3〜R6が互いに結合して形成する環としては、前
記R1及びR2が互いに結合して形成する環と同様であ
り、特に芳香族性又は非芳香族性の5〜12員環が好ま
しい。
Embedded image (Wherein, R 3 to R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a nitro group, a cyano group, an amino group, R 3 to R 6 may be a group in which adjacent groups are bonded to each other to form an aromatic or non-aromatic ring.
R 1 , R 2 and n are the same as described above) In the substituents R 3 to R 6 , the alkyl group includes the same alkyl group as the above-described alkyl group, particularly an alkyl group having about 1 to 6 carbon atoms. A haloalkyl group having about 1 to 4 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; an alkoxy group having the same alkoxy group as described above, particularly a lower alkoxy group having about 1 to 4 carbon atoms and an alkoxycarbonyl group; Includes the same alkoxycarbonyl group as described above, particularly a lower alkoxycarbonyl group having about 1 to 4 carbon atoms in the alkoxy moiety. Examples of the acyl group include the same acyl groups as described above, particularly an acyl group having about 1 to 6 carbon atoms. Examples of the halogen atom include fluorine,
Chlorine and bromine atoms can be exemplified. The substituents R 3 to R 6 are usually a hydrogen atom, a lower alkyl group having about 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group, a nitro group, or a halogen atom in many cases. The ring formed by combining R 3 to R 6 with each other is the same as the ring formed by combining R 1 and R 2 with each other, and in particular, an aromatic or non-aromatic 5- to 12-membered ring Is preferred.

【0015】前記式(2)において、Xは酸素原子又は
ヒドロキシル基を示し、窒素原子NとXとの結合は単結
合又は二重結合である。nは、通常、1〜3程度、好ま
しくは1又は2である。式(2)で表されるイミド化合
物(A)は、単独で又は2種以上組み合わせて使用でき
る。
In the formula (2), X represents an oxygen atom or a hydroxyl group, and the bond between the nitrogen atom N and X is a single bond or a double bond. n is usually about 1 to 3, preferably 1 or 2. The imide compound (A) represented by the formula (2) can be used alone or in combination of two or more.

【0016】前記式(2)で表されるイミド化合物
(A)に対応する酸無水物には、例えば、無水コハク
酸、無水マレイン酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカル
ボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸(1,2−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物)、1,2,3,4−シクロヘキサンテトラカル
ボン酸1,2−無水物などの飽和又は不飽和非芳香族性
環状多価カルボン酸無水物(脂環式多価カルボン酸無水
物)、無水ヘット酸、無水ハイミック酸などの橋かけ環
式多価カルボン酸無水物(脂環式多価カルボン酸無水
物)、無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフタル酸、無水トリ
メット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水
物、無水ピロメリット酸、無水メリト酸、1,8;4,
5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族
多価カルボン酸無水物が含まれる。
The acid anhydride corresponding to the imide compound (A) represented by the formula (2) includes, for example, a saturated or unsaturated aliphatic dicarboxylic anhydride such as succinic anhydride and maleic anhydride, and tetrahydroanhydride. Saturated or unsaturated non-aromatic cyclic polyvalent such as phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride (1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride), 1,2,3,4-cyclohexanetetracarboxylic acid 1,2-anhydride Crosslinked cyclic polycarboxylic anhydrides (alicyclic polycarboxylic anhydrides) such as carboxylic anhydrides (alicyclic polycarboxylic anhydrides), heptonic anhydride, hymic anhydride, and phthalic anhydride , Tetrabromophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, nitrophthalic anhydride, trimetic anhydride, methylcyclohexenetricarboxylic anhydride, pyromellitic anhydride, none Mellitic acid, 1,8; 4,
Aromatic polycarboxylic anhydrides such as 5-naphthalenetetracarboxylic dianhydride are included.

【0017】好ましいイミド化合物としては、例えば、
N−ヒドロキシコハク酸イミド、N−ヒドロキシマレイ
ン酸イミド、N−ヒドロキシヘキサヒドロフタル酸イミ
ド、N,N′−ジヒドロキシシクロヘキサンテトラカル
ボン酸イミド、N−ヒドロキシフタル酸イミド、N−ヒ
ドロキシテトラブロモフタル酸イミド、N−ヒドロキシ
テトラクロロフタル酸イミド、N−ヒドロキシヘット酸
イミド、N−ヒドロキシハイミック酸イミド、N−ヒド
ロキシトリメリット酸イミド、N,N′−ジヒドロキシ
ピロメリット酸イミド、N,N′−ジヒドロキシナフタ
レンテトラカルボン酸イミドなどが挙げられる。特に好
ましい化合物は、脂環式多価カルボン酸無水物又は芳香
族多価カルボン酸無水物、なかでも芳香族多価カルボン
酸無水物から誘導されるN−ヒドロキシイミド化合物、
例えば、N−ヒドロキシフタル酸イミドなどが含まれ
る。
Preferred imide compounds include, for example,
N-hydroxysuccinimide, N-hydroxymaleimide, N-hydroxyhexahydrophthalimide, N, N'-dihydroxycyclohexanetetracarboxylic imide, N-hydroxyphthalimide, N-hydroxytetrabromophthalimide N-hydroxytetrachlorophthalic imide, N-hydroxyhetic imide, N-hydroxyhymic imide, N-hydroxytrimellitic imide, N, N'-dihydroxypyromellitic imide, N, N'-dihydroxy And naphthalenetetracarboxylic imide. Particularly preferred compounds are alicyclic polycarboxylic anhydrides or aromatic polycarboxylic anhydrides, especially N-hydroxyimide compounds derived from aromatic polycarboxylic anhydrides,
For example, N-hydroxyphthalimide is included.

【0018】前記イミド化合物(A)は、慣用のイミド
化反応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミ
ンNH2OHとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環
を経てイミド化する方法により調製できる。
The imide compound (A) is prepared by a conventional imidization reaction, for example, a reaction between a corresponding acid anhydride and hydroxylamine NH 2 OH, followed by ring opening and ring closing of the acid anhydride group. Can be prepared.

【0019】本発明の方法で用いる強酸(B)には、無
機酸及び有機酸が含まれる。無機酸としては、例えば、
硫酸、硝酸、ハロゲン化水素(フッ化水素、塩化水素、
臭化水素、ヨウ化水素、及び対応するハロゲン化水素
酸)、リン酸、ヘテロポリ酸(例えば、リンモリブデン
酸、リンタングステン酸、リンバナドモリブデン酸、ケ
イモリブデン酸、ケイタングステン酸など)などが挙げ
られる。有機酸としては、アルキルスルホン酸(例え
ば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸など)、ハロ
アルキルスルホン酸(例えば、トリフルオロメタンスル
ホン酸など)、アリールスルホン酸(例えば、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸など)などのスルホン酸類;アルキルホスホン
酸、アリールホスホン酸などのホスホン酸類などが挙げ
られる。強酸(B)として、スルホン酸型陽イオン交換
樹脂、ホスホン酸型陽イオン交換樹脂(交換体)などの
強酸性陽イオン交換樹脂(交換体)を用いることもでき
る。
The strong acid (B) used in the method of the present invention includes an inorganic acid and an organic acid. As the inorganic acid, for example,
Sulfuric acid, nitric acid, hydrogen halide (hydrogen fluoride, hydrogen chloride,
Hydrogen bromide, hydrogen iodide, and the corresponding hydrohalic acids), phosphoric acid, heteropolyacids (eg, phosphomolybdic acid, phosphotungstic acid, phosphovanadomolybdic acid, silicomolybdic acid, silicotungstic acid, and the like) and the like. Can be Examples of the organic acid include alkylsulfonic acids (e.g., methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, etc.), haloalkylsulfonic acids (e.g., trifluoromethanesulfonic acid, etc.), arylsulfonic acids (e.g., benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, Sulfonic acids such as naphthalenesulfonic acid); phosphonic acids such as alkylphosphonic acid and arylphosphonic acid. As the strong acid (B), a strongly acidic cation exchange resin (exchanger) such as a sulfonic acid type cation exchange resin and a phosphonic acid type cation exchange resin (exchanger) can also be used.

【0020】前記強酸(B)の25℃における水溶液中
のpKaは、好ましくは3以下(例えば、−14〜3程
度)、さらに好ましくは0以下(例えば、−14〜0程
度)、特に好ましくは−2以下(例えば、−14〜−2
程度)である。好ましい強酸(B)には、メタンスルホ
ン酸などのアルキルスルホン酸等のスルホン酸類が含ま
れる。強酸(B)は、単独で用いてもよく、2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
The pKa in the aqueous solution of the strong acid (B) at 25 ° C. is preferably 3 or less (for example, about -14 to 3), more preferably 0 or less (for example, about -14 to 0), and particularly preferably. -2 or less (for example, -14 to -2
Degree). Preferred strong acids (B) include sulfonic acids such as alkylsulfonic acids such as methanesulfonic acid. The strong acid (B) may be used alone or in combination of two or more.

【0021】前記式(3)で表されるアダマンタン誘導
体において、Rbで示されるアシルオキシ基(及び、好
ましいアシルオキシ基)としては、前記Raにおけるア
シル基として例示したアシル基(及び、好ましいアシル
基)に対応するアシルオキシ基、すなわち、脂肪族カル
ボン酸アシルオキシ基、脂環式カルボン酸アシルオキシ
基、芳香族カルボン酸アシルオキシ基、複素環カルボン
酸アシルオキシ基、スルホン酸アシルオキシ基などが挙
げられる。また、アダマンタン骨格を構成する炭素原子
が有していてもよい置換基としては、前記式(1)で表
されるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体において、
ビシクロ[3.3.1]ノナン環を構成する炭素原子が
有していてもよい置換基として例示したものと同様の置
換基が挙げられる。
[0021] In adamantane derivative represented by the formula (3), an acyloxy group (and preferably acyloxy group) represented by R b as, the exemplified acyl group as the acyl group in R a (and, preferably acyl groups ), That is, an acyloxy group of aliphatic carboxylic acid, an acyloxy group of alicyclic carboxylic acid, an acyloxy group of aromatic carboxylic acid, an acyloxy group of heterocyclic carboxylic acid and an acyloxy group of sulfonic acid. In addition, as the substituent which may be possessed by the carbon atom constituting the adamantane skeleton, in the bicyclo [3.3.1] nonane derivative represented by the above formula (1),
The same substituents as those exemplified as the substituent which the carbon atom constituting the bicyclo [3.3.1] nonane ring may have may be mentioned.

【0022】式(3)で表されるアダマンタン誘導体の
具体例として、例えば、アダマンタン、1−メチルアダ
マンタン、1,3−ジメチルアダマンタン、1−アダマ
ンタノール、1,3−アダマンタンジオール、1−メト
キシアダマンタン、1−アセトキシアダマンタン、1−
ヒドロキシメチルアダマンタン、1−アミノアダマンタ
ン、1−(N,N−ジメチルアミノ)アダマンタン、1
−カルボキシアダマンタン、1−メトキシカルボニルア
ダマンタン、1−ニトロアダマンタン、1−アセチルア
ダマンタンなどが例示できる。
Specific examples of the adamantane derivative represented by the formula (3) include, for example, adamantane, 1-methyladamantane, 1,3-dimethyladamantane, 1-adamantanol, 1,3-adamantanediol, 1-methoxyadamantane , 1-acetoxyadamantane, 1-
Hydroxymethyl adamantane, 1-amino adamantane, 1- (N, N-dimethylamino) adamantane, 1
-Carboxyadamantane, 1-methoxycarbonyladamantane, 1-nitroadamantane, 1-acetyladamantane, and the like.

【0023】前記式(4)で表される化合物において、
aで示されるアシル基としては、前記Raにおけるアシ
ル基として例示したものと同様のアシル基が挙げられ
る。式(4)で表される化合物の代表的な例として、例
えば、水;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、マ
ロン酸、安息香酸などの有機酸が挙げられる。水と有機
酸とを系内で共存させてもよい。
In the compound represented by the formula (4),
Examples of the acyl group represented by R a, include the same acyl groups as those exemplified as the acyl group in the R a. Representative examples of the compound represented by the formula (4) include, for example, water; and organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, malonic acid, and benzoic acid. Water and an organic acid may coexist in the system.

【0024】分子状酸素は、特に制限されず、純粋な酸
素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化
炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や空気を使用して
もよい。
The molecular oxygen is not particularly limited, and pure oxygen may be used, or oxygen or air diluted with an inert gas such as nitrogen, helium, argon or carbon dioxide may be used.

【0025】本発明の方法において、式(2)で表され
るイミド化合物(A)の使用量は、式(3)で表される
アダマンタン誘導体1モルに対して、例えば、0.00
001〜1モル、好ましくは0.001〜0.7モル、
さらに好ましくは0.01〜0.5モル程度である。強
酸(B)の使用量は、少量であればよく、式(3)で表
されるアダマンタン誘導体1モルに対して、例えば、
0.00001〜2モル、好ましくは0.001〜1モ
ル、さらに好ましくは0.01〜0.7モル程度であ
る。
In the method of the present invention, the amount of the imide compound (A) represented by the formula (2) is, for example, 0.001 mol per mol of the adamantane derivative represented by the formula (3).
001 to 1 mol, preferably 0.001 to 0.7 mol,
More preferably, it is about 0.01 to 0.5 mol. The amount of the strong acid (B) used may be a small amount, and for example, per 1 mol of the adamantane derivative represented by the formula (3),
It is about 0.00001 to 2 mol, preferably about 0.001 to 1 mol, and more preferably about 0.01 to 0.7 mol.

【0026】式(4)で表される化合物の使用量は、式
(3)で表されるアダマンタン誘導体1モルに対して、
例えば、0.8〜500モル、好ましくは1〜200モ
ル、さらに好ましくは1〜100モル程度である。式
(4)で表される化合物を反応溶媒として用いることも
できる。
The amount of the compound represented by the formula (4) is based on 1 mol of the adamantane derivative represented by the formula (3).
For example, it is about 0.8 to 500 mol, preferably about 1 to 200 mol, and more preferably about 1 to 100 mol. The compound represented by the formula (4) can be used as a reaction solvent.

【0027】酸素の使用量は、通常、式(3)で表され
るアダマンタン誘導体1モルに対して、0.5モル以上
(例えば、1モル以上)、好ましくは1〜100モル、
さらに好ましくは2〜50モル程度である。基質に対し
て過剰モルの分子状酸素を使用する場合が多い。
The amount of oxygen used is usually 0.5 mol or more (for example, 1 mol or more), preferably 1 to 100 mol, per 1 mol of the adamantane derivative represented by the formula (3).
More preferably, it is about 2 to 50 mol. Often, an excess of molecular oxygen is used relative to the substrate.

【0028】本発明の方法においては、助触媒として金
属化合物を用いてもよい。金属化合物を構成する金属元
素としては、特に限定されず、周期表1〜15族の金属
元素の何れであってもよい。なお、本明細書では、ホウ
素Bも金属元素に含まれるものとする。例えば、前記金
属元素として、周期表1族元素(Li、Na、Kな
ど)、2族元素(Mg、Ca、Sr、Baなど)、3族
元素(Sc、ランタノイド元素、アクチノイド元素な
ど)、4族元素(Ti、Zr、Hfなど)、5族元素
(Vなど)、6族元素(Cr、Mo、Wなど)、7族元
素(Mnなど)、8族元素(Fe、Ruなど)、9族元
素(Co、Rhなど)、10族元素(Ni、Pd、Pt
など)、11族元素(Cuなど)、12族元素(Znな
ど)、13族元素(B、Al、Inなど)、14族元素
(Sn、Pbなど)、15族元素(Sb、Biなど)な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
(周期表3〜12族元素)が含まれる。なかでも、周期
表5〜11族元素が好ましい。金属元素の原子価は特に
制限されず、1〜6価程度であってもよいが、2価又は
3価程度である場合が多い。
In the method of the present invention, a metal compound may be used as a promoter. The metal element constituting the metal compound is not particularly limited, and may be any of the metal elements of Groups 1 to 15 of the periodic table. Note that, in this specification, boron B is also included in the metal element. For example, as the metal elements, Group 1 elements (such as Li, Na, and K), Group 2 elements (such as Mg, Ca, Sr, and Ba), Group 3 elements (such as Sc, lanthanoid elements, and actinoid elements), Group 5 elements (Ti, Zr, Hf, etc.), Group 5 elements (V, etc.), Group 6 elements (Cr, Mo, W, etc.), Group 7 elements (Mn, etc.), Group 8 elements (Fe, Ru, etc.), 9 Group elements (Co, Rh, etc.), Group 10 elements (Ni, Pd, Pt)
), Group 11 elements (such as Zn), Group 13 elements (such as B, Al, In), Group 14 elements (such as Sn and Pb), and Group 15 elements (such as Sb and Bi). And the like. Preferred metal elements include transition metal elements (groups 3 to 12 of the periodic table). Above all, elements of Groups 5 to 11 of the periodic table are preferable. The valence of the metal element is not particularly limited, and may be about 1 to 6, but often about 2 or 3.

【0029】金属化合物としては、前記金属元素の単
体、水酸化物、酸化物(複合酸化物を含む)、ハロゲン
化物(フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物)、オキソ
酸塩(例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など)、オキソ酸、イソポリ酸などの無機化合
物;有機酸塩(例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、青酸
塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など)、錯体などの
有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成する配位子と
しては、OH(ヒドロキソ)、アルコキシ(メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)、アシル(アセ
チル、プロピオニルなど)、アルコキシカルボニル(メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニルなど)、アセチ
ルアセトナト、シクロペンタジエニル基、ハロゲン原子
(塩素、臭素など)、CO、CN、酸素原子、H2
(アコ)、ホスフィン(トリフェニルホスフィンなどの
トリアリールホスフィンなど)のリン化合物、NH
3(アンミン)、NO、NO2(ニトロ)、NO3(ニト
ラト)、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ピ
リジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合物などが
挙げられる。
Examples of the metal compound include simple substances, hydroxides, oxides (including complex oxides), halides (fluoride, chloride, bromide, iodide), oxo acid salts (for example, nitrate) , Sulfate, phosphate, borate,
Inorganic compounds such as carbonates), oxo acids, and isopoly acids; organic compounds such as organic acid salts (eg, acetate, propionate, cyanate, naphthenate, stearate), and complexes. The ligands constituting the complex include OH (hydroxo), alkoxy (methoxy,
Ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), acyl (acetyl, propionyl, etc.), alkoxycarbonyl (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), acetylacetonato, cyclopentadienyl group, halogen atom (chlorine, bromine, etc.), CO, CN, Oxygen atom, H 2 O
(Aquo), phosphorus compound of phosphine (triarylphosphine such as triphenylphosphine), NH
And nitrogen-containing compounds such as 3 (ammine), NO, NO 2 (nitro), NO 3 (nitrat), ethylenediamine, diethylenetriamine, pyridine and phenanthroline.

【0030】前記金属化合物の使用量は、式(3)で表
されるアダマンタン誘導体1モルに対して、例えば、
0.00001〜1モル、好ましくは0.0001〜
0.1モル、さらに好ましくは0.001〜0.05モ
ル程度である。
The amount of the metal compound used is, for example, based on 1 mol of the adamantane derivative represented by the formula (3).
0.00001-1 mol, preferably 0.0001-
It is about 0.1 mol, more preferably about 0.001 to 0.05 mol.

【0031】本発明の方法は、通常、有機溶媒中で行わ
れる。有機溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類;ホ
ルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド(D
MF)、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;t−ブ
タノール、t−アミルアルコールなどのアルコール類;
ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、
トルエンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼ
ン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化
水素;ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタンな
どのニトロ化合物;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエス
テル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルな
どのエーテル類;及びこれらの混合溶媒などが挙げられ
る。
The method of the present invention is usually carried out in an organic solvent. Examples of the organic solvent include nitriles such as acetonitrile, propionitrile, and benzonitrile; formamide, acetamide, dimethylformamide (D
Amides such as MF) and dimethylacetamide; alcohols such as t-butanol and t-amyl alcohol;
Aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane; benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene and trifluoromethylbenzene; nitro compounds such as nitrobenzene, nitromethane and nitroethane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate Ethers such as diethyl ether and diisopropyl ether; and mixed solvents thereof.

【0032】反応温度は、例えば、0〜300℃、好ま
しくは30〜250℃、さらに好ましくは40〜200
℃程度であり、通常、40〜150℃程度で反応する場
合が多い。反応は、常圧または加圧下で行うことがで
き、加圧下で反応させる場合には、通常、1〜100a
tm(例えば、1.5〜80atm)、好ましくは2〜
70atm程度である。反応時間は、反応温度及び圧力
に応じて、例えば、30分〜48時間程度の範囲から適
当に選択できる。
The reaction temperature is, for example, 0 to 300 ° C., preferably 30 to 250 ° C., and more preferably 40 to 200 ° C.
° C, and usually reacts at about 40 to 150 ° C in many cases. The reaction can be carried out under normal pressure or under pressure. When the reaction is carried out under pressure, usually 1 to 100a
tm (for example, 1.5 to 80 atm), preferably 2 to
It is about 70 atm. The reaction time can be appropriately selected, for example, from a range of about 30 minutes to 48 hours depending on the reaction temperature and pressure.

【0033】反応は、酸素の存在下又は酸素の流通下、
回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行う
ことができる。反応により、式(3)で表されるアダマ
ンタン誘導体のアダマンタン骨格が開裂して、前記式
(1)で表されるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体
が生成する。
The reaction is carried out in the presence of oxygen or in the flow of oxygen.
It can be carried out by a conventional method such as a batch system, a semi-batch system, and a continuous system. By the reaction, the adamantane skeleton of the adamantane derivative represented by the formula (3) is cleaved to produce the bicyclo [3.3.1] nonane derivative represented by the formula (1).

【0034】反応終了後、反応生成物は、慣用の方法、
例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み
合わせた分離手段により容易に分離精製できる。なお、
式(1)において、Raがアシル基である化合物(エス
テル体)は、慣用の加水分解法(酸加水分解法、中性加
水分解法又はアルカリ加水分解法)により、容易に、R
aが水素原子である化合物(アルコール体)に変換でき
る。
After completion of the reaction, the reaction product is subjected to a conventional method,
For example, separation and purification can be easily performed by separation means such as filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, and column chromatography, or a separation means in which these are combined. In addition,
In the formula (1), the compound (ester) in which R a is an acyl group can be easily converted into R by a conventional hydrolysis method (acid hydrolysis method, neutral hydrolysis method or alkali hydrolysis method).
can be converted to a compound (alcohol) in which a is a hydrogen atom.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、3位にヒドロキシメチ
ル基又はアシルオキシメチル基を有し、且つ7位にオキ
ソ基を有する、新規なビシクロ[3.3.1]ノナン誘
導体が提供される。また、本発明の製造法によれば、前
記新規なビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体を簡易な
操作で効率よく得ることができる。
According to the present invention, there is provided a novel bicyclo [3.3.1] nonane derivative having a hydroxymethyl group or an acyloxymethyl group at the 3-position and an oxo group at the 7-position. . Further, according to the production method of the present invention, the novel bicyclo [3.3.1] nonane derivative can be efficiently obtained by a simple operation.

【0036】[0036]

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0037】実施例1 アダマンタン2ミリモル、N−ヒドロキシフタルイミド
0.2ミリモル、メタンスルホン酸2滴、及び酢酸6m
lの混合物を、酸素雰囲気下(1atm)、100℃で
6時間攪拌した。反応液中の生成物を高速液体クロマト
グラフィーを用いて単離したところ、3−アセトキシメ
チル−7−オキソ−ビシクロ[3.3.1]ノナンが得
られた(収率12%)。この化合物のスペクトルデータ
を下記に示す。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.93(t,2H),
1.60〜1.68(m,1H),1.85〜2.12
(m,4H),2.03(s,3H),2.22〜2.
50(m,4H),2.49〜2.58(m,2H),
3.81(d,2H)13 C−NMR(CDCl3)δ:20.89(1C),
28.13(2C),28.39(1C),28.68
(2C),30.84(2C),50.28(1C),
68.78(1C),170.96(1C),212.
26(1C)
EXAMPLE 1 2 mmol of adamantane, 0.2 mmol of N-hydroxyphthalimide, 2 drops of methanesulfonic acid and 6 m of acetic acid
The mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours under an oxygen atmosphere (1 atm). The product in the reaction solution was isolated by using high performance liquid chromatography to obtain 3-acetoxymethyl-7-oxo-bicyclo [3.3.1] nonane (yield: 12%). The spectrum data of this compound is shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.93 (t, 2H),
1.60-1.68 (m, 1H), 1.85-2.12.
(M, 4H), 2.03 (s, 3H), 2.22-2.
50 (m, 4H), 2.49 to 2.58 (m, 2H),
3.81 (d, 2H) 13 C-NMR (CDCl 3 ) δ: 20.89 (1C),
28.13 (2C), 28.39 (1C), 28.68
(2C), 30.84 (2C), 50.28 (1C),
68.78 (1C), 170.96 (1C), 212.
26 (1C)

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 67/035 C07C 67/035 69/14 69/14 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C07C 67/035 C07C 67/035 69/14 69/14 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(1) 【化1】 (式中、Raは水素原子又はアシル基を示し、ビシクロ
[3.3.1]ノナン環を構成する炭素原子は置換基を
有していてもよい)で表されるビシクロ[3.3.1]
ノナン誘導体。
[Claim 1] The following formula (1) (Wherein Ra represents a hydrogen atom or an acyl group, and the carbon atom constituting the bicyclo [3.3.1] nonane ring may have a substituent). .1]
Nonane derivatives.
【請求項2】 (A)下記式(2) 【化2】 (式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R1
びR2は互いに結合して二重結合、または芳香族性又は
非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又はヒ
ドロキシル基を示し、nは1〜3の整数を示す)で表さ
れるイミド化合物、及び(B)強酸の存在下、下記式
(3) 【化3】 (式中、Rbは、水素原子、ヒドロキシル基、又はアシ
ルオキシ基を示す。アダマンタン骨格を構成する炭素原
子は、Rbが結合している橋頭炭素原子に隣接する1つ
の炭素原子を除き、置換基を有していてもよい)で表さ
れるアダマンタン誘導体と、下記式(4) Ra−OH (式中、Raは水素原子又はアシル基を示す)で表され
る化合物と、分子状酸素とを反応させて、下記式(1) 【化4】 (式中、Raは前記と同じであり、ビシクロ[3.3.
1]ノナン環を構成する炭素原子は置換基を有していて
もよい)で表されるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導
体を生成させるビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の
製造法。
(A) The following formula (2): (Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom,
A halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group; R 1 and R 2 are bonded to each other to form a double bond, or A non-aromatic ring may be formed. X represents an oxygen atom or a hydroxyl group, and n represents an integer of 1 to 3), and (B) a strong acid and in the presence of a strong acid, the following formula (3): (In the formula, R b represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an acyloxy group. The carbon atoms constituting the adamantane skeleton are substituted except for one carbon atom adjacent to the bridgehead carbon atom to which R b is bonded. An adamantane derivative represented by the following formula (4): a compound represented by the following formula (4): R a —OH (where R a represents a hydrogen atom or an acyl group); By reacting with oxygen, the following formula (1) (Wherein R a is the same as described above, and bicyclo [3.3.
1] A process for producing a bicyclo [3.3.1] nonane derivative which produces a bicyclo [3.3.1] nonane derivative represented by the formula (1) wherein the carbon atom constituting the nonane ring may have a substituent: .
【請求項3】 強酸(B)として、25℃における水溶
液中のpKaが3以下のプロトン酸を用いる請求項2記
載のビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の製造法。
3. The method for producing a bicyclo [3.3.1] nonane derivative according to claim 2, wherein a protonic acid having a pKa of 3 or less in an aqueous solution at 25 ° C. is used as the strong acid (B).
【請求項4】 強酸(B)としてスルホン酸類を用いる
請求項2記載のビシクロ[3.3.1]ノナン誘導体の
製造法。
4. The process for producing a bicyclo [3.3.1] nonane derivative according to claim 2, wherein a sulfonic acid is used as the strong acid (B).
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