JPH11222662A - 溶射装置および溶射方法 - Google Patents
溶射装置および溶射方法Info
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- JPH11222662A JPH11222662A JP10022369A JP2236998A JPH11222662A JP H11222662 A JPH11222662 A JP H11222662A JP 10022369 A JP10022369 A JP 10022369A JP 2236998 A JP2236998 A JP 2236998A JP H11222662 A JPH11222662 A JP H11222662A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高融点物質による高硬度の被膜を得るととも
に、溶射による被膜の膜厚の増大を図る。 【解決手段】 燃料と酸素ガスとからなる混合ガスを導
入して該混合ガスを燃焼する燃焼室２と、該燃焼室２に
配されて混合ガスに点火する点火手段２１と、発生した
燃焼ガスを噴出して高速フレームＦを形成する膨張ノズ
ル３と、該高速フレームに投入するセラミックスとされ
る溶射材を溶融する溶融手段４とを具備する。
に、溶射による被膜の膜厚の増大を図る。 【解決手段】 燃料と酸素ガスとからなる混合ガスを導
入して該混合ガスを燃焼する燃焼室２と、該燃焼室２に
配されて混合ガスに点火する点火手段２１と、発生した
燃焼ガスを噴出して高速フレームＦを形成する膨張ノズ
ル３と、該高速フレームに投入するセラミックスとされ
る溶射材を溶融する溶融手段４とを具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶射装置および溶
射方法に係り、特に、セラミックス等の溶射に用いて好
適な技術に関する。
射方法に係り、特に、セラミックス等の溶射に用いて好
適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ＨＶＯＦ（high velocity ox
ygen fuel ；高速フレーム溶射）により、金属等を溶射
することが行われていた。このような溶射装置Ｇとして
は、図３に示すように、プロピレン、水素、プロパン等
の燃料と酸素との燃焼ガスを、燃焼室Ｇ１に導入して点
火手段Ｇ２により点火し、膨張ノズルＧ３から噴出する
とともに、金属等の溶射材を図３に矢印Ｍで示すように
添加することにより高速フレーム溶射をおこなうもので
ある。また、プラズマガスを利用したプラズマ溶射を利
用する場合があった。
ygen fuel ；高速フレーム溶射）により、金属等を溶射
することが行われていた。このような溶射装置Ｇとして
は、図３に示すように、プロピレン、水素、プロパン等
の燃料と酸素との燃焼ガスを、燃焼室Ｇ１に導入して点
火手段Ｇ２により点火し、膨張ノズルＧ３から噴出する
とともに、金属等の溶射材を図３に矢印Ｍで示すように
添加することにより高速フレーム溶射をおこなうもので
ある。また、プラズマガスを利用したプラズマ溶射を利
用する場合があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
溶射装置では、溶射材が、Ｍａｃｈ３〜６の高速で溶射
されるため、気孔が生じにくく高硬度の被膜を得ること
ができるが、フレーム中の温度が最高２７００℃程度と
セラミックスの融点である２０００℃〜３０００℃と同
等または低いため、セラミックスを瞬時に溶射すること
ができないため、セラミックスを溶射材とする溶射には
使用できなかった。また、プラズマ溶射の場合には、セ
ラミックスの融点まで加熱することが可能であるが、溶
射材が、Ｍａｃｈ１以下の速度で溶射されるため、高硬
度の被膜を得ることが困難であった。
溶射装置では、溶射材が、Ｍａｃｈ３〜６の高速で溶射
されるため、気孔が生じにくく高硬度の被膜を得ること
ができるが、フレーム中の温度が最高２７００℃程度と
セラミックスの融点である２０００℃〜３０００℃と同
等または低いため、セラミックスを瞬時に溶射すること
ができないため、セラミックスを溶射材とする溶射には
使用できなかった。また、プラズマ溶射の場合には、セ
ラミックスの融点まで加熱することが可能であるが、溶
射材が、Ｍａｃｈ１以下の速度で溶射されるため、高硬
度の被膜を得ることが困難であった。
【０００４】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、以下の目的を達成しようとするものである。 高融点物質による高硬度の被膜を得ること。 傾斜機能材を得ること。
ので、以下の目的を達成しようとするものである。 高融点物質による高硬度の被膜を得ること。 傾斜機能材を得ること。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、燃料と酸素ガ
スとからなる混合ガスを導入して該混合ガスを燃焼する
燃焼室と、該燃焼室に配されて混合ガスに点火する点火
手段と、発生した燃焼ガスを噴出して高速フレームを形
成する膨張ノズルと、該高速フレームに投入する溶射材
を溶融する溶融手段とを具備する溶射装置により溶射を
おこなうという技術により上記課題を解決した。また、
本発明において、前記膨張ノズルには、溶射材を供給す
る溶射材供給手段が接続され、前記膨張ノズルに溶射材
を供給して溶射をおこなうという技術を採用することが
できる。本発明において、前記溶射材としては、セラミ
ックスが適用される技術が適応される。また、本発明で
は、前記溶射材が、少なくとも２種類以上とされて、そ
の供給比が被溶射位置に対して傾斜可能とされる技術が
採用される。
スとからなる混合ガスを導入して該混合ガスを燃焼する
燃焼室と、該燃焼室に配されて混合ガスに点火する点火
手段と、発生した燃焼ガスを噴出して高速フレームを形
成する膨張ノズルと、該高速フレームに投入する溶射材
を溶融する溶融手段とを具備する溶射装置により溶射を
おこなうという技術により上記課題を解決した。また、
本発明において、前記膨張ノズルには、溶射材を供給す
る溶射材供給手段が接続され、前記膨張ノズルに溶射材
を供給して溶射をおこなうという技術を採用することが
できる。本発明において、前記溶射材としては、セラミ
ックスが適用される技術が適応される。また、本発明で
は、前記溶射材が、少なくとも２種類以上とされて、そ
の供給比が被溶射位置に対して傾斜可能とされる技術が
採用される。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る溶射装置およ
び溶射方法の一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１ないし図２において、符号１は溶融装置、２は燃焼
室、３は膨張ノズル、４は溶融手段、Ｈは被溶射表面で
ある。
び溶射方法の一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１ないし図２において、符号１は溶融装置、２は燃焼
室、３は膨張ノズル、４は溶融手段、Ｈは被溶射表面で
ある。
【０００７】溶融装置１は、図１に示すように、溶射ガ
ン１Ａと、溶融手段４とを有するものとされ、溶射ガン
１Ａが、燃料と酸素ガスとからなる混合ガスを導入して
該混合ガスを燃焼する燃焼室２と、発生した燃焼ガスを
噴出して高速フレームＦを形成する膨張ノズル３とを具
備するものとされる。
ン１Ａと、溶融手段４とを有するものとされ、溶射ガン
１Ａが、燃料と酸素ガスとからなる混合ガスを導入して
該混合ガスを燃焼する燃焼室２と、発生した燃焼ガスを
噴出して高速フレームＦを形成する膨張ノズル３とを具
備するものとされる。
【０００８】燃焼室２には、混合ガスに点火する点火手
段（点火プラグ）２１が燃焼室２内部に配され、燃料を
供給する燃料供給手段２２と、酸素ガスを供給する酸素
ガス供給手段２３とが接続される。
段（点火プラグ）２１が燃焼室２内部に配され、燃料を
供給する燃料供給手段２２と、酸素ガスを供給する酸素
ガス供給手段２３とが接続される。
【０００９】前記燃料としては、水素ガス、プロパン、
プロピレン、灯油等が適用される。膨張ノズル３には、
例えば金属等とされる低融点の溶射材を供給するための
溶射材供給手段３１が接続される。この溶射材供給手段
３１は、接続しない構成とすることも可能である。
プロピレン、灯油等が適用される。膨張ノズル３には、
例えば金属等とされる低融点の溶射材を供給するための
溶射材供給手段３１が接続される。この溶射材供給手段
３１は、接続しない構成とすることも可能である。
【００１０】溶融手段４は、高速フレームを形成する膨
張ノズル３の下流側に位置してセラミックス等の高融点
の溶射材を溶融して高速フレームＦに投入するものとさ
れ、該高融点の溶射材を供給するための溶射材供給手段
４１が接続される。溶融手段４としては、例えばアセチ
レンバーナかまたは、プラズマガンが適用され、アセチ
レンと酸素等またはプラズマ等の熱源を供給する、熱源
供給手段４２が接続される。
張ノズル３の下流側に位置してセラミックス等の高融点
の溶射材を溶融して高速フレームＦに投入するものとさ
れ、該高融点の溶射材を供給するための溶射材供給手段
４１が接続される。溶融手段４としては、例えばアセチ
レンバーナかまたは、プラズマガンが適用され、アセチ
レンと酸素等またはプラズマ等の熱源を供給する、熱源
供給手段４２が接続される。
【００１１】このような溶射装置１においては、燃料供
給手段２２によって燃料を供給し、かつ、酸素ガス供給
手段２３により酸素ガスを供給して混合し、該混合ガス
を燃焼室２に導入して、該混合ガスに点火プラグ２１に
よって点火して、燃焼ガスを膨張ノズル３から噴出させ
ることで高速フレームＦを形成する。このとき、高速フ
レームＦの温度は、２５００℃〜２７００℃程度とさ
れ、膨張ノズル３からの噴出速度が、Ｍａｃｈ３〜Ｍａ
ｃｈ６程度に設定される。そして、熱源供給手段４２に
より熱源を溶融手段４に供給するとともに、溶射材供給
手段４１により高融点の溶射材を溶融手段４に供給して
溶融する。このとき、溶融材の温度は、セラミックスの
融点とされる２０００℃〜３０００℃程度以上に設定さ
れて、この溶融した溶射材を高速フレームＦに滴下する
ことにより、高速フレームＦに連続的または間欠的に供
給して図２に示す被溶射表面Ｈに溶射をおこなう。
給手段２２によって燃料を供給し、かつ、酸素ガス供給
手段２３により酸素ガスを供給して混合し、該混合ガス
を燃焼室２に導入して、該混合ガスに点火プラグ２１に
よって点火して、燃焼ガスを膨張ノズル３から噴出させ
ることで高速フレームＦを形成する。このとき、高速フ
レームＦの温度は、２５００℃〜２７００℃程度とさ
れ、膨張ノズル３からの噴出速度が、Ｍａｃｈ３〜Ｍａ
ｃｈ６程度に設定される。そして、熱源供給手段４２に
より熱源を溶融手段４に供給するとともに、溶射材供給
手段４１により高融点の溶射材を溶融手段４に供給して
溶融する。このとき、溶融材の温度は、セラミックスの
融点とされる２０００℃〜３０００℃程度以上に設定さ
れて、この溶融した溶射材を高速フレームＦに滴下する
ことにより、高速フレームＦに連続的または間欠的に供
給して図２に示す被溶射表面Ｈに溶射をおこなう。
【００１２】上述のようにおこなった溶射においては、
溶射材がＭａｃｈ３〜Ｍａｃｈ６程度の高速フレームＦ
により、被溶射表面Ｈに溶射されるため、気泡が生じに
くく、形成される溶射被膜を、緻密でかつ高硬質なもの
とすることができる、また、高速フレームＦにより高速
で溶射を行うため、前処理としてブラストすることなく
溶射ができ、かつ、溶射による被膜の膜厚の増大を図る
ことができる。
溶射材がＭａｃｈ３〜Ｍａｃｈ６程度の高速フレームＦ
により、被溶射表面Ｈに溶射されるため、気泡が生じに
くく、形成される溶射被膜を、緻密でかつ高硬質なもの
とすることができる、また、高速フレームＦにより高速
で溶射を行うため、前処理としてブラストすることなく
溶射ができ、かつ、溶射による被膜の膜厚の増大を図る
ことができる。
【００１３】なお、金属等の低融点の溶射材を溶射材供
給手段３１により膨張ノズル３に供給し、セラミックス
等の高融点の溶融材を溶融手段４から高速フレームＦに
供給して、これら２種類以上の溶融材の溶射を行うこと
ができる。さらに、上述した高融点の溶射材および低融
点の溶融材を供給する際に、いずれの溶融材も１種類以
上とすることが可能であり、かつ、これらの供給比を被
溶射表面Ｈの被溶射位置によって所定の割合に傾斜させ
ることにより、硬度等の条件を被溶射位置によって変化
させて、傾斜機能材を得ることができる。
給手段３１により膨張ノズル３に供給し、セラミックス
等の高融点の溶融材を溶融手段４から高速フレームＦに
供給して、これら２種類以上の溶融材の溶射を行うこと
ができる。さらに、上述した高融点の溶射材および低融
点の溶融材を供給する際に、いずれの溶融材も１種類以
上とすることが可能であり、かつ、これらの供給比を被
溶射表面Ｈの被溶射位置によって所定の割合に傾斜させ
ることにより、硬度等の条件を被溶射位置によって変化
させて、傾斜機能材を得ることができる。
【００１４】例えば、上述のように、低融点の溶射材を
溶射材供給手段３１により膨張ノズル３に供給し、高融
点の溶融材を溶融手段４から高速フレームＦに供給して
溶射を行う際に、図２に示すように、被溶射表面Ｈの被
溶射位置Ｈ１においては、金属のみを溶射材供給手段３
１により膨張ノズル３に供給して溶射をおこなうととも
に、該被溶射位置Ｈ１から被溶射位置Ｈ２，Ｈ３を経て
被溶射位置Ｈ４にいたる被溶射位置の移動に伴って、セ
ラミックスの供給量を徐々に増やしながら溶融手段４か
ら高速フレームＦに供給して溶射をおこなう。このと
き、被溶射位置Ｈ１から被溶射位置Ｈ４に向かって、硬
度が増加し、被溶射位置Ｈ４においては最高硬度を有す
る溶射被膜をもつような傾斜機能材を得ることができ
る。
溶射材供給手段３１により膨張ノズル３に供給し、高融
点の溶融材を溶融手段４から高速フレームＦに供給して
溶射を行う際に、図２に示すように、被溶射表面Ｈの被
溶射位置Ｈ１においては、金属のみを溶射材供給手段３
１により膨張ノズル３に供給して溶射をおこなうととも
に、該被溶射位置Ｈ１から被溶射位置Ｈ２，Ｈ３を経て
被溶射位置Ｈ４にいたる被溶射位置の移動に伴って、セ
ラミックスの供給量を徐々に増やしながら溶融手段４か
ら高速フレームＦに供給して溶射をおこなう。このと
き、被溶射位置Ｈ１から被溶射位置Ｈ４に向かって、硬
度が増加し、被溶射位置Ｈ４においては最高硬度を有す
る溶射被膜をもつような傾斜機能材を得ることができ
る。
【００１５】また、金属等およびセラミックス等とされ
る例えば２種類以上の溶融材を溶射溶融手段４により高
速フレームＦに供給し、これらの溶射材の溶射を行うこ
とができる。また、上述した金属等およびセラミックス
等とされる２種類以上の溶射材を同時に供給する際に、
その供給比を被溶射表面Ｈの被溶射位置によって所定の
割合に傾斜させることにより、硬度等の条件を被溶射位
置によって変化させて、傾斜機能材を得ることができ
る。
る例えば２種類以上の溶融材を溶射溶融手段４により高
速フレームＦに供給し、これらの溶射材の溶射を行うこ
とができる。また、上述した金属等およびセラミックス
等とされる２種類以上の溶射材を同時に供給する際に、
その供給比を被溶射表面Ｈの被溶射位置によって所定の
割合に傾斜させることにより、硬度等の条件を被溶射位
置によって変化させて、傾斜機能材を得ることができ
る。
【００１６】また、溶融手段４において、溶融した高融
点の溶融材を高速フレームＦに供給する際に、溶融材を
高速フレームＦに滴下することにより供給したが、図２
に示すように、溶融手段４に噴射手段５等を配して、溶
融材を噴射することにより溶融材を高速フレームＦに供
給することなど、他の供給方法により溶融材を高速フレ
ームＦに供給することも可能である。
点の溶融材を高速フレームＦに供給する際に、溶融材を
高速フレームＦに滴下することにより供給したが、図２
に示すように、溶融手段４に噴射手段５等を配して、溶
融材を噴射することにより溶融材を高速フレームＦに供
給することなど、他の供給方法により溶融材を高速フレ
ームＦに供給することも可能である。
【００１７】〔実施例〕次に、本発明の具体的な事例を
以下に実施例として示す。実施例としてニッケル基合金
等とされる基材表面に溶射装置を使用して、溶射被膜を
形成した。ここでは、その溶射の際の条件を以下のよう
に設定した。 基材（被溶射表面）材質：ニッケル基合金 溶射材：アルミナ 溶射材の溶融温度：２０００℃〜２１００℃ 溶射ガン燃料：水素ガス 高速フレーム速度：Ｍａｃｈ４ 高速フレーム温度：２５００℃〜２７００℃ また、比較例として、プラズマガンによる溶射を以下の
条件でおこなった。 基材（被溶射表面）材質：ニッケル基合金 溶射材：アルミナ 溶射材の溶融温度：２０００℃〜２１００℃ プラズマ速度：Ｍａｃｈ１ プラズマ温度：１００００℃〜２００００℃
以下に実施例として示す。実施例としてニッケル基合金
等とされる基材表面に溶射装置を使用して、溶射被膜を
形成した。ここでは、その溶射の際の条件を以下のよう
に設定した。 基材（被溶射表面）材質：ニッケル基合金 溶射材：アルミナ 溶射材の溶融温度：２０００℃〜２１００℃ 溶射ガン燃料：水素ガス 高速フレーム速度：Ｍａｃｈ４ 高速フレーム温度：２５００℃〜２７００℃ また、比較例として、プラズマガンによる溶射を以下の
条件でおこなった。 基材（被溶射表面）材質：ニッケル基合金 溶射材：アルミナ 溶射材の溶融温度：２０００℃〜２１００℃ プラズマ速度：Ｍａｃｈ１ プラズマ温度：１００００℃〜２００００℃
【００１８】上記のような条件による溶射をおこない、
以下に示す結果を得た。 実施例 形成した溶射被膜厚さ：０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ 溶射被膜の硬度：ＨＶ（３００ｇ）１２００ 比較例 形成した溶射被膜厚さ：０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ 溶射被膜の硬度：ＨＶ（３００ｇ）９００
以下に示す結果を得た。 実施例 形成した溶射被膜厚さ：０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ 溶射被膜の硬度：ＨＶ（３００ｇ）１２００ 比較例 形成した溶射被膜厚さ：０．４ｍｍ〜０．５ｍｍ 溶射被膜の硬度：ＨＶ（３００ｇ）９００
【００１９】この結果、本発明の溶射装置および溶射方
法によれば、セラミックスの溶射に際しては、形成され
た溶射被膜の硬度を向上することができる。
法によれば、セラミックスの溶射に際しては、形成され
た溶射被膜の硬度を向上することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の溶射装置および溶射方法によれ
ば、以下の効果を奏する。 （１）溶融手段によりセラミックスとされる高融点の溶
融材を溶融して、高速フレームに投入して溶射をおこな
うため、高融点の溶融材による高硬度の被膜を得ること
ができる。 （２）例えば金属およびセラミックスとされる２種類以
上の溶射材を同時に供給して溶射する際に、その供給比
を被溶射箇所の位置によって所定の割合に傾斜させて、
硬度等の条件を変化させることにより、傾斜機能材を得
ることができる。
ば、以下の効果を奏する。 （１）溶融手段によりセラミックスとされる高融点の溶
融材を溶融して、高速フレームに投入して溶射をおこな
うため、高融点の溶融材による高硬度の被膜を得ること
ができる。 （２）例えば金属およびセラミックスとされる２種類以
上の溶射材を同時に供給して溶射する際に、その供給比
を被溶射箇所の位置によって所定の割合に傾斜させて、
硬度等の条件を変化させることにより、傾斜機能材を得
ることができる。
【図１】 本発明に係る溶射装置および溶射方法の一実
施形態を示す一部断面視した正面図である。
施形態を示す一部断面視した正面図である。
【図２】 本発明に係る溶射装置の他の実施形態および
被溶射表面を示す正面図である。
被溶射表面を示す正面図である。
【図３】 従来の溶射装置を示す正面図である。
１…溶融装置 １Ａ…溶射ガン ２…燃焼室 ２１…点火手段（点火プラグ） ２２…燃料供給手段 ２３…酸素ガス供給手段 ３…膨張ノズル ３１…溶射材供給手段 ４…溶融手段 ４１…溶射材供給手段 ４２…熱源供給手段 ５…噴射手段 Ｆ…高速フレーム Ｈ…被溶射表面
Claims (6)
- 【請求項１】 燃料と酸素ガスとからなる混合ガスを導
入して該混合ガスを燃焼する燃焼室と、該燃焼室に配さ
れて混合ガスに点火する点火手段と、発生した燃焼ガス
を噴出して高速フレームを形成する膨張ノズルと、該高
速フレームに投入する溶射材を溶融する溶融手段とを具
備することを特徴とする溶射装置。 - 【請求項２】 前記溶射材が、セラミックスとされるこ
とを特徴とする請求項１記載の溶射装置。 - 【請求項３】 前記膨張ノズルには、溶射材を供給する
溶射材供給手段が接続されることを特徴とする請求項１
記載の溶射装置。 - 【請求項４】 燃焼室に、燃料と酸素ガスとからなる混
合ガスを導入し、該混合ガスに点火して燃焼させ、燃焼
ガスを膨張ノズルから噴出させることで高速フレームを
形成し、該高速フレームに溶融した溶射材を投入するこ
とにより溶射をおこなうことを特徴とする溶射方法。 - 【請求項５】 前記膨張ノズルに溶射材を供給して溶射
をおこなうことを特徴とする請求項４記載の溶射方法。 - 【請求項６】 前記溶射材が、少なくとも２種類以上と
されることを特徴とする請求項４または５記載の溶射方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10022369A JPH11222662A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 溶射装置および溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10022369A JPH11222662A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 溶射装置および溶射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11222662A true JPH11222662A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12080728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10022369A Revoked JPH11222662A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 溶射装置および溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11222662A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003512172A (ja) * | 1999-10-28 | 2003-04-02 | エアロスター・コーティングズ・ソシエダッド・リミターダ | 高周波パルス・レートおよび高生産性デトネーション・スプレー・ガン |
| KR100859672B1 (ko) | 2007-12-31 | 2008-09-23 | 주식회사 코미코 | 용사 코팅 방법 |
| JP2020037720A (ja) * | 2018-09-03 | 2020-03-12 | トーカロ株式会社 | 溶射皮膜の形成方法、高速フレーム溶射装置、及び高速フレーム溶射用ノズル |
| CN112695267A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-23 | 郑州立佳热喷涂机械有限公司 | 气体点火式内孔超音速喷枪 |
-
1998
- 1998-02-03 JP JP10022369A patent/JPH11222662A/ja not_active Revoked
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003512172A (ja) * | 1999-10-28 | 2003-04-02 | エアロスター・コーティングズ・ソシエダッド・リミターダ | 高周波パルス・レートおよび高生産性デトネーション・スプレー・ガン |
| KR100859672B1 (ko) | 2007-12-31 | 2008-09-23 | 주식회사 코미코 | 용사 코팅 방법 |
| JP2020037720A (ja) * | 2018-09-03 | 2020-03-12 | トーカロ株式会社 | 溶射皮膜の形成方法、高速フレーム溶射装置、及び高速フレーム溶射用ノズル |
| CN112695267A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-23 | 郑州立佳热喷涂机械有限公司 | 气体点火式内孔超音速喷枪 |
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