JPH11221447A - 触媒反応装置 - Google Patents
触媒反応装置Info
- Publication number
- JPH11221447A JPH11221447A JP10028219A JP2821998A JPH11221447A JP H11221447 A JPH11221447 A JP H11221447A JP 10028219 A JP10028219 A JP 10028219A JP 2821998 A JP2821998 A JP 2821998A JP H11221447 A JPH11221447 A JP H11221447A
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- catalyst
- catalyst element
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- dust
- gas
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- Pending
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダストの堆積による閉塞を起すこと無く触媒
反応装置の小型化を図る。 【解決手段】 触媒エレメントは第１の触媒エレメント
５と第２の触媒エレメント６とから構成し、第２の触媒
エレメント６は通常ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置
し、通常ピッチＰ1の５〜１０倍の距離ｌだけ排ガス１
１が流れた地点で第２の触媒エレメント６の間に第１の
触媒エレメント５を配置する。
反応装置の小型化を図る。 【解決手段】 触媒エレメントは第１の触媒エレメント
５と第２の触媒エレメント６とから構成し、第２の触媒
エレメント６は通常ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置
し、通常ピッチＰ1の５〜１０倍の距離ｌだけ排ガス１
１が流れた地点で第２の触媒エレメント６の間に第１の
触媒エレメント５を配置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高ダスト排ガスを
処理する脱硝プラントの触媒反応装置に関する。
処理する脱硝プラントの触媒反応装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】火力発電所、各種工場から排出される排
ガス中の窒素酸化物（以降ＮＯｘと記載する）は、光化
学スモッグ、酸性雨の原因物質でありその除去技術とし
て、アンモニア（以降ＮＨ3と記載する）を還元剤とす
る選択的接触還元反応による排煙脱硝法が用いられてい
る。この選択的接触還元反応は下記に示す如く、排ガス
中に含まれるＮＯｘに対してＮＨ3を注入して脱硝触媒
により還元するものである。 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2→４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ………………………………（１） 石炭を燃料とする火力発電所の排ガスは石炭の燃焼灰を
多量に含み、排ガス中のダストが脱硝触媒の目詰まりを
もたらし、その防止対策が不可欠となる。図４は従来の
脱硝反応器構成を示す縦断面図である。本図に示すよう
に脱硝反応器２は垂直流形式でガスの垂直流によりダス
トの堆積を抑制している。ケーシング８には入口ダクト
１及び出口ダクト９が接続されケーシング８の入口ダク
ト１側にスクリンプレート１０を配置して触媒ブロック
３における排ガス１１の偏流を減少させている。本図に
示す従来技術は偏流による局部的なダストの堆積を減少
させている。
ガス中の窒素酸化物（以降ＮＯｘと記載する）は、光化
学スモッグ、酸性雨の原因物質でありその除去技術とし
て、アンモニア（以降ＮＨ3と記載する）を還元剤とす
る選択的接触還元反応による排煙脱硝法が用いられてい
る。この選択的接触還元反応は下記に示す如く、排ガス
中に含まれるＮＯｘに対してＮＨ3を注入して脱硝触媒
により還元するものである。 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2→４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ………………………………（１） 石炭を燃料とする火力発電所の排ガスは石炭の燃焼灰を
多量に含み、排ガス中のダストが脱硝触媒の目詰まりを
もたらし、その防止対策が不可欠となる。図４は従来の
脱硝反応器構成を示す縦断面図である。本図に示すよう
に脱硝反応器２は垂直流形式でガスの垂直流によりダス
トの堆積を抑制している。ケーシング８には入口ダクト
１及び出口ダクト９が接続されケーシング８の入口ダク
ト１側にスクリンプレート１０を配置して触媒ブロック
３における排ガス１１の偏流を減少させている。本図に
示す従来技術は偏流による局部的なダストの堆積を減少
させている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年の大気環境の規制
強化に伴い、既存の脱硝プラントにおけるＮＯｘ除去率
の引き上げ、計画中の設備に脱硝プラントを追加する等
の動きもあるが、都市においては設置場所が限られてい
ることから脱硝プラントの小型化が盛んに検討されてい
る。脱硝プラントの触媒反応装置に用いる脱硝触媒に
は、一体成型によるハニカム触媒と、複数の板を平行に
配置する板状触媒とがあり、板状触媒においては触媒反
応装置の小型化を図るために触媒板（以降触媒エレメン
トと記載する）間のピッチを小さくしている。図５は従
来の触媒反応装置における触媒エレメントに堆積するダ
ストの状態を示す縦断面図である。本図は触媒エレメン
ト７を通常ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置し、ダス
トを含む排ガス１１を右上斜め方向から触媒エレメント
７の上端に吹き付けたもので、排ガス１１の吹き付け方
向の反対側にダスト１２が堆積する。図６は従来の触媒
反応装置における触媒エレメントに堆積するダストの状
態を示す縦断面図である。本図は図５に示すピッチＰ1
より小さいＰ2で触媒エレメント７を配置したもので、
触媒エレメント７間でダスト１２の堆積による部分的な
閉塞を生じている。図７は従来の触媒反応装置における
触媒エレメントに堆積するダストの状態を示す縦断面図
である。本図は図６に示すピッチＰ2より小さいＰ3で触
媒エレメント７を配置したもので、触媒エレメント７間
でダスト１２の堆積によるほぼ全面的な閉塞を生じてい
る。このように偏流がある触媒反応装置の場合、触媒エ
レメント７間のピッチを小さくするとダスト１２の堆積
による閉塞を生じ脱硝反応器２の運転が困難になる。
本発明の目的は、ダストの堆積による閉塞を起すこと無
く触媒反応装置の小型化を図ることにある。
強化に伴い、既存の脱硝プラントにおけるＮＯｘ除去率
の引き上げ、計画中の設備に脱硝プラントを追加する等
の動きもあるが、都市においては設置場所が限られてい
ることから脱硝プラントの小型化が盛んに検討されてい
る。脱硝プラントの触媒反応装置に用いる脱硝触媒に
は、一体成型によるハニカム触媒と、複数の板を平行に
配置する板状触媒とがあり、板状触媒においては触媒反
応装置の小型化を図るために触媒板（以降触媒エレメン
トと記載する）間のピッチを小さくしている。図５は従
来の触媒反応装置における触媒エレメントに堆積するダ
ストの状態を示す縦断面図である。本図は触媒エレメン
ト７を通常ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置し、ダス
トを含む排ガス１１を右上斜め方向から触媒エレメント
７の上端に吹き付けたもので、排ガス１１の吹き付け方
向の反対側にダスト１２が堆積する。図６は従来の触媒
反応装置における触媒エレメントに堆積するダストの状
態を示す縦断面図である。本図は図５に示すピッチＰ1
より小さいＰ2で触媒エレメント７を配置したもので、
触媒エレメント７間でダスト１２の堆積による部分的な
閉塞を生じている。図７は従来の触媒反応装置における
触媒エレメントに堆積するダストの状態を示す縦断面図
である。本図は図６に示すピッチＰ2より小さいＰ3で触
媒エレメント７を配置したもので、触媒エレメント７間
でダスト１２の堆積によるほぼ全面的な閉塞を生じてい
る。このように偏流がある触媒反応装置の場合、触媒エ
レメント７間のピッチを小さくするとダスト１２の堆積
による閉塞を生じ脱硝反応器２の運転が困難になる。
本発明の目的は、ダストの堆積による閉塞を起すこと無
く触媒反応装置の小型化を図ることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的は、ガスが斜め
方向に流入する複数の板状触媒エレメントを配置した触
媒反応装置において、それぞれの板状触媒エレメントの
前記ガスの流れ方向入口端の位置が互いに異なることに
より達成される。上記目的は、ガスが斜め方向に流入す
る複数の板状触媒エレメントを配置した触媒反応装置に
おいて、板状触媒エレメントが第１の板状触媒エレメン
トと、第１の板状触媒エレメントの両側に所定のピッチ
で配置し該第１の板状触媒エレメントより前記ガスの入
口方向に少なくとも前記ピッチの５倍延長した第２の板
状触媒エレメントとからなることにより達成される。上
記構成によれば、通常のピッチで配置した板状触媒エレ
メントの入口からピッチの５倍以上の距離をガスが流れ
ると、ガスの偏流が整流されて整流された地点から下流
ではガスは大きく乱れること無く板状触媒エレメント間
を流れるのでダストが板状触媒エレメント面に堆積せ
ず、板状触媒エレメントの配置間隔を小さくしてもダス
トによる閉塞を起さないので触媒反応装置を小型化でき
る。
方向に流入する複数の板状触媒エレメントを配置した触
媒反応装置において、それぞれの板状触媒エレメントの
前記ガスの流れ方向入口端の位置が互いに異なることに
より達成される。上記目的は、ガスが斜め方向に流入す
る複数の板状触媒エレメントを配置した触媒反応装置に
おいて、板状触媒エレメントが第１の板状触媒エレメン
トと、第１の板状触媒エレメントの両側に所定のピッチ
で配置し該第１の板状触媒エレメントより前記ガスの入
口方向に少なくとも前記ピッチの５倍延長した第２の板
状触媒エレメントとからなることにより達成される。上
記構成によれば、通常のピッチで配置した板状触媒エレ
メントの入口からピッチの５倍以上の距離をガスが流れ
ると、ガスの偏流が整流されて整流された地点から下流
ではガスは大きく乱れること無く板状触媒エレメント間
を流れるのでダストが板状触媒エレメント面に堆積せ
ず、板状触媒エレメントの配置間隔を小さくしてもダス
トによる閉塞を起さないので触媒反応装置を小型化でき
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。図１は本発明の実施の形態の触媒エレメ
ント構成を示す縦断面図である。本図は触媒エレメント
を排ガスの流れと直交する方向から見たもので、触媒エ
レメントは第１の触媒エレメント５と第２の触媒エレメ
ント６とから構成する。第２の触媒エレメント６は通常
ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置し、通常ピッチＰ1の
５〜１０倍の距離ｌだけ排ガス１１が流れた地点で第２
の触媒エレメント６の間に第１の触媒エレメント５を配
置している。従って第１の触媒エレメント５と第２の触
媒エレメント６のピッチは通常ピッチＰ1の１／２とな
る。
より説明する。図１は本発明の実施の形態の触媒エレメ
ント構成を示す縦断面図である。本図は触媒エレメント
を排ガスの流れと直交する方向から見たもので、触媒エ
レメントは第１の触媒エレメント５と第２の触媒エレメ
ント６とから構成する。第２の触媒エレメント６は通常
ピッチＰ1の約６〜１０ｍｍで配置し、通常ピッチＰ1の
５〜１０倍の距離ｌだけ排ガス１１が流れた地点で第２
の触媒エレメント６の間に第１の触媒エレメント５を配
置している。従って第１の触媒エレメント５と第２の触
媒エレメント６のピッチは通常ピッチＰ1の１／２とな
る。
【０００６】図２は本発明の実施の形態の第２の触媒エ
レメントの整流効果を示す説明図である。第２の触媒エ
レメント６に斜め上方向から排ガス１１が流入しても通
常ピッチＰ1の５〜１０倍の距離ｌだけ流れると整流さ
れ第２の触媒エレメント６と平行な流れとなり、排ガス
１１中のダスト１２が第２の触媒エレメント６面で渦を
巻き堆積することは無い。
レメントの整流効果を示す説明図である。第２の触媒エ
レメント６に斜め上方向から排ガス１１が流入しても通
常ピッチＰ1の５〜１０倍の距離ｌだけ流れると整流さ
れ第２の触媒エレメント６と平行な流れとなり、排ガス
１１中のダスト１２が第２の触媒エレメント６面で渦を
巻き堆積することは無い。
【０００７】図３は本発明の形態の第１の触媒エレメン
トのダスト堆積を示す説明図である。 排ガス１１が整
流された地点に配置された第１の触媒エレメント５の入
口側端部に排ガス１１の衝突により小さな流れの乱れが
発生し、ダスト１２が堆積することは避けられないが、
基本的に排ガス１１は第１の触媒エレメント５と平行な
流れであり第１の触媒エレメント５面で大きな流れの乱
れが発生してダスト１２の堆積が増加することは無い。
トのダスト堆積を示す説明図である。 排ガス１１が整
流された地点に配置された第１の触媒エレメント５の入
口側端部に排ガス１１の衝突により小さな流れの乱れが
発生し、ダスト１２が堆積することは避けられないが、
基本的に排ガス１１は第１の触媒エレメント５と平行な
流れであり第１の触媒エレメント５面で大きな流れの乱
れが発生してダスト１２の堆積が増加することは無い。
【０００８】
【発明の効果】本発明によれば、通常のピッチで配置し
た板状触媒エレメントの入口からピッチの５倍以上の距
離をガスが流れると偏流が整流され、ダストが板状触媒
エレメント面に堆積せず板状触媒エレメントの配置間隔
を小さくしてもダストによる閉塞を起さないので触媒反
応装置を小型化できる。
た板状触媒エレメントの入口からピッチの５倍以上の距
離をガスが流れると偏流が整流され、ダストが板状触媒
エレメント面に堆積せず板状触媒エレメントの配置間隔
を小さくしてもダストによる閉塞を起さないので触媒反
応装置を小型化できる。
【図１】本発明の実施の形態の触媒エレメント構成を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
【図２】本発明の実施の形態の第２の触媒エレメントの
整流効果を示す説明図である。
整流効果を示す説明図である。
【図３】本発明の形態の第１の触媒エレメントのダスト
堆積を示す説明図である。
堆積を示す説明図である。
【図４】従来の脱硝反応器構成を示す縦断面図である。
【図５】従来の触媒反応装置における触媒エレメントに
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
【図６】従来の触媒反応装置における触媒エレメントに
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
【図７】従来の触媒反応装置における触媒エレメントに
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
堆積するダストの状態を示す縦断面図である。
１ 入口ダクト ２ 脱硝反応器 ３ 触媒ブロック ４ 触媒ユニット ５ 第１の触媒エレメント ６ 第２の触媒エレメント ７ 触媒エレメント ８ ケーシング ９ 出口ダクト １０ スクリンプレート １１ 排ガス １２ ダスト
Claims (2)
- 【請求項１】 ガスが斜め方向に流入する複数の板状触
媒エレメントを配置した触媒反応装置において、 それぞれの板状触媒エレメントの前記ガスの流れ方向入
口端の位置が互いに異なることを特徴とする触媒反応装
置。 - 【請求項２】 ガスが斜め方向に流入する複数の板状触
媒エレメントを配置した触媒反応装置において、 前記板状触媒エレメントが第１の板状触媒エレメント
と、該第１の板状触媒エレメントの両側に所定のピッチ
で配置し該第１の板状触媒エレメントより前記ガスの入
口方向に少なくとも前記ピッチの５倍延長した第２の板
状触媒エレメントとからなることを特徴とする触媒反応
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10028219A JPH11221447A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 触媒反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10028219A JPH11221447A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 触媒反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221447A true JPH11221447A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12242523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10028219A Pending JPH11221447A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | 触媒反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11221447A (ja) |
-
1998
- 1998-02-10 JP JP10028219A patent/JPH11221447A/ja active Pending
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