JPH11227089A - Heat ray shielding transparent resin structure and heat ray shielding film laminate - Google Patents

Heat ray shielding transparent resin structure and heat ray shielding film laminate

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JPH11227089A
JPH11227089A JP10343979A JP34397998A JPH11227089A JP H11227089 A JPH11227089 A JP H11227089A JP 10343979 A JP10343979 A JP 10343979A JP 34397998 A JP34397998 A JP 34397998A JP H11227089 A JPH11227089 A JP H11227089A
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JP
Japan
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heat ray
ray shielding
film
transparent resin
laminate
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JP10343979A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiminori Nishiyama
公典 西山
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat ray shielding film laminate for easily strongly bringing into contact with a transparent plastic plate. SOLUTION: The heat ray shielding transparent resin structure comprises a film laminate obtained by sequentially laminating a heat ray shielding film A having a heat ray shielding layer on one surface and a transparent resin film B in this order. In this case, a ratio Tm/Tmr of a melting point Tm of a resin for forming the film B to a melting point Tmr of a resin for forming the film A satisfies a range of 0.5<=Tm/Tmr<=0.95. And, a haze value of the laminate of the film A and the film B is 5% or less. A total visible light permeability of a wavelength of 400 to 750 nm is 55% or more. And, a total infrared permeability of a wavelength of 50 to 2100 nm of the laminate is 50% or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱線遮蔽フィルム
積層体およびその積層体を透明樹脂板に積層した熱線遮
蔽透明樹脂構造体に関する。さらに詳しくは、透明ガラ
スに比較して軽量であり、安全でありかつ加工性に優れ
た透明樹脂板の片面に熱線遮蔽フィルムを積層させた熱
線遮蔽透明樹脂構造体およびその構造体のための熱線遮
蔽フィルム積層体に関する。
The present invention relates to a heat ray shielding film laminate and a heat ray shielding transparent resin structure in which the laminate is laminated on a transparent resin plate. More specifically, a heat-shielding transparent resin structure in which a heat-shielding film is laminated on one side of a transparent resin plate that is lighter, safer and more processable than transparent glass, and a heat ray for the structure The present invention relates to a shielding film laminate.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱線遮蔽フィルム積層体は、一般に透明
なポリエステルフィルムを基材とし、その表面に光学積
層体(熱線遮蔽層)として金、銀、銅等からなる金属薄
膜層を高屈折率の透明誘電体層を積層させた積層体であ
り、可視光線を通す反面、近赤外部から赤外部にかけて
の光線を良く反射する特性を有している。この特性を生
かし、熱線遮蔽フィルム積層体は高温作業における監視
窓からの熱輻射を低減したり、建物、自動車または電車
等の乗物用窓から入射する太陽エネルギーを遮断して冷
暖房効果を向上させたり、透明植物容器の熱遮蔽性を向
上させたり、あるいは冷凍冷蔵ショーケースにおける保
冷効果を向上させたりする用途に利用されている。しか
し、これらの透明開口部の基材の大部分はガラス板で構
成され、粘着剤を介して熱線遮蔽フィルム積層体をガラ
ス板に貼り付けている。
2. Description of the Related Art A heat ray shielding film laminate is generally made of a transparent polyester film as a base material, and a metal thin film layer made of gold, silver, copper or the like having a high refractive index is formed on its surface as an optical laminate (heat ray shielding layer). This is a laminate in which transparent dielectric layers are laminated, and has a property of transmitting visible light but reflecting light from near-infrared to infrared. Taking advantage of this property, the heat ray shielding film laminate reduces the heat radiation from the monitoring window in high-temperature work, and improves the cooling and heating effect by blocking the solar energy that enters from the windows of vehicles such as buildings, cars or trains. It is used for improving the heat shielding property of a transparent plant container, or for improving the cold preservation effect in a freezing and refrigerated showcase. However, most of the base material of these transparent openings is made of a glass plate, and the heat ray shielding film laminate is attached to the glass plate via an adhesive.

【0003】最近、ガラス板の破損による危険性,取り
扱い適性、軽量化、加工性、コスト等様々な面からガラ
ス板に代わり透明樹脂(プラスチック)板を使用するも
のが増えつつある。このような構成体では、従来の粘着
剤で熱線遮蔽フィルム積層体を貼り付けると、高温にな
ると粘着剤からの発生する残留ガスによる気泡溜りがで
きやすく、透明な外観を損なう問題がある。この問題を
解決するため、種々の粘着剤が検討されてきたが、粘着
剤の経時変化による粘着力の変動や粘着剤自身のタック
性が工程内のハンドリングを悪くするため実用特性を満
足するものが見出されていない。
In recent years, a transparent resin (plastic) plate has been increasingly used in place of a glass plate from various aspects such as danger due to breakage of the glass plate, suitability for handling, weight reduction, workability, and cost. In such a structure, when the heat ray shielding film laminate is stuck with a conventional adhesive, there is a problem that bubbles tend to be generated due to residual gas generated from the adhesive at a high temperature, and the transparent appearance is impaired. In order to solve this problem, various types of pressure-sensitive adhesives have been studied.However, fluctuations in pressure-sensitive adhesive strength due to aging of the pressure-sensitive adhesive and tackiness of the pressure-sensitive adhesive itself deteriorate handling in the process, thereby satisfying practical characteristics. Is not found.

【0004】一方、本発明者は、熱線遮蔽フィルム積層
体を透明樹脂板に直接加熱圧着させる方法を試みたが、
結合が強くかつ透明性のよい構造体は得られなかった。
また、熱線遮蔽フィルム積層体の表面上において溶融し
た樹脂を供給して透明樹脂板を形成させても強密着した
構造体は得られず、熱線遮蔽フィルム積層体は容易に剥
がれやすいものであった。
[0004] On the other hand, the present inventor has tried a method of directly heating and pressing a heat ray shielding film laminate to a transparent resin plate.
A structure having strong bonding and good transparency could not be obtained.
Further, even if a molten resin was supplied on the surface of the heat ray shielding film laminate to form a transparent resin plate, a strongly adhered structure was not obtained, and the heat ray shielding film laminate was easily peeled off. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、透明開口部等の基材に用いられる透明樹脂板に容易
に強密着させることが可能な熱線遮蔽フィルム積層体を
提供することにある。本発明の第2の目的は、熱線遮蔽
フィルム積層体と透明樹脂板とが互いに強固に接合され
かつ透明で美しい外観を有する構造体を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is a first object of the present invention to provide a heat ray shielding film laminate which can be easily and strongly adhered to a transparent resin plate used for a substrate such as a transparent opening. It is in. A second object of the present invention is to provide a structure in which a heat ray shielding film laminate and a transparent resin plate are firmly joined to each other and have a transparent and beautiful appearance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そこで本発明者は、前記
目的を達成するため研究を進めた結果、熱線遮蔽フィル
ムの片面に、そのフィルムを形成する樹脂の融点に対し
てある特定の範囲でより低い融点を有する樹脂より形成
された透明樹脂フィルムを積層すると、その透明樹脂フ
ィルムを介して透明樹脂板が直接接着され、しかも接着
面は強固に接着され、かつ外観も優れていることが見出
された。
Accordingly, the present inventor has conducted research to achieve the above object, and as a result, it has been found that one side of the heat ray shielding film has a certain range with respect to the melting point of the resin forming the film. When a transparent resin film formed of a resin having a lower melting point is laminated, it is found that the transparent resin plate is directly bonded through the transparent resin film, and the bonding surface is firmly bonded and has an excellent appearance. Was issued.

【0007】本発明によれば、下記の熱線遮蔽透明樹脂
構造体が提供される。 (1)片面に熱線遮蔽層を有する熱線遮蔽フィルム
(A)、(2)透明樹脂フィルム(B)および(3)透
明樹脂版(C)をこの順序で互いに積層された熱線遮蔽
透明樹脂構造体であって、(i) 該透明樹脂フィルム
(B)を形成する樹脂の融点(Tm)と該熱線遮蔽フィ
ルム(A)を形成する樹脂の融点(Tmr)との比(T
m/Tmr)が、0.5≦(Tm/Tmr)≦0.95
の範囲を満足し、(ii) 該熱線遮蔽フィルム(A)と該
透明樹脂フィルム(B)との積層体におけるヘーズ値が
5%以下、(iii) 該積層体における波長400〜750
nmの全可視光透過率が55%以上、かつ(iv) 該積層
体における波長750〜2100nmの全赤外線透過率
が50%以下であることを特徴とする熱線遮蔽透明樹脂
構造体。
According to the present invention, the following heat ray shielding transparent resin structure is provided. (1) A heat ray shielding transparent resin structure in which a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side, (2) a transparent resin film (B) and (3) a transparent resin plate (C) are laminated in this order. (I) the ratio (Tm) of the melting point (Tm) of the resin forming the transparent resin film (B) to the melting point (Tmr) of the resin forming the heat ray shielding film (A);
m / Tmr) is 0.5 ≦ (Tm / Tmr) ≦ 0.95
(Ii) a haze value of 5% or less in a laminate of the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B), and (iii) a wavelength of 400 to 750 in the laminate.
a heat ray shielding transparent resin structure, wherein the total visible light transmittance at 55 nm or more is 55% or more; and (iv) the total infrared light transmittance at a wavelength of 750 to 2100 nm is 50% or less in the laminate.

【0008】また、本発明によれば、下記熱線遮蔽フィ
ルム積層体が提供される。 (1)片面に熱線遮蔽層を有する熱線遮蔽フィルム
(A)および(2)透明樹脂フィルム(B)をこの順序
で互いに積層したフィルム積層体であって、(i) 該透明
樹脂フィルム(B)を形成する樹脂の融点(Tm)と該
熱線遮蔽フィルム(A)を形成する樹脂の融点(Tm
r)との比(Tm/Tmr)が、0.5≦(Tm/Tm
r)≦0.95の範囲を満足し、(ii) 該熱線遮蔽フィ
ルム(A)と該透明樹脂フィルム(B)との積層体にお
けるヘーズ値が5%以下、(iii) 該積層体における波長
400〜750nmの全可視光透過率が55%以上、か
つ(iv)該積層体における波長750〜2100nmの全
赤外線透過率が50%以下であることを特徴とする熱線
遮蔽フィルム積層体。
Further, according to the present invention, the following heat ray shielding film laminate is provided. (1) A film laminate obtained by laminating a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side and (2) a transparent resin film (B) in this order, and (i) the transparent resin film (B) And the melting point (Tm) of the resin forming the heat ray shielding film (A).
r) (Tm / Tmr) is 0.5 ≦ (Tm / Tm
r) satisfies the range of 0.95, (ii) the haze value of the laminate of the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) is 5% or less, and (iii) the wavelength of the laminate. A heat ray shielding film laminate, wherein the total visible light transmittance at 400 to 750 nm is 55% or more, and (iv) the total infrared transmittance at a wavelength of 750 to 2100 nm is 50% or less in the laminate.

【0009】次に本発明についてさらに詳しく説明する
が、まず最初に熱線遮蔽フィルム積層体について説明
し、次いで熱線遮蔽透明樹脂構造体およびその製造方法
について説明する。前述したとおり、本発明の熱線遮蔽
フィルム積層体は、(1)片面に熱線遮蔽層を有する熱
線遮蔽フィルム(A)および(2)透明樹脂フィルム
(B)により構成されている。
Next, the present invention will be described in more detail. First, a heat ray shielding film laminate will be described, and then a heat ray shielding transparent resin structure and a method for producing the same will be described. As described above, the heat ray shielding film laminate of the present invention is constituted by (1) a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one surface and (2) a transparent resin film (B).

【0010】この熱線遮蔽フィルム(A)を形成するベ
ースフィルムは透明であって、可撓性を有し、その表面
にスパッタ法や真空蒸着法などにより金属蒸着膜を形成
する際に、その操作温度に耐え得る耐熱性を有している
熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。
[0010] The base film forming the heat ray shielding film (A) is transparent and flexible, and when a metal deposition film is formed on the surface thereof by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, the operation is performed. It is preferably a thermoplastic resin film having heat resistance to withstand temperature.

【0011】かかる熱可塑性樹脂フィルム構成するポリ
マーとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチ
レン−2,6−ナフタレートに代表されるポリエステ
ル、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等が例示される。これらの中、ポリ
エステルがさらに好ましい。また、熱可塑性樹脂フィル
ムの中で、耐熱性、機械的強度に優れる二軸配向ポリエ
チレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
Examples of the polymer constituting the thermoplastic resin film include polyesters represented by polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, aliphatic polyamides, aromatic polyamides, polyethylene, polypropylene and the like. Of these, polyester is more preferred. Further, among the thermoplastic resin films, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film having excellent heat resistance and mechanical strength is particularly preferable.

【0012】かかる熱可塑性樹脂フィルム(ベースフィ
ルム)は、従来から知られている方法で製造することが
できる。例えば、二軸配向ポリエステルフィルムの製造
について説明すると、ポリエステルチップを乾燥後、T
m〜(Tm+70)℃の温度(但し、Tm:ポリエステ
ルの融点)で押出機にて溶融し、ダイ(例えばT−ダ
イ、I−ダイ等)から回転冷却ドラム上に押出し、40
〜90℃で急冷して未延伸フィルムを製造し、ついで該
未延伸フィルムを(Tg−10)〜(Tg+70)℃の
温度(Tg:ポリエステルのガラス転移温度)で縦方向
に2.5〜8.0倍の倍率で延伸し、横方向2.5〜
8.0倍の倍率で延伸し、必要に応じて180〜250
℃の温度で1〜60秒間熱固定することにより製造でき
る。このベースフィルムの厚みは25〜250μmの範
囲が好ましく、50〜200μmの範囲が特に好まし
い。
Such a thermoplastic resin film (base film) can be produced by a conventionally known method. For example, the production of a biaxially oriented polyester film will be described.
m to (Tm + 70) ° C. (where Tm is the melting point of the polyester), melted by an extruder, extruded from a die (eg, T-die, I-die, etc.) onto a rotary cooling drum,
The unstretched film is quenched at a temperature of (Tg-10) to (Tg + 70) ° C. (Tg: glass transition temperature of polyester) at 2.5 to 8 ° C. Stretched at a magnification of 0. 0, 2.5 to
It is stretched at a magnification of 8.0 times, and if necessary, 180-250.
It can be produced by heat setting at a temperature of 1 to 60 seconds. The thickness of the base film is preferably in the range of 25 to 250 μm, particularly preferably in the range of 50 to 200 μm.

【0013】本発明に用いられる熱線遮蔽フィルム
(A)には、ベースフィルムの片面に熱線遮蔽層が設け
られている。熱線遮蔽層を構成する金属物質としては、
SbをドープしたSnO2やSnをドープしたIn23
(ITO)等の広い光学バンドギャップと高い自由電子
密度を有する半導体薄膜、またはAu、Ag、Cu、A
l等の金属が例示される。これらの中、可視光線の吸収
がほとんど無いAgが特に好ましい。なお、必要に応じ
て金属物質を2種以上併用してもよい。かかる金属層の
形成方法としては気相成長法が好ましく、さらに真空蒸
着法、スパッター法またはプラズマCVD法が特に好ま
しい。かかる金属層の厚みは、本発明のフィルム積層体
の波長400〜750nmにおける積分可視光透過率が
55%以上及び波長750〜2100nmの積分近赤外
線透過率50%以下の範囲を満足するように設定するべ
きである。金属層の厚みは5nm〜1000nmの範囲
が好ましい。厚みが5nm未満であると十分な熱線遮蔽
効果が発揮されず、赤外線透過率が高くなり、他方10
00nmを超えると可視光透過率が低下し透明性が悪く
なる。
The heat ray shielding film (A) used in the present invention has a heat ray shielding layer on one side of a base film. As the metal material constituting the heat ray shielding layer,
Sb-doped SnO 2 or Sn-doped In 2 O 3
(ITO) or other semiconductor thin film having a wide optical band gap and high free electron density, or Au, Ag, Cu, A
Metals such as 1 are exemplified. Among them, Ag, which hardly absorbs visible light, is particularly preferable. In addition, you may use 2 or more types of metal substances together as needed. As a method for forming such a metal layer, a vapor phase growth method is preferable, and a vacuum deposition method, a sputtering method or a plasma CVD method is particularly preferable. The thickness of the metal layer is set so that the integrated visible light transmittance at a wavelength of 400 to 750 nm of the film laminate of the present invention satisfies the range of 55% or more and the integrated near infrared transmittance at a wavelength of 750 to 2100 nm of 50% or less. Should be. The thickness of the metal layer is preferably in the range of 5 nm to 1000 nm. When the thickness is less than 5 nm, a sufficient heat ray shielding effect is not exhibited, and the infrared transmittance is increased.
If it exceeds 00 nm, the visible light transmittance is reduced and the transparency is deteriorated.

【0014】本発明に用いられる熱線遮蔽フィルム
(A)には、可視光線の反射を抑制し透明性を高めるた
めに、透明で高屈折率である誘電体層を設けることが好
ましい。このような誘電体としては、TiO2、Zr
2、SnO2、In23等が挙げられる。アルキルチタ
ネート又はアルキルジルコニウムの加水分解により得ら
れる有機化合物由来のTiO2又はZrO2が加工性に優
れるためさらに好ましい。加えて、誘電体層として酸化
インジウムや酸化錫も単一層又は多層にて適用できる。
かかる誘電体層の形成方法としては気相成長法が好まし
く、さらに真空蒸着法、スパッター法またはプラズマC
VD法が特に好ましい。また、誘電体層は、前述の金属
層をサンドウィチ状に挟む積層構成をとることにより、
透明性の改良効果が増すのでより好ましい。かかる誘電
体層の厚みは、フィルム積層体の光学特性範囲を満足す
るように前述の金属層と併せて設定することが必要であ
る。誘電体層の厚みは0nm〜750nmの範囲が好ま
しい。
The heat ray shielding film (A) used in the present invention is preferably provided with a transparent dielectric layer having a high refractive index in order to suppress reflection of visible light and enhance transparency. Such dielectrics include TiO 2 , Zr
O 2 , SnO 2 , In 2 O 3 and the like can be mentioned. TiO 2 or ZrO 2 derived from an organic compound obtained by hydrolysis of alkyl titanate or alkyl zirconium is more preferred because of excellent workability. In addition, indium oxide or tin oxide can be applied as a dielectric layer in a single layer or a multilayer.
As a method for forming such a dielectric layer, a vapor phase growth method is preferable, and further, a vacuum deposition method, a sputtering method,
The VD method is particularly preferred. Also, the dielectric layer has a laminated structure sandwiching the above-described metal layer in a sandwich shape,
This is more preferable because the effect of improving transparency is increased. It is necessary to set the thickness of such a dielectric layer together with the above-mentioned metal layer so as to satisfy the optical characteristic range of the film laminate. The thickness of the dielectric layer is preferably in the range of 0 nm to 750 nm.

【0015】本発明で用いられる熱線遮蔽フィルム
(A)には、通常金属をスパッタリングにより積層する
ため耐熱性のあるベースフィルムが使用され、そのフィ
ルムを形成する樹脂は前述したように溶融する温度の高
い熱可塑性樹脂が選択される。このため、このベースフ
ィルムと溶融する温度が低い透明樹脂板との密着性は溶
融温度差が大きくなり、両者の熱融着による接着が困難
となる。そこで、熱線遮蔽フィルム(A)と透明樹脂板
(C)との密着性を向上させるためには、熱線遮蔽フィ
ルムの片面に溶融温度の低い透明樹脂フィルム(B)を
積層した構成体とする必要がある。
As the heat ray shielding film (A) used in the present invention, a heat-resistant base film is usually used because a metal is laminated by sputtering, and the resin forming the film has a melting temperature as described above. A high thermoplastic is selected. For this reason, the adhesion between the base film and the transparent resin plate having a low melting temperature has a large difference in melting temperature, and it is difficult to bond the two by heat fusion. Therefore, in order to improve the adhesion between the heat ray shielding film (A) and the transparent resin plate (C), it is necessary to form a structure in which a transparent resin film (B) having a low melting temperature is laminated on one side of the heat ray shielding film. There is.

【0016】かかる透明樹脂フィルム(B)を形成する
樹脂としては熱可塑性樹脂が好ましく、透明樹脂フィル
ム(B)を形成する樹脂の融点(Tm)と熱線遮蔽フィ
ルム(A)を形成する樹脂の融点(Tmr)との比が、
0.5≦(Tm/Tmr)≦0.95の範囲にあること
が必要である。この温度比が0.5未満となると透明樹
脂板(C)の熱線遮蔽フィルム(A)への積層が難しく
なるので好ましくない。また温度比が0.95を超える
と、本発明のフィルム積層体と透明樹脂板(C)との接
着力が低下するので好ましくない。
The resin forming the transparent resin film (B) is preferably a thermoplastic resin. The melting point (Tm) of the resin forming the transparent resin film (B) and the melting point of the resin forming the heat ray shielding film (A) are preferred. (Tmr)
It must be in the range of 0.5 ≦ (Tm / Tmr) ≦ 0.95. If the temperature ratio is less than 0.5, it is not preferable because lamination of the transparent resin plate (C) on the heat ray shielding film (A) becomes difficult. On the other hand, if the temperature ratio exceeds 0.95, the adhesive strength between the film laminate of the present invention and the transparent resin plate (C) is undesirably reduced.

【0017】本発明において樹脂の融点とは、結晶性で
あって、示差走査熱量測定(DSC)にて明確なピーク
が認められる樹脂の場合はそのピーク温度を融点(℃)
とし、それ以外の非晶性樹脂の場合はガラス転移温度
(℃)を融点と定義する。なお、特にビスフェノールA
をジヒドロキシ成分とするポリカーボネート樹脂は「ポ
リカーボネート樹脂ハンドブック」(日刊工業新聞社
刊、初版1刷発行、1992)に記載されている融点を
融点(℃)として取り扱うことにする。
In the present invention, the melting point of the resin is crystalline, and in the case of a resin having a distinct peak in differential scanning calorimetry (DSC), the peak temperature is defined as the melting point (° C.).
In the case of other amorphous resins, the glass transition temperature (° C.) is defined as the melting point. In particular, bisphenol A
Is treated as the melting point (° C.) described in “Polycarbonate Resin Handbook” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, First Edition, First Edition, 1992).

【0018】かかる透明樹脂フィルム(B)を形成する
樹脂としては、熱可塑性樹脂が好ましく、特に融点が1
00〜240℃を有する樹脂が好ましい。特にポリエチ
レンテレフタレートに代表されるポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリエチレンおよびポリプロピレン等が例
示される。前記熱線遮蔽フィルム(A)のベースフィル
ムが二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムであ
る場合には、透明樹脂フィルム(B)はポリカーボネー
トフィルムまたは共重合ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムであることが好ましい。この共重合ポリエチレン
テレフタレートは、その融点が180〜240℃である
のが有利である。
The resin forming the transparent resin film (B) is preferably a thermoplastic resin, and particularly has a melting point of 1
Resins having a temperature between 00 and 240 ° C are preferred. Particularly, polyester, polycarbonate, polyethylene, polypropylene and the like represented by polyethylene terephthalate are exemplified. When the base film of the heat ray shielding film (A) is a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, the transparent resin film (B) is preferably a polycarbonate film or a copolymerized polyethylene terephthalate film. This copolymerized polyethylene terephthalate advantageously has a melting point of from 180 to 240 ° C.

【0019】上記共重合ポリエチレンテレフタレートの
共重合成分としては、酸成分でもグリコール成分でも良
く、酸成分としてはイソフタル酸、フタル酸、ナフタレ
ンジカルボン酸の如き芳香族二塩基酸;アジピン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸の如き脂
環族ジカルボン酸が例示できる。またグリコール成分と
してはブタンジオール、ヘキサンジオール等の如き脂肪
族ジオール;シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族
ジオール等が例示できる。これらは単独又は二種以上使
用することができる。
The copolymerized polyethylene terephthalate copolymer component may be an acid component or a glycol component, and the acid component may be an aromatic dibasic acid such as isophthalic acid, phthalic acid or naphthalenedicarboxylic acid; adipic acid, azelaic acid, Alicyclic dicarboxylic acids such as sebacic acid and decane dicarboxylic acid can be exemplified. Examples of the glycol component include aliphatic diols such as butanediol and hexanediol; and alicyclic diols such as cyclohexanedimethanol. These can be used alone or in combination of two or more.

【0020】また、上記ポリカーボネートとしてはビス
フェノールをジヒドロキシ成分とする芳香族系ポリカー
ボネートを挙げることできる。特に、イソプロピリデン
基を介してフェノールが結合しているビスフェノールA
をジヒドロキシ成分とするポリカーボネートは良好な熱
的性質を有しかつ透明樹脂板(C)との接着性に優れて
いるので好ましい。
The above polycarbonates include aromatic polycarbonates containing bisphenol as a dihydroxy component. In particular, bisphenol A to which phenol is bonded via an isopropylidene group
Is preferred because it has good thermal properties and excellent adhesion to the transparent resin plate (C).

【0021】さらに透明樹脂フィルム(B)を形成する
熱可塑性樹脂として、ポリカーボネート/ポリエチレン
テレフタレートアロイ等またはそのアロイを改質したも
のを用いてもよい。
Further, as the thermoplastic resin forming the transparent resin film (B), a polycarbonate / polyethylene terephthalate alloy or the like or a modified version thereof may be used.

【0022】透明樹脂フィルム(B)の厚みとしては2
5〜750μmが好ましい。25μm未満になると外観
不良となる。特に好ましい厚みは50〜500μmであ
る。
The thickness of the transparent resin film (B) is 2
5-750 μm is preferred. If it is less than 25 μm, the appearance will be poor. A particularly preferred thickness is 50 to 500 μm.

【0023】熱線遮蔽フィルム(A)に透明樹脂フィル
ム(B)を積層する方法としては、大別して2つの方法
がある。
There are roughly two methods for laminating the transparent resin film (B) on the heat ray shielding film (A).

【0024】1つは熱線遮蔽フィルム(A)のベースフ
ィルムを製膜する際、透明樹脂フィルム(B)を共押し
出し法により押出して積層することができる。この場
合、共押出し法により得られた積層フィルムは、フィル
ム(A)のベースフィルム表面に熱線遮蔽層を蒸着法に
より形成させる。
First, when the base film of the heat ray shielding film (A) is formed, the transparent resin film (B) can be extruded and laminated by a co-extrusion method. In this case, in the laminated film obtained by the co-extrusion method, a heat ray shielding layer is formed on the base film surface of the film (A) by a vapor deposition method.

【0025】その他の方法として、熱線遮蔽フィルム
(A)と透明樹脂フィルム(B)をアクリル系またはウ
レタン系の如き接着剤によりラミネートすることにより
フィルム積層体を構成しても良い。この場合、透明樹脂
フィルム(B)は、熱線遮蔽フィルム(A)のいずれの
片面に積層させてもよい。すなわち、透明樹脂フィルム
(B)を熱線遮蔽フィルム(A)の熱線遮蔽層側に積層
させてもよく、またその反対面に積層させてもよい。
As another method, a film laminate may be formed by laminating the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) with an adhesive such as acrylic or urethane. In this case, the transparent resin film (B) may be laminated on any one side of the heat ray shielding film (A). That is, the transparent resin film (B) may be laminated on the heat ray shielding layer side of the heat ray shielding film (A), or may be laminated on the opposite surface.

【0026】また、本発明のフィルム積層体の熱線遮蔽
層を保護したり表面にキズがつかないようにするため、
ハードコート処理を熱線遮蔽層面に行ってもよい。また
熱線遮蔽層面に透明樹脂フィルム(B)を積層したフィ
ルム積層体の場合であっても、熱線遮蔽フィルム(A)
の熱線遮蔽層の反対側にハードコート処理を行うことは
好ましいことである。このハードコート処理方法は公知
のアクリル系またはシリコーン系のハードコート剤を使
用することができる。これらの処理方法としては、バー
コート法、ドクターブレード法、リバースロールコート
法、グラビアロールコート法等の公知の塗布方法を用い
ることができ、塗膜厚みは1〜10μmが好ましい。ハ
ードコート処理は表面に直接コートする他に、例えばポ
リエチレンテレフタレートフィルムにハードコート処理
したフィルムを接着剤を介して積層してもよい。
In order to protect the heat ray shielding layer of the film laminate of the present invention and to prevent the surface from being scratched,
A hard coat treatment may be performed on the heat ray shielding layer surface. Even in the case of a film laminate in which the transparent resin film (B) is laminated on the heat ray shielding layer surface, the heat ray shielding film (A)
It is preferable to perform a hard coat treatment on the side opposite to the heat ray shielding layer. In this hard coat treatment method, a known acrylic or silicone hard coat agent can be used. As these treatment methods, known coating methods such as a bar coating method, a doctor blade method, a reverse roll coating method, and a gravure roll coating method can be used, and the thickness of the coating film is preferably 1 to 10 μm. In the hard coat treatment, besides directly coating the surface, for example, a film obtained by performing a hard coat treatment on a polyethylene terephthalate film may be laminated via an adhesive.

【0027】本発明の熱線遮蔽フィルム(A)と透明樹
脂フィルム(B)を積層したフィルム積層体は、その総
厚みが50〜1000μmの範囲、好ましくは75〜7
50μmの範囲であるのが有利である。この総厚みが5
0μmよりも薄いとハンドリングや加工の操作が困難と
なり、歩留まりが低下し、他方1000μmを超えると
フィルムの長尺ロール品として取り扱いにくくなる。
The film laminate of the present invention, in which the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) are laminated, has a total thickness of 50 to 1000 μm, preferably 75 to 7 μm.
Advantageously, it is in the range of 50 μm. This total thickness is 5
When the thickness is less than 0 μm, handling and processing operations become difficult, and the yield decreases. On the other hand, when the thickness exceeds 1000 μm, it becomes difficult to handle the film as a long roll product.

【0028】本発明の熱線遮蔽フィルム積層体は、ガラ
ス窓のような開口部の透明部分に使用されるため透明性
が必要であり、該積層体のヘーズ値は5%以下であるこ
とが必要である。ヘーズ値が5%以上になると透明感が
不良となるので好ましくない。したがって熱線遮蔽フィ
ルム(A)のベースフィルムや積層する透明樹脂フィル
ム(B)はできるだけ添加剤や不純物の少ない透明性の
あるものを使用するのが好ましい。
The heat ray shielding film laminate of the present invention is required to be transparent because it is used for a transparent portion of an opening such as a glass window, and the haze value of the laminate must be 5% or less. It is. A haze value of 5% or more is not preferred because the transparency becomes poor. Therefore, as the base film of the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) to be laminated, it is preferable to use a transparent film having as few additives and impurities as possible.

【0029】また、本発明の熱線遮蔽フィルム積層体
は、開口部の透明部分の透明性の維持および熱線遮蔽効
果を機能させるため、波長400〜750nmにおける
積分可視光透過率が55%以上、好ましくは60%以
上、および波長750〜2100nmの積分近赤外線透
過率が50%以下、好ましくは40%以下であることが
必要である。積分可視光透過率が55%未満であると積
層体の透明性が低下するので好ましくなく、積分近赤外
線透過率が50%を超えると積層体の熱線遮蔽効果が低
下するので好ましくない。
The heat ray shielding film laminate of the present invention has an integrated visible light transmittance of 55% or more at a wavelength of 400 to 750 nm in order to maintain the transparency of the transparent portion of the opening and to function as a heat ray shielding effect. Must be 60% or more, and the integrated near-infrared transmittance at a wavelength of 750 to 2100 nm is 50% or less, preferably 40% or less. If the integrated visible light transmittance is less than 55%, the transparency of the laminate is reduced, which is not preferable. If the integrated near-infrared transmittance exceeds 50%, the heat ray shielding effect of the laminate is undesirably reduced.

【0030】次に、前記熱線遮蔽フィルム積層体を使用
して透明樹脂板(C)に積層した熱線遮蔽樹脂構造体に
ついて説明する。本発明のこの構造体は、前記熱線遮蔽
フィルム積層体における透明樹脂フィルム(B)面側に
透明樹脂板(C)を積層し、その積層は接着剤や粘着剤
を使用しないで両者の表面が直接固着している点に特徴
がある。この固着は後述する方法により行われるが、両
者はそれらの融着または熱接着によって強固に密着され
る。
Next, the heat ray shielding resin structure laminated on the transparent resin plate (C) using the above heat ray shielding film laminate will be described. In this structure of the present invention, a transparent resin plate (C) is laminated on the transparent resin film (B) side of the heat ray shielding film laminate, and the lamination is performed without using an adhesive or an adhesive. The feature is that it is directly fixed. This fixation is performed by a method described later, and the two are firmly adhered to each other by fusion or thermal bonding.

【0031】前記フィルム積層体に積層される透明樹脂
板(C)は、通常有機ガラスとして利用されるものであ
り、透明性および強度を有するものであればよい。具体
的には、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、メチルメタクリレート−スチレン共重合体ま
たはポリオレフィン樹脂より形成された透明板が挙げら
れる。これらの中、ポリカーボネート樹脂板が最も好適
である。
The transparent resin plate (C) to be laminated on the film laminate is usually used as an organic glass and may be any as long as it has transparency and strength. Specific examples include a transparent plate formed of a polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin, an acrylonitrile-styrene resin, a polystyrene resin, a methyl methacrylate-styrene copolymer or a polyolefin resin. Of these, a polycarbonate resin plate is most preferred.

【0032】また、これらの透明樹脂板(C)は、透明
性であればよく、無色であってもまた着色されていても
よい。前記の積分可視光透過率が30%以上、好ましく
は40%以上であるのが望ましい。透明樹脂板(C)
は、2〜15mmの厚さ、好ましくは3〜12mmの厚
さを有するものが実用的である。
The transparent resin plate (C) only needs to be transparent, and may be colorless or colored. It is desirable that the integrated visible light transmittance is 30% or more, preferably 40% or more. Transparent resin plate (C)
It is practical to have a thickness of 2 to 15 mm, preferably 3 to 12 mm.

【0033】本発明者の研究によれば、熱線反射フィル
ム積層体と透明樹脂板(C)との積層は、下記2つの方
法によって有利に実施できることが見出された。
According to the study of the present inventors, it has been found that the lamination of the heat ray reflective film laminate and the transparent resin plate (C) can be advantageously performed by the following two methods.

【0034】<成形方法(I)>片面に熱線遮蔽層を有
する熱線遮蔽フィルム(A)および透明樹脂フィルム
(B)よりなるフィルム積層体の透明樹脂フィルム
(B)側の表面において溶融した透明樹脂を板状に成形
せしめる方法。この成形方法(I)は、フィルム積層体
のフィルム(B)面上において溶融した透明樹脂を板状
に成形させる方法であり、フィルム積層体を金型の一方
の面に貼付しておき、金型内に溶融した樹脂を流し込む
方法(射出成形法)が有利である。また、フィルム積層
体を水平に配置してその上に溶融した樹脂を流延して成
形することも可能である。
<Molding method (I)> The transparent resin melted on the transparent resin film (B) side of the film laminate comprising the heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side and the transparent resin film (B) Method of forming into a plate shape. This molding method (I) is a method in which a transparent resin melted on the film (B) surface of the film laminate is molded into a plate shape. The film laminate is attached to one surface of a mold, and A method of pouring a molten resin into a mold (injection molding method) is advantageous. It is also possible to arrange the film laminate horizontally and cast a molten resin thereon to form the film.

【0035】<成形方法(II)>片面に熱線遮蔽層を有
する熱線遮蔽フィルム(A)および透明樹脂フィルム
(B)よりなる積層体をその透明樹脂フィルム(B)側
の表面において加熱された透明樹脂板(C)に熱圧着せ
しめる方法。この成形方法(II)は、あらかじめ成形さ
れた透明樹脂板(C)を使用し、これにフィルム積層体
を熱圧着させる方法である。熱圧着は、フィルム積層体
における透明樹脂フィルム(B)の融点(Tm)〜(T
m+110)℃の範囲に透明樹脂板(C)の積層面を少
なくとも加熱して行われる。かくしてフィルム積層体と
透明樹脂板(C)が積層された構造体を得ることができ
る。
<Molding method (II)> A laminate comprising a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side and a transparent resin film (B) is heated on the transparent resin film (B) side to obtain a transparent material. A method of thermocompression bonding to the resin plate (C). This molding method (II) is a method in which a transparent resin plate (C) molded in advance is used, and a film laminate is thermocompression-bonded thereto. The thermocompression bonding is performed by melting the transparent resin film (B) in the film laminate (Tm) to (Tm).
The heating is performed by heating at least the laminated surface of the transparent resin plate (C) in the range of (m + 110) ° C. Thus, a structure in which the film laminate and the transparent resin plate (C) are laminated can be obtained.

【0036】前記の方法により得られた熱線遮蔽樹脂構
造体は、全体の厚みが3〜15mm、好ましくは5〜1
2mmの範囲であることが望ましく、また、構造体の積
分可視光透過率は20%以上、好ましくは30%以上で
あるのが望ましい。
The heat ray shielding resin structure obtained by the above method has a total thickness of 3 to 15 mm, preferably 5 to 1 mm.
It is desirably in the range of 2 mm, and the integrated visible light transmittance of the structure is desirably 20% or more, preferably 30% or more.

【0037】[0037]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳述する。な
お、フィルムの特性の測定は、以下の方法にしたがって
実施した。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. In addition, the measurement of the characteristic of the film was implemented according to the following method.

【0038】(1)融点(Tm、Tmr)の測定 熱線遮蔽フィルム(A)のベースフィルムおよび透明樹
脂フィルム(B)をそれぞれ単独にて、Dupont Instrum
ents 910 DSCを用い、昇温速度20℃/分で測定する方
法による。尚サンプル量は約20mgとする。
(1) Measurement of Melting Point (Tm, Tmr) The base film of the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) were each used alone, and the Dupont Instrum was used.
The measurement is performed at a heating rate of 20 ° C./min using an ents 910 DSC. The sample amount is about 20 mg.

【0039】(2)積分可視光透過率及び積分近赤外線
透過率 両特性共、島津製作所 UV−3101PC型を用いて
熱線遮蔽フィルム積層体について、下記の波長範囲で測
定し、積分可視透過率および積分近赤外反射率をJIS
−A 5759に基づき計算した。 可視光領域 400−750nm 近赤外光領域 750−2100nm
(2) Integrated Visible Light Transmittance and Integrated Near-Infrared Transmittance Both characteristics were measured for the heat ray shielding film laminate using Shimadzu Corporation UV-3101PC in the following wavelength range, and the integrated visible light transmittance and integrated near-infrared light transmittance were measured. JIS for integrated near-infrared reflectance
Calculated based on -A 5759. Visible light region 400-750 nm Near infrared light region 750-2100 nm

【0040】(3)ヘーズ 日本電色工業社製のヘーズ測定器(NDH−2D)を使用
し、測定する。
(3) Haze The haze is measured using a haze meter (NDH-2D) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

【0041】(4)密着性 熱線遮蔽フィルム積層体を透明樹脂板に密着させたサン
プルを100℃の熱水に2時間浸漬した後、熱線遮蔽フ
ィルム側の面を、カッターで100個の碁盤目(1個約
1mm2)ができるように切り目を入れる。この碁盤目
上に粘着テープを貼付し、剥がしたときのフィルムが剥
離しない碁盤目の数から下記の基準で評価する。 〇:100 △:90〜99 ×:89以下
(4) Adhesion After the sample in which the heat ray shielding film laminate was adhered to the transparent resin plate was immersed in hot water at 100 ° C. for 2 hours, the surface on the side of the heat ray shielding film was cut into 100 grids with a cutter. Make a cut so that (one piece is about 1 mm 2 ). An adhesive tape is stuck on the grid, and the number of grids on which the film does not peel when peeled off is evaluated according to the following criteria. 〇: 100 △: 90 to 99 ×: 89 or less

【0042】[実施例1]厚さ50μmの二軸配向ポリ
エチレンテレフタレートフィルム(以下PETフィルム
と記述することがある)の片面に、厚さ10nmの酸化
インジウム層(誘電体層:第1層)を設けた。この第1
層の表面に、厚さ12nmの銀薄膜層(金属層:第2
層)を設け、次にその表面に厚さ20nmの酸化インジ
ウム層(誘電体層:第3層)を設け、熱線遮蔽フィルム
(A)を作成した。なお、第1層〜第3層の形成は、何
れも真空下(5×10-5Torr)でのスパッタリング法で
実施した。さらに熱線遮蔽層の表面保護として、紫外線
硬化タイプの多官能アクリル系樹脂を熱線遮蔽層の上に
乾燥後の塗布厚みが5μmとなる量塗布し、ハードコー
ト層を形成した。次に、イソフタル酸を12mol%共
重合したポリエチレンテレフタレート(共重合PET)
を280℃で溶融押し出し、急冷固化して未延伸フィル
ムとし、ついで未延伸フィルムを縦延伸温度100℃で
3.0倍延伸し、次いで横延伸開始温度110℃で終了
温度160℃倍率3.1倍で逐次延伸し、次いで190
℃で熱固定して厚み50μmの透明樹脂フィルム(B)
を作成した。この透明樹脂フィルム(B)を前述の熱線
遮蔽フィルム(A)のハードコート層とは反対面に、ウ
レタン系接着剤でラミネートし、熱線遮蔽フィルム積層
体を作成した。この積層体の特性を表1に示す。次い
で、この熱線遮蔽フィルム積層体を押出し成形用金型に
セットし、共重合PET側の面に、325℃に加熱溶融
されたポリカーボネートを射出成形し、ポリカーボネー
ト透明樹脂板(厚さ7mm)を得た。このポリカーボネ
ート板と熱線遮蔽フィルム積層体との密着性を表1に示
す。
Example 1 A 10-nm thick indium oxide layer (dielectric layer: first layer) was formed on one side of a biaxially oriented polyethylene terephthalate film (hereinafter sometimes referred to as a PET film) having a thickness of 50 μm. Provided. This first
A silver thin film layer (metal layer: second layer) having a thickness of 12 nm is formed on the surface of the layer.
Layer), and then a 20 nm-thick indium oxide layer (dielectric layer: third layer) was provided on the surface of the layer to form a heat ray shielding film (A). The first to third layers were formed by a sputtering method under vacuum (5 × 10 −5 Torr). Further, as a surface protection of the heat ray shielding layer, a UV-curable polyfunctional acrylic resin was applied on the heat ray shielding layer in an amount such that a coating thickness after drying became 5 μm to form a hard coat layer. Next, polyethylene terephthalate obtained by copolymerizing 12% by mole of isophthalic acid (copolymerized PET)
Is melt-extruded at 280 ° C., quenched and solidified to form an unstretched film, and then the unstretched film is stretched 3.0 times at a longitudinal stretching temperature of 100 ° C., and then a transverse stretching starting temperature of 110 ° C. and an ending temperature of 160 ° C. 3.1 And then stretched by a factor of 190
Transparent resin film (B) having a thickness of 50 μm by heat setting at ℃
It was created. This transparent resin film (B) was laminated with a urethane-based adhesive on the surface of the above-mentioned heat ray shielding film (A) opposite to the hard coat layer to prepare a heat ray shielding film laminate. Table 1 shows the characteristics of the laminate. Then, this heat ray shielding film laminate was set in a mold for extrusion molding, and a polycarbonate heated and melted at 325 ° C. was injection-molded on the surface on the copolymerized PET side to obtain a polycarbonate transparent resin plate (7 mm thick). Was. Table 1 shows the adhesion between the polycarbonate plate and the heat ray shielding film laminate.

【0043】[実施例2]厚さ50μmのPETフィル
ム(熱線遮蔽フィルムのベースフィルム)を製膜する
際、実施例1と同じ共重合PETを同時にダイより押し
出し実施例1と同じ方法で積層フィルムを作成した。こ
の積層フィルムから実施例1と同じ方法で熱線遮蔽フィ
ルム積層体を作成し、さらに実施例1と同じ方法でポリ
カーボネート透明樹脂板を作成した。熱線遮蔽フィルム
積層体の特性、およびポリカーボネート板と熱線遮蔽フ
ィルム積層体との密着性を表1に示す。
Example 2 When a PET film (base film of a heat ray shielding film) having a thickness of 50 μm was formed, the same copolymerized PET as in Example 1 was simultaneously extruded from a die, and a laminated film was formed in the same manner as in Example 1. It was created. A heat ray shielding film laminate was prepared from this laminated film in the same manner as in Example 1, and a polycarbonate transparent resin plate was further produced in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the properties of the heat ray shielding film laminate and the adhesion between the polycarbonate plate and the heat ray shielding film laminate.

【0044】[実施例3]共重合PETの代わりに厚さ
100μmのポリカーボネートフィルムを使用する以外
は実施例1と同じ方法で熱線遮蔽フィルム積層体を作成
し、さらに実施例1と同じ方法でポリカーボネート透明
樹脂板を作成した。熱線遮蔽フィルム積層体の特性、お
よびポリカーボネートと熱線遮蔽フィルム積層体との密
着性を表1に示す。
Example 3 A heat ray shielding film laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polycarbonate film having a thickness of 100 μm was used instead of copolymerized PET. A transparent resin plate was created. Table 1 shows the properties of the heat ray shielding film laminate and the adhesion between the polycarbonate and the heat ray shielding film laminate.

【0045】[実施例4]実施例1で作成した熱線遮蔽
フィルム積層体において、熱線遮蔽層とは反対面のポリ
エステルフィルム表面に保護層として紫外線硬化タイプ
の多官能アクリル系樹脂層を塗膜厚みが5μmとなるよ
うハードコート層を形成した。次に実施例1で得られた
透明共重合PETフィルム(B)をフィルム積層体の熱
線遮蔽層面にウレタン系接着剤でラミネートし、熱線遮
蔽フィルム積層体を作成した。この積層体の特性を表1
に示す。次いで、この熱線遮蔽フィルム積層体を実施例
1と同様にして押出し成形用金型にセットし、共重合P
ET側の面にポリカーボネートを射出成形し、ポリカー
ボネート透明樹脂板(厚さ7mm)を得た。このポリカ
ーボネート板と熱線遮蔽フィルム積層体との密着性を表
1に示す。
Example 4 In the heat ray shielding film laminate prepared in Example 1, an ultraviolet-curable polyfunctional acrylic resin layer was formed as a protective layer on the surface of the polyester film opposite to the heat ray shielding layer. Was formed to a thickness of 5 μm. Next, the transparent copolymer PET film (B) obtained in Example 1 was laminated with a urethane-based adhesive on the surface of the heat ray shielding layer of the film laminate to produce a heat ray shielding film laminate. Table 1 shows the characteristics of this laminate.
Shown in Then, this heat ray shielding film laminate was set in an extrusion mold in the same manner as in Example 1, and the copolymer P
Polycarbonate was injection-molded on the ET side to obtain a polycarbonate transparent resin plate (thickness: 7 mm). Table 1 shows the adhesion between the polycarbonate plate and the heat ray shielding film laminate.

【0046】[比較例1]厚さ50μmのPETフィル
ム(熱線遮蔽フィルムの基材フィルム)に代えて厚さ7
5μmのPETフィルムを使用し、そして共重合PET
を積層しない以外は実施例1と同じ方法で熱線遮蔽フィ
ルムを作成し、さらに実施例1と同じ方法でポリカーボ
ネート透明樹脂板を作成した。この熱線遮蔽フィルムは
実施例1のものと比較して実質的に厚さ25μmのPE
Tフィルムを厚さ50μmのPETフィルムに積層した
構成と同一である。この熱線遮蔽フィルムの特性、およ
びポリカーボネートと熱線遮蔽フィルムとの密着性を表
1に示す。
Comparative Example 1 A PET film having a thickness of 7 μm was used instead of a 50 μm-thick PET film (base film of a heat ray shielding film).
Using 5 μm PET film and copolymerized PET
A heat ray shielding film was prepared in the same manner as in Example 1 except that no resin was laminated, and a polycarbonate transparent resin plate was further produced in the same manner as in Example 1. This heat ray shielding film is substantially 25 μm thick PE as compared with that of Example 1.
The configuration is the same as the configuration in which the T film is laminated on a PET film having a thickness of 50 μm. Table 1 shows the properties of the heat ray shielding film and the adhesion between the polycarbonate and the heat ray shielding film.

【0047】[0047]

【表1】 ------------------------------------------------------------- 透明樹脂 Tm/Tmr ヘーズ 可視光 赤外光 密着性 の融点 透過率 透過率 (℃) (−) (%) (%) (%) (%) ------------------------------------------------------------- 実施例1 202 0.79 3.4 67 46 ○ 実施例2 202 0.79 3.6 68 46 ○ 実施例3 220 0.86 2.7 71 47 ○ 実施例4 202 0.79 3.5 67 46 ○ 比較例1 255 1.00 2.7 71 47 × -------------------------------------------------------------[Table 1] ---------------------------------------------- --------------- Transparent resin Tm / Tmr Haze Visible light Infrared light Adhesive melting point Transmittance Transmittance (° C) (−) (%) (%) (%) ( %) ------------------------------------------------ ------------- Example 1 202 0.79 3.4 67 46 ○ Example 2 202 0.79 3.6 68 46 ○ Example 3 220 0.86 2.7 71 47 ○ Example 4 202 0.79 3.5 67 46 ○ Comparative Example 1 255 1.00 2.7 71 47 × ---------------------- ---------------------------------------

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明によれば、透明性、熱線遮蔽性、
密着性に優れた熱線遮蔽フィルム積層体およびその積層
体と透明樹脂板との構造体を提供することができる。
According to the present invention, transparency, heat ray shielding property,
A heat ray shielding film laminate having excellent adhesion and a structure of the laminate and a transparent resin plate can be provided.

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (1)片面に熱線遮蔽層を有する熱線遮
蔽フィルム(A)、(2)透明樹脂フィルム(B)およ
び(3)透明樹脂版(C)をこの順序で互いに積層され
た熱線遮蔽透明樹脂構造体であって、(i) 該透明樹脂フ
ィルム(B)を形成する樹脂の融点(Tm)と該熱線遮
蔽フィルム(A)を形成する樹脂の融点(Tmr)との
比(Tm/Tmr)が、0.5≦(Tm/Tmr)≦
0.95の範囲を満足し、(ii) 該熱線遮蔽フィルム
(A)と該透明樹脂フィルム(B)との積層体における
ヘーズ値が5%以下、(iii) 該積層体における波長40
0〜750nmの全可視光透過率が55%以上、かつ(i
v) 該積層体における波長750〜2100nmの全赤
外線透過率が50%以下であることを特徴とする熱線遮
蔽透明樹脂構造体。
1. A heat ray wherein (1) a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side, (2) a transparent resin film (B) and (3) a transparent resin plate (C) are laminated on each other in this order. (I) a ratio (Tm) between the melting point (Tm) of the resin forming the transparent resin film (B) and the melting point (Tmr) of the resin forming the heat ray shielding film (A). / Tmr) is 0.5 ≦ (Tm / Tmr) ≦
(Ii) a haze value of 5% or less in a laminate of the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B), and (iii) a wavelength of 40 in the laminate.
The total visible light transmittance from 0 to 750 nm is 55% or more, and (i
v) A heat ray shielding transparent resin structure, wherein the laminate has a total infrared transmittance of 50% or less at a wavelength of 750 to 2100 nm.
【請求項2】 熱線遮蔽フィルム(A)が、ポリエチレ
ンテレフタレートよりなる二軸配向フィルムをベースフ
ィルムとして形成されている請求項1記載の熱線遮蔽透
明樹脂構造体。
2. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the heat ray shielding film (A) is formed using a biaxially oriented film made of polyethylene terephthalate as a base film.
【請求項3】 熱線遮蔽フィルム(A)が、ベースフィ
ルムの片面に金属層および誘電体層を交互に積層させた
熱線遮蔽層を有するフィルムである請求項1記載の熱線
遮蔽透明樹脂構造体。
3. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the heat ray shielding film (A) has a heat ray shielding layer in which a metal layer and a dielectric layer are alternately laminated on one surface of a base film.
【請求項4】 熱線遮蔽フィルム(A)のベースフィル
ムの厚みが25〜250μmの範囲である請求項1記載
の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
4. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the thickness of the base film of the heat ray shielding film (A) is in the range of 25 to 250 μm.
【請求項5】 透明樹脂フィルム(B)が、融点が18
0〜240℃である共重合ポリエチレンテレフタレート
より形成されたフィルムである請求項1記載の熱線遮蔽
透明樹脂構造体。
5. The transparent resin film (B) having a melting point of 18
The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, which is a film formed from copolymerized polyethylene terephthalate at 0 to 240 ° C.
【請求項6】 透明樹脂フィルム(B)が、ポリカーボ
ネート樹脂より形成されたフィルムである請求項1記載
の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
6. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the transparent resin film (B) is a film formed of a polycarbonate resin.
【請求項7】 透明樹脂フィルム(B)の厚みが、25
〜750μmの範囲である請求項1記載の熱線遮蔽透明
樹脂構造体。
7. The transparent resin film (B) having a thickness of 25
The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the thickness is in a range of from 750 to 750 µm.
【請求項8】 透明樹脂板(C)が、ポリカーボネート
樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アクリロニトリ
ル−スチレン共重合体、ポリスチレン樹脂、メチルメタ
クリレート−スチレン共重合体またはポリオレフィン樹
脂から形成された板である請求項1記載の熱線遮蔽透明
樹脂構造体。
8. The transparent resin plate (C) is a plate formed from a polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin, an acrylonitrile-styrene copolymer, a polystyrene resin, a methyl methacrylate-styrene copolymer or a polyolefin resin. 2. The heat ray shielding transparent resin structure according to 1.
【請求項9】 透明樹脂板(C)が、ポリカーボネート
樹脂より形成された板である請求項1記載の熱線遮蔽透
明樹脂構造体。
9. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the transparent resin plate (C) is a plate formed of a polycarbonate resin.
【請求項10】 透明樹脂板(C)の厚みが2〜15m
mの範囲である請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造
体。
10. The thickness of the transparent resin plate (C) is 2 to 15 m.
The heat-shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein m is in the range of m.
【請求項11】 熱線遮蔽フィルム(A)の透明樹脂フ
ィルム(B)が積層された反対側表面に、さらにハード
コート層を有している請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂
構造体。
11. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, further comprising a hard coat layer on the opposite surface of the heat ray shielding film (A) on which the transparent resin film (B) is laminated.
【請求項12】 熱線遮蔽フィルム(A)における熱線
遮蔽層の表面側に、透明樹脂フィルム(B)が積層され
ている請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
12. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein a transparent resin film (B) is laminated on the heat ray shielding layer of the heat ray shielding film (A).
【請求項13】 熱線遮蔽フィルム(A)における熱線
遮蔽層の反対表面側に、透明樹脂フィルム(B)が積層
されている請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
13. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein a transparent resin film (B) is laminated on the heat ray shielding film (A) on the surface opposite to the heat ray shielding layer.
【請求項14】 熱線遮蔽フィルム(A)および透明樹
脂フィルム(B)が接着剤層を介して互いに接着されて
いるか、あるいは直接両者の固着により積層されている
請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
14. The heat ray-shielding transparent resin according to claim 1, wherein the heat ray-shielding film (A) and the transparent resin film (B) are bonded to each other via an adhesive layer, or are laminated by directly fixing both. Structure.
【請求項15】 透明樹脂フィルム(B)および透明樹
脂板(C)が直接両者の表面の固着により積層されてい
る請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
15. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the transparent resin film (B) and the transparent resin plate (C) are laminated by directly fixing both surfaces.
【請求項16】 透明樹脂板(C)が、波長400〜7
50μmの全可視光透過率が30%以上である請求項1
記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
16. The transparent resin plate (C) has a wavelength of 400 to 7
The total visible light transmittance of 50 μm is 30% or more.
The heat ray shielding transparent resin structure according to the above.
【請求項17】 全体の厚みが3〜15mmの範囲であ
る請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体。
17. The heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the entire thickness is in a range of 3 to 15 mm.
【請求項18】 片面に熱線遮蔽層を有する熱線遮蔽フ
ィルム(A)および透明樹脂フィルム(B)よりなる積
層体の透明樹脂フィルム(B)側の表面において、溶融
した透明樹脂を板状に成形せしめることを特徴とする請
求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体の成形方法。
18. On the transparent resin film (B) side of a laminate comprising a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side and a transparent resin film (B), a molten transparent resin is formed into a plate shape. The method for molding a heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein
【請求項19】 片面に熱線遮蔽層を有する熱線遮蔽フ
ィルム(A)および透明樹脂フィルム(B)よりなる積
層体をその透明樹脂フィルム(B)側の表面において、
加熱された透明樹脂板(C)に熱圧着せしめることを特
徴とする請求項1記載の熱線遮蔽透明樹脂構造体の成形
方法。
19. A laminate comprising a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one side and a transparent resin film (B) is provided on the surface of the transparent resin film (B) side,
2. The method for forming a heat ray shielding transparent resin structure according to claim 1, wherein the transparent resin plate (C) is thermocompression bonded.
【請求項20】 (1)片面に熱線遮蔽層を有する熱線
遮蔽フィルム(A)および(2)透明樹脂フィルム
(B)をこの順序で互いに積層したフィルム積層体であ
って、(i) 該透明樹脂フィルム(B)を形成する樹脂の
融点(Tm)と該熱線遮蔽フィルム(A)を形成する樹
脂の融点(Tmr)との比(Tm/Tmr)が、0.5
≦(Tm/Tmr)≦0.95の範囲を満足し、(ii)
該熱線遮蔽フィルム(A)と該透明樹脂フィルム(B)
との積層体におけるヘーズ値が5%以下、(iii) 該積層
体における波長400〜750nmの全可視光透過率が
55%以上、かつ(iv) 該積層体における波長750〜
2100nmの全赤外線透過率が50%以下であること
を特徴とする熱線遮蔽フィルム積層体。
20. A film laminate comprising: (1) a heat ray shielding film (A) having a heat ray shielding layer on one surface and (2) a transparent resin film (B) laminated in this order, wherein (i) the transparent The ratio (Tm / Tmr) of the melting point (Tm) of the resin forming the resin film (B) to the melting point (Tmr) of the resin forming the heat ray shielding film (A) is 0.5.
≦ (Tm / Tmr) ≦ 0.95, and (ii)
The heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B)
And (iii) the total visible light transmittance of the laminate at a wavelength of 400 to 750 nm is 55% or more, and (iv) the wavelength of the laminate at 750 to 750.
A heat ray shielding film laminate having a total infrared transmittance of 2100 nm of 50% or less.
【請求項21】 熱線遮蔽フィルム(A)が、ポリエチ
レンテレフタレートよりなる二軸配向フィルムをベース
フィルムとして形成されている請求項20記載の熱線遮
蔽フィルム積層体。
21. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, wherein the heat ray shielding film (A) is formed using a biaxially oriented film made of polyethylene terephthalate as a base film.
【請求項22】 熱線遮蔽フィルム(A)が、ベースフ
ィルムの片面に金属層および誘電体層を交互に積層させ
た熱線遮蔽層を有するフィルムである請求項20記載の
熱線遮蔽フィルム積層体。
22. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, wherein the heat ray shielding film (A) is a film having a heat ray shielding layer in which a metal layer and a dielectric layer are alternately laminated on one surface of a base film.
【請求項23】 熱線遮蔽フィルム(A)のベースフィ
ルムの厚みが25〜250μmの範囲である請求項20
記載のフィルム積層体。
23. The thickness of the base film of the heat ray shielding film (A) is in the range of 25 to 250 μm.
The film laminate according to the above.
【請求項24】 透明樹脂フィルム(B)が、融点が1
80〜240℃である共重合ポリエチレンテレフタレー
トより形成されたフィルムである請求項20記載の熱線
遮蔽フィルム積層体。
24. The transparent resin film (B) having a melting point of 1
The heat ray shielding film laminate according to claim 20, which is a film formed from copolymerized polyethylene terephthalate having a temperature of 80 to 240 ° C.
【請求項25】 透明樹脂フィルム(B)が、ポリカー
ボネート樹脂より形成されたフィルムである請求項20
記載の熱線遮蔽フィルム積層体。
25. The transparent resin film (B) is a film formed of a polycarbonate resin.
The heat ray shielding film laminate according to the above.
【請求項26】 透明樹脂フィルム(B)の厚みが、2
5〜750μmの範囲である請求項20記載の熱線遮蔽
フィルム積層体。
26. The thickness of the transparent resin film (B) is 2
The heat ray shielding film laminate according to claim 20, which has a range of 5 to 750 µm.
【請求項27】 熱線遮蔽フィルム(A)の透明樹脂フ
ィルム(B)が積層された反対側表面に、さらにハード
コート層を有している請求項20記載の熱線遮蔽フィル
ム積層体。
27. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, further comprising a hard coat layer on the opposite surface of the heat ray shielding film (A) on which the transparent resin film (B) is laminated.
【請求項28】 熱線遮蔽フィルム(A)における熱線
遮蔽層の表面側に、透明樹脂フィルム(B)が積層され
ている請求項20記載の熱線遮蔽フィルム積層体。
28. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, wherein a transparent resin film (B) is laminated on a surface side of the heat ray shielding layer in the heat ray shielding film (A).
【請求項29】 熱線遮蔽フィルム(A)における熱線
遮蔽層の反対表面側に、透明樹脂フィルム(B)が積層
されている請求項20記載の熱線遮蔽フィルム積層体。
29. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, wherein a transparent resin film (B) is laminated on the heat ray shielding film (A) on the surface opposite to the heat ray shielding layer.
【請求項30】 熱線遮蔽フィルム(A)および透明樹
脂フィルム(B)が接着剤層を介して互いに接着されて
いるか、あるいは直接両者の固着により積層されている
請求項20記載の熱線遮蔽フィルム積層体。
30. The heat ray shielding film laminate according to claim 20, wherein the heat ray shielding film (A) and the transparent resin film (B) are adhered to each other via an adhesive layer, or are laminated by directly fixing both. body.
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JP2006301487A (en) * 2005-04-25 2006-11-02 Nidec Copal Corp Near-infrared ray cut filter

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