JPH11224630A - Photo-electron generation method and device - Google Patents

Photo-electron generation method and device

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JPH11224630A
JPH11224630A JP2589898A JP2589898A JPH11224630A JP H11224630 A JPH11224630 A JP H11224630A JP 2589898 A JP2589898 A JP 2589898A JP 2589898 A JP2589898 A JP 2589898A JP H11224630 A JPH11224630 A JP H11224630A
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photocathode
light beam
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prisms
cross
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Akira Tsunemi
明良 常見
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain low emittance when generated electrons are RF accelerated. SOLUTION: When photo-electrons are generated from the front face of a photo cathode 12 by radiating a light beam 42 from a slant direction against the surface of the photo cathode 12, the cross section of a light beam 42 being incident on the photo cathode 12 is formed into elliptical short in a beam incident direction so that the light beam shape on the surface of the photo cathode 12 becomes a perfect circle or an approximate circle.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトカソード表
面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フォト
カソード正面から光電子を発生させる光電子発生方法及
び装置に係り、特に、発生した電子を高周波(RF)加
速したとき、低いエミッタンスを得ることが可能な光電
子発生方法及び装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for generating photoelectrons from the front of a photocathode by irradiating a photocathode surface with a light beam from an oblique direction. The present invention relates to a method and an apparatus for generating photoelectrons capable of obtaining a low emittance when accelerated by radio frequency (RF).

【0002】[0002]

【従来の技術】ライナック等の直線加速器やサイクロト
ロン等の回転加速器を含む電子加速器における電子源に
は、従来、一般的にサーマルカソードから発生する熱電
子が利用されてきたため、発生する電子束を短パルス、
低エミッタンスにすることが困難であった。
2. Description of the Related Art As electron sources in electron accelerators including linear accelerators such as linacs and rotary accelerators such as cyclotrons, thermions generated from a thermal cathode have conventionally been generally used. pulse,
It was difficult to reduce the emittance.

【0003】従って、近年、フォトカソードから発生す
る光電子を利用する方法が、発生する電子束を短パルス
化することが可能であるため、用いられるようになって
いる。このような光電子発生装置の一つに、図8に示す
如く、レーザ照射により発生する光電子をマイクロ波で
加速する高周波(RF)ガン10がある。
Accordingly, in recent years, a method utilizing photoelectrons generated from a photocathode has been used because it is possible to shorten the generated electron flux to a short pulse. As one of such photoelectron generators, there is a radio frequency (RF) gun 10 for accelerating photoelectrons generated by laser irradiation with a microwave, as shown in FIG.

【0004】このRFガン10では、ターゲットである
フォトカソード12の表面上に短いパルスのレーザ光8
を照射することによって、フォトカソード12の表面か
ら光電子を飛び出させている。
[0004] In this RF gun 10, a short pulse laser beam 8 is placed on the surface of a photocathode 12 as a target.
Irradiates the photoelectrons from the surface of the photocathode 12.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常、
レーザ光8はフォトカソード12の表面に対して垂直で
はなく、ある入射角θをもって斜めに入射されるため、
例えばレーザ光8の断面形状が円形であったとすると、
フォトカソード12表面上の光ビーム形状は、図8中に
示した如く、ビーム入射方向(図の上下方向)に長い楕
円形になってしまい、発生した電子をRF加速したと
き、低いエミッタンスが得られないという問題点を有し
ていた。
However, usually,
Since the laser beam 8 is not perpendicular to the surface of the photocathode 12 but is obliquely incident at a certain incident angle θ,
For example, if the cross section of the laser beam 8 is circular,
As shown in FIG. 8, the light beam shape on the surface of the photocathode 12 becomes an elliptical shape that is long in the beam incident direction (vertical direction in the figure). When the generated electrons are accelerated by RF, a low emittance is obtained. There was a problem that it could not be done.

【0006】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、発生した電子をRF加速したとき、
低いエミッタンスを得ることを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. When the generated electrons are accelerated by RF,
It is an object to obtain a low emittance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、フォトカソー
ド表面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フ
ォトカソード正面から光電子を発生させる際に、前記フ
ォトカソードに入射される光ビームの断面形状を、ビー
ム入射方向が短い楕円形とし、フォトカソード表面上の
光ビーム形状が、真円又は略円形となるようにして、前
記課題を解決したものである。
According to the present invention, there is provided a photocathode which emits a light beam from an oblique direction to a photocathode surface to generate photoelectrons from the front of the photocathode. The above-mentioned problem has been solved by making the cross-sectional shape of the laser beam into an elliptical shape in which the beam incident direction is short and making the light beam shape on the photocathode surface a perfect circle or a substantially circular shape.

【0008】本発明は、又、同様の光電子発生装置にお
いて、前記フォトカソードに入射される光ビームの断面
形状を、ビーム入射方向が短い楕円形とするビーム楕円
化手段を設け、フォトカソード表面上の光ビーム形状
が、真円又は略円形となるようにして、同様に前記課題
を解決したものである。
According to the present invention, there is also provided a similar photoelectron generator, wherein a beam elliptic means for making a cross-sectional shape of a light beam incident on the photocathode an elliptical beam with a short beam incident direction is provided. The above-mentioned problem is also solved by making the shape of the light beam of a circle or a substantially circle.

【0009】更に、前記フォトカソードの直前で、前記
光ビームの断面形状をモニタする手段を設けたものであ
る。
Further, a means for monitoring a sectional shape of the light beam immediately before the photocathode is provided.

【0010】又、前記ビーム楕円化手段を、ブリュース
タープリズムとしたものである。
Further, the beam elliptical means is a Brewster prism.

【0011】更に、前記ブリュースタープリズムを少な
くとも4個用いて、該プリズム群の前後で光ビームの光
軸が変化しないようにしたものである。
Furthermore, at least four Brewster prisms are used so that the optical axis of the light beam does not change before and after the prism group.

【0012】更に、複数のプリズムをギアやベルトで連
結して、互いに連動して角度調整可能としたものであ
る。
Further, a plurality of prisms are connected by a gear or a belt so that the angle can be adjusted in conjunction with each other.

【0013】又、前記ビーム楕円化手段を、少なくとも
1対のシリンドリカルレンズとして、該シリンドリカル
レンズの前後で光ビームの光軸が変化しないようにした
ものである。
Further, the beam elliptical means is at least one pair of cylindrical lenses so that the optical axis of the light beam does not change before and after the cylindrical lenses.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】本実施形態に係るフォトカソード照射用レ
ーザ光学系は、図1に示す如く、断面形状が円形のレー
ザパルスビーム42を発生するレーザ光源40と、例え
ば反射ミラー44によって方向変換されたレーザパルス
ビーム42を集束して、RFガン10のフォトカソード
12に斜めの方向から入射するための伝送光学系50と
を、主に備えている。
As shown in FIG. 1, a laser optical system for photocathode irradiation according to the present embodiment includes a laser light source 40 for generating a laser pulse beam 42 having a circular cross-sectional shape, and a laser beam whose direction has been changed by a reflection mirror 44, for example. A transmission optical system 50 for focusing the pulse beam 42 and entering the photocathode 12 of the RF gun 10 from an oblique direction is mainly provided.

【0016】前記伝送光学系50は、例えば、反射ミラ
ー44で方向変換された、図2(a)に示すような、ビ
ームの進行と垂直な方向の位置rに関する断面強度分布
を有するレーザパルスビーム42を、図2(b)に示す
ような分布とするための空間フィルタ(例えばピンホー
ルアパーチャ)52と、該空間フィルタ52を通過した
レーザパルスのビーム径を広げるためのビームエクスパ
ンダ54と、該ビームエクスパンダ54によって広げら
れた、図2(c)に示すような強度分布形状のうち、両
端部分を遮蔽するためのマスク56と、該マスク56の
開口部を通過した、断面が略矩形状のレーザパルスビー
ムを集束し、図2(d)に示すような幅の狭い断面強度
分布として、前記フォトカソード12に照射するための
凸レンズ58と、該凸レンズ58によって集束されたレ
ーザビーム42の方向を変換して、前記RFガン10の
フォトカソード12に照射するための反射ミラー60と
を備えている。
The transmission optical system 50 is, for example, a laser pulse beam having a sectional intensity distribution with respect to a position r in a direction perpendicular to the beam progression, as shown in FIG. A spatial filter (for example, a pinhole aperture) 52 for making 42 a distribution as shown in FIG. 2B, a beam expander 54 for expanding the beam diameter of the laser pulse passing through the spatial filter 52, A mask 56 for shielding both end portions of the intensity distribution shape as shown in FIG. 2C expanded by the beam expander 54, and a cross section having passed through an opening of the mask 56 and having a substantially rectangular cross section. A convex lens 58 for converging a laser pulse beam having a shape and irradiating the photocathode 12 with a narrow sectional intensity distribution as shown in FIG. By changing the direction of the laser beam 42 that is focused by the convex lens 58, and a reflecting mirror 60 for irradiating the photo cathode 12 of the RF gun 10.

【0017】このような伝送光学系50において、従来
は、どの場所においても、レーザパルスビーム42の断
面形状が円形であったのに対し、本発明では、前記伝送
光学系50の任意の場所に、図3に示すような、例えば
2個のブリュースタープリズム70、72からなるビー
ム楕円化装置68を挿入して、レーザパルスビーム42
の断面形状を、ビーム入射方向(図3の上下方向)が短
い楕円形としている。
Conventionally, in such a transmission optical system 50, the cross section of the laser pulse beam 42 is circular at any location, whereas in the present invention, the laser pulse beam 42 is located at an arbitrary location in the transmission optical system 50. As shown in FIG. 3, a beam elliptical device 68 including, for example, two Brewster prisms 70 and 72 is inserted into the laser pulse beam 42.
Is an elliptical shape in which the beam incident direction (the vertical direction in FIG. 3) is short.

【0018】例えば、1個のブリュースタープリズム7
0を用い、直径aのレーザビームを該プリズム70に垂
直入射すると、プリズム70の出側における図3の縦方
向のビーム径bは、次式で表わされる。
For example, one Brewster prism 7
When a laser beam having a diameter a is perpendicularly incident on the prism 70 using 0, the beam diameter b in the vertical direction in FIG. 3 at the exit side of the prism 70 is expressed by the following equation.

【0019】 b=(cos θb/cos θ)*a …(1)B = (cos θb / cos θ) * a (1)

【0020】ここで、θbはブリュースター角、θはプ
リズムの頂角である。この場合、横方向幅はaのままで
あるため、楕円率αは次式で表わされる。
Here, θb is the Brewster angle, and θ is the vertex angle of the prism. In this case, since the width in the horizontal direction remains a, the ellipticity α is expressed by the following equation.

【0021】 α=b/a=(cos θb/cos θ) …(2)Α = b / a = (cos θb / cos θ) (2)

【0022】同様に、図3に示す如く、2個のブリュー
スタープリズム70、72を用いた場合には、楕円率α
は、次式に示す如くとなり、より高い楕円率の楕円ビー
ムが得られる。
Similarly, as shown in FIG. 3, when two Brewster prisms 70 and 72 are used, the ellipticity α
Is as shown in the following equation, and an elliptical beam having a higher ellipticity can be obtained.

【0023】 α=c/a=(cos θb/cos θ)2 …(3)Α = c / a = (cos θb / cos θ) 2 (3)

【0024】ここで、cは、2個のプリズム70、72
を出た後の出射レーザビーム幅(短軸方向)である。
Here, c is two prisms 70 and 72
Is the width of the emitted laser beam (in the short axis direction) after exiting.

【0025】なお、伝送光学系50に挿入するブリュー
スタープリズムの数は、1個あるいは2個に限定され
ず、例えば図4に示す如く、4個組合せて用いることも
できる。この場合、楕円率αは、次式に示す如くとな
る。
The number of Brewster prisms to be inserted into the transmission optical system 50 is not limited to one or two. For example, four Brewster prisms can be used in combination as shown in FIG. In this case, the ellipticity α is as shown in the following equation.

【0026】 α=e/a=(cos θb/cos θ)4 …(4)Α = e / a = (cos θb / cos θ) 4 (4)

【0027】ここで、eは、4個のプリズム70、7
2、74、76を出た後の出射レーザビーム幅(短軸方
向)である。
Here, e is the four prisms 70 and 7
It is the width of the emitted laser beam (short axis direction) after exiting from 2, 74 and 76.

【0028】例えば、プリズムに用いたガラスの屈折率
n=1.5の場合、ブリュースター角θb=56°とな
り、プリズムの頂角θ=34°であれば、楕円率αは
0.207となる。
For example, when the refractive index of the glass used for the prism is n = 1.5, the Brewster angle θb = 56 °, and when the apex angle of the prism θ = 34 °, the ellipticity α is 0.207. Become.

【0029】図4に示す如く、プリズムを4個組合せた
場合には、出射光軸を入射光軸と同一に戻すことが可能
となり、従来の伝送光学系に対するプリズムの挿入や除
去が容易となる。
As shown in FIG. 4, when four prisms are combined, the outgoing optical axis can be returned to the same as the incident optical axis, and the insertion and removal of the prism from the conventional transmission optical system becomes easy. .

【0030】なお、プリズムの数は2個あるいは4個に
限定されず、1個、3個又は5個以上とすることができ
る。
The number of prisms is not limited to two or four, but may be one, three, five or more.

【0031】本実施形態においては、ブリュースタープ
リズムを用いているので、偏平率を容易に変えることが
できる。
In the present embodiment, since the Brewster prism is used, the flatness can be easily changed.

【0032】又、前記のように複数のプリズムを用いる
場合、角度の微調整が大変であるが、図5に例示する如
く、ギヤ80、82を有するプリズム角度連動装置78
を設け、各プリズム70、72を該ギヤ80、82で連
結し、角度の微調整の際に、それぞれが連動するように
して、調整を容易とすることができる。なお、図5の例
では、ギヤを用いていたが、ギヤの代わりにプーリとベ
ルトの組合せを用いることも可能である。
When a plurality of prisms are used as described above, fine adjustment of the angle is difficult, but as shown in FIG. 5, a prism angle interlocking device 78 having gears 80 and 82.
Are provided, and the prisms 70 and 72 are connected by the gears 80 and 82 so that they can be interlocked with each other when the angle is finely adjusted, thereby facilitating the adjustment. In the example shown in FIG. 5, a gear is used, but a combination of a pulley and a belt can be used instead of the gear.

【0033】又、フォトカソード12に入射される光ビ
ームの断面形状を、ビーム入射方向が短い楕円形とする
ビーム楕円化装置は、前記ブリュースタープリズムを用
いたものに限定されず、図6に示すビーム楕円化装置8
4の如く、例えば2つのシリンドリカルレンズ86、8
8を組合せて構成することができる。
A beam ellipticizer for making the cross-sectional shape of the light beam incident on the photocathode 12 into an elliptical shape in which the beam incident direction is short is not limited to the one using the Brewster prism. Illustrated beam elliptical device 8
4, for example, two cylindrical lenses 86, 8
8 can be combined.

【0034】この場合には、光軸が変化しないので、従
来の伝送光学系に対する配設が容易である。
In this case, since the optical axis does not change, the arrangement with respect to the conventional transmission optical system is easy.

【0035】更に、図7に示す如く、フォトカソード1
2の直前にハーフミラー92を有するビーム断面モニタ
装置90を設け、該ハーフミラー92によって取り出し
た光ビームをスクリーン94上に写し出すことにより、
フォトカソード12に照射される光ビームの断面形状を
モニタできるようにすることも可能である。
Further, as shown in FIG.
A beam cross-section monitor device 90 having a half mirror 92 is provided immediately before 2 and the light beam extracted by the half mirror 92 is projected onto a screen 94,
It is also possible to monitor the cross-sectional shape of the light beam applied to the photocathode 12.

【0036】このようにすれば、フォトカソード12表
面上の光ビームの断面形状を確実に円形に近付けること
ができる。
In this way, the cross-sectional shape of the light beam on the surface of the photocathode 12 can be surely approximated to a circle.

【0037】なお、前記空間フィルタ52を、ビームの
進行と垂直な方向の位置によって透過率の異なるガウシ
アンフィルタとして、該空間フィルタ52を通過するレ
ーザビームの断面形状を、きれいなガウス分布に整形す
ることもできる。光路中に挿入する空間フィルタの種類
は、ピンボールアバーチャやガウシアンフィルタに限定
されず、レーザビームの断面形状をトップフラットな形
状や、他の自由な形に整形することもできる。
It is to be noted that the spatial filter 52 is a Gaussian filter having a different transmittance depending on the position in the direction perpendicular to the traveling direction of the beam, and the sectional shape of the laser beam passing through the spatial filter 52 is shaped into a clean Gaussian distribution. Can also. The type of the spatial filter inserted into the optical path is not limited to the pinball aperture or the Gaussian filter, and the cross-sectional shape of the laser beam can be shaped into a top flat shape or another free shape.

【0038】なお、前記実施形態においては、本発明
が、ライナック等の電子加速器に光電子を入射するため
のRFガンに適用されていたが、本発明の適用対象はこ
れに限定されない。
In the above embodiment, the present invention is applied to an RF gun for injecting photoelectrons into an electron accelerator such as a linac, but the present invention is not limited to this.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明によれば、照射する光ビームがフ
ォトカソード表面上で真円又は略円形となるため、発生
した電子を例えばRF加速したとき、低いエミッタンス
を得ることが可能となる。
According to the present invention, a light beam to be irradiated becomes a perfect circle or a substantially circular shape on the surface of the photocathode. Therefore, when the generated electrons are accelerated by RF, for example, a low emittance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態におけるフォトカソード照射
用レーザ光学系の全体構成を示す光路図
FIG. 1 is an optical path diagram showing an overall configuration of a laser optical system for photocathode irradiation according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記フォトカソード照射用レーザ光学系の各所
におけるビーム強度分布の変化を示す線図
FIG. 2 is a diagram showing a change in beam intensity distribution at various points in the laser optical system for photocathode irradiation.

【図3】前記フォトカソード照射用レーザ光学系の伝送
光学系に挿入される、本発明によるブリュースタープリ
ズムを2個用いたビーム楕円化装置の構成例及び作用を
示す平面図及び断面図
FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view showing a configuration example and operation of a beam elliptical apparatus using two Brewster prisms according to the present invention inserted into a transmission optical system of the laser optical system for photocathode irradiation.

【図4】同じくプリズムを4個用いたビーム楕円化装置
の構成例を示す平面図及び断面図
FIG. 4 is a plan view and a cross-sectional view showing a configuration example of a beam elliptical apparatus similarly using four prisms.

【図5】同じくプリズム角度連動装置の構成例を示す平
面図
FIG. 5 is a plan view showing a configuration example of the prism angle interlocking device.

【図6】同じく一対のシリンドリカルレンズを用いたビ
ーム楕円化装置の構成例を示す平面図
FIG. 6 is a plan view showing a configuration example of a beam ellipse using the same pair of cylindrical lenses.

【図7】同じくビーム断面モニタ装置の構成例を示す光
路図
FIG. 7 is an optical path diagram showing a configuration example of a beam cross section monitoring apparatus.

【図8】従来のRFガンへのレーザ光の入射状態を示す
断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which laser light is incident on a conventional RF gun.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8…レーザ光 10…高周波(RF)ガン 12…フォトカソード 40…レーザ光源 42…レーザパルスビーム 44…反射ミラー 50…伝送光学系 52…空間フィルタ 54…ビームエクスパンダ 56…マスク 58…凸レンズ 68、84…ビーム断面楕円化装置 70、72、74、76…ブリュースタープリズム 78…プリズム角度連動装置 80、82…ギヤ 86、88…シリンドリカルレンズ 90…ビーム断面モニタ装置 92…ハーフミラー 94…スクリーン Reference Signs List 8 laser light 10 radio frequency (RF) gun 12 photocathode 40 laser light source 42 laser pulse beam 44 reflecting mirror 50 transmission optical system 52 spatial filter 54 beam expander 56 mask 58 convex lens 68 84: Beam cross section elliptical apparatus 70, 72, 74, 76: Brewster prism 78: Prism angle interlocking apparatus 80, 82: Gear 86, 88: Cylindrical lens 90: Beam cross section monitoring apparatus 92: Half mirror 94: Screen

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フォトカソード表面に対して斜めの方向か
ら光ビームを照射して、フォトカソード正面から光電子
を発生させる際に、 前記フォトカソードに入射される光ビームの断面形状
を、ビーム入射方向が短い楕円形とし、フォトカソード
表面上の光ビーム形状が、真円又は略円形となるように
したことを特徴とする光電子発生方法。
When a light beam is irradiated from an oblique direction to a photocathode surface to generate photoelectrons from the front of the photocathode, a cross-sectional shape of the light beam incident on the photocathode is changed in a beam incident direction. Wherein the shape of the light beam on the photocathode surface is a perfect circle or a substantially circular shape.
【請求項2】フォトカソード表面に対して斜めの方向か
ら光ビームを照射して、フォトカソード正面から光電子
を発生させる光電子発生装置において、 前記フォトカソードに入射される光ビームの断面形状
を、ビーム入射方向が短い楕円形とするビーム楕円化手
段を設け、 フォトカソード表面上の光ビーム形状が、真円又は略円
形となるようにしたことを特徴とする光電子発生装置。
2. A photoelectron generator for irradiating a photocathode surface with a light beam from an oblique direction to generate photoelectrons from the front of the photocathode. A photoelectron generator, comprising: a beam elliptic unit having an elliptical shape having a short incident direction, wherein a light beam shape on a photocathode surface is a perfect circle or a substantially circular shape.
【請求項3】請求項2において、更に、前記フォトカソ
ードの直前で、前記光ビームの断面形状をモニタする手
段が設けられていることを特徴とする光電子発生装置。
3. The photoelectron generator according to claim 2, further comprising means for monitoring a cross-sectional shape of the light beam immediately before the photocathode.
【請求項4】請求項2又は3において、前記ビーム楕円
化手段が、ブリュースタープリズムであることを特徴と
する光電子発生装置。
4. The photoelectron generator according to claim 2, wherein said beam elliptical means is a Brewster prism.
【請求項5】請求項4において、前記ブリュースタープ
リズムが少なくとも4個用いられ、該プリズム群の前後
で光ビームの光軸が変化しないようにされていることを
特徴とする光電子発生装置。
5. The photoelectron generator according to claim 4, wherein at least four Brewster prisms are used, and the optical axis of the light beam does not change before and after the group of prisms.
【請求項6】請求項4又は5において、複数のプリズム
がギアやベルトで連結され、互いに連動して角度調整可
能とされていることを特徴とする光電子発生装置。
6. The photoelectron generator according to claim 4, wherein the plurality of prisms are connected by a gear or a belt, and the angles can be adjusted in conjunction with each other.
【請求項7】請求項2又は3において、前記ビーム楕円
化手段が、少なくとも1対のシリンドリカルレンズであ
ることを特徴とする光電子発生装置。
7. The photoelectron generator according to claim 2, wherein said beam elliptical means is at least one pair of cylindrical lenses.
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